湿法研磨仪

仪器系统 功能 湿法转印电泳 可快速高效地转印蛋白样品，尤其是200kD以上的大分子蛋白，转印重现性好 凝胶大小 9.4 x 8.0cm 不同规格以满足不同的应用 凝胶容量 1-4块 根据样品量多少可调节凝胶数量 转印夹板 正负极夹板颜色不同 根据颜色来判断转印夹板的正负极，不会放反 冷却循环装置 面积大 有效制冷，可防止因转印时间长而导致局部温度过高，条带变形 配置 灵活 即可作为独立的湿法转印设备，也可作为一个模块与Eco垂直电泳槽兼容 产品特点： 1.蛋白质转印快速、高效、重现性好 2.特别适用于分子量200kDa以上的大分子蛋白质和对温度敏感的蛋白质（如某些酶类） 3.槽壁上有大面积的整合式冷却夹层，不断循环，高效冷却，使得转印时整个槽内的温度达到高度均一（缓冲液为6℃，其温度均一性为± 0.5℃），比普通的通过磁力搅拌混匀的方式效果更好，可实现超过12h以上的连续工作 4.最多可同时进行4块凝胶的转印

仪器系统 功能 湿法转印电泳 可快速高效地转印蛋白样品，尤其是200kD以上的大分子蛋白，转印重现性好 凝胶大小 22.0 x 19.0cm 不同规格以满足不同的应用 凝胶容量 1-4块 根据样品量多少可调节凝胶数量 转印夹板 正负极夹板颜色不同 根据颜色来判断转印夹板的正负极，不会放反 冷却循环装置 面积大 有效制冷，可防止因转印时间长而导致局部温度过高，条带变形 配置 灵活 即可作为独立的湿法转印设备，也可作为一个模块与Eco垂直电泳槽兼容 产品特点： 1蛋白质转印快速、高效、重现性好 2、特别适用于分子量200kDa以上的大分子蛋白质和对温度敏感的蛋白质（如某些酶类） 3、槽壁上有大面积的整合式冷却夹层，不断循环，高效冷却，使得转印时整个槽内的温度达到高度均一（缓冲液为6℃，其温度均一性为± 0.5℃），比普通的通过磁力搅拌混匀的方式效果更好，可实现超过12h以上的连续工作 4、最多可同时进行4块凝胶的转印

高速湿法粉碎机、湿法管线式胶体磨、卫生高剪切胶体磨，德国湿法胶体磨、19000转高速纳米胶体磨、改进型胶体磨、在线式湿法粉碎机、环保型316L湿法粉碎机更多详情请致电上海依肯 销售工程师 徐工 .公司设有专用实验室可以免费为客户提供设备够买前的验证实验。【湿法管线式高剪切胶体磨介绍】 湿法胶体磨,上海湿胶体磨,湿法超细胶体磨， 简单说就是对物料进行液体状态研磨粉碎或流质体状态下研磨粉碎，适用于一些要求物料本身含有油性、水分、或有要求低温、防止挥发、易燃易爆等情况下采用。上海依肯机械设备有限公司内有样机，可提供免费实验，实验结果是检验设备优劣的唯一标准。欢迎您随时莅临我司交流、参观！如有需要，欢迎致电上海依肯销售 徐工 IKN改进型胶体磨综合了均质机、球磨机、三辊机、剪切机、搅拌机等机械的多种性能，具有优越的超微粉碎、分散乳化、均质、混合等功效。物料通过加工后，粒度达2～50微米，均质度达90%以上，是超微粒加工的理想设备。该机适用于制药、食品、化工及其他行业的湿物料超微粉碎，能起到各种半湿体及乳状液物质的粉碎、乳化、均质和混合，主要技术指标已达到国外同类产品的先进水平。【工作原理】 高剪切，研磨及高速搅拌作用。磨碎依靠两个齿形面的相对运动，其中一个高速旋转，另一个静止，使通过齿面之间的物料受到大的剪切力及磨擦力，同时又在高频震动，高速旋涡等复杂力的作用下使物料有效的分散、浮化、粉碎、均质。 【特点】☆更稳定 采用优化设计理念，将先进的技术与创新的思维有效融合，并体现在具体的设备结构设计中，为设备稳定运行提供了保证.☆ 新结构 通过梳齿状定子切割破碎，缝隙疏密决定细度大小，超高线速度的吸料式叶轮提供超强切割力，纤维湿法研磨破碎可达400目.☆ 更可靠 采用整体式机械密封，大程度上解决了高速运转下的物料泄漏以及冷却介质污染等问题，安装与更换方便快捷.☆新技术 采用国际先进的受控切割技术，将纤维类物料粉碎细度控制在设定范围之内，满足生产中的粗、细及超细湿法粉碎的要求.高速湿法粉碎机、湿法管线式胶体磨、卫生高剪切胶体磨，德国湿法胶体磨、19000转高速纳米胶体磨、改进型胶体磨、在线式湿法粉碎机、环保型316L湿法粉碎机更多详情请致电上海依肯 销售工程师 徐工 .公司设有专用实验室可以免费为客户提供设备够买前的验证实验。【胶体磨的技术参数】高速胶体磨流量*输出线速度功率入口/出口连接类型l/hrpmm/skWCMS 2000/470014000404DN25/DN15CMS 2000/55,00010,5004011DN40/DN32CMS 2000/1010,0007,3004022DN50/DN50CMS 2000/2030,0004,9004045DN80/DN65CMS 2000/3060,0002,8504075DN150/DN125CMS 2000/501000002,00040160DN200/DN150*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到大允许量的10%。【应用域】食品行业：乳品、豆乳、果汁、米浆、果酱、果冻、奶酪、蛋***、沙拉酱、冰淇淋、巧克力、食品添加剂、食用香精香料；化学工业：染料、涂料、润滑油、石油催化剂、乳化沥青、洗涤剂、白炭黑,二氧化硅,炭黑等；日用化工：牙膏、洗涤剂、洗发精、鞋油、高化妆品、沐浴精、肥皂、香脂 BB霜等；医药工业：各型糖浆、营养液、中成药、膏状药剂、生物制品、鱼肝油、花粉、乳化猪皮等； 建筑工业：各种涂料。包括内外墙涂料、防腐防水涂料、冷瓷涂料、多彩涂料、陶瓷釉料等；生物医药：药膏、软膏、霜剂、脂肪乳、细胞组织破碎、糖衣、填充剂分散等；纳米材料：超细碳酸钙、白炭黑等纳米材料解聚、纳米粉体应用固-液分散 等。 以上是湿法管线式高剪切胶体磨的详细介绍，包括湿法管线式高剪切胶体磨的厂家、价格、型号、图片、产地、品牌等信息!上海依肯机械设备有限公司内有样机，可提供免费实验，实验结果是检验设备优劣的唯一标准。欢迎您随时莅临我司交流、参观！如有需要，欢迎致电上海依肯销售 徐工高速湿法粉碎机、湿法管线式胶体磨、卫生高剪切胶体磨，德国湿法胶体磨、19000转高速纳米胶体磨、改进型胶体磨、在线式湿法粉碎机、环保型316L湿法粉碎机更多详情请致电上海依肯 销售工程师 徐工 .公司设有专用实验室可以免费为客户提供设备够买前的验证实验。

美国Chemcut湿法蚀刻设备Chemcut 半导体制造的水平化学加工设备专注于：&bull 晶圆湿法加工包括铜，钛/钨等金属蚀刻，干膜显影和退膜等&bull 导线框架 (QFN) 和 BGA 等背蚀刻和半蚀刻&bull 导线框架 (QFN) 和集成电路 IC 截板加工湿式加工设备 CC8000CC8000 设计用于加工半导体，IC (引线框架和 IC 基板)，高端HDI PCB / FPC，触控和 LCD 显示屏幕，太阳能和精密金属零件。其独特的喷涂架设计使其能够达到更高水平的蚀刻质量。自启动以来，已成交并安装了700多个系统。晶圆图案制作：&bull 干膜显影&bull 铜蚀刻&bull 钛/钨蚀刻晶圆 Bumping 湿法工艺&bull 光阻显影：与 Pad 制作类似&bull 光阻剥离：需要高喷洒压力 (30 - 40 bars)&bull 种子层 (UBM) 蚀刻：使用喷洒或浸渍技术Chemcut 2300 系列 小批量生产批量和原型系统Chemcut 2300 是一种紧凑，双面，水平，传送带式，振荡喷射处理系统系列，采用了与大型系统相同的成熟技术和质量。 2300 系列非常适用于实验室，原型和小批量印刷电路以及化学机械加工零件，仪表板和铭牌。本系列湿法设备有多种配置，可用于铜和氯化铁蚀刻，碱性氨蚀刻，抗蚀剂显影，化学清洗和抗蚀剂剥离。该机器的特殊版本可用于专业处理，如使用氢氟酸和硝酸混合物进行蚀刻以及高温蚀刻（最高 160°F，71°C）。适用于：&bull 化学清洗&bull 铁蚀刻&bull 铜蚀刻&bull 碱性蚀刻&bull 抗蚀剂显影&bull 抗蚀剥离&bull 宽度 15 到 20 英寸&bull 18 X 24 功能应用于：&bull 原型商店&bull 小批量商店&bull 开发实验室&bull 研发部门&bull 大学&bull 特殊加工&bull 替代化学品&bull 研磨特殊合金&bull 减少废物

