固体径迹蚀刻系统

产品概述传统固体样品测试中，需要加酸、消解、赶酸、定容等一系列操作，过程步骤多、耗时长、人员要求高，基于电热蒸发技术的EXPEC 723固体直接进样系统，无需繁琐的样品前处理，无污染和损失，无需使用有害试剂，取样量少，分析速度快，适用于实验室高通量、低误差的需求，也能满足现场应急检测。性能优势梯度程序升温采用红外非接触式高温检测和快速 PID 温控设计，最高温度可达3000℃，可实现不同梯度温度的精准控制，提前去除水分和有机质的干扰。精密控制系统微米级精密运动控制系统，毫升级气体流量控制系统，极大提高样品进入电热蒸发装置的一致性和测样稳定性。“ 一键式“全自动控制最多可装40个样品舟，“一键式”操作，实现自动夹取、进样、加热，极大降低人工成本。智能化设计实时反馈仪器工作状态，具备异常联锁保护系统，自动复位系统，智能老化判断系统，自动积分算法。应用领域土壤重金属快速筛查 食品重金属快速筛查

STES 固体径迹蚀刻系统是上海怡星机电设备有限公司推出的一款精 密测量仪器，可实现对环境中的氡累积剂量进行准确的测量。适合环保、高校、核电、研究机构等领域，填补了同类产品中长期缺乏国产仪器的空白。技术特点：1.可实现自动控制自动对焦2.可读取64 片方形CR-39（1cm×1cm）；16 片圆形CR-39（φ2.4cm）3.可读取12cm×12cm 以内自定义的形状和大小CR-394.可读取探测片序列号5.可自定义的轴向移动控制6.图像处理系统：包括图像增强、图像去噪、图像二值化和去除非径迹杂物7.记录每张图片进行进一步分析8.批量分析数以万计视野图片9.以.csv 文件格式导出读取结果，可以Excel 打开10.详细的径迹形态信息11.探测下限：被动收集型氡探测器：9Bq/m3；静电收集型氡探测器：0.6 Bq/m312.重复性好于1%；线性好于3%

设备用途：径迹蚀刻法是被动式采样，能测量采样期间内氡的累积浓度（同时给出不确定度）。探测器是聚碳酸脂片或CR-39。至于一定形状的采样盒内，组成采样器。关于采样器，本系统专门研发的静电收集型探测器（EIRM），探测下限（LLD）可至0.6Bq/m3。产品特点：1.可读取探测片序列号；2.自动对焦；3.以.csv 文件格式导出读取结果；4.记录每张图片进行进一步分析；5.详细的径迹形态信息；6.重叠校正及其不确定性估计；7.图像预处理系统：包括图像增强、图像去噪、图像二值化和去除非径迹杂物；8.径迹测量分析系统：对通过预处理后的图像进行标记测量，统计出共有多少径迹及径迹的位置，准备单位径迹的参数测量；9.图像分析系统：具有通过交互方式对单个物体进行参数测量的功能，并对测量结果进行保存，当测量一定数量径迹参数后，执行统计分析软件程序，根据测量结果综合分析，获得径迹判别的参数，并存入数据处理系统。技术特点：1.自动读取64 片方形CR39（1cm×1cm）；2.自动读取16 片圆形CR39（φ2.4cm）；3.可读取12cm×12cm 以内自定义的形状和大小CR39；4.可自定义的轴向移动控制；5.放大倍数：不小于100 倍；6.被动收集型氡探测器（PIRM）：探测下限:12-15 Bq/m3 （60 天）；静电收集型氡探测器（EIRM）：探测下限:0.6 Bq/m3 （60 天）；7.径迹识别能力：单个和重叠径迹，达到分辨100tracks/mm2；8.线性好于3%；9.批量分析大量（≥100,000）图片。

Oxyphen 径迹蚀刻膜/核孔膜/纤维素膜/精确过滤膜/细胞过滤膜/微生物过滤/无菌过滤/透气除尘膜/透气防水膜/压力平衡膜 Oxyphen GmbH 成立于 1953 年，生产微孔轨道蚀刻膜。Oxyphen 开发和制造了用于汽车、医疗保健和工业市场的定制膜和膜设备。从膜开发到膜组件的构建，再到大批量生产，Oxyphen为客户提供完整的服务。Oxyphen GmbH注于开发和生产由聚酯制成的轨道蚀刻膜/核孔膜。还增加了用于工业用途的层压轨道蚀刻膜，并于1993年继续开发用于控制药物释放的微孔轨道蚀刻膜。Oxyphen拥有两家生产工厂，一家在德国，另一家在瑞士。两者都通过了ISO 9001：2008和ISO TS 16 949：2008认证，并具有完整的洁净室能力。Oxyphen 经济蚀刻膜/核孔膜产品Oxyphen 与汽车、医疗和工业市场的客户合作，为特定的透气和过滤应用开发组件和组件。产品类型包括圆盘，卷筒的轨道蚀刻膜，Oxypad 蚀刻膜自粘片（用于保护电子设备防水防灰尘），Oxyphen 压力补偿元件（用与透气放液体灰尘等污染）以及基于膜的组件开发和定制化解决方案。Oxyphen产品类型：Oxypad, Oxydisc, Oxyseal, 卷筒蚀刻膜，组件及模块，定制化解决方案 1、 Oxypad 径迹蚀刻膜不含 PFOA 的疏水性和疏油性滤膜透气膜可以通过手动或自动组装以各种标准和可定制尺寸进行集成，具有不同的膜特性。OxyPad 可使用未层压的 UNIQUE-MEM 和层压 ROTRAC 膜技术。Oxypad 材料有PET， PC 及按需求提供的其他材料。Oxyphen 自粘膜垫用于透气通风，防止液体进入，防止灰尘和污垢，实现可靠持久的设备通风，保持压力平衡，并防止水，灰尘及其他有害物质的进入应用包括汽车及电池行业，例如高级驾驶辅助系统（ADAS））通风，Oxhphen 开发的针对汽车应用的疏水膜透气系统提供保护、气流以在正常运行期间保持足够的压力补偿，并且易于组装。还可以应用于汽车照明，透气膜提供高气流，防止液体、细小灰尘和颗粒以及湿气进入照明系统。电池的安全放水透气应用，保护关键内部组件免受液体、灰尘、污垢和其他污染物的侵入，以防止在热失控时发生潜在的爆炸。2. Oxydisc 圆盘径迹蚀刻膜状的易于组装的疏水膜和亲水膜，用于过滤和通风的而应用，Oxyphen 的两种膜技术 UNIQUE-MEM 和 ROTRAC 均以这种光盘形式提供。 规范Unique-Mem 轨道蚀刻膜RoTrac轨道蚀刻膜带宽 （mm）10、13、14.5、20 和定制尺寸优质原材料PET – 天然略带亲水性PC – 天然略带疏水性PET-膜/PET-无纺布 –更硬PET膜/PP无纺布 – 更柔软孔径范围0.1μm 至 10μm0.2μm 至 3.0μm孔密度范围每厘米 105 至 109 个孔22×106 之二 3×10每厘米 8 个孔2厚度范围8μm 至 50μm90μm 至 220μm温度范围– 40°C 和 160°C（适用于应用 200°C）– 40°C 和 130°C（适用于应用 160°C）空气流量范围高达 800 升/（棒 cm2 分钟）高达 37 升/（bar cm2 分钟）亲水处理各种亲水处理可提高膜的水流速和润湿能力（例如：PVP处理）疏水/疏油处理：等级高达7.5级 AATCC TM 118 （英语）耐盐雾性试验2根据 IEC 60068-2-52，基于客户的验证耐温试验1符合 ISO 16750-4冰水冲击试验1&2符合 ISO 16750-4耐候性测试符合 ISO 16750-4耐化学性试验1符合 LV124/ ISO 16750-5知识产权保护1IP 64/65/66/67/68，符合 DIN 40050 3. 径迹蚀刻膜卷材Oxyphen 的轨道蚀刻卷材膜（可以是层压、非层压或纤维基）由优质聚酯 （PET） 或聚碳酸酯 （PC） 原材料制成，非常适合内部和大规模制造集成。根据应用要求，这些膜可以进行亲水、疏水或疏油性能处理，并从 310 毫米宽的线轴转换为 8 毫米的狭缝卷。Oxyphen 提供两种类型的轨道蚀刻膜——未层压 Unique-Mem 和层压 RoTrac 膜。两者都以卷材形式提供。未层压的 UNIQUE-MEM 轨道蚀刻膜的特点是圆柱形孔以不同角度穿透膜。它们由单个无支撑的膜层组成，根据孔密度，该膜层可以是透明的或半透明的。层压ROTRAC膜是Unique-Mem膜技术，可提供疏水性或亲水性，由无纺布材料（PP或PET）支撑，以形成更坚固的膜。Oxyphen轨道蚀刻膜的多孔结构可以根据特定应用所需的过滤效率、流速或进水压力来调整孔径和孔密度。膜可以通过热焊或超声波焊接密封到大多数塑料外壳上.产品应用领域包括汽车，细胞和组织 ，消费类，诊断 ，电子，医疗，个人护理产品等。4. Oxyseal 压力补偿元件为了防止油性液体、水、灰尘、污垢、盐分或其他污染物进入您的电子设备，OxySeal 压力补偿装置可以部署为一种简单的即插即用通风解决方案，适用于具有倒圆柱形开口的外壳。这些注塑成型的塞子使用疏水性轨道蚀刻膜，也可以处理为疏油，由热塑性弹性体密封件组成，不需要额外的锚栓或紧固件来确保紧密配合。Oxyphen 蚀刻膜/核孔膜在电子学的应用电子制造商在设计产品时了解保护的重要性。透气过程对于每天使用的高科技和低技术设备的正常运行至关重要。无论是为了释放压力、允许冷却，还是保护外壳免受外部环境的影响，防水透气产品都可以使需要密封或封闭系统的电子设备正常运行并限度地延长使用寿命。Oxyphen 的轨道蚀刻膜广泛用于许多标准和定制的电子通风应用，充当压力释放阀，并提供保护，防止灰尘和湿气侵入外壳内——这与机械通风口或物理开口不同。也没有可以粘住或仅在一个方向上工作的运动部件。具体应用包括传感器外壳保护，个人护理设备如电动牙刷、剃须刀等的设备保护。Oxyphen 蚀刻膜/核孔膜在电子学的应用防止液体和污垢以及可靠的压力补偿对于避免在车辆的整个生命周期内损坏敏感电子元件至关重要。Oxyphen 的汽车膜产品旨在确保电池组、雷达传感器或照明外壳等关键部件的连续功能，用于下一代汽车设计具体应用包括：电动汽车电池通风口，雷达传感器保护通风口，汽车照明通风口，Oxyphen轨道蚀刻膜解决方案在不牺牲气流性能的情况下提供的蒸汽透过率，以避免故障和降低照明。Oxyphen 蚀刻膜/核孔膜在生命科学的应用Oxyphen轨道蚀刻膜非常适合细胞和组织应用，因为它们具有高度可控的膜性能参数，以及膜厚度和孔径的广泛变化，可用于调节营养物质向细胞的运输，以促进生长和细胞恢复。这些膜可用于细胞培养以及组织工程，旨在创建可以解决制药、再生医学、诊断和研究应用的人造器官、皮肤和组织。可用于细胞培养小室的生产，开发人造器官，皮肤和组织等。Oxyphen 蚀刻膜/核孔膜在诊断领域的应用了获得准确和可靠的诊断测试性能，Oxyphen 的轨道蚀刻膜技术可以提供更高的精度和控制。从床旁 （POC） 诊断到大型自动化实验室测试系统、体外诊断或快速免疫测定应用，轨道蚀刻膜通过其可控的孔径和密度提供可重复且可靠的表面过滤、颗粒捕获以及透气和保护。当过滤掉唾液、血液或其他目标体液的某些分析物时，Oxyphen 膜的过滤效率非常出色，可去除测试流中不需要的物质，以确保分析准确。细胞的一致捕获和回收、颗粒截留和反冲洗也是生命科学应用（如微流体系统、快速检测和样品回收）中可能需要的潜在关键功能。Oxyphen 蚀刻膜好的过滤能力可实现高过滤精度和控制，从而获得更准确，可靠的测试。Oxyphen 蚀刻膜/核孔膜在医疗领域的应用Oxyphen 的轨道蚀刻膜具有高度明确的孔隙结构，以及可调节的孔径和流量参数，为无菌过滤或透气应用提供可靠的解决方案。我们的技术在输液过滤器等医疗设备中显示优越效果，因为可以通过选择正确的孔径并将膜流速与给药溶液的启动压力相关联来确定过滤和保留率。当医疗器械制造商与 Oxyphen 合作时，他们可以放心，我们将与他们合作，根据他们的需求优化保留和流程。此外，还可以通过超声波焊接或其他各种组装方法方便地进行安装。应用包括无菌过滤，Oxyphen 轨道蚀刻膜具有高的VFE和BFE 效率，无菌透气，既能平衡医疗设备的压力，同时防止液体或者细菌，病毒进入设备。可用于输液过滤器。

