离子溅射仪

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离子溅射仪相关的厂商

  • OPS Plasma专注于等离子表面处理,集设备开发与设备制造、工艺开发与方案解决为一体,为各行业提供高效、节能、环保的等离子表面处理方案,包括等离子清洗、等离子活化、等离子改性、等离子接枝与聚合、等离子刻蚀、等离子沉积等。 OPS Plasma的创始人在德Fraunhofer Institute期间积累了丰富的设计开发经验,研发团队拥有10年以上的等离子系统设计经验、5年以上的等离子设备制造经验,是国内最大的等离子应用技术方案解决专家,不仅能为客户提供优质的等离子处理设备,还能为客户提供整套的解决方案和工艺指导。 OPS Plasma的制造团队多年从事等离子设备制造,成功开发出多款设备。设备采用具有独立知识产权的电极系统和进气系统,保证电场和气场的均匀分布,并完美地解决了真空动密封、真空冷却等一系列问题。 OPS Plasma的等离子设备广泛地应用在光学电子、太阳能、半导体、生物医疗、纳米材料、及通用工业领域,销往各大知名院校、科研机构和企业。在全国范围内超过100台实验设备和工业设备的良好运行,充分证明了OPS Plasma等离子系统的优越品质。 OPS Plasma致力于用国际的品质、国内的价格和优质的服务为全球各行业客户提供等离子处理设备和解决方案,成为全球行业领先的等离子应用技术方案解决专家。
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  • 公司坐落在美丽的、盛产“神湾菠萝”的中山市神湾镇,西临西江,东接珠三角环线高速,环境优美、交通便利;中山市枭射频科技有限公司是一家专业从事射频设备研发和销售的创新科技企业。公司重点专注于射频等离子清洗机(13.56MHz\27.12MHz\40.68MHz)、射频热封仪、射频美容仪、射频感应加热机、射频等离子源等研究发展方向,将秉持创新、专业、专注的企业精神,始终贯彻服务一流、稳定品质、超高性价比的发展战略和经营理念,立志做射频领域专业的设备供应商和服务商,期待您我的携手,谱写完美合作的篇章。
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  • 400-860-5168转5015
    北京艾博智业离子技术有限公司是以离子技术优势为基础,通过整合优势资源成立的专业离子技术应用公司。公司聚焦于具有自主知识产权并具备国际竞争力的电子显微镜样品制备设备研发及制造,在以用户体验为中心的材料表征领域、材料表面改性等仪器设备研发制造领域沉浸多年,拥有专业的表面分析、结构分析、原位分析等应用经验,形成了一套严谨、完整的产品的研发、生产、销售体系。公司对标国内外先进同行企业,多次研制出填补国内空白的产品,在知名高校院所和产业单位得到青睐。
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离子溅射仪相关的仪器

  • 小型离子溅射仪 400-860-5168转1013
    仪器简介: JS-600小型离子溅射仪采用二极(DC)直流溅射原理设计,操作简单方便,适用于扫描电子显微镜(SEM)样品制备,非导体材料实验电极的制作。 用户可以根据自己的需要自行选择不同的真空条件,溅射电流。大尺寸的真空腔体设计,满足大样品的溅射需求。标配一片金靶,纯度为99.999%,为获得高质量的金膜提供了良好的基础。技术参数:1.靶(上部电极):材料:金,直径:50mm,厚度:0.1mm 纯度:99.999%2、真空样品室:直径:160mm,高:110mm3.样品台(下部电极):溅射面积:直径:50mm4.工作真空: 2×10-1—10-1 mbar5.离子电流表:0-50mA6.计时器:根据溅射习惯设定单次溅射时间。7.溅射电压:-1600DVC8.飞越真空泵(VRD-4):1.1L/S9.工作室工作媒介气体:空气或氩气等多种气体10.针阀: 配有进气口,微量充气调节,可连接φ4*2.5mm软管。主要特点: 1.轻便、溅射面积大 2.靶材可按用户要求加工制作备注:JS-600小型离子溅射仪可适用的靶材:金、铂、银
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  • 全自动离子溅射仪 400-860-5168转6180
