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化学气象沉积设备

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化学气象沉积设备相关的论坛

  • 请教关于电化学沉积的问题

    电沉积总共有哪几种方法啊？控制一定的电流密度，沉积一定的时间，这种电沉积方式是什么电化学方法实现的？恳求各位大侠伸出援助之手

  • 【求购】化学气相沉积仪器

    实验室需要购买化学[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相[/url]沉积（CVD）设备，三路气体，双温区，正规厂家可以和我联系。xiufang-qin@163.com。谢谢

  • 【原创】化学沉积法

    [em0715]热心的朋友能给具体的介绍一下化学沉积法的原理吗？[color=red]--------------------------------------------------------------------------------------------------------楼主，专业帖请发到相关版块，新手版的帖子不会在最新1000帖显示的，看到的人少。[/color]

  • 求教一下电化学沉积纳米颗粒

    有那位大侠作这方面的：用电化学工作站CHI660沉积铂纳米颗粒的，在玻碳电极上。指导一下啊，或者相关的资料介绍一下》QQ：469387067。laomao007@sina.com

  • 【讨论】用电化学工作站如何做电沉积？

    我们的电化学工作站是CHI660c,想拿他来做电沉积，ITO做工作电极，Pt对电极，SCE参比电极，工作电压-1V，请问我应该选择什么工作模式啊？如：循环伏安，计时电位，等。参数该如何设置，先谢过了。

  • 【转帖】关于 “请教：电镀和电沉积有什么区别？” 的讨论

    请教：电镀和电沉积有什么区别？1电镀是在直流电场的作用下，在电解质溶液（镀液）中由阳极和阴极构成回路，使溶液中的金属离子沉积到阴极镀件表面上的过程。 电镀目的 是在基材上镀上金属镀层(deposit)，改变基材表面性质或尺寸。例如赋予金属表面的光泽美观、物品防锈、防止磨耗；提高导电度、润滑性、强度、耐热性、耐候性；热处理的防渗碳、氮化；尺寸或磨耗的零件修补。 电沉积（析出） 在被涂工件表面，阳离子树脂与阴极表面碱性作用，中和而析出不沉积物，沉积于被涂工件上。 2不同意楼上对电沉积的解释其实,电镀和电沉积可以认为是一回事,用英文表示分别为electroplating 和electrodeposition 3个人感觉电沉积所包含的范围要宽一些电沉积不一定要有化学变化，可能只是物理吸附 4我觉得1楼对电镀解释得比较清楚，电镀是电沉积的一类，比如电沉积聚合物膜，这里一般不用电镀聚合物膜 5谢谢各位，我是不是可以这样理解，电镀一般是沉积金属膜，电沉积范围宽一些，可以沉积聚合物膜之类的。 6我个人认为，电沉积可以是阳极电沉积和阴极电沉积,而电镀只是阴极电沉积.就如楼上所说,电沉积的范围很广,只的是通过电化学过程沉积金属或非金属或高分子等. 7我觉得电镀这个词一般应用在应用和工业研究上，且大多指阴极过程；而电沉积则较多的用在基础研究上。 8我认为没有区别，都是一回事，叫法不一样而已。 9大家说得都很好。我也简单说几句：电沉积是一个大概念，凡是用外加电流，通过电子得失在电极上得到所需物质的都可称作电沉积。如：阴极，阳极电泳，得到的沉积粒子（有机高分子聚合物）---电泳漆；金属的离子或络离子由水溶液（也有有机溶液）中通过电流在阴极析出得到该金属或合金粒子---电镀层；某些金属或合金，如铝合金在硫酸溶液中通过电流由阳极得到氧化膜---阳极氧化；另外，还有用交流电对某些金属氧化膜进行处理---电解着色；以及熔融冰晶石中电解得铝---电冶炼。因此电镀归属于电沉积范畴，如同油漆归属于涂料一样。

