分析型扫描电子显微镜检定规程

扫描电子显微镜可对材料的表面进行高倍率观察及高精度元素分析，在纳米技术、生命科学、产品设计研发及失效分析等领域有着广泛的应用。 近年来，扫描电镜观察表面精细结构及元素分析的需求日趋增加，而越来越多的用户希望能在生产线、品保检验线和办公区等有限的空间里使用扫描电子显微镜。因此，体积小、操作简便、分辨率高的扫描电子显微镜备受关注。FlexSEM 1000主机宽450mm、长640mm，相比SU1510型号体积减小52%，重量减轻45%，功耗减小50%，且配备标准化的电源接口。主机与供电单元可分离，安装非常灵活。 FlexSEM 1000 II，凭借全新设计的电子光学系统和高灵敏度检测器，可在加速电压20 kV下实现4.0 nm的分辨率。全新开发的用户界面，具有亮度和对焦自动调节功能，可以在短时间内进行各种观察。此外，还搭载了全新的导航功能“SEM MAP”，这个功能可弥补电子显微镜上难以找准视野的缺点，实现最直观的视野移动。尽管是可放置在桌面上的小巧紧凑型*1电子显微镜，仍可实现4.0 nm的分辨率凭借独特的高灵敏度二次电子、背散射电子检测器、低真空检测器（UVD*2），可在低加速/低真空下观察时实现清晰的画质全新的用户界面，无论用户的熟练程度如何，都可实现高画质和高处理能力全新的定位功能“SEM MAP”，支持观察时的视野搜索和样品定位大直径（30毫米2）无氮EDS检测器，可快速进行元素分析*2*1设置到桌面上时，请将机体与电源盒分离*2选项

高速扫描电子显微镜 HEM6000HEM6000是一款可实现跨尺度大规模样品成像的高速扫描电子显微镜。采用高亮度大束流电子枪、高速电子偏转系统、高压样品台减速、动态光轴、浸没式电磁复合物镜等技术，实现了高速图像采集和成像，同时保证了纳米级分辨率。面向应用场景的自动化操作流程设计，使得大面积的高分辨率图像采集工作更高效、更智能。成像速度可达常规场发射扫描电镜的5倍以上。 产品优势 高速自动化 全自动上下样流程和采图作业，综合成像速度优于常规场发射扫描电镜的5倍大场低畸变跟随扫描场动态变化的光轴，实现了更低的场边缘畸变低压高分辨 样品台减速技术，实现低落点电压，同时保证高分辨率应用领域应用案例大规模成像规格书 关键参数 分辨率 1.3nm @ 3 kV，SE；2.2 nm @ 1 kV，SE； 1.9nm @ 3 kV，BSE；3.3 nm @ 1 kV，BSE；加速电压 100 V~6 kV(减速模式) 6 kV~30 kV(非减速模式) 放大倍率 66~1,000,000x 电子枪类型 高亮度肖特基场发射电子枪 物镜类型 浸没式电磁复合物镜 样品装载系统 真空系统 全自动控制，无油真空系统 样品监控 样品仓监控水平摄像头 ； 换样仓监控垂直摄像头样品最大尺寸 直径4英寸 样品台 类型 电机驱动3轴样品台（*可选配压电驱动样品台） 行程 X、Y轴：110mm；Z轴：28mm；重复定位精度 X轴：±0.6 um；Y轴：±0.3 um 换样方式 全自动控制 换样时间 ＜15 min 换样仓清洗 全自动控制等离子清洗系统 图像采集与处理 驻点时间 10 ns/pixel 图像采集速度 2*100 M pixel/s 图像大小 8K*8K 探测器和扩展 标配 镜筒内混合电子探测器 选配低角度背散射电子探测器 镜筒内高角度背散射电子探测器 压电驱动样品台 高分辨大场模式样品仓等离子清洗系统 6英寸样品装载系统主动减震台 AI降噪；大图拼接；三维重构 软件 语言 中文 操作系统 Windows 导航 光学导航、手势快捷导航 自动功能 自动样品识别、自动选区拍摄、自动亮度对比度、自动聚焦、自动像散服务扫描电子显微镜实验室 我们在合肥、无锡、广州和上海设有扫描电子显微镜实验室，实验室配备多名电镜技术专家和高级电镜应用工程师，提供包含电 镜应用技术开发、样品拍摄在内的多种服务。主要应用领域有锂电池、新型纳米材料、半导体材料、矿物冶金、地质勘探、生物医药等。 实验室依托国仪量子电镜产品，在电镜应用领域开展具有自主知识产权的科研项目，致力于实现科学研究和人才培养的目标。与此同时，实验室也为有电镜应用需求的科研院所、大专院校、企事业单位提供优质的服务。

扫描电子显微镜SEM3200SEM3200是一款高性能、应用广泛的通用型钨灯丝扫描电子显微镜。拥有出色的成像质量、可兼容低真空模式、在不同的视场范围下均可得到高分辨率图像。大景深，成像富有立体感。丰富的扩展性，助您在显微成像的世界中尽情探索。产品特点（*为选配件）特色功能丰富拓展性扫描电子显微镜不仅局限于表面形貌的观察，更可以进行样品表面的微区成分分析。SEM3200接口丰富，除支持常规的二次电子探测器（ETD）、背散射电子探测器（BSED）、X射线能谱仪（EDS）外，也预留了诸多接口，如电子背散射衍射（EBSD）、阴极射线（CL）等探测器都可以在SEM3200上进行集成。背散射电子探测器二次电子成像和背散射电子成像对比背散射电子成像模式下，荷电效应明显减弱，并且可以获得样品表面更多的成分信息。应用案例产品参数型号SEM3200ASEM3200电子光学系统电子枪类型预对中型发叉式钨灯丝电子枪（灯丝电流3档可调，可显示灯丝更换时间）分辨率高真空3 nm @ 30 kV（SE）4 nm @ 30 kV（BSE）8 nm @ 3 kV（SE）*低真空3 nm @ 30 kV（SE）放大倍率1-300,000x（底片倍率）1-1000,000x（屏幕倍率）加速电压0.2 kV～30 kV探针电流≥1.2μA，可实时显示成像系统探测器二次电子探测器（ETD）*背散射电子探测器、*低真空二次电子探测器、*能谱仪EDS等图像保存格式TIFF、JPG、BMP、PNG真空系统真空模式高真空优于5×10-4 Pa*低真空5～1000 Pa控制方式全自动控制样品室摄像头光学导航样品仓内监控样品台配置三轴自动*五轴自动行程X: 120 mmX: 120 mmY: 115 mmY: 115 mmZ: 50 mmZ: 50 mm/R: 360°/T: -10°～ +90°能谱仪能谱仪探测器分析型SDD硅漂移电制冷探测器，有效面积≥30 mm2，晶体面积≥50 mm2，高分子超薄窗设计，无需液氮冷却，仅消耗电能能谱仪能量分辨率Mn Ka保证优于129eV元素分析范围B5～Cf98软件语言中文操作系统Windows导航光学导航、手势快捷导航、可自动叠加电镜图片自动功能自动亮度对比度、自动聚焦、自动像散特色功能智能辅助消像散、*大图拼接（选配软件）安装要求房间长 ≥ 3000 mm，宽 ≥ 4000 mm，高 ≥ 2300 mm温度20 ℃～25 ℃湿度≤ 50 %电气参数电源AC 220 V(±10 %)，50 Hz，2 kVA