    GVC-1000 全自动离子溅射仪主要应用于配套扫描电镜的样品制备工作,同时可以满足不同用户对样品涂层的制备要求。拥有优秀的溅射系统,可以更换不同的金属靶材(金,铂,银,铱,铬,铜等),实现高要求的细粒涂层。GVC-1000 全自动离子溅射仪(射频磁控溅射镀膜仪)主要应用于配套扫描电镜的样品制备工作,同时可以满足不同用户对样品涂层的制备要求。拥有优秀的溅射系统,可以更换不同的金属靶材(金,铂,银,铱,铬,铜等),实现高要求的细粒涂层。GVC系列为您提供优质的样品制备,轻松助您取得更好地材料研究样品, 获得高质量的显微镜观测效果。GVC-1000 全自动离子溅射仪(射频磁控溅射镀膜仪)性能参数1、离子溅射仪工作原理:磁控溅射2、可选靶材:金,铂,金钯合金,铅,银,铜,铬,锑等3、真空室:φ128×100高硅硼玻璃4、全自动操作,简单易用,非常适用钨灯丝、台式扫描电镜等(1)溅射电流自动调整——设定溅射电流后,系统自动调节真空度,从而达到设定的溅射电流,调整时间<5s,波动范围<±5%;(2)无需按“实验”键调整溅射电流、无需操作“进气阀”。(3)溅射时间自动记忆——同类样品一次设定即可;(4)参数改变自动调整——溅射过程中可以随时调整溅射电流和溅射时长,系统自动计算叠加,无需终止溅射过程;(5)工作完成自动放气;(6)样品台高度调节1秒完成;(7)溅射过程可以利用曲线显示,清晰直观。(8)极限真空:小于1Pa5、软硬件互锁,防误操作,安全可靠(1)真空度高于100Pa,启动真空保护,无法溅射;(2)溅射电流高于50mA,停止溅射过程;(3)真空泵工作时,系统无法进行放气操作;6、镀层均匀,导电性良好。
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  • 磁控离子溅射仪 400-860-5168转6180
    GVC-2000P磁控离子溅射仪采用平面磁控溅射靶头进行靶材溅射,以确保工作过程样品不会发生热损伤;采用ARM作为处理器,全自主知识产权,扩展性好,可选配。一.GVC-2000P磁控离子溅射仪(镀金仪)主要特点1、一键操作,具备工作完成提示音;2、镀膜颗粒小,无热损伤;3、靶材更换非常简单;4、特殊密封结构,玻璃不易损坏;5、内置操作向导,无需培训即可熟练操作;二、GVC-2000P磁控离子溅射仪(镀金仪)技术参数外形尺寸420(L)×330(D)×335(H)溅射靶头平面磁控靶可用靶材Au、Pt、Ag、Cu等靶材尺寸φ57×0.12mm真空室高硅硼玻璃 ~φ200×130mm工作介质空气或氩气样品台φ125mm样品台转速4-20rpm可调真空泵旋片泵(可选配干泵)抽速1.1L/s真空测量皮拉尼式真空规管工作真空4-20Pa极限真空≤1Pa工作电流0-100mA连续可调显示屏7英寸 800×480 彩色触摸屏工作时间1-999s连续可调进气自动放气自动金颗粒尺寸(硅片喷金)电池隔膜10万倍(喷铂)三、GVC-2000P磁控离子溅射仪技术方案1、采用平面磁控溅射靶头进行靶材溅射,以确保工作过程样品不会发生热损伤;2、采用ARM作为处理器,全自主知识产权,扩展性好,可选配:(1)膜厚监控组件:可预设期望镀膜厚度,在工作过程中精确控制镀膜厚度;(2)样品台加热组件:可通过加热提高膜层的致密性以及与基地的结合力。3、7英寸触摸式液晶显示屏,分辨率为800×480,全数字显示。3.1)可设定:(1)溅射电流;(2)溅射时间;(3)靶材种类;(4)工作真空度;(5)工作气体;(6)屏幕亮度等参数;3.2)可显示:(1)溅射电流;(2)溅射剩余时间;(3)工作真空度;(4)靶材累计使用时间;(5)设备累计使用时间等参数。4、溅射电流:2-100mA连续可调,最小步长为1mA;5、溅射时长:1-999s连续可调,最小步长为1s 6.溅射真空:4-20Pa连续可调,最小步长为0.1Pa 7、溅射靶材:标配为高纯铂靶(纯度4N9),规格为φ57×0.12mm;也可使用金、银、铜、金钯合金等金属作为溅射靶材;8、真空室:采用高透光性的高硅硼玻璃,尺寸约为φ200×130mm;9、样品台:可自转的不锈钢样品台,直径为φ125mm,转速4-20rpm可调;10、靶材参数:系统提供金、铂、银、铜对于空气和氩气的工作参数,可直接使用。同时提供4种自定义靶材,用户可根据自己需求设定工作参数;11、预溅射:具有全自动控制的预溅射挡板,确保工作过程稳定可靠;12、一键操作:系统可自动完成抽气、充气、参数调整、预溅射、溅射镀膜等工作过程;溅射完成后,关闭真空泵,系统自动充气使真空室内外压力平衡;13、具备溅射电流和真空度双重互锁,安全可靠,任一条件触发,系统即可停止工作,防止因为误操作导致设备损坏;14、系统采用皮拉尼真空规作为真空测量元件;15、极限真空优于1Pa,真空泵抽速为1.1L/s;16、具备实时曲线显示溅射电流和真空度功能非常方便用户了解系统工作状态;17、采用独特的靶材更换结构,无需任何工具,即可实现快速更换靶材;18、仪器供电:AC220±10%V,额定功率500W、
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离子溅射仪相关的资讯

  • 先导集团拟建半导体设备产业园,生产磁控溅射、离子蚀刻等设备
    据广州南沙发布消息,6月28日,广州市南沙区在明珠湾大桥桥面举办重大项目集中签约动工竣工(投产)暨明珠湾大桥通车活动。76个项目于当天集中签约、动工竣工(投产),涵盖新能源汽车、芯片等先进制造产业。在当天的签约仪式上,10个重点项目分两批进行现场签约,总投资额160亿元,达产产值796亿元,其中包括湾区半导体高端设备智造基地。据介绍,湾区半导体高端设备智造基地是先导集团拟在南沙投资建现代化的半导体设备产业园,项目建成后拥有生产各类镀膜沉积设备、磁控溅射设备、离子蚀刻设备及交钥匙工程的综合生产能力。先导集团目前已掌握核心专利和工艺技术,项目产品将拥有100%自主产权,满足半导体产业链国产化替代的需求。广州南沙发布消息指出,目前,南沙正积极促进第三代半导体与新能源汽车产业的融合创新,成立第三代半导体创新中心,形成以晶科电子、芯粤能、爱思威为代表,以联晶智能、芯聚能为龙头的从晶圆生产到芯片设计、封装及应用的第三代半导体全产业链,为将来三千亿级新能源汽车产业集群发展提供“芯”能量。
