纳米级三维测量仪

SKYSCAN 2214 是布鲁克推出的新纳米断层扫描系统，是显微 CT 技术领域的先行者，在为用户带来了终级分辨率的同时,提供非常好的用户体验。SKYSCAN 2214 的每个组件都融入的新的技术，使其成为当今市场上性能很强、适用性很广的系统。■多用途系统，样品尺寸可达300mm，分辨率（像素尺寸）可达 60 纳米■金刚石窗口x射线源，焦斑尺寸500nm■创新的探测器模块化设计，可支持 4 个探测器、可现场升级。■全球速度很快的 3D 重建软件（InstaRecon）。■支持精确的螺旋扫描重建算法。■近似免维护的系统，缩短停机时间并降低拥有成本。地质、石油和天然气勘探■常规和非常规储层全尺寸岩心或感兴趣区的高分辨率成像■测量孔隙尺寸和渗透率，颗粒尺寸和形状■测量矿物相在3D空间的分布■原位动态过程分析聚合物和复合材料■以500 nm 的真正的 3D 空间分辨率解析精细结构■评估微观结构和孔隙度■量化缺陷、局部纤维取向和厚度电池和储能■电池和燃料电池的无损 3D 成像■缺陷量化■正负极极片微观结构分析■电池结构随时间变化的动态扫描生命科学■以真正的亚微米分辨率解析结构，如软组织、骨细胞和牙本质小管等■对骨整合生物材料和高密植体的无伪影成像■对生物样品的高分辨率表征，如植物和昆虫

“55mm 系列”— Linear55-x-Slim (闭环控制)低温 压电运动- 线性位移系列纳米级压电位移台Linear55-x-Slim主要特征&bull 紧凑设计, 尺⼨ : 55*55*10.5 mm&bull 超⾼ 真空 & 超低温兼容: 2 E- 11 mbar & 30 mK&bull ⽆ 磁材料(纯 Ti & BeCu)，最⾼ 兼容 18 Tesla 磁场&bull 超⾼ 负载 & 超⾼ 推⼒ : 2500 g & 3 N&bull ⼤ ⾏ 程 : 30 mm&bull 闭环控制，内置位置传感器， 最⼩ 位置分辨率 0.1 um纳米级压电位移台Linear55-x-Slim⼆ 维尺⼨ Linear55-x-Slim, SpeciÞ cation*所有数据均通过50欧姆线缆测量. 虽然对导线的电导率没有要求，但我们建议电阻低于50欧姆。 可选版本 ⇨ .HV (默认).ULT.UHV.ULT.UHV.HV ⾼ 真空版本，默认产品 .ULT 超低温版本, 兼容氦-3制冷系统 & 稀释制冷机.UHV 超⾼ 真空版本, 最⾼ 兼容 2E-11 mbar1 三维尺⼨ 55.× 55 mm × 10.5 mm2 质量130 g适⽤ 环境范围 3 基础温度范围: 1.4 ~ 400 K 最低真空度: 2e-7 mbar 最⼤ 磁场: 18 Tesla4 可选1 - 30 mK&check &check 5 可选2 - 2e-11 mbar&check &check 材质6 主体Pure TiBeCuPure TiBeCu7 线缆磷⻘ 铜双绞线，20cm8 针脚材质聚酯材料（玻璃纤维填充）, BeCuPeek, BeCu9 针脚数量驱动 -2 pins，传感 - 3 pins运动参数10 ⾏ 程30 mm11 最⼤ 运动速度 @300 K~ 2 mm/s12 驱动电压Max. 200 V13 最⼤ 负载2500 g14 最⼤ 推⼒ 3 N传感器（闭环）15 位置传感器电阻传感16 传感器⾏ 程30 mm17 传感器分辨率~ 150 nm18 重复定位精度1 - 2 um

仪器简介： 德国Klocke Nanotechnik公司生产的纳米级三维测量仪(3D Nanofinger)俗称纳米三坐标，是一种实用的纳米精度坐标和形貌综合测量设备。由台架、控制系统、探头、针尖组成. 可测量样品外形尺寸，表面轮廓、粗糙度等，并可与超精密微加工、微组装系统组合，进行在线检测、质量控制等。系统拥有5个自由度，可以根据样品设定测量路径，测量范围达到厘米级甚至更大。现已广泛应用于超精密机械加工、MEMS器件、半导体微电子加工、光学、分子生物学和精密工程。 技术参数：设备主要参数： 测量范围: X = 10, 20 or 50 mm Y = 10, 20 or 50 mm Z = 10 or 20 mm 采用花岗岩基底，XY方向行程扩展为： 100 x 100 mm2 or 350 x 350 mm2 测量特性： 运动分辨率： 1 nm 针尖分辨率： 0.5 nm 水平与竖直方向均配有操纵传感器 线形轮廓测量 样品内部与外部轮廓测量 坐标测量功能 测量用探针: 针尖型金属丝, 尖端半径 100 nm 钩型金属丝, 尖端半径 100 nm 圆形针尖, 直径 0.12-0.3 mm 金刚石针尖, 如用于表面压痕 软件： 针尖自动校准与逼近 2D 和 3D 图形功能 分析软件 自动化模块选项（序列发生器） 可选择的配置: 小型花岗岩平台式3D-Nanofinger 便携式3D-Nanofinger 3D-Nanofinger 模块，如集成到CNC机床内部 适合电镜中安装的3D-Nanofinger 模块 可安装到多功能检测工作台中 附件: 纳米精度自动旋转平台 摄像机 图形识别系统主要特点：1.纳米精度测量，而且是三维方向都可保持统一的精度。 2.测量量程跨越纳米到厘米,甚至分米级。 3.多功能多参数测量设备，可以涵盖三坐标、轮廓仪、形貌仪、粗糙度仪等的功能。 4.用户可以设定测量路径，这样就能沿着样品形状进行测量。适合复杂轮廓测试。 5.配合多种不同功能的探针，可以完成一般轮廓仪无法进行的结构测量。特别是结构内部。 6.用户可以根据需要灵活设置测量方法，可以进行大面积精确测量，也可以先进行大面积低精测量，然后对特定感兴趣的区域进行高精测量，以节省时间。 7.整个过程非接触的，间距可以保持在可以设定为几个纳米。适合各种固态样品测量，对材料性质没有特别要求和限制。 8.布局灵活，根据用户测试要求组成合适的系统。平台可以任意组合，探头也以改变安装方向。 9.如果和微加工设备组合，可以实现在线测量。

产品详情德国Klocke Nanotech纳米级三维测量仪3D Nanofinger 纳米级三维测量仪(3D Nanofinger)俗称纳米三坐标，是一种实用的纳米精度坐标和形貌综合测量设备。由台架、控制系统、探头、针尖组成. 可测量样品外形尺寸，表面轮廓、粗糙度等，并可与超精密微加工、微组装系统组合，进行在线检测、质量控制等。系统可以根据样品设定测量路径，测量范围达到厘米级甚至更大。现已广泛应用于超精密机械加工、MEMS器件、半导体微电子加工、光学、分子生物学和精密工程。 工作原理： Nanofinger传感器是一个小的MEMS器件，用来监测针尖和样品之间的距离。这个距离小于10nm时，传感器检测到针尖和样品之间的范德华力。此过程针尖跟样品没有接触，即没有任何损伤。 Nanofinger的传感器由一个特殊的，带宽为几kHz的高速电子控制系统驱动，闭环控制朝向样品运动，增量为1nm直至达到理想的信号值（如，放大倍数为75%）。这时，位置信息以坐标数据信息存储下来。传感器继续运动，到达下一位置，任何时候，都是1nm增量的闭环控制。同时，在X.Y和Z方向都可以实现厘米的运动行程。 所有运动方向都实现1nm运动分辨率。线扫描后非常容易地获得三维图像。 应用灵活： 3D-Nanofinger可以作为一个模块，应用到其他系统中。 可以构建成一个独立的纳米级三维测量仪。 可以与Klocke公司的机械臂组合，安装在SEM/FIB系统中，进行三维测量。“实时的图像位置”模块引导Nanofinger轻松到达鼠标点击的SEM图像位置。 设备主要参数： 可选行程: X = 20 or 50 mm2 Y = 20 or 50 mm2 Z = 10 or 20 mm2 采用花岗岩基底，XY方向行程扩展为： 100 x 100 mm2 or 350 x 350 mm2 测量特性： 运动分辨率： 1 nm针尖分辨率： 0.5 nm水平与竖直方向均配有操纵传感器线形轮廓测量样品内部与外部轮廓测量坐标测量功能 测量用探针: 针尖型金属丝, 尖端半径 100 nm钩型金属丝, 尖端半径 100 nm圆形针尖, 直径 0.12-0.3 mm金刚石针尖, 如用于表面压痕 软件: 针尖自动校准与逼近2D 和 3D 图形功能工序设置，实现复杂动作自动控制（选项） 应用图例： 轮廓测量 二维和三维轮廓和表面精糙度参数 TFT LCD显示行业的金字塔结构 外形测量 沿内部及外部形状 1.4 mm直径的内螺纹 尺寸测量 确定物体的方位和尺寸 钻床和磨床上使用的刀具刃部的三维图像

