离子探针

岛津原位探针离子化质谱仪DPiMS-2020 是基于岛津单四极质谱分析仪LCMS-2020同时配备探针电喷雾离子源为一体的新型质谱分析仪。该仪器通过精密的探针取样式设计在无需样品制备的情况下实现快速便捷的样品分析。技术基于探针电喷雾离子化技术及原理（PESI）适用于化工领域，食品和生物制品领域中样品无样品制备条件下的快速质谱分析。 该仪器具有多项应用优势：1) 样品直接质谱分析，简化样品制备过程；2)容易氧化或讲解的化合物快速分析，分时段实时样品成分含量监测；3) 微量样品离子化能力，有效避免高浓度样品对质谱的污染。

三重四极杆质谱仪可以用于不同领域，对于复杂基质中痕量分析物进行限定性确证和可重复性定量，如临床研究，法医毒理学，药代动力学，环境分析及食品和饮品检测等广泛领域。岛津LC-MS/MS结合了世界先进的岛津UHPLC系统的色谱分离能力，并应用岛津独有的超快速技术（UFMS技术），其中包括超快速MRM测定，MS/MS采集和超高速正负极切换，使LC-MS/MS能以超快速的性能获得大幅度的分析通量提高。在此基础上，岛津推出原位探针电喷雾离子源——PESI（Probe Electro Spray Ionization）1，可用于岛津LC-MS/MS，无需样品前处理即可实现简便、快捷的质谱分析。 PESI技术特点：1、高性能的样品原位质谱分析。2、无需直接加热，适用于热不稳定化合物分析。3、有效避免复杂基质对质谱仪的污染。 Fig. 1. PESI-MS操作流程 适用于各类样本的测定，如：1、体液，如血和尿液。2、组织切片，例如来自实验动物或食品的切片。3、植物样本，如蔬菜和水果。 应用案例：小鼠肝脏26种代谢产物（氨基酸/有机酸/糖）代谢组学分析2。在该例实验中，代谢产物（26种组分）如氨基酸，有机酸和糖的离子对参数用于小鼠肝脏的代谢组学分析。使用PESI-MS系统测定由四氯化碳诱导急性肝损伤模型组和对照组小鼠组织中的主要成分。基于牛磺酸对PCA载荷图中群组分离的显著贡献，在模型组和对照组之间观察到显著差异（Welch' t检验结果p0.001）。该差异在箱线图中得到了验证。通过本次研究发现，由CCl4诱导急性肝损伤，牛磺酸是模型组和对照组主要差异物质。 参考文献：1，Kenzo Hiraoka，Rapid Commun. Mass Spectrom. 2007 21: 3139–31442，Kei Zaitsu，Anal. Chem. 2016, 88, 3556?3561

1． 系统介绍MMLAB-prob-2型探针系统是MMLAB-prob系列朗缪尔探针系统的双探针型号。MMLAB-prob系列朗缪尔探针系统基于虚拟仪器原理设计，具有硬件结构简单、可靠性强、抗扰动能力强等优点。MMLAB-prob系列朗缪尔探针系统的软件界面友好，操作简便，实现诊断与数据处理全过程自动化。2． 系统硬件构成MMLAB-prob-2型探针系统硬件由探针、驱动采集单元和计算机构成（图1）。其中，驱动采集单元一端通过USB接口与计算机连接，另一端有电缆与探针连接，其作用一是按照计算机的指令生成扫描信号，放大后为探针提供偏置，二是采集探针的电压电流值并输入计算机。

仪器简介：EQS 是差式泵式二次离子质谱（SIMS-Secondary Ion Mass Spectrometer ‘Bolt-On’ probe），可分析来自固体样品的二次阴、阳离子和中性粒子。采用最新技术的SIMS 探针，便于连结到现有的UHV表面科学研究反应室。 技术参数：应用： 静态 /动态SIMS 一般目的的表面分析 整体的前端离子源，便于RGA和 SNMS 兼容的离子枪/ FAB 枪 成分/污染物分析 深度分析 泄漏检测 与Hiden SIMS 工作站兼容主要特点： 高灵敏度脉冲离子计数检测器，7个数量级的动态范围 SIMS 成像，分辨率在微米以下 光栅控制，增强深度分析能力 45°静电扇形分析器, 扫描能量增量 0.05 eV/ 0.25eV FWHM. 所有能量范围内，离子行程的最小扰动，及恒定离子传输 差式泵3级过滤四极杆，质量数范围至2500amu 灵敏度高 / 稳定的脉冲离子计数检测器 Penning规和互锁装置可提供过压保护 通过RS232、RS485或Ethernet LAN，软件 MASsoft控制

岛津原位探针离子化质谱仪DPiMS-2020 是基于岛津单四极质谱分析仪LCMS-2020同时配备探针电喷雾离子源为一体的新型质谱分析仪。该仪器通过精密的探针取样式设计在无需样品制备的情况下实现快速便捷的样品分析。技术基于探针电喷雾离子化技术及原理（PESI）适用于化工领域，食品和生物制品领域中样品无样品制备条件下的快速质谱分析。 该仪器具有多项应用优势：1) 样品直接质谱分析，简化样品制备过程；2)容易氧化或讲解的化合物快速分析，分时段实时样品成分含量监测；3) 微量样品离子化能力，有效避免高浓度样品对质谱的污染。岛津DPiMS-2020原位探针离子化质谱仪信息由岛津企业管理（中国）有限公司/岛津（香港）有限公司为您提供，如您想了解更多关于岛津DPiMS-2020原位探针离子化质谱仪报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。

TeraSpike THz近场探针 微区探针(TeraSpike microprobe series)品牌：Protemics型号：TeraSpike TD-800-XTeraSpike是新一代的微探针，用于太赫兹频率范围内电场的光电导检测。基于客户的反馈和不断增长的应用驱动的需求，我们对近场探针进行了彻底的重新设计并且开发成功。新的探针是一款多用途表面近场电场探测器，适用于太赫兹波长范围内，具有前所未有的性能，可靠并且可适应。它可以完美地集成到太赫兹时域系统，在860 nm以下光激发，这是最高性价比的解决方案，将您的系统变成功能强大的高分辨率近场太赫兹系统。 。产品特点：市场上最小的THz探针专利设计空间分辨率可达3um探测频率范围：0-4THz适用于所有基于激光的THz系统安装可兼容标准的光机械组建典型激发光强度1-15mW（1-5uJ/cm2）集成过载保护电路应用：太赫兹研究：超材料，等离子体，石墨烯，波导高分辨率太赫兹近场成像 非接触式薄膜电阻半导体成像MMIC器件特性分析 无损检测芯片时域反射计（TDR）测量脉冲激发的THz超物质表面的近场图像测量激光刻蚀多晶硅晶圆的薄层导电率图像 基于飞秒激光的THz系统 THz探针典型参数TeraSpike TD-800-X-HR HRS Max. spatial resolution3 μm20 μmPC gap size1.5 μm2 μmDark current @ 1 V Bias 0.5 nA 0.5 nAPhotocurrent (*) 1 μA 0.6 μAExcitation wavelength700 .. 860 nmAvg. excitation power0.1 .. 4 mWConnection typeSMP元素路径: body p img当前已输入818个字符, 您还可以输入9182个字符。