  • 【求助】关于控制电位电沉积

    想做恒电位电沉积，电化学工作站是PARSTAT2273，试验方法可以用其中的“Chronoamperometry”技术吗？？或者是用哪个？？请教下

  • 【求助】恒电位技术、电沉积

    我们实验室使用的是天津兰立科LK2005电化学工作站，想在玻碳电极上电沉积羟基磷灰石，想问问用恒电位技术中的哪一种试验方法呢？

  • 【求助】光电子能谱仪的样品制备室（预沉积室）问题

    大家好，目前想做原位测试金属与半导体接触界面光电子能谱变化情况，主要是先在能谱仪沉积室内蒸镀一层金属，测试金属的功函数和真空能级情况，然后再将样品回传到沉积室，继续蒸镀半导体材料（厚度不同），这样再进行表面光电子能谱分析。不过，很多单位没有样品制备室，请问国内有哪些单位有能够进行进行原位沉积、测试的XPS（含UPS）的设备啊？

  • 海洋沉积物/土壤和沉积物-硫化物

    ①：请问海洋沉积物与土壤底泥的硫化物测定中，用的标液是购买的，并且标明溶剂是0.1%氢氧化钠（即用于水质分析的标液），在海洋沉积物/土壤/底泥中是否适用？②：海洋沉积物的硫化物标准使用液怎么稀释？标准GB 17378.5没有具体说明

  • 沉积物油类的测定

    请问有没有做海洋沉积物的朋友，GB17378.5-2007中13.2油类的测定，有个萃取效率系数的测定，要用到已风干的未受油沾污的沉积物样品，这个能买得到吗，还是自己能自制的，初次接触沉积物，望有经验的朋友多多指教

  • 沉积物采样依据

    HJ/T166-2004中适用范围没有沉积物。湖库、河流沉积物大家采样依据用的是哪个方法。

  • 电沉积装置那里有卖的？

    我现在在做电沉积实验，要将一种重金属沉积到不锈钢盘上，再进行测量。现在用的是恒电压恒电流仪加上一个简易电沉积装置，装置太简陋，只是一个塑料瓶，加上一根铂金丝做阳极，沉积效率和均匀度较差。想购买一套成品的电沉积装置，在网上只找到EDP7000和EDP9002两套装置，太贵了。有没有别的厂家的，大家给推荐下吧，。

  • 海洋沉积物油测定

    请问有没有做海洋沉积物的朋友，GB17378.5-2007中13.2油类的测定，有个萃取效率系数的测定，要用到已风干的未受油沾污的沉积物样品，这个能买得到吗，还是自己能自制的，初次接触沉积物，望有经验的朋友多多指教

  • 沉积物中的多氯联苯

    沉积物中的多氯联苯，沉积物没有冻干，直接用加压流体萃取法做的，没有脱水，其他步骤前处理是按照HJ922-2017中做的前处理 ，自己填的柱子，净化后，没有峰，有大峰，不知道是什么原因