中图仪器SuperViewW光学纳米级光学表面粗糙度测量仪利用光学干涉原理，具有测量精度高、操作便捷、功能齐全、测量参数涵盖面广的优点，测量单个精细器件的过程用时短，确保了高款率检测。特殊光源模式可以广泛适用于从光滑到粗糙等各种精细器件表面的测量。产品功能1)样件测量能力：单一扫描模式即可满足从超光滑到粗糙、镜面到全透明或黑色材质等所有类型样件表面的测量；2)单区域自动测量：单片平面样品或批量样品切换测量点位时，可一键实现自动条纹搜索、扫描等功能；3)多区域自动测量：可设置方形或圆形的阵列形式的多区域测量点位，一键实现自动条纹搜索、扫描等功能；4)自动拼接测量；支持方形、圆形、环形和螺旋形式的自动拼接测量功能，配合影像导航功能，可自定义测量区域，支持数千张图像的无缝拼接测量；5)编程测量功能：支持测量和分析同界面操作的软件模块，可预先配置数据处理和分析步骤，结合自动单测量功能，实现一键测量；6)数据处理功能：提供位置调整、去噪、滤波、提取四大模块的数据处理功能；7)数据分析功能：提供粗糙度分析、几何轮廓分析、结构分析、频率分析、功能分析等五大分析功能。8)批量分析功能：可根据需求参数定制数据处理和分析模板，针对同类型参数实现一键批量分析；9)数据报表导出：支持word、excel、pdf格式的数据报表导出功能，支持图像、数值结果的导出；10)故障排查功能：配置诊断模块，可保存扫描过程中的干涉条纹图像；11)便捷操作功能：设备配备操纵杆，支持操纵杆进行所有位置轴的操作及速度调节、光源亮度调节、急停等；12)环境噪声评价：具备0.1nm分辨率的环境噪声评价功能，定量检测出仪器受到外界环境干扰的噪声振幅和频率，为设备调试和故障排查提供定量依据；13)气浮隔振功能：采用气浮式隔振底座，可有效隔离地面传导的振动噪声，确保测量数据的高精度；14)光源安全功能：光源设置无人值守下的自动熄灯功能，当检测到鼠标轨迹长时间未变动后会自主降低熄灭光源，防止光源高亮过热损坏，并有效延长光源使用寿命；15)镜头安全功能：双重防撞保护，软件ZSTOP防撞保护，设置后即以当前位置为位移下限位，不再下移且伴有报警声；设备配备压力传感器，并在镜头处进行了弹簧结构设计，确保当镜头碰撞后弹性回缩，进入急停状态，大幅减小碰撞冲击力，有效保护镜头和扫描轴，消除人为操作的安全风险。SuperViewW光学纳米级光学表面粗糙度测量仪结合精密Z向扫描模块、3D 建模算法等对器件表面进行非接触式扫描并建立表面3D图像，通过系统软件对器件表面3D图像进行数据处理与分析，并获取反映器件表面质量的2D、3D参数，从而实现器件表面形貌3D测量。SuperViewW光学纳米级光学表面粗糙度测量仪可广泛应用于半导体制造及封装工艺检测、3C电子玻璃屏及其精密配件、光学加工、微纳材料及制造、汽车零部件、MEMS器件等超精密加工行业及航空航天、科研院所等领域中。可测各类从超光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物体表面，从纳米到微米级别工件的粗糙度、平整度、微观几何轮廓、曲率等。结果组成1、三维表面结构：粗糙度，波纹度，表面结构，缺陷分析，晶粒分析等；2、二维图像分析：距离，半径，斜坡，格子图，轮廓线等；3、表界面测量：透明表面形貌，薄膜厚度，透明薄膜下的表面；4、薄膜和厚膜的台阶高度测量；5、划痕形貌，摩擦磨损深度、宽度和体积定量测量；6、微电子表面分析和MEMS表征。主要应用领域1、用于太阳能电池测量；2、用于半导体晶圆测量；3、用于镀膜玻璃的平整度（Flatness)测量；4、用于机械部件的计量；5、用于塑料，金属和其他复合型材料工件的测量。应用领域案例部分技术指标型号W1光源白光LED影像系统1024×1024干涉物镜标配：10×选配：2.5× 5× 20× 50× 100×光学ZOOM标配：0.5×选配：0.375× 0.75× 1×物镜塔台标配：3孔手动选配：5孔电动XY位移平台尺寸320×200㎜移动范围140×100㎜负载10kg控制方式电动Z轴聚焦行程100㎜控制方式电动Z向扫描范围10 ㎜主机尺寸（长×宽×高）700×606×920㎜恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。如有疑问或需要更多详细信息，请随时联系中图仪器咨询。

中图仪器SuperViewW1白光干涉微纳米三维形貌一键测量仪以白光干涉技术为原理，获取反映器件表面质量的2D、3D参数，从而实现器件表面形貌3D测量的光学检测仪器。集合了相移法PSI的高精度和垂直法VSI的大范围两大优点，适用于从超光滑到粗糙、平面到弧面等各种表面类型，让3D测量变得简单。SuperViewW1白光干涉微纳米三维形貌一键测量仪以3D非接触方式，测量分析样品表面形貌的关键参数和尺寸，典型结果包括：表面形貌（粗糙度，平面度，平行度，台阶高度，锥角等等）；几何特征（关键孔径尺寸，曲率半径，特征区域的面积和体积，特征图形的位置和数量等等）。产品功能(1)SuperViewW1白光干涉微纳米三维形貌一键测量仪设备提供表征微观形貌的粗糙度和台阶高、角度等轮廓尺寸测量功能；(2)测量中提供自动对焦、自动找条纹、自动调亮度等自动化辅助功能；(3)测量中提供自动拼接测量、定位自动多区域测量功能；(4)分析中提供校平、图像修描、去噪和滤波、区域提取等四大模块的数据处理功能；(5)分析中提供粗糙度分析、几何轮廓分析、结构分析、频率分析、功能分析等五大分析功能；(6)分析中同时提供一键分析和多文件分析等辅助分析功能。产品特点参数测量：粗糙度、微观轮廓尺寸、角度、面积、体积，一网打尽；环境噪声检测：实时监测，纳米波动，也无可藏匿；双重防撞保护：软件ZSTOP和Z向硬件传感器，让“以卵击石"也能安然无恙；自动拼接：3轴光栅闭环反馈，让3D拼接“天衣无缝"；双重振动隔离：气浮隔振，吸音隔振，任你“地动山摇，我自岿然不动"。应用领域对各种产品、部件和材料表面的平面度、粗糙度、波纹度、面形轮廓、表面缺陷、磨损情况、腐蚀情况、孔隙间隙、台阶高度、弯曲变形情况、加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。应用范例：SuperViewW1白光干涉仪具有测量精度高、操作便捷、功能齐全、测量参数涵盖面广的优点，测量单个精细器件的过程用时短，确保了高款率检测。白光干涉仪的特殊光源模式，可以广泛适用于从光滑到粗糙等各种精细器件表面的测量。部分技术指标型号W1光源白光LED影像系统1024×1024干涉物镜标配:10×选配:2.5×、5×、20×、50×、100×光学ZOOM标配:0.5×选配:0.375×、0.75×、1×标准视场0.98×0.98㎜（10×物镜，光学ZOOM 0.5×）XY位移平台尺寸320×200㎜移动范围140×100㎜负载10kg控制方式电动Z轴聚焦行程100㎜控制方式电动台阶测量可测样品反射率0.05%~100主机尺寸700×606×920㎜恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。

OptoTop 高精度纳米级三维形貌仪设备介绍： OptoTop不仅可以测量材料的表面三维形貌，而且可以测量表面的颗粒度，纳米颗粒大小和粗糙度，以及复杂的表面磨耗性能。OptoTop可满足研发、磨损分析、失效分析及工艺控制等领域的需求。设备优点: ¤ 操作简便¤ 高速数据采集能力¤ 强大的数据分析能力¤ 对各种材料和涂层进行智能测量¤ 线性轮廓的微粗糙度值¤ 实现2-D线性剖面，3-D显示表面轮廓及高度剖面应用领域: ◆ 平坦、结构性及弯曲表面的粗糙度及结构分析◆ 测量宏观和微观的几何结构◆ 表面控制，例如滚动起伏（选购配件：移动式装置）技术资料 感应度白光共聚焦测量范围Z*300µ m1mm 2mm解析度 Z*12nm25nm75nm侧向解析度1.55µ m2µ m4µ m测量感应距离11mm12.7mm16.4mm测量频率30 Hz, 100 Hz, 300 Hz, 1 kHzv标准XY轴试验范围60 x 60 mm移动速度0.1 - 10 mm/s标准样品台大小165 x 165 mm 或定制品