  • 720万!武汉大学离子减薄仪、微束定点离子减薄仪、显微激光拉曼光谱仪、X射线衍射仪采购项目
    项目编号:WHCSIMC2022-1602807ZF(H)项目名称:武汉大学离子减薄仪、微束定点离子减薄仪、显微激光拉曼光谱仪、X射线衍射仪采购项目预算金额:720.0000000 万元(人民币)最高限价(如有):720.0000000 万元(人民币)采购需求:1.本次公开招标共分4个项目包,具体需求如下。详细技术规格、参数及要求见本项目招标文件第(三)章内容。第一包:(1) 项目包名称:离子减薄仪(2) 类别:货物(3) 数量:一套(4) 简要技术要求:详见招标文件第三章(5) 采购预算:140万元人民币(6)其他:本项目包接受进口设备投标第二包:(1) 项目包名称:微束定点离子减薄仪(2) 类别:货物(3) 数量:一套(4) 简要技术要求:详见招标文件第三章(5) 采购预算:350万元人民币(6)其他:本项目包接受进口设备投标第三包:(2) 项目包名称:显微激光拉曼光谱仪(3) 类别:货物(4) 数量:一套(5) 简要技术要求:详见招标文件第三章(6) 采购预算:100万元人民币(7)其他:本项目包接受进口设备投标第四包:(2) 项目包名称:X射线衍射仪(3) 类别:货物(4) 数量:一套(5) 简要技术要求:详见招标文件第三章(6) 采购预算:130万元人民币(7)其他:本项目包接受进口设备投标合同履行期限:第一包:交货期 :合同签订后150日内;质保期 :本项目免费质量保证期要求不低于5年。免费质量保证期从货物供货、安装、调试正常且经采购人确认验收合格之日起算。第二包:交货期 :合同签订后150日内;质保期 :本项目免费质量保证期要求不低于5年。免费质量保证期从货物供货、安装、调试正常且经采购人确认验收合格之日起算。第三包:交货期 :合同签订后180日内;质保期:本项目免费质量保证期要求不低于1年。免费质量保证期从货物供货、安装、调试正常且经采购人确认验收合格之日起算。第四包:交货期 :合同签订后10个月内;质保期 :本项目免费质量保证期要求不低于1年。免费质量保证期从货物供货、安装、调试正常且经采购人确认验收合格之日起算。本项目( 不接受 )联合体投标。
  • 超亿采购中磁控溅射占主流——半导体仪器设备中标市场盘点系列之PVD篇
    p style="text-align: justify text-indent: 2em "span style="text-indent: 28px "薄膜沉积是集成电路制造过程中必不可少的环节,传统的薄膜沉积工艺主要有物理气相沉积(/spanspan style="text-indent: 28px "PVD/spanspan style="text-indent: 28px ")、化学气相沉积(/spanspan style="text-indent: 28px "CVD/spanspan style="text-indent: 28px ")等气相沉积工艺。物理气相沉积/spanspan style="text-indent: 28px "(Physical Vapour Deposition/spanspan style="text-indent: 28px ",/spanspan style="text-indent: 28px "PVD)/spanspan style="text-indent: 28px "技术是在真空条件下,采用物理方法,将材料源/spanspan style="text-indent: 28px "——/spanspan style="text-indent: 28px "固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子,并通过低压气体(或等离子体)过程,在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。/span/pp style="text-indent: 28px text-align: justify "物理气相沉积技术工艺过程简单,对环境改善,无污染,耗材少,成膜均匀致密,与基体的结合力强。该技术广泛应用于航空航天、电子、光学、机械、建筑、轻工、冶金、材料等领域,可制备具有耐磨、耐腐蚀、装饰、导电、绝缘、光导、压电、磁性、润滑、超导等特性的膜层。/pp style="text-align: justify text-indent: 2em "仪器信息网近期特对一年内的spanPVD/span设备的中标讯息整理分析,供广大仪器用户参考。span style="color: rgb(127, 127, 127) font-size: 14px "(注:本文搜集信息全部来源于网络公开招投标平台,不完全统计分析仅供读者参考。)