Flowprobe 是一种实时的原位动态微萃取技术，是美国橡树岭国家实验室的 Gary Van Berkel 博士发明了静态液滴萃取表面分析 （LESA）之后的又一创新发明。该技术基于液相微临界表面取样探针 (LMJ-SSP) 原理，其萃取效率在商品化的原位电离技术中首屈一指，适用于细胞、组织、聚合物等平面类样品的药物分布研究、癌症分析、微生物聚类分析等方面，并与主流质谱兼容（如 Thermo、Bruker 和 SCIEX 等 ）。How it works?1）通过连续流动的溶剂将材料表面溶解2）通过电喷雾（ESI）电离离子化分析物flowprobeTM 是 DESI 2D 系统的升级版，为实时动态微萃取探针技术，基于液相微临界表面取样探针 (LMJ-SSP) 原理，通过外套管连续输送溶剂至细胞、组织、或材料表面，高效微萃取代谢物、脂质、肽等标记物、或活性及毒性成分，再以内套管连续将萃取液泵流至电喷雾喷口进行 ESI 离子化。探针的萃取部位可借助摄像头实时调控，以动态获取表面、组织、或细胞内物质的分子信息。该技术适用于药物分布研究、癌症筛查和微生物聚类分析。可在中等空间分辨率（~630μm）条件下快速勾画分子轮廓，又可利用 DESI 2D 在高空间分辨率（~50μm）条件下实现精准医学研究和细胞内连续采样分析。flowprobe 是一种直接进样方法，通过实时，连续流体原位微萃取，可以提升现场采样和扫描的效率。这种创新技术还采用了高精度探头以及光学图像引导表面运动控制。加速药物分布研究和快速组织分析可在较低分辨率下进行快速的轮廓分析精准医学，细胞内连续采样DESI 2D 系统通过改造设计即可体验 flowprobe 的优势应用领域flowprobe是一种可进行连续、实时微萃取的突破性快速进样技术，结合了连续流体微萃取和电喷雾电离的诸多优点，可实现高效的单点采样和连续扫描。这种创新的质谱技术还采用了高精度喷雾头和图像引导的运动控制，使研究工作更加快速高效。其主要应用包括：高通量无损组织病理学分析、法医毒理学分析、过程分析、细菌代谢、微生物鉴定与表征、干血斑分析、时间分辨药物定量等等。flowprobe 生产商为美国 Prosolia 公司。大中华区为华质泰科生物技术（北京）有限公司。

TeraSpike THz近场探针 微区探针(TeraSpike microprobe series)品牌：Protemics型号：TeraSpike TD-800-Z (纵向场微探针)TeraSpike是新一代的微探针，用于太赫兹频率范围内电场的光电导检测。基于客户的反馈和不断增长的应用驱动的需求，我们对近场探针进行了彻底的重新设计并且开发成功。新的探针是一款多用途表面近场电场探测器，适用于太赫兹波长范围内，具有前所未有的性能，可靠并且可适应。它可以完美地集成到太赫兹时域系统，在860 nm以下光激发，这是最高性价比的解决方案，将您的系统变成功能强大的高分辨率近场太赫兹系统。 。产品特点：市场上最小的THz探针专利设计空间分辨率可达3um探测频率范围：0-4THz适用于所有基于激光的THz系统安装可兼容标准的光机械组建典型激发光强度1-15mW（1-5uJ/cm2）集成过载保护电路应用：l 太赫兹研究：超材料，等离子体，石墨烯，波导l 高分辨率太赫兹近场成像 l 非接触式薄膜电阻半导体成像l MMIC器件特性分析 l 无损检测芯片l 时域反射计（TDR）测量脉冲激发的THz超物质表面的近场图像测量激光刻蚀多晶硅晶圆的薄层导电率图像 基于飞秒激光的THz系统 THz探针典型参数?TeraSpike TD-800-Z- A-500G Max. spatial resolution 8 μm PC gap size 5 μm Dark current @ 1 V Bias 0.4 nA Photocurrent (*) 0.5 μA Excitation wavelength 700 .. 860 nm Avg. excitation power 0.1 .. 4 mW Connection type SMP

硅片基体导电类型与被测薄层相反。适用于测量厚度不小于0.2 μm的薄层，方块电阻的测量范围为10A-5000n.该方法也可适用于更高或更低照值方块电阻的测量，但其测量准确度尚未评估。使用直排四探针测量装置、使直流电流通过试样上两外探件，测量两内操针之间的电位差，引人与试样几何形软有关的修正因子，计算出薄层电阻。覆盖膜 导电高分子膜，高、低温电热膜 隔热、导电窗膜 导电(屏蔽)布、装饰膜、装饰纸 金属化标签、合金类箔膜 熔炼、烧结、溅射、涂覆、涂布层，电阻式、电容式触屏薄膜 电极涂料，其他半导体材料、薄膜材料方阻测试采用四探针组合双电测量方法，液晶显示，自动测量，自动量程，自动系数补偿.高集成电路系统、恒流输出；选配：PC软件进行数据管理和处理.双电测数字式四探针测试仪是运用直线或方形四探针双位测量。该仪器设计符合单晶硅物理测试方法并参考美国A.S.T.M标准。利用电流探针、电压探针的变换，进行两次电测量，对数据进行双电测分析，解决样品几何尺寸、边界效应以及探针不等距和机械游移等因素对测量结果的影响.采用四探针组合双电测量方法，液晶显示，自动测量，自动量程，自动系数补偿.高集成电路系统、恒流输出；选配：PC软件进行数据管理和处理.双电测数字式四探针测试仪是运用直线或方形四探针双位测量。该仪器设计符合单晶硅物理测试方法标准并参考美国A.S.T.M标准。利用电流探针、电压探针的变换，进行两次电测量，对数据进行双电测分析，解决样品几何尺寸、边界效应以及探针不等距和机械游移等因素对测量结果的影响.导体材料电阻率测试仪GB/T 11073硅片径向电阻率变化的测量方法提要探针与试样压力分为小于0.3N及0.3 N¯ 0.8N两种。以下文件中的条款通过本标准的引用商成为本标准的条款。但凡注日期的引用文件，其随后所有的修改单(不包括订正的内容)或修订版均不适用于本标准，然而，鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的新版本。但凡不注日期的引用文件，其新版本适用于本标准。GB/T 1552硅、储单晶电阻率测定直排四探针法样品台和操针架样品台和探针架应符合GB/T152 中的规定。样品台上应具有旋转360"的装置。其误差不大于士5"，测量装置测量装置的典型电路叉图1，范围本标准规定了用直排四探针测量硅外延层、扩散层和离子注入层薄层电阻的方法。本标准适用于测量直径大于15.9mm的由外延、扩散、离子注人到硅片表面上或表面下形成的薄层的平均薄层电阻。

导体材料电阻率测试仪GB/T 11073硅片径向电阻率变化的测量方法提要探针与试样压力分为小于0.3N及0.3 N¯ 0.8N两种。以下文件中的条款通过本标准的引用商成为本标准的条款。但凡注日期的引用文件，其随后所有的修改单(不包括订正的内容)或修订版均不适用于本标准，然而，鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的新版本。但凡不注日期的引用文件，其新版本适用于本标准。GB/T 1552硅、储单晶电阻率测定直排四探针法样品台和操针架样品台和探针架应符合GB/T152 中的规定。样品台上应具有旋转360"的装置。其误差不大于士5"，测量装置测量装置的典型电路叉图1，范围本标准规定了用直排四探针测量硅外延层、扩散层和离子注入层薄层电阻的方法。本标准适用于测量直径大于15.9mm的由外延、扩散、离子注人到硅片表面上或表面下形成的薄层的平均薄层电阻。硅片基体导电类型与被测薄层相反。适用于测量厚度不小于0.2 μm的薄层，方块电阻的测量范围为10A-5000n.该方法也可适用于更高或更低照值方块电阻的测量，但其测量准确度尚未评估。使用直排四探针测量装置、使直流电流通过试样上两外探件，测量两内操针之间的电位差，引人与试样几何形软有关的修正因子，计算出薄层电阻。覆盖膜 导电高分子膜，高、低温电热膜 隔热、导电窗膜 导电(屏蔽)布、装饰膜、装饰纸 金属化标签、合金类箔膜 熔炼、烧结、溅射、涂覆、涂布层，电阻式、电容式触屏薄膜 电极涂料，其他半导体材料、薄膜材料方阻测试采用四探针组合双电测量方法，液晶显示，自动测量，自动量程，自动系数补偿.高集成电路系统、恒流输出；选配：PC软件进行数据管理和处理.双电测数字式四探针测试仪是运用直线或方形四探针双位测量。该仪器设计符合单晶硅物理测试方法并参考美国A.S.T.M标准。利用电流探针、电压探针的变换，进行两次电测量，对数据进行双电测分析，解决样品几何尺寸、边界效应以及探针不等距和机械游移等因素对测量结果的影响.采用四探针组合双电测量方法，液晶显示，自动测量，自动量程，自动系数补偿.高集成电路系统、恒流输出；选配：PC软件进行数据管理和处理.双电测数字式四探针测试仪是运用直线或方形四探针双位测量。该仪器设计符合单晶硅物理测试方法标准并参考美国A.S.T.M标准。利用电流探针、电压探针的变换，进行两次电测量，对数据进行双电测分析，解决样品几何尺寸、边界效应以及探针不等距和机械游移等因素对测量结果的影响.

