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纳米涂层测厚仪

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纳米涂层测厚仪相关的耗材

  • 铁基涂层测厚仪,非铁基涂层测厚仪CM-8822
    铁基/非铁基涂层测厚仪CM-8822 一、应用概述 用磁性传感器测量钢、铁等铁磁质金属基体上的非铁磁性涂层、镀层,例如:漆、粉末、塑料、橡胶、合成材料、磷化层、铬、锌、铅、铝、锡、镉、瓷、珐琅、氧化层等。用涡流传感器测量铜、铝、锌、锡等基体上的珐琅、橡胶、油漆、塑料层等。广泛用于制造业、金属加工业、化工业、商检等检测领域。 二、功能参数 1、功能:测量导磁物体上的非导磁涂层和非磁性金属基体上的非导电覆盖层的厚度 2、测量范围:0-1000um/0-40mil (标准量程) 3、曲面不小于:F: 凸1.5mm/ 凹 25mm N: 凸 3mm/ 凹 50mm 4、分辨率:0.1/1 5、测量面积不小于:6mm 6、基底不小于:0.3mm 7、自动关机 8、使用环境:温度:0-40℃ 湿度:10-90%RH 9、准确度:±(1~3%n)或±2um 10、电源:4节5号电池 11、电池电压指示:低电压提示 12、外形尺寸:161×69×32mm 13、重量:210g(不含电池) 14、可选附件:可定制量程(大量程传感器)可选:0-200um to 18000um 铁基/非铁基涂层测厚仪CM-8822
  • MINITEST600-N 涂镀层测厚仪
    MINITEST600-N 涂镀层测厚仪一、 MiniTest 600涂层测厚仪产品名录 MiniTest 600 系列涂层测厚仪产品主要包括两种小类型:MiniTest 600B和MiniTest 600,每种小类都可分为F型、N型、FN型三种,因此600系列测厚仪共有6种机型供选择。600B型与600型的最大区别就是600B是基本型,没有统计功能。 涂层测厚仪MiniTest600型号选择 MiniTest 600BF3(铁基体基本型,无统计功能和接口) MiniTest 600BN2(非铁基体基本型,无统计功能和接口) MMiniTest 600BFN2(两用基本型,无统计功能和接口) MiniTest 600F3(铁基体统计型) MiniTest 600N2(非铁基体统计型) MiniTest 600FN3(两用统计型) 二、 MiniTest 600涂层测厚仪的测量原理及应用 F型测头是根据磁感应原理设计的,主要测量钢铁基体上的非磁性涂镀层。例如:铝、铬、铜、锌、涂料、橡胶等,也适用于合金和硬质钢。 N型测头是根据电涡流原理设计的,主要测量非铁磁性金属和奥氏体不锈钢上的涂层。例如:铝、铜、铸锌件上的涂料、阳极氧化膜、陶瓷等。 FN型测头是同时利用磁感应原理和电涡流原理设计的,一个测头就可完成F型和N型两种测头所能完成的测量。 三、 MiniTest 600涂层测厚仪的测量中的相关注意事项 测量前一定要在表面曲率半径、基体材料、厚度、测量面积都与被测样本相同的无涂层的底材上较零,才可以保证测量的精确性; 每次测量之间间隔几秒钟以保证读数的准确性; 喷砂、喷丸表面上的涂层也可以测量,但要严格按照说明书的校准步骤进行校准; 不要用力拽或折测头线,以免线断; 严禁测量表面有酸、碱溶液或潮湿的产品,以免损坏测头; 测量时测头轴线一定要垂直于被测工作表面; 每次测量应有大于3秒的时间间隔。 四、 MiniTest 600涂层测厚仪的技术参数 测量范围 F型 0-3000um N型 0-2000um FN型(两用型) 0-3000um(F),0-2000um(N) 允许误差 ± 2um或± 2-4%读数 最小曲率半径 5mm(凸)、25mm(凹) 最小测量面积 &Phi 20mm 最小基体厚度 0.5mm(F型)、50um(N型) 测量单位 Um-mils可选 显示 4位LED数字显示 校准方式 标准校准、一点校准、二点校准、基础校准(华丰公司内) 统计数据 平均值、标准偏差、读数个数、最大值、最小值 接口 RS-232(不适合B型) 电源 2节5号碱性电池 仪器尺寸 64mmX115mmX25mm 测头尺寸 &Phi 15mmX62mm 五、 MiniTest 600涂层测厚仪的标准配置 主机和指定型号的测头一体; 5号碱性电池两节; 零板和厚度标准箔; 中英德文操作手册各一本; 六、 MiniTest 600涂层测厚仪的可选配置 便携箱; 橡胶套; 打印机MiniPrint 4100; RS-232数据接口电缆; 精密支架 数码显示器背光照明。 七、MiniTest 600涂层测厚仪的符合标准 DIN 50981,50982; ASTM B499,E367,D1186,B530,G12 BS5411 DIN EN ISO 2178,2361 八、 MiniTest 600涂层测厚仪的关于校准 标准校准:适合平整光滑的表面和大致的测量。 一点校准:置零,不用标准箔。用于允许误差不超过4%的场合。 两点校准:置零,用一片标准箔。用于误差范围在2-4%之间的测量 特殊的基础校准:此校准只能在华丰公司进行。 九、 MiniTest 600涂层测厚仪的一般维修 如果出现E03、E04、E05则一般要换探头系统+PCB板; 如果主板不上电,在排除电池原因后一般要更换主板或更换键盘; 测值不稳定,可认为探头系统频率不稳定,一般要更换探头系统; 在显示系统不能正常显示时,可更换显示系统; 更换电缆时,一定要保证电缆长度不小于1m;
  • 彩涂湿膜测厚仪234型 -德国仪力信
    彩涂湿膜测厚仪234型 -德国仪力信简单介绍大量应用与彩涂及胶水行业油漆湿膜的测量234型湿膜测厚仪是德国Erichsen(仪力信)漆膜测厚仪,包含型号:234R/I,234R/II,234R/III,234R/IV,234R/V,234R/VI,234R/VII,234R/VIII。仪器由两个经硬化和研磨的钢轮及其中间的一个偏心轮盘组成.把仪器在湿膜上滚动,然后从偏心轮沾有油漆的部份读得漆膜的厚度.可测量0-1500微米的厚度,共有8个测量范围.234型湿膜测厚仪|漆膜测厚仪|德国Erichsen(仪力信)的详细介绍234型湿膜测厚仪符合DIN,EN ISO,ISO,ASTM,BS,NF.标准。234型湿膜测厚仪|漆膜测厚仪|德国Erichsen(仪力信) 特点膜厚测量在油漆和涂料的使用和检测中起一个重要的作用。在决定外观、保护性能和持久性能时,膜厚是一个决定性的因素。涂膜太薄不能提供足够的保护并减少遮盖力。因此,必须执行技术规格所规定的最小厚度并确保这些值的一致性。另一方面,过厚的涂层是使用了太多涂料的结果,相应地增加了成本。而且,较厚的涂层并不总是意味着性能提高,如它们在干燥时间方面会有一个负面的影响。涂层的物理和机械性能取决于漆膜的厚度。如果要执行的是有意义的测试,膜厚必须均匀。湿膜测厚仪用于检查刚刚涂上的涂料,也可用于计算干膜厚度结果。如果测量与指定值有误差,必须立即采取措施改正。机械式测厚仪有一系列优点:便携、操作简单、非技术人员也可使用。结构坚固,读数一目了然。测量可在任何表面上进行。因为全部机械式,故可适用于玻璃、木材、金属或塑料基材。与其它类型的测厚仪比较,机械式测厚仪具有更好的价格。应用用于所有的平面或均匀曲面 ( 凹面和凸面 )测试原理碟形测量仪器(图 1 )在湿膜表面滚动。在此过程中两个滚花,对中轮缘( 1 )在基材上滚过,当轮缘到凸轮的距离等于被测湿膜厚度时偏心凸轮( 2 )则会粘上涂料。设计和功能加硬、精确磨制的不锈钢测量盘直径为 50 mm ,厚 11 mm 。它包含一个铝制自由旋转滚轮使仪器能在表面滚动。 共有 8 种不同型号和测量范围 ( 见订货信息 ) 。读数刻度刻在盘的一侧,每一个仪器配一个盒子。测量程序测量 1用姆指与食指捏住仪器的导向滚轴 , 将仪器放在测试表面上,使接触点与零线相反。轻压滚动,使仪器向零线滚动,再提起。测量 2 (验证)仪器放置位置如 1 ,但以相反的方向旋转,直到它达到零线。湿膜厚度以湿膜记号出现处读出,并与相对的一侧比较,求出平均值。234型湿膜测厚仪|漆膜测厚仪|德国Erichsen(仪力信) 订货信息订货号型号测量范围读数精度0071.01.31234 R/I0~25 μm1 μm0071.02.31234 R/II0~50 μm2 μm0071.03.31234 R/III0~125 μm5 μm0071.04.31234 R/IV0~250 μm10 μm0071.05.31234 R/V0~500 μm20 μm0071.06.31234 R/VI500~1000 μm20 μm0071.07.31234 R/VII0~1000 μm50 μm0071.08.31234 R/VIII0~1500 μm50 μm
  • PosiTest DFT 测厚仪