/span/pp style="text-align: center text-indent: 0em "span style="text-align: center "img style="max-width: 100% max-height: 100% width: 400px height: 240px " src="https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/a2ad4457-7ade-41a5-b0c8-6b0bfc0f3001.jpg" title="1.png" alt="1.png" width="400" height="240" border="0" vspace="0"/ /span/pp style="text-align: center "strongspan style="font-family:' 微软雅黑' ,sans-serif color:#444444"各月中标量占比/span/strong/pp style="text-indent: 28px text-align: justify "span2019/span年span10/span月至span2020/span年span9/span月,根据统计数据,spanPVD/span设备的总中标为span218/span台,涉及金额上亿元。span2019/span年span10/span月至span12/span月,平均中标量约span25/span台每月。span2020/span上半年,由于疫情影响,span1/span月至span4/span月中标市场持续低迷,平均中标量约span5/span台每月,其中二月份无成交量。随着国内疫情稳定以及企业复产复工和高校复学的逐步推进,spanPVD/span设备中标市场活力回升,从二月份到七月份中标量不断增长,其中span7/span月spanPVD/span中标量达span27/span台。第三季度的spanPVD/span设备采购基本恢复正常,平均中标量约span24/span台每月。/pp style="text-align:center"img style="max-width: 100% max-height: 100% width: 400px height: 252px " src="https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/98f0aae5-cd0b-4c37-a638-6e07e56be8b6.jpg" title="2.png" alt="2.png" width="400" height="252" border="0" vspace="0"//pp style="text-align: center "strongspan style="font-family:' 微软雅黑' ,sans-serif color:#444444"采购单位性质分布/span/strong/pp style="text-indent: 28px text-align: justify "从spanPVD/span设备的招标采购单位来看,高校是采购的主力军,采购量占比高达span68%/span,而企业和科研院所的采购量分别占比span12%/span和span19%/span。值得注意的是,企业和科研院所采购设备的单价较高,集中于高端设备,高校采购低端设备比例略高。企业方面的采购单位主要为电子产业,高校方面的采购单位以大学为主。/pp style="text-align:center"img style="max-width: 100% max-height: 100% width: 400px height: 265px " src="https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/16cf7cf8-1078-4811-92cb-06cb57740068.jpg" title="3.png" alt="3.png" width="400" height="265" border="0" vspace="0"//pp style="text-align: center "strongspan style="font-family:' 微软雅黑' ,sans-serif color:#444444"招标单位地区分布/span/strong/pp style="text-indent: 28px text-align: justify "本次盘点,招标单位地区分布共涉及span25/span个省份、自治区及直辖市。广东、北京、浙江、江苏和湖北为spanPVD/span设备采购排名前span5/span的地区,其中广东的采购量最大,达span32/span台。在这些地区中,上海、浙江和江苏的spanPVD/span设备采购以高校为主力,北京以科研院所和高校采购为主力,只有湖北以企业采购为主。这主要是因为湖北武汉聚集了国内一批半导体企业,如武汉天马微电子有限公司和湖北长江新型显示产业创新中心有限公司,致力于打造“中国光谷”。