1.采用高功率高稳定紫外激光器直接烧蚀气化材料，μm级加工线宽，μm级热影响区；2.通过进口精密振镜高速高精度控制光束偏移，实现最高15m/s高速小幅面精密蚀刻；3.通过微米级高速直线电机平台平移实现高速高精度大幅面蚀刻；4. Z轴电动可调，以适应不同厚度材料，满足立体结构蚀刻要求；5.旁轴超分辨率工业相机用于振镜全幅面误差校正、超高精度的对焦、以及在线线宽测量，保证系统长期使用稳定性和精度；6.在线检测激光加工的效果，快速优化加工工艺；7.系统采用大理石台面，提升系统的综合稳定性，所有机械部件精心选配以保证长期精度；8.最小加工线宽5μm，整体加工精度±4μm，局部特征精度＜2μm，加工幅面300*300mm；9. 用于以玻璃、蓝宝石、金属、、陶瓷、有机物等为基底的精密电路或者图形蚀刻。激光精密蚀刻加工相比光刻腐蚀等等，具有以下优点：直接加工成型，无需复杂的掩膜制造、镀膜、光刻腐蚀等工艺流程无污染无耗材，无化学腐蚀高速（扫描速度高达15m/s）高精度（＜±4μm）无材料限制，基底材料玻璃、陶瓷、硅片、有机物等等不限加工线宽最小5μm（更小可定制）加工幅面图形可定义300mm*300mm

品牌：卡尔蔡司型号：Axio Imager M2m制造商：德国卡尔蔡司公司经销商：北京普瑞赛司仪器有限公司产地：德国 ZEISS一百多年的骄人历史从发明世界上首台显微镜开始。一个世纪后的今天，ZEISS仍致力于为用户研发最具创造力的显微镜系列产品及其解决方案。通过我们不断改进的显微分析技术，我们正在为全世界的用户开拓一条探索微观分析世界的道路。 总体描述蔡司最新推出的裂变径迹显微分析系统，实现智能自动化操作，对两个样本对应区域进行自动镜像精准定位、对比统计；能自动完成矿物颗粒分析、径迹数目统计、测量径迹与C轴角度、测量Dpar、Dper值，依据自发径迹密度和诱发径迹密度计算裂变径迹表观年龄。系统还可为客户提供岩矿分析等其他研究工作。 产品特点 ◆最佳优化的操作理念 ◆拥有更高衬度和更高分辨率的新型光学系统◆全自动Z轴自动聚焦模块 ◆保证最大稳定性和免振动工作的创新设计 ◆统计辐照单矿物的裂变径迹数，分析计算矿物表观年龄，并模拟地质体热演化历史 技术参数硬件光学系统：ICCS光学系统1、 专业分析物镜：5X、10X、20X、50X、100X2、 自动扫描台：行程130X85mm，步距为 0.1μm，重复精度小于1.0μm3、 变倍转换器：1.25X,1.6X4、 图像采集：彩色数码冷CCD:500万像素，信实时采集，同步捕捉图像，传输速度快，同时显示。5、 分析系统：自动识别待测对象，自动定位及查找功能，自动完成颗粒数目统计、测量径迹与C轴角度、能测量Dpar、Dper值等。所有的测试及结果（图片、表格、报告）均自动保存至数据库，可随时调用并返回当时的测量参数，保证可追溯测定结果；用途矿物中所含微量铀的自发裂变的衰变引起晶格的损伤产生径迹，测定矿物的铀含量和自发裂变径迹密度、数量和长度、角度，可以确定矿物的年龄。此法用样量少，可用样品种类多，测年范围可由数年到几十亿年，特别是在5万～100MA年期间内，测年效果较其他方法为好，是第四纪地质年代测定的重要方法之一。 组成蔡司全自动科研级显微镜蔡司Axio vision强大分析软件 自动扫描平台 Relocation功能自动物镜转换器 ManualMeasure功能自动模块盒 AutoMeasure功能自动光强控制管理 应用矿物中所含微量铀的自发裂变的衰变引起晶格的损伤产生径迹，测定矿物的铀含量和自发裂变径迹密度、数量和长度、角度，可以确定矿物的年龄。此法用样量少，可用样品种类多，测年范围可由数年到几十亿年，特别是在5万～100MA年期间内，测年效果较其他方法为好，是第四纪地质年代测定的重要方法之一。其中，统计受热中子照射的磷灰石、锆石等单矿物的裂变径迹数，可计算地质体的退火年龄；测量自发裂变径迹长度，统计裂变径迹长度分布，可计算地质体热演化历史；并用于观察透明或不透明矿物、岩石、包裹体的结构等岩相学特征。 原理1.理论依据根据矿物中 U、Th放射性同位素自发裂变碎片的径迹而计时的一种方法。径迹数目与矿物年龄成正比。矿物中能产生裂变径迹的重核有 238U、235U和232Th。它们的自发裂变半衰期分别是 1.01×1016年、3.5×1017年和大于1021年。所以天然样品中238U的裂径迹约占99.97%以上，而235U和232Th的裂变径迹在年龄测定中可忽略不计。 若假定自发裂变径迹在矿物中的分布是均匀的，则单位体积内的裂变径迹数目(C)与U含量、矿物存在时间及U的自发裂变常数成如下关系裂变径迹法式中238U为每立方厘米样品中238U的原子数,λf为238U的自发裂变常数（6.85×10-17/年），λ为U的总衰变常数,t为矿物年龄。 自然状态的裂变径迹非常细小。通过选择适当的化学试剂在一定条件下对矿物磨光面进行腐蚀处理(蚀刻)，蚀刻后的径迹,在显微镜下可放大到200～1000倍。若自发裂变径迹和诱发裂变径迹（即通过热中子照射产生的径迹）的蚀刻条件完全相同，则裂变径迹法计算年龄的公式为裂变径迹法式中ρs为在蚀刻表面观察到的径迹密度,ρi为蚀刻后看到的诱发裂变径迹密度,σ 为235U的热中子诱发裂变截面(582×10-24平方厘米),Φ为热中子剂量，I=238U/235U=137.88。 应用此公式计算年龄时须满足下列要求：①自发裂变的半衰期是恒定的；②238U/235U比值是一个常数 ③所有的自发裂变径迹是238U产生的,而所有的诱发裂变径迹都是235U经热中子照射诱发产生的 ④自发裂变径迹和诱发裂变径迹的蚀刻条件相同；⑤样品形成以后保持封闭体系。 裂变径迹法测定年龄的样品适应性广，只要样品中产生的自发裂变径迹密度大于1～10／平方厘米,均可选用。如磷灰石、榍石、锆石、白云母等。 2. 解决方案（1）ZEISS显微镜所配的AxioVision软件具有强大的图像拍摄和处理功能，可完成裂变径迹显微镜镜下图片拍摄。（2）AxioVision软件模块中的FissionTrack模块，专为裂变径迹应用开发，可满足裂变径迹测量的各种需求。该模块包含三大功能：针对互为镜像样品定位和查找问题，Relocation功能可以实现自动化的样品镜像定位。针对裂变径迹长度、角度等数据的测量问题，ManualMeasure功能实现简单高效的在线测量功能，并自动将测量数据按照指定格式，导出为EXCEL表格。针对裂变径迹颗粒数量、面积等数据的统计问题，AutoMeasure功能实现自动化的统计，包含数十项可选的颗粒数据描述。