    PosiTest DFT 测厚仪以下行业使用效果理想粉末涂料涂装员涂层检测员涂装承包商汽车修补行业 2种型号&hellip Ferrous (F型针对铁性基材)Combo(复合型针对所有金属基材)就是测量 PosiTest DFT 涂层测厚仪 两款型号PosiTest DFT Ferrous:测量铁性基材(钢和铸铁)上的非磁性涂层PosiTest DFT Combo:测量铁性基材(钢和铸铁)上的非磁性涂层和有色金属(铜,铝等)上绝缘涂层。测量时自动分辩底材。 仪器特点测量快速,重复性好大部分材料上无需校准调零功能可应用在粗糙不平的表面及曲面上无法调零时可使用方便的重启功能坚固耐磨损的红宝石探头测量时听觉和视觉的双重指示探头上的 V 型槽方便测量圆柱型表面密尔 / 微米单位转换每个仪器的背面都有基本的操作说明 仪器规格测量范围0 - 40 mils0 - 1000 um精 度± ( 0.1mils + 3%)± ( 2um + 3%)尺 寸4 × 1.5 × 0.9 in100 × 38 × 23mm重 量2.5 oz70 g 仪器包括内置探头,标准塑料片,坚固的存放盒,1 x AAA 电池,说明书 和 一年质保符合以下标准: ISO2178 / 2360 / 2308 prEN ISO19840 ASTM B244 / B499 / B659 / D1186 / D1400 / E376 / G12 S3900-C5 SSPC-PA2 及其他。
  • Altechna 双AR涂层窗口片(DAR)
    双AR涂层窗口片(DAR)直径公差+0/-0.1 mm厚度公差±0.1 mm通光孔径90%表面质量20-10 S-D表面厚度保护性倒角测量反射率RRavg涂层附着力和耐用性Per MIL-C-675A激光损伤阈值报告www.altechna.com/lidt通常这些涂层用于多频激光输出系统(例如倍频)。该涂层在两个不同的波长下提供非常高的透射率。下面显示了适用于1064nm和532nm输出的普通激光系统的AR涂层的典型波长和反射曲线。离子束溅射(IBS)或电子束蒸发(带/不带离子辅助涂层技术)提供涂层。这些涂料被设计用于增加广谱的透射率Altechna计量实验室应用以下产品检验:目视检查 - 根据MIL 13830和ISO 10110标准进行表面质量评估尺寸 - 测量几何尺寸,如直径,厚度等透射率(分光光度计,激光)*反射(分光光度计,激光)平坦度(干涉仪)波前畸变(干涉仪)平行度(测角仪,干涉仪)*(...)使用的设备Altechna在标准,定制或客户提供的光学器件上提供各种高性能光学镀膜。我们的涂料覆盖从深紫外(193纳米)到远红外(25微米)的波长范围,涂层的zui大部分是在波长范围内最常见的266纳米到2微米的激光和照明光源。我们根据个人要求提供一套标准和定制涂料:?防反射涂层?高反射涂层?分束器涂层?部分反射涂层?偏光片涂层?过滤涂料?超快GDD补偿涂层?Gires-Tournois干涉镜(GTI)?可变反射镜?金属涂层在Altechna,我们的目标是以zui高的标准为不断增长的光子市场提供高损伤阈值,高质量涂层。每个涂层都是特殊的,多年来在光电领域,我们了解到灵活性是满足客户高要求的关键,因此我们的涂层采用不同的技术,分别选择不同的涂层。这里是我们在Altechna提供的涂层技术列表:?电子束蒸发?离子辅助沉积?离子束溅射?磁控溅射每种技术都是不同的,并根据光谱灵敏度,损伤阈值,硬度,表面质量等的要求使用。电子束蒸发离子辅助沉积离子束溅射磁控管溅射沉积速率10 ?/sec~10 ?/sec~3 ?/sec1-6 ?/sec每次涂布面积3000 cm23000 cm2500 cm22000 cm2导热系数LowMediumHighHigh涂层温度范围200 - 300°C20 - 100°C20 - 150°C20-100°C层数1-50~50200Up to 200密度和孔隙度PorousDenseNear bulkNear bulk粘连/耐久性LowGoodExcellentExcellent湿度敏感性YesYes, smallNoNo老化影响YesYes, smallNoNo内在应力~ 100MPaFew 100MPaFew 100 MPa定制你可以根据您的需求定制这个产品。如果您没有找到适合您的应用,请与我们联系,以便定制解决方案。
  • PosiTector 200型 测厚仪
    PosiTector 200型 测厚仪,适用于木材、混凝土、塑料等基材用于测量木材、混凝土、塑料等基材上涂层厚度。高级型:最多测量3层并带有图形显示应用成熟的超声波技术在许多行业无损测量涂层厚度,如混凝土、木材、复合材料等价格低廉使用简单非破坏性PosiTector 200 超声波测厚仪使用简单,价格低廉而且是非破坏性。可用于测量木材,混凝土及其它基材上涂层厚度。 简 单 直接测量,测量大多数涂层时无需调校菜单操作双色指示灯,适于嘈杂环境重置功能可以即时恢复出厂设置 耐 用 耐溶剂、酸、油、水和灰尘,防护等级满足或超出IP5X显示屏耐划伤/溶剂,适用于恶劣环境防震保护橡胶皮套,带皮带夹主机与探头两年保修 精 确 灵敏传感器,使测量迅速且准确(最多40个读数/分钟)成熟的无损超声波技术,符合ASTM D6132与ISO 2808标准校准证书可追溯NIST 多种功能 连续显示/更新平均值、标准偏差和测量次数内部存储最多10000个数据,最多可分1000组内置时钟可对存储的结果标注时间、日期输出提供USB、红外和串行接口,可与打印机和电脑进行简单通讯背光显示,可用于阴暗环境英制/公制两种单位,可相互转换多种显示语文选择 可选配件 - 标准片&mdash &mdash 符合 ISO 和其它质量标准- PosiSoft 分析软件:可以输入注释可以打印和显示基本的数据分布图和直方图可以输出到一个文件或试算表中提供连接打印机和计算机的数据线红外打印机 - 使用电池和红外线接收数据 整套包括 耐用的携带,3节AAA电池、说明书、具有NIST可追朔性的校准证书,保修一年。尺寸:146 x 64 x 31mm重量:105g(不含电池)1. 阅读容易,防划花,液晶显示2. 指示灯在噪音环境中,方便确认读数3. 红外线接口用于无线打印4. RS232 接口用于下载5. 坚固外壳,耐溶剂、酸、油、水和灰尘6. 压力恒定,探头测量面为塑料,不会划伤测量面7. 舒适把手,减少操作人员的疲劳8. 柔软连接线 技术参数 B/标准B/高级C/标准C/高级量 程13-1000um0.5-40mils 25-1000um分辨率 0.1mils2um精度 ± 0.1mils + 3% 读数± 2um +3% 读数测量速度 45 读数 / 分钟
  • 超声波测厚仪DM4
    超声波测厚仪DM4Krautkramer超声波测厚仪DM4系列,小巧轻便,操作简单,功能卓越。其中DM4测厚仪和DM4DL测厚仪特有的DUAL-MULTI模式--即测量穿过涂层的操作模式,在被测物表面有油漆时,无需去除油漆而测量材料的净厚度。 基本型-DM4E超声波测厚仪 - 可配标准、超厚、超薄和高温探头 - 自动探头识别、V声程校正、零位校正 - 带最小读数显示和存储的最小测量模式 标准型-DM4超声波测厚仪 在DM4E测厚仪基础上附加以下功能 - 穿过涂层测量厚度的操作模式 - 在不同模式的壁厚测量 - 极值LED报警 存储型-DM4DL超声波测厚仪 在DM4测厚仪基础上附加以下功能 - 数据记录仪可存储5390个数据 - RS232接口可接打印机和计算机 超声波测厚仪DM4E/DM4/DM4DL技术参数 测量范围 分辨率 声速 测量刷新速率 显示 存储 接口 电源 操作温度 尺寸 重量 0.6~300mm(铁) 小于99.99mm时为0.01mm;大于99.99mm时为0.1mm; 1000~9999m/s 标准4Hz,最小测量模式时为25Hz 4位LCD背光数显 5390个读数(只适用于DM4DL) RS232接口(只适用于DM4DL) 两节5号电池,无背光时可使用200小时 -10~50℃ 146x76x34mm 255g 超声波测厚仪DM4E/DM4/DM4DL常用探头技术数据 名称 型号 测量范围 频率 探头接 触直径 工作温度 测量最小 钢管直径 探头线型号 标准探头 DA301 1.2~200mm 5MHz 12.1mm -20~60℃ 25mm DA231 超厚探头 DA303 5.0~300mm 2MHz 16.2mm -20~60℃ 127mm DA231 超薄探头 DA312 0.6~50mm 10MHz 7.5mm -20~60℃ 20mm DA235 超薄探头 DA312B16 0.7~12mm 10MHz 3.0mm -20~60℃ 15mm 自带导线 高温探头 DA305 4.0~60mm 5MHz 16.2mm 10~600℃ DA235 高温探头 HT400 1.0~254mm 5MHz 12.7mm 10~540℃ 50mm KBA535 注: 所示温度为厂家理想状态试验所得,实际温度会低于此温度。注意高温耦合剂的正确使用方法。 测试高温表面时需用高温耦合剂。 标准配置 主机 DA301探头 DA231导线 耦合剂 两节5号电池 仪器软包 中英文说明书 仪器箱
  • PosiTector 6000型测厚仪