/pp style="text-align:center"img style="max-width: 100% max-height: 100% width: 400px height: 233px " src="https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/35dfbb36-d83c-4bcf-894d-3a587cdd8da8.jpg" title="4.png" alt="4.png" width="400" height="233" border="0" vspace="0"//pp style="text-align: center "strongspan style="font-family:' 微软雅黑' ,sans-serif color:#444444"不同类型spanPVD/span设备占比/span/strong/pp style="text-indent: 28px text-align: justify "spanPVD/span设备种类繁多,包含了磁控溅射、蒸发镀膜、真空镀膜等类型。根据搜集到的中标数据可知,磁控溅射占据了中标spanPVD/span设备的主流、高达span72%/span的spanPVD/span设备采购为磁控溅射。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多种材料,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。上世纪span 70 /span年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射,必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场,利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。/pp style="text-indent: 28px text-align: justify "本次spanPVD/span设备中标盘点,涉及品牌有泰科诺、spanKurt J. Lesker/span、创世威纳、spanMoorfield/span、spanLeica/span、合肥科晶、spanVEECO Instruments Inc./span、spanTeer Coatings Ltd./span、spanQUORUM/span、span style="font-size:15px"Syskey/spanspan style="font-size:15px"、spanApplied Materials ,lnc./span、spanULVACInc/span、株式会社昭和真空/span等。/pp style="text-indent: 29px text-align: justify "span style="font-size:15px"其中,各品牌比较受欢迎的产品型号有:/span/pp style="text-align: center text-indent: 0em "img style="max-width:100% max-height:100% " src="https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/08db5967-4529-4f60-88a7-518f97a384c8.jpg" title="5.jpg" alt="5.jpg"//pp style="text-align: center text-indent: 0em "strongspana href="https://www.instrument.com.cn/netshow/sh102205/C242800.htm"span style="font-size:15px"span三靶射频磁控溅射镀膜仪/span/span/a/span/strong/pp style="text-indent: 29px text-align: justify "span style="font-size:15px"这是一款小型台式span3/span靶等离子溅射仪span(/span射频磁控型span)/span,配有三个span1/span英寸的磁控等离子溅射头和射频(spanRF/span)等离子电源,此款设备主要用于制作非导电薄膜,特别是一些氧化物薄膜。对于新型非导电薄膜的探索,它是一款廉价并且高效的实验帮手。这款span1/span英寸的射频溅射镀膜仪主要是用于在单晶基片上制备氧化物膜,所以并不需要太高的真空度。