SuperViewW中图高精度纳米量级白光干涉测量仪以白光干涉技术原理，对各种精密器件表面进行纳米级测量。它通过测量干涉条纹的变化来测量表面三维形貌，专用于精密零部件之重点部位表面粗糙度、微小形貌轮廓及尺寸的非接触式快速测量。SuperViewW中图高精度纳米量级白光干涉测量仪可测各类从超光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物体表面，从纳米到微米级别工件的粗糙度、平整度、微观几何轮廓、曲率等参数，针对完成样品超光滑凹面弧形扫描所需同时满足的高精度、大扫描范围的需求，SuperView W1的复合型EPSI重建算法，解决了传统相移法PSI扫描范围小、垂直法VSI精度低的双重缺点。在自动拼接模块下，只需要确定起点和终点，即可自动扫描，重建其超光滑的表面区域，不见一丝重叠缝隙。产品功能1)样件测量能力：单一扫描模式即可满足从超光滑到粗糙、镜面到全透明或黑色材质等所有类型样件表面的测量；2)单区域自动测量：单片平面样品或批量样品切换测量点位时，可一键实现自动条纹搜索、扫描等功能；3)多区域自动测量：可设置方形或圆形的阵列形式的多区域测量点位，一键实现自动条纹搜索、扫描等功能；4)自动拼接测量；支持方形、圆形、环形和螺旋形式的自动拼接测量功能，配合影像导航功能，可自定义测量区域，支持数千张图像的无缝拼接测量；5)编程测量功能：支持测量和分析同界面操作的软件模块，可预先配置数据处理和分析步骤，结合自动单测量功能，实现一键测量；6)数据处理功能：提供位置调整、去噪、滤波、提取四大模块的数据处理功能；7)数据分析功能：提供粗糙度分析、几何轮廓分析、结构分析、频率分析、功能分析等五大分析功能。8)批量分析功能：可根据需求参数定制数据处理和分析模板，针对同类型参数实现一键批量分析；9)数据报表导出：支持word、excel、pdf格式的数据报表导出功能，支持图像、数值结果的导出；10)故障排查功能：配置诊断模块，可保存扫描过程中的干涉条纹图像；11)便捷操作功能：设备配备操纵杆，支持操纵杆进行所有位置轴的操作及速度调节、光源亮度调节、急停等；12)环境噪声评价：具备0.1nm分辨率的环境噪声评价功能，定量检测出仪器受到外界环境干扰的噪声振幅和频率，为设备调试和故障排查提供定量依据；13)气浮隔振功能：采用气浮式隔振底座，可有效隔离地面传导的振动噪声，确保测量数据的高精度；14)光源安全功能：光源设置无人值守下的自动熄灯功能，当检测到鼠标轨迹长时间未变动后会自主降低熄灭光源，防止光源高亮过热损坏，并有效延长光源使用寿命；15)镜头安全功能：双重防撞保护，软件ZSTOP防撞保护，设置后即以当前位置为位移下限位，不再下移且伴有报警声；设备配备压力传感器，并在镜头处进行了弹簧结构设计，确保当镜头碰撞后弹性回缩，进入急停状态，大幅减小碰撞冲击力，有效保护镜头和扫描轴，消除人为操作的安全风险。应用领域SuperViewW中图高精度纳米量级白光干涉测量仪具有测量精度高、操作便捷、功能齐全、测量参数涵盖面广的优点，测量单个精细器件的过程用时短，确保了高款率检测。特殊光源模式可以广泛适用于从光滑到粗糙等各种精细器件表面的测量。部分技术指标型号W1光源白光LED影像系统1024×1024干涉物镜标配:10×选配:2.5×、5×、20×、50×、100×光学ZOOM标配:0.5×选配:0.375×、0.75×、1×标准视场0.98×0.98㎜（10×）XY位移平台尺寸320×200㎜移动范围140×100㎜负载10kg控制方式手动和电动兼容型Z轴聚焦行程100㎜控制方式电动台阶测量可测样品反射率0.05%~100主机尺寸700×600×900㎜恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。如有疑问或需要更多详细信息，请随时联系中图仪器咨询。

中图仪器SuperViewW光学表面三维形貌轮廓测量仪以白光干涉技术原理，用于对各种精密器件表面进行纳米级测量。通过测量干涉条纹的变化来测量表面三维形貌，专用于精密零部件之重点部位表面粗糙度、微小形貌轮廓及尺寸的非接触式快速测量。典型结果包括：表面形貌（粗糙度，平面度，平行度，台阶高度，锥角等等）；几何特征（关键孔径尺寸，曲率半径，特征区域的面积和体积，特征图形的位置和数量等等）；SuperViewW光学表面三维形貌轮廓测量仪可广泛应用于半导体制造及封装工艺检测、3C电子玻璃屏及其精密配件、光学加工、微纳材料及制造、汽车零部件、MEMS器件等超精密加工行业及航空航天、科研院所等领域中。可测各类从超光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物体表面，从纳米到微米级别工件的粗糙度、平整度、微观几何轮廓、曲率等。产品功能(1)设备提供表征微观形貌的粗糙度和台阶高、角度等轮廓尺寸测量功能；(2)测量中提供自动对焦、自动找条纹、自动调亮度等自动化辅助功能；(3)测量中提供自动拼接测量、定位自动多区域测量功能；(4)分析中提供校平、图像修描、去噪和滤波、区域提取等四大模块的数据处理功能；(5)分析中提供粗糙度分析、几何轮廓分析、结构分析、频率分析、功能分析等五大分析功能；(6)分析中同时提供一键分析和多文件分析等辅助分析功能。性能特色1、高精度、高重复性1）采用光学干涉技术、精密Z向扫描模块和3D重建算法组成测量系统，保证测量精度高；2）隔振系统，能够有效隔离频率2Hz以上绝大部分振动，消除地面振动噪声和空气中声波振动噪声，保障仪器在大部分的生产车间环境中能稳定使用，获得高测量重复性；2、环境噪声检测功能具备的环境噪声检测模块能够定量评估出外界环境对仪器扫描轴的震动干扰，在设备调试、日常监测、故障排查中能够提供定量的环境噪声数据作为支撑。3、精密操纵手柄集成X、Y、Z三个方向位移调整功能的操纵手柄，可快速完成载物台平移、Z向聚焦、找条纹等测量前工作。4、双重防撞保护措施在初级的软件ZSTOP设置Z向位移下限位进行防撞保护外，另在Z轴上设计有机械电子传感器，当镜头触碰到样品表面时，仪器自动进入紧急停止状态，最大限度的保护仪器，降低人为操作风险。5、双通道气浮隔振系统既可以接入客户现场的稳定气源也可以接入标配静音空压机，在无外接气源的条件下也可稳定工作。针对完成样品超光滑凹面弧形扫描所需同时满足的高精度、大扫描范围的需求，中图仪器SuperViewW光学表面三维形貌轮廓测量仪的复合型EPSI重建算法，解决了传统相移法PSI扫描范围小、垂直法VSI精度低的双重缺点。在自动拼接模块下，只需要确定起点和终点，即可自动扫描，重建其超光滑的表面区域，不见一丝重叠缝隙。具有的特殊光源模式，可以广泛适用于从光滑到粗糙等各种精细器件表面的测量。应用领域对各种产品、部件和材料表面的平面度、粗糙度、波纹度、面形轮廓、表面缺陷、磨损情况、腐蚀情况、孔隙间隙、台阶高度、弯曲变形情况、加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。应用范例：部分技术指标型号W1光源白光LED影像系统1024×1024干涉物镜标配：10×选配：2.5× 5× 20× 50× 100×光学ZOOM标配：0.5×选配：0.375× 0.75× 1×物镜塔台标配：3孔手动选配：5孔电动XY位移平台尺寸320×200㎜移动范围140×100㎜负载10kg控制方式电动Z轴聚焦行程100㎜控制方式电动Z向扫描范围10 ㎜主机尺寸（长×宽×高）700×606×920㎜恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。

中图仪器SuperViewW1三维光学表面轮廓仪纳米级白光3D形貌检测以白光干涉技术为原理，结合精密Z向扫描模块、3D 建模算法等对器件表面进行非接触式扫描并建立表面3D图像，用于对各种精密器件及材料表面进行亚纳米级测量。测量分析样品表面形貌的关键参数和尺寸，典型结果包括：表面形貌（粗糙度，平面度，平行度，台阶高度，锥角等等）；几何特征（关键孔径尺寸，曲率半径，特征区域的面积和体积，特征图形的位置和数量等等）；产品功能(1)设备提供表征微观形貌的粗糙度和台阶高、角度等轮廓尺寸测量功能；(2)测量中提供自动对焦、自动找条纹、自动调亮度等自动化辅助功能；(3)测量中提供自动拼接测量、定位自动多区域测量功能；(4)分析中提供校平、图像修描、去噪和滤波、区域提取等四大模块的数据处理功能；(5)分析中提供粗糙度分析、几何轮廓分析、结构分析、频率分析、功能分析等五大分析功能；(6)分析中同时提供一键分析和多文件分析等辅助分析功能。性能特色1、高精度、高重复性1）SuperViewW1三维光学表面轮廓仪纳米级白光3D形貌检测采用光学干涉技术、精密Z向扫描模块和3D重建算法组成测量系统，保证测量精度高；2）隔振系统，能够有效隔离频率2Hz以上绝大部分振动，消除地面振动噪声和空气中声波振动噪声，保障仪器在大部分的生产车间环境中能稳定使用，获得高测量重复性；2、环境噪声检测功能具备的环境噪声检测模块能够定量评估出外界环境对仪器扫描轴的震动干扰，在设备调试、日常监测、故障排查中能够提供定量的环境噪声数据作为支撑。3、精密操纵手柄集成X、Y、Z三个方向位移调整功能的操纵手柄，可快速完成载物台平移、Z向聚焦、找条纹等测量前工作。4、双重防撞保护措施在初级的软件ZSTOP设置Z向位移下限位进行防撞保护外，另在Z轴上设计有机械电子传感器，当镜头触碰到样品表面时，仪器自动进入紧急停止状态，最大限度的保护仪器，降低人为操作风险。5、双通道气浮隔振系统既可以接入客户现场的稳定气源也可以接入标配静音空压机，在无外接气源的条件下也可稳定工作。SuperViewW1三维光学表面轮廓仪纳米级白光3D形貌检测可广泛应用于半导体制造及封装工艺检测、3C电子玻璃屏及其精密配件、光学加工、微纳材料及制造、汽车零部件、MEMS器件等超精密加工行业及航空航天、科研院所等领域中。可测各类从超光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物体表面，从纳米到微米级别工件的粗糙度、平整度、微观几何轮廓、曲率等。应用领域对各种产品、部件和材料表面的平面度、粗糙度、波纹度、面形轮廓、表面缺陷、磨损情况、腐蚀情况、孔隙间隙、台阶高度、弯曲变形情况、加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。应用范例：部分技术指标型号W1光源白光LED影像系统1024×1024干涉物镜标配：10×选配：2.5× 5× 20× 50× 100×光学ZOOM标配：0.5×选配：0.375× 0.75× 1×物镜塔台标配：3孔手动选配：5孔电动XY位移平台尺寸320×200㎜移动范围140×100㎜负载10kg控制方式电动Z轴聚焦行程100㎜控制方式电动Z向扫描范围10 ㎜主机尺寸（长×宽×高）700×606×920㎜恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。