    PosiTector 6000型 测厚仪,适用于金属基材大型易读液晶显示,菜单式使用者界面即时自动设定3键式操作自动关机,连体探头式,还可自动开机平均置零,利于在粗糙面上置零重置功能可迅速将测厚仪还原到出厂状态仪器背面有简要说明耐 用耐磨的蓝宝石探头耐酸、耐油、耐溶剂、 防尘、防水读数不受振动影响一年保修期精 确每台仪器都有校准证书,符合NIST标准可达到极高的精度(请参阅背页的订货指面)可提供校准程序和标准板符合美国和国际标准性能卓越密耳/微米/毫米(Mils/Microns/mm)单位转换易于调整到任意已知厚度多种探头多国显示语文: 英文、西班牙文、法文、德文、葡萄牙文、意大利文、日文、中文背景发亮的显示屏,在黑暗的环境使用更觉方便灯光提示:便于在嘈杂的环境中确定已获得测量结果。反转显示:独有的反转显示,无论手持测厚仪还是放置在工作台上,阅读都很方便。连体探头:便于单手操作标准型(1)具有左边所列的所有特点。统计型(2)具有标准型所有功能,且读数超出设定范围时有声光提示。测量时不断更新和显示平均值、标准偏差、最大/最小厚度值及测量次数HI-RES模式:高精度测量时可增加读数分辨率可设定内部自动关机时间储存多至250个读数内置红外线界面,可打印至廉价的无线红外打印机分离探头各款探头可互,提供更多样化的测试。标准版可在多种不同厚度上验证仪器出自NIST的标准包含有校准证书配备安全、方便的贮存袋记 忆远红外打印机和PosiSoft软件只在记忆型中可用。建立/注释/编辑分组、零件、操作者、应用名称等可存入仪器记忆中。存贮达16000个数据,可分为最多1000组配备RS-232连线可将数据输入Windows平台的电脑,串行打印机或数据收集仪等。奉送PosiSoft分析软件,在Windows平台的电脑上运行。内置式远红外打印接口接打印机。PosiSoft 软件-在 Windows 上运行,功能强大,易学易用。当选择记忆型时,软件无需额外费用,随机奉送。从PosiTector 100型读取数据容易。用该仪器及可修改电脑用户、零件分组及建立说明、解释等。显示、资料、图形数据等可达5层膜厚。图表可表示单个涂层也可显示总厚度。可打印基本图表及柱形图。提供数据和时间资料。使用一般格式如ASCⅡ可将数据存入电脑。理想的涂层厚度监控及分析应用软件。记忆型 (3) 具有 (1) 和 (2) 型功能,且储存10000个读数,可分成200组SSPC PA-2功能,计算一组平均读数的平均值读数可即时输出,也可先行储存待日后处理提供用于Windows环境的PosiSoft统计分析软件提供RS-232串行线,用于向个人电脑、串行打印机或数据采集器输送数据可储存多种不同较准数据以配合测量各款不同基材储存在记忆里的各组读数,可再分细组、查阅、更新或删除 ]内置时钟,每个储存的读数均加上日期和时间标签PosiSoft for Windows功能强大 使用简单订购记忆型(3)随机附送易于从仪器收集数据可输入提示说明显示和打印图表使用通用格式储存数据如ASCII码方便监视和分析膜层厚度支援多种语文分离探头各款分离探头可互换每个分离探头均附可追溯至NIST的证书镀金的耐用带锁接头适用于工业环境优质柔性防破损连线加长线(可达75米)便于远程测量所有标准探头均可在水下使用所有恒压探头均采用V型槽和倒角定位便于测量管子里外微型探头(铁性基材或有色金属)用于细小及难到达的表面,有0o 、45° o、90° o三种配置各种不同的探头可适用极广的应用范围° 可拆卸的辅助器微型探头转换为恒压° 可将0探头,测量细小的平面或曲面无线打印机(2) 型或 (3) 型机无须接头或连线便可将数据传递给红外线打印机 ( 电池驱动 / 谦价的选购件 )独特的复合型(FN)探头不须更换探头可测量所有金属表面自动识别铁/有色金属表面减少误操作影响可测量钢上的镀锌层,铝上的氧化膜,金属上的涂层、钢上的铬层等等。特有的&ldquo N-LOCK&rdquo 功能可测量略带磁性基材,如镀镍的铜基材镀金层上的透明涂层提供连体探头和分离探头配置测量粉末涂层的理想之选记忆型(3)仪器,在分组模式下的显示样本测量读数可分 ( 至 200) 组Batch1 Cal n5021.00x3.61 &sigma 42.0x20.1 &darr F 20.1显示 铁/有色金属基材多用途:从微小元件的薄镀层、、、、到大尺寸的厚涂膜探头/ 部件固定基座、、、确保测试零部件时,可准确的重覆定位 双重用途探头盖连体探头型号的探头保护盖带有 V 型槽 , 在敞开时使仪器测量时更为稳定。&larr 多个基材较准资料&larr 即时统计资料&larr 字体大,醒目的测量读数 订货指南探头(每个仪器仅带一个探头,需要额外探头需另行购买)大量程 NHS 大量程 FHS所有仪器包括 :有皮带扣的、标准塑料片、3节AAA电池、使用说明书、手带(只限连体探头型号)、证书(NIST)、一年期保修。 记忆型( 3)还包括 :用于Windows平台的统计及分析软件PosiSoft,RS-232接线及携带箱。加长线(可达 75m/250ft )适于水下或远程测量,请在订货时注明。 尺寸 :147x61x5mm(5.8x2.4x1寸)重量 (不带电池):170g(6盎士) 符合以下标准 :ISO 2178 /2360 / 2808 prEN ISO 19840, ASTM B499 /D1186 /D1400 BS3900 Part C5 SSPC-PA2及其他.
  • DM4超声波测厚仪
    德国K.K超声波测厚仪DM4的具体介绍: 德国K.K(KrautKramer)公司超声波测厚仪DM4系列,小巧轻便,操作简单,功能卓越。其中DM4和DDSM4DL特有的DUAL-MULTI模式--即测量穿过涂层的操作模式,在被测物表面有油漆时,无需去除油漆而测量材料的净厚度。 DM4E基本型29000元 德国产品,质量保证 可配标准、超厚、超薄和高温探头自动探头识别、V声程校正、零位校正带最小读数显示和存储的最小测量模式 DM4标准型附加功能31000元 测量穿过涂层厚度的操作模式在不同模式的壁厚测量极值LED报警 DM4DL存储型附加功能39000元 数据记录仪可存储5390个数据RS232接口可接打印机和计算机 德国K.K超声波测厚仪DM4系列技术参数:   测量范围 0.6~300mm(铁) 分辨率 小于99.99mm时为0.01mm;大于99.99mm时为0.1mm; 声速 1000~9999m/s 声速 标准4Hz,最小测量模式时为25Hz 显示 4位LCD背光数显 存储 5390个读数(只适用于DM4DL) 接口 RS232接口(只适用于DM4DL) 电源 两节5号电池,无背光时可使用200小时 操作温度 -10~50℃ 尺寸 146× 76× 34mm 重量 255g 德国K.KDM4超声波测厚仪系列探头参数 名称 型号 测量范围 频率 探头接触直径 工作温度 使用探头导线型号 标准探头 DA301 1.2-200mm 5MHz 12.1mm 60℃ DA231 超厚探头 DA303 5.0-300mm 2MHz 16.2mm 60℃ DA231 超薄探头 DA312 0.6-50mm 10MHz 7.5mm 60℃ DA235 超薄探头 DA312B16 0.7-12mm 10MHz 3.0mm 60℃ 自带导线 高温探头 DA305 4.0-60mm 5MHz 16.2mm 600℃* DA235 高温探头 HT400 1.0-254mm 5MHz 12.7mm 540℃* KBA535
  • 光学薄膜测厚仪配件
    教学型光学薄膜测厚仪配件是一款低价台式光学薄膜厚度测量仪,可测量薄膜厚度,薄膜的吸收率/透过率,薄膜反射率,荧光等,也可测量膜层的厚度,光学常量(折射率n和k)。光学薄膜测厚仪配件基于白光反射光谱技术,膜层的表面和底面反射的光VIS/NIR光谱,也是干涉型号被嵌入的光谱仪收集分析,结合多次反射原理,给出膜层的厚度和光学常数(n,k),到货即可使用,仅仅需要用户准备一台计算机提供USB接口即可,操作非常方便。光学薄膜测厚仪配件参数 可测膜厚: 100nm-30微米;波长范围: 300-1000nm 探测器:650像素Si CCD阵列,12bit A/D精度:1%斑点大小:0.5mm 光源:钨灯-汞灯(360-2000nm)所测样品大小:10-150mm, 计算机要求:Windows XP, vista, Win7均可,USB接口;尺寸:320x360x180mm 重量:9.2kg光学薄膜测厚仪配件应用用于薄膜吸收率,透过率和荧光测量,用于化学和生物薄膜测量,传感测量用于光电子薄膜结构测量 用于半导体制造用于聚合物薄膜测量 在线薄膜测量用于光学镀膜测量
  • 纳米石英毛细管