兆声湿法去胶技术SWC-4000 (D)兆声湿法去胶系统概述：最新技术的兆声和清洗技术的发展，对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了最新的水平，可以帮助用户获得最干净的晶圆片和掩模版。NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(SWC)系统，用于最先进的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片，包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到最优化的清洗效果，兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的专利技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面，通过分布能量的最大化支持最理想的清洗，同时保证在样片的损伤阈值范围内。SWC系统提供了可控的化学试剂滴胶能力，这使得颗粒从基片表面的去除能力得以进一步加强。SWC和LSC具备对点试剂滴胶系统，可以最大程度节省化学试剂的用量的。滴胶系统支持可编程的化学试剂混合能力，提供了可控的化学试剂在整个基片上的分布。通过联合使用化学试剂滴胶和NANO-MASTER的兆声清洗技术，系统去除颗粒的能力得到进一步优化。颗粒从表面被释放的能力也因此得到提升，从而被释放的颗粒在幅流的DI水作用下被扫除出去，而把回附的数量降到了最低水平。从基片表面被去除。如果没有使用幅流DI水的优势，最先进的静态可循环兆声清洗槽会有更大数量的颗粒回附，并且因此需要更多的去除这些颗粒。此外，NANO-MASTER的清洗机都还提供了一系列的选配功能。PVA软毛刷提供了机械的方式去除无图案基片上的污点和残胶。DI水臭氧化的选配项提供了有机物的去除，而无须腐蚀性的化学试剂。我们的氢化DI水系统跟兆声能量结合可以达到纳米级的颗粒去除。根据不同的应用，某些选配项将会进一步提高设备去除不想要的颗粒和残留物的能力。SWC系统能够就地实现热氮或异丙醇甩干。“干进干出” 一步工艺可以在我们的系统中以最低的投资和购置成本来实现。NANO-MASTER清洗机的工艺处理时间可以在3-5分钟内完成，具体是3分钟还是5分钟取决于基片的尺寸以及附加的清洗配件的使用情况。NANO-MASTER的技术也适用于清洗背部以及带保护膜掩模版前面的对准标记，降低这些掩模版的不必要去除和重做保护膜的几率。它也可以用于去除薄膜胶黏剂的黏附性并准备表面以便再次覆膜。此外，带薄膜掩模版的全部正面的兆声清洗以及旋转甩干可以做到无损并且对薄膜无渗漏。SWC是一款带有小占地面积的理想设备，并且很容易安装在空间有限的超净间中。该系列设备都具有出众的清洗能力，并可用于非常广泛的基片。SWC-4000 (D)兆声湿法去胶系统应用：光刻胶去除，剥离带图案或不带图案的掩模版和晶圆片Ge, GaAs以及InP晶圆片清洗CMP处理后的晶圆片清洗晶圆框架上的切粒芯片清洗等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗带保护膜的分划版清洗掩模版空白部位或接触部位清洗X射线及极紫外掩模版清洗光学镜头清洗ITO涂覆的显示面板清洗兆声辅助的剥离工艺SWC-4000 (D)兆声湿法去胶系统的特点：支持12”直径的圆片或9”x9”方片独立系统无损兆声,试剂，毛刷清洗及旋转甩干微处理机自动控制化学试剂滴胶单元溶剂与酸分离排废热氮30”D x 26”W 的占地面积SWC-4000 (D)兆声湿法去胶系统选配项：机械手自动上下载片掩模板或晶圆片夹具臭氧清洗PVA软毛刷清洗高压DI清洗氮气离子发生器

兆声辅助湿法去胶技术SWC-5000 (AD) 全自动兆声湿法去胶系统概述：最新技术的兆声和清洗技术的发展，对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了最新的水平，可以帮助用户获得最干净的晶圆片和掩模版。NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(SWC)系统，用于最先进的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片，包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到最优化的清洗效果，兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的专利技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面，通过分布能量的最大化支持最理想的清洗，同时保证在样片的损伤阈值范围内。SWC系统提供了可控的化学试剂滴胶能力，这使得颗粒从基片表面的去除能力得以进一步加强。SWC和LSC具备对点试剂滴胶系统，可以最大程度节省化学试剂的用量的。滴胶系统支持可编程的化学试剂混合能力，提供了可控的化学试剂在整个基片上的分布。通过联合使用化学试剂滴胶和NANO-MASTER的兆声清洗技术，系统去除颗粒的能力得到进一步优化。颗粒从表面被释放的能力也因此得到提升，从而被释放的颗粒在幅流的DI水作用下被扫除出去，而把回附的数量降到了最低水平。从基片表面被去除。如果没有使用幅流DI水的优势，最先进的静态可循环兆声清洗槽会有更大数量的颗粒回附，并且因此需要更多的去除这些颗粒。此外，NANO-MASTER的清洗机都还提供了一系列的选配功能。PVA软毛刷提供了机械的方式去除无图案基片上的污点和残胶。DI水臭氧化的选配项提供了有机物的去除，而无须腐蚀性的化学试剂。我们的氢化DI水系统跟兆声能量结合可以达到纳米级的颗粒去除。根据不同的应用，某些选配项将会进一步提高设备去除不想要的颗粒和残留物的能力。SWC系统能够就地实现热氮或异丙醇甩干。“干进干出” 一步工艺可以在我们的系统中以最低的投资和购置成本来实现。NANO-MASTER清洗机的工艺处理时间可以在3-5分钟内完成，具体是3分钟还是5分钟取决于基片的尺寸以及附加的清洗配件的使用情况。NANO-MASTER的技术也适用于清洗背部以及带保护膜掩模版前面的对准标记，降低这些掩模版的不必要去除和重做保护膜的几率。它也可以用于去除薄膜胶黏剂的黏附性并准备表面以便再次覆膜。此外，带薄膜掩模版的全部正面的兆声清洗以及旋转甩干可以做到无损并且对薄膜无渗漏。SWC是一款带有小占地面积的理想设备，并且很容易安装在空间有限的超净间中。该系列设备都具有出众的清洗能力，并可用于非常广泛的基片。SWC-5000 (AD) 全自动兆声湿法去胶系统应用：湿法去胶带图案或不带图案的掩模版和晶圆片Ge, GaAs以及InP晶圆片清洗CMP处理后的晶圆片清洗晶圆框架上的切粒芯片清洗等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗带保护膜的分划版清洗掩模版空白部位或接触部位清洗X射线及极紫外掩模版清洗光学镜头清洗ITO涂覆的显示面板清洗兆声辅助的剥离工艺SWC-5000 (AD) 全自动兆声湿法去胶系统的特点：机械手全自动上下载片支持12”直径的圆片或9”x9”方片独立系统无损兆声,试剂，毛刷清洗及旋转甩干微处理机自动控制化学试剂滴胶单元溶剂与酸分离排废热氮30”D x 26”W 的占地面积SWC-5000 (AD) 全自动兆声湿法去胶系统选配项：多系统集成掩模板或晶圆片夹具臭氧清洗PVA软毛刷清洗高压DI清洗氮气离子发生器

兆声湿法去胶技术LSC-5000 (AD)全自动兆声大基片湿法去胶系统概述：最新技术的兆声和清洗技术的发展，对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了最新的水平，可以帮助用户获得最干净的晶圆片和掩模版。NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(LSC)系统，用于最先进的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片，包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到最优化的清洗效果，兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的专利技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面，通过分布能量的最大化支持最理想的清洗，同时保证在样片的损伤阈值范围内。LSC系统提供了可控的化学试剂滴胶能力，这使得颗粒从基片表面的去除能力得以进一步加强。LSC和SWC具备对点试剂滴胶系统，可以最大程度节省化学试剂的用量的。滴胶系统支持可编程的化学试剂混合能力，提供了可控的化学试剂在整个基片上的分布。通过联合使用化学试剂滴胶和NANO-MASTER的兆声清洗技术，系统去除颗粒的能力得到进一步优化。颗粒从表面被释放的能力也因此得到提升，从而被释放的颗粒在幅流的DI水作用下被扫除出去，而把回附的数量降到了最低水平。从基片表面被去除。如果没有使用幅流DI水的优势，最先进的静态可循环兆声清洗槽会有更大数量的颗粒回附，并且因此需要更多的去除这些颗粒。此外，NANO-MASTER的清洗机都还提供了一系列的选配功能。PVA软毛刷提供了机械的方式去除无图案基片上的污点和残胶。DI水臭氧化的选配项提供了有机物的去除，而无须腐蚀性的化学试剂。我们的氢化DI水系统跟兆声能量结合可以达到纳米级的颗粒去除。根据不同的应用，某些选配项将会进一步提高设备去除不想要的颗粒和残留物的能力。LSC系统能够就地实现热氮或异丙醇甩干。“干进干出” 一步工艺可以在我们的系统中以最低的投资和购置成本来实现。NANO-MASTER清洗机的工艺处理时间可以在3-5分钟内完成，具体是3分钟还是5分钟取决于基片的尺寸以及附加的清洗配件的使用情况。NANO-MASTER的技术也适用于清洗背部以及带保护膜掩模版前面的对准标记，降低这些掩模版的不必要去除和重做保护膜的几率。它也可以用于去除薄膜胶黏剂的黏附性并准备表面以便再次覆膜。此外，带薄膜掩模版的全部正面的兆声清洗以及旋转甩干可以做到无损并且对薄膜无渗漏。LSC是占地面积较小，并且很容易安装在空间有限的超净间中。该系列设备都具有出众的清洗能力，并可用于非常广泛的基片。LSC-5000 (AD)全自动兆声大基片湿法去胶系统应用：光刻胶去除/剥离硅片蓝宝石片圆框架上的芯片显示面板ITO涂覆的显示屏带保护膜的分划版掩模版空白部位掩模版接触部位带保护膜/不带保护膜的掩模版LSC-5000(AD)全自动兆声大基片湿法去胶系统的特点：支持450mm直径的圆片或15”x15”方片带兆声、DI、刷子、热DI、高压DI、热氮、化学试剂滴胶臂的大腔体带化学试剂滴胶的刷子转速可调节带LABVIEW软件的PC全自动控制触摸屏用户界面机械手上下载片，带EFEM以及SMIF界面安全互锁及警报装置30”D x 26”W 的占地面积 LSC-5000(AD)全自动兆声大基片湿法去胶系统选配项：化学试剂传输模块Piranha溶液清洗 臭氧化DI水（20ppm的O3）氢化的DI水高压DI水热DI水溶剂和酸分离排放IR红外加热DI水循环机耐火立柜

