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电子束实验仪结构原理

仪器信息网电子束实验仪结构原理专题为您提供2024年最新电子束实验仪结构原理价格报价、厂家品牌的相关信息， 包括电子束实验仪结构原理参数、型号等，不管是国产，还是进口品牌的电子束实验仪结构原理您都可以在这里找到。 除此之外，仪器信息网还免费为您整合电子束实验仪结构原理相关的耗材配件、试剂标物，还有电子束实验仪结构原理相关的最新资讯、资料，以及电子束实验仪结构原理相关的解决方案。

电子束实验仪结构原理相关的论坛

  • 加速电压与电子束能量的关系

    大家好，最近在研究扫描电镜原理方面的知识，有一点不太理解，还请大家帮忙解答！！！Q：通常情况下，选择高的加速电压，电子束能量高，探针电流大，但现在的电压和电流在用户界面上都是可以独立调节的，即选择高电压的同时，也可以选择小的电流，那这个时候的电流是不随电压变化的，那么问题来了，这个时候的电流是靠什么调节的？？？是光阑吗还是其他什么？问题引申：通常讲的电子束能量高低，指的是束斑尺寸还是电子束的速度，还是指波长短？或者，三者兼而有之？？？亦或是其他？

  • 泽攸精密携手松山湖材料实验室成功研制出电子束光刻系统

    [color=#000000]国产电子束光刻机实现自主可控，是实现我国集成电路产业链自主可控的重要一环。近日，松山湖材料实验室精密仪器联合工程中心产业化项目研发再获新突破：项目团队成功研制出[b]电子束光刻系统[/b]，在全自主电子束光刻机整机的开发与产业化过程中取得阶段性进展，初步实现了电子束光刻机整机的自主可控，标志着[b]国产电子束光刻机研发与产业化迈出关键一步。[/b][/color][color=#000000]电子束光刻是利用聚焦电子束对某些高分子聚合物（电子束光刻胶）进行曝光并通过显影获得图形的过程，而产生聚焦电子束并让聚焦电子束按照设定的图形扫描的仪器就叫做电子束光刻机。它是推动我们当前新材料、前沿物理研究、半导体、微电子、光子、量子研究领域的重要手段之一。此前，全球电子束光刻机市场高度集中，主要由美日企业垄断，我国尚未掌握该领域核心技术，装备长期依赖进口。[/color][color=#000000]松山湖材料实验室精密仪器研发团队作为首批入驻实验室的团队之一，专注于材料和半导体领域的精密加工、表征和测量设备研发。团队负责人许智已从事相关研究近20年，参与承担多项国家重点研发计划专项工作及国家重大科研装备研制项目，近5年带领产业化团队研发的精密仪器成果转化填补多项国产空白，产值超亿元，产品出口美国、英国、德国、澳大利亚。[/color][color=#000000]为了研制具有自主知识产权的电子束光刻机整机，精密仪器研发团队在松山湖材料实验室完成一期项目研发并成立产业化公司后，带资回到实验室进入“滚动发展”模式：产业化公司东莞泽攸精密仪器有限公司与实验室共同投资2400万元进行第二阶段研发，目标是打造集科研与产业化为一体的电子束装备技术创新基地。通过深入开展电子束与新材料交叉领域的前沿技术研发，实现关键装备和共性技术的自主可控，切实提升我国在电子束加工与制备领域的整体创新能力和产业竞争力。[/color][color=#000000]目前，东莞泽攸精密仪器有限公司已基于自主研制的扫描电镜主机，完成电子束光刻机工程样机研制，并开展功能验证工作。通过对测试样片的曝光生产，可以绘制出高分辨率的复杂图形，朝着行业先进水平稳步前进。该成果标志着泽攸科技在电子束光刻机关键技术和整机方面的自主创新能力获得重大提升。下一步，团队及产业化公司将持续完善电子束光刻机的性能指标，使其达到批量应用及产业化的要求。[/color][来源：松山湖材料实验室][align=right][/align]

  • 电子束中Boersch效应

    前段时间在考虑电子束束斑大小的问题，看到了Boersch效应，作为电子粒子的一个物理效应，和大家分享一篇中文文献。我个人简单的理解是扫描电镜束流提高会增加束斑的大小，尤其是加速电压比较低的情况下，束斑增大更显著。1954年，Boersch从实验中发现, 电子束中电子的能量分布宽度随电子束电流加大而反常地增宽, 达到几个电子伏, 大大超过了阴极温度对应的麦克斯韦分布的能量分布宽度。这一效应不能用传统的空间电荷理论来解释。继后的理论与实验研究均倾向于认为这与电子束中电荷的离散性有关, 这就是所谓的Boersch效应。