开尔文探针(Kelvin Probe)是一种非接触无损震荡电容装置，用于测量导体材料的功函数(Work Function)或半导体、绝缘表面的表面势(Surface Potential)。材料表面的功函数通常由最上层的1-3层原子或分子决定，所以开尔文探针是一种最灵敏的表面分析技术。 我们的开尔文探针系统包括：□ 单点开尔文探针(大气环境及气氛控制环境)；□ 扫描开尔文探针(大气环境及气氛控制环境)；□ 超高真空(UHV)开尔文探针；□ 湿度控制的腐蚀开尔文探针； 单点开尔文探针系统 (ASKP) KP020系统是一款可以被大多数客户所接收的高端扫描开尔文探针系统，它是在KP基础之上包括了彩色相机/TFT显示器、2毫米和50微米探针、外部数字示波镜等配置，其规格如下：□ 2毫米，50微米探针；□ 功函数分辨率 1-3 meV(2毫米针尖)，5-10 meV(50微米针尖)；□ 针尖到样品表面高度可以达到400纳米以内；□ 彩色相机、调焦镜头、TFT显示器和专业的光学固定装置；□ 参考样品(带相应的扫描开尔文探针系统的形貌)；□ 备用的针尖放大器；□ 24个月超长质保期； 仪器的特色□ 全球第一台商用的完全意义上的开尔文探针系统；□ 最高分辨率的功函数和表面势，最好的稳定性和数据重现性；□ 非零专利技术(Off-null,ON) ——ON信号探测系统在高信号水平下工作，与基于零信号原理(null-based,LIA)的系统相比，不会收到噪声的影响拥有高灵敏度；□ 高度调节专利技术 ——我们的仪器在测量和扫描时可以控制针尖的高度。因为功函数受　　　　　　　　　　　　　　　样品形貌的影响，针尖与样品表面距离的调节意味着数据的高重现性且不会漂移；□ 该领域内，拥有最好的信噪比； □ 快速响应时间 ——测量速度在0.1-10秒间，远快于其他公司产品；□ 功能强的驱动器 ——选用Voice-coil(VC)驱动器，与通常的压电驱动器相比，VC驱动器频率要稳定得多、控制的针尖振幅大得多、支持平行多探针操作、支持不同直径探针操作；□ 所有开尔文探针参数的全数字控制；ON 非零探测 Off Null detection HR 高度调节模式 Height Regulation mode SM 实际开尔文探针信号监控 Monitoring of the actual Kelvin probe signal UC 用户通道，同时测量外部参数 User Channels, simultaneous measurement of external parameters DC 电流探测系统去除漂移效应 Current Detection system rejects stray capacity effects PP 平行板震动模式 Ideal, Parallel Plate Oscillation Mode SA 信号平均 Signal Averaging (often termed Box-Car Detection) WA 功函数平均 Work Function Averaging, Difference and Absolute reporting DC 所有探针及探测参数的数字控制 Digital Control of all Probe and Detection Parameters QT 针尖快速改变 Quick-change Tip, variable spatial resolution DE 数据输出 Data Export to Excel, Origin, or 3rd party software OC 输出通道 Output Channel: TTL switching of external circuit FC 法拉第笼(电磁干扰防护罩) Faraday Cage (EMI Shield) RS 金-铝参考样品 Gold-Aluminium Reference Sample 额外选配项 SPV 表面光伏电压软硬件包 Surface Photovoltage Software and Hardware Package RH 相对湿度腔 Relative Humidity Chamber AC 控制气体进口的环境单元 Ambient Cell for controlled Gas Inlet EDS 外部数据示波镜 External Digital Oscilloscope OPT 彩色相机 Color Camera, TFT Screen and Optical Mounts ST 针尖置换 Replacement Tips GCT 镀金的针尖替换 Gold Coated Replacement Tips XYZ 25.4毫米手动3维控制台 3-axis 25.4 mm Manual Stage应用领域 吸附，电池系统，生物学和生物技术，催化作用，电荷分析，涂层，腐蚀，沉积，偶极层形成，显示技术，教育，光/热散发，费米级扫描，燃料电池，离子化，MEMs，金属，微电子，纳米技术，Oleds，相转变，感光染色，光伏谱学，高分子半导体，焦热电，半导体，传感器，皮肤，太阳能电池，表面污染，表面化学，表面光伏，表面势，表面物理，薄膜，真空研究，功函数工程学；目前通过我司购买的的开尔文探针测试系统，目前在南昌航空大学工作正常，运行稳定。。

一、多功能手动探针台应用原理： （1）KT-Z160T-RL该探针台的承载台为60x60不锈钢台面，台面最高可升温到最高350℃。真空腔体设计有进气口和抽真空接口。探针臂为X/Y/Z三轴移动，三个方向均可在真空环境下精密移位调节。 （2）其中X方向调节范围：0－30mm；y方向调节范围：0－20mm；z方向调节范围：0－20mm；用户可根据需要自行调节。使用时将需检测的器件固定在加热台上，再微调探针支架X/Y/Z方向行程，通过显微镜观察，使探针对准检测点后，即可进行检测。 二、技术组织规格： 1．腔体材质：304不锈钢 2．上盖开启：铰链侧开 3．加热台材质：304不锈钢 4．内腔体尺寸：φ160x90mm 5．观察窗尺寸：Φ70mm 6．加热台尺寸：φ60mm 7．观察窗热台间距：75mm 8．加热台温度：-196-350℃ 9．加热台温控误差：±1℃ 10．真空度：机械泵≤10Pa分子泵≤10-3Pa 11．允许正压：≤0.1MPa 12．真空抽气口：KF25真空法兰 13．气体进气口：3mm-6mm卡套接头 14．电信号接头：SMA转BNCX4 15．电学性能：绝缘电阻≥4000MΩ介质耐压≤500V漏电流≤-10次方安培 16．探针数量：4探针 17．探针材质：镀金钨针 18．探针尖：10μm 19．X轴移动行程：30mm±15mm 20．X轴控制精度：≤0.01mm 21．Y轴移动行程：13mm±12.5mm 22．Y轴控制精度：≤0.01mm 23．Z轴移动行程：13mm±12.5mm 24．Z轴控制精度：≤0.01mm 25．显微镜类别：物镜 26．物镜倍数：0.7-4.5倍 27．工作间距：90mm 28．相机：sony高清 29．像素：1920※1080像素 三、企业概括： （1）郑州科探仪器设备有限公司是集开发、制造、经营为一体的材料设备创新型企业，如今公司的产品已经遍布国内大多数国家重点实验室及科学院校，科探仪器已经成为老师同学欢迎和信任的品牌之一。 （2）公司以科技创新为主，服务社会为宗旨，积极设计开发新型材料制备设备，奉献于教育和科学，经过长期的研发和不断地技术积累，拥有热工，制造，控制相关技术10余项，为化学，物理，材料，电子，高分子工程，新材料制备和研发领域的科学研究提供了精良设备。公司通过和院校老师同学强强联合，形成了有效的信息，技术交流平台，为科探仪器了解市场需求提供了强有力的支持！ （3）目前公司已研发生产产品十多个系列几十款产品，产品囊括实验电炉CVD供气系统等离子清洗机小型离子溅射仪小型蒸镀仪石英管真空封口多功能手动探针台半导体检测等。主要适用于科研院校及工矿企业在新材料、新能源等领域物理特性及化学特性的研究，广销于各大院校，及材料研究所。 （4）公司与国内高校，科研院所有多层次的合作关系，建有开放实验室，相关领域的教授、高级工程师、博士参与公司产品的研究和开发。我们秉承公司的发展理念，依靠严谨的技术研发能力，科学合理的生产工艺，精益求精的制造要求，全心全意做好产品质量和服务工作，科探仪器时刻怀着一颗真诚的心期待与您的合作。