[ 产品简介 ]蔡司新一代场发射扫描电子显微镜Sigma系列，具有高质量的成像和分析能力，将先进的场发射扫描电子显微镜技术与优秀的用户体验完美结合。利用Sigma系列直观的4步工作流程，在更短的时间内获得更多的数据，提高测试与生产效率。可选配多种探测器，以满足半导体、能源等新材料、磁性样品、生物样品、地质样品等不同的应用需求。结合蔡司原位电镜实验平台，可以实现自动智能化的原位实验工作流程，高效率获取高通量、高质量的原位实验数据。领先的EDS几何设计保证了出色的元素分析性能，分析速度高、精度好、结果可靠。高分辨、全分析、多扩展、强智能、广应用，全新Sigma系列是助力于材料研究、生命科学和工业检测等领域的“多面手”。[ 产品特点 ]&bull 独特的Gemini镜筒设计，低电压高分辨，无漏磁&bull 广泛全面的应用场景&bull 丰富灵活的探测手段&bull 智能高效的工作流程&bull 先进可靠的分析系统&bull 强大完善的扩展平台[ 应用领域 ]&bull 材料科学，如纳米材料高分辨成像，高分子聚合物等不导电样品成像，电池材料成分衬度成像，二维材料分析&bull 生命科学，如生物样品超微结构成像，冷冻样品高分辨成像&bull 地质矿物学，如地质样品高分辨成像、成分分析以及原位拉曼联用分析&bull 工业应用，如组件失效分析，工艺诊断&bull 电子半导体行业，如质量控制与分析，6英寸Wafer快速换样，电子束曝光技术（EBL）&bull 钢铁行业，如夹杂物分析，金属材料自动原位成像分析&bull 刑侦、法医学&bull 考古学、文物保护与修复NanoVP lite模式下断裂的聚苯乙烯表面成像氧化铝颗粒高分辨二次电子成像ETSE探测器氧化锌枝晶成像InLens SE探测器氧化锆&氧化铁复合材料成像Sense BSD探测器刺毛苔藓虫超微结构成像aBSD探测器超导合金成像

2020年5月25日日本电子株式会社全球同步发布新款场发射扫描电子显微镜JSM-IT800系列。 JSM-IT800的场发射扫描电镜通用性强，可广泛应用于纳米材料、金属材料、半导体材料、化学化工、医学及生物学领域，可高效观察包括非导体样品及强磁性样品等。 JSM-IT800SHL分辨率可达0.5nm,成像能力强大。浸没式电子枪可提供500nA大电流，EDS和EBSD分析速度极快。 另外JSM-IT800系列还搭载了众多全新研发的电子光学技术，自动化程度极高。详情请咨询捷欧路（北京）科贸有限公司及其各地分公司。

JSM-IT210钨灯丝扫描电镜，是日本电子株式会社在2023年7月推出的新型号数字化扫描电镜。是近几年销售名列前茅并深受好评的JSM-6000系列钨灯丝扫描电镜的升级产品，并保留了JEOL钨灯丝电镜系列良好的操作界面和出色稳定的控制系统，操作更加简单，堪称世界上最先进的钨灯丝扫描电子显微镜。主要特点为全数字化控制系统，高分辨率、高精度的变焦聚光镜系统、全对中样品台及高灵敏度半导体背散射探头；用于各种材料的形貌组织观察、金属材料断口分析和失效分析。该型号在很多大学、研究院所及制造业被广泛使用。JSM-IT210，软件更加强大。详情请咨询捷欧路（北京）科贸有限公司各分公司。

GeminiSEM 系列产品高对比度、低电压成像的场发射扫描电子显微镜为对任意样品进行高水准的成像和分析而生蔡司GeminiSEM 系列产品具有出色的探测效率，能够轻松地实现亚纳米分辨成像。无论是在高真空还是在可变压力模式下，更高的表面细节信息灵敏度让您在对任意样品进行成像和分析时都具备更佳的灵活性，为您在材料科学研究、生命科学研究、工业实验室或是显微成像平台中获取各种类型样品在微观世界中清晰、真实的图像，提供灵活、可靠的场发射扫描电子显微镜技术和方案。GeminiSEM 500 具有出色的分辨率，在较低的加速电压下仍可呈现给您更强的信号和更丰富的细节信息，其创新设计的NanoVP可变压力模式，甚至让您在使用时拥有在高真空模式下工作的感觉；更强的信号，更丰富的细节GeminiSEM 500 为您呈现任意样品表面更强的信号和更丰富的细节信息，尤其在低的加速电压下，在避免样品损伤的同时快速地获取更高清晰度的图像。经优化和增强的Inlens探测器可高效地采集信号，助您快速地获取清晰的图像，并使样品损伤降至更低；在低电压下拥有更高的信噪比和更高的衬度，二次电子图像分辨率1 kV达0.9nm，500 V达1.0 nm，无需样品台减速即可进行高质量的低电压成像，为您呈现任意样品在纳米尺度上更丰富的细节信息；应用样品台减速技术-（Tandem decel），可在1 kV下获得高达0.8nm二次电子图像分辨率；创新设计的可变压力模式-NanoVP技术，让您拥有身处在高真空模式下工作的感觉。洞察产品背后的科技Gemini电子光学系统Gemini 1类型镜筒 -延续创新和发展如今，扫描电子显微镜（SEM）在低电压下的高分辨成像能力，已成为其在各项应用领域中的标准配置。低电压下的高分辨率成像能力，在以下应用领域中扮演着尤为重要的角色：电子束敏感样品不导电样品获取样品极表面的真实形貌信息Gemini的革新电子光学设计，应用高分辨率电子枪模式、Nano-twin lens物镜(GeminiSEM 500)、以及Tandem decel样品台减速技术（选配），有效提高了在低电压时的信号采集效率和图像衬度。高分辨率电子枪模式：缩小30%的出射电子束能量展宽，有效地降低像差；获得更小的束斑。Nano-twin lens物镜： 优化静电场和磁场的复合功效，在低电压下具有的更高的分辨率； 提高镜筒内Inlens探测器在低电压下的信号采集效率。Tandem decel样品台减速技术，进一步提高对适用样品在低电压甚至极低电压下的分辨率：Tandem decel减速技术将镜筒内减速和样品台偏压减速技术相结合，有效地实现低着陆电压；使用1 kV及以下更低电压时，镜筒内背散射探测器的检测效率获得更好地增强，低电压下的分辨率得到进一步提高。对适用的样品可以加载高达-5 kV的样品台偏压，在低电压下获得更高质量的图片优化静电场和磁场的复合功效，在低电压下具有的更高的分辨率；提高镜筒内Inlens探测器在低电压下的信号采集效率。技术参数：基本规格蔡司 GeminiSEM 500热场发射电子枪，稳定性优于0.2 %/h加速电压0.02 - 30 kV探针电流3 pA - 20 nA（100 nA配置可选）存储分辨率最高达32k × 24k 像素放大倍率50 – 2,000,000标配探测器镜筒内Inlens二次电子探测器样品室内的Everhart Thornley二次电子探测器可选配的项目NanoVP可变压力模式高效VPSE探测器（包含在NanoVP可变压力选件中）局部电荷中和器镜筒内能量选择背散射探测器环形STEM探测器（aSTEM 4）EDS能谱仪EBSD探测器(背散射电子衍射)可订制特殊功能样品台环形背散射电子探测器阴极射线荧光探测器