仪器简介：815机器人样品处理器· 适用于28-141个(以75mL样品杯计)中等数量或大量的样品· 样品体积范围：11-250mL· 自动识别可换式样品盘，带光学样品杯识别探头· 单或双工作塔，可选配二或四个输液泵· 可安置双移动臂（左向或右向）和双外置滴定位· 液体处理、定量吸液、定量移液、自动卡氏微量水份测定功能· 预置方法程序，可随意编程和储存999个方法· 每个方法含开始、样品测定和结束三个程序，每个程序可编制99个操作步骤· USB通用接口，3XMSB专用接口· 配套Titrando系列滴定仪，并由Titrando滴定仪主机控制主要功能及特点 基于815机器人样品处理器（815 Robotic USB SP XL）的成熟技术而研发的专业固体样品制备系统，具有自动处理固体样品功能、溶液过滤功能以及先进的样品制备技术，能大力提升你的日常工作效率。由改进了的tiamo软件控制，可以灵活编排测试步骤，数据库功能强大，符合所有的相关标准，如21 CFR Part 11.自动处理固体样品 对于固体样品，传统的手工处理方法是用研钵碾磨，这样不单费时费力，而且每次得到的样品颗粒大小不一定一致。815 Robotic Soliprep装配了Kinematica公司的Polytron 1300D均质器，直接在溶液中进行样品均质。可根据具体情况选择转头，均质时间和速度由tiamo软件控制，确保相同样品的处理完全相同。每次使用后，均质器转头在外部冲洗位进行清洗，这个过程完全自动进行。自动进行溶液过滤 为了避免均质化过程后仍然留下的颗粒对接下来的分析产生影响，必须进行过滤，这是任何色谱法或光谱法分析进行前的重要步骤。手工过滤使用注射器和一次性过滤头，难以保证过滤速度一致，想要让测量结果具有重复性，势必要花大量的时间和精力在过滤上。815 Robotic Soliprep可以使用经济的注射器过滤头和标准Luer注射头，利用Dosino完成过滤过程。复杂的机械机构确保Robotic Soliprep可以自动&ldquo 抓起&rdquo 过滤工具，例如过滤头、注射头。还能把使用过的过滤工具准确地放到收集箱。样品制备技术 定量吸取溶液、定量加液和配液、样品稀释、样品准确转移。。。。。。如果只需按动一个键就能进行所有这些工作，腾出时间专注其他事情不是很好吗？Robotic Solipre就能帮您实现这个梦想。

这款蚀刻和清洁系统专为满足当今晶圆、光掩模和基板的前沿应用的特殊工艺需求而设计。这款高效的蚀刻和清洁系统CESx124、126、128或133是理想选择，可满足不同大小尺寸的晶片、光掩模和衬底，不论是从小直径还是非常大直径。CESx可以配置多种工艺分配选项，Megasonic喷嘴对DI H20或化学药品的处理分配选项；用于化学制剂的低压喷嘴；化学加热器和DI-H20；用于表面搅拌以加快反应的刷子，和/或DI H20等。特点：• 专为重要控制和安全而设计的系统。• 多达9x9英寸/ 300mm直径的基板兼容性。• 主轴组件具有直流无刷伺服电机，可实现精确的速度控制和分度。• 特氟龙涂层不锈钢臂可调节臂速度和行进位置。• 径向排气腔，用于最大层流，盖子顶部有N2进料。• DI-H20加热器，用于清洁和干燥辅助。• 过程中包含化学相容性材料PVDF或可选的PTFE。• 独立式聚丙烯柜。• 微处理器控制功能可以在存储器中保留三十（30）步的配方，每个配方有三十（30）步。配方和步骤的数量均可根据要求扩展。• 内置安全联锁和双重控制。• 用联锁装置冲洗整个工艺区域和基材的pH值，以禁止进入工艺区域并控制排放和主轴转速直到安全。• 按钮盖打开/关闭。• 触摸屏图形用户界面（GUI），易于编程和安全锁定，并带有屏幕错误报告。• 用于化学和房屋排水的排水分流阀。• 设计符合SEMI S2 / S8准则。技术参数：• 产品：蚀刻和剥离系统• 型号：CESx124• 可用机械臂：4• 最大基板尺寸：13英寸直径• 最大主轴速度：2500• 配方：高达30• 分配管路：12主营产品：Laurell匀胶机Harrick等离子清洗机Thetametrisis膜厚仪Microxact探针台ALD原子层沉积系统TRION反应离子刻蚀机Uvitron紫外固化箱NXQ紫外曝光光刻机Novascan紫外臭氧清洗机Nilt纳米压印机Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加热板Annealsys高温退火炉Kinematic程序剪切仪Laurell EDC系统，湿站系统Wabash/Carver自动压片机

这款蚀刻和清洁系统专为满足当今晶圆、光掩模和基板的前沿应用的特殊工艺需求而设计。这款高效的蚀刻和清洁系统CESx124、126、128或133是理想选择，可满足不同大小尺寸的晶片、光掩模和衬底，不论是从小直径还是非常大直径。CESx可以配置多种工艺分配选项，Megasonic喷嘴对DI H20或化学药品的处理分配选项；用于化学制剂的低压喷嘴；化学加热器和DI-H20；用于表面搅拌以加快反应的刷子，和/或DI H20等。特点：• 专为重要控制和安全而设计的系统。• 多达9x9英寸/ 300mm直径的基板兼容性。• 主轴组件具有直流无刷伺服电机，可实现精确的速度控制和分度。• 特氟龙涂层不锈钢臂可调节臂速度和行进位置。• 径向排气腔，用于最大层流，盖子顶部有N2进料。• DI-H20加热器，用于清洁和干燥辅助。• 过程中包含化学相容性材料PVDF或可选的PTFE。• 独立式聚丙烯柜。• 微处理器控制功能可以在存储器中保留三十（30）步的配方，每个配方有三十（30）步。配方和步骤的数量均可根据要求扩展。• 内置安全联锁和双重控制。• 用联锁装置冲洗整个工艺区域和基材的pH值，以禁止进入工艺区域并控制排放和主轴转速直到安全。• 按钮盖打开/关闭。• 触摸屏图形用户界面（GUI），易于编程和安全锁定，并带有屏幕错误报告。• 用于化学和房屋排水的排水分流阀。• 设计符合SEMI S2 / S8准则。 技术参数：• 产品：蚀刻和剥离系统• 型号：CESx124• 可用机械臂：4• 最大基板尺寸：13英寸直径• 最大主轴速度：2500• 配方：高达30• 分配管路：12 主营产品： Laurell匀胶机 Harrick等离子清洗机Thetametrisis膜厚仪 Microxact探针台ALD原子层沉积系统TRION反应离子刻蚀机Uvitron紫外固化箱NXQ紫外曝光光刻机 Novascan紫外臭氧清洗机Nilt纳米压印机Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加热板Annealsys高温退火炉Kinematic程序剪切仪Laurell EDC系统，湿站系统 Wabash/Carver自动压片机

智能固体称重系统产品介绍：对接LIMS系统，实现对样品的24小时自动称重工作，提供了一种全自动化的解决方案，代替了实验室人工称量固体样品的操作。与传统的人工方式相比，该系统不仅提高了效率，还能够保证称量的精度，避免了人工称量条件下受环境、个人情绪和测量方式等因素的影响。应用领域：土壤、食品、电子电气、矿产；合作客户：SGS…功能介绍：1、适用样品：固体颗粒、粉末状2、高效产能 ：每12小时1000只3、自动称重分流：按照不同测试项目自动称重，分装到指定容器4、避免污染：特殊称量方式，避免交叉污染5、智能软件：过程可追溯，具有报错和故障提示功能6、定制服务：根据用户应用场景提供特殊定制■ 智能控制系统，称量状态一目了然■ 自动标识称量后信息 如需观看产品作业视频，请来电咨询

离子蚀刻机 10-M/NS-5上海伯东日本NS进口离子蚀刻机 10-M/NS-5，适合小规模生产使用和实验室研究用的离子刻蚀机。离子蚀刻机 10-M/NS-5 主要技术参数：基片尺寸直径 6英寸 X 1片样品台直接冷却，单独冷却离子源10cm 考夫曼离子源电源WELL-2000(可更换为国内电源上海伯东是日本NS离子蚀刻机中国总代理，NS离子蚀刻机对磁性材料、黄金、铂和合金金属提供最佳蚀刻技术，很容易做各种材料的蚀刻，主要应用于薄膜磁头 (Thin film Magnetic Head)，自旋电子学 (Spintronics)，MR Sencer，微电子机械系统 (MEMS Micro-electromechanical Systems)，射频设备 (RF Devices)，光学组件 (Optical Component)，超导电性 (Super Conductivity)等。可依据客户实际需要，提供客制化服务。NS离子蚀刻机主要优点：干式制程的微细加工装置，使得在薄膜磁头，半导体元件， MR sensor 等领域的开发研究及量产得以广泛应用。物理蚀刻的特性，无论使用什么材料都可以用来加工，所以各种领域都可以被广泛应用。配置使用美国考夫曼公司制造的原装离子源。射频角度可以任意调整，蚀刻可以根据需要做垂直，斜面等等加工形状。基板直接加装在直接冷却装置上，所以可以在低温环境下蚀刻。配置公转自转传输机构，使得被蚀刻物可以得到比较均匀平滑的表面。机台设计使用自动化的操作流程，所以可以有非常友好的使用生产过程。上海伯东主营产品：德国普发 Pfeiffer 涡轮分子泵，干式真空泵，罗茨真空泵，旋片真空泵；应用于各种真空环境下的真空计，氦质谱检漏仪，质谱分析仪以及美国考夫曼公司 KRI 离子源 离子枪 霍尔源，美国 HVA 真空阀门，Polycold 冷冻机，离子刻蚀机等。