  • 新型低成本低压电子束焊接技术及其精密真空控制装置

    新型低成本低压电子束焊接技术及其精密真空控制装置

    [align=center][size=16px][img=新型低成本低压电子束焊接技术及其精密真空控制装置,550,337]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/03/202303270934409402_5689_3221506_3.jpg!w690x423.jpg[/img][/size][/align][size=16px][color=#339999]摘要：新型低压电子束焊接加工技术具有凹型阴极、自聚焦和低造价的突出特点，不再需要高真空系统，也无需磁透镜和磁线圈进行电子束的聚焦和偏转，可进行微零件焊接和低熔点材料表面微结构改性。但这种新型技术对氩气工作气压的要求较高，需要在7~12Pa的低真空范围实现高精度的调节和控制。本文针对此高精度控制提出了解决方案，即在电容真空计作为传感器的基础上，采用了电动针阀和超高精度压力控制器，控制精度可达±1%。[/color][/size][align=center][size=16px][color=#339999]~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~[/color][/size][/align][size=18px][color=#339999][b]1. 问题的提出[/b][/color][/size][size=16px] 电子束焊是指利用加速和聚焦的电子束轰击置于真空或非真空中的焊接面，使被焊工件熔化实现焊接。目前，电子束焊通常分为高真空、低真空和非真空三种类型，但无论是那种类型，电子束都需要在高真空条件下产生，且还需要磁透镜和磁线圈系统用于聚焦和偏转电子束，这使得高真空装置是电子束焊接设备中的重要且高成本的部件。[/size][size=16px] 最近，波兰研究人员Aleksander Zawada和Piotr Konarski介绍了一种真正低压环境且无需磁透镜和磁线圈的电子束焊接技术[1,2]，这种新的低压电子束焊接技术具有以下特点：[/size][size=16px] （1）采用凹形阴极作为电子束源，直接在氩气环境中产生并聚焦电子束。工作气体的存在和伴随辉光放电的发生允许表面电荷中和，这使得电子束可以直接轰击绝缘材料。[/size][size=16px] （2）可直接采用微波炉用变压器，电压输出为1~3kV，就能建立一个以凹形阴极作为电子源的低压电子束加工装置。[/size][size=16px] （3）阴极和阳极之间的间隙约为25mm，氩气气体绝对压力可在0.05~0.09Torr范围内调节，采用机械泵就可在此真空度范围内可以获得了稳定的辉光放电进行焊接和加工。通过改变阴极电压以及选择合适的真空度，实现电子束电流的调节，以满足不同工具加工和焊接需要。[/size][size=16px] （4）通过使用凹面阴极可直接获得直径1~3mm的聚焦点。虽然与很多高端的电子束加工设备相比，它的尺寸似乎太大，但它可用于微零件焊接和表面改性。[/size][size=16px] （5）由于采用微波炉小功率电源和旋片泵，使得整个装置结构简单和非常便宜，同时可用于微零件焊接和低熔点材料表面微结构改性，如不锈钢、铜、铝、氧化铝、氧化硅和玻璃等材料。如果加大功率，可实现更大功率的电子束焊机。[/size][size=16px] 从上述这种真正低压电子束焊接加工技术的特点中可以看出，这种技术对真空度的要求很高，需要在很窄的气压范围内（约5Pa）进行调节以满足不同的焊接加工要求，而相关文献也未涉及气压精密控制的具体内容。为此，本文将针对此问题提出相应的具体解决方案。[/size][size=18px][color=#339999][b]2. 解决方案[/b][/color][/size][size=16px] 波兰学者提出的新型低压电子束焊接加工装置结构如图1所示[1,2]，其真空室只有5升的体积。真空系统包括了真空计、机械泵和泄漏阀三部分，进气用了高压氩气气瓶，还配备了一个气阀用来加工完成后导入空气打开腔门。[/size][align=center][size=16px][color=#339999][b][img=01.新型低压电子束焊机原理图,650,409]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/03/202303270937189274_6985_3221506_3.jpg!w690x435.jpg[/img][/b][/color][/size][/align][align=center][size=16px][color=#339999][b]图1 新型低压电子束焊接机结构示意图[/b][/color][/size][/align][size=16px] 从图1所示结构可以看出，所进行的真空度控制应该还是手动调节方式，即固定机械泵抽速（一般是全开状态），然后通过调节泄漏阀的开度来达到不同的真空度，但这种手动控制方式很难保证真空度控制的准确性和稳定性，完全不能按照设计好的不同设定值对真空度进行控制。[/size][size=16px] 为此，本解决方案的目的是进行真空度控制的自动化改造，改造方案的具体结构如图2所示。解决方案是在原有的电容真空计基础上，增加了电动针阀和高精度的真空压力PID控制器，由真空计、电动针阀和真空压力控制器组成一个典型的闭环控制系统。其中各个部件的具体内容如下。[/size][align=center][size=16px][color=#339999][b][img=02.