兆声湿法去胶技术LSC-4000 (D) 兆声大基片湿法去胶系统概述：最新技术的兆声和清洗技术的发展，对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了最新的水平，可以帮助用户获得最干净的晶圆片和掩模版。NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(SWC)系统，用于最先进的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片，包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到最优化的清洗效果，兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的专利技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面，通过分布能量的最大化支持最理想的清洗，同时保证在样片的损伤阈值范围内。SWC系统提供了可控的化学试剂滴胶能力，这使得颗粒从基片表面的去除能力得以进一步加强。SWC和LSC具备对点试剂滴胶系统，可以最大程度节省化学试剂的用量的。滴胶系统支持可编程的化学试剂混合能力，提供了可控的化学试剂在整个基片上的分布。通过联合使用化学试剂滴胶和NANO-MASTER的兆声清洗技术，系统去除颗粒的能力得到进一步优化。颗粒从表面被释放的能力也因此得到提升，从而被释放的颗粒在幅流的DI水作用下被扫除出去，而把回附的数量降到了最低水平。从基片表面被去除。如果没有使用幅流DI水的优势，最先进的静态可循环兆声清洗槽会有更大数量的颗粒回附，并且因此需要更多的去除这些颗粒。此外，NANO-MASTER的清洗机都还提供了一系列的选配功能。PVA软毛刷提供了机械的方式去除无图案基片上的污点和残胶。DI水臭氧化的选配项提供了有机物的去除，而无须腐蚀性的化学试剂。我们的氢化DI水系统跟兆声能量结合可以达到纳米级的颗粒去除。根据不同的应用，某些选配项将会进一步提高设备去除不想要的颗粒和残留物的能力。SWC系统能够就地实现热氮或异丙醇甩干。“干进干出” 一步工艺可以在我们的系统中以最低的投资和购置成本来实现。NANO-MASTER清洗机的工艺处理时间可以在3-5分钟内完成，具体是3分钟还是5分钟取决于基片的尺寸以及附加的清洗配件的使用情况。NANO-MASTER的技术也适用于清洗背部以及带保护膜掩模版前面的对准标记，降低这些掩模版的不必要去除和重做保护膜的几率。它也可以用于去除薄膜胶黏剂的黏附性并准备表面以便再次覆膜。此外，带薄膜掩模版的全部正面的兆声清洗以及旋转甩干可以做到无损并且对薄膜无渗漏。SWC是一款带有小占地面积的理想设备，并且很容易安装在空间有限的超净间中。该系列设备都具有出众的清洗能力，并可用于非常广泛的基片。LSC-4000 (D) 兆声大基片湿法去胶系统应用：光刻胶去除/剥离硅片蓝宝石片圆框架上的芯片显示面板ITO涂覆的显示屏带保护膜的分划版掩模版空白部位掩模版接触部位带图案/不带图案的掩模版LSC-4000 (D) 兆声大基片湿法去胶系统的特点：支持450mm直径的圆片或15”x15”方片带兆声、DI、刷子、热DI、高压DI、热氮、化学试剂滴胶臂的大腔体带化学试剂滴胶的刷子转速可调节带LABVIEW软件的PC全自动控制触摸屏用户界面手动上下载片安全互锁及警报装置30”D x 26”W 的占地面积 LSC-4000 (D) 兆声大基片湿法去胶系统选配项：化学试剂传输模块Piranha溶液清洗 臭氧化DI水（20ppm的O3）氢化的DI水高压DI水热DI水溶剂和酸分离排放IR红外加热DI水循环机耐火立柜机械手上下载片，带EFEM以及SMIF界面

实验室湿法XMQ智能锥形球磨机 小型立式溢流型球磨机生产厂家实验球磨机使用说明 该实验磨矿设备可任意设置磨料时间，也可用在干、湿磨，采用变频技术，调速范围宽，磨料、混料、均匀样样方便，设备安装不需地基处理，噪音低，无粉尘污染，工作清洁方便，研磨密封性能好。该机是实验室用小型、轻便、多用途新型磨矿设备。可供冶金、地质化工、建材、和煤炭等实验室，研究单位及选矿厂进行矿石可选性研究工作时磨细矿作用。本产品性能，结构合理，制样效率高，密封性能好，适用于各种金属和非金属矿石原料化验试样的粉碎加工。实验球磨机结构 本机由给料部、出料部、回转部、传动部（减速机，小传动齿轮，电机，电控）等主要部分组成。中空轴采用铸钢件，内衬可拆换，回转大齿轮采用铸件滚齿加工，筒体内镶有耐磨衬板，具有良好的耐磨性。本机运转平稳，工作稳定。实验球磨机适用范围 凡需做化验粉碎加工的地质、矿山、冶碳、煤炭、建材和电力部门的生产，单位均可选 用，同时用于涂料、油墨、燃料、食品工业部门超细磨加工。球磨机是物料被破碎之后，再进行粉碎的关键设备。球磨机广泛应用于水泥，硅酸盐制品，新型建筑材 料、耐火材料、化肥、黑色与有色金属选矿以及玻璃陶瓷等生产行业，对各种矿石和其它可磨性物料进行干式或湿式粉磨。实验球磨机工作原理 本球磨机为卧式筒形旋转装置，外沿齿轮传动，两仓，格子型球磨机。物料由进料装置经 入料中空轴螺旋均匀地进入磨机为本仓，该仓内有阶梯衬板或波纹衬板，内装不同规格钢球，筒体转动产生离心力将钢球带到一定高度后落下，对物料产生重击和研 磨作用。物料在为本仓达到粗磨后，经单层隔仓板进入第二仓，该仓内镶有平衬板，内有钢球，将物料进一步研磨。粉状物通过卸料箅板排出，完成粉磨作业。实验球磨机技术参数型号 项目XMQΦ150×50XMQΦ240×90XMQΦ350×160给矿量200g500～1000g4000g给料粒度-3mm-3mm-3mm出料粒度-0.074mm-0.074mm-0.074mm电动机0.25kw0.55kw1.1kw外形尺寸915×530×1160mm1052×640×1160mm700×575×1190mm机 重150kg170kg300kg

LSC-5000 (AD)全自动兆声大基片湿法去胶系统应用：光刻胶去除/剥离硅片蓝宝石片圆框架上的芯片显示面板ITO涂覆的显示屏带保护膜的分划版掩模版空白部位掩模版接触部位带保护膜/不带保护膜的掩模版LSC-5000(AD)全自动兆声大基片湿法去胶系统的特点：支持450mm直径的圆片或15”x15”方片带兆声、DI、刷子、热DI、高压DI、热氮、化学试剂滴胶臂的大腔体带化学试剂滴胶的刷子转速可调节带LABVIEW软件的PC全自动控制触摸屏用户界面机械手上下载片，带EFEM以及SMIF界面安全互锁及警报装置30”D x 26”W 的占地面积 LSC-5000(AD)全自动兆声大基片湿法去胶系统选配项：化学试剂传输模块Piranha溶液清洗 臭氧化DI水（20ppm的O3）氢化的DI水高压DI水热DI水溶剂和酸分离排放IR红外加热DI水循环机耐火立柜