  • 【原创大赛】薄膜的物理气相沉积——溅射法

    【原创大赛】薄膜的物理气相沉积——溅射法

    溅射制膜的过程：气体辉光放电、等离子体、靶、溅射、沉积到衬底（一）与蒸发法相比，溅射沉积的主要特点：①沉积原子能量高，因此薄膜的组织更致密，附着力也可以得到明显改善；②制备合金膜时，其成分的控制性能好；③靶材可以是极难熔的材料；④可利用反应溅射技术，从金属无素靶材制备化合物薄膜；⑤由于被沉积的原子均携带有一定的能量，因而有助于改善薄膜对于复杂形状表面的覆盖能力，降低薄膜表面的粗糙度。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507151100_555534_2989334_3.jpghttp://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gif（二）溅射沉积分类主要的溅射方式可以根据其特征分为四种：（1）直流溅射；（2）射频溅射；（3）磁控溅射；（4）反应溅射。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507151102_555536_2989334_3.jpg图1 不同溅射方法的靶电流密度和靶电压的比较http://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gif（1）直流溅射直流溅射又称为阴极溅射或二极溅射图2直流溅射沉积装置示意图，其典型的溅射条件为：工作气压10Pa，溅射电压3000V，靶电流密度0.5mA/cm2，薄膜的沉积速率低于0.1μm/min直流溅射过程中常用Ar作为工作气体。工作气压是一个重要参数，它对溅射速率以及薄膜的质量都有很大影响直流溅射设备的优点和缺点：优点：简单缺点：使用的气体压力高，溅射速率较低，这不利于减小气氛中的杂质对薄膜的污染以及溅射效率的提高。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507151105_555538_2989334_3.jpg图2直流溅射沉积装置示意图http://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gif（2 ）射频溅射直流溅射要求靶材有较好的导电性，可以很大方便地沉积各类合金膜。对于导电性很差的非金属材料的溅射，我们需要一种新的溅射方法—射频溅射。射频溅射是适于各种金属和非金属材料的一种溅射沉积方法射频场对于靶材的自偏压效应。在衬底或薄膜本身是绝缘体的情况下，采取对其施加一个射频电压的方法，也可以起到对其施加负偏压的作用。（3）磁控溅射相对于蒸发沉积来说，一般的溅射沉积方法具有两个缺点。第一，溅射方法沉积薄膜的沉积速度较低；第二，溅射所需的工作气压较高 这两个缺点的综合效果是气体分子对薄膜产生污染的可能性较高。而磁控溅射技术：沉积速度较高，工作气体压力较低。工作原理：磁场对电弧运动有一定的约束作用（绕磁场螺旋前进）；（1）电子的电离效率高，有效提高了靶电流密度和溅射效率，（2）较低气压下溅射原子被气体分子散射的几率较小（三）气体放电是离子溅射过程的基础（1）首先介绍直流电场作用下的物质的溅射现象预抽真空，充入适当压力的惰性气体，如Ar气，10-1～10Pa；在正负电极间外加电压的作用下，电极间的气体原子将被大量电离；Ar—→Ar++e，Ar+被电场加速后射向靶材，撞击出靶材原子（分子），靶材原子脱离靶时仍具有一定能量，飞向衬底，电子被电场加速飞向阳极；http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507151107_555542_2989334_3.jpg图3直流气体放电体系模型及伏安特性曲线http://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gif电压进一步增大，发生极板两端电压突然降低，电流突然增大，并同时出现带有颜色的辉光，此过程称为气体的击穿；击穿后气体的发光放电称为辉光放电；这时电子和正离子是来源于电子的碰撞和正离子的轰击，即使自然游离源不存大，放电也将继续下去。而且维持辉光放电的电压较低，且不变，此时电流的增大显然与电压无关，而只与阴极板上产生辉光的表面积有关；正常辉光放电的电流密度与阴极材料和形状、气体种类和压强有关；由于正常辉光放电时的电流密度仍比较小，所以在溅射方面均是选择在非正常辉光放电区工作。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507151110_555543_2989334_3.jpg图4示意性地画出了在离子轰击条件下，固体表面可能发生的物理过程http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507151111_555544_2989334_3.jpg图5所示，不同能量离子与固体表面相互作用的过程不同当离子入射到靶材上时，对于溅射过程来说，比较重要的过程有两个：其一是物质的溅射；其二是二次电子发射：二次发射电子在电场作用下获得能量，进而参与气体分子的碰撞，并维持气体的辉光放电过程。http://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gifhttp://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gif （四）合金的溅射和沉积用溅射法沉积合金膜，比蒸发法易于保证薄膜的化学配比；溅射过程中入射离子与靶材之间有很大的能量传递。因此，溅射出的原子将从溅射过程中获得很大的动能，其数值一般可以达到5~20eV；一方面，溅射原子具有很宽的能量分布范围，其平均能量约为10eV左右；另一方面，随着入射离子能量的增加，溅射离子的平均能量也有上升的趋势；溅射过程还会产生很少的溅射离子，它们具有比溅射出来的原子更高的能量。能量较低的溅射离子不易逃脱靶表面的鞘层电位的束缚，将被靶表面所俘获而不能脱离靶材；由蒸发法获得的原子动能一般只有0.1eV，两者相差两个数量级；在溅射沉积中，高能量的原子对于衬底的撞击一方面提高了原子自身在薄膜表面的扩散能力，另一方面也会引起衬底温度的升高。

  • 【求助】沉积合金时电流变化

    我用恒电位沉积合金时，有时候电流会很快降为零，然后就只能沉积单一金属。但有时候不会降为零，更多的是恒定在一个范围内，这时做出的是合金。我想请教一下大家，为什么有时候会降为零啊

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