/span/pp style="text-align: center text-indent: 0em "img style="max-width:100% max-height:100% " src="https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/c7c1521d-c5b9-4668-b178-66ac2ce7cd98.jpg" title="6.jpg" alt="6.jpg"//pp style="text-align: center text-indent: 0em "strongspana href="https://www.instrument.com.cn/netshow/sh101374/C191053.htm"span style="font-size:15px"span双靶磁控溅射仪/span/span/a/span/strong/pp style="text-indent: 29px text-align: justify "span style="font-size:15px" /spanspan style="font-size: 15px "双靶磁控溅射仪是沈阳科晶自主新研制开发的一款高真空镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。/spanspan style="font-size: 15px "VTC-600-2HD/spanspan style="font-size: 15px "双靶磁控溅射仪配备有两个靶枪,一个弱磁靶用于非导电材料的溅射镀膜,一个强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比,且具有体积小便于操作的优点,且可使用的材料范围广,是一款实验室制备各类材料薄膜的理想设备。/span/pp style="text-indent: 0em text-align: center "img style="max-width:100% max-height:100% " src="https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/2ed2b9b6-bb58-4779-ab5e-aa97cdaaaa2b.jpg" title="7.jpg" alt="7.jpg"//pp style="text-align: center text-indent: 0em "strongspana href="https://www.instrument.com.cn/netshow/SH104149/C283599.htm"span style="font-size:15px"span科特莱思科热阻蒸发镀膜系统/span/span/a/span/strong/pp style="text-indent: 29px text-align: justify "span style="font-size:15px"这款仪器由预真空进样室(可选)前开门蒸发腔体、冷凝泵和干泵、多个热阻蒸发源或spanOLED/span低温蒸发源、span6”/span基片、基片旋转、基片偏压(可选)、离子源清洗基片(可选)、基片加热span1000/span度span(/span可选span)/span等部分构成。晶振沉积速率及膜厚控制可选择系统手动或自动控制等方式,能够沉积金属、半导体和绝缘材料,还可沉积多层膜及合金薄膜。/spanspan style="font-size: 15px " /span/pp style="text-indent: 29px text-align: justify "span style="font-size:15px"点击此处进入/spanspana href="https://www.instrument.com.cn/list/sort/241.shtml"span style="font-size:15px"span【span半导体行业专用仪器span】/span/span/span/span/a/spanspan style="font-size:15px"专场,获取更多产品信息。/span/pp style="text-indent: 29px text-align: center "span style="font-size:15px"更多资讯请扫描下方二维码,关注【材料说】/span/pp style="text-indent: 28px text-align: center "img style="max-width:100% max-height:100% " src="https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/2a630f7c-a2f9-4376-bd8c-911592840aa9.jpg" title="材料说.jpg" alt="材料说.jpg"//p

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    有谁用过北京意力博通的ETD800小型离子溅射仪?这个好像是最新型号的溅射仪。北京意力博通有好几个型号的溅射仪。

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    各位大侠,我想购买离子溅射仪,不知什么型号的好用。兼顾SEM样品喷金以及镀制金电极。不知各位有何建议。网上找到的几个型号:中科仪的 SBC-12和同创业的JS-1600科晶的 spc-12有使用过的朋友们不吝赐教。谢谢!