行星式球磨仪适用于实验室样品的研磨，是超细粉粉碎、制药行业样品处理、新材料的上佳选择，该球磨仪利用行星公转同时自转的原理，研磨球在研磨罐内进行高速运动，通过高能的摩擦力和撞击力实现样品的粉碎，可快速将样品研磨至1um以下。 技术参数：1.最大进样尺寸：10 mm2.最大处理量：4 X 500ml3.最终精度： 1um4.最多同时处理的样品数量：4种5.研磨碗的体积有：100 ml，250 ml，500 ml 3种规格6.研磨球的直径有：3mm，5 mm，10 mm，15mm，20mm，30mm，40mm 等不同规格。7.研磨方法：干法/湿法8.可以在惰性气体中进行研磨9.电源：240 V、250W10.重量：毛重 42 kg 11、多种体积和规格的研磨罐选择：如不锈钢、碳化钨、氧化锆、玛瑙、烧结刚玉等。 标准配置:(1)研磨主机1台。(2)500ml不锈钢罐4个，不锈钢球500个。

行星式球磨仪适用于实验室样品的研磨，是超细粉粉碎、制药行业样品处理、新材料的上佳选择，该球磨仪利用行星公转同时自转的原理，研磨球在研磨罐内进行高速运动，通过高能的摩擦力和撞击力实现样品的粉碎，可快速将样品研磨至1um以下。 技术参数：1.最大进样尺寸：2.最大处理量：4 X 500ml3.最终精度： 1um4.最多同时处理的样品数量：4种5.研磨碗的体积有：100 ml，250 ml，500 ml 3种规格6.研磨球的直径有：3mm，5 mm，10 mm，15mm，20mm，30mm，40mm 等不同规格。7.研磨方法：干法/湿法8.可以在惰性气体中进行研磨9.电源：240 V、250W10.重量：毛重 42 kg 11、多种体积和规格的研磨罐选择：如不锈钢、碳化钨、氧化锆、玛瑙、烧结刚玉等。 标准配置:(1)研磨主机1台。(2)500ml不锈钢罐4个，不锈钢球500个。

电池用湿法隔膜透气度仪应用范围 GTR-704R 透气度仪适用于电池隔膜、交换膜、炭纸、纸张、纺织品等材料透气度指标的测定。 主要特点 1．一键试验，全自动测试 2．工业 TFT 屏，触摸屏操作 3．零导航深度的扁平化界面 UI，操作更加方便快捷 4．气动夹样 5．s/100ml，um/Pa.s 多单位显示 6．微型打印机打印试验报告 7．自动过载保护 8．标准通信接口技术指标 测试范围：10-15000s/100ml（标准配置） 其他量程可选。 分 辨 率：0.1s/100ml 试样件数：1 件 压力范围：20kPa 压力精度：0.01kPa 测试面积：1.0in2 . （0.25in2 , 0.1in2可选） 试样厚度：≤5mm 试验气体：洁净空气（用户自备） 气源压力：0.3MPa-1.0MPa 接口尺寸：Ф6mm 外形尺寸：370mm（L）×320mm（D）×220mm（H） 电 源：AC 220V 50Hz 净 重：20 kg 执行标准 ISO 5636.5，ASTM D726, TAPPI T460， GB/T 36363-2018 产品配置 标准配置：主机、测量头（1.0in2）、超水过滤器、调压阀 选 购 件：校准器具

LY-DOAS 热湿法紫外差分气体测量光学模块一、产品概述 LY-DOAS热湿法紫外差分气体测量光学模块，采用紫外差分吸收光谱（DOAS）技术，可同时测量SO2、NOx等有害气体；模块气室采用130℃高温温控，在高温、高湿环境下实现样气浓度测量，避免气体溶解损失，集气体分析与预处理为一体，具有测量精度高、响应速度快、多组分同时检测、抗干扰能力强、检出限低等诸多优点；自主设计开发，机械结构可按需求灵活定制。二、原理特点 当光源发出的紫外-可见连续光谱经过含有被测气体的样气时，特定波长光能被样气中的目标气体吸收，光的吸收（吸光度）与目标气体浓度呈正比，采用光谱分析和化学计量学方法建立起实验室标定的差分吸光度和目标气体浓度之间的经验曲线，根据现场被测样气的差分吸光度实时计算样气中目标气体浓度。三、产品特点采用紫外差分吸收光谱法，实时检测SO2、NO、NO2等气体浓度，不受水气、粉尘干扰采用自主开发深紫外光谱仪，优化紫外光谱响应性能采用低功率脉冲氙灯光源，功耗低、寿命长、预热时间短气室采用恒定高温控制，避免溶解损失，保证检测结果的准确性和稳定性直接检测NO2，无需转化炉量程可定制机械结构可按需求定制。四、应用领域 固定污染源废气分析移动污染源排气分析工业过程气体分析实验室气体分析

金蓉园行星式球磨仪适用于实验室样品的研磨，是超细粉粉碎、制药行业样品处理、新材料的上佳选择，该球磨仪利用行星公转同时自转的原理，研磨球在研磨罐内进行高速运动，通过高能的摩擦力和撞击力实现样品的粉碎，可快速将样品研磨至1um以下。 技术参数：1.最大进样尺寸：10 mm2.最大处理量：4 X 500ml3.最终精度： 1um4.最多同时处理的样品数量：4种5.研磨碗的体积有：100 ml，250 ml，500 ml 3种规格6.研磨球的直径有：3mm，5 mm，10 mm，15mm，20mm，30mm，40mm 等不同规格。7.研磨方法：干法/湿法8.可以在惰性气体中进行研磨9.电源：240 V、250W10.重量：毛重 42 kg 11、多种体积和规格的研磨罐选择：如不锈钢、碳化钨、氧化锆、玛瑙、烧结刚玉等。 标准配置:(1)研磨主机1台。(2)500ml不锈钢罐4个，不锈钢球500个。

■ 安装在生产现场■ 自动取样■ 自动测试■ 自动控制（选配）简要说明Online 2 是一种应用于湿法研磨生产线上实时进行粒 度监测与控制的在线粒度监测与控制系统。它安装在砂 磨机等湿法研磨或反应釜旁边，实现自动取样、自动测 量和自动控制。系统应用示意图应用领域锂电池正极材料、制药、油墨以及其他湿 法研磨过程中的浆料的粒度监测与控制。突出特点独特的取样方式：采用自吸式自动取样方式，可根据 监测需要控制取样量，具有自动稀释、自动清洗（包 括取样后反向清洗）、自动排放等功能。一机多用：一台 Online 2 可以监测 1-4 条生产线， 并 且具有根据监测数据对生产设备实施控制，保证产 品 稳定，节能高效。内置循环分散系统：内置离心循环泵，超声分散器和 大功率超声波分散器，双水位测量、自动进排水和清 洁功能，实现监测过程自动化，保证样品充分分散和 有效检测，结果稳定可靠。适用于有机相：配有废液过滤系统，使有机溶剂循环 利用，降低监测成本，消除污染。准确性验证：用标准样品对系统进行准确性验证，保 证监测数据准确可靠。测试范围宽，精度高 : 将实验室仪器技术运用到在线 系统当中，采用正反傅里叶结合光路，共有 92 个光 电探测器，主要测试指标与实验室仪器相同。自动测试技术：系统自动运行，无需人为干预。独特技术独特的光学系统：正反傅里叶结合光路系统 是具有相关技术，能同时探测前向、侧向和 后向散射光信号，加上倾斜样品池技术，实 现全角度测量，对超细样品具有很高的分辨 力，提升了测量范围，提升了细颗粒端的测 量精度，提升了分辨率。复动型自动取样技术：实现样品自动送回和自动排放。取样时，复动型气缸自动向下运动取样，料流进入取 样腔中，自吸式取样系统开始取样。取样结束后，复动型气缸自动向上运动，系统会自动进行反冲清洗管路， 保证取样管路干净不存有测试样品。反冲液会从取样腔下半部分流出，保证废液不回流到产品管道内，避免 了交叉污染。现场取样器位置只需气管连接控制，适用于有防爆要求的用户现场。在 线 监 测 关 注 点： 监 测 可 以 灵 活 设 置， 如 D10、D50、D90、D97、D98、跨度、D[4,3] 等。 系统可依据监测的粒度数据，通过 4-20mA、 Modbus 等协议传输到 DCS 系统上进行对粒 度的把控。可设置不同的 SOP：通过对不同产品设置不 同的 SOP，测试时可以直接选择对应 SOP， 点击启动后自动测试。技术参数测试范围0.02-2000 μm重复性误差≤ 0.5％（标样 D50 偏差）准确性误差≤ 0.5％（标样 D50 偏差）测量原理Mie取样方式精密蠕动泵，可配 1-4 路取样泵 最小测试间隔：1 秒（大于 1 秒可任意设定）激光光源进口光纤激光器光路系统正反傅里叶结合光路内置超声50 W光电探测器92 个控制方式Modbus - RTU 协议、TCP 协议、4 - 20 mA在线探头超声分散100-700 W（选配件） 供排水系统：全自动电源AC220 V、50/60 Hz、200 W体积782×530×1592 mm（主机）重量85 kg监测项目典型粒度变化典型值趋势粒度分布体积平均径 D [4,3]面积平均径 D [3,2]典型粒径：D10、D50、D90、D97、D98 等