新型低压电子束焊机和真空控制装置原理图,650,401]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/03/202303270937405037_1825_3221506_3.jpg!w690x426.jpg[/img][/b][/color][/size][/align][align=center][size=16px][color=#339999][b]图2 包含真空度自动控制的电子束焊接机结构示意图[/b][/color][/size][/align][size=16px][color=#339999][b]2.1 真空计的选择[/b][/color][/size][size=16px] 方案中选择1Torr量程的薄膜电容真空计覆盖0.05~0.09Torr工作压力范围，这种电容真空计具有0.25%的高精度。[/size][size=16px] 除了高精度之外，这种电容真空计还具有线性的0~10V直流电压信号输出，即真空度测量值与输出电压值呈线性关系，这非常有利于数据采集和处理，更能保证控制的准确性。[/size][size=16px] 对于0.05~0.09Torr的工作压力范围，尽管在理论上也可以选择0.1Torr量程的真空计，但实际真空度控制范围已接近真空计上限，这使得对0.09Torr附近的真空度较难控制，实际真空度稍微过冲就超出真空计量程，这很容易造成真空控制失效。[/size][size=16px][color=#339999][b]2.2 电动针阀[/b][/color][/size][size=16px] 工作压力自动控制的关键技术之一是图1中的泄漏阀要具备电动调节能力，这时的电动调节阀门就相当于一个电动执行器来根据要求调节进气流量的大小。[/size][size=16px] 解决方案是采用电动针阀代替图1中的泄漏阀。电动针阀是一种步进电机驱动的针型阀，阀门位移分辨率可达到12.7um，并具有很小的真空漏率和线性度，可直接用直流0~10V模拟电压进行调节，很适合真空度控制过程中的进气流量调节。[/size][size=16px][color=#339999][b]2.3 超高精度真空压力控制器[/b][/color][/size][size=16px] 对于低压电子束焊接加工装置的真空度控制而言，另一项关键技术就是需要解决超高精度的PID控制问题。如在选择1Torr真空计时，对应的电压输出为0~10V，那在实际测量0.05Torr真空度过程中所对应的电压输出则为0.5V。如果要达到±1%的控制精度，则需要PID真空度控制器具有5mV的测量精度，这是目前绝大多数工业用真空度控制器无法达到的精度要求。[/size][size=16px] 为了在0.05~0.09Torr范围内实现±1%的真空度控制精度，解决方案选用了VPC 2021系列超高精度真空压力控制器。此控制器的主要特点如下：[/size][size=16px] （1）超高性能指标：24位AD、16位DA和0.01%最小输出百分比，同时采用的是双精度浮点运算，这是目前国际上工业用控制器最高的性能指标。[/size][size=16px] （2）多功能：具有程序控制、PID参数自整定、RS485通讯、标准MODBUS通讯协议和多条设定曲线以及多组PID参数存储等功能。[/size][size=16px] （3）丰富的扩展能力：控制器带有远程设定能力，即通过外接可变电位器旋钮实现真空度设定值的手动调节和设定，为现场真空度的随时调节和控制提供了极大便利。[/size][size=16px] （4）配套软件：配套有计算机软件，可通过计算机进行控制器的所有设置和运行，并可直观显示和存储多个过程参数随时间变化的实时曲线，[/size][size=16px] （5）体积小巧：具有常用工业用控制器典型的小巧尺寸（面板尺寸96mm×96mm）。[/size][size=18px][color=#339999][b]3. 总结[/b][/color][/size][size=16px] 在波兰学者提出的低造价低压电子束焊接和加工新技术基础上，本文对此新技术中未涉及到的真空度精密控制技术进行了分析，并提出了实现真空度高精度控制的解决方案。解决方案以及所涉及到的电动针阀和超高精度PID真空压力控制器，经过了大量试验验证考核，并已经在多个领域内得到了广泛应用，技术成熟度很高，可为这种新型电子束焊接和加工技术的推广应用提供有效的技术保障。[/size][size=18px][color=#339999][b]4. 参考文献[/b][/color][/size][size=16px][1] Zawada A, Konarski P. Electron beam generated in low pressure noble gas atmosphere–Compact device construction and applications[J]. 2013.[/size][size=16px][2] Chien C H, Zawada A, Konarski P, et al. Developing a desk-top electron beam micro-machining system in the low-pressure argon atmosphere[J]. Procedia CIRP, 2020, 95： 950-953.[/size][align=center][size=16px][color=#339999]~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~[/color][/size][/align]