[ 产品简介 ]蔡司场发射扫描电子显微镜Gemini系列，具有出色的探测效率，能够轻松实现亚纳米分辨成像，适用于多种材料的高分辨成像与分析。其优异的低电压成像能力与表面细节灵敏度，让您在对任意样品进行成像和分析时都具备更佳的灵活性，可获取各类样品在微观世界中清晰、真实的图像。为生命科学研究实验室、工业实验室、成像测试平台、高校或研究机构提供灵活、可靠的场发射扫描电子显微技术与方案。[ 产品特点 ]&bull 出色的检测效率&bull 优异的低电压分辨率和表面灵敏度&bull 灵活的探测手段获取高分辨的图像&bull 独特的无漏磁镜筒，轻松应对磁性材料表征&bull 丰富的扩展性[ 应用领域 ]&bull 材料科学，如纳米材料表征&bull 工业应用，如失效分析，性能分析&bull 生命科学，如大体积细胞高通量成像&bull 电池领域，如老化分析、电池材料表征&bull 电子半导体领域，如半导体器件失效研究与分析&bull 刑侦、法医学&bull 考古学、文物保护与修复InLens SE探测器磁性FeMn纳米颗粒成像 InLens SE探测器NCM622正极颗粒成像InLens SE 探测器和EsB 探测器同时对包埋在沸石中的银纳米颗粒成像aBSD探测器FinFET结构成像 NanoVP模式下不导电玻璃片上的光刻胶样品成像 小鼠大脑成像

SU-70电子显微镜是一种新概念扫描电子显微镜，它采用了日立经过实地验证的 "semi-in-lens"超高分辨率技术以及肖特基热场发射电子枪技术。除了具有超高分辨率（1.0 nm/15 kV，1.6 nm*/1 kV）的特点外，它还借助声名远播的SuperExB功能可观察减轻荷电图像，成分构成对比图像，超低加速电压图像*。肖特基场发射电子枪的探针电流为100 nA，可进行各种各样的分析操作（X 射线能谱仪*, X射线波谱仪*,电子背散射衍射系统*等）。

2016年，日立高新公司推出第一台大气压下扫描电子显微镜AeroSurf1500，其独特的设计可在大气压下得到清晰的扫描电子图像。特点：1、可在大气压（105Pa）下得到SEM图像；2、台式扫描电镜设计；3、低真空下成分分析；4、优质的图像处理控制；应用领域：1、食品检测；2、生物科技；3、刑侦医学；4、医药检测；5、环境监测。

JCM-6000型Neoscope台式扫描电子显微镜，补充和发展了光学显微镜和传统扫描电子显微镜。该Neoscope可像数码相机一样操作简单，在轻松获得大倍数图像的同时，保持着高分辨率和大景深，具有扫描电子显微镜的强大光学性能。 无论是熟练的电子显微镜操作人员将JCM-6000作为简单的筛选设备，还是实验室技术人员将JCM-6000作为高分辨率的显微镜来取代光学显微镜，该Neoscope都有助于加快在生命科学、刑事科学取证以及加工材料的缺陷分析方面的研究步伐；同时，也主要应用于岩石矿物、储藏、矿物鉴定、矿床、能源等研究必备仪器。 该Neoscope在自动对焦、自动衬比和自动亮度控制等基础方面，操作都非常简单。无需进行涂层或干燥等特殊的样品处理准备。高真空和低真空两种操作模式以及三种加速电压设置，适用于多种应用领域，所有这些都可在预先设定的方案文件中进行编程。 该Neoscope将时尚外观与超强性能融为一体，全新的触摸屏GUI界面，操作更加形象直观。无需变更透镜，能放大10X-40，000X的倍率，二次电子和背散射电子成像、三种可选的加速电压使从载样到成像的操作可在三分钟内完成。双画面显示，可以并列显示实时图像和储存图像，能一边比较图像一边进行观察。选配件-马达驱动倾斜/旋转样品架能够倾斜/旋转景深大、立体感强的图像进行观察.将时尚外观与超强性能融为一体 ● 新颖的“图形用户界面”（GUI），触摸屏操作舒适方便 ● 图像观察景深大、富有立体感。 ● 通过背散射电子像能够观察成分的分布 ● 具有尺寸测量功能 ● 能够倾斜、旋转样品进行观察（选配） 结构紧凑，安置方便，外观简约，设计时尚● JEOL标志灯点亮，表示电源启动成功● 简洁的机体正面，LED显示仪器的状态 全新的触摸屏GUI界面操作更加形象直观，不仅操作界面简明易懂，触摸式操作更加直观方便。双画面显示可以并列显示实时图像和储存图像。能一边比较图像一边进行观察。选配件 ● 马达驱动倾斜/旋转样品台（ Tilting and Rotating Motor-Drive Holder） 选配件―马达驱动倾斜/旋转样品架深受好评， 能够倾斜和旋转景深大、立体感强的图像进行观察。观察实例（样品：印刷电路板的通孔 放大倍率：ｘ30）7 倾斜后（30度） 倾斜前（0度）● 能谱仪（EDS） 能够进行元素分析。采用日本电子公司制造的EDS，安心可靠 。 售后服务反应迅速。 JCM-6000 规格放大倍数×10 &sim ×60,000 (二次电子)×10 &sim ×30,000 (背散射电子)观察模式高真空模式 / 低真空模式电子枪灯丝与韦氏帽集成一体的小型电子枪（ filament and Wehnelt integrated grid）加速电圧15kV / 10kV / 5kV　3档切换 (二次电子)15kV / 10kV 2档切换 (背散射电子)样品台X-Y轴手动控制　X方向　35mm、Y方向　35mm最大样品尺寸直径70mm、高度50mm工作距离 （WD)7～53mm信号检测高真空（二次电子、背散射电子）、低真空（背散射电子）数据显示/ 显示内容加速电圧、倍率、微米条、微米值等文件格式BMP、TIFF、JPEG图像内存像素640ｘ480像素、1280ｘ960像素拍摄条件高速、低速１、低速２旋转功能扫描旋转（90°/步、1°/步可选）图像电位移电位移功能图像保存拍摄（扫描）结束后，能自动编号、自动保存文件。操作系统　OSWindows 7自动功能自动聚焦、自动消像散自动衬度/亮度、自动电子枪对中配置主机、电源箱、PC?LCD、机械泵操作触摸屏、鼠标选配件马达驱动倾斜/旋转样品架、能谱仪（EDS）主机330（W）×490（D）×430mm（H）输入电源单相AC100V（700VA）、120V（840VA）、220V（880VA）、240V（960VA）波动±10％以内、接地室温15℃～30℃湿度60％以下

便携式扫描电子显微镜Mochii&trade 扫描电子显微镜是一个真正便携的化学识别和纳米成像平台。新款Mochii&trade S型扫描电子显微镜还集成了紧凑型能量色散X射线光谱仪。Mochii&trade 扫描电子显微镜 开箱即用，功能齐全，为您的探索做好准备。Mochii&trade 扫描电子显微镜凭借独特的无线平板电脑接口和轻巧的设计，可以带着您的平板电脑参加大楼里甚至全国各地的会议，也可在家或样品现场，随时随地探索您的纳米级样品。 Mochii&trade 扫描电子显微镜指标参数：界面 Apple iDevice (iOS 10 or higher)平台 Two-axis automated stage (base model) 20 x 20 x 20 mm sample size成像部分 Fully pre-aligned Source potential: 10 kV magnification: 5000x Quadrant backscatter array detector Auto-calibration物理参数 Dimensions: 210x210x265 mm Compact outboard supply unit Power: 110-240VAC, 50-60Hz Complete system weight: 13 kgMochii&trade 扫描电子显微镜实拍图例:更多详情请联系昊量光电/欢迎直接联系昊量光电关于昊量光电：上海昊量光电设备有限公司是光电产品专业代理商，产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、光学元件等，涉及应用涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国防、量子光学、生物显微、物联传感、激光制造等；可为客户提供完整的设备安装，培训，硬件开发，软件开发，系统集成等服务。

NANOS是一款全面且高性价比的台式扫描电子显微镜（SEM）。它采用最新技术进行设计，提供快速高质量的SEM成像和元素分析。它的设计先进且现代，非常适合科学研究、产品研发和工业用户使用。主要技术特色：标配高性能二次电子及4分割背散射探头一体集成式EDS探头，成像同时采集EDS结果标配低真空模式成像功能全自动马达控制及优中心倾转设计样品台配备性能优化灯丝直观友好用户界面设计低维护成本