一、多功能手动探针台应用原理： （1）KT-Z160T-RL该探针台的承载台为60x60不锈钢台面，台面最高可升温到最高350℃。真空腔体设计有进气口和抽真空接口。探针臂为X/Y/Z三轴移动，三个方向均可在真空环境下精密移位调节。 （2）其中X方向调节范围：0－30mm；y方向调节范围：0－20mm；z方向调节范围：0－20mm；用户可根据需要自行调节。使用时将需检测的器件固定在加热台上，再微调探针支架X/Y/Z方向行程，通过显微镜观察，使探针对准检测点后，即可进行检测。 二、技术组织规格： 1．腔体材质：304不锈钢 2．上盖开启：铰链侧开 3．加热台材质：304不锈钢 4．内腔体尺寸：φ160x90mm 5．观察窗尺寸：Φ70mm 6．加热台尺寸：φ60mm 7．观察窗热台间距：75mm 8．加热台温度：-196-350℃ 9．加热台温控误差：±1℃ 10．真空度：机械泵≤10Pa分子泵≤10-3Pa 11．允许正压：≤0.1MPa 12．真空抽气口：KF25真空法兰 13．气体进气口：3mm-6mm卡套接头 14．电信号接头：SMA转BNCX4 15．电学性能：绝缘电阻≥4000MΩ介质耐压≤500V漏电流≤-10次方安培 16．探针数量：4探针 17．探针材质：镀金钨针 18．探针尖：10μm 19．X轴移动行程：30mm±15mm 20．X轴控制精度：≤0.01mm 21．Y轴移动行程：13mm±12.5mm 22．Y轴控制精度：≤0.01mm 23．Z轴移动行程：13mm±12.5mm 24．Z轴控制精度：≤0.01mm 25．显微镜类别：物镜 26．物镜倍数：0.7-4.5倍 27．工作间距：90mm 28．相机：sony高清 29．像素：1920※1080像素 三、企业概括： （1）郑州科探仪器设备有限公司是集开发、制造、经营为一体的材料设备创新型企业，如今公司的产品已经遍布国内大多数国家重点实验室及科学院校，科探仪器已经成为老师同学欢迎和信任的品牌之一。 （2）公司以科技创新为主，服务社会为宗旨，积极设计开发新型材料制备设备，奉献于教育和科学，经过长期的研发和不断地技术积累，拥有热工，制造，控制相关技术10余项，为化学，物理，材料，电子，高分子工程，新材料制备和研发领域的科学研究提供了精良设备。公司通过和院校老师同学强强联合，形成了有效的信息，技术交流平台，为科探仪器了解市场需求提供了强有力的支持！ （3）目前公司已研发生产产品十多个系列几十款产品，产品囊括实验电炉CVD供气系统等离子清洗机小型离子溅射仪小型蒸镀仪石英管真空封口多功能手动探针台半导体检测等。主要适用于科研院校及工矿企业在新材料、新能源等领域物理特性及化学特性的研究，广销于各大院校，及材料研究所。 （4）公司与国内高校，科研院所有多层次的合作关系，建有开放实验室，相关领域的教授、高级工程师、博士参与公司产品的研究和开发。我们秉承公司的发展理念，依靠严谨的技术研发能力，科学合理的生产工艺，精益求精的制造要求，全心全意做好产品质量和服务工作，科探仪器时刻怀着一颗真诚的心期待与您的合作。

名称：四探针电阻测量仪图片：品牌：KLA 集团旗下品牌 Filmetreics型号：R50用途：金属膜均匀性分布、离子掺杂和注入表征、薄膜厚度和电阻率分布、以及非接触膜厚等量测。优势 :1)接触式四点探针(4PP)和非接触式电涡流(EC)2) 100mm Z行程，高精度控制 3)导体和半导体薄膜电阻，10个数量级范围适用 4)测试点自定义编辑，包括矩形、线性、极坐标 以及自定义配置 5)200mm XY电动平台 6)RSMapper软件灵活易用 7)兼容KLA所有电阻测试探针应用市场：1）半导体 2）化合物半导体 3）先进封装4）平板和VR显示 5）印刷电路 6）穿戴设备 7）导电材料8）太阳能

仪器简介：ESPion高级朗缪尔探针（Advanced Langmuir Probes for Electrical Plasma Characterisation）可快速、可靠、精确地进行等离子体诊断，是最先进可靠的朗缪尔探针（Langmuir Probe）。技术参数：应用： 蚀刻/沉积/ 清洁等离子体 脉冲等离子体操作 离子密度 (Ni & Gi) 电子温度(Te) 电子能量分布(EEDF) 电子密度(Ne) 等离子体电位 Debye 长度,悬浮电位主要特点： 获得数据速度：每秒15次扫描，通过D-O-E-界面可以自动、半自动或手动分析 Hiden在被动射频补偿方面处于领先地位，在所有的商业化探针中 ESPion 具 有最高的屏蔽阻抗(4.25Mohm at 13.56 MHz cf. 100kohm) 高温等离子体操作时的气体制冷多感应器链，使用者可调谐至其他频率 参考探针补偿用于抵制较低频率影响，例如等离子体电位漂移(例如，反应室 内腔阳极氧化所致) 或噪音(例如，供电源引起) ESPion 是所有商业化探针中最快速的脉冲等离子体探针，ESPsoft 包括所有 必需的标准脉冲选通电路 300、600、915mm 自动线性驱动器可选，互锁隔离阀， 90°探针，组合式 线性－旋转驱动器可选 自清洗循环，防止探针尖端污染 经由RS232、RS485、Ethernet LAN 和 ESPsoft软件控制

一、仪器介绍MT-PM100电极探针精密抛光仪是一款满足石英及玻璃材质探针以及超微电极抛光需求的精密抛光仪，配备高精密电动直线滑台控制探针（或超微电极）的上下移动，通过可调速微型电机驱动磨盘均匀且稳定地旋转，实现探针（或超微电极）针尖的精密抛光。还配备了电子显微镜和高清显示器，实时监控抛光过程，确保针尖抛光的精确性。另外，配置了高灵敏度阻抗检测单元，可以用来原位监测玻璃封装（尖端绝缘）的金属纳米电极的导电暴漏。二、主要参数抛光范围空心石英管/玻璃管、玻璃封装金属电极、碳纳米电极等磨盘面型λ/4@633 nm磨盘转速0-300 r/min可调阻抗检测响应时间1 ms制备直径范围实心电极（≥20 nm）；空心管（≥1 um）步进速度0.001~30 um/s可调显微镜HDMI接口，含位置测量软件，可观测10 um的物体三、仪器构成及使用方法电极探针精密抛光仪整体构成如上图所示，主要由以下部分构成：电子显示屏（1）；电源开关（2）；磨盘正反向旋转按钮（3）；磨盘转速显示器（4）；磨盘转速调节器（5）；磨盘停止旋转按钮（6）；触屏显示器（7）；皮带（8）；光源（9）；步进电机（10）；电动直线滑台（11）；探针固定器（12）；抛光磨盘（13）；滤纸（14）；滤纸固定器（15）；电极夹（16）；电子显微镜（17）。电极探针精密抛光仪的触屏显示器页面如上图所示，包括手动模式和阻抗模式两种模式。“手动模式”使用系统配备的测量工具，手动测量探针需抛光的长度，设定步进距离控制探针的抛光，主要用于空心石英管/玻璃管的抛光。“阻抗模式”使用系统检测并响应阻抗的变化以控制超微电极的抛光，主要用于玻璃封装的金属电极、碳纳米电极的抛光。“Z轴回原”使探针/超微电极回到系统设定的初始高度。手动模式的使用方法：打开仪器和灯源开关，通过按钮使磨盘开始正向旋转，将配套的滤纸用去离子水润湿（通过虹吸作用在磨盘上形成一层水膜，并阻拦抛光过程中产生的碎屑），再通过按钮使磨盘停止转动以便于后续观察。将探针尾部插入通有氩气的通气管，固定在探针固定器凹槽内，设置步进距离，通过高精密电动直线滑台控制探针向下移动，直到在显微镜下观察到探针针尖及其在磨盘上的影像。使用显微镜工具页面中的“测量工具”测量并计算步进距离，下移探针至探针尖端与磨盘接触。启动磨盘转动，根据需求调节磨盘转速、探针移动速度以及步进距离，开始抛光。待剩余距离和时间归零，探针停止下移，抛光结束。阻抗模式的使用方法：打开仪器和灯源开关，将待抛光的超微电极和镍丝固定并连接电极夹，设置步进距离，步进电机向下移动，直到在显微镜下可以观察到超微电极尖端及其在磨盘上的影像。当超微电极尖端与其影像的距离接近5 um时，滴加KCl电解质溶液以覆盖超微电极和镍丝尖端。根据需求调节磨盘转速、超微电极移动速度以及步进距离，开始抛光。当仪器检测到超微电极阻抗时，会立即停止抛光并自动回原。