  • 【分享】透射电子显微镜结构和成像原理

    【分享】透射电子显微镜结构和成像原理

    透射电子显微镜结构包括两大部分：主体部分为照明系统、成像系统和观察照相室；辅助部分为真空系统和电气系统。1、照明系统 该系统分成两部分：电子枪和会聚镜。电子枪由灯丝(阴极)、栅级和阳极组成。加热灯丝发射电子束。在阳极加电压，电子加速。阳极与阴极间的电位差为总的加速电压。经加速而具有能量的电子从阳极板的孔中射出。射出的电子束能量与加速电压有关，栅极起控制电子束形状的作用。电子束有一定的发散角，经会聚镜调节后，可望得到发散角，很小甚至为0的平行电子束。电子束的电流密度(束流)可通过调节会聚镜的电流来调节。样品上需要照明的区域大小与放大倍数有关．放大倍数愈高，照明区域愈小，相应地要求以更细的电子束照明样品．由电子枪直接发射出的电子束的束斑尺寸较大，相干性也较差。为了更有效地利用这些电子，获得亮度高、相干性好的照明电子束以满足透射电镜在不同放大倍数下的需要，由电子枪子枪发射出来的电子束还需要进一步会聚，提供束斑尺寸不同、近似平行的照明束．这个任务通常由两个被叫做聚光镜的电磁透镜完成．图中C1和C2分别表示第一聚光镜和第二聚光镜．C1通常保持不变，其作用是将电子枪的交叉点成一缩小的像，使其尺寸缩小一个数量级以上．此外，在照明系统中还安装有束倾斜装置，可以很方便地使电子束在2°～3°的范围内倾斜，以便以某些特定的倾斜角度照明样品。[img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2010/03/201003241439_207991_1601358_3.jpg[/img]

  • 【求助】关于运用EDS的“点”分析时，轰击表面的电子束束斑大小问题

    各位大哥大姐，小弟在做扫描电镜过程中遇到一些问题：1、使用JEOL JSM-6380LA型电镜做EDS，加速电压15 kV，光阑2，spotsize50，WD=10，放大倍数为5000X，利用“点”分析，我想知道电子束刚刚轰击到样品表面时的束斑大小到底有多大？（并不是指电子束轰击到样品表面后，在样品内部散射扩展后形成的斑点大小）。有的人认为轰击以后扩展的范围可能到微米量级，我认为“点”分析时电子束轰击到样品表面的时候束斑大小不可能在微米量级的，应该在100 nm一下吧。2、电子束在EDS“点”分析下这个“点”的束斑大小和SEM正常逐点扫描时的“点”是否是一个概念？3、因为目前纳米材料中会有一些微纳结构形貌，在用EDS分析这些结构过程中（尺寸在300-400 nm左右），若采用“点”分析，那么能否准确轰击到这些结构表面而不发生偏离？虽然EDS分析结果可能会有含有电子束扩展后其它区域的元素特征（学校分析测试中心人员是这样认为的）。实际上上述3个问题归根结底只是一个问题，小弟做论文过程中遇到的这个问题，非常重要，在电镜操作手册（FEI和JEOL）里也找不到任何这方面的解决之道，希望那位高手能够解决一下，小弟在此谢过了！