日立高新扫描电子显微镜S-3700N适合用于研究大件，较重，较高的样品。 ▲最大样品直径达300mm。▲可观察范围直径达203mm。▲可对高达110mm的样品进行观察和能谱分析。▲通用型接口布局满足各种分析用途。 特点特大型的样品室可装载最大直径达300 mm的样品，还可同时安装EDX/WDX/EBSD等配件。其可载样品高度可达110 mm。5轴马达驱动优中心倾斜、旋转、图像导航系统、样品台追踪、轨迹存储与中心复位等样品台的马达控制功能一应俱全。S-4800，SU-70及S-3400N均具有用户友好的GUI设计，这使得操作者经过简单培训即可操作。显示系统有全屏显示，无闪烁，高像素和实时图像显示等优异的性能，它还可以实时信号混合并同时显示两个不同的检测器观测到的互不相同的样品信息。可变压模式不需要金属喷涂，可以直接观察不导电样品。高灵敏度半导体背散射电子检测器可以在快速扫描模式下运行，这使得寻找大尺寸样品中感兴趣的区域更为简单和便利。标准配备涡轮分子泵(TMP)，其清洁和干燥的真空条件最大限度地减少了样品污染。区别于传统的扩散泵扫描电子显微镜，此款产品不需较大的加热功率或循环水箱，从而使得它成为一款节能，生态环保的扫描电子显微镜。规格项目描述分辨率二次电子分辨率30kV时，3.0nm(高真空模式)3kV时，10nm(高真空模式)背散射电子分辨率30kV时，340nm(低真空模式)放大倍率×5-×300，000加速电压0.3-30KV低真空范围6-270pa图形菜单图像移动±50μm（WD=10mm）最大样品尺寸Ф300mm样品台X150mmY110mmZ5-65mmR360°T-20°-90°观测区域Ф203mm（可旋转）最大高度110mm（WD=10mm）样品台控制计算机控制5轴马达驱动优中心电子光学电子枪预对中钨灯丝物镜光阑可移动式4孔物镜光阑枪偏压带可控4偏压检测器埃弗哈特 索恩利二次电子检测器高灵敏度半导体背散射电子探测器，五分割分析位置WD=10mm 取出角=35°显示器自动合轴自动设定束流，自动合轴自动图像调整自动聚焦，自动消像散/聚焦，自动调整亮度和对比度存储图像精度640×480像素，1280×960像素，2560×1920像素，5120×3840像素图像文件格式BMP，TIFF，JPEG图像显示模式全屏显示1280×960像素，小屏显示640×480像素，双屏显示640×480像素×2，信号混合模式真空系统操作全自动程序涡轮分子泵210L/sec.×1机械泵135L/min.(162L/min.60Hz)×1安全措施断电保护，漏电保护辅助功能光栅旋转，动态消像散动态聚焦/倾斜补偿功能自由排版打印功能，字母/数字功能三维动画维修指南导航，测量方便，倾斜画面

扫描电子显微镜(SEM)现今已经延伸到广大企业单位，不仅在学术研究领域，各行各业均有广泛应用，与此趋势相对应，用户需要观测和分析的样品种类也有所扩大。S-3700N的开发正是完全考虑了上述广泛的多元化应用的需求，此款产品的标准配置包含一个二次电子检测器，一个五段分割背散射电子(BSE)探测器和可变压力(VP)模式。这就使得绝大部分的样品观测，可以去除过去传统的扫描电镜必须的金属喷涂，可在自然状态下直接观察含水样品。S-3700N有一个巨大的样品室，可容纳直径达300 mm和高度达110 mm的样品。样品室设置有多种配件端口，可以适应电镜在当今极其广泛的应用需求，这些配件包EDX，WDX，EBSD，样品室监视装置，冷台等。此款产品的多功能性以及灵活的系统配置，能够很好地满足您现今以及未来的各项需求。特色特大型的样品室可装载最大直径达300 mm的样品，还可同时安装EDX/WDX/EBSD等配件。其可载样品高度可达110 mm。5轴马达驱动优中心倾斜、旋转、图像导航系统、样品台追踪、轨迹存储与中心复位等样品台的马达控制功能一应俱全。S-4800，SU-70及S-3400N均具有用户友好的GUI设计，这使得操作者经过简单培训即可操作。显示系统有全屏显示，无闪烁，高像素和实时图像显示等优异的性能，它还可以实时信号混合并同时显示两个不同的检测器观测到的互不相同的样品信息。可变压模式不需要金属喷涂，可以直接观察不导电样品。高灵敏度半导体背散射电子检测器可以在快速扫描模式下运行，这使得寻找大尺寸样品中感兴趣的区域更为简单和便利。标准配备涡轮分子泵(TMP)，其清洁和干燥的真空条件最大限度地减少了样品污染。区别于传统的扩散泵扫描电子显微镜，此款产品不需较大的加热功率或循环水箱，从而使得它成为一款节能，生态环保的扫描电子显微镜。规格参数项目描述分辨率二次电子分辨率30 kV时，3.0 nm(高真空模式)3 kV时，10 nm(高真空模式)背散射电子分辨率30 kV时，4.0 nm(低真空模式)放大倍率×5 - ×300,000加速电压0.3 - 30 kV低真空范围6 – 270 Pa 图形菜单图像移动±50 μm (WD= 10 mm)最大样品尺寸Φ300 mm样品台X150 mmY110 mmZ5 - 65 mmR360°T-20° - 90°观测区域Φ203 mm(可旋转)最大高度110 mm (WD= 10 mm)样品台控制计算机控制5轴马达驱动优中心电子光学电子枪预对中钨灯丝物镜光阑可移动式4孔物镜光阑枪偏压带可控4偏压检测器埃弗哈特 索恩利二次电子检测器高灵敏度半导体背散射电子探测器，五分割分析位置WD = 10 mm, 取出角 = 35°显示器控制模式操纵杆，键盘和旋钮显示器19.1英寸液晶平面显示器(如有更改，恕不另行通知)自动合轴自动设定束流，自动合轴自动图像调整自动聚焦，自动消象散/聚焦，自动调整亮度和对比度存储图像精度640 × 480 像素, 1,280 × 960 像素2,560 × 1,920 像素, 5,120 × 3,840 像素图像文件格式BMP, TIFF, JPEG图像显示模式全屏显示：1,280 × 960 像素小屏显示：640 × 480 像素双屏显示：640 × 480 像素 × 2信号混合模式真空系统操作全自动程序涡轮分子泵210L/sec. × 1机械泵135 L/min.(162 L/min. 60Hz) × 1安全措施断电保护，漏电保护辅助功能光栅旋转，动态消像散动态聚焦/倾斜补偿功能自由排版打印功能，字母/数字功能三维动画维修指南导航，测量方便，倾斜画面