上海伯东日本 Atonarp Aston™ 质谱分析仪无等离子体设计,可以实现快速, 化学特定的原位定量气体分析, 与光学发射光谱 OES 对比, Aston™ 质谱仪 的 OA% 灵敏度显示为 0.25%, 适用于半导体工艺中蚀刻计量控制, ALD, 3D-NAND 和新兴的堆叠式 DRAM.半导体蚀刻工艺挑战日益增加蚀刻是半导体制造中常用的工艺之一. 介电蚀刻用于形成绝缘结构, 触点和通孔, 多晶硅蚀刻用于在晶体管中创建栅极, 金属蚀刻去除材料以显示电路连接图案并钻穿硬掩模.连续蚀刻铝 Al, 钨, 铜 Cu,钛 Ti 和氮化钛 TiN 等工艺金属具有挑战性, 因为许多金属会形成非挥发性金属卤化物副产品（例如六氯化钨 WCl6）, 这些副产品会重新沉积在蚀刻侧壁上, 导致成品率降低（通过微粒污染或沉积材料导致短路）.随着半导体行业不断缩小关键特征尺寸并采用垂直扩展 (如 3D-NAND 存储器和全环绕栅极先进技术节点), 各种新的蚀刻挑战已经出现. 这些包括在晶圆上蚀刻更小的特征, 高展弦比 HAR 沟槽蚀刻 (具有小的开放面积百分比- OA%), 以及在新兴的非挥发性存储器和高 k介质中蚀刻金属闸极, 稀土金属等新材料. 对于先进的纳米级工艺, 如蚀刻到硅介质和金属薄膜, 选择性处理, 如原子层蚀刻 ALE 一次去除材料的几个原子层. ALE 提供了比传统蚀刻技术更多的控制. 对于 3D-NAND 和先进 DRAM 来说, 向批量生产过渡的重大挑战包括解决导体蚀刻困难的要求, 满足积极的生产斜坡和实现所需的吞吐量, 以推动成本效益.上海伯东日本 Atonarp Aston™ 质谱分析仪提供高性能, 嵌入式和可靠的原位定量分子气体计量已经成为验证工艺室和持续监测工艺化学过程的关键工具, 确保生产环境中的高产率和更大吞吐量.Aston™ 质谱分析仪提供全腔室解决方案使用上海伯东 Atonarp Aston™ 质谱仪通过实时, 定量和精确的分子传感器来解决半导体新兴蚀刻工艺技术相关的关键挑战. 通过解决传感器耐久性, 灵敏度, 匹配, 系统集成和易用性等方面的挑战, 日本 Atonarp Aston™ 质谱仪升级了传统的气体分析计量方法. Aston 是一种全室解决方案, 用于在各种工艺步骤中实时监测前体, 反应物和副产物.这些包括基准室和过程指证, 腔室清洁, 过程监测 (包括存在腐蚀性气体), 颗粒沉积和气体污染物凝结. 小的占地面积和灵活的通信接口允许在室内安装和集成到过程设备控制系统. 为了集成到半导体工艺工具中, Aston 质谱分析仪的高性能和可靠性设计用于生产晶圆的大批量生产过程控制.Aston™ 质谱分析仪半导体蚀刻计量控制半导体行业正从二维结构的扩展转向复杂三维结构的挑战性要求. 传统的离线晶圆测量已不足以实现性能和良率目标, 原位蚀刻测量传统上缺乏生产所需的鲁棒性和可重复性. Aston™ 质谱分析仪的结构中嵌入了专利技术, 使其具有卓越的分析和操作性能. 为了满足过程控制和跨工厂生产工具匹配的严格要求, Aston 从头开始设计, 高运行时间和低维护的吞吐量, 长期信号稳定性和可重复性.为了承受腐蚀和沉积过程的恶劣环境, Aston™ 引入了两个的功能: 等离子电离和自清洁 (ReGen™模式). 等离子体电离消除了由于与腐蚀性气体(如NF3, CF4, Cl2)的反应而导致的灯丝降解. 此外, 除去(正硅酸四乙酯) TEOS 等颗粒和蒸汽污染物沉积, 同时定期进行室内清洁循环, 延长了 Aston™ 质谱仪的使用寿命. ReGenTM 模式使仪器能够使用高能等离子离子清洗自身, 通过去除在膜沉积过程中可能发生在传感器和腔室壁上的沉积. 结合这两个功能, 传感器的灵敏度可维持在数百个RF(射频)小时的操作. Aston质谱仪支持的基于测量的控制, 有可能延长清洗间隔 MTBC 的平均时间. MTBC 的增加意味着工具可用性和长期吞吐量的增加. 除了等离子电离器(用于工艺), 传感器还配备了传统的电子冲击 EI 灯丝电离器, 用于基线和校准.分子传感器的分析级是使用微米级精密双曲电极的四极杆. 由高度线性射频(RF)电路驱动, Aston 质谱的HyperQuad 传感器在 2到300 amu的质量范围内具有更高的分析性能.Aston™ 质谱分析仪技术参数参数值质量分辨率0.8u质量数稳定性0.1u灵敏度(FC / SEM)5x10-6 / 5x10-4 A/Torr最低可检测的部分压力(FC / SEM)10-9 / 10-11 Torr检测极限10 ppb最大工作压力1X10-3 Torr每 u 停留时间40 ms每u扫描更新率37 ms发射电流0.4 mA发射电流精度0.05 %启动时间5mins离子电流稳定 ±1%浓度的准确性 1%浓度稳定±0.5%电力消耗350w重量13.7kg尺寸400 x 297 x 341mm高展弦比 HAR 3D 蚀刻随着多模式技术和 3D器件结构的出现, 高度密集的蚀刻和沉积过程驱动了计量需求. 3D多层膜栈, 如 NAND 存储架构, 代表复杂的, 具有挑战性的蚀刻过程, 具有关键的蚀刻角度, 统一的通道直径和形状要求, 尽管高蚀刻纵横比通道 100:1 是常见的. 对于 3D-NAND, 关键导体蚀刻过程包括阶梯蚀刻(下图)和用于垂直通道和狭缝的 HAR 掩模打开. 通过硝酸硅和氧化硅交替层蚀刻需要高速定量终点检测. 对于 DRAM, 蚀刻过程包括 HAR 门, HAR 沟槽和金属隐窝. 对于阶梯蚀刻, 关键是在整个 3D堆栈的每个介质膜对的边缘创建等宽的“步骤”, 以形成阶梯形状的结构. 在器件加工过程中, 这些步骤的大量重复要求蚀刻高吞吐量和严格的过程控制.多功能现场气体计量需要在一个工具中执行多种监测功能:• 检测和量化污染, 交叉污染, 气体杂质和工艺室内的工艺化学• 评估已开发的蚀刻过程在生产工具 / 运行的复杂功能上的性能• 测量刻蚀后的清洁 (包括先进的无晶圆自动清洁 WAC) 作为腔条件对于消除工艺漂移和确保可重复性性能是至关重要的• 快速准确的蚀刻端点检测 EPD, 通过等离子体或气体监测, 因为这是一个关键的控制功能. 举例包括一氧化碳 CO 副产物在介电蚀刻中下降或氯 Cl 反应物在多晶硅和金属蚀刻端点上升.• 全面的实时计量数据, 允许过程等离子体和反应物的动态腐蚀控制, 以管理要求的腐蚀剖面Aston™ 质谱分析仪无等离子体终点检测虽然光学发射光谱 OES 已被广泛用于蚀刻 EPD, 但低开放面积 OA 和 HAR 设计的趋势使其在许多蚀刻任务中无效. OES 技术需要等离子体'开'和发光物种. 随着昏暗和远程等离子体越来越多地用于 3D设备和原子水平蚀刻 ALE 工艺, 需要更多敏感的数据和分析技术来实现迅速和确定的 EPD. 此外, 脉冲等离子体通常用于管理 HAR 和 低 OA% 工艺的蚀刻剖面, 这使得 OES 对于 EPD 来说是一个不切实际的解决方案. 在3D 结构中, 多层薄膜和多个接触深度阻碍了每一行触点到达底部时端点的光学发射信号的急剧步进变化其他 OES 限制包括:• 在电介质蚀刻中, 在 OA 5% 的模式上进行 EPD一直具有挑战性, 因为 OES 在低浓度下具有低信噪比.在高压Si深蚀刻(例如博世工艺)中, 要求 OA% 的 EPD低于 0.3%, OES 中较大的背景噪声水平抑制了对发射种数量的任何变化的检测.• 在金属蚀刻中, OA% 可能低于10%, 这取决于所涉及的互连尺寸. 对于接触和通过蚀刻, OA 可以在0.1-0.5%之间或更低, 这取决于所涉及的特征的大小. 在钨 W 蚀刻的情况下, 随着 OA的减小, 氯 Cl 反应物的消耗减少, 由于材料运输到 HAR 蚀刻特征, 蚀刻趋于放缓. 这两个因素都降低了反应气的消耗率. 因此, 由于等离子体中反应物的耗尽, 很难看到在终点处 OES信号的显著变化.Aston™ 质谱仪可以利用蚀刻反应物和 EPD 的副产物. 此外, Aston 能够在小的, 有限体积的传感器上运行周期性清洗, 以保持其性能(灵敏度), 在延长晶圆运行次数的情况下获得更大的正常运行时间. 然而, OES 要求在腔室上有一个需要保持清洁的访问窗口，以获得足够强度的稳定信号。通常，加热石英窗用于减缓工艺产品的堆积. 使用 Aston™质谱分析仪，在低浓度下的检测不受等离子体发射的背景光谱的影响, 也不受射频功率脉冲期间等离子体强度波动的影响.图 3a/3b 显示了 CO+和 SiF3 +的副产物 OA%下降到0.25%的电介质腐蚀EPD数据数据清楚地显示了线性行为和在低浓度下的检测不受等离子体发射的背景光谱影响. Aston 质谱的 ppb 灵敏度是针对 0.1%以下的 OA性能.原子级蚀刻 ALE在三维结构中, ALE 过程中的逐层去除需要脉冲射频电源来控制自由基密度和较低的离子能量, 以减少表面损伤和保持方向性. 在这样的光源中, 等离子体的整体光强较低, 并表现出波动幅度. 通常等离子体离晶圆区很远(距晶圆区25厘米), 而且等离子体激发的副产物很少, 使得光学测量不切实际.在 ALE中, 由于每个周期都是自我限制的, 端点检测可能不那么重要. 然而, 在缺乏气体分析的情况下, 工艺工程师对监测腔室和工艺健康状况“视而不见”, 因为无法看到化学状态, 特别是在工艺步骤 (吸附/净化/反应/净化) 之间过渡时的动态状态, ALE 的自限性并不能使它不受过程漂移的影响. 此外, 由于 ALE 不是基于等离子体的, 因此过程中的化学变化不一定可以通过等离子体监测检测到.有一种误解, 认为 ALE 技术实际上是一次一个原子层 相反, 它们每循环的去除/沉积量可能比单分子膜多一点(或少一点). 由于真空泵性能, 晶圆温度或离子轰击能量 (电压) 的变化分别导致表面饱和度和表面反应性的变化, 工艺移位(Å/周期的变化)可能发生.在 ALE (下图)中,由于等离子体的使用不一致, 化学监测方面的差距就不那么明显了. 在这种情况下, Aston™ 质谱仪具有以下优点:• 在每个工艺步骤中建立一个腔室化学状态的指证. 这可以参照其自身的正常行为, 也可以参照标准腔• 描述和监控与化学变化相关的动态过程中, 从一个步骤过渡到下一个步骤• 监测在 ALE 循环第一步之后从系统中清除吸附物质的时间. 等离子体通常用于产生吸附物质(自由基), 但它是在远离晶圆片的地方产生的• 监测 ALE 循环第二步反应产物的变化. 等离子体光强通常较低, 因为它使用了低占空比的脉冲射频• 监测反应产物和反应物在ALE循环第二步后被净化的时间结论原子级蚀刻只能使用像上海伯东日本 Atonarp Aston™ 质谱仪这样的分子传感器进行真正的测量和监测. 它的高灵敏度, 速度和对等离子体强度变化的低敏感性产生可靠的定量测量, 即使在低浓度的反应物和副产物, 具有低于1% 水平的高精度, 可以监测微妙的过程漂移和过程变化效应, 提供了可用于机器学习模型的见解.利用其高扫描速度, 通过监测反应产物减少的时间来实现步进时间优化, 因为它是表面反应活性变化的指示, 增加了总体吞吐量.ALE 是先进的蚀刻技术, 上海伯东 Aston 质谱仪为 ALE 提供了先进的化学计量技术, 可以测量和控制反应及其持续时间, 为大批量生产提供了可靠的解决方案.若您需要进一步的了解 Atonarp Aston™ 在线质谱分析仪详细信息或讨论, 请参考以下联络方式：上海伯东: 罗先生