白光干涉仪是一种精密测量仪器，能对物体表面的粗糙度/光洁度/洁净度、轮廓、微观三维形貌、PV值、台阶、高度、平面度、盲孔等进行高精度测量。白光干涉仪的测量精度很高，精度可以达到亚纳米级别。以大量程、高精度的高速压电陶瓷单元驱动的白光干涉仪，精度高达0.03nm，扫描速度高达400μm/s。它应用的行业很广泛，可应用于新能源、半导体、精密加工、精密光学、航空航天、3C产品、材料、液晶等领域。

SuperViewW白光干涉摩擦磨损三维形貌快速精准高效测量仪基于白光干涉技术原理，结合精密Z向扫描模块、3D 建模算法等对各种精密器件及材料表面进行亚纳米级测量，可测各类从超光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物体表面，从纳米到微米级别工件的粗糙度、平整度、微观几何轮廓、曲率等。产品功能(1)设备提供表征微观形貌的粗糙度和台阶高、角度等轮廓尺寸测量功能；(2)测量中提供自动对焦、自动找条纹、自动调亮度等自动化辅助功能；(3)测量中提供自动拼接测量、定位自动多区域测量功能；(4)分析中提供校平、图像修描、去噪和滤波、区域提取等四大模块的数据处理功能；(5)分析中提供粗糙度分析、几何轮廓分析、结构分析、频率分析、功能分析等五大分析功能；(6)分析中同时提供一键分析和多文件分析等辅助分析功能。性能特色1、高精度、高重复性1）采用光学干涉技术、精密Z向扫描模块和3D重建算法组成测量系统，保证测量精度高；2）隔振系统，能够有效隔离频率2Hz以上绝大部分振动，消除地面振动噪声和空气中声波振动噪声，保障仪器在大部分的生产车间环境中能稳定使用，获得高测量重复性；2、环境噪声检测功能具备的环境噪声检测模块能够定量评估出外界环境对仪器扫描轴的震动干扰，在设备调试、日常监测、故障排查中能够提供定量的环境噪声数据作为支撑。3、精密操纵手柄集成X、Y、Z三个方向位移调整功能的操纵手柄，可快速完成载物台平移、Z向聚焦、找条纹等测量前工作。4、双重防撞保护措施在初级的软件ZSTOP设置Z向位移下限位进行防撞保护外，另在Z轴上设计有机械电子传感器，当镜头触碰到样品表面时，仪器自动进入紧急停止状态，最大限度的保护仪器，降低人为操作风险。5、双通道气浮隔振系统SuperViewW白光干涉摩擦磨损三维形貌快速精准高效测量仪既可以接入客户现场的稳定气源也可以接入标配静音空压机，在无外接气源的条件下也可稳定工作。SuperViewW白光干涉摩擦磨损三维形貌快速精准高效测量仪广泛应用于半导体制造及封装工艺检测、3C电子玻璃屏及其精密配件、光学加工、微纳材料及制造、汽车零部件、MEMS器件等超精密加工行业及航空航天、科研院所等领域中。针对完成样品超光滑凹面弧形扫描所需同时满足的高精度、大扫描范围的需求，中图仪器SuperView W1的复合型EPSI重建算法，解决了传统相移法PSI扫描范围小、垂直法VSI精度低的双重缺点。在自动拼接模块下，只需要确定起点和终点，即可自动扫描，重建其超光滑的表面区域，不见一丝重叠缝隙。SuperViewW白光干涉仪具有测量精度高、操作便捷、功能齐全、测量参数涵盖面广的优点，测量单个精细器件的过程用时短，确保了高款率检测。白光干涉仪的特殊光源模式，可以广泛适用于从光滑到粗糙等各种精细器件表面的测量。应用领域对各种产品、部件和材料表面的平面度、粗糙度、波纹度、面形轮廓、表面缺陷、磨损情况、腐蚀情况、孔隙间隙、台阶高度、弯曲变形情况、加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。应用范例：部分技术指标型号W1光源白光LED影像系统1024×1024干涉物镜标配：10×选配：2.5× 5× 20× 50× 100×光学ZOOM标配：0.5×选配：0.375× 0.75× 1×物镜塔台标配：3孔手动选配：5孔电动XY位移平台尺寸320×200㎜移动范围140×100㎜负载10kg控制方式电动Z轴聚焦行程100㎜控制方式电动Z向扫描范围10 ㎜主机尺寸（长×宽×高）700×606×920㎜恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。

压电纳米定位台是一款三维运动的压电平 台，行程可高达 100μm，适用于小型样品的三维纳米定位应用。产品特点■ 高速响应■ 压电陶瓷驱动■ 较高的重复定位精度■ 纳米级位移分辨率■ 机体材料为铝合金■ 具有开环和闭环两种控制方式■ 采用数控、线切割等加工工艺，严格保证结构精度■ 采用计算机有限元仿真分析等现代设计方案设计微动结构■ 采用精机的表面处理工艺，提高了适应不同工作环境的能力

WD4000无图晶圆厚度粗糙度微纳三维形貌测量仪器通过非接触测量，将晶圆的三维形貌进行重建，强大的测量分析软件稳定计算晶圆厚度，TTV，BOW、WARP、在高效测量测同时有效防止晶圆产生划痕缺陷。它采用白光光谱共焦多传感器和白光干涉显微测量双向扫描技术，完成非接触式扫描并建立表面3D层析图像，实现Wafer厚度、翘曲度、平面度、线粗糙度、总体厚度变化(TTV)及分析反映表面质量的2D、3D参数。WD4000无图晶圆厚度粗糙度微纳三维形貌测量仪器自动测量Wafer厚度、表面粗糙度、三维形貌、单层膜厚、多层膜厚。1、使用光谱共焦对射技术测量晶圆Thickness、TTV、LTV、BOW、WARP、TIR、SORI等参数，同时生成Mapping图；2、采用白光干涉测量技术对Wafer表面进行非接触式扫描同时建立表面3D层析图像，显示2D剖面图和3D立体彩色视图，高效分析表面形貌、粗糙度及相关3D参数；3、基于白光干涉图的光谱分析仪，通过数值七点相移算法计算，达到亚纳米分辨率测量表面的局部高度，实现膜厚测量功能；4、红外传感器发出的探测光在Wafer不同表面反射并形成干涉，由此计算出两表面间的距离（即厚度），可适用于测量BondingWafer的多层厚度。该传感器可用于测量不同材料的厚度，包括碳化硅、蓝宝石、氮化镓、硅等。WD4000无图晶圆厚度粗糙度微纳三维形貌测量仪器兼容不同材质不同粗糙度、可测量大翘曲wafer、测量晶圆双面数据更准确。可实现砷化镓、氮化镓、磷化镓、锗、磷化铟、铌酸锂、蓝宝石、硅、碳化硅、玻璃不同材质晶圆的量测。应用领域可广泛应用于衬底制造、晶圆制造、及封装工艺检测、3C电子玻璃屏及其精密配件、光学加工、显示面板、MEMS器件等超精密加工行业。可测各类包括从光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物体表面，从纳米到微米级别工件的厚度、粗糙度、平整度、微观几何轮廓、曲率等。测量功能1、厚度测量模块：厚度、TTV(总体厚度变化)、LTV、BOW、WARP、TIR、SORI、平面度、等；2、显微形貌测量模块：粗糙度、平整度、微观几何轮廓、面积、体积等。3、提供调整位置、纠正、滤波、提取四大模块的数据处理功能。其中调整位置包括图像校平、镜像等功能；纠正包括空间滤波、修描、尖峰去噪等功能；滤波包括去除外形、标准滤波、过滤频谱等功能；提取包括提取区域和提取剖面等功能。4、提供几何轮廓分析、粗糙度分析、结构分析、频率分析、功能分析等五大分析功能。几何轮廓分析包括台阶高、距离、角度、曲率等特征测量和直线度、圆度形位公差评定等；粗糙度分析包括国际标准ISO4287的线粗糙度、ISO25178面粗糙度、ISO12781平整度等全参数；结构分析包括孔洞体积和波谷。产品优势1、非接触厚度、三维维纳形貌一体测量集成厚度测量模组和三维形貌、粗糙度测量模组，使用一台机器便可完成厚度、TTV、LTV、BOW、WARP、粗糙度、及三维形貌的测量。2、高精度厚度测量技术（1）采用高分辨率光谱共焦对射技术对Wafer进行高效扫描。（2）搭配多自由度的静电放电涂层真空吸盘，晶圆规格最大可支持至12寸。（3）采用Mapping跟随技术，可编程包含多点、线、面的自动测量。3、高精度三维形貌测量技术（1）采用光学白光干涉技术、精密Z向扫描模块和高精度3D重建算法，Z向分辨率高可到0.1nm；（2）隔振设计降低地面振动和空气声波振动噪声，获得高测量重复性。（3）机器视觉技术检测图像Mark点，虚拟夹具摆正样品，可对多点形貌进行自动化连续测量。4、大行程高速龙门结构平台（1）大行程龙门结构(400x400x75mm)，移动速度500mm/s。（2）高精度花岗岩基座和横梁，整体结构稳定、可靠。（3）关键运动机构采用高精度直线导轨导引、AC伺服直驱电机驱动，搭配分辨率0.1μm的光栅系统，保证设备的高精度、高效率。5、操作简单、轻松无忧（1）集成XYZ三个方向位移调整功能的操纵手柄，可快速完成载物台平移、Z向聚焦等测量前准工作。（2）具备双重防撞设计，避免误操作导致的物镜与待测物因碰撞而发生的损坏情况。（3）具备电动物镜切换功能，让观察变得快速和简单。应用场景1、无图晶圆厚度、翘曲度的测量通过非接触测量，将晶圆上下面的三维形貌进行重建，强大的测量分析软件稳定计算晶圆厚度、粗糙度、总体厚度变化(TTV)，有效保护膜或图案的晶片的完整性。2、无图晶圆粗糙度测量Wafer减薄工序中粗磨和细磨后的硅片表面3D图像，用表面粗糙度Sa数值大小及多次测量数值的稳定性来反馈加工质量。在生产车间强噪声环境中测量的减薄硅片，细磨硅片粗糙度集中在5nm附近，以25次测量数据计算重复性为0.046987nm，测量稳定性良好。部分技术规格品牌CHOTEST中图仪器型号WD4000系列测量参数厚度、TTV(总体厚度变化)、BOW、WARP、LTV、粗糙度等可测材料砷化镓、氮化镓、磷化镓、锗、磷化铟、 铌酸锂、蓝宝石、硅、碳化硅、氮化镓、玻璃、外延材料等厚度和翘曲度测量系统可测材料砷化镓 氮化镓 磷化 镓 锗 磷化铟 铌酸锂 蓝宝石 硅 碳化硅 玻璃等测量范围150μm~2000μm扫描方式Fullmap面扫、米字、自由多点测量参数厚度、TTV(总体厚度变 化)、LTV、BOW、WARP、平面度、线粗糙度三维显微形貌测量系统测量原理白光干涉干涉物镜10X(2.5X、5X、20X、50X,可选多个)可测样品反射率0.05%~100粗糙度RMS重复性0.005nm测量参数显微形貌 、线/面粗糙度、空间频率等三大类300余种参数膜厚测量系统测量范围90um(n= 1.5)景深1200um最小可测厚度0.4um红外干涉测量系统光源SLED测量范围37-1850um晶圆尺寸4"、6"、8"、12"晶圆载台防静电镂空真空吸盘载台X/Y/Z工作台行程400mm/400mm/75mm恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。