    英诺色谱现提供新型的Polymicro纳米石英毛细管,实现了传统产品一微米尺寸上的突破。 Polymicros的纳米毛细管产品线中管路内径(ID)范围为200至1,000 纳米(0.2至1.0微米)。传统的毛细管产品内径不小于1微米。在纳米毛细管开发之前,对于科学、工业以及医疗界来说,小于 1 微米直径基板的主要选择包括湿式蚀刻或离子铣,这两种技术的成本都极为高昂,相对来说难以采用。 Polymicro的毛细管建立在行业领先的功能之上,在小于1微米的尺寸内可以实现高性价比的高性能毛细管产品。这类毛细管已被证实可作为封装完整性和泄漏试验的基板,还具有单分子研究和分析的潜力。通过SEM验证可以确保对直径的控制。 合成熔融石英具有镜面般光滑的内表面,可实现液体和气体的稳定流动。材料的金属离子含量较低,使内表面产生惰性,便于有效的断裂或切割操作,达到定制的管路长度。此外,管路外部的聚酰亚胺涂层在搬运和使用过程中具有出色的的耐磨性,使管路可用于-65oC至+350oC的温度。 有关科学应用包括分析化学、层析技术、纳米流体力学、直接进样口监控、基于倏逝波吸收的传感,以及同轴光学和射流元件。工业应用则包括管壳泄漏试验、蒸发冷却系统、石油分析以及催化研究。医疗应用包括药物递送、流量控制系统、临床和诊断设备,以及可穿戴式药物递送设备。零件号产品号内径*(nm)外径(μm)涂层厚度(μm)每卷最大包装(m)1068150033TSP000.2375NC200 +200/-100363 ± 1020101068150035TSP000.6375NC600 ± 200363 ± 1020101068150037TSP001.0375NC1000 ± 500363 ± 102010*以线盘标签上标识的实际内径测量尺寸为准。
  • 聚合物薄膜测厚仪配件
    聚合物薄膜测厚仪配件用于测量聚合物薄膜、有机薄膜、高分子薄膜和 光致抗蚀剂薄膜, 光刻胶膜,光刻薄膜,光阻膜在加热或制冷情况下薄膜厚度和光学常量(n, k)的变化。为了这种特色的测量,孚光精仪公司特意研发了专业的软件和算法,使得该聚合物薄膜测厚仪能够给出薄膜的物理化学指标:例如玻璃化转变温度 glass transition temperature (Tg),热分解温度,薄膜的厚度测量范围也高达10nm--100微米。聚合物薄膜测厚仪配件在传统薄膜测厚仪的基础上添加了加热/制冷的温度控制单元,使用白光反射光谱技术(WLRS),实时测量薄膜厚度和折射率,并通过专业软件记录下这些数据,能够快速实时给出薄膜厚度和薄膜光学常量等物理化学性能数据,并且能够控制薄膜加热和制冷的速度,是聚合物薄膜特性深入研究的理想工具。干膜测厚仪所使用的软件也适合薄膜的其他热性能研究,例如:薄膜的热消融/热剥蚀thermal ablation研究,薄膜光学性质随温度的变化,薄膜预烘烤Post Apply Bake,光刻过程后烘烤 Post Exposure Bake对薄膜厚度的损失等诸多研究。对于薄膜的厚度测量,这款聚合物薄膜测厚仪,薄膜热特性测厚仪要求薄膜衬底是透明的,背面是不反射的。它能够处理最高4层薄膜的膜堆layer stacks,给出两个参数:例如两个薄膜的厚度或一个薄膜的厚度和光学常量。这套聚合物薄膜测厚仪,薄膜热特性测厚仪已经成功应用于测量不同聚合物薄膜的热性能,光刻薄膜的热处理影响分析,Si晶圆wafer上的光致抗蚀剂薄膜分析等。聚合物薄膜测厚仪配件参数 可测膜厚: 5nm-150微米;波长范围:200-1100nm 精度:0.5%分辨率:0.02nm 测量点光斑大小:0.5mm可测样品大小:10-100mm计算机要求:Windows XP, vista, Win7均可,USB接口;尺寸:360x400x180mm重量:13.5kg 电力要求:110/230VAC聚合物薄膜测厚仪配件应用聚合物薄膜测量光致抗蚀剂薄膜测量化学和生物薄膜测量,传感测量光电子薄膜结构测量半导体薄膜厚度测量在线测量光学镀膜测量聚合物薄膜厚度测量polymer films测量测量有机薄膜厚度测量光致抗蚀剂薄膜测光刻胶膜测厚测量光刻薄膜厚度测量光阻薄膜测厚测量光阻膜厚度
  • 超高分辨TERS针尖增强拉曼探针/Nano IR纳米红外探针
    NEXT-TIP SL公司成立于2012年,是西班牙研究委员会 (CSIC) 的衍生公司。其生产的TERS针增强拉曼探针和纳米红外探针,基于纳米粒子沉积技术,形成具有可控尺寸和成分的纳米颗粒涂层,具有超高的横向分辨率,大大提高了使用寿命。TERS针增强拉曼探针Next-Tip TERS 探针的出色性能与其形态特征有关。这些探头的设计经过开发,具有优异的 AFM 性能和超强的拉曼信号。突破针增强拉曼探针的限制:&bull 高可靠性,使用户能够专注于样品的表征。&bull 高达3 nm的超高分辨率&bull 超高灵敏度,可获得完全清晰/稳定的光谱,质量优于传统TERS。增强因子和对比度增强系数 (EF) 值是根据探针针的增强电场来量化拉曼信号的增强的参数。这个参数基于对比度值。对比度值根据在同一点的近场和远场扫描收集的实验数据计算。金TERS探针保证对比度高于20,银TERS探针保证对比度高于40,使得Next-Tip TERS 探针的增强系数高达105 -106。寿命银镀层的TERS探针由另一层金纳米粒子保护,以避免氧化和污染,保持等离激元的效应。致密的金纳米颗粒涂层提升了金属层厚度,大大提高了探针的耐用性。此外,纳米颗粒沿探针表面形成的不规则结构延长了其测量的寿命。性能可控的涂层沉积过程可实现坚固探头的高可重复性和高分辨率。此外,这种涂层工艺可以在针的点放置一个或两个纳米颗粒,实现超高空间分辨率。测量显示 AFM 分辨率小于5 nm,TERS 分辨率小于10 nm。TERS针增强拉曼探针类型高分辨率TERS在锐的硅基针上附着尤其致密,不规则和锐的纳米颗粒涂层,可获得超高空间分辨率和高质量的成像。基础TERS: 通过致密、不规则、颗粒状坚固的纳米颗粒涂层,用优化的涂层产生超强的拉曼信号,获得准确的成像和光谱数据。各型号参数对比银芯基础TERS探针高分辨金TERS探针高分辨银芯TERS探针型号NT-EASY-TERS-70银NT-EASY-TERS-300银NT-TERS-E-85金NT-TERS-E-335金NT-TERS-E-85银NT-TERS-E-335金共振频率(kHz)703008533585335力常数(N/m)2262.8452.845悬臂长度(μm)240160240160240160TERS针增强拉曼探针 测量结果1L MoS2/AuCNT/Graphene Oxide单层过渡金属二硫化物(TMDC)拉曼激发模式高精度表征参考文献:Alvaro Rodriguez, Matěj Velický , Jaroslava &Rcaron áhová, Viktor Zólyomi, János Koltai, Martin Kalbá&ccaron , and Otakar Frank. Activation of Raman modes in monolayer transition metal dichalcogenides through strong interaction with gold. Phys. Rev. B 105, 195413 – Published 10 May 2022. DOI: https://doi.org/10.1103/PhysRevB.105.195413Nano IR纳米红外探针纳米红外光谱的原理是基于一个锐的金属涂层前沿,激发激光束落在该前沿上。探针针的电磁场由于局部表面等离激元共振和避雷针效应的共同作用而具有局域限制和增强的效果。更强的纳米红外信号Next-Tip探针得到的红外信号比常用AFM探针高出几倍(约5倍)。下图显示了使用相同带宽激光源的两种探针在硅上获取的未标准化的近场振幅光谱。更高的纳米红外信噪比与使用标准的探针得到的光谱相比,使用Next-Tip探针得到的光谱具有更小的背景干扰,从而得到更高的SNR和更清晰的光谱。下图显示了使用两种探头在13.6秒内记录的PMMA的三阶解调纳米红外吸收光谱。Nano IR纳米红外探针类型各型号参数对比象鼻形金字塔形型号NT-IR-E-85NT-IR-E-335NT-IR-P-75NT-IR-P-330共振频率(kHz)8533575330力常数(N/m)2.8452.842悬臂长度(μm)240160225125
  • 瑞美RM300EC/瑞美RM310EC测厚仪X射线总成
    Thermo Fisher瑞美RM300EC/瑞美RM310EC 涂层测厚仪专用X射线总成,西安威思曼高压电源有限公司推出,欢迎垂询。“冷”端涂层重量测量仪(是安装在镀锌线的出口处)能够对钢带的金属涂层(涂层成分:锌,锌/镍,锌/铝,铝,锡,铅)重量进行精准、快速及无接触式地凸度测量。这类型的重量仪也可与“热”端涂层重量仪配合起来一起使用构成一个综合的自动控制系统。 有关威思曼及其更多高压产品的信息,请致电 086-029-33693480或访问其网站:www.wismanhv.com  威思曼高压电源有限公司,通过ISO9000:2008质量体系认证,公司拥有出色的高压电源研发团队,完善的高压电源研发软件和测试软件。全球领先的高电压绝缘技术,完善的零电流谐振技术,使威思曼高压电源始终保持高稳定性、低纹波、低电磁干扰、体积小,损耗小,效率高,长寿命。威思曼高压电源价格有竞争力,是OEM应用的理想选择。  威思曼高压电源有限公司是世界具有领导地位直流高压电源和一体化X射线源供应商,同时提供标准化产品和定制设计服务。产品广泛应用于医疗,工业,半导体,安全,分析仪器,实验室以及海底光纤等设备。集设计,生产和服务为一体的工厂分布于美国,英国,及中国等地,并且我们销售中心遍布于欧洲,北美洲以及亚洲,我们将竭诚为您服务!