济南微纳2006全自动湿法激光粒度仪/粉末检测仪一、产品简介 Winner2006全自动湿法激光粒度仪 是Winner2005智能型宽分布湿法激光粒度仪的升级产品，开拓了宽分布颗粒测试的新领域。 Winner2006全自动湿法激光粒度仪采用先进的测试原理、独特的计算模式以及权威的校准方式，使该款仪器具有测试结果准确、测试重复性好、分辨率高等突出优点，是宽分布颗粒粒度测试的最佳选择。 济南微纳2006全自动湿法激光粒度仪/粉末检测仪二、适用范围 Winner2006全自动湿法激光粒度仪广泛应用于水泥、陶瓷、药品、乳液、涂料、染料、颜料、填料、化工产品、催化剂、钻井泥浆、磨料、润滑剂、煤粉、泥砂、粉尘、细胞、细菌、食品、添加剂、农药、炸药、石墨、感光材料、燃料、墨汁、金属与非金属粉末、碳酸钙、高岭土、水煤浆及其他粉状物料。三:技术参数规格型号Winner2006AWinner2006B执行标准ISO13320-1:1999，GB/T19077.1-2008，Q/0100JWN001-2013测试范围0.01-780μm0.1-1000μm探测器通道数6849准确性误差0.5%（国家标准样品D50值）重复性误差0.5%（国家标准样品D50值）激光器参数主激光源：美国进口半导体光纤激光器 λ= 650nm, p2mW辅助激光源：半导体激光器，λ= 650nm，p2mW，使用寿命：＞25000H内置分散方法超声频率：f=40KHz, 功率：p=35W, 时间：≥1S搅拌转速：0-3000rpm转速可调循环额定流量：10L/min 额定功率：15W样品池容量：450mL操作模式软件操作 / 全自动操作模式可切换自动对中系统全自动对中系统软件功能分析模式包括自由分布、R-R分布和对数正态分布、按目分级统计模式等，满足不同行业对被测样品粒度统计方式的不同要求。统计方式体积分布和数量分布，以满足不同行业对于粒度分布的不同统计方式。 统计比较可针对多条测试结果进行统计比较分析，可明显对比不同批次样品、加工前后样品以及不同时间测试结果的差异，对工业原料质量控制具有很强的实际意义。自定义分析用户自定义分析参数，根据粒径求百分比、根据百分比求粒径或根据粒径区间求百分比，以满足不同行业对粒度测试的表征方式。 测试报告测试报告可导出Word、Excel、图片（Bmp）和文本（Text）等多种形式的文档，满足在任何场合下查看测试报告以及科研文章中引用测试结果。 多语言支持中英文语言界面支持，还可根据用户要求嵌入其他语言界面。 智能操作模式具有智能操作模式，可以自动控制进水、分散、测试等步骤，不但减轻测试人员的工作量，而且由于无人为因素干扰，测试结果的重复性更好。 测试速度2min/次体积850mm*390mm*450mm重量40Kg 济南微纳2006全自动湿法激光粒度仪/粉末检测仪四、Winner2006全自动湿法激光粒度仪产品特点（1） （1）采用美国进口半导体光纤激光器作为主光源。此光源采用单膜光纤，性能可靠、结构紧凑、寿命长、免维护、电光转换效率高、以及在全功率范围内，光束发散角和光束质量完全保持一致。（2） （2）主探测器采用最新设计的TD41型探测器，尽可能提高了主探测的测试下限，可以和辅助探测器实现无缝衔接，克服了主探测器和辅助探测器交接处测试不准确的问题。（3） （3）辅助探测器采用日本进口带滤光的光电探测器，在排列上使用电路板一体成型技术，更好地提高了小颗粒的测试准确度。（4） （4）为了保证本款仪器测试上限，采用了更大功率的循环泵，有效降低了泵体的磨损。 售后承诺：1.一月内达不到用户使用要求可退换货。2.一年内免费上门保修，维修或更换零件均不收任何费用。3.提供10年内上门保修、维护、调试、培训等服务。4.同型号产品软件终生免费升级。 济南市场部http://www.instrument.com.cn/netshow/C82577.htm

仪器简介：德国Fritsch公司是实验室样品预处理（研磨机)和颗粒度分析的专家。德国Fritsch公司P23生化颜料微型制样研磨机/仪,通过研磨球与研磨碗沿垂直方向振动的撞击力和摩擦力实现样品的粉碎。该生化颜料微型制样研磨机/仪适用于化学分析，色谱，质谱，X射线衍射分析，基因测试中的样品得制样，法医分析提取物的预处理，燃料及贵重材料的研磨。还可用于生化样品的超低温冷冻研磨。技术参数：1.最大进样尺寸：6 mm2.最大处理量：5 ml3.最终精度：5 um4.研磨碗的体积有：5 ml，10 ml，15 ml 3种规格5.研磨球的直径有：3mm，5 mm，10 mm，15mm 4种规格6.研磨方法：干法/湿法7.外观尺寸（W×D×H）：20 × 30 × 30 cm8.研磨碗和研磨球沿垂直方向的振动频率：900 - 3000次/分钟 振幅：9mm9.重量：净重7kg，毛重8kg主要特点：1.适用于任何少量的实验室干性样品或悬浮液的制样，以及少量乳浊液的均一化处理。2.可实现少量的生化样品，颜料，食品，农产品，植物根茎，树叶，人及动物的毛发，矿物岩石等从柔软到坚硬的样品的研磨。3.具有极高的性价比。4.高效，快速，具有重复性的研磨过程。5.数字显示式操作，操作极为简单，便于清洗。6.体积小巧，结构紧凑，振动非常轻微。可将整个仪器放入冰箱中，进行酶和蛋白质等活体组织的恒温破碎。7.可用于法医的痕量分析以及较为贵重的少量样品的粉碎。8.有5种不同材质的研磨装置可供选择，包括氧化锆、不锈钢、调制钢、PTFE、玛瑙。

德国Fritsch公司是实验室样品预处理和颗粒度分析的专家。 德国Fritsch公司的P 6单罐行星式高能球磨机/仪，早在1962年便获得专利。该研磨机利用行星公转、自转原理，研磨球在研磨碗内进行高速的运动，通过高能的摩擦力和冲击力实现样品的粉碎，可快速将样品研磨至1&mu m以下。 该单罐行星式高能球磨机/仪适用于实验室坚硬的到软而脆的样品及悬浊液中样品的研磨，是超细粉粉碎，制药行业样品处理，新材料的制备，以及材料的机械合金和机械活化的上佳选择。 行星式高能球磨机（仪）可与Fritsch公司的GTM（气体温度和压力测量系统）联用，GTM系统是全球唯一的一个可以在研磨过程中测定研磨碗中气体温度和压力变化的系统。 技术参数：1. 研磨碗的体积有：80 ml，250 ml，500 ml 3种规格2.研磨球的直径有：3mm，5 mm，10 mm，15mm，20mm，30mm，40mm 7种规格 3. 最终精度： 1&mu m4. 最多可同时处理的样品数量：2种5. 最大进样尺寸： 10 mm6. 最大处理量：225 ml7. 研磨方法：干法/湿法8. 可以在惰性气体中进行研磨9. 电学描述：100 -120 / 200 -240 V/1～，50-60 Hz 1100 Watt10.重量：净重63 kg ，毛重93 kg11.尺寸(宽× 高× 长)：37× 53× 50 cm 主要特点：1.主要用于实验室激光光谱分析，化学，制药，生物，玻璃，陶瓷，建筑材料，煤炭原材料的精密研磨，食品行业实验室样品的预处理及材料技术，地质学，矿物学和核工业的研究领域。2. 可实现最终颗粒大小 1&mu m的超细粉末研磨。3. 可设置精确到秒的研磨时间和冷却时间，以及研磨频率。4. 分析纯等级的研磨材料确保了无污染研磨。5. 仪器及研磨元件便于清洗，最低限度的降低了样品的污染。6. 可充入惰性气体进行研磨。7. 可在研磨时使用Fritsch公司的GTM系统，测量研磨状态下研磨碗内部气体温度和压力的变化。8. 有7种不同材质的装置可供选择，包括玛瑙，氮化硅，氧化铝，氧化锆，不锈钢，调制钢，硬质碳化钨。

纳米级球磨机/高速行星球磨机JQ-NM JQ-NM纳米级球磨机也叫高速行星球磨机，翻开了高科技研磨的新篇章。研磨碗嵌入主盘中，转速可达1100rpm,相当于95倍的重力速度。其结果是在极短时间内样品最终研磨细度可以达到纳米级别。产品特点：l JQ自动化控制系统1～10段以上的梯度程序运行模式，每段梯度程序可运行100个由时间\转速\正反转的运行方式。l 进行自动化运行模式。所有周期可记忆，再次运行此模式，提取使用，如果不需要直接删除即可。可以记忆10段程序。不用每次编排，节省时间和人力。l 研磨室设计密封防尘，带观察窗l 与介质接触的罐子材质均不能给介质带来污染l 最大连续工作时间（满负荷）：72小时l 噪音：超低噪音德国技术 运作无噪音无振动l 七寸液晶触摸屏幕、数字屏（附带旋钮调节转速）可随意切换正传/反转/定时/多段设置/等，直接屏幕设定，操作简单l USB接口，可远程升级设备功能，提高设备软件能力，如果连接冷水系统和TM无线温度传感系统,可无线显示和控制温度 ，可连接电脑，由电脑控制。 通过单台电脑软件控制多台球磨机的强大高通控制能力。型号JQ-NM订货号JQ001631-0115最大进样尺寸≦10mm最大处理量1000ml最终细度150纳米(物料不同略有差异)最多可同时处理的样品数量4个研磨罐的容量50ml--1000ml研磨罐材质不锈钢、 碳化钨、石英、 玛瑙、尼龙… … 研磨球的直径根据罐子和物料配置研磨方法 湿法重量 170kg尺寸(长宽高)800x500x500mm