纳米级材料振动分散机JQ-NM10A/B/C 纳米级材料分散机采用三维高频振动技术，产生每分钟上千次的冲击、剪切、研磨，效率比球磨机提高几十倍。通过冲击力和摩擦力结合的方法来减小颗粒尺寸。电磁动力马达产生振动，通过研磨球的冲击振动进行分散纳米材料，纳米粉体被其所添加溶剂、助剂、分散剂、树脂等包覆住，以便达到颗粒完全被分离，此外，由研磨球翻滚运动产生的摩擦也使样品的尺寸进一步减小。 行业应用：适用于实验干样品或悬浮液中固体样品的精细研磨粉碎适用于乳状液或糊状物的均匀化处理适用于纳米材料分散，效果优于普通机械法和超声波法适用于无机矿物材料的表面改性、光饰作用，金属材料的机械合金化技术参数型号JQ-NM10A/B/C订货号JQ001631-0113定时器0—99小时分散珠材质氧化锆/碳化钨/不锈钢振动频率1500次/分主机尺寸Φ600 * 800主机重量140kg研磨罐数量（个）（A）1/（B）3/(C)6显示及控制液晶触摸屏（1~100段程序梯度设定）研磨罐容量50—1000ml　研磨罐材质PTFE、碳化钨、不锈钢、尼龙、玛瑙、氧化锆等显示方式液晶触摸屏(功率曲线、转速、振动平衡提示）电压220V 备注纳米分散时纳米材料的添加溶剂、助剂、分散剂、树脂配比需要用户自行掌握

中图仪器SuperViewW高精度微纳米白光干涉三维形貌仪基于白光干涉原理，以3D非接触方式，对各种精密器件及材料表面进行亚纳米级测量。可测各类从超光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物体表面，从纳米到微米级别工件的粗糙度、平整度、微观几何轮廓、曲率等参数。广泛应用于半导体制造及封装工艺检测、3C电子玻璃屏及其精密配件、光学加工、微纳材料及制造、汽车零部件、MEMS器件等超精密加工行业及航空航天、科研院所等领域中。产品功能(1)SuperViewW高精度微纳米白光干涉三维形貌仪设备提供表征微观形貌的粗糙度和台阶高、角度等轮廓尺寸测量功能；(2)测量中提供自动对焦、自动找条纹、自动调亮度等自动化辅助功能；(3)测量中提供自动拼接测量、定位自动多区域测量功能；(4)分析中提供校平、图像修描、去噪和滤波、区域提取等四大模块的数据处理功能；(5)分析中提供粗糙度分析、几何轮廓分析、结构分析、频率分析、功能分析等五大分析功能；(6)分析中同时提供一键分析和多文件分析等辅助分析功能。应用领域对各种产品、部件和材料表面的平面度、粗糙度、波纹度、面形轮廓、表面缺陷、磨损情况、腐蚀情况、孔隙间隙、台阶高度、弯曲变形情况、加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。应用范例：SuperViewW高精度微纳米白光干涉三维形貌仪具有测量精度高、操作便捷、功能齐全、测量参数涵盖面广的优点，测量单个精细器件的过程用时短，确保了高款率检测。白光干涉仪特殊光源模式，可以广泛适用于从光滑到粗糙等各种精细器件表面的测量。针对完成样品超光滑凹面弧形扫描所需同时满足的高精度、大扫描范围的需求，中图仪器SuperView W1的复合型EPSI重建算法，解决了传统相移法PSI扫描范围小、垂直法VSI精度低的双重缺点。在自动拼接模块下，只需要确定起点和终点，即可自动扫描，重建其超光滑的表面区域，不见一丝重叠缝隙。性能特色1、高精度、高重复性1）采用光学干涉技术、精密Z向扫描模块和3D重建算法组成测量系统，保证测量精度高；2）隔振系统，能够有效隔离频率2Hz以上绝大部分振动，消除地面振动噪声和空气中声波振动噪声，保障仪器在大部分的生产车间环境中能稳定使用，获得高测量重复性；2、环境噪声检测功能具备的环境噪声检测模块能够定量评估出外界环境对仪器扫描轴的震动干扰，在设备调试、日常监测、故障排查中能够提供定量的环境噪声数据作为支撑。3、精密操纵手柄集成X、Y、Z三个方向位移调整功能的操纵手柄，可快速完成载物台平移、Z向聚焦、找条纹等测量前工作。4、双重防撞保护措施在初级的软件ZSTOP设置Z向位移下限位进行防撞保护外，另在Z轴上设计有机械电子传感器，当镜头触碰到样品表面时，仪器自动进入紧急停止状态，最大限度的保护仪器，降低人为操作风险。5、双通道气浮隔振系统既可以接入客户现场的稳定气源也可以接入标配静音空压机，在无外接气源的条件下也可稳定工作。部分技术指标型号W1光源白光LED影像系统1024×1024干涉物镜标配:10×选配:2.5×、5×、20×、50×、100×光学ZOOM标配:0.5×选配:0.375×、0.75×、1×标准视场0.98×0.98㎜（10×物镜，光学ZOOM 0.5×）XY位移平台尺寸320×200㎜移动范围140×100㎜负载10kg控制方式电动Z轴聚焦行程100㎜控制方式电动台阶测量可测样品反射率0.05%~100主机尺寸700×606×920㎜恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。