双探针扫描电子显微镜是一种将形貌表征技术（扫描电子显微镜）与电学测试技术（双探针电学测量系统）结合在一起的测试系统。双探针扫描电镜主要包括真空系统、电子光学系统、样品台和探针系统等四个组成部分，如图1所示。其中真空系统用于提供样品形貌表征和测试所需的真空环境，电子光学系统用于扫描电子成像，样品台可以提供特定的样品取向和温度控制，而探针系统可以提供样品电学测试所需的电极并且能够精确位移。通过以上各部分的精确配合可以实现低维纳米结构与微纳器件特性的局域物性测量。 图1 双探针扫描电子显微镜系统的示意图近年来，随着人们对低维材料光电特性研究的深入，对测试系统的成像分辨率、测量精度、温度变化、外场激发等条件要求越来越高。同时，该设备由于自身局限性以及部件老化问题，存在一些应用上的不足：1）电子光学系统的物镜直径达100mm，而工作距离只有0-20mm，因此探针竖直方向移动的空间十分有限，如图4所示；2）由于扩散泵的效率较低，而且工作寿命已达极限，因此腔体的真空度已经不能满足测量场发射等特性所需的真空条件；3）缺少研究材料光电特性的有效手段，而光电特性分析是研究材料的带隙特征的有效手段。技术创新完成后能够解决的具体科研问题及其意义改造后的双探针扫描电子显微镜系统可以解决原系统中高精度局域测量存在的诸多问题，具体可分为以下几个方面：（1）解决原系统成像分辨率低、对导电能力低的材料成像质量差的问题。宽带隙材料由于具有较高的击穿电压，电子饱和速率高等，是制备各种高功率、高频器件的理想材料。但是宽带隙材料的导电能力差，特别是对于纳米尺寸的材料，在电镜下的观察和定位较为困难。而且此系统组装年限较长，成像质量有所下降，对宽带隙材料的观察更为困难。通过改进电子光学系统可以有效提高对宽带隙材料的成像质量，有助于电学测试的定位。（2）解决原系统中探针定位精度低、可操控性差的问题。原系统物镜直径为100mm，而工作距离仅为0-20mm，电子光学系统物镜与样品之间空间较小，因此外加探针或者光路只能以接近水平方向靠近样品表面，样品的定位以及探针自由移动均受到非常大的限制。改造后的系统采用较小直径和较长焦距的物镜，样品上方空间增大，探针和光路能够以较小角度达到样品表面，增加了操作的自由度。同时新的探针系统位移精度增加，有助于低维纳米材料电学特性的测量。（3）引入新的光源后此系统可用于材料光电特性的测量，弥补了电子能带表征手段的不足。在半导体光谱的研究中，利用光激发的电子行为可以很好的表征材料的电子能带结构，因此引入激励光源可以更加有效的表征半导体材料电子能带的特征。同时，对于半导体晶体材料，不同晶面往往具有不同的光学和电学特性。利用探针的精确定位能力，可以研究微米乃至纳米尺寸半导体材料不同晶面的光电特性，避免了生长大面积晶体的技术困难。成果及应用领域 本项目通过对原系统的改造，提高了系统的成像分辨率、真空度和探针的精确定位能力，增大了探针移动的自由度，增添了激励光源，可以为纳米尺寸低维材料的场发射器件、光敏器件、能源器件等的物性测量提供服务。系统新功能的开发将会为固态量子、超导、纳米、表面、光学、半导体等多个领域中研究的开展起到重要的支撑与促进作用。

产品简介日立高新技术公司于2016年4月15日在全球发布了扫描电子显微镜——FlexSEM 1000。该产品结构紧凑，占地面积小，但分辨率不输大型电镜，同时操作极其简便，几乎不用培训就可操作。紧凑型设计，分辨率为4 nm。扫描电子显微镜可对材料的表面进行高倍率观察及高精度元素分析，在纳米技术、生命科学、产品设计研发及失效分析等领域有着广泛的应用。 近年来，扫描电镜观察表面精细结构及元素分析的需求日趋增加，而越来越多的用户希望能在生产线、品保检验线和办公区等有限的空间里使用扫描电子显微镜。因此，体积小、操作简便、分辨率高的扫描电子显微镜备受关注。FlexSEM 1000主机宽450mm、长640mm，相比SU1510型号体积减小52%，重量减轻45%，功耗减小50%，且配备标准化的电源接口。主机与供电单元可分离，安装非常灵活。FlexSEM 1000采用电子光学系统和可靠性、灵敏度的探测器，分辨率高达4nm。FlexSEM 1000有多种自动化功能，操作简便，即便是初次操作者也能快速拍出高质量图像。另外，新开发的导航功能「SEM MAP」可使用各种光学图片或电镜照片进行导航，一键就快速精准地切换至感兴趣的高倍率视野。特点：a. 通过高灵敏度二次电子探测器，背散射探测器，低真空探测器（UVD*2），实现低加速电压/低真空下高质量图像观察b. 操作简捷，即使新手也能拍出高质量的图片c. 新开发的导航功能「SEM MAP」，便于快速锁定视野d. 大窗口（30 mm2）SDD能谱系统，便于快速分析元素成分*2*1 设置在桌面时，分离主机和电源箱*2 选配项目内容分解能*34.0 nm @ 20 kV （SE：高真空模式）15.0 nm @ 1 kV （SE：高真空模式）5.0 nm @ 20 kV （BSE：低真空模式）加速电压0.3 kV ～ 20 kV放大倍率6× ～ 300,000× （底片倍率）16× ～ 800,000× （显示倍率）低真空模式真空范围：6 ～ 100 Pa电子枪预对中钨灯丝样品台3-轴自动马达台X：0 ～ 40 mm, Y：0 ～ 50 mm, Z：5 ～ 15 mmR：360°, T：-15° ～ ＋90°最大样品尺寸直径80 mm最大样品高度40 mm尺寸主机：450（W） x 640（D） x 670（H） mm供电单元：450（W） x 640（D） x 450（H） mm探测器选配高灵敏度低真空二次电子探测器（UVD）能量分散型X线探测器（EDS）

高速扫描电子显微镜 HEM6000HEM6000是一款可实现跨尺度大规模样品成像的高速扫描电子显微镜。采用高亮度大束流电子枪、高速电子偏转系统、高压样品台减速、动态光轴、浸没式电磁复合物镜等技术，实现了高速图像采集和成像，同时保证了纳米级分辨率。面向应用场景的自动化操作流程设计，使得大面积的高分辨率图像采集工作更高效、更智能。成像速度可达常规场发射扫描电镜的5倍以上。 产品优势 高速自动化 全自动上下样流程和采图作业，综合成像速度优于常规场发射扫描电镜的5倍大场低畸变跟随扫描场动态变化的光轴，实现了更低的场边缘畸变低压高分辨 样品台减速技术，实现低落点电压，同时保证高分辨率应用领域应用案例大规模成像规格书 关键参数 分辨率 1.3nm @ 3 kV，SE；2.2 nm @ 1 kV，SE； 1.9nm @ 3 kV，BSE；3.3 nm @ 1 kV，BSE；加速电压 100 V~6 kV(减速模式) 6 kV~30 kV(非减速模式) 放大倍率 66~1,000,000x 电子枪类型 高亮度肖特基场发射电子枪 物镜类型 浸没式电磁复合物镜 样品装载系统 真空系统 全自动控制，无油真空系统 样品监控 样品仓监控水平摄像头 ； 换样仓监控垂直摄像头样品最大尺寸 直径4英寸 样品台 类型 电机驱动3轴样品台（*可选配压电驱动样品台） 行程 X、Y轴：110mm；Z轴：28mm；重复定位精度 X轴：±0.6 um；Y轴：±0.3 um 换样方式 全自动控制 换样时间 ＜15 min 换样仓清洗 全自动控制等离子清洗系统 图像采集与处理 驻点时间 10 ns/pixel 图像采集速度 2*100 M pixel/s 图像大小 8K*8K 探测器和扩展 标配 镜筒内混合电子探测器 选配低角度背散射电子探测器 镜筒内高角度背散射电子探测器 压电驱动样品台 高分辨大场模式样品仓等离子清洗系统 6英寸样品装载系统主动减震台 AI降噪；大图拼接；三维重构 软件 语言 中文 操作系统 Windows 导航 光学导航、手势快捷导航 自动功能 自动样品识别、自动选区拍摄、自动亮度对比度、自动聚焦、自动像散服务扫描电子显微镜实验室 我们在合肥、无锡、广州和上海设有扫描电子显微镜实验室，实验室配备多名电镜技术专家和高级电镜应用工程师，提供包含电 镜应用技术开发、样品拍摄在内的多种服务。主要应用领域有锂电池、新型纳米材料、半导体材料、矿物冶金、地质勘探、生物医药等。 实验室依托国仪量子电镜产品，在电镜应用领域开展具有自主知识产权的科研项目，致力于实现科学研究和人才培养的目标。与此同时，实验室也为有电镜应用需求的科研院所、大专院校、企事业单位提供优质的服务。