筛分设备有很多种类型，根据材料的情况和工艺不同，需选择对应适合的筛分设备，湿法筛分是材料质量检测中常用的一种方法，通过湿法筛分可以获得材料的粒径分布情况，从而判断其适用性和质量。湿法筛分检测的原理是将待测材料加入筛分器中，通过筛网的筛分作用，将材料分成不同粒径的颗粒，然后根据筛分结构计算出粒径分布曲线和相关参数。VIBLETTE湿法筛分析仪是款处理精密湿筛粒度分析仪，主要用于测量细微材料粒度分析，材料低至10微米，非常适合于粘性材料和那些容易堵塞测试筛网得材料。与干筛一样，将样品放在测试筛上并在筛分前称重，水通过样品上方的旋转喷头喷洒，使样品分散。该VIBLETTE提供了一个振动机制，以协助分散的样品凝聚和打破潜在的液体膜上的筛，以实现稳定的筛分。根据材料的不同，常见的样品重量在50g到200g之间，湿循环后，需要对试验筛筛和物料样品进行干燥，以确定预洗后的样品与保留在筛表面的样品的重量之差。采用预先设定的一组可控参数，包括试验筛的筛目、筛分时间、水流速率和振动频率，保证了该颗粒分析方法的重复性和可靠性。VIBLETTE VBL-F湿法筛分仪广泛应用于科研与开发、对原材料、中间产品、最终产品的质量控制以及生产监控的领域。筛分硅微粉颗粒下面VBL-F超声波版是用5微米筛网筛分硅微粉的筛余物和过筛电镜片VIBLETTE特点：操作简单，分析时间短重复性精确测量电磁筛振动消除膜堆积水压高，流量大CE标准，安全保证干粉样进样减少废筛液测量范围为10 ~ 4750µ m使用标准的200毫米或8英寸测试筛网每分钟最多8升液体适用于水或其它洗涤溶液独立的水/溶液流量，喷嘴速度和振动控制 主要应用：氢氧化镁：阻燃剂熟石灰：土壤改良钛白粉：墨水、化妆品炭黑：墨水、轮胎颜料：无机颜料、有机颜料硅微粉：密封剂钛酸钡：多层陶瓷电容器超硬颗粒：磨料介质二氧化锰：电池材料崩解剂：药片辅料

小身材，大能量，迷你静音的毛发研磨仪JXMF-06便携式毛发研磨仪是在水平方向上进行三维运动，对样品进行研磨。研磨球/小珠的惯性带动它们以高能量撞击位于弧形内表面的样品材料，从而达到粉碎研磨的效果。适配器的运动可与内部小球的运动叠加，将样品充分混和。 应用领域：适用于毛发、痰液、植物、食品、微生物等各种组织研磨。主要特点：1.便携式设计，体积小重量轻，方便携带。2.通量高，效果好，快速准确。3.强大的搅拌裂解、研磨或均质化。4.操作简单，安全设计，保证操作安全。5.便携式移动电源适配，随时随地可使用。产品优势：易操作：方便操作的夹具设计，轻轻一拧即可适用强：可选配手提箱，移动电源方便携带，随时随地可用体积小：只有215*160*175，比掌上离心机稍大一点性价比高：价格只需几千元效率高：1-6个样品，干磨仅需1分钟，湿磨3分钟无污染：每个样品独立研磨管中处理，避免交叉污染技术参数：主要参数参数范围材质：塑料容量：2/5ml电源电压：DC24V通量：1*2ml/2*5ml/3*2ml/4*2ml/6*2ml功率：60W蓄电池容量：6000mAh 研磨时间：1-9999S可调；安全保护：工作安全锁 噪音等级：54dB 尺寸：215*160*175mm重量：2kg研磨效果图：

莱驰RETSCH 混和型研磨仪 MM 400冷冻混合球磨仪MM400是一个优异的多用途粉碎设备，设计用于少量样品的干法、湿法和低温研磨，最大容量为2 x 20毫升。能在几秒钟内以30Hz的频率对粉末和悬浮液进行混合和均质，速度之快，操作之简便，无以伦比。 MM400适用于经典的均质化过程，也适用于生物细胞破碎以提取DNA/RNA和蛋白质。长达99小时的处理时间使MM 400非常适合于研究应用，例如机械化学合成领域。 就MM400的性能和灵活性而言，目前市场上还没有同等的设备可以匹敌。应用案例莱驰冷冻混合球磨仪是优异的多用途研磨仪。例如，研磨合金、动物饲料、骨骼、陶瓷、谷物、化工产品、煤、焦炭、药品、电子废料、玻璃、谷物、头发、矿物、油籽、矿石、纸张、植物材料、塑料、污水污泥、土壤、稻草、片剂、纺织品、纸巾、烟草、废样品、木材、羊毛。

仪器系统 功能 湿法转印电泳 可快速高效地转印蛋白样品，尤其是200kD以上的大分子蛋白，转印重现性好 凝胶大小 22.0 x 19.0cm 不同规格以满足不同的应用 凝胶容量 1-4块 根据样品量多少可调节凝胶数量 转印夹板 正负极夹板颜色不同 根据颜色来判断转印夹板的正负极，不会放反 冷却循环装置 面积大 有效制冷，可防止因转印时间长而导致局部温度过高，条带变形 配置 灵活 即可作为独立的湿法转印设备，也可作为一个模块与Eco垂直电泳槽兼容 产品特点： 1蛋白质转印快速、高效、重现性好 2、特别适用于分子量200kDa以上的大分子蛋白质和对温度敏感的蛋白质（如某些酶类） 3、槽壁上有大面积的整合式冷却夹层，不断循环，高效冷却，使得转印时整个槽内的温度达到高度均一（缓冲液为6℃，其温度均一性为± 0.5℃），比普通的通过磁力搅拌混匀的方式效果更好，可实现超过12h以上的连续工作 4、最多可同时进行4块凝胶的转印

产品介绍 BT-Online2 是一种应用于湿法研磨生产线上实时进行粒度监测与控制的在线激光粒度监测与控制系统。它安装在砂磨机等湿法研磨或反应釜旁边，实现自动取样、自动测量和自动控制。它在数据异常时系统会自动报警提示，在研磨设备具有信息化控制终端时，本系统还可对研磨系统实施控制，实现粒度监测与控制同步，保证产品粒度稳定。基本性能指标 测试范围 0.02-2000μm 准确性误差 ≤0.5%(标样 D50 偏差) 重复性误差 ≤0.5%(标样 D50 偏差) 测量原理 Mie 取样方式 精密蠕动泵，可配1-4路取样泵 最小测试间隔 1秒（大于1秒可任意设定） 激光光源 进口光纤激光器 光路系统 正反傅里叶结合光路 内置超声 50W 光路探测器 92个 控制方式 Modbus-RTU协议、TCP协议、4-20mA 在线探头超声分散 100-700W（选配件） 供排水系统 全自动 电源 AC220V、50/60Hz、200W 体积 782x530x1592mm（主机） 重量 85kg监测项目● 典型粒度变化典型值趋势粒度分布● 体积平均径D[4,3]● 面积平均径D[3,2]● 典型粒径:D10、D50、D90、D97、D98等应用领域● 锂电池正极材料、制药、油墨以及其他湿法研磨过程中的浆料的粒度监测与控制。突出特点● 独特的取样方式：采用自吸式自动取样方式，可根据监测需要控制取样量，具有自动稀释、自动清洗(包括取样后反向清洗)、自动排放等功能。● 一机多用：一台BT-Online2可以监测 1-4条生产线并且具有根据监测数据对生产设备实施控制，保证产品稳定，节能高效。● 内置循环分散系统：内置离心循环泵，超声分散器和大功率超声波分散器，双水位测量、自动进排水和清洁功能，实现监测过程自动化，保证样品充分分散和有效检测，结果稳定可靠。● 适用于有机相：配有废液过滤系统，使有机溶剂循环利用，降低监测成本，消除污染。● 准确性验证：用标准样品对系统进行准确性验证，保证监测数据准确可靠。● 测试范围宽，精度高：将实验室仪器技术运用到在线系统当中，采用正反傅里叶结合光路，共有92个光电探测器，主要测试指标与实验室仪器相同。● 自动测试技术：系统自动运行，无需人为干预。独特技术● 独特的光学系统：正反傅里叶结合光路系统是百特专利技术，能同时探测前向、侧向和后向散射光信号，加上倾斜样品池技术，实现全角度测量，对超细样品具有很高的分辨力，提升了测量范围，提升了细颗粒端的测量精度，提升了分辨率。 ● 复动型自动取样技术：实现样品自动送口和自动排放。取样时，复动型气缸自动向下运动取样，料流进入取样腔中，自吸式取样系统开始取样。取样结束后，复动型气缸自动向上运动，系统会自动进行反冲清洗管路保证取样管路干净不存有测试样品。反冲液会从取样腔下半部分流出，保证废液不回流到产品管道内，避免了交叉污染。现场取样器位置只需气管连接控制，适用于有防爆要求的用户现场。● 在线监测关注点：监测可以灵活设置，如 D10、D50、D90、D97 D98、跨度、D[43]等。系统可依据监测的粒度数据，通过4-20mA、Modbus等协议传输到DCS系统上进行对粒度的把控。● 可设置不同的SOP：通过对不同产品设置不同的SOP，测试时可以直接选择对应SOP，点击启动后自动测试。