产品详细介绍怎样选纺织材料拉伸仪没有一台纺织仪器可以用来测量所有的纺织材料的拉伸性能。不同的纺织材料适合不同的拉伸仪器。纺织材料的拉伸测量可以在三个方向进行，从方向来区分主要有：1）一个方向的拉伸与压缩，例如单纤维拉伸仪；2）两个方向的拉伸与压缩，例如双轴向拉伸仪器；3）两个方向的拉伸压缩与第三个方向的顶破；例如三维力学测量仪。根据材料断裂强力的力值的大小将测量仪器分成：微力拉伸装置，例如用来测量准纳米级纤维的仪器（大连理工的纳米纤维拉伸与压缩弯曲仪）；一般力拉伸装置，例如单纤维强力仪；高强力拉伸装置，例如三维力学拉伸装置（北京国际竹藤网络中心）。根据夹头的不同也可以选择不同的仪器：普通天然纤维所使用的气动夹头的单纤维拉伸仪；适用于人造纤维强力相对较大的纤维的特殊卡槽的仪器（北京国际竹藤中心的竹木短纤维拉伸装置和天津大学的碳纳米管纤维拉伸装置；手动的适合短脆准纳米级纤维的拉伸仪（大连理工大学）；适合于束纤维的气动夹头；适用于高强力的织物的夹头的拉伸装置（北京国际竹竹藤中心）；根据观察系统的不同也可以选择不同的仪器：1）没有观察系统的单纤维拉伸仪；2）一个镜头局部观察的准纳米纤维拉伸仪；3）两个镜头可以进行局部观察和全景观察的短纤维拉伸仪；4）配置高速摄像的三维力学拉伸装置（北京国际竹藤网络中心）。根据拉伸装置的速度可以分成：慢速拉伸仪（纳米纤维准拉伸装置）；快速拉伸仪(三维力学测试装置)。总之，根据不同的材料，能选配不同的产品，能选择不同的夹头，数字观察系统，拉伸速度和精度，同时也能根据不同的采集力值的数据来选择适合的仪器。本公司能根据不同的国际标准为您加工适合您需要的纺织材料拉伸仪。纤维测量仪器用来测量单纤维在不同的试验参数下（例如：拉伸速度、隔距）下力学性能（模量、断裂功和断裂伸长等）、外观形态（纤维的形貌、直径、长度、断裂断形貌和断裂过程）等，通过这些参数的测量来表征纤维材料的特征，为纤维材料的应用和贸易过程中提供指导和参考的指标。技术特点：1.测量纤维对象范围广，可测量微米级和亚微米级纤维（包括纳米复合纤维）强力特性。2.纤维力学测量特征指标丰富，可根据应力应变曲线计算弹性模量、拉伸功、断裂应力、断裂应变、拉伸回复比等指标；3.可设定应力或伸长恒定，测量纤维屈服蠕变性能；4.纤维隔距长度最小可为1mm，最大伸长度20mm-200%,纤维最大拉伸速度30－150mm/min，力值精度0.001mN,图像分辨率24象素/微米，适用于亚微米级纤维及弹性纤维形态测量；

仪器简介 ANASYS公司长期致力于纳米热学分析领域，开发出了多种新颖的、易操作的研究和分析仪器。基于多年累积的纳米热学专利技术，ANASYS又推出了一款最新的测试技术仪器&mdash &mdash Nano-IR纳米级红外光谱仪。突破了传统的傅里叶红外光谱（FT-IR）及衰减全反射红外光谱（ATR-IR）的分辨局限，让用户可以获得纳米尺度上的红外光谱分析、热分析、扫描探针成像和热力学性能测试。技术参数主要技术参数光谱范围：1200-1600cm-1光谱分辨率：16cm-1最大图像尺寸：100&mu m× 100&mu m光谱采集时间：&le 1min主要特点①　与&ldquo 远场&rdquo 光学相比，改技术的特点在于吸收的辐射可以通过尖端近场的尖端得到测量。②　PTIR技术可以实现纳米级红外并获得样品的化学性质。③　接触共振获得样品的力学性质。④　通过原子力显微镜（AFM）获得高分辨率的样品三维相貌图。⑤　纳米热学分析获得样品的热量传输温度。⑥　Nano-IR操作软件能够自动的跟踪并且可以让用户便捷的获得样品任 意位置的红外吸收光谱。

早在1992年德国Klocke Nanotechnik 公司就已经进入的微纳技术领域，有趣的是，当1994 Klocke博士与他的团队研制出第一个微型夹具的时候，微纳领域中可供微型夹具夹持的微小部件还没有诞生。多年的微纳技术领域经验，使得Klocke博士和他的Klocke NanoTechnik 公司在世界范围内享有很高的声誉。目前其产品已经广泛应用于半导体技术、微系统、通信、生物技术、纳米机器人技术以及航空航天技术等领域。 纳米操纵部件 纳米马达 微型夹具（NMG）纳米定位平台操纵手（Manipulator） 精密加工与测量仪器 微生产系统 纳米级三维测量仪（纳米三座标） 带作用力控制功能的操纵装置 纳米操纵装置在电镜中的应用 Jeol 6500F电镜中的微操纵手图 LEO/ZEISS电镜配套操纵手分辨率小于1nmTESCAN公司FE-SEM中集成的纳米操纵手 Raith e_LiNE 系统中操纵手图 FEI XL 30 中装有两个操纵手 Hitachi 4800-II 中的操纵手

中图仪器SuperViewW光学三维表面轮廓粗糙度形貌测量仪能以3D非接触方式，测量分析样品表面形貌的关键参数和尺寸。它是以白光干涉技术为原理、结合精密Z向扫描模块、3D 建模算法等对器件表面进行非接触式扫描并建立表面3D图像，通过系统软件对器件表面3D图像进行数据处理与分析，并获取反映器件表面质量的2D、3D参数，从而实现器件表面形貌3D测量的光学检测仪器。典型结果包括：表面形貌（粗糙度，平面度，平行度，台阶高度，锥角等等）；几何特征（关键孔径尺寸，曲率半径，特征区域的面积和体积，特征图形的位置和数量等等）。SuperViewW光学三维表面轮廓粗糙度形貌测量仪可广泛应用于半导体制造及封装工艺检测、3C电子玻璃屏及其精密配件、光学加工、微纳材料及制造、汽车零部件、MEMS器件等超精密加工行业及航空航天、科研院所等领域中。可测各类从超光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物体表面，从纳米到微米级别工件的粗糙度、平整度、微观几何轮廓、曲率等，提供依据ISO/ASME/EUR/GBT四大国内外标准共计300余种2D、3D参数作为评价标准。产品功能(1)SuperViewW光学三维表面轮廓粗糙度形貌测量仪设备提供表征微观形貌的粗糙度和台阶高、角度等轮廓尺寸测量功能；(2)测量中提供自动对焦、自动找条纹、自动调亮度等自动化辅助功能；(3)测量中提供自动拼接测量、定位自动多区域测量功能；(4)分析中提供校平、图像修描、去噪和滤波、区域提取等四大模块的数据处理功能；(5)分析中提供粗糙度分析、几何轮廓分析、结构分析、频率分析、功能分析等五大分析功能；(6)分析中同时提供一键分析和多文件分析等辅助分析功能。应用领域对各种产品、部件和材料表面的平面度、粗糙度、波纹度、面形轮廓、表面缺陷、磨损情况、腐蚀情况、孔隙间隙、台阶高度、弯曲变形情况、加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。应用范例：针对完成样品超光滑凹面弧形扫描所需同时满足的高精度、大扫描范围的需求，中图仪器SuperView W的复合型EPSI重建算法，解决了传统相移法PSI扫描范围小、垂直法VSI精度低的双重缺点。在自动拼接模块下，只需要确定起点和终点，即可自动扫描，重建其超光滑的表面区域，不见一丝重叠缝隙。特殊光源模式，可以广泛适用于从光滑到粗糙等各种精细器件表面的测量。性能特色1、高精度、高重复性1）采用光学干涉技术、精密Z向扫描模块和3D重建算法组成测量系统，保证测量精度高；2）隔振系统，能够有效隔离频率2Hz以上绝大部分振动，消除地面振动噪声和空气中声波振动噪声，保障仪器在大部分的生产车间环境中能稳定使用，获得高测量重复性；2、环境噪声检测功能具备的环境噪声检测模块能够定量评估出外界环境对仪器扫描轴的震动干扰，在设备调试、日常监测、故障排查中能够提供定量的环境噪声数据作为支撑。3、精密操纵手柄集成X、Y、Z三个方向位移调整功能的操纵手柄，可快速完成载物台平移、Z向聚焦、找条纹等测量前工作。4、双重防撞保护措施在初级的软件ZSTOP设置Z向位移下限位进行防撞保护外，另在Z轴上设计有机械电子传感器，当镜头触碰到样品表面时，仪器自动进入紧急停止状态，最大限度的保护仪器，降低人为操作风险。5、双通道气浮隔振系统既可以接入客户现场的稳定气源也可以接入标配静音空压机，在无外接气源的条件下也可稳定工作。部分技术指标型号W1光源白光LED影像系统1024×1024干涉物镜标配：10×选配：2.5× 5× 20× 50× 100×光学ZOOM标配：0.5×选配：0.375× 0.75× 1×物镜塔台标配：3孔手动选配：5孔电动XY位移平台尺寸320×200㎜移动范围140×100㎜负载10kg控制方式电动Z轴聚焦行程100㎜控制方式电动Z向扫描范围10 ㎜主机尺寸（长×宽×高）700×606×920㎜恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。

C11627-01 纳米膜厚测量仪系列 C11627-01型光学膜厚测量仪是一款利用光谱相干度量学工作的非接触型膜厚测量系统。因其将光源、分光光度计和数据分析单元集成为一个单元，所以其配置紧凑，仅由一个主单元和光纤组成。此仪器设计紧凑，节省空间，适合安装进用户的系统中，可进行多种目标的测量。此外，该仪器为无参照物测量，因此省略了烦人的参照物测量，可长时间稳定地进行高速、高准确度测量。欢迎您登陆滨松中国全新中文网站 查看该产品更多详细信息！特性无参照物工作尺寸紧凑，节省空间高速、高准确度不整平薄膜精确测量分析光学常数（n,k）可外部控制参数型号C11627-01可测膜厚范围（玻璃）20 nm to 50 μm*1测量可重复性（玻璃）0.02 nm*2 *3测量准确度（玻璃）±0.4 %*3 *4光源LED测量波长420 nm to 720 nm光斑尺寸Approx. φ1 mm*3工作距离10 mm*3可测层数最多10层分析FFT 分析，拟合分析，光学常数分析测量时间19 ms/点*5光纤接口形状FC外部控制功能RS-232C,Ethernet电源AC100 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz功耗70W*1：以 SiO2折射率1.5来转换*2：测量400 nm 厚SiO2 薄膜的标准偏差*3：取决于所使用的光学系统或物镜的放大率*4：可保证的测量范围列在VLSI标准测量保证书中*5：连续数据采集时间不包括分析时间