反应式离子蚀刻机 性能特点 Capability Features: 用于失效分析的剥层分析解决方案群，世界顶尖反应式离子蚀刻机，物理沉移系统，原子层化学气相沉积系统.RIE/PE and RIE-ICP FA system这些灵活的失效分析工具可以实现从钝化层的去除到各项异性的氧化物的去除，从小管芯或已封装的器件到300mm直径的晶片整个范围的工艺. 去除氮化物钝化层后 刻蚀金属间介质后 四层金属暴露 金属间介质后的失效分析优点:- 工艺灵活，既可采用RIE/PE，也可采用ICP- 先进的管芯工艺：采用等离子体加速器的刻蚀速率比标准的RIE工艺快20倍产品范围：- 可以处理300mm晶片的RIE/PE双模式设备- 快速低损伤的模具刻蚀装置- 处理200mm晶片的双模式设备- 填充用的正硅酸乙酯（TEOS）工艺应用:- 各向同性的聚酰亚胺的去除（RIE或ICP模式）- 各向同性的氮化物（钝化层）的去除（PE或ICP模式）- 各向异性的氧化物（金属间介质/层间介质）的去除（RIE或ICP模式）- 各向异性的低K值氧化物的去除（RIE或ICP模式）- 金属支架的去除（RIE或ICP模式）- 多晶硅的去除（RIE模式）- 铝或铜的去除（ICP模式）

AXIC IsoLokICP等离子体系统经济实惠的高性能驱动器和低温等离子体处理系统AXIC公司的AXIC IsoLok电感耦合等离子体(ICP)负载锁定处理系统定义了深度反应离子蚀刻(DRIE)和低温低损伤等离子体增强化学气相沉积(ICP- pecvd)等离子体处理的新概念。该系统基于模块化设计，从通用腔室和机柜单元开始，具有ICP蚀刻或沉积底部电极，可轻松安装到腔室单元并结合负载锁。我们相信您会发现易用性，各种等离子工艺，可维护性和有吸引力的价格是市场上任何其他等离子产品所无法超越的。系统描述在等离子体加工的研究和开发中，一直对高通用性和可靠的负载锁定工具有很大的需求。随着等离子体研究需求的不断变化，任何系统都必须提供最广泛的工艺参数和高度的可重复性，以进行工艺验证。它还必须易于修改以适应新的工艺要求。我们相信我们的IsoLokICP蚀刻/沉积等离子体系统可以满足这些非常苛刻的要求。IsoLokICP系统是一种等离子体工具，可用于研究，工艺开发或小批量生产，可在直径达8″的基板上进行精确蚀刻和沉积。该系统还可以容纳片晶圆或基板与适当的夹具。在设计IsoLokICP工具时，主要目标是创建一个包含负载锁定分段区域的系统，同时保持质量和可靠性。保留专用生产导向系统的过程控制，同时大幅降低成本和维护以及占地面积，是关键要求。IsoLok负载锁定ICP系统独特的机柜和电极设计可以轻松安装在层流模块或洁净室中。经过验证的高质量组件，模块化组件，多功能腔室和电极设计，紧凑的尺寸，自动化和现场验证的工艺配方使IsoLokICP系统成为工程师的“首选系统”。负载锁模块该系统配备了一个真空负载锁定模块，由阳极氧化铝构造。负载锁定系统是大气到真空样品的分级和进入模块。它们是一种方便实用的方法，用于在真空系统中进出样品，而无需将腔室排放到大气中。这大大提高了效率和吞吐量，减少了周期时间，更重要的是减少了污染。负载锁允许在受控的环境条件下交换样品。负载锁可容纳直径从4“到8”的晶圆，具有特定的末端执行器。在负载锁和工艺室之间提供一个隔离阀，以隔离被转移的样品。

Hakuto 离子蚀刻机 伯东公司日本原装设计制造离子蚀刻机 IBE. 提供微米级刻蚀, 均匀性: ≤±5%, 满足所有材料的刻蚀, 即使对磁性材料, 黄金 Au, 铂 Pt, 合金等金属及复合半导体材料, 这些难刻蚀的材料也能提供蚀刻. 可用于反应离子刻蚀 RIE 不能很好刻蚀的材料. 自 1970年至今, 伯东公司已累计交付约 500套离子刻蚀机.伯东公司超过 50年的刻蚀 IBE 市场经验, 拥有庞大的安装基础和经过市场验证的刻蚀技术! 离子刻蚀机 4IBE 离子刻蚀机 20IBE 全自动蚀刻机 MEL 3100离子蚀刻机 IBE 主要型号 伯东提供用于研究分析的小尺寸离子刻蚀机, 用于生产制造的大尺寸离子蚀刻机以及全自动蚀刻机.配置美国 KRI 考夫曼离子源和德国 Pfeiffer 分子泵.型号4 IBE7.5 IBE16 IBE20 IBE-CMEL 3100样品数量尺寸4”φ, 1片4”φ, 1片6”φ, 1片4”φ, 6片6”φ, 4片3”φ-6”φ,1片离子束入射角度0～± 900～± 900～± 900～± 90-考夫曼离子源KDC 40KDC 75KDC 160考夫曼型-极限真空度 Pa≦1x10-4≦1x10-4≦1x10-4≦1x10-4≦8x10-5Pfeiffer 分子泵抽速 l/s35035012501250-均匀性≤±5%≤±5%≤±5%≤±5%≤±5%离子蚀刻机特性:1. 采用美国 KRI 考夫曼型离子源, 保障蚀刻速率和均匀性2. 干式制程, 物理蚀刻的特性3. 蚀刻可以根据需要做垂直, 斜面等等加工形状.4. 基板直接加装在直接冷却装置上, 所以可以在低温环境下蚀刻.5. 配置公转自转传输机构 ”Dry Chuck Planet ”, 使得样品可以得到比较均匀平滑的表面.通 Ar 时, 对各种材料的刻蚀速率NS 离子刻蚀机 20IBE-J 视频离子刻蚀机 3-4inch 20IBE 视频离子蚀刻机应用 薄膜磁头 Thin film Magnetic Head, 自旋电子学 Spintronics, MR Sencer微电子机械系统 MEMS Micro-electromechanical Systems射频设备 RF Devices, 光学组件 Optical Component, 超导电性 Super Conductivity Hakuto 日本原装设计制造离子刻蚀机 IBE, 提供微米级刻蚀, 满足所有材料的刻蚀, 即使对磁性材料,黄金 Au, 铂 Pt, 合金等金属及复合半导体材料, 这些难刻蚀的材料也能提供蚀刻. 可用于反应离子刻蚀 RIE 不能很好刻蚀的材料. 自 1970年至今, Hakuto 伯东已累计交付约 500套离子蚀刻机. 蚀刻机可配置德国 Pfeiffer 涡轮分子泵和美国 KRI 考夫曼离子源!若您需要进一步的了解离子蚀刻机详细信息, 请联络上海伯东叶女士,分机109

美国Chemcut湿法蚀刻设备Chemcut 半导体制造的水平化学加工设备专注于：&bull 晶圆湿法加工包括铜，钛/钨等金属蚀刻，干膜显影和退膜等&bull 导线框架 (QFN) 和 BGA 等背蚀刻和半蚀刻&bull 导线框架 (QFN) 和集成电路 IC 截板加工湿式加工设备 CC8000CC8000 设计用于加工半导体，IC (引线框架和 IC 基板)，高端HDI PCB / FPC，触控和 LCD 显示屏幕，太阳能和精密金属零件。其独特的喷涂架设计使其能够达到更高水平的蚀刻质量。自启动以来，已成交并安装了700多个系统。晶圆图案制作：&bull 干膜显影&bull 铜蚀刻&bull 钛/钨蚀刻晶圆 Bumping 湿法工艺&bull 光阻显影：与 Pad 制作类似&bull 光阻剥离：需要高喷洒压力 (30 - 40 bars)&bull 种子层 (UBM) 蚀刻：使用喷洒或浸渍技术Chemcut 2300 系列 小批量生产批量和原型系统Chemcut 2300 是一种紧凑，双面，水平，传送带式，振荡喷射处理系统系列，采用了与大型系统相同的成熟技术和质量。 2300 系列非常适用于实验室，原型和小批量印刷电路以及化学机械加工零件，仪表板和铭牌。本系列湿法设备有多种配置，可用于铜和氯化铁蚀刻，碱性氨蚀刻，抗蚀剂显影，化学清洗和抗蚀剂剥离。该机器的特殊版本可用于专业处理，如使用氢氟酸和硝酸混合物进行蚀刻以及高温蚀刻（最高 160°F，71°C）。适用于：&bull 化学清洗&bull 铁蚀刻&bull 铜蚀刻&bull 碱性蚀刻&bull 抗蚀剂显影&bull 抗蚀剥离&bull 宽度 15 到 20 英寸&bull 18 X 24 功能应用于：&bull 原型商店&bull 小批量商店&bull 开发实验室&bull 研发部门&bull 大学&bull 特殊加工&bull 替代化学品&bull 研磨特殊合金&bull 减少废物