retsch研磨机McCrone XRD产品描述：McCrone XRD研磨机专为X射线衍射的样品制备而设计。它用于地质学，化学，矿物学和材料科学，质量控制和研发方面的应用。研磨机如此有效的原因在于其独特的研磨工艺，其中 48 种圆柱形研磨介质通过摩擦轻轻研磨样品。 因此研磨时间短，物料损失可忽略不计，粒度分布很窄。 晶格结构在很大程度上被保留，这是有意义的 X 射线衍射图的先决条件。研磨罐由一个 125 ml 聚丙烯罐组成，带有一个旋入式自密封聚乙烯封盖。 罐子里装满了由玛瑙、氧化锆或刚玉制成的 48 种相同研磨介质的有序电池组。醉佳的微粉化通常通过 3 - 30min的研磨时间来实现。 典型的应用量是 2 - 4 ml。典型样品材料：建筑材料，硼化物，玻璃，云母，碳化物，陶瓷，骨骼，金属，矿物，氮化物，植物部件，板岩，粘土，水泥特点：l 保留晶格结构l 窄的、可重现的粒度分布l 醉小的样品污染l 非常紧凑的台式设备l 研磨能力4级可调l 适用于湿磨和干磨l 易于清洁l 醉低维护要求l 安静运行技术参数：应用破碎、混合、摩擦 - 干法和湿法范围建筑材料、生物、地质、玻璃、陶瓷、冶金要进料的材料中硬、硬、脆、纤维进料粒度* 0.5 mm醉终细度* 1 μm速度在 50 Hz （60 Hz）1.000 - 1.500min-1，可在4个级别调节磨点数1典型磨削时间3 - 30min干磨是的湿法研磨是的低温研磨不磨削工具的材料玛瑙、氧化锆、刚玉研磨杯尺寸125ml设置磨削时间数字，00：00：01 至 99：59：50驱动直流电动机功率50w电气连接值100-240 V，50/60 Hz电源连接单相保护防护等级 30功耗100W宽 x 高 x 深205 x 155 x 520 mm净重19kg规范/标准CE*取决于样品材料和设备配置/设置

上海净信公司出品的全能型行星式球磨仪适合坚硬、中等硬度、脆性和纤维材料的湿法及干法粉碎和细化，出样细度可小于100nm，亦可用于悬浮液中固体的研磨、样品混合和均一化处理以及金属合金化等，均可达到完美出众的效果。样品处理量12000ml，可同时放置4个体积为3000ml的球磨罐使用，球磨罐材质有十余种提供选择。运用创新的齿轮降噪技术和全封闭式噪声隔离设计来控制运行噪声，有效提升实验室使用的舒适性，高效率的样品处理能力、独特的外观和结构设计、严格的生产工艺助力。上海净信JXFSTPRP成为用户欢迎的样品制备产品之一。处理原理：在研磨载体的几何结构和特殊运动方式的作用下，研磨介质与样品直接所产生的高频率、高强度的碰撞、剪切、摩擦，然后使得样品达到极其优秀的研磨效果，具有处理速度快，出样粒度小、均匀、一致等特点。在行星式球磨仪的使用中，样品的处理需要通过研磨介质的作用在球磨载体中进行，因此，球磨载体和球磨介质是行星式球磨机不可缺少也是主要的配件，净信研制的球磨载体和球磨介质有十余种不同材质可供组合选择，在针对物理和化学性能不同的样品处理时，可达到不同的处理效果。产品优点：可用于研磨、均质；适用于各种硬度的样品；适用于各种脆性、柔韧的样品；可干磨可湿磨 出样细度可小于100nm；样品最大处理量12000ml；超低噪音运行。应用样品：*药物类材料：人参，铁皮石斛，药片，药剂，甘草 *生物样品类：植物原料，骨头，烟草，珍珠*无机物类：玻璃，铁粉，铝粉，镁粉，陶瓷，氧化铝，金属氧化物，合金，石墨*有机物类：焦炭, 煤, 油墨, 纤维素，碳化纤维，下水道污泥，木头*矿石类：铁矿石，高岭土，石灰石，石膏，石英，矿物，矿石，粘土矿物，土壤，水泥熔渣，混凝土，炉渣*其他：纸张，芯片，聚合物，色素，纤维制品，催化剂，化学品，废弃样品技术参数：主要参数参数范围名称：行星式球磨仪型号：JX-5G操作方式：拨码按键款最小处理量：50ml/罐最大处理量：4*3000ml主盘转数：35~290r/min球磨罐转数：70~580r/min最大进样尺寸(材料各异)：≤10mm研磨室照明描述：/球磨载体材质：不锈钢(304/316)、碳化钨(WC)、尼龙(MC)、聚氨酯(PU)、聚四氟乙烯(PTFE)、聚丙烯罐(PP)、尼龙(PA)、氧化锆罐(ZRO)、刚玉罐(ALO)、玛瑙球磨罐(SIO)、真空球磨罐、聚氨酯真空球磨罐、刚玉真空球磨罐、玛瑙真空球磨罐等可选载体体积：50~3000ml球磨介质材质：不锈钢(304/316)、碳化钨球(WC)、玛瑙球(SIO)、氧化锆球(ZRO)、聚四氟乙烯球(PTFE) 、刚玉球(ALO)、聚丙烯球(PP)、尼龙球(PA)、聚氨酯球(PU)可选介质直径：3~20mm介质质量200~1000g应用样品特性：中低硬度的，硬性的，脆性的，纤维性的，黏性的出样粒度：＜100nm传动比（行星盘/球磨罐）：1:2正逆向运行：是危险紧急停止：是研磨方式：干磨/湿磨低温冷却处理：是（增配）惰性气体保护处理：是标准：CE净重：165kg尺寸（长*宽*高）：900*620*650mm实验案例一：描述：应用领域：中草药材料/原料：中药(甘草、黄芪等)入料量：500g 材料性质：烘干客户要求：研磨后粉末基本溶于水，能做冲剂后续分析 ：水溶性测试入料粒径大小：1-5mm方案：设备(仪器)选择：JX-4G配置：不锈钢罐配不锈钢球运行参数：自转500转/分钟，30分钟后正反转交替运行研磨时间：1小时研磨结果：可溶于水注意事项：研磨前需充分烘干方案建议：可以使用JX-4G研磨中草药实验案例二：描述：应用领域：食品行业材料/原料：咖啡豆入料粒径大小：1-3mm入料量：100g客户要求：磨到50μm以下后序分析：粒径分析方案：设备(仪器)选择：JX-4G罐子和球配置：不锈钢罐配不锈钢球运行参数：自转560转/分钟，每20分钟正反转交替运行结果(建议)：可以使用JX-4G研磨咖啡豆注意事项：加水湿磨研磨时间：4小时研磨结果：99%50μm实验案例三：描述：应用领域：环境材料/原料：土壤,小石子入料粒径大小：1mm入料量：500g材料性质：脆客户要求：50μm后序分析：粒径分析方案：设备(仪器)选择：JX-2G,行星式球磨仪罐子和球配置：玛瑙罐配玛瑙球运行参数：自转500转/分钟，30分钟后正反转交替运行研磨时间：1小时结果(建议)：可以使用行星球磨仪JX-2G研磨土壤研磨结果：100%50μm