应用于高空间分辨率下同位素和痕量元素分析的SIMSNanoSIMS 50L是一款独特的离子探针，在高横向分辨率下优化了SIMS分析性能。该仪器的开发借鉴了一次离子束和二次离子提取的同轴光学设计以及具有多接收功能的原始扇形磁质量分析仪。NanoSIMS 50L能同时提供关键性能，而使用任何其他已知的仪器或技术只能部分提供这些性能： 高分析空间分辨率（低至50纳米） 高灵敏度（元素成像中的ppm） 高质量分辨率（M/dM） 并行采集七种不同质荷比离子 快速采集（直流模式，不发生脉冲） 能够分析电绝缘样品 经改良，现在可实现千分之十几的同位素比值再现性。 应用领域:微生物学： NanoSIMS 50L为环境中混合微生物群落研究中的单细胞系统发育特征（使用FISH或El-FISH）和代谢功能（使用稳定同位素标记）的结合开辟了新的可能性。 细胞生物学： NanoSIMS 50L具备50纳米分辨率和测定同位素比值功能，可实现对细胞内带有稳定同位素标记的分子的积累和传输的测量。 地质学和空间科学： NanoSIMS 50L可以对行星际尘埃颗粒、陨石和矿物部分的亚微米区域、晶粒或包裹体进行精确的同位素和元素测量。该仪器在多个法拉第杯配置下工作，并具有几微米的光斑尺寸，可以提供同位素比值测量，具有极高精确度以及低至千分之十几的的外部再现性。 材料研究： 凭借高质量分辨率下的高灵敏度（无质量干扰），即使在电绝缘材料中，NanoSIMS 50L也可以在50纳米SIMS横向分辨率下进行痕量元素（掺杂物）成像和定量分析。除稀有气体以外的所有元素（从氢到钚）均可测量。 NanoSIMS 最初由法国巴黎第十一大学的G. Slodzian教授设计。

电探针/弹簧探针爆速测量仪WKDV-5000【简介】： 电探针/弹簧探针爆速测量仪WKDV-5000采用大规模集成电路FPGA技术，全数字控制，实现高精度时间间隔测试，整机具有高稳定度、高准确度的优点，功能完善，操作方便，抗干扰能力强。仪器采用时间放大式模拟内插原理、组件式结构,能同时测量一个起始脉冲和32个停止脉冲信号之间的时间间隔,测时范围为50ns-9999ms,时间分辨率为2ns。电探针/弹簧探针爆速测量仪WKDV-5000【技术指标】：参数 指标测时范围50ns～820ms外参考 1路，频率20MHz,电平3.3-12V ，可外加-330V高压脉冲信号源 被测路数 通道数 4/8/16/32路被测电平TTL 起止信号 上升或者下降沿测时误差±5ns（1ms） ≤1ms±3 ±0.05tr ±PT 1ms（tr输入信号上升时间，T测量时间间隔，P晶振精度（晶振20MHz，精度1×10-7） 置位方式单次、多次、程控显示方式 液晶触摸屏供电需求220V±20V50Hz或者充电电平（内置）工作温度 5-50℃掉电保护保存掉电前的数据；配充电电源，满足野外实验使用 测量次数： 1、10、50电探针/弹簧探针爆速测量仪WKDV-5000【应用领域】 ： 电探针/弹簧探针爆速测量仪WKDV-5000应用于爆轰与粒子判别等科学试验中爆速、弹速、冲击波速度、自由面速度、飞片速度等爆轰参数测量，是爆轰物理、冲击波物理、常规武器研究、天文实验、激光测距、定位定时、航天遥测遥控等科研领域。

三重四极杆质谱仪可以用于不同领域，对于复杂基质中痕量分析物进行限定性确证和可重复性定量，如临床研究，法医毒理学，药代动力学，环境分析及食品和饮品检测等广泛领域。岛津LC-MS/MS结合了世界先进的岛津UHPLC系统的色谱分离能力，并应用岛津独有的超快速技术（UFMS技术），其中包括超快速MRM测定，MS/MS采集和超高速正负极切换，使LC-MS/MS能以超快速的性能获得大幅度的分析通量提高。在此基础上，岛津推出原位探针电喷雾离子源——PESI（Probe Electro Spray Ionization）1，可用于岛津LC-MS/MS，无需样品前处理即可实现简便、快捷的质谱分析。 PESI技术特点：1、高性能的样品原位质谱分析。2、无需直接加热，适用于热不稳定化合物分析。3、有效避免复杂基质对质谱仪的污染。 Fig. 1. PESI-MS操作流程 适用于各类样本的测定，如：1、体液，如血和尿液。2、组织切片，例如来自实验动物或食品的切片。3、植物样本，如蔬菜和水果。 应用案例：小鼠肝脏26种代谢产物（氨基酸/有机酸/糖）代谢组学分析2。在该例实验中，代谢产物（26种组分）如氨基酸，有机酸和糖的离子对参数用于小鼠肝脏的代谢组学分析。使用PESI-MS系统测定由四氯化碳诱导急性肝损伤模型组和对照组小鼠组织中的主要成分。基于牛磺酸对PCA载荷图中群组分离的显著贡献，在模型组和对照组之间观察到显著差异（Welch' t检验结果p0.001）。该差异在箱线图中得到了验证。通过本次研究发现，由CCl4诱导急性肝损伤，牛磺酸是模型组和对照组主要差异物质。 参考文献：1，Kenzo Hiraoka，Rapid Commun. Mass Spectrom. 2007 21: 3139–31442，Kei Zaitsu，Anal. Chem. 2016, 88, 3556?3561