  • SKCH-1(A)精密测厚仪
    SKCH-1(A)精密测厚仪是一种结构简单、价格低廉、高精度的测量装置,主要用于各类材料厚度的精密测量,也可用于其它物品的高度与厚度测量。主要特点1、采用精密花岗岩工作平台,精度等级为“00”级。2、千分表精度等级为一级。技术参数测量精度:0.001mm产品规格尺寸:200mm×150mm×320mm
  • TT30超声波测厚仪
    TT30超声波测厚仪TT30超声波测厚仪超声波测厚仪TT300 超声波测厚仪TT300(智能标准型,TT300超声波测厚仪是智能标准型超声波测厚仪超声波测厚仪TT300采用超声波测量原理,TT300超声波测厚仪适用于能使超声波以一恒定速度在其内部传播,TT300超声波测厚仪并能从其背面得到反射的各种材料厚度的测量。TT300超声波测厚仪可对各种板材和各种加工零件作精确测量,另一重要方面是可以对生产设备中各种管道和压力容器进行监测,监测它们在使用过程中受腐蚀后的减薄程度。可广泛应用于石油、化工、冶金、造船、航空、航天等各个领域。超声波测厚仪TT300基本原理  超声波测量厚度的原理与光波测量原理相似,探头发射的超声波脉冲到达被测物体并在物体中传播,到达材料分界面时被反射回探头,通过精确测量超声波在材料中传播的时间来确定被测材料的厚度。 超声波测厚仪TT300性能指标  测量范围: 0.75mm~300.0mm   显示分辨率:0.1/0.01mm(可选)  测量精度:± (1%H+0.1)mm H为被测物实际厚度   管材测量下限(钢):&Phi 15mm× 2.0mm   最小厚度值捕捉模式:可选择显示当前厚度值或最小厚度值  数据输出:RS232接口,可与TA220S微型打印机或PC连接  数据存储:可存储500个测量值和五个声速值  报警功能:可设置限界,对限界外的测量值能自动蜂鸣报警  使用环境温度:不超过60℃   电源:二节AA型1.5V碱性电池  工作时间:可达100小时  外形尺寸:152mm× 74 mm× 35 mm   重量:370g
  • 单壁碳纳米管
    碳具有 的特性: 按照质量,碳是宇宙中第4丰富的元素,也是 化学活性的元素之一。碳不仅能与其他元素结合,而且可与自身结合,形成最坚硬的金刚石和最软的石墨。碳还是有机化学和所有已知生命的根基。碳有几乎无限的应用。近年来,包括石墨烯(碳的二维形式)和单壁碳纳米管(主要为柱状石墨烯)在内的形态表现出非凡的属性,鼓舞着世界各地的科学家寻找各种用途。与石墨烯一样,单壁碳纳米管的属性充满前途,甚至有可能改变全球产业的面貌。与石墨烯不同的是,2014 年开始就有大量单壁碳纳米管在全球范围内供货。TUBALL由单壁碳纳米管构成,“成品”杂质含量极低(SWCNT含量≥75%),且在大多数应用中无需进一步的纯化。TUBALL具有独特的物理属性,可提高大多数材料的强度、导电性和/或导热性,包括聚合物复合材料、橡胶、金属和许多其他材料。与多壁碳纳米管、碳纤维和大多数类型的碳黑不同,TUBALL在添加 0.001%-0.1% 的重量后即可显著改善材料属性。产品特点:填料重量含量达到 0.001% 时开始展现功效同时提高材料属性(机械强度、导电性和导热性)各种潜在应用: 聚合物复合材料、橡胶、金属和许多其他材料高质量的SWCNT含量(数量 ≥ 75%,G/D大于50)无定形碳含量小(低于 1%)铁 (Fe) 催化剂颗粒包封在碳外壳中在大多数应用中,无需对生产过程做任何额外更改市场价格比具有同类质量和属性的所有其他产品低50倍技术参数规格计量单位数值评价方法碳含量wt.%85TGA, EDXCNTwt.%≥75TEM, TGA碳纳米管的层数单位1-2TEM碳纳米管的平均外径nm1.8±0.4拉曼光谱, TEMCNT长度um5AFM金属杂质wt.%EDX, TGA根据特定客户的要求,可对任何所需数量的TUBALL进一步纯化与功能化,从而达到以下规格:
  • erichsen433湿膜测厚仪
    erichsen433湿膜测厚仪erichsen433湿膜测厚仪可在任何表面上进行。因为全部机械式,故可适用于玻璃、木材、金属或塑料基材。 433湿膜测厚仪每片有4种测量范围:5-100微米,100-300微米,300-700微米以及700-1500微米,不锈钢制造,精度高。 符合 ISO 2808,BS 3900:C5 标准。技术指标: 5~100 μm ( 分刻度 5 μm) 100~300 μm ( 分刻度 10 μm) 300~700 μm ( 分刻度 20 μm) 700~1500 μm ( 分刻度 40 μm)
  • Kleindiek纳米操纵仪配件
    Kleindiek纳米操纵仪配件是为外部电子显微学制备样品而设计的超精密样品拾取装卸系统,它在纳米尺度灵活微操纵样品。Kleindiek纳米操纵仪配件安装安装有一根微夹钳,一个四轴辅台,在表面有一个允许快速接近的小型CCD摄像头。Kleindiek纳米操纵仪是由安装在一个超小型平台上的一个四轴辅台构成。在辅台上安装了一个微夹钳,促进提取。操作该辅台将预切样品放置在微夹钳下。在这之后,微夹钳夹住样品并轻轻地固定住样品,固定要足够牢固,只要使辅台向旁边下落,就可以将样品从大量材料提取出。一旦分离,在TEM网格上,将样品与SEM兼容胶水接触,并且用离子束固化。Kleindiek纳米操纵仪配件规格:取样室兼容平台上的辅台最大样品尺寸:30mm行程:X和Y =10mm行程:Z轴为3mm行程:R =360°(无限)速度:可达1mm/秒分辨率:笛卡尔运动没有反弹或翻转是大多数SEM和FIB工具的简单取样室装置几乎不受震动影响微夹钳运输和组装微型物体的高分辨率夹持器抓握区域:(5至10 μm)分辨率:20nm夹持力:5至5000μN(变量)最大跨度范围:20?40 μmSemCam样品表层的小相机允许快速接近包括显示器和LED照明
  • 单层二硫化钨-纳米尺寸单层二硫化钨
    参数:制备方法:锂基插层法组成:单分子层,具有小尺寸的二硫化物外观:黑色粉末或分散体直径:20-500 nm厚度:1纳米单分子层比例:95%Parameter:Preparation Method:Lithium-based Intercalation MethodComposition: Monolayer Tungsten disulfide with small sizeAppearance: Black powder or dispersionDiameter: 20-500 nmThickness: ~1 nmMonolayer ratio: =95%
  • 纳米单晶硅衬底2D线性纳米棒LIGHTSMYTH
    纳米单晶硅衬底2D线性纳米棒LIGHTSMYTH屹持光电提供各种纳米单晶硅衬底2D线性纳米棒,为工业和科研提供低成本的纳米光子学研究。基板可用于光学、生物学、化学、物理学(例如中子散射)、聚合物研究、纳米压印、微流体等各种应用。如果需要,可以用金属或介电涂层涂覆基底。大多数表面特征具有略微梯形的横截面轮廓,具有直平行台面和沟槽。也可以使用格状结构。提供多种特征尺寸和沟槽深度。可以在发货之前拍摄基板的SEM图像以验证确切的轮廓。表中显示的尺寸代表目标值。周期的精度优于0.5%,而沟槽深度和线和空间的宽度可能与目标值相差15%。SEM用于说明目的。可定制更精确尺寸信息。纳米单晶硅衬底2D线性纳米棒LIGHTSMYTH规格描述值基材宽度和高度公差标准公差±0.2 mm通光孔径(CA)距基板边缘0.5 mm(图案可延伸至基板边缘)基材厚度0.675±0.050mmCA表面质量P / N “-P”:60/40,最高20/10CA表面质量P / N “-S”:80/100CA外表面质量无要求材料单晶硅,反应离子蚀刻1、线性纳米棒(线+间隔)P/N周期(nm)凹槽深度(nm)工作周期1线宽度2(nm尺寸3(mm)SNS-C72-1212-50-P1395050%69.512.5×12.5×0.7SNS-C72-2525-50-P1395050%69.525×25×0.75SNS-C36-1212-110-P27811050%13912.5×12.5×0.7SNS-C24-1212-110-P416.611050%20812.5×12.5×0.7SNS-C20-0808-150-D45-P50015044%2208×8.3×0.7SNS-C20-0808-350-D45-P50035044%2208×8.3×0.7SNS-C20-0808-150-D60-P50015060%3008×8.3×0.7SNS-C20-0808-350-D60-P50035060%3008×8.3×0.7SNS-C18-2009-110-D50-P555.511050%27820×9×0.7SNS-C18-2009-140-D50-P555.514050%27820×9×0.7SNS-C18-2009-110-D29-P555.511029%15820×9×0.7SNS-C18-2009-140-D29-P555.514029%15820×9×0.7SNS-C16.7-0808-150-D45-P60015043%2608×8.3×0.7SNS-C16.7-0808-350-D45-P60035043%2608×8.3×0.7SNS-C16.7-0808-150-D55-P60015055%3308×8.3×0.7SNS-C16.7-0808-350-D55-P60035055%3308×8.3×0.7SNS-C16.5-2912-190-P60619050%30329×12×0.7SNS-C16.5-2912-190-S460619050%30329×12×0.7SNS-C16.5-2924-190-P60619050%30329×24.2×0.75SNS-C14.8-2410-170-P67517032%21824×10×0.7SNS-C14.8-2430-170-P67517032%21824×30.4×0.75SNS-C14.3-0808-150-D45-P70015047%3308×8.3×0.7SNS-C14.3-0808-350-D45-P70035047%3308×8.3×0.7SNS-C14.3-0808-150-D55-P70015055%3758×8.3×0.7SNS-C14.3-0808-150-D55-P70015055%3758×8.3×0.7SNS-C12-1212-200-P833.320050%41612.5×12.5×0.7SNS-C12-2525-200-P833.320050%41625×25×0.75SNS-C11.7-1212-200-P85520050%42812.5×12.5×0.7SNS-C11.7-2525-200-P85520050%42825×25×0.75纳米单晶硅衬底2D线性纳米棒LIGHTSMYTH1 占空比表示线(台面)宽度与周期的比率。2 表示台面的宽度值。3 第二维对应于凹槽长度。4 以“-S”结尾的是“科研”等级。它至少有80%的可用面积。可能存在高达80/100表面质量值。5 可提供更大的自定义尺寸2、2D纳米图案(矩形和六边形网格)P/N周期(nm)格子类型凹槽深度特征宽度(nm)尺寸(mm)S2D-24B3-0808-150-P700矩形1502608×8.3×0.7S2D-24B3-0808-350-P700矩形3502608×8.3×0.7S2D-18B3-0808-150-P700矩形1503508×8.3×0.7S2D-18B3-0808-350-P700矩形3503508×8.3×0.7S2D-24C2-0808-150-P600六角1501658×8.3×0.7S2D-24C2-0808-350-P600六角3501658×8.3×0.7S2D-18C2-0808-150-P600六角1502408×8.3×0.7S2D-18C2-0808-350-P600六角3502408×8.3×0.7S2D-24C3-0808-150-P700六角1502208×8.3×0.7S2D-24C3-0808-350-P700六角3502208×8.3×0.7S2D-18C3-0808-150-P700六角1502908×8.3×0.7S2D-18C3-0808-350-P700六角3502908×8.3×0.7S2D-24D2-0808-150-P600六角孔1501808×8.3×0.7S2D-24D2-0808-350-P600六角孔3501808×8.3×0.7S2D-18D3-0808-150-P700六角孔1502008×8.3×0.7S2D-18D3-0808-350-P700六角孔3502008×8.3×0.7S2D-24D3-0808-150-P700六角孔1502908×8.3×0.7S2D-24D3-0808-350-P700六角孔3502908×8.3×0.7rect posthex posthex hole相关产品:脉冲压缩透射光栅高功率光束组合光谱衍射光栅光通信透射衍射光栅纳米单晶硅衬底2D线性纳米棒
  • 纳米位移平台
    纳米位移平台,真空纳米位移台由中国领先的进口光学精密仪器旗舰型服务商-孚光精仪进口销售,先后为北京大学,中科院上海光机所,中国工程物理研究院,航天3院,哈工大,南开,山东大学等单位提供优质进口的纳米位移平台,真空纳米位移台,纳米位移台.这款纳米位移平台是美国进口的高速高精度真空纳米位移台,它采用先进技术设计, 具有单轴或精密的双轴配置两种选择, 适合高真空环境和非磁性定位应用.美国进口高精度低价格系列纳米定位台,采用了陶瓷伺服电机驱动,非常适合要求精度达到纳米或压纳米的高精度和高重复精度的应用,例如:精密生命科学仪器、显微成像、纳米准直、微纳加工、光学精确定位等。X-TRIM 系列纳米位移台特色 10nm分辨率非接触线性编码系统双驱动任选:线性伺服或压电驱动高密度滚珠传导增加稳定性超紧凑的单轴或双轴纳米位移台紧凑型封装可真空使用超强工作能力,大吞吐量采用无铁芯直接驱动直线电机,驱动轴位于纳米位移台的中心线, 这种设计消除了非中心驱动导致的偏航,空回等问题.纳米位移台集成了一个高分辨率(12.5nm)非接触式线性编码器,它为闭环的伺服系统工作操作提供了精密反馈, 它的标准配置就可以提供纳米精度的定位.纳米位移平台使用能够了精密的滚珠导向系统确保了位移平台高精度性能和严格的轨迹控制。纳米位移平台也适合OEM使用,它具有较低抛面和较小尺寸,采用模块化设计,用户可堆叠使用创建多轴多部件系统。这款纳米位移平台使用了非接触式直接驱动技术,提供坚固,精确,高速的定位,满足高频率大工作量的需要。纳米定位平台使用了先进的无铁直线电机直接确定技术,确保最优异的纳米级定位性能。这款纳米定位台提供了高速度,高精度,高分辨率,高性能的卓越表现。它与传统的丝杠驱动或压电驱动相比,具有更大的工作效率和吞吐量。参数行程(mm): 25和50mm(单轴或双轴)驱动系统: 无铁芯直线电机或陶瓷伺服电机最大加速度: 由负载决定最大速度: 200mm/s (无负载时)最大推力: 24N最大负载: 2Kg精度: +/-1um/25mmTTL分辨率: 1-100nm/脉冲构造材料: 铝合金主体, 灰色氧化镀膜重复精度: 5倍精度XT 25XT 50XT 2525XT 5050Travel Length (mm)25 mm50 mm25 x 25 mm50x 50 mmTrajectory ControlAccuracyLinear Encoder± 1.0 &mu m± 2.0 &mu m± 2.0 &mu m± 4.0 &mu mStraightness/Flatness± 1.0 &mu m± 1.0 &mu m± 2.0 &mu m± 2.0 &mu mYaw/Pitch/Roll5 arc-sec5 arc-sec10 arc-sec10 arc-sec2 axis systemOrthogonalityStandard GradeNANA5 arc-sec5 arc-secHigh PrecisionNANA2 arc-sec2 arc-secExtra High PrecisionNANA1 arc-sec1 arc-sec
  • 线性硅纳米印章(纳米图案硅片)
    LightSmyth提供了大量的纳米加工单晶硅衬底,为工业和学术机构提供了一个低成本的纳米光子学研究入口。基底可用于光学、光子学、生物学、化学、物理学(如中子散射)、聚合物研究、纳米印迹、微流体学等领域。如果需要,基板可以涂上金属或介质涂层。大多数地表特征具有略微梯形的横截面轮廓,具有直线平行的台地和沟渠。晶格状结构也可用。提供了许多特征尺寸和沟槽深度。基板的扫描电镜图像可以在装运前拍摄,以验证准确的轮廓。