Hitachi S—3400N型扫描电子显微镜，采用TMP分子泵真空系统，节省占地面积和电源功耗。主要用于对材料的微观形貌、组织和成分进行有效分析。日立HitachiS-3400N扫描电子显微镜详细信息该设备具有新研制的电子光学系统和自动化功能显示系统有全屏显示，无闪烁，高像素和实时图像显示等优异的性能，它还可以实时信号混合并同时显示两个不同的检测器观测到的互不相同的样品信息。日立HitachiS-3400N扫描电子显微镜通过高画质提升扫描电镜的分析能力和操作性，高灵敏度半导体背散射电子检测器可以在快速扫描模式下运行，这使得寻找大尺寸样品中感兴趣的区域更为简单和便利。 日立扫描电子显微镜S -3400N型的特点 1. S-3400N具有强大的自动功能，包括自动灯丝饱和、4偏压、自动枪对中、自动束流设定、自动合轴自动聚焦和消像散、自动亮度对比度等。 2. 在3kV低加速电压时保证有10nm的分辨率。 3. 新型5分割高灵敏半导体式背散射探头。 4. S-3400N II型具有五轴马达台，倾斜角度可达-20度~+90度，样品zui高可达80mm。 5. 分析样品仓可以同时安装EDX ， WDX 及EBSD。 6. 真空系统使用涡轮分子泵，洁净、高效。日立扫描电子显微镜S -3400N型的技术指标： 项目 描述 SE分辨率 3.0nm (30kV)，高真空模式 / 10nm (3kV), 高真空模式 BSE分辨率 4.0nm (30kV)，低真空模式 加速电压 0.3 ~ 30 kV 低真空范围 6 ~ 270 Pa 最大样品尺寸 直径200mm 样品台 I型 II型 X 0 ~ 80mm 0 ~ 100mm Y 0 ~ 40mm 0 ~ 50mm Z 5 ~ 35mm 5 ~ 65mm R 360o 360o T -20o~ +90o -20o ~ +90o T -20o~ +90o -20o ~ +90o 最大样品高度 35mm (WD=10mm) 80mm (WD=10mm) 驱动类型 手动 五轴马达驱动 灯丝 预对中钨灯丝 物镜光栏 可移动式4孔物镜光栏 枪偏压 固定比例偏压、手动偏压和自动4偏 检测器 二次电子检测器 高灵敏度半导体背散射电子检测器 分析位置 WD=10mm, TOA=35o 控制 鼠标、键盘，手动旋钮 自动调校 自动灯丝饱和、自动4偏压、自动枪对中、自动束流设定、自动合轴、自动聚焦 消像散、自动亮度对比度 日立扫描电子显微镜S -3400N扫描图像：

仪器简介：Quanta x50系列扫描电子显微镜是FEI公司zui新一代的、真正的多用途扫描电镜，是zhu名的Quanta产品家族的第三代产品。 主要特点：1.FEI ESEM(环境扫描电镜)技术, 可在高真空、低真空和环境真空条件下对各种样品进行观察和分析。2.所有真空条件下的二次电子、背散射电子观察和微观分析。3.先进的系统结构平台，全数字化系统。4.可同时安装能谱仪、波谱仪和EBSP系统。5.可安装低温冷台、加热台、拉伸台等进行样品的原位、动态观察和分析。技术参数：1.分辨率:　二次电子:　　高真空模式 3.0nm @ 30kV, 8nm @ 3kV　　高真空减速模式 7nm @ 3kV (可选项)　　低真空模式 3.0nm @ 30kV, 10nm @ 3kV　　环境真空模式 3.0nm @ 30kV　 背散射电子 4.0nm @ 30kV2.样品室压力zui高达2600Pa3.加速电压200V ～ 30kV，连续调节4.样品台移动范围　Quanta 250: X=Y=50mm　Quanta 450: X=Y=100mm　Quanta 650: X=Y=150mm

扫描电子显微镜 FlexSEM 1000 II“先进的SEM更为紧凑”宽幅仅为45 cm的紧凑型的设计，仍具备4.0 nm的图像分辨率。全新开发的用户界面和电子光学系统让您深切体验其高性能。FlexSEM 1000 II，凭借全新设计的电子光学系统和高灵敏度检测器，可在加速电压20 kV下实现4.0 nm的分辨率。全新开发的用户界面，具有亮度和对焦自动调节功能，可以在短时间内进行各种观察。此外，还搭载了全新的导航功能“SEM MAP”，这个功能可弥补电子显微镜上难以找准视野的缺点，实现直观的视野移动。 尽管是可放置在桌面上的小巧紧凑型*1电子显微镜，仍可实现4.0 nm的分辨率 凭借独特的高灵敏度二次电子、背散射电子检测器、低真空检测器（UVD*2），可在低加速/低真空下观察时实现高的画质 全新的用户界面，无论用户的熟练程度如何，都可实现高画质和高处理能力 全新的定位功能“SEM MAP”，支持观察时的视野搜索和样品定位

产品详情日本JEOL扫描电子显微镜JSM-IT200 InTouchScope JSM-IT200 InTouchScope™ 是一款更简洁、更易于使用且性价比高的扫描电子显微镜。 JSM-IT200是一款更简洁、更易于使用且性价比高的扫描电子显微镜。使用初学者易懂的样品交换导航，可以轻松地从样品台搜索视野并开始观察SEM图像。Zeromag能像光镜一样直观地搜索视野，Live Analysis*2可以不用特意分析就能实时获取元素分析结果，SMILE VIEWTM Lab能综合编辑观察和分析报告等，使它成为一个分析业务的软件。立即观察！立即分析！立即报告！JEOL InTouchScope™ 系列特有的三个功能使分析装置成为一种工具。■完成样品交换的同时观察开始 样品交换导航样品交换导航是从打开样品室到开始观察过程中进行导航的功能 ■立即观察！ Zeromag观察使用主窗口显示的样品台示意图和光学 CCD 图像 *1 ，进行视野搜寻和指定分析位置。 ■立即分析！Live Analysis分析*2通过显示谱图和显示元素，能确认正在观察中的视野的谱图及主要元素。 ■立即报告！SMILE VIEWTM Lab 数据集中管理按下数据管理图标并显示数据管理窗口后，从SEM图像到分析，对全部数据能创建批量报告 、查看数据并重新分析数据。

产品详情 日本JEOL发射扫描电子显微镜Serial Block-face SEM 3View 肖特基场发射扫描电子显微镜能长时间稳定地提供高电流下的微细探针，与View2XP（Gatan公司制造）结合使用，能对样品进行自动切割，自动获取图像。通过对获得的图像进行三维重构，可以对精细结构进行三维分析。 产品特点： 肖特基场发射扫描电子显微镜能长时间稳定地提供高电流下的微细探针，与3View2XP（Gatan公司制造）结合使用，能对样品进行自动切割，自动获取图像。通过对获得的图像进行三维重构，可以对精细结构进行三维分析。 系统简介 JSM-7100F、7800F和3View2XP（Gatan产品）组合使用，能获得大量的大范围的切片图像。这样就能够进行数百微米区域的三维重构。通过三维重构能够观察二维图像上无法看到的细胞的深处结构。 。外观： 操作 自动、反复地切割样品和获取图像，能获得大量的切片图像。 对获得的切片图像，通过软件进行堆叠、调节、生成三维图像。 应用数据 小鼠大脑 突触细分数据黄色区域：突触囊泡绿化面积：突触后部增厚部分红色区域：突触后部