KP 超高真空开尔文探针系统开尔文探针(Kelvin Probe)是一种非接触无损震荡电容装置，用于测量导体材料的功函数(Work Function)或半导体、绝缘表面的表面势(Surface Potential)。材料表面的功函数通常由最上层的1-3层原子或分子决定，所以开尔文探针是一种最灵敏的表面分析技术。 我们的开尔文探针系统包括：□ 单点开尔文探针(大气环境及气氛控制环境)；□ 扫描开尔文探针(大气环境及气氛控制环境)；□ 超高真空(UHV)开尔文探针；□ 湿度控制的腐蚀开尔文探针； 扫描开尔文探针系统 (ASKP) ASKP系统是一款可以被大多数客户所接收的高端扫描开尔文探针系统，它是在SKP基础之上包括了彩色相机/TFT显示器、2毫米和50微米探针、外部数字示波镜等配置，其规格如下：□ 2毫米，50微米探针；□ 功函数分辨率 1-3 meV(2毫米针尖)，5-10 meV(50微米针尖)；□ 针尖到样品表面高度可以达到400纳米以内；□ 表面势和样品形貌3维地图；□ 探针扫描或样品扫描选配；□ 彩色相机、调焦镜头、TFT显示器和专业的光学固定装置；□ 参考样品(带相应的扫描开尔文探针系统的形貌)；□ 备用的针尖放大器；□ 24个月超长质保期； 仪器的特色□ 全球第一台商用的完全意义上的开尔文探针系统；□ 最高分辨率的功函数和表面势，最好的稳定性和数据重现性；□ 非零专利技术(Off-null,ON) ——ON信号探测系统在高信号水平下工作，与基于零信号原理(null-based,LIA)的系统相比，不会收到噪声的影响拥有高灵敏度；□ 高度调节专利技术 ——我们的仪器在测量和扫描时可以控制针尖的高度。因为功函数受　　　　　　　　　　　　　　　样品形貌的影响，针尖与样品表面距离的调节意味着数据的高重现性且不会漂移；□ 该领域内，拥有最好的信噪比；□ 快速响应时间 ——测量速度在0.1-10秒间，远快于其他公司产品；□ 功能强的驱动器 ——选用Voice-coil(VC)驱动器，与通常的压电驱动器相比，VC驱动器频率要稳定得多、控制的针尖振幅大得多、支持平行多探针操作、支持不同直径探针操作；□ 所有开尔文探针参数的全数字控制；ON 非零探测 Off Null detection HR 高度调节模式 Height Regulation mode SM 实际开尔文探针信号监控 Monitoring of the actual Kelvin probe signal UC 用户通道，同时测量外部参数 User Channels, simultaneous measurement of external parameters DC 电流探测系统去除漂移效应 Current Detection system rejects stray capacity effects PP 平行板震动模式 Ideal, Parallel Plate Oscillation Mode SA 信号平均 Signal Averaging (often termed Box-Car Detection) WA 功函数平均 Work Function Averaging, Difference and Absolute reporting DC 所有探针及探测参数的数字控制 Digital Control of all Probe and Detection Parameters QT 针尖快速改变 Quick-change Tip, variable spatial resolution DE 数据输出 Data Export to Excel, Origin, or 3rd party software OC 输出通道 Output Channel: TTL switching of external circuit FC 法拉第笼(电磁干扰防护罩) Faraday Cage (EMI Shield) RS 金-铝参考样品 Gold-Aluminium Reference Sample 额外选配项 SPV 表面光伏电压软硬件包 Surface Photovoltage Software and Hardware Package RH 相对湿度腔 Relative Humidity Chamber AC 控制气体进口的环境单元 Ambient Cell for controlled Gas Inlet EDS 外部数据示波镜 External Digital Oscilloscope OPT 彩色相机 Color Camera, TFT Screen and Optical Mounts ST 针尖置换 Replacement Tips GCT 镀金的针尖替换 Gold Coated Replacement Tips XYZ 25.4毫米手动3维控制台 3-axis 25.4 mm Manual Stage 应用领域 吸附，电池系统，生物学和生物技术，催化作用，电荷分析，涂层，腐蚀，沉积，偶极层形成，显示技术，教育，光/热散发，费米级扫描，燃料电池，离子化，MEMs，金属，微电子，纳米技术，Oleds，相转变，感光染色，光伏谱学，高分子半导体，焦热电，半导体，传感器，皮肤，太阳能电池，表面污染，表面化学，表面光伏，表面势，表面物理，薄膜，真空研究，功函数工程学；

开尔文探针(Kelvin Probe)是一种非接触无损震荡电容装置，用于测量导体材料的功函数(Work Function)或半导体、绝缘表面的表面势(Surface Potential)。材料表面的功函数通常由最上层的1-3层原子或分子决定，所以开尔文探针是一种最灵敏的表面分析技术。 我们的开尔文探针系统包括：□ 单点开尔文探针(大气环境及气氛控制环境)；□ 扫描开尔文探针(大气环境及气氛控制环境)；□ 超高真空(UHV)开尔文探针；□ 湿度控制的腐蚀开尔文探针； 扫描开尔文探针系统 (ASKP) ASKP系统是一款可以被大多数客户所接收的高端扫描开尔文探针系统，它是在SKP基础之上包括了彩色相机/TFT显示器、2毫米和50微米探针、外部数字示波镜等配置，其规格如下：□ 2毫米，50微米探针；□ 功函数分辨率 1-3 meV(2毫米针尖)，5-10 meV(50微米针尖)；□ 针尖到样品表面高度可以达到400纳米以内；□ 表面势和样品形貌3维地图；□ 探针扫描或样品扫描选配；□ 彩色相机、调焦镜头、TFT显示器和专业的光学固定装置；□ 参考样品(带相应的扫描开尔文探针系统的形貌)；□ 备用的针尖放大器；□ 24个月超长质保期； 仪器的特色□ 全球第一台商用的完全意义上的开尔文探针系统；□ 最高分辨率的功函数和表面势，最好的稳定性和数据重现性；□ 非零专利技术(Off-null,ON) ——ON信号探测系统在高信号水平下工作，与基于零信号原理(null-based,LIA)的系统相比，不会收到噪声的影响拥有高灵敏度；□ 高度调节专利技术 ——我们的仪器在测量和扫描时可以控制针尖的高度。因为功函数受　　　　　　　　　　　　　　　样品形貌的影响，针尖与样品表面距离的调节意味着数据的高重现性且不会漂移；□ 该领域内，拥有最好的信噪比；□ 快速响应时间 ——测量速度在0.1-10秒间，远快于其他公司产品；□ 功能强的驱动器 ——选用Voice-coil(VC)驱动器，与通常的压电驱动器相比，VC驱动器频率要稳定得多、控制的针尖振幅大得多、支持平行多探针操作、支持不同直径探针操作；□ 所有开尔文探针参数的全数字控制；ON 非零探测 Off Null detection HR 高度调节模式 Height Regulation mode SM 实际开尔文探针信号监控 Monitoring of the actual Kelvin probe signal UC 用户通道，同时测量外部参数 User Channels, simultaneous measurement of external parameters DC 电流探测系统去除漂移效应 Current Detection system rejects stray capacity effects PP 平行板震动模式 Ideal, Parallel Plate Oscillation Mode SA 信号平均 Signal Averaging (often termed Box-Car Detection) WA 功函数平均 Work Function Averaging, Difference and Absolute reporting DC 所有探针及探测参数的数字控制 Digital Control of all Probe and Detection Parameters QT 针尖快速改变 Quick-change Tip, variable spatial resolution DE 数据输出 Data Export to Excel, Origin, or 3rd party software OC 输出通道 Output Channel: TTL switching of external circuit FC 法拉第笼(电磁干扰防护罩) Faraday Cage (EMI Shield) RS 金-铝参考样品 Gold-Aluminium Reference Sample 额外选配项 SPV 表面光伏电压软硬件包 Surface Photovoltage Software and Hardware Package RH 相对湿度腔 Relative Humidity Chamber AC 控制气体进口的环境单元 Ambient Cell for controlled Gas Inlet EDS 外部数据示波镜 External Digital Oscilloscope OPT 彩色相机 Color Camera, TFT Screen and Optical Mounts ST 针尖置换 Replacement Tips GCT 镀金的针尖替换 Gold Coated Replacement Tips XYZ 25.4毫米手动3维控制台 3-axis 25.4 mm Manual Stage 应用领域 吸附，电池系统，生物学和生物技术，催化作用，电荷分析，涂层，腐蚀，沉积，偶极层形成，显示技术，教育，光/热散发，费米级扫描，燃料电池，离子化，MEMs，金属，微电子，纳米技术，Oleds，相转变，感光染色，光伏谱学，高分子半导体，焦热电，半导体，传感器，皮肤，太阳能电池，表面污染，表面化学，表面光伏，表面势，表面物理，薄膜，真空研究，功函数工程学；

该仪器设计符合单晶硅物理测试方法并参考美国A.S.T.M标准。利用电流探针、电压探针的变换，进行两次电测量，对数据进行双电测分析，解决样品几何尺寸、边界效应以及探针不等距和机械游移等因素对测量结果的影响.采用四探针组合双电测量方法，液晶显示，自动测量，自动量程，自动系数补偿.高集成电路系统、恒流输出；选配：PC软件进行数据管理和处理.双电测数字式四探针测试仪是运用直线或方形四探针双位测量。该仪器设计符合单晶硅物理测试方法标准并参考美国A.S.T.M标准。利用电流探针、电压探针的变换，进行两次电测量，对数据进行双电测分析，解决样品几何尺寸、边界效应以及探针不等距和机械游移等因素对测量结果的影响.导体材料电阻率测试仪GB/T 11073硅片径向电阻率变化的测量方法提要探针与试样压力分为小于0.3N及0.3 N¯ 0.8N两种。以下文件中的条款通过本标准的引用商成为本标准的条款。但凡注日期的引用文件，其随后所有的修改单(不包括订正的内容)或修订版均不适用于本标准，然而，鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的新版本。但凡不注日期的引用文件，其新版本适用于本标准。GB/T 1552硅、储单晶电阻率测定直排四探针法样品台和操针架样品台和探针架应符合GB/T152 中的规定。样品台上应具有旋转360"的装置。其误差不大于士5"，测量装置测量装置的典型电路叉图1，范围本标准规定了用直排四探针测量硅外延层、扩散层和离子注入层薄层电阻的方法。本标准适用于测量直径大于15.9mm的由外延、扩散、离子注人到硅片表面上或表面下形成的薄层的平均薄层电阻。硅片基体导电类型与被测薄层相反。适用于测量厚度不小于0.2 μm的薄层，方块电阻的测量范围为10A-5000n.该方法也可适用于更高或更低照值方块电阻的测量，但其测量准确度尚未评估。使用直排四探针测量装置、使直流电流通过试样上两外探件，测量两内操针之间的电位差，引人与试样几何形软有关的修正因子，计算出薄层电阻。覆盖膜 导电高分子膜，高、低温电热膜 隔热、导电窗膜 导电(屏蔽)布、装饰膜、装饰纸 金属化标签、合金类箔膜 熔炼、烧结、溅射、涂覆、涂布层，电阻式、电容式触屏薄膜 电极涂料，其他半导体材料、薄膜材料方阻测试采用四探针组合双电测量方法，液晶显示，自动测量，自动量程，自动系数补偿.高集成电路系统、恒流输出；选配：PC软件进行数据管理和处理.双电测数字式四探针测试仪是运用直线或方形四探针双位测量。