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    离子溅射仪是对透射电镜及扫描电镜及样品进行离子刻蚀和涂复导电层的设备,主要用于对生物、有机物及金属样品溅射一层均匀而致密的金属膜供扫描电镜观察,亦可对各种样品进行离子刻蚀以及对透射电镜支持膜作亲水处理,以获得理想的实验表面。仪器操作简单方便,是配合中小型扫描电子显微镜制样必备的仪器。型号:MSP-10
  • FIB和离子溅射仪标样
    为了能更好的对FIB和离子溅射仪的 离子枪的参数进行测试,推出了FIB 和离子溅射仪标样。
  • 全自动型离子溅射仪
    【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸120mm ? x 120mm H,高强度不锈钢结构(可选150mm x 165mm)样品台尺寸可放置12个标准钉形样品台,高度可在 60mm内调节溅射头低电压平面磁控管,靶材更换快速,环绕暗区护罩溅射靶材金(标配),铂,金/钯,铂/钯, 银等靶材尺寸直径57mm x 0.1mm 厚度溅射控制系统微处理器控制,远程电流/电压感应;最大电流40mA,程序化数字控制;提供真空安全联锁装置,配有过流保护;模拟计量真空 Atm - 0.001mb 电流: 0 – 50mA控制方式自动气体换气和放气功能,带有“暂停”控制的数字定时器(0-300s)机械泵2L/s工作媒介气体氩气,纯度最低99.9%工作电压220V, 50/60HZ膜厚监控仪(选配)通过6MHz石英晶体进行原位监控,显示纳米级厚度,可精确到0.1nm适用配套Zeiss, JEOL, Hitachi, FEI, Tescan, Phenom等扫描电镜 【产品详情】Agar 全自动喷金仪(离子溅射仪)为英国进口设备,操作简单,适用于扫描电镜样品制备,可喷金、铂、金/钯、铂/钯、银等。喷金仪使用小贴士:1)需要溅射喷金的样品a)第一类样品是电子束敏感的样品,主要包括生物样品,塑料样品等。SEM中的电子束具有较高能量,在与样品的相互作用过程中,它以热的形式将部分能量传递给样品。如果样品是对电子束敏感的材料,那这种相互作用会破坏部分甚至整个样品结构。这种情况下,用一种非电子束敏感材料制备的表面镀层就可以起到保护层的作用,防止此类损伤;b)另一类样品是非导电的样品,由于样品不导电,其表面带有“电子陷阱”,这种表面上的电子积累被称为“充电”。为了消除荷电效应,可在样品表面镀一层金属导电层,镀层作为一个导电通道,将充电电子从材料表面转移走,消除荷电效应。在扫描电镜成像时,溅射材料可以增加信噪比,从而获得更好的成像质量。2)溅射材料常用的溅射材料为金,导电性高。喷金仪的真空度越高,所溅射的金属颗粒越小,可以减少样品表面形貌失真的情况。当需要超高分辨率成像时,首选高真空喷金仪,同时还可以选用其他溅射材料,如:铬,铱等,溅射的晶粒更细小。此外,如果需要做EDS能谱分析的话,建议选择喷碳仪,因碳的X射线峰不会与其他元素的峰值发生冲突。产品详细价格及资料,请登录电镜耗材在线商城网站查看。
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