Verios XHR SEMVerios 是 FEI ling先的 XHR（极高分辨率）SEM 系列的第二代产品。在jian端半导体制造和材料科学应用中，它可在 1 至 30 kV 范围内提供亚纳米量级分辨率以及增强的对比度，满足材料精密测量所需，同时又不会削弱传统扫描电子显微镜 (SEM) 所具有的高吞吐量、分析能力、样本灵活性和易用性等优势。Verios 的生命科学应用观测敏感的生物样本时，过高的成像电压带来的电子束会损伤样本，从而无法在细胞研究中观测关键细节。Verios XHR 扫描电子显微镜 (SEM) zui低可在 1kV 的电子束电压下工作，因而能zui大限度减少样本干扰，同时又不会削弱分辨率和对比度。生物研究人员现在可以处理大量敏感的生物样本，并迅速生成高分辨率图像，从而洞察细胞器的关键功能和过程。Verios XHR SEM you势全新的高对比度检测器 - 对敏感的生物样本进行zui佳成像电子束减速 - 在极低的电压下提供高分辨率成像和高表面灵敏度电子束熄灭装置 - 限制敏感的生物样本的剂量静电扫描 -zui大限度减少图像失真，并改善成像速度，从而进一步提高工作效率和质量Verios 的电子工业应用Verios XHR SEM 推出了全新的检测器硬件，将 SEM 的观测能力进一步拓展至 20 nm 亚纳米量级半导体器件。Verios 可提供zui佳的低电压 SEM 分辨率和材料对比度，能够让半导体工艺控制实验室测量对电子束敏感的材料以及无法使用传统 SEM 仪器成像的极小结构。 Verios 还包括一些易于使用的新功能，能够为 22 nm 技术节点及以下的半导体结构提供zui低的每样本成像和测量成本。Verios 的材料科学应用对材料科学家来说，Verios 可以将亚纳米表征拓展到当下正在开发的全新材料（例如催化剂颗粒、纳米管、孔隙、界面、生物对象和其他纳米量级结构），从而让他们获得重要的新发现。无需转而采用 TEM 或其他成像技术便可获得高分辨率、高对比度图像。Verios 可灵活用于各类研究应用，能够容纳全尺寸晶圆或冶金样本之类的大样本。您可以在高电流模式下执行快速分析，也可以开展精确的原型设计应用，例如电子束感应式材料直接沉积或光刻

产品详情日本JEOL 扫描电子显微镜JSM-IT500 JSM-IT500是JEOL InTouchScope系列的新机型。 从设定视野到生成报告，用于分析的软件整合于一体，加快了作业速度！是一款无缝操作，使用更加方便的扫描电子显微镜。主要技术指标 主要选配件背散射电子检测器（BED) ※1低真空二次电子检测器（LSED)能谱仪(EDS)※2波谱仪（WDS）电子背散射衍射检测器(EBSD)加载互锁真空室（预抽室）样品台导航系统（SNS）样品室观察系统(CS)操作面板3D测量软件操作台※1 为JSM-IT500LV/LA的标配功能。※2 为JSM-IT500LV/LA的标配功能。

JSM-7001F热场发射扫描电子显微镜（Thermal Field Emission SEM），是能够满足与高分辨率和易用性同样的分析应用需求的理想平台。JSM-7001F具有大型、5轴、全对中马达驱动自动化样品台,还有单动作样品更换气锁、它的小束口压直径，即使在大电流和低电压时，也具有适用于EDS、WDS、EBSP和CL的理想结构的扩充性。样品室可处理直径zui大为 200mm的样品。 计算机接口是新的Windows? XP系统，操作简单，具有快速简单地切换操作模式的功能键。最多可同时查看包括混合信号的四幅实时图像，单次扫描就可以记录并马上存储全部的四幅图像。 JSM-7001F扫描电子显微镜还支持与EDS、WDS、电子束光刻系统和图像数据库的整体化。标准的样品台自动化由计算机控制5轴：X、Y、Z、倾斜和对中自转。低真空操作JSM-7001FLV场发射扫描电子显微镜具有高分辨率性能，可以在中至高电压千伏（kV）和更高的束流下对非导电样品进行成像。因此无需在样品上镀金属膜或碳膜以供导电，即可施用EDS、背散射成像、EBSD等分析技术。这在以下情况中特别有用: 样品不能修改时，尚需后续测试时，或尚需返回产品线时。低真空模式规格样品室压力：zui大50 Pa分辨率：3.0nm（30kV）(BEI)枪室压力：5 x 10-7 Pa或更小采用的气体：干燥氮气

Sigma 360用于高品质成像与高级分析的场发射扫描电子显微镜灵活的探测，4步工作流程，高级的分析性能将高级的分析性能与场发射扫描技术相结合，利用成熟的 Gemini 电子光学元件。多种探测器可选：用于颗粒、表面或者纳米结构成像。Sigma 半自动的4步工作流程节省大量的时间：设置成像与分析步骤，提高效率。Sigma 360 具有极高的性价比，可快速方便地实现基础分析。任何时间，任何样品均可获得可重复的分析结果。基于成熟的 Gemini 技术Gemini 镜头的设计结合考虑了电场与磁场对光学性能的影响，并将场对样品的影响降至更低。这使得即使对磁性样品成像也能获得出色的效果。Gemini in-lens 的探测确保了信号探测的效率。Gemini 电子束加速器技术确保了小的探测器尺寸和高的信噪比。灵活的检测器选项，获取清晰图像使用新颖的ETSE和Inlens探测器在高真空下获取高分辨率表面形貌信息。使用VPSE或C2D检测器在可变压力模式下获得清晰图像。使用aSTEM检测器生成高分辨率透射图像。使用HDBSD或YAG检测器分析成分。高级分析型显微镜将扫描电子显微镜与基本分析相结合：Sigma 背散射几何探测器大大提升了分析性能，特别是对电子束敏感的样品。在一半的检测束流和两倍的速度条件下获取分析数据。获益于8.5 mm 短的分析工作距离和35°夹角，获取完整且无阴影的分析结果。蔡司Sigma 360 可提供 集成式 EDS 解决方案在低能量分析应用中同时实现高清晰度成像Sigma Element 是一种集成式 EDS 解决方案，拥有高可用性和低电压灵敏度。仅需使用一台计算机来控制 EDS 和 SEM，进而大大提升了该集成化解决方案的易用性。同时，借助专门为显微镜和 EDS 操作设计的用户界面可实现并行控制。? 集成化：通过集成化，结合高清晰成像与快速分析，从而获得不错结果? 定制化：根据不同的用户需求定制软件? 灵敏度：独特的氮化硅窗口增强低能X射线的探测灵敏度拉曼成像与扫描电镜联用系统完全集成化的拉曼成像获取样品中化学结构的指纹信息：聚焦拉曼光谱成像可扩展您的蔡司Sigma 300 扫描电镜性能。 分析获得样品分子结构和结晶信息。 通过拉曼成像与EDS数据可进行3D 分析并与SEM图像关联。完全集成化的拉曼成像扫描电镜联用系统使你充分发挥SEM和拉曼系统的功能。用户友好,操作简单 SmartSEM Touch是现已有操作系统的附加组件，用于多用户环境，是一种简洁的用户界面。它同时为操作经验丰富的专家用户和初级用户提供了简便的操作。基于实际的实验室环境，SEM的操作可能是电子显微镜专家的专属领域。但是，非专业用户（例如学生，接受培训不久的人员或质量工程师）也需要使用SEM获取数据，因此也有使用SEM的需求。 Sigma 300和Sigma 300 VP将非专业用户的需求考虑在内，其用户界面选项可满足操作经验丰富的显微镜专家和显微镜新手用户的操作需求。