一、 设备名称：卧式机械搅拌不锈钢固体发酵罐系统二、型号：XSSW-GT-30L/50L/100L/200L/500L等三、技术参数1、系统组成：空气过滤系统、蒸汽过滤系统，恒温系统，管路系统，辅助系统，传感器与一次仪表系统，下位机现场控制系统（PLC控制系统，含二次仪表）等组成。2、罐体系统罐体：全容量：30L/50L/100L/200L/500L等；装液系数15～30%罐体材质：SUS316L/SUS304优质不锈钢，可高温灭菌，耐酸碱。设计压力：0.3Mpa，工作压力：0.15Mpa。罐体结构：顶视镜1个，投料接种口1个，标准温度插口各1个，标准通用补料接口2个，侧出料口1个，内表面抛光光洁度Ra≤0.4um，外表面抛光光洁度Ra≤0.6um。灭菌方式：在位蒸汽灭菌。3、机械系统机械搅拌：铲式搅拌桨叶叶，调速控制器。搅拌转速：0-30rpm4、管路系统：不锈钢管路及不锈钢阀门、关键部位使用隔膜阀。5、补水系统：不锈钢管路，进水经过滤器净化处理；全雾化补水，手动控制。6、控制系统：采用 *新开发的XS-BIO9000系列发酵过程自动化控制系统，由西门子PLC可编程控制器、昆仑通态7寸彩色液晶屏及台达、正太、施耐德、ABB等国际知名品牌的电器元件组成。实现温度、转速控制和监测；可随时在手动控制与自动控制之间切换；系统由下位机控制系统、传感器和执行机构等组成，落地式控制柜，中文菜单与界面，可记录并显示多条参数曲线。6、配套设备：配套无油空压机、蒸汽发生器。

离子蚀刻机 20-M/NS-8上海伯东日本 NS 进口离子蚀刻机 20-M/NS-8，适合中等规模量产使用的离子刻蚀机。离子蚀刻机 20-M/NS-8 主要技术参数：基片尺寸直径 3英寸 X 8片直径 4英寸 X 6片样品台直接冷却离子源20cm 考夫曼离子源电源WELL-5000(可更换为国内电源 上海伯东是日本NS离子蚀刻机中国总代理，NS离子蚀刻机对磁性材料、黄金、铂和合金金属提供蚀刻技术，很容易做各种材料的蚀刻，主要应用于薄膜磁头 (Thin film Magnetic Head)，自旋电子学 (Spintronics)，MR Sencer，微电子机械系统 (MEMS Micro-electromechanical Systems)，射频设备 (RF Devices)，光学组件 (Optical Component)，超导电性 (Super Conductivity)等。可依据客户实际需要，提供客制化服务。NS离子蚀刻机主要优点：干式制程的微细加工装置，使得在薄膜磁头，半导体元件， MR sensor 等领域的开发研究及量产得以广泛应用。物理蚀刻的特性，无论使用什么材料都可以用来加工，所以各种领域都可以被广泛应用。配置使用美国考夫曼公司制造的原装离子源。射频角度可以任意调整，蚀刻可以根据需要做垂直，斜面等等加工形状。基板直接加装在直接冷却装置上，所以可以在低温环境下蚀刻。配置公转自转传输机构，使得被蚀刻物可以得到比较均匀平滑的表面。机台设计使用自动化的操作流程，所以可以有非常友好的使用生产过程。上海伯东主营产品：德国普发 Pfeiffer 涡轮分子泵，干式真空泵，罗茨真空泵，旋片真空泵；应用于各种真空环境下的真空计，氦质谱检漏仪，质谱分析仪以及美国考夫曼公司 KRI 离子源 离子枪 霍尔源，美国 HVA 真空阀门，Polycold 冷冻机，离子刻蚀机等。 若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请登录我们网站或与市场部罗女士联系。伯东版权所有, 翻拷必究!

离子蚀刻机 4 IBE伯东公司日本原装进口小型离子蚀刻机, 适用于科研院所, 实验室研究, 干式制程的微细加工装置, 特别适用于磁性材料, 金, 铂及各种合金的铣削加工.离子蚀刻机 4 IBE 技术规格型号4 IBE样品数量尺寸4”φ, 1片离子束入射角度0～± 90考夫曼离子源KDC 40极限真空度 Pa≦1x10-4Pfeiffer 分子泵抽速 l/s350均匀性≤±5%伯东离子蚀刻机主要优点1. 干式制程的微细加工装置, 使得在薄膜磁头, 半导体元件, MR sensor 等领域的开发研究及量产得以广泛应用.2. 物理蚀刻的特性, 无论使用什么材料都可以用来加工, 所以各种领域都可以被广泛应用.3. 配置使用美国考夫曼离子源4. 射频角度可以任意调整, 蚀刻可以根据需要做垂直, 斜面等等加工形状.5. 基板直接加装在直接冷却装置上, 所以可以在低温环境下蚀刻.6. 配置公转自转传输机构, 使得被蚀刻物可以得到比较均匀平滑的表面.7. 机台设计使用自动化的操作流程, 所以可以有非常友好的使用生产过程.离子蚀刻机通不同气体的蚀刻速率Hakuto 日本原装设计制造离子刻蚀机 IBE, 提供微米级刻蚀, 满足所有材料的刻蚀, 即使对磁性材料,黄金 Au, 铂 Pt, 合金等金属及复合半导体材料, 这些难刻蚀的材料也能提供蚀刻. 可用于反应离子刻蚀 RIE 不能很好刻蚀的材料. 自 1970年至今, Hakuto 伯东已累计交付约 500套离子蚀刻机. 蚀刻机可配置德国 Pfeiffer 涡轮分子泵和美国 KRI 考夫曼离子源!若您需要进一步的了解离子蚀刻机详细信息, 请联络上海伯东叶女士,分机109上海伯东版权所有, 翻拷必究！

ET-320快速无阻碍免翻盖设计，减少一个掀盖步骤即可节约时间，提高操作简便性。1、采用现代电子技术与阿基米德原理相结合，直接读取各种固体类材料的密度（比重）值。2、采用德国进口传感器，确保精度的准确性。3、面对市场上越来越多的密度计竞争产品，我们优化细节问题，将可靠性得到进一步加强。主要解决了市场上其它产品广泛存在的测量不稳定、数据不准、死机、按键失灵、吊线弯曲、吊栏易碰触容器槽、容器槽易破等常见问题，提高测量稳定性，细节决定质量。4、使用水作为测量介质，既经济又实用；同时仪器具有溶液补偿功能，也可使用其它液体作为测量介质，满足不同材料的测试需求。5、仅需两步直接读取密度值，节省大量测试时间；相对于人工成本来说，一次投入可长达十年节约时间人力成本，买到即是赚到。6、密度精度高，提升产品质量，实时测试及早发现问题，降低产品不良率。7、密度大于1的固体，小于1的浮体，颗粒都可以测试，针对密度小于1的样品配备抗浮架，颗粒配网球，出厂标准配置，满足不同需求，无需再次购买配件。8、符合ASTM D792、 ASTM D297、 GB/T1033、GB/T2951、 GB/T3850、 GB/T533、 HG4-1468、 JIS K6268、 ISO 2781、ISO 1183、GB/T9867、DIN-53516、ISO-4649、GB/T1689、GB/T1689…等标准规范。9、快速无阻碍免翻盖设计，减少一个掀盖步骤即可节约时间，提高操作简便性。10、任何固体物质皆可测量：如颗粒，浮体，块状物，发泡体，粉末等类似产品。11、具有实际水温补偿功能，可适应春夏秋冬季节环境水温的变化，减小测量误差。12、采用一体成型的大容量PC材质水槽（长15.3厘米，宽10.7厘米，高9.3厘米），满足不同大小的样品测试；针对更大量程的样品可定制不同尺寸的水槽）。

辛耘科技致力于高端清洗蚀刻设备的研发和生产 拥有强大的研发与软件编写团队 实现完全自主的软硬件售后服务和升级 最大程度地解决了客户的后顾之优 产品涵盖2&rdquo ~12&rdquo 主流湿法工艺以及薄片、大功率器件、高温制程、电镀 、化镀 、等特殊应用、广泛应用于半导体、三五族、微机电、和LED领域 仪器简介：2&rdquo ~12&rdquo 手动/半自动/全自动湿制程设备及干燥机传送技术: Cassette type / Boat type / Cassette-less领域 : 半导体前后段 / LED / 蓝宝石/薄片/ GaAs / MEMS&hellip 制程 : lean/Etching/PRStrip/Solvent/Developer/Reclaim/Plating /High-temp/De-wax/CDU 特点:高稳定性与高可靠度自有的软硬件设计及完善QC系统可提供客制化与量产设计可灵活实现 手动 半自动 全自动及干进干出 功能多种可选择的晶圆传递方式(cassette /cassetteless /both type)友好的人机操作界面完整的全自动生产（包括SMIF、晶圆传递、晶圆盒的自动传递）完善的客服系统唯一可提供cassetteless传输的local厂家应用领域：半导体/三五族/微机电：4&rdquo -12&rdquo 相关清洗、显影、蚀刻等制程LED :蓝宝石基板清洗工艺（切割、研磨、抛光段应用、PSS图形化衬底应用）前后端工序中的清洗、显影、蚀刻、去胶、高温磷酸（侧腐蚀工艺）、化镀金工艺等湿法应用