产品特点Nanopatterned Silicon StampsII-VI offers a large variety of nanomachined single crystal silicon substrates providing a low-cost entry into nanophotonics research for industry and academic institutions. The substrates may be used in a variety of applications in optics, photonics, biology, chemistry, physics (e.g. neutron scattering), polymer research, nanoimprinting, microfluidics and others. If desired, the substrates can be coated with metallic or dielectric coating. Most of the surface features have slightly trapezoidal cross-section profiles with straight parallel mesas and trenches. Lattice-like structures are available as well. A number of feature sizes and trench depth is available. SEM images of the substrates may be taken prior to shipment to verify the exact profile.Dimensions shown in the table represent target value. Period has accuracy better than 0.5% while groove depth and the width of line and space may differ from the target values by 15%. SEM are given for illustration purposes. If more precise dimensional information is required, we may provide an SEM of the specific piece of nanostamp you order as an optional service通用参数(LightSmyth Nanopatterned Silicon Stamps 纳米图案硅片)描述数据基材宽度高度误差标准公差±0.2 mm净孔径(CA)距基板边缘0.5 mm(图案可延伸至基板边缘)基底厚度0.675 ± 0.050 mmCA的表面质量P/N以“p”结尾:划痕/挖:最大划痕宽度,最大最大直径。可提供高达20/10的规格CA的表面质量P/N以“-S”结尾:由于表面质量而打折的等级。至少有80%的可用面积。可能出现80/100划痕/挖痕/颗粒和不规则基底形状CA外表面质量无要求Material材料单晶硅,反应离子刻蚀2D NanostampsPart Number周期Period(nm)晶体类型Lattice Type槽深Groove Depth(nm)特征宽度Feature Width(nm)Size(mm)S2D-18B2-0808-350-P600Rect Post3502758.0 x 8.3S2D-18B3-0808-350-P700Rect Post3503508.0 x 8.3S2D-18C2-0808-350-P600Hex Post3502408.0 x 8.3S2D-18C3-0808-150-P700Hex Post1502908.0 x 8.3S2D-18C3-0808-350-P700Hex Post3502908.0 x 8.3S2D-18D3-0808-350-P700Hex Hole3502008.0 x 8.3S2D-24B2-0808-150-P600Rect Post 1501958.0 x 8.3S2D-24B2-0808-350-P600Rect Post 3501958.0 x 8.3S2D-24B3-0808-150-P700Rect Post 1502608.0 x 8.3S2D-24B3-0808-350-P700Rect Post 3502608.0 x 8.3S2D-24C2-0808-150-P600Hex Post1501658.0 x 8.3S2D-24C2-0808-350-P600Hex Post3501658.0 x 8.3S2D-24C3-0808-150-P700Hex Post1502208.0 x 8.3S2D-24D2-0808-150-P600Hex Hole1501808.0 x 8.3S2D-24D2-0808-350-P600Hex Hole3501808.0 x 8.3S2D-24D3-0808-150-P700Hex Hole1502908.0 x 8.3S2D-24D3-0808-350-P700Hex Hole3502908.0 x 8.3
  • 单层二硫化钼-纳米尺寸单层二硫化钼
    参数:制备方法:锂基插层法组成:单分子层,具有小尺寸的二硫化物外观:黑色粉末或分散体直径:20-500 nm,主要集中在100-200 nm厚度:1纳米单分子层比例:95%Parameter:Preparation Method:Lithium-based Intercalation MethodComposition: Monolayer Tungsten disulfide with small sizeAppearance: Black powder or dispersionDiameter: 20-500 nm, mainly concentrate in 100-200 nmThickness: ~1 nmMonolayer ratio: =95%
  • 碳纳米管
    简介:二维晶体材料指的是以石墨烯为代表的单原子层及少数原子层厚度的晶体材料,巨纳集团除了提供石墨烯材料、设备、检测等一体化服务外,还联合美国2D Semiconductors为全球客户提供高质量的二维晶体材料、粉体、溶液、薄膜等材料,并提供定制服务,以满足客户的不同需求。碳纳米管MWCNTs
  • 多功能纳米压痕仪配件
    多功能纳米压痕仪配件通过扫描材料表面实现对材料力学性能的纳米尺度的高精度测量,精确给出硬度,弹性模量,杨氏模量等材料力学性能。多功能纳米压痕仪配件特色最高位移测量能力可达300mkm, 最高负载科大100mN。实现静态压痕和动态压痕测量以及sclerometry测量具备原子力显微镜和纳米硬度测量仪的功能采用模块化设计,可广泛集成原子力显微镜,光学显微镜,激光干涉仪器等尖端材料表面测量仪器,为用户提供综合性材料微观力学测试方案。多功能纳米压痕仪配件选型4D紧凑型多功能纳米压痕仪4D紧凑型是全球结构最为紧凑小巧的纳米硬度测试仪,它采用纳米压痕法测量材料硬度和弹性模量(杨氏模量),负载高达2N,广泛用于材料力学性能测量研究。也非常适合大学或研究单位的纳米压痕仪测量硬度的教学或演示教学。4D标准型多功能纳米压痕仪4D标准型具有测量材料硬度,弹性模量和其它力学性能的功能。它采用静态和动态纳米压痕技术以及sclerometry方法测量材料性能。并且可以接触式或半接触式地测量材料表面形貌,采用光学显微镜高精度地对压头和样品进行精确互动性定位。多功能纳米压痕仪4D标准型还可以接入另外的传感器或测量模块,实现对材料表面进行其它测量。4D+增强型多功能纳米压痕仪4D+增强型配置是全球功能最多的多功能纳米硬度测量仪器。它具有纳米压痕仪和原子力显微镜的功能,具备了所有的物理和力学性能测量能力。它具有原子力显微镜测量模块,能够以纳米级分辨率研究压痕后留下的表面痕迹和图像,并能够全自动测量,可以批量处理分析测量结果。
  • 高精度膜厚仪|薄膜测厚仪A3-SR光学薄膜厚度测量(卤素灯)
    目标应用: 半导体薄膜(光刻胶) 玻璃减反膜测量 蓝宝石薄膜(光刻胶) ITO薄膜 太阳能薄膜玻璃 各种衬底上的各种膜厚 卷对卷柔性涂布 颜色测量 车灯镀膜厚度 其他需要测量膜厚的场合 阳极氧化厚度产品型号A3-SR-100 产品尺寸 W270*D217*(H90+H140)测试支架(配手动150X150毫米测量平台和硅片托盘)测试方式可见光,反射 波长范围380-1050纳米光源钨卤素灯(寿命10000小时) 光路和传感器光纤式(FILBER )+进口光谱仪 入射角0 度 (垂直入射) (0 DEGREE) 参考光样品硅片光斑大小LIGHT SPOTAbout 1 mm(标配,可以根据用户要求配置)样品大小SAMPLE SIZE150mm,配150X150毫米行程的工作台和6英寸硅片托盘 膜厚测量性能指标(THICKNESS SPECIFICATION):产品型号A3-SR-100厚度测量 1Thickness15 nm - 100 um 折射率 1(厚度要求)N 100nm and up准确性 2 Accuracy 2 nm 或0. 5%精度 3precision0.1 nm1表内为典型数值, 实际上材料和待测结构也会影响性能2 使用硅片上的二氧化硅测量,实际上材料和待测结构也会影响性能3 使用硅片上的二氧化硅(500纳米)测量30次得出的1阶标准均方差,每次测量小于1秒.