扫描电子显微镜SEM3200SEM3200是一款高性能、应用广泛的通用型钨灯丝扫描电子显微镜。拥有出色的成像质量、可兼容低真空模式、在不同的视场范围下均可得到高分辨率图像。大景深，成像富有立体感。丰富的扩展性，助您在显微成像的世界中尽情探索。产品特点（*为选配件）特色功能丰富拓展性扫描电子显微镜不仅局限于表面形貌的观察，更可以进行样品表面的微区成分分析。SEM3200接口丰富，除支持常规的二次电子探测器（ETD）、背散射电子探测器（BSED）、X射线能谱仪（EDS）外，也预留了诸多接口，如电子背散射衍射（EBSD）、阴极射线（CL）等探测器都可以在SEM3200上进行集成。背散射电子探测器二次电子成像和背散射电子成像对比背散射电子成像模式下，荷电效应明显减弱，并且可以获得样品表面更多的成分信息。应用案例产品参数型号SEM3200ASEM3200电子光学系统电子枪类型预对中型发叉式钨灯丝电子枪（灯丝电流3档可调，可显示灯丝更换时间）分辨率高真空3 nm @ 30 kV（SE）4 nm @ 30 kV（BSE）8 nm @ 3 kV（SE）*低真空3 nm @ 30 kV（SE）放大倍率1-300,000x（底片倍率）1-1000,000x（屏幕倍率）加速电压0.2 kV～30 kV探针电流≥1.2μA，可实时显示成像系统探测器二次电子探测器（ETD）*背散射电子探测器、*低真空二次电子探测器、*能谱仪EDS等图像保存格式TIFF、JPG、BMP、PNG真空系统真空模式高真空优于5×10-4 Pa*低真空5～1000 Pa控制方式全自动控制样品室摄像头光学导航样品仓内监控样品台配置三轴自动*五轴自动行程X: 120 mmX: 120 mmY: 115 mmY: 115 mmZ: 50 mmZ: 50 mm/R: 360°/T: -10°～ +90°能谱仪能谱仪探测器分析型SDD硅漂移电制冷探测器，有效面积≥30 mm2，晶体面积≥50 mm2，高分子超薄窗设计，无需液氮冷却，仅消耗电能能谱仪能量分辨率Mn Ka保证优于129eV元素分析范围B5～Cf98软件语言中文操作系统Windows导航光学导航、手势快捷导航、可自动叠加电镜图片自动功能自动亮度对比度、自动聚焦、自动像散特色功能智能辅助消像散、*大图拼接（选配软件）安装要求房间长 ≥ 3000 mm，宽 ≥ 4000 mm，高 ≥ 2300 mm温度20 ℃～25 ℃湿度≤ 50 %电气参数电源AC 220 V(±10 %)，50 Hz，2 kVA

产品简介日立高新高画质的钨灯丝扫描电镜SU3500, 图象质量更进一步。通过高画质提升扫描电镜的分析能力和操作性, 凝聚日立最先进科技“独具匠心”。日立高新钨灯丝扫描电镜SU3500具有实现了“3kV加速电压7nm分辨率”的全新电子光学系统, 可实现实时立体成像的“实时立体观察功能”＊1, 以及更高检测效率的 “UVD超高灵敏度可变压力检测器”＊1。它为观察和分析提出了崭新的标准。特点低加速电压观察时分辨率更高，可更好地观察样品最表面的细微形状和更有效地降低样品的损坏全新设计的电子光学系统和信号处理技术实现了高速扫描和低噪音的观察和以前的常规扫描电子显微镜相比＊2，自动功能缩短＊3了大约11秒具有在低真空时可以非常好地观察样品最表面的细微形状的“UVD（超高灵敏度可变压力探测器）”＊4具有实现了实时立体成像的“实时立体观察功能”＊4（*1）：自选（*2）：和日立SEM S-3400N相比（*3）：根据观察条件的不同，时间会有变动（*4）：自选规格 项目描述二次电子分辨率3.0nm（加速电压=30kV，WD=5mm高真空模式）7.0nm（加速电压=3kV，WD=5mm高真空模式）背散射电子分辨率4.0nm（加速电压=30kV，WD=5mm低真空模式）10.0nm（加速电压=5kV，WD=5mm高真空模式）放大倍率5 - 300,000倍（底片倍率＊5）7 - 800,000倍（显示器显示倍率＊6）加速电压0.3 - 30kV可变压力范围6 - 650Pa最大样品尺寸直径 200mm样品台X0 - 100mmY0 - 50mmZ5 - 65mmR360°T-20° - 90°可观察区域直径 130mm （旋转并用）最大样品高度80mm（WD=10mm）马达台5轴标配电子光学系统电子枪预对中的钨灯丝物镜光阑4孔可动光阑探检测器埃弗哈特 索恩利 二次电子探测器高灵敏度半导体背散射电子检测器EDX分析 WD10mm（取出角35°）图像显示操作系统Windows 7＊7（如有更改，恕不另行通知）图像显示模式全屏模式（1,280 × 960 像素）小屏模式（800 × 600 像素）双图像显示（800 × 600 像素）四屏幕显示（640 × 480像素）信号混合模式排气系统操作全自动排气涡轮分子泵210升/秒 × 1机械泵135L/min（162L/min，60Hz）× 1（*2）：以127mm×95mm（图像尺寸4"×5"）的显示尺寸规定倍率（*3）：以345mm×259mm（像素1,280×960）的显示尺寸规定倍率（*4）：Windows是微软公司在美国和其他国家的注册商标

[ 产品简介 ]蔡司新一代场发射扫描电子显微镜Sigma系列，具有高质量的成像和分析能力，将先进的场发射扫描电子显微镜技术与优秀的用户体验完美结合。利用Sigma系列直观的4步工作流程，在更短的时间内获得更多的数据，提高测试与生产效率。可选配多种探测器，以满足半导体、能源等新材料、磁性样品、生物样品、地质样品等不同的应用需求。结合蔡司原位电镜实验平台，可以实现自动智能化的原位实验工作流程，高效率获取高通量、高质量的原位实验数据。领先的EDS几何设计保证了出色的元素分析性能，分析速度高、精度好、结果可靠。高分辨、全分析、多扩展、强智能、广应用，全新Sigma系列是助力于材料研究、生命科学和工业检测等领域的“多面手”。[ 产品特点 ]&bull 独特的Gemini镜筒设计，低电压高分辨，无漏磁&bull 广泛全面的应用场景&bull 丰富灵活的探测手段&bull 智能高效的工作流程&bull 先进可靠的分析系统&bull 强大完善的扩展平台[ 应用领域 ]&bull 材料科学，如纳米材料高分辨成像，高分子聚合物等不导电样品成像，电池材料成分衬度成像，二维材料分析&bull 生命科学，如生物样品超微结构成像，冷冻样品高分辨成像&bull 地质矿物学，如地质样品高分辨成像、成分分析以及原位拉曼联用分析&bull 工业应用，如组件失效分析，工艺诊断&bull 电子半导体行业，如质量控制与分析，6英寸Wafer快速换样，电子束曝光技术（EBL）&bull 钢铁行业，如夹杂物分析，金属材料自动原位成像分析&bull 刑侦、法医学&bull 考古学、文物保护与修复NanoVP lite模式下断裂的聚苯乙烯表面成像氧化铝颗粒高分辨二次电子成像ETSE探测器氧化锌枝晶成像InLens SE探测器氧化锆&氧化铁复合材料成像Sense BSD探测器刺毛苔藓虫超微结构成像aBSD探测器超导合金成像