MPI TS2000-IFE 是一个自动化探针台，可以从使用一开始或在测试领域内任何需要时转换为带有 Waferwallet MAX 的全自动探针台。主要应用在负载拉动、RF、mmW、硅光子学、设计验证（产品工程）或在定义的测试环境中测试 MEMS 和其他传感器。MPI 同时推出用于太赫兹应用的 200 毫米自动探针台系统MPI 提供其200 mm TS2000-IFE THZ-Selection 自动探针台系统。THZ-Selection 是一种专用的射频、毫米波、太赫兹和负载牵引探针台，在 -60 至 300 oC 的宽工作温度范围内不会影响测量方向性。它基于 MPI 最通用的 200 毫米平台 - TS2000-IFE 系列。200 毫米晶圆的自动化在片测试探针台系统常用来执行以下操作：无需额外的 S 波段波导，尤其是在亚太赫兹或太赫兹范围内。最小化负载牵引应用的信号路径并提供最宽的调谐范围和最高GAMMA。切换频段时操作简单方便。MPI 专有的 IceFreeEnvironment 技术允许 THZ-Selection 在微定位器和探针卡的帮助下在负温度下运行。该测试系统能够通过具有可编程微观运动的集成探针控制提供晶圆级可靠性。主动隔振缓冲了测试过程中振动误差的发生。这些功能支持自动化测试，没有任何错误余地，并且具有可验证的准确性。

导体材料电阻率测试仪GB/T 11073硅片径向电阻率变化的测量方法提要探针与试样压力分为小于0.3N及0.3 N¯ 0.8N两种。以下文件中的条款通过本标准的引用商成为本标准的条款。但凡注日期的引用文件，其随后所有的修改单(不包括订正的内容)或修订版均不适用于本标准，然而，鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的新版本。但凡不注日期的引用文件，其新版本适用于本标准。GB/T 1552硅、储单晶电阻率测定直排四探针法样品台和操针架样品台和探针架应符合GB/T152 中的规定。样品台上应具有旋转360"的装置。其误差不大于士5"，测量装置测量装置的典型电路叉图1，范围本标准规定了用直排四探针测量硅外延层、扩散层和离子注入层薄层电阻的方法。本标准适用于测量直径大于15.9mm的由外延、扩散、离子注人到硅片表面上或表面下形成的薄层的平均薄层电阻。概述：采用四端测量法适用于生产企业、高等院校、科研部门，实验室；是检验和分析导体材料和半导体材料质量的工具。可配置不同测量装置测试不同类型材料之电阻率。液晶显示，温度补偿功能，自动量程，自动测量电阻，电阻率，电导率数据。恒流源输出；选配：PC软件过程数据处理和标准电阻校准仪器，薄膜按键操作简单，中文或英文两种语言界面选择，电位差计和电流计或数字电压表，量程为1mV¯ 100mV,分辨率为0.1%，直流输入阻抗不小250μm的半球形或半径为50 μm~125 μm的平的圆截面。探针(带有弹簧及外引线)之间或探针系统其他部分之间的绝缘电照至少为10°Ω.探针排列和间距，四探针应以等距离直线排列，探针阀距及针突状况应符合GB/T 552 中的规定。R=1(R +R, )…………………………(3)R2=与(R +R，)计算试样平均直径D与平均操针间距S之比，由表3中查出修正因子F，也可以见GB/T11073中规定的几何修正因子。 9.4计算几何修正因子F，见式(4)。对于薄层厚度小于3μm的试样，选用针尖半径为100μm250μm的半球形探针或针尖率径为50μm~125 pm平头探针，针尖与试样间压力为0.3 N¯ 0.8Ni对于薄层厚度不小于3μ的试样，选用针尖半径为35μm100 pm 半球形操针，针尖与试样间压力不大于 0.3 N.Rr=V R,/V=V/I,…… …

大气压分析探针 (ASAP) 质谱是原位质谱分析技术，用于升级现有的商品化液-质(LC/MS) 联用平台，快速简便分析固体、液体、组织或材料(如聚合材料)样品中挥发性和半挥发性化合物而无需样品制备和分离。 携带样品的 ASAP 探针插放于商品化的质谱离子源的源体内，热的氮气流使样品快速脱附至空气中，经电晕放电离子化产生质子化(正离子方式)或去质子化(负离子方式)离子，随后进行质谱或多级质谱定性、定量分析。ASAP 不干扰同一源体上的电喷雾(ESI)源或 APCI 源的运行，互为补充，且切换即时便捷。该离子化方式尤其适用于高端液质平台，充分展示其多级质谱的选择性碰撞碎裂能力，进行快速(30秒钟以下)鉴定和高灵敏度定量(pg 级)，以及精确质量分析能力，实现复杂混合物中化合物的快速鉴定和定量分析。成功的例子已经包括(但不限于) Bruker Qh-FTMS&trade , Thermo Ortitrap&trade , Waters Synapt HDMS，和 QTOF 等。ASAP 将成为替代现有的 EI/CI 固体分析探针的优选技术。同时，由于 ASAP 将 LC 分离和质谱分析相隔离，对于实现复杂液相色谱分离体系(如使用磷酸盐等非挥发性缓冲盐)的液质联用，将成为可能。 　例如，ASAP 用于轻松观察比较植物叶在正常气候条件下和在寒冷和黑暗条件下的不同化学变化。又比如，聚合物添加物可以 ASAP 快速鉴别，同时，在较高温度下聚合物本身热裂解，更增加鉴定可靠性。 ASAP 还可快速检测生物体液如尿样中的药物而无需样品前处理，或应用于检查钱币上的毒物等。环境污染物比如多环芳烃(PAH)，以及石油中的高馏分成份，均可以ASAP 轻松分析。产品性能：1、可升级 FT-MS、TOF、QTOF、离子阱、Orbitrap，单四极杆、三重四级杆、或其他各种类型的质谱仪2、兼容安捷伦、布鲁克、SCIEX、赛默飞、沃特斯等厂家的 LC-MS 液质质谱仪3、可分析液体、粘液、固体、粉末样品4、无需繁杂的样品制备和耗时的色谱分离5、样品分析在 30 秒内完成6、采用氮气为载气，无需消耗化学溶剂，无需处理化学废液，为“绿色”检测技术7、无需流动相，无需色谱设备及分离用消耗品（如色谱泵、色谱柱、进样器、试管）8、可供调节的实验参数少，简便易学9、不干扰 ESI 和 APCI 离子化。同一源体可安装 ASAP 和 APCI（或 ESI）离子化探针10、载气（氮气）流速取决于质谱仪随机携带的 APCI 源的氮气流速，通常为2.0-6.0 L/分之间（可依质谱仪型号不同而有所不同） 11、放电电压：利用质谱仪随机携带的 APCI（或ESI）源的放电电压12、气体加热：利用质谱仪随机携带的 APCI（或ESI） 源的加热传感功能，通常为 25℃ - 500℃（取决于自带源的温度范围）13、质量范围：取决于质谱仪本身的质量范围，通常为 5～3000 amu14、检测限：取决于质谱仪本身的灵敏度，通常为 1-10 pg 绝对量或 ppb 级浓度15、调节式探针：可调节电绝缘样品管的伸出幅度，便于灵敏度调谐16、无真空切换，样品分析在常压下进行17、工作环境条件：工作电压：230V,+/-10V；操作环境温度：10-400℃18、该仪器不属于含放射源设备或射线装置制造厂商：IonSense，Inc.（美国），大中华区代理为华质泰科生物技术（北京）有限公司。