固体废弃物是指人类在生产、消费、生活和其他活动中产生的固态、半固态废弃物质（国外的定义则更加广泛，动物活动产生的废弃物也属于此类），通俗地说，就是&ldquo 垃圾&rdquo 。主要包括固体颗粒、垃圾、炉渣、污泥、废弃的制品、破损器皿、残次品、动物尸体、变质食品、人畜粪便等。有些国家把废酸、废碱、废油、废有机溶剂等高浓度的液体也归为固体废弃物 固体废弃物对环境造成的污染正在日益成为一个严峻的问题，很多城市被垃圾包围。固体废弃物在堆积和未经无害化处理前，会产生有毒气体，污染大气环境；在酸雨的作用下，会产生有毒有害浸出液，污染我们的土壤和地下水。因此，研究、监测和控制固体废弃物污染，刻不容缓。 美国ADM公司是全球固体废弃物毒性浸出设备的始创者，是美国EPA相关标准的起草者，也是目前全球市场占有率最高的厂商。该公司的TCLP翻转式振荡器-固体废弃物毒性浸出设备目前在中国大陆已经有超过100台在可靠运行。南京普利塞斯仪器有限公司是美国ADM公司的授权经销商。一，产品特点： 全套设备模拟废物在不规范填埋处置、堆存、经无害化处理后或者工业废物进入卫生填埋场后，其中的有害组分在酸性降水或填埋场渗滤液的影响下，从废物中浸出而进入环境的过程。适用于固体废弃物中无机污染物和挥发/非挥发有机污染物的浸出毒性鉴别，亦适用于危险废物储存、处置设施的环境影响评价。仪器符合中华人民共和国国家标准GB5085.3-2007，HJ/T299-2007和HJ/T300-2007的要求。整套系统符合EPA 1311（TCLP）标准。二，技术性能： 该TCLP系统包括翻转式振荡器、高压过滤器、零空间萃取装置、不锈钢气密性注射器、流体计量泵等设备。 1、翻转式振荡器：专门针对TCLP程序的长时间大负荷运转设计；运转平稳，转速稳定；运转无噪音；系统可扩展性强，丰富的可选附件。转速：每分钟30± 2转。材质：铝合金支架。安全装置：具过负载保护装置。操作：可快速手工调节PH值。适用容器：可放置2L玻璃瓶，PE瓶TEFLON瓶及ZHE容器。有2孔、6孔、12孔、24孔可供选择。 2、高压过滤器HWF：用于非挥发性毒性浸出。材质：316不锈钢。耐压：50psi以上。规格：容量2.2升、直径142mm。内壁微镜面精加工和钝化处理。 3、零顶空萃取器ZHE：用于挥发性毒性浸出。材质：316不锈钢。规格：容量550ml直径90mm。耐压：50Psi以上。耐 温：可长期放置在4℃低温中。压力表：0-60psi油式压力表。其它：内层具SLO/FLO镀膜可使活塞推动平顺。活塞推动压力：5-10psi。内壁微镜面精加工钝化处理。 4、不锈钢气密性注射器：材质316不锈钢，内有特氟龙涂层。容量600毫升。其它：具有气密式安全泄压阀。 5、流体计量泵：材质：管线及Pump Head都为TEFLON材质；压力：100psi以上；流量：最大100ml/min以上；可在任意时刻（运转或停止）调节流量及流动方向；可无限精细调节流量。三，典型用户上海市环境监测中心站上海嘉定环境监测站上海市固体废物处置中心上海浦东环境监测中心站上海崇明环境监测站上海化工研究院上海交通大学上海第二工业大学上海宝山钢铁公司上海纺织节能环保监测中心江苏省环科院江苏油田监测站江阴环境监测站扬州市环境监测站南通环境监测中心站常州市环境监测站常州市环境卫生监测站徐州环境监测站镇江环境监测站昆山环境监测站苏州工业园区环境监测站太仓环境监测站苏州新区环境监测站苏州清城环保公司南京白云化工有限公司靖江市环境监测站四川省环境监测站浙江省环境监测站浙江省环境科学研究院杭州市环境监测中心站安徽省环境监测站重庆市环境监测中心站福建省环境监测站吉林省环境监测中心站辽宁省环境监测站广西自治区环境监测站云南省环境监测站陕西省环境监测中心站甘肃省环境监测站内蒙古环境监测站上海市环境科学研究院河南省环境监测站贵州省环科院天津环境监测中心来宾市环境监测站吉林市环境监测站中山市环境监测站厦门市环境监测站郑州市环境监测站凉山州环境监测站大连市环境监测站青岛市环境监测站

PICARRO A0213 IM-CRDS 水同位素分析系统快速测定土壤/叶片/茎秆等组织的水同位素 高效使用：5分钟内从准备固体样品或具有高总溶解固体的液体中提取并完成同位素分析 完美集成：与Picarro L2130-i 无缝配合使用 野外部署：在偏远地区进行现场分析技术应用特点：Picarro A0213 样品前处理模块是一项突破性技术，能够在五分钟内对固体材料或具有高总溶解固体的液体（植物叶片和茎、果汁和组织）提取的基质结合水进行高精度同位素分析。IM-CRDS只需要30秒的样品制备时间，合并了样品提取和分析步骤。兼具有便携性，快速设置/部署以及低功耗等特点，该设备可以在几乎任何地方运行。Picarro 集成了专利技术的前处理模块 A0213（IM）与基于光腔衰荡光谱技术（CRDS）的 L2130-i 同位素分析仪，用以取代传统的低温蒸馏系统与同位素比质谱仪（IRMS）组合。传统测量系统需要几乎一整个房间，配以熟练的专门操作员，此外仍需至少90分钟处理样品。在时间、费用和系统复杂性等方面，传统的测量系统已经限制了该领域研究工作的开展。Picarro IM-CRDS 为生态水文学、生态生理学、昆虫学、生命科学、土壤科学和作物研究等多学科的研究人员开辟了新的应用前景。将密封在经过淋洗干净的玻璃样品瓶的样品置于金属样品架中，控制小瓶装入IM-CRDS系统。然后，软件激活感应线圈，精确加热的样品定量释放基质结合水成为蒸气，直接送入L2130-i 同位素分析仪进行氧和氢同位素分析（δ18O和δD）。Picarro的嵌入式软件整合了控制蒸汽脉冲，并完成对从样品中提取的水的同位素组成测量。如有必要，还可以使用Picarro的CM-CRDS系统进一步分析干燥样品的碳同位素。Picarro A0213专门用于同 L2130-i 连接使用。为了优化系统性能，样品可以使用多种样品架和处理方法。例如，可以使用简单打孔方式对叶子进行采样，将样品卷曲在折叠的金属箔内；对茎进行取样，则是通过切割薄的横截面片并将它们装入折叠的金属箔中来完成；如果是水样类或果汁则通过将约3μL液体滴在玻璃滤纸上，然后再以与叶子样品相同的方式处理并分析。此外，用户可以通过控制加热水平和干燥气流来开发不同类型样品和水分含量水平的方法。基于适当的方法，IM-CRDS可以适用于诸如小生物，矿物质和土壤许多类型的样品分析。IM-CRDS采用了Picarro的Micro-Combustion Module™ 技术，这是一种专有处理模块，可通过氧化过程消除有机干扰。对于有机物的样本，在植物提取物中的典型浓度0.5%具有最佳测量效果。而对于含有较高浓度的醇，例如在某些饮料，则将不会完全分解。 但是，该过程具有高度可重复性，可以用于创建高精度的指纹数据。光腔衰荡光谱（CRDS）专利技术：Picarro气体分析仪的核心是一种复杂的基于时间的测量技术，它使用激光来量化光腔中气相分子的光谱特征。Picarro的专利CRDS技术可在紧凑的腔室内实现长达20公里的有效测量路径，从而在很小仪器体积内，实现卓越的精度和灵敏度。由于任何仪器在使用中激光器都会实际产生漂移，Picarro使用专利的高精度波长监视器来保持绝对光谱位置和最精确的峰值，使得系统事实上消除了漂移影响。 此外，CRDS测量是在激光关闭的情况下进行的，从而最大限度地减少了杂散噪声。 A0213系统指标参数相同样品间精度系统漂移 (24 小时峰-峰值）δ18O 0.35 ‰ 0.2 ‰ δD 1.5 ‰ 0.8 ‰样品范围参数标准方法拓展范围样品尺寸6 mm 外径固体样品穿孔（叶片或根茎）或 ~ 3 μL 液体样品（叶片或根茎）Combined sample + sample holder Min. dimension 7.5 mmMax. dimension 25 mm湿度60 to 90 % 2 μL water样品准备与测量时间ca. 5 minutes3 to 20 minutes系统要求参数说明指标操作气压需要2级稳态调压器Standard 1.5 psiAccessible 0.5 to 5 psi气体流量Air ( 500 ppm moisture)Standard 150 sccmAccessible 50-400 sccm最大功耗 100-240 VAC, 50/60 Hz75 Watts运行功耗 100-240 VAC, 50/60 Hz 25 Watts外形尺寸 配合气体分析仪5.0 x 4.5 x 10.5” (13 x 12 x 27 cm)重量 置于气体分析仪上台面1.4 kg

产品概念： MH、SJ系列直读式密度计是根据GB/T533、ISO2781、ASTMD297-93、DIN53479、ASTMD792.、D618、D891、ISO1183、GB/T1033、ASTM D792-00、JISK6530、ASTMD792-00、JISK6530采用阿基米得的水中置换法原理。可直接读出固体、颗粒体、薄膜体、浮体、粉末体之样品在空气中平均重量、水中平均重量以及密度值、体积。本机主要用于橡胶、塑料、电线电缆、食品、复合材料、玻璃、贵金属五金回收…等产业。 产品特点： &blacksquare 直读任何形状密度1或是1的固体块状、颗粒、浮体的密度和体积 &blacksquare 具有温度补偿设定、溶液补偿设定功能，更人性化的操作、更符合现场作业需求 &blacksquare 密度测量台一体注塑成型，安装方便快速，使用时间更长 &blacksquare 采用一体成型耐腐蚀大水槽设计，降低吊栏线的浮力所造成的误差，也方便测试比较大的块状物体 &blacksquare 具有密度上、下限功能，可判定待测物的比重合格与否，设有蜂鸣器装置 &blacksquare 内置蓄电池，配置防风罩，更适合现场测试 &blacksquare 标配RS232外部接口、大屏幕液晶显示 产品参数：

DH-300密度天平操作简单方便、测量快速、结果精准、经久耐用、是一款经济型密度计。产品介绍：DH-300密度天平广泛应用于橡胶、塑胶、电线电缆、复合材料、高分子材料、鞋业、硬质合金、轮胎、等行业。技术参数：1、密度解析：0.001 g/cm32、最大称重：300g3、最小称重：0.005 g/0.01 g功能特点：1.直读任何固体物质的密度值、体积、百分比2.PVC颗粒、EVA发泡体、粉末、薄膜等皆可快速测量3.操作简单、方便、测量快速4.全自动零点跟踪功能5.使用水作介质，也可使用其它液体介质6.具有实际水温补偿功能7.带有蜂鸣器功能8.采用一体成形大容量设计测量配件9.配置专用防风防尘罩标准附件：①主机、②水槽、③测量台、④镊子、⑤温度计、⑥100G砝码、⑦防风防尘罩、⑧测颗粒配件一套、⑨测浮体配件一套、⑩电源变压器一个可测量产品：1、可测定各种塑胶制品与原材料的密度，如颗粒、PVC颗粒、PE颗粒、树脂、片材、管材、线材、板材等类似产品；2、可测定各种橡胶制品与原材料的密度，如颗粒、生胶、熟胶、矽胶、O型圈、密封圈等类似产品；3、可测定各种橡塑胶发泡体、海绵、泡沫、密度小于之1之浮体等类似产品；4、可测定各种金属、合金、玻璃、木材、石材、石墨之密度；6、可测定各种黏稠体、胶状体的密度，如玻璃胶、保护胶、固化胶、护肤化妆品、牙膏等类似产品；7、磁性材料、粉末冶金、磨擦材料、精密陶瓷等类似产品之半成品、成品密度皆能测量；8、各种金属粉末、橡胶粉末、塑胶粉末、水泥粉末皆能测量。关联产品：DAHO经济型DH-300固体密度计DAHO实用型DH-300M固体密度计 DH-300W液体密度计 DAHO高精度DH-120M固体密度计 DH-120W液体密度计DAHO多功能DH-300T固液体两用密度计 DH-120T固液体两用密度计编辑：lcl 15.6