New ClippIR+ AnalyzeIT湿法过程分析仪 ABB用于半导体工业中湿法过程在线、实时监测和控制的解决方案 在半导体制造业中，对湿法化学过程进行连续监测可以提高产量，降低故障率，使生产利润最大化 在半导体制造业中，为了提高企业的生产能力和产品质量，降低生产成本，需要对相关的湿法过程进行精确的控制。ABB公司的湿法过程分析仪（WPA）可以对各种刻蚀液、清洗液和去光胶液的化学浓度进行连续的在线监测，并为实时过程控制提供了必要的信息。 采用实时过程监测，企业能从化学制品有效期的延长、消耗与浪费的减少以及实验室测量工作的减轻等方面提高成本效益。实践表明，将SC1、SC2等清洗液的使用寿命延长25%到30%，WPA的投资成本一般可以在一年内收回。对于一些通用的有机化学试剂，它的成本回收期大约只有6个月左右。 WPA具有许多独特的技术优势，它能够对湿法过程中使用的30多种不同的溶液（见下页的列表）进行监测。另外，ABB公司还可以根据客户的具体要求定制专门的标准曲线。 WPA系统中包含的FTSW100过程控制软件，可以实现分析仪与湿法过程的完全集成。除了能够显示在过程流中监测到的各种化学成分的浓度值及其变化趋势外，该软件还有自动数据存储功能，当某些数值超出了许可范围时，该软件还会发出警告或报警。当清洗液成分不符合要求时，软件会报警通知操作人员，同时使设备自动阻挡清洗液的流入。 非接触式红外检测 WPA主机为傅立叶变换近红外光谱仪（FT-NIR），这种光谱仪通过光纤连接到名为ClippIR+的Teflon专利检测池。一次最多可以使用8个ClippIR+来同时监测各种化学溶液。ClippIR+的创新设计可以使其能够很容易地固定在现有管道的外表面上。穿过ClippIR+的红外光使系统可以直接监测管道内的化学物浓度，而不会造成任何污染。 ClippIR+专为半导体应用而设计，能够安装在任何尺寸的Teflon管上。由于它体积小，因此可以安装在很小的化学箱体之上，或者安装在湿法设备的其它任何部件之内。另外，它还具有抵抗化学腐蚀的能力，可以在强腐蚀性环境中使用。 FTPA-2000系列光谱仪可以在恶劣的工业条件下使用，它具有很小的外形尺寸（43× 41× 18厘米），可以安装在离ClippIR+远达100米处。它既可以在洁净室外作为一个独立的装置单独使用，也可以集成在整个过程分析仪系统中使用。 FTSW100过程控制软件中的测量屏幕将显示各种成份的浓度值与变化趋势：Teflon检测池 新型专利产品ClippIR+具有抗污染和抗化学腐蚀性能，并且不需要中断生产就可以在生产流路中快速安装。多路分析 1台WPA能够监测多达8种不同的过程流，对每个流路可以分析其4种配方（最多可达32个参数）。红外（IR）分析 半导体红外分析避免了在过程流中循环的溶解金属或其它颗粒物所造成的干扰。插入式测量 不需要引出过程支流，可通过光纤传输的红外线对管道中的过程流直接进行测量。远程监测 WPA可以设置在离测量点（ClippIR+）远达100米处，如果必要，还可以将其放在室外。 特点 可对湿法化学过程进行精确的、实时的在线监测； 非接触式测量； 快速测量 （＜1分钟，多种通讯协议）； 多过程流分析（最多可达8个流路）； 多组分分析（每个流路最多可达4种配方）； 通过光缆实现远程监测，外形尺寸小； 极高的稳定性与可靠性； 不需要使用试剂； 全球化的售后服务与技术支持。优势 由于延长了清洗液使用寿命，减少了化学品消耗量，并且无离线实验室分析所需要的停工期，因此节约了生产费用； 无化学品损耗，无污染，安装时无需停工； 能够实现实时过程控制； 每条过程流分析成本低； 增强了在技术要求很严格的场合的过程分析性能，减少了晶片清洗的次数； 灵活的安装选择； 无漂移，仅需少量维护； 交钥匙系统； 迅速的服务响应。ABB Analytical ABB（China）Ltd. 585 boulervard Charest E., Suite 300 中国 北京 100016 Quebec, QC G1K 9H4 Canada 朝阳区酒仙桥路 10 号恒通广厦 电话: 传真: 欲了解更多信息 电子邮件: 请访问我们的网站

仪器简介：德国Fritsch公司是实验室样品预处理（研磨机）和颗粒度分析的专家。 德国Fritsch公司的P 0 （registration number 10 2018 103 014.2--- "RoHS"专用电子产品微型振动研磨机，通过研磨球的冲击和摩擦来粉碎实验室样品。 该"RoHS"专用电子产品微型振动研磨机可以对欧盟“RoHS”指令中的电子产品（电路板PCB，电池，电缆，液晶显示屏，金属，塑料等样品）进行常温及超低温冷冻的研磨，达到分析级别的研磨效果。 该微型振动研磨机适用于分析化学、X射线和光谱分析、电子显微镜、红外分光光度测定、核研究、痕量分析、矿物学、微生物学。 详细资料请到北京飞驰科学仪器有限公司下载专区下载该产品的产品样本及相关技术文章。 技术参数：1、电学描述：100-240 V/1~，50-60 Hz, 50 Watt2、最大进样尺寸：5 mm3、最大处理量：10ml4、最小处理量：0.1ml5、最终精度：5-10 um6、研磨方法：干法/湿法7、重量：净重21 kg 毛重23 kg8、尺寸(长×宽×高)：37x 40x 20 cm 主要特点：1、适用于实验室少量干粉样品或悬浮液的精细研磨，及乳液或膏剂的匀浆2、可配置“低温冷冻装置”，对样品进行超低温冷冻研磨3、通过观测窗口可观测研磨过程4、精确的数字时间显示5、可根据实际的样品量和要求的最终精度调整研磨球的振动幅度6、保证无损耗研磨，并且研磨后样品粒径的分布窄，均一化程度好7、标准化的系统可以迅速简单的转化为干法或湿法筛分8、可以避免样品的结块现象

品牌：久滨型号：JB5100-H名称：全自动湿法激光粒度仪久滨仪器.中国创造一、产品概述： JB5100-H属于湿法全自动激光粒度仪，采用国际先进的Mie氏散射原理和会聚光傅立叶变换光路。高密度探头及全量程无缝衔接测试方法，保证了测试结果的准确性和重复性。控制系统原理图如下：智能型激光粒度分析仪控制系统原理图二、主要性能特点：★先进的光路设计：JB5100-H采用会聚光傅立叶变换测试技术保证在最短的焦距获得最大量程，有效提高仪器的分辨能力；高密度探测单元，让5100-H拥有了超强的小颗粒测试能力，密度探测单元使JB5100-H具有超强的全量程无缝测试能力。★全密封光纤半导体激光器：JB5100-H采用了高稳定、长寿命的全密封光纤半导体激光器，优良的稳定性让JB5100-H拥有了超强的测试重复性。★全自动测试：真正全自动测试，您所做的仅仅是放入样品，无干扰数据不用人工挑选数据。★超声防干烧功能：经过潜心研发，JB5100-H可实现超声防干烧功能，避免无水情况下损坏超声。★超声功率可调：为满足不同样品的分散需要，JB5100-H实现了超声功率0到20毫瓦大小可调。★防尘、防震设计：仪器整体进行了密封设计，大幅提高了内部元器件使用寿命。独特的防震结构能有效避免外界震动对仪器的干扰，使测试结果更稳定可靠。★强防腐设计（选配）：根据客户实际需求可以配备耐酸、耐碱、耐油（含一切溶剂油）、耐有机溶剂（像丙酮、苯酚、正己烷等一切有机溶剂）。★自动对中：独家采用机械中心与光学中心相结合技术，光路自动调整定位更精确，达到微米级别；同时光路调整速度个更快捷最快15秒即可完成调整。自行研制的自动对中系统包括步进电机、精密导轨、精密控制器以及软件系统组成，最小步距0.2微米，保证激光束焦点始终从探测器中心点穿过，提高测试结果的准确性以及测试的重复性。自动对中系统是久滨仪器所有型号激光粒度仪的标准配置。光路自动对中功能图★微量循环系统：整个分散循环系统进行了优化设计，分散介质大于120毫升即可循环测试，真正达到了微量循环测试；优化的设计保证排水后无废夜残留，保证了下一次测试结果的准确性。（微量测试为选配）★免排气泡设计：全新的设计使整个测试不会有气泡进入测试样品窗，避免了气泡干扰。★样品无残留设计：仪器管道及排水结构进行了优化设计，仪器管道、循环泵内无积液残留，避免对下一次测试数据的影响。★样品窗快换装置：全新设计的样品窗快换装置，使样品窗更换更方便快捷。★露点测量：样品窗结雾会影响测量的准确性，这样的测试结果没有实际意义，JB5100-H加装了有雾点测量系统，一旦起雾软件会自动提示。三、主要技术参数：规格型号JB5100-H（高配）执行标准ISO 13320-1:1999；GB/T19077.1-2008测试范围0.1μm -600μm探测器通道数70准确性误差1%（国家标准样品D50值）重复性误差0.5%（国家标准样品D50值）免排气泡具备免排气泡设计，无气泡干扰数据更准确误操作保护仪器具备误操作自我保护功能，仪器对误操作不响应激光器参数进口光纤输出大功率半导体激光器 λ= 635nm, p10mW光路校准光路自动校准智能操作模式一键式全自动软件操作模式测试速度1min/次（不含样品分散时间）内置分散方法超声频率：f=40KHz,功率：p=80W,时间：随意可调 具备超声防干烧搅拌循环搅拌一体化设计，转速：100-33950rpm转速可调循环循环额定流量：0-10L/min可调 额定功率：25W遮光度探测仪器具备的遮光度实时探测功能，保证样品加入量更准确样品池自行设计沸腾式样品池，分散效果更好，容量：190-600mL均可正常测试防尘、防震设计整机采用防尘、防震设计微量进样（选配）仪器可选配微量全自动测试装置,10毫升即可循环测试（选配）防腐设计（选配）可以配备耐酸、耐碱、耐油（含一切溶剂油）、耐有机溶剂（像丙酮、苯酚、正己烷等一切有机溶剂）。体积980mm*410mm*450mm重量30Kg