概述：采用四端测量法适用于生产企业、高等院校、科研部门，实验室；是检验和分析导体材料和半导体材料质量的工具。可配置不同测量装置测试不同类型材料之电阻率。液晶显示，温度补偿功能，自动量程，自动测量电阻，电阻率，电导率数据。恒流源输出；选配：PC软件过程数据处理和标准电阻校准仪器，薄膜按键操作简单，中文或英文两种语言界面选择，电位差计和电流计或数字电压表，量程为1mV¯ 100mV,分辨率为0.1%，直流输入阻抗不小250μm的半球形或半径为50 μm~125 μm的平的圆截面。探针(带有弹簧及外引线)之间或探针系统其他部分之间的绝缘电照至少为10°Ω.探针排列和间距，四探针应以等距离直线排列，探针阀距及针突状况应符合GB/T 552 中的规定。R=1(R +R, )…………………………(3)R2=与(R +R，)计算试样平均直径D与平均操针间距S之比，由表3中查出修正因子F，也可以见GB/T11073中规定的几何修正因子。 9.4计算几何修正因子F，见式(4)。对于薄层厚度小于3μm的试样，选用针尖半径为100μm250μm的半球形探针或针尖率径为50μm~125 pm平头探针，针尖与试样间压力为0.3 N¯ 0.8Ni对于薄层厚度不小于3μ的试样，选用针尖半径为35μm100 pm 半球形操针，针尖与试样间压力不大于 0.3 N.Rr=V R,/V=V/I,…… … 测量装置测量装置的典型电路叉图1，范围本标准规定了用直排四探针测量硅外延层、扩散层和离子注入层薄层电阻的方法。本标准适用于测量直径大于15.9mm的由外延、扩散、离子注人到硅片表面上或表面下形成的薄层的平均薄层电阻。硅片基体导电类型与被测薄层相反。适用于测量厚度不小于0.2 μm的薄层，方块电阻的测量范围为10A-5000n.该方法也可适用于更高或更低照值方块电阻的测量，但其测量准确度尚未评估。使用直排四探针测量装置、使直流电流通过试样上两外探件，测量两内操针之间的电位差，引人与试样几何形软有关的修正因子，计算出薄层电阻。覆盖膜 导电高分子膜，高、低温电热膜 隔热、导电窗膜 导电(屏蔽)布、装饰膜、装饰纸 金属化标签、合金类箔膜 熔炼、烧结、溅射、涂覆、涂布层，电阻式、电容式触屏薄膜 电极涂料，其他半导体材料、薄膜材料方阻测试采用四探针组合双电测量方法，液晶显示，自动测量，自动量程，自动系数补偿.高集成电路系统、恒流输出；选配：PC软件进行数据管理和处理.

详细信息：仪器简介：来自奥林巴斯的3D测量激光显微镜LEXT OLS4500是结合了传统光学显微镜、激光扫描显微镜（LSM）以及探针扫描显微镜（SPM）功能一体机，可以满足不同样品的观测需求。LEXT OLS4500可以轻松实现毫米到纳米的观察和测量，放大倍率由几十倍到高达百万倍。找到观测目标后，可以在光学显微镜模式、激光显微镜模式和探针显微镜模式之间自由切换而不用担心目标消失。可以使用探针显微镜快速而正确的完成观察。 特征及优势： 结合光学显微镜、激光显微镜、探针显微镜为一体，拥有各自的特长，三种模式可自由转换，无需重新放置样品。探针显微镜拥有多种观察模式（基本模式：接触模式、动态模式、相位模式；选项模式：电流模式、表面电位模式、磁力模式）可以观察、测量样品表面的形状，还可以进行物性分析。涵盖了低倍观察到高倍观察的4种物镜，并在电动物镜转换器上装配了SPM单元，可以无缝切换倍率和观察方法，而且能进行纳米级观测。采用装在电动物镜转换器上的物镜型SPM侧头。同轴、共焦配置了物镜和微悬臂前端，所以切换SPM观察时不会丢失观察目标点。被精确调整过的电动物镜转换器、SPM侧头、微悬臂支架，只需把已调好的微悬臂位置的支架插入SPM侧头中，即可完成微悬臂的更换，提高了观察和测量的效率。具有向导功能，操作简单，可迅速获得测量结果。应用实例：1、高分子薄膜 2.铝合金阳极氧化膜 3、DVD表面 4、维式硬度计压痕 5、TiO2单结晶电路板 6、IC元件圆孔彩色印刷 a1、光学显微镜 a2、SPM a3、SPM形态分析乳酸菌 b1、LSM b2、SPM b3、SPM截面形状分析墨粉粒子 c1、LSM c2、SPM c3、SPM截面形状分析

布鲁克（BRUKER）探针不为您当前的应用提供所需的结果，同时也能为将来的研究提供参考数据。AFM配件，原子力探针，AFM探针，原子力探针针尖，显微镜探针针尖，原子力针尖，原子力显微镜探针针尖，接触探针，纳米压痕探针，氮化硅探针，硅探针，热探针，超尖探针，电子探针，显微镜针尖，原子力显微镜针尖，轻巧模式探针，AFM针尖，接触式探针，磁性探针，导电探针，显微镜探针，探针，布鲁克探针，原子力探针，BRUKER PROBE，AFM PROBE，BRUKER探针，原子力显微镜探针，AFM探针，VEECO探针

迈锐MPS系列磁探针站是目前市场上唯一能够提供任意二维或三维外加磁场方向的探针站，是自旋电子器件表征和自旋电子研究的终极解决方案。MPS系列磁探头站是市场上唯一提供晶圆级矢量磁场探测的探头站，使这些系统非常适合在生产环境中测试自旋电子和磁电子设备。完全可定制的、开源的、基于labview的控制软件，可轻松集成最常见的测试和测量设备。可提供高分辨率微定位器，配有40,80,100和200TPI螺钉，可用于微米级探针定位。收集和/或分析的数据具有广泛的输出格式和可用选项。系统提供三维霍尔探头，通过闭环控制提供无与伦比的稳定性和应用磁场的准确性。MPS-C-300和MPS-C-350磁探头系统是世界上第一个能够在被测设备周围提供三维磁场控制的探头站。MicroXact真正独特的正在申请专利的设计使自旋电子器件，纳米级电子器件以及许多其他需要磁场进行精确测试和测量的材料和器件的晶圆级测试成为可能。自旋电流和自旋转矩振荡器测试，磁模拟和复杂多层结构的各向异性识别只是我们的MPS系统应用的几个例子。磁场可以以三种模式被任意控制:固定的值, 线性扫描, 或者用户可以自定义。 Wafer size：10mm，可升到200mm 磁场：方向任意三维大6kOe (0.6T) 定向精度+/- 1.0 在10mm直径范围内的均匀性+/- 2% 稳定性优于0.1% 频率范围：DC to ~ 67GHz 分辨率：200mG CHUNK: Isolated, grounded or coaxial. 运动范围:100mm x 100mm 集成MPS系列软件，可在完全可控的三维磁场中快速、简便地捕获图像/视频。

±1μm精度探针座 适用于I-V/C-V测试的微型定位器 CINDBEST CB-40 -T| 适用于I-V/C-V测试的微型定位器 特点/应用 ◆ 适用于I-V/C-V测试的微型定位器◆ 单线操作结构，占用更小面积，可将定位器靠近放置◆ 高刚性结构，弹簧消隙X-Y-Z，稳定无间隙◆ 线性移动，磁性吸附◆ 30度倾仰调节机构◆ 可搭配同轴/三轴探针夹具使用◆ 80牙/英寸 探针座 规格参数 型号：CB-40-T 尺寸：96（L）*52（W）*76mm（H） X-Y-Z移动行程：12mm*12mm*12mm 调节精度：2um 固定方式：磁性吸附 重量：350g