  • 纳米显微操纵仪
    纳米显微操纵仪由微操纵仪、控制器、控制电源及操纵杆组成,微操纵仪的驱动是由压电陶瓷构成的纳米马达来实现的,从而保证能够进行纳米级精确移动。整个微操纵装置体积非常小,即使是操作精度高达几纳米也不会产生后座力及漂移。微操纵仪可直接在样品室内接触、操纵样品,从而使对样品的物性分析成为可能,而且多个操纵仪的联合使用可从事微纳尺度的样品的加工和组装。操纵仪有以下型号以适用于不同的环境:MM3A-LMP用于光镜;MM3A-EM用于电镜;MM3A-UHV用于超高真空环境;MM3A-LT用于低温环境。
  • 铌酸锂单晶薄膜 钽酸锂单晶薄膜 300-900纳米,5-50微米
    300-900纳米铌酸锂单晶薄膜300-900纳米 铌酸锂单晶薄膜顶层器件层尺寸3, 4, (6) 英寸切向X, Z, Y切等材料铌酸锂厚度300-900 纳米掺杂(可选)掺镁埋层材料二氧化硅厚度1000-4000 纳米基底材料硅、铌酸锂、石英、熔融石英等厚度400-500 微米电极层(可选)材料铂金,金,铬厚度100-400 纳米位置在顶层器件层与埋层之间或埋层与基底之间铌酸锂单晶薄膜二氧化硅硅、铌酸锂、石英或熔融石英基底铌酸锂单晶薄膜金电极或铂金电极铌酸锂基底二氧化硅铌酸锂单晶薄膜金电极或铂金电极铌酸锂基底二氧化硅掺镁铌酸锂单晶薄膜铌酸锂基底二氧化硅首页 - 产品300-900纳米钽酸锂单晶薄膜300-900 纳米 钽酸锂单晶薄膜顶层器件层尺寸3, 4, 6 英寸切向 Y-42, Y-46.3, Z切等材料钽酸锂厚度300-900 纳米埋层材料二氧化硅厚度300-4000 纳米基底材料硅厚度400-500 微米钽酸锂单晶薄膜二氧化硅硅基底5-50微米硅基钽酸锂、铌酸锂、石英薄膜5-50微米 硅基钽酸锂、铌酸锂及石英薄膜顶层器件层尺寸3, 4, 6 英寸切向X, Z, Y-42, Y-46.3切等材料钽酸锂、铌酸锂、石英等厚度5-50 微米基底材料硅厚度230-500 微米钽酸锂单晶薄膜硅基底铌酸锂单晶薄膜硅基底石英薄膜硅基底自支持超薄晶片、超平晶片自支持超薄、超平晶片尺寸3, 4 英寸切向X, Y, Z, AT切等厚度10-60 微米材料铌酸锂、钽酸锂、石英、硅等表面双抛或单抛铌酸锂单晶薄膜钽酸锂单晶薄膜石英薄膜特殊定制薄膜特殊定制铌酸锂、钽酸锂、石英薄膜顶层/ 详情基底层顶层薄膜层多层结构图形电极&波导结构异质材料 (二氧化硅/硅,硅, 蓝宝石, 石英等)周期性极化反转铌酸锂PPLN特殊尺寸电极 (金, 铂金,铬, 铝等)切向 (与体材料相同 )掺杂 (镁, 铁, 铒, 铥等)100-1000 纳米铌酸锂√√√√√√√√100-1500 纳米 钽酸锂√√√√√√√5-50 微米铌酸锂√√√√5-50 微米钽酸锂√√√√5-50 微米石英√√√300-900纳米铌酸锂单晶薄膜300-900纳米 铌酸锂单晶薄膜顶层器件层尺寸3, 4, (6) 英寸切向X, Z, Y切等材料铌酸锂厚度300-900 纳米掺杂(可选)掺镁埋层材料二氧化硅厚度1000-4000 纳米基底材料硅、铌酸锂、石英、熔融石英等厚度400-500 微米电极层(可选)材料铂金,金,铬厚度100-400 纳米位置在顶层器件层与埋层之间或埋层与基底之间铌酸锂单晶薄膜二氧化硅硅、铌酸锂、石英或熔融石英基底铌酸锂单晶薄膜金电极或铂金电极铌酸锂基底二氧化硅铌酸锂单晶薄膜金电极或铂金电极铌酸锂基底二氧化硅掺镁铌酸锂单晶薄膜铌酸锂基底二氧化硅首页 - 产品300-900纳米钽酸锂单晶薄膜300-900 纳米 钽酸锂单晶薄膜顶层器件层尺寸3, 4, 6 英寸切向 Y-42, Y-46.3, Z切等材料钽酸锂厚度300-900 纳米埋层材料二氧化硅厚度300-4000 纳米基底材料硅厚度400-500 微米钽酸锂单晶薄膜二氧化硅硅基底5-50微米硅基钽酸锂、铌酸锂、石英薄膜5-50微米 硅基钽酸锂、铌酸锂及石英薄膜顶层器件层尺寸3, 4, 6 英寸切向X, Z, Y-42, Y-46.3切等材料钽酸锂、铌酸锂、石英等厚度5-50 微米基底材料硅厚度230-500 微米钽酸锂单晶薄膜硅基底铌酸锂单晶薄膜硅基底石英薄膜硅基底自支持超薄晶片、超平晶片自支持超薄、超平晶片尺寸3, 4 英寸切向X, Y, Z, AT切等厚度10-60 微米材料铌酸锂、钽酸锂、石英、硅等表面双抛或单抛铌酸锂单晶薄膜钽酸锂单晶薄膜石英薄膜特殊定制薄膜特殊定制铌酸锂、钽酸锂、石英薄膜顶层/ 详情基底层顶层薄膜层多层结构图形电极&波导结构异质材料 (二氧化硅/硅,硅, 蓝宝石, 石英等)周期性极化反转铌酸锂PPLN特殊尺寸电极 (金, 铂金,铬, 铝等)切向 (与体材料相同 )掺杂 (镁, 铁, 铒, 铥等)100-1000 纳米铌酸锂√√√√√√√√100-1500 纳米 钽酸锂√√√√√√√5-50 微米铌酸锂√√√√5-50 微米钽酸锂√√√√5-50 微米石英√√√铌酸锂单晶薄膜、钽酸锂单晶薄膜300-900纳米,5-50微米
  • 纳米颗粒分析仪配件
    纳米颗粒分析仪配件用于观测和分析液体中的微小颗粒的布朗运动速率与尺寸分布相关,采用纳米颗粒跟踪分析(NTA)技术,通过激光散射装置(纳米观测)与超显微镜ultra-microscope和NTA软件的相结合,生成纳米颗粒图像,是全球领先的纳米粒度分析仪。纳米颗粒分析仪配件 纳米观测原理纳米颗粒分析仪使用纳米透视Nano-Insight 激光散射模块,可以通过顶眼超显微镜观测到液体中的纳米粒子。采用不同激光散射颗粒在矩阵中表现为模糊点。模糊点根据其各自的布朗运动而移动。液体中有不同的布朗运动粒子。小粒子比大粒子受到相邻粒子的影响更少。因此,在超显微图像中,较大的粒子有大的模糊外观。 NTA能够追踪粒子的相应路径。纳米观测模块纳米观测模块的设计,可以使其安装在超显微镜,顶眼纳米的底板。可以通过Mishell软件来控制该模块。Mishell软件控制着纳米观测模块以及照相机。根据应用决定在纳米观测模块装备一个或多个激光器。激光器以一种特殊的方式排列。左侧图片上展示的是纳米观测图。较小的粒子比较大的粒子移动更快。我们用摄像机同时跟踪每个粒子。顶眼超显微镜顶眼超显微镜将进入模糊点的散射光可视化。用适当的时间分辨跟踪,模糊云可被分配并与各自的粒径相关。粒子的布朗运动图像是唯一的。下面将给出例子。每个模糊点代表单个粒子。NTA 软件上图展示的是NTA分析的典型图像。散射激光被捕获到模糊点,要根据时间函数跟踪模糊点。我们跟踪每个模糊点。跟踪每个粒子的方法,得到的技术结果是高分辨率。我们正在寻找与图像相关的量,当我们知道相关的量后,我们就可以极其精确地确定各种粒子的浓度。该技术将会带起许多可能的应用。例如,可能也可以使用荧光激光器。使用荧光激光器,可以瞄准复杂的基质里的一个粒子。该技术带来的好处是,用户可以在视觉上检查并且通过观察相应图像验证所有可能的应用。MiNan是Mishell® 内的一个模块- 扩展图像分析软件包,被认为是市场上最先进的图像分析软件。MiNan是一个子程序,可以进行Morphious纳米粒子分析的全部描述。MiNan是自带Morphious纳米系统的软件,研发用于纳米粒子的可视化以及纳米粒子的大小、形状(形态)和浓度的测量。每个粒子是一个个体,但通过观测扩散同时被分析。这种一个粒子后接一个粒子的方法产生高分辨率的结果,即粒子的尺寸分布和浓度分辨率高,同时视觉验证让用户对数据有了额外的信心。当荧光模式检测标记粒子时,粒子尺寸和浓度,蛋白质聚集和粘度都可以被分析。纳米颗粒分析仪配件应用?在制药或复合产业研发药物?用于病毒筛查?用于开发纳米生物标记物或毒物筛查?用于蛋白质聚集的动力学模型研究?用于通过膜泡的表征研究疾病?用于促进纳米复合材料的发展纳米颗粒分析仪配件特色?在同一时间多粒子高通量表征?实时视觉展示粒子,允许用户评估试验,无需额外复杂性?方便和易于使用的软件,允许用户通过宏设置任何实验?添加像高通量自动采样器,泵或加热和制冷配件?自适应模块化系统构建任何复杂的应用程序,操作轻松舒适?超级高效和购买成本低?该系统提供高分辨率的粒度特性来研究复杂的多分散矩阵?激光波长可选择?通过给过滤器添加电动轮,得到自适应荧光分析纳米颗粒分析仪配件参数?尺寸10 nm - 2000 nm*?浓度 106 - 109 粒子/ mL?荧光检测纳米颗粒分析仪配件规格温度范围15-40 °C电源230V AC/115V AC, 50/60 Hz摄像机USB3 CMOS分辨率:1936x1216 161帧/秒,像素尺寸5.86μm:颜色校准模块功耗18W激光波长405nm(紫色),488nm(蓝),532nm(绿),642nm(红色)尺寸范围从10 nm到2000 nm (取决于材料)焦点电脑控制电动调焦个人计算机SDD亿康II SDSSDHII-120G-G25HDD西数蓝WD10EZEX1 TB|主板千兆字节GA-Z97X-UD3H|内存金士顿骇客神条怒黑| HX318C10FBK2/1616 GB DDR3-RAM处理器英特尔® 酷睿™ i7 i7-4790K四核4×4.0 GHz显卡 PNY VCQK2200-PB 4GB电源 酷冷至尊G750M 750w机箱 酷冷至尊黑软件Windows® &(或更高).由Mishell® 供电Mishell是Microptik BV公司的注册商标。Windows是微软公司的注册商标。MiNan尖端程序在Mishell下运行,以充分体现由Morphious纳米获得的纳米粒子尺寸(长×宽×高)20 x 18 x 30 cm重量10.5 kg
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