产品概述传统固体样品测试中，需要加酸、消解、赶酸、定容等一系列操作，过程步骤多、耗时长、人员要求高，基于电热蒸发技术的EXPEC 723固体直接进样系统，无需繁琐的样品前处理，无污染和损失，无需使用有害试剂，取样量少，分析速度快，适用于实验室高通量、低误差的需求，也能满足现场应急检测。性能优势梯度程序升温采用红外非接触式高温检测和快速 PID 温控设计，最高温度可达3000℃，可实现不同梯度温度的精准控制，提前去除水分和有机质的干扰。精密控制系统微米级精密运动控制系统，毫升级气体流量控制系统，极大提高样品进入电热蒸发装置的一致性和测样稳定性。”一键式“全自动控制最多可装40个样品舟，“一键式”操作，实现自动夹取、进样、加热，极大降低人工成本。智能化设计实时反馈仪器工作状态，具备异常联锁保护系统，自动复位系统，智能老化判断系统，自动积分算法。应用领域土壤重金属快速筛查 食品重金属快速筛查

PP塑料固体密度测试仪是行业领先的固体密度测试仪器，可自动测试各种固体物质的密度、体积。测量精准、操作简单、经久耐用、经济实惠等特点。适应于品质管理、配方调制、密度研究、成本控制等领域的密度测量。PP塑料固体密度测试仪应用领域：橡胶、塑胶、高分子、复合材料、电线电缆、电工电器、电子材料、建筑材料、包装材料、环保材料、体育器材、玻璃制品、合金金属、机械零件、汽车零部件、煅造业、五金回收、精密陶瓷、防火材料、磁性材料、宝石、鞋材、轮胎、粉末冶金、食品、农业……等行业。PP塑料固体密度测试仪可以测试各种不规则固体，含盖：颗粒、薄膜、浮体、粉末、块状体、发泡体、黏稠体、木材、泡绵、金属、等吸水体与不吸水性体。PP塑料固体密度测试仪产品属性介绍：1.品牌：DAHOMETER 达宏美拓2.型号：DH-3003.品名：电子密度计、电子比重计、密度天平、比重天平、密度仪、密度测试仪 （又称：塑料密度计、橡胶密度计、磁性材料密度计、粉末冶金密度计、硬质合金密度计、金属密度计、水泥密度计、粉末密度计、泡棉密度计、木材密度计、黄金密度计、宝石密度计、玻璃密度计……等）技术参数：1．密度解析：0.001g/cm32．最大称重：300g3．最小称重：0.005g/0.01g4．测量范围：0.001—99.999g/cm3特点：1．直读任何固体物质的密度值、体积、含量百分比2．PVC颗粒、EVA发泡体、粉末、薄膜等皆可快速测量3．操作简单、方便、测量快速4．全动零点跟踪功能5．使用水作介质，也可使用其它液体介质6．具有实际水温补偿功能7．带有蜂鸣器功能及超载报警功能8．采用一体成形大容量设计测量配件9．配置专用防风防尘罩标准附件：①主机、②水槽、③测量台、④镊子、⑤温度计、⑥100G砝码、⑦防风防尘罩、⑧测颗粒配件一套、⑨测浮体配件一套、⑩电源变压器一个测量步骤：①先测量产品在空气中重量，按ENTER键记忆。②再放入水中测水中重量，按ENTER键记忆，显示密度值。③按A键依次显示体积、纯度含量百分比。售后服务：1.所有产品均属原装正品产品。2.所有产品均免费保修三年，终身维护，保修期间产生的一切费用由我方承担。（天灾、人为现象除外）3.所有产品在运输过程中有损坏时，一切责任由我方承担，并保证在4天内更换新品。4.关于使用操作方法，我方有责任与义务教导买方技术使用人员至完全熟练为止。5.其他详细购买事宜，参考双方协定的合同条款。DAHOMETER 宏达美拓 旗下产品：经济型DH-300固体密度计实用型DH-300M固体密度计 DH-300W液体密度计高精度DH-120M固体密度计 DH-120W液体密度计多功能DH-300T固液体两用密度计 DH-120T固液体两用密度计经济型DH-300K贵金属纯度测试仪 DH-300X吸水性产品密度计

此仪器是经过一个固定探头的静电荷感应量。尘埃粒子与探头感应产生静电荷，通过探头进行信号放大并传送进监测控制系统。静电荷的大小与尘埃粒子的流量成比。本系统的高科技电子线路把这部分电荷转换成为控制信号输出，启动粉尘超标排放警报，同时用于连续记录粉尘粒子的总量或浓度。防爆式固体流量计 水泥厂固体粉末计量仪煤粉浓度预警器SJH-FT系列粉体流量计 可咨询甘工产品特点：1、固体流量计采用环形防干扰传感器,电荷感应技术，对粉体或颗粒的探测灵敏度高，线性度好，粉尘轻微沾染探头后不影响测量灵敏度，免维护免清理。2、标准二线制4-20mA电流输出，易于远距离信号传输，对信号传输导线无特殊要求，3，本测量系统是由。传感器与转换器二部分组成，传感器部分是法兰连接。直接安装在测量管道上，相当于一台二线制变送器。转换器相于一台二次仪表，多数是安装在控制室或易操作的地方，它的功能是将传感器送过来的信号与调节下料速度的电机的变频器输出的电流信号进行处理，运算，***显示出瞬时流量与累积流量。并有记录，查询功能。同时还有二种输出功能；485通信功能和与瞬时流量对应的4-20MA电流信号。可供上位机，DCS系统 PLC模块使用4、安装使用与二线制变送器一致，现场工程技术人员无须任何特殊培训即可正确使用，安装方便，运行可靠。5、接线盒内置一体化变送器输出的4-20mA电流与粉体或颗粒感应探头之间电气隔离，实现信号的安全传输。6、管道内无可动部件，无阻流部件，测量中几乎没有附加压力损失。不易结垢，免维护，清理。7、测量结果与流速分布，流体压力，温度、等物理参数关系不大。8、采用SMD 器件和表面贴装（SMT电路可靠性高）。9、采用16 位嵌入式微处理器，运算速度快，精度高，可编程频率低频矩形波励磁，提高了流测量的稳定性，功耗低。10、全数字量的处理，测量可靠，精度高报警设备1. 本系列粉体流量计在PLC或其它可记录系统中设置。将输出信号4 -20mA转换成可见可读数（如mg/m?）。转换方式如下，以量程0-100Kg/h为例，4mA对应0Kg/h,20mA对应100 Kg/h。2. 在控制系统中设置粉体堵塞流量值（一般设置为满量程的2％），当流量低于该值后即报警。由于设备的精细程度及每个工厂的使用要求不同，也可根据实际情况做相应调整。并作时间延迟处理，以免产生误报警。粉体流量计 管道监测耐高温 耐高压流量测量

本系列产品采用德国进口传感器，精度高，稳定性好；测量架采用铝合金材料，开放式结构设计，保证称重系统的稳定性与拿取样品的方便性；具有自动水温恒温功能，恒温装置与体积测量装置溶于一体，广泛应用于高温状态下体积变化率测试场合。广泛应用：电池行业、机动车零部件、航空航天零部件、大型机械零部件、硬质合金、贵金属制品、稀土永磁、磁性材料、稀土材料、有色金属、稀有金属、粉末冶金、陶瓷行业、金属密封件、冶金行业、煅造行业、防火材料、大型橡膠塑膠件、大型发泡体、体育用品、鞋底、岩石、地质、矿业、土木工程、文物考古、重点实验室、材料学研究实验室。 功能特点： 1、 满足固体产品的体积与密度检测2、 电子温度显示，具有恒温功能，温度范围常温~100℃ 3、 德国进口传感器、性能稳定、测量精准4、 开放式的测量架设计，样品拿取方便5、 瞬间显示体积、操作简单、时间快速，适合现场快速检测，无需人工计算。6、 密度1、1皆可测量7、 具有实际水温补偿功能，避免水温不同造成测量结果的偏差8、 使用水作介质，也可使用其它液体介质9、 含RS-232C通信接口，方便连接PC与打印机，可选购DE-40打印机打印测量数据操作步骤o 在显示0.00g状态下，将产品放入测量台，待显示稳定后，按ENTER键记忆，显示屏状态符号M1变M2；o 将产品放入水中，待显示稳定后，按ENTER键记忆，状态符号M2消失，状态符号指向标示S1，即显示为体积值。此时专用打印自动打印测量结果技术指标：品牌DahoMeter达宏美拓型号DH-300G-TDH-900G-TDH-2000G-TDH-3000G-TDH-4000G-TDH-5000G-T最大称重300g900g2000g3000g4000g5000g称重精度0.005g0.01g0.01g0.02g0.02g0.05g体积显示精度0.01 cm30.1 cm3水槽尺寸长169mm×宽98mm×高83mm）长3400mm×宽2400mm×高850mm温度范围常温~100℃常温~100℃温度精度1℃1℃结果显示体积、密度、百分比含量测量种类任何固体形态测量水槽不锈钢水槽标准附件①主机、②水槽、③测量台、④镊子、⑤温度计、⑥砝码、⑦电源变压器一个

用途：表面清洗活化表面蚀刻Tetra 8 RIE 产品特点：适用于8”以下样品的处理等离子蚀刻机，可实现快速且一致的样品表面刻蚀全局的工艺气体通过气浴进气实现了均匀的气体分布电极水冷确保了样品的温度不会偏高工业Windows控制系统，多段程序控制功能，实现一键蚀刻功能适合于研究院、高校、研发中心等使用，也可小批量生产