白光干涉仪是一种精密测量仪器，能对物体表面的粗糙度/光洁度/洁净度、轮廓、微观三维形貌、PV值、台阶、高度、平面度、盲孔等进行高精度测量。白光干涉仪的测量精度很高，精度可以达到亚纳米级别。以大量程、高精度的高速压电陶瓷单元驱动的白光干涉仪精度高达0.03nm，扫描速度高达400μm/s。它应用的行业很广泛，可应用于新能源、半导体、精密加工、精密光学、航空航天、3C产品、材料、液晶等领域。

C12562 纳米膜厚测量仪系列C12562型光学膜厚测量仪是一款利用光谱相干度量学工作的非接触型膜厚测量系统。光学膜厚测量仪系列可以测量薄至10nm的薄膜，而可测范围达到10nm到1100μm，因此可用来测量多种目标。此外，该测量仪可达到100Hz的高速测量，因此可进行快速移动的产品线进行测量。欢迎您登陆滨松中国全新中文网站 查看该产品更多详细信息！特性可测量10nm薄膜缩短测量周期（频率高达100Hz）增强型外部触发（适合高速测量）涵盖宽波长范围（400 nm到1100 nm）软件增加了简化测量功能可进行双面分析不整平薄膜精确测量分析光学常数（n,k）可外部控制参数型号C12562-02可测膜厚范围（玻璃）10 nm to 100 μm*1测量可重复性（玻璃）0.02 nm*2 *3测量准确度（玻璃）±0.4 %*3 *4光源卤素灯测量波长400 nm to 1100 nm光斑尺寸Approx. φ1 mm*3工作距离10 mm*3可测层数最多10层分析FFT 分析，拟合分析，光学常数分析测量时间3 ms/点*5光纤接口形状FC外部控制功能RS-232C, Ethernet电源AC100 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz功耗80W*1：以 SiO2折射率1.5来转换*2：测量400 nm 厚SiO2 薄膜的标准偏差*3：取决于所使用的光学系统或物镜的放大率*4：可保证的测量范围列在VLSI标准测量保证书中*5：连续数据采集时间不包括分析时间

中图仪器CP系列微米到纳米尺度表面形貌接触式台阶测量仪用于测量台阶高、膜层厚度、表面粗糙度等微观形貌参数，是一款超精密接触式微观轮廓测量仪器。它采用了线性可变差动电容传感器LVDC，具备超微力调节的能力和亚埃级的分辨率，同时，其集成了超低噪声信号采集、超精细运动控制、标定算法等核心技术，使得仪器具备超高的测量精度和测量重复性。CP系列微米到纳米尺度表面形貌接触式台阶测量仪应用场景适应性强，其对被测样品的反射率特性、材料种类及硬度等均无特殊要求，能够广泛应用于半导体、太阳能光伏、光学加工、LED、MEMS器件、微纳材料制备等各行业领域内的工业企业与高校院所等科研单位，其对表面微观形貌参数的准确表征，对于相关材料的评定、性能的分析与加工工艺的改善具有重要意义。工作原理测量时通过使用2μm半径的金刚石针尖在超精密位移台移动样品时扫描其表面，测针的垂直位移距离被转换为与特征尺寸相匹配的电信号并最终转换为数字点云信号，数据点云信号在分析软件中呈现并使用不同的分析工具来获取相应的台阶高或粗糙度等有关表面质量的数据。产品功能1.参数测量功能1）台阶高度：能够测量纳米到330μm甚至1000μm的台阶高度，可以准确测量蚀刻、溅射、SIMS、沉积、旋涂、CMP等工艺期间沉积或去除的材料；2）粗糙度与波纹度：能够测量样品的粗糙度和波纹度，分析软件通过计算扫描出的微观轮廓曲线，可获取粗糙度与波纹度相关的Ra、RMS、Rv、Rp、Rz等20余项参数；3）翘曲与形状：能够测量样品表面的2D形状或翘曲，如在半导体晶圆制造过程中，因多层沉积层结构中层间不匹配所产生的翘曲或形状变化，或者类似透镜在内的结构高度和曲率半径。2.数采与分析系统1）自定义测量模式：支持用户以自定义输入坐标位置或相对位移量的方式来设定扫描路径的测量模式；2）导航图智能测量模式：支持用户结合导航图、标定数据、即时图像以智能化生成移动命令方式来实现扫描的测量模式。3）SPC统计分析：支持对不同种类被测件进行多种指标参数的分析，针对批量样品的测量数据提供SPC图表以统计数据的变化趋势。3.光学导航功能配备了500W像素的彩色相机，可实时将探针扫描轨迹的形貌图像传输到软件中显示，进行即时的高精度定位测量。4.样品空间姿态调节功能CP系列微米到纳米尺度表面形貌接触式台阶测量仪配备了精密XY位移台、360°电动旋转平台和电动升降Z轴，可对样品的XYZ、角度等空间姿态进行调节，提高测量精度及效率。性能特点1.亚埃级位移传感器具有亚埃级分辨率，结合单拱龙门式设计降低环境噪声干扰，确保仪器具有良好的测量精度及重复性；2.超微力恒力传感器1-50mg可调，以适应硬质或软质样品表面，采用超低惯量设计和微小电磁力控制，实现无接触损伤的接触式测量；3.超平扫描平台系统配有超高直线度导轨，杜绝运动中的细微抖动，真实地还原扫描轨迹的轮廓起伏和样件微观形貌。在太阳能光伏行业的应用台阶仪通过测量膜层表面的台阶高度来计算出膜层的厚度，具有测量精度高、测量速度快、适用范围广等优点。它可以测量各种材料的膜层厚度，包括金属、陶瓷、塑料等。针对测量ITO导电薄膜的应用场景，CP200台阶仪提供如下便捷功能：1）结合了360°旋转台的全电动载物台，能够快速定位到测量标志位；2）对于批量样件，提供自定义多区域测量功能，实现一键多点位测量；3）提供SPC统计分析功能，直观分析测量数值变化趋势；部分技术参数型号CP200测量技术探针式表面轮廓测量技术探针传感器超低惯量，LVDC传感器平台移动范围X/Y电动X/Y(150mm*150mm)(可手动校平)样品R-θ载物台电动，360°连续旋转单次扫描长度55mm样品厚度50mm载物台晶圆尺寸150mm（6吋）,200mm（8吋）尺寸（L×W×H）mm640*626*534重量40kg仪器电源100-240 VAC，50/60 Hz，200W使用环境相对湿度：湿度 （无凝结）30-40% RH温度：16-25℃ (每小时温度变化小于2℃)地面振动：6.35μm/s（1-100Hz）音频噪音：≤80dB空气层流：≤0.508 m/s（向下流动）恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。

产品介绍LUMiSpoc是一款高端的单颗粒计数仪(纳米级)，类似于流式细胞仪，它以绝佳的分辨率和动态范围测量悬浊液和乳浊液中纳米和微米颗粒的粒度分布和颗粒浓度。 仪器基于单粒子光散射技术SPLS ( Single Particle Light-Scattering)，该技术记录单个纳米和微米颗粒在通过具有特殊光束横截面的激光束时小角度和侧向的散射光。 SPLS Technology技术能够深入了解复杂的纳米和微米微粒系统，从而帮助您优化颗粒和分散体系产品。 LUMiSpoc - 纳米颗粒计数新标准。应用领域分散体包括：CMP浆料，炭黑，颜料，填料，医药乳浊液和悬浊液，标样/参考样，生物细胞，病毒。。。颗粒计数和粒径测定颗粒浓度测定直接测定纳米和微米颗粒的粒径分布纳米材料分级记录团聚和絮凝动力学变化过程确定颗粒尾端分布颗粒污染物检测检测分离膜和过滤介质，确定截留点优势超高分辨率的单峰、多峰和多颗粒分散体系粒度的分布优异的颗粒分级计数效率高（高频数字化、脉冲分析和分级）宽泛的动态范围（可测量40 nm到8µ m的粒径），无需切换范围或改变组件检测时间短易于操作样品量少嵌入式触屏和基于服务器/浏览器的软件通过参考粒子进行单点校

高精度纳米级高负载电动线性/二维位移台产品负责人：姓名：李工(Maple)电话：（微信同号）邮箱： 昊量光电推出全新一代高精度纳米级高负载电动线性/二维位移台，在保证纳米级精度（双向线性可重复性30nm）的前提下可以达到80kG（可选）的中心负载。 10 多年来，ALIO 一直专注于纳米精密运动和可重复性。由 ALIO 引入的 Nano Point Precision™ 6-D 和 True Nano™ 概念现已被 NIST 采用，并被认为是未来运动系统测量和量化的标准方法。 Nano Point Precision 6-D 包括移动工作台的所有 6 个误差自由度：它允许您根据精确点（在 3D 空间中）指示“精度数字”，并用于许多应用，从激光处理到计量。ALIO 生产一系列线性运动控制解决方案，这些解决方案的设计和制造符合可保证其性能的标准。该公司的机械轴承台可以以任何空气轴承台无法复制的精度水平运行。 在用户群体中，ALIO 提供了超精确且具有成本效益的运动控制解决方案，即使对于苛刻的应用也是如此。该公司由一支无与伦比的杰出工程师团队组成，他们痴迷于纳米级运动控制，并尽可能突破感知界限。高精度纳米级高负载电动线性/二维位移台 带有交叉滚子轴承的整体式 XY 系统 凭借纳米直线度和纳米平面度，您可以放心，您的精度是 True Nano。该系列位移台还提供中间开口和 50 毫米至 450 毫米的行程。标准的双向可重复性小于 50 纳米，但对于更苛刻的计量和生产需求，可以提供双向可重复性为 10 纳米配置（可选）。 纳米精度由 NIST 可追溯数据保证，而不是由数据表中指示的数字保证。 也可提供不对称版本（不同的 X 和 Y 行程）。高精度纳米级高负载电动线性/二维位移台 带有伺服电机 CM的直线工作台 由 ALIO 设计的带有伺服电机的直线工作台是希望在不牺牲 True Nano 精度的情况下限制成本的客户的理想解决方案。带有 CM 伺服电机的工作台仍然具有 ALIO 6-D 精度，但由于力较小，它们适用于所有需要低水平加速度和力的应用。该系列中的板使用集成在其他 ALIO 产品中的相同精密防滑轴承。可提供从 25 毫米到 400 毫米的行程。高精度纳米级高负载电动线性/二维位移台 定制化需求 ALIO 真正定制其核心运动控制解决方案的能力使其与替代解决方案提供商区别开来，通过精确匹配 OEM 客户的需求以及推动纳米精密应用的极限，提供显着的附加值。高精度纳米级高负载电动线性/二维位移台 详细参数请下载数据单

即使在高浓度下，无误差DLS粒度测量NanoLab 3D是一款紧凑型动态光散射（DLS）粒度测量仪器，基于开创性的专利调制三维互相关技术（Modulated 3D Cross-Correlation）。它有效地抑制了多重光散射，因此大多数样品不再需要样品稀释。传统的DLS仪器可能有多重散射光的影响，导致粒度测量结果错误的风险，而不会提醒用户。特别是对于高浓度样品，必须要复杂的样品制备和稀释。这正是我们的NanoLab 3D的用武之地。- 它能测量什么？&bull 颗粒大小&bull 多分散性&bull 粘度- 特点&bull 先进的DLS粒度测定：Cumulant和CORENN分析&bull DLS微粘度测定&bull 适用于稀释和高浓度样品&bull 样品体积小—低至4µ L（可选）&bull 粒径从0.3 nm到10µ m&bull 温度范围：4℃至85℃*&bull 监控与时间相关的过程&bull 紧凑而坚固的设计&bull 为所有客户提供在线支持&bull 符合ISO 22412* 满足这些规范要求在23℃或以下的环境温度 - 动态光散射（DLS）动态光散射是测量纳米颗粒分散体系粒度的技术。在布朗运动的驱动下，颗粒在介质中移动，并导致散射光的强度波动，这些波动的统计数据反映在相关函数中。由于颗粒的大小影响颗粒的运动，从而影响统计数据，DLS可以从获得的相关函数中提取颗粒的大小分布。- 你能相信你的测量结果吗？与常规DLS仪器不同，NanoLab 3D使用高频率调制的两个激光束。因此，仪器同时进行两次光散射实验。通过对两个实验的信号进行互相关，我们可以消除多重散射来提高精度，否则会因未充分稀释样品导致无法检测的误差！只有调制三维技术（Modulated 3D）才能完全消除高浓样品中产生的多重散射，从而实现最高浓度的测量，进而保证测量的可信度。 - 微流变技术-零剪切粘度利用调制三维技术（Modulated 3D），还可以通过测量添加到样品中的示踪粒子的扩散来确定零剪切粘度，测得的粘度范围约为0.01cP至1000cP或更高！DLS微粘度测定法适用于各种样品，NanoLab 3D在使用极低体积表征高浓度蛋白质溶液方面特别强大，对样品没有外部扰动，也没有有害的表面影响。- 强大的分析工具我们为没有经过专门培训的专家和初学者设计了LsLab软件。比如，从一个简单但可靠的测量，到一系列复杂的多重测量，只需点击几下即可配置。强大的分析工具允许高度自定义的数据显示和导出，同时将所有结果保存在有序和全面的数据库中。分析工具包括Cumulant分析和LSI独有的CORENN算法。 - 算法-多分散性CORENN算法是一种新的机器学习算法，用于从DLS测量中提取粒度分布（PSD）。CORENN是一种利用先进的信号近似技术和对信号噪声的独特理论估计的DLS反演算法，可以得到极其可靠的结果。这种稳健的方法使最终用户能够从真实的DLS实验中获得真实的粒度分布（PSD）。下图显示了4nm和45nm的颗粒混合物的DLS测量结果，只有CORENN算法能够准确得到这两个分布。- 使用Stop-Flow Cell选配项控制流程Stop-Flow Cell是一个单独的选配项，可以通过Idex 6-32平底连接器连接到外部回路，适用于外径为1/16"的管道。由于无需稀释的调制三维动态光散射测量技术，与Stop-Flow Cell相结合的NanoLab 3D首次允许将DLS用于在线过程控制。

SkyScan 2214多量程x射线纳米ct系统，X射线源电压最高可达160kV。最多可提供四个探测器，CMOS探测器用于高能量快速扫描，3个CCD探测器用于各种情形下的高分辨率扫描。高能量与高分辨的完美结合，使其能够灵活地适用于各种类型、各种大小的样品，并实现纳米级分辨率的样品扫描，为不同领域材料的3D成像和精确建模提供独一无二地解决方案，广泛应用于油气开采，复合材料，燃料电池，电子产品等领域。SkyScan 2214高分辨三维X射线显微成像系统可对直径为30cm，长度40cm样品的内部结构进行3D无损检测与重建，对样品的细节检测能力（标称分辨率）最高可达60纳米。 特点介绍： ●最大程度上保护样品：无需制备样品，无损三维重现● 对样品的细节检测能力（分辨率）最高可达：60nm● 最大样品直径：30cm； 最大样品长度：40cm●自动可变扫描几何系统：根据用户设定的放大倍率，仪器可自动优化扫描几何，找到最快的测试方案，用最短时间，得到高质量数据●全新的160kV超高强度开放式微焦斑X射线光源，提供更高的光通量和更好的光束稳定性，20-160kV连续可调，完全免维护● 配备多探测器：600万像素CMOS探测器适用于高能量X射线，800/1100万像素CCD探测器更适合高分辨测试模式 了解更多应用方向，请致电束蕴仪器（上海）有限公司~

C10178-01 纳米膜厚测量仪系列 C10178-01型光学膜厚测量仪是一款利用光谱相干度量学工作的非接触型膜厚测量系统。通过光谱相干，可快速、高灵敏度、高准确度地测量膜厚。由于使用我公司的光子多通道分析仪（PMA）为探测器，在测量多种滤光片、镀膜等的膜厚的同时，还可以测量量子收益、反射率、透射率以及吸收系数等多种项目。欢迎您登陆滨松中国全新中文网站 查看该产品更多详细信息！特性高速、高准确度实时测量映射功能不整平薄膜精确测量分析光学常数（n,k）可外部控制与特定附件配合，可测量量子收益、反射率、透射率以及吸收系数等。参数型号C10178-01测量模型标准型（通用测量）可测膜厚范围（玻璃）20 nm to 50 μm*1测量可重复性（玻璃）0.01 nm*2 *3测量准确度（玻璃）±0.4 %*3 *4光源卤素灯测量波长400 nm to 1100 nm光斑尺寸Approx. φ1 mm*3工作距离10 mm*3可测层数最多10层分析FFT 分析，拟合分析，光学常数分析测量时间19 ms/点*5光纤接口形状φ12套筒型外部控制功能RS-232C, 通过PIPE或Ethernet进行内部软件数据传输接口USB2.0电源AC100 V to 120 V/ AC200 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz功耗250W*1：以 SiO2折射率1.5来转换*2：测量400 nm 厚SiO2 薄膜的标准偏差*3：取决于所使用的光学系统或物镜的放大率*4：可保证的测量范围列在VLSI标准测量保证书中*5：连续数据采集时间不包括分析时间

C11295 多点纳米膜厚测量仪 C11295型多点纳米膜厚测量系统使用光谱相干测量学，用以测量半导体制造过程中的薄膜厚度，以及安装在半导体制造设备上的APC和薄膜的质量控制。C11295可进行实时多点测量，也可以在膜厚测量中同时测量反射率（透射率）、目标颜色以及暂时变化。欢迎您登陆滨松中国全新中文网站 查看该产品更多详细信息！ 特性多达15点同时测量无参照物工作通过光强波动校正功能实现长时间稳定测量提醒及警报功能(通过或失败)反射(透射)和光谱测量高速、高准确度实时测量不整平薄膜精确测量分析光学常数（n,k）可外部控制参数型号C11295-XX*1可测膜厚范围（玻璃）20 nm to 100 μm*2测量可重复性（玻璃）0.02 nm*3 *4测量准确度（玻璃）±0.4 %*4 *5光源氙灯测量波长320 nm to 1000 nm光斑尺寸Approx. φ1 mm*4工作距离10 mm*4可测层数最多10层分析FFT 分析，拟合分析测量时间19 ms/点*7光纤接口形状SMA测量点数2~15外部控制功能Ethernet接口USB 2.0（主单元与电脑接口）RS-232C（光源与电脑接口）电源AC100 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz功耗约330W（2通道）~450W（15通道）*1：-XX，表示测点数*2：以 SiO2折射率1.5来转换*3：测量400 nm 厚SiO2 薄膜的标准偏差*4：取决于所使用的光学系统或物镜的放大率*5：可保证的测量范围列在VLSI标准测量保证书中*6：卤素灯型为C11295-XXH*7：连续数据采集时间不包括分析时间