  • 【求助】关于电子束辐照样品的问题

    手头有一种氧化物的纳米薄片（暂时不透露是什么样品），发现在电子辐照下，样品的结构有了很多缺陷，也有样品边缘的一些无定形物质逐渐变成了晶态并和样品完美融合，不知道有没有专门用电子束辐照样品或者加热样品的高分辨研究呢？这种变化又怎么来定义呢？晶态向无定形转化，无定形向晶态转化的驱动力都是什么呢？有什么专业的词汇么？十分感谢！

  • 【讨论】电子束入射方向[uvw]

    请问在衍射花样标定时，电子束入射方向[uvw][uvw]=[-2 2 -1]与[2 -2 1]是不是等价另外我在对面心结构标定的时候，其中hkl=【1 -3 -1】 【3 1 1】和【4 -2 0】我发现我按照：u=k1l2-k2l1； V=l1h2-l2h1； w=h1k2-h2k1方法我求出来的[uvw]=【1 2 - 5】，而我查《金属物理研究方法》附录7的时候发现【uvw】的值全为正值，请指点一下我是不是错了

  • 扫描电镜的特点结构及工作原理

    扫描电镜的特点结构及工作原理扫描电子显微镜的设计思想和工作原理，早在1935年便已被提出来了。1942年，英国首先制成一台实验室用的扫描电镜，但由于成像的分辨率很差，照相时间太长，所以实用价值不大。经过各国科学工作者的努力，尤其是随着电子工业技术水平的不断发展，到1956年开始生产商品扫描电镜。近数十年来，扫描电镜已广泛地应用在生物学、医学、冶金学等学科的领域中，促进了各有关学科的发展。一．扫描电镜的特点和光学显微镜及透射电镜相比，扫描电镜具有以下特点：（一）能够直接观察样品表面的结构，样品的尺寸可大至120mm×80mm×50mm。（二）样品制备过程简单，不用切成薄片。（三）样品可以在样品室中作三度空间的平移和旋转，因此，可以从各种角度对样品进行观察。（四）景深大，图象富有立体感。扫描电镜的景深较光学显微镜大几百倍，比透射电镜大几十倍。（五）图象的放大范围广，分辨率也比较高。可放大十几倍到几十万倍，它基本上包括了从放大镜、光学显微镜直到透射电镜的放大范围。分辨率介于光学显微镜与透射电镜之间，可达3nm。（六）电子束对样品的损伤与污染程度较小。（七）在观察形貌的同时，还可利用从样品发出的其他信号作微区成分分析。

  • 哪位大神给我看看这种形貌是不是电子束造成的损伤

    哪位大神给我看看这种形貌是不是电子束造成的损伤

    用蔡司的 Merlin compact拍的 , 样品是镀锌板上面刷镀的一层耐指纹涂层（树脂），约1-3个um厚，导电性较差，没有喷金。同样的样品在FEI的quanta 250上却怎么也找到这种多孔结构，做电镜的老师认为这种形貌不是样品的典型结构。所以我想问这种多孔结构难道是电子束打出来的？ 如果是打出来的是不是应该排列比较规则啊？

  • 电子束的温度有多高？

    我用的是F20场发射电镜，当用电子束照射样品时，电子束对样品的温升效应明显吗，如何计算电子束的加热温度？求教？？？[em45]

  • 【讨论】能谱仪是如何控制电子束的

    在进行EDS分析中，可以在SEM图上进行选区分析，能谱仪是如何控制电子束进行选区分析的呀。选一个点进行分析时，是否电子束就是打在那个点上，而选一个区域进行分析时，电子束是否要进行扫描呀。菜菜问题！

  • 【求助】电子束的穿透能力和在Au中的穿透距离

    我用JEOL JEM 2010(HT)和JEOL JEM 2010FEG (UHR)电镜作纳米线顶端的Au催化剂表征的时候(前SAED, 后HRTEM,EELS加上了能量过滤),碰到了这个问题, 就是有的金就得不到结构的信息, Au 的EELS mapping也很难作出来,基本上Au颗粒都是黑的. 我想这可能跟电子束在Au里面的穿透能力(深度)有关, EELS mapping可能跟选的窗口和扣背底时的准确度有关(这个靠自己修正了).所以我想问问, 200 kV的电子束能在Au里面穿透多深. 我看了材料评价的分析电子显微方法上只有非常简单的阐述. 在薄晶体电子显微学里面也没有找到. 不知道哪位老师同学有瞄到过公式或者知道数值, 提示一下小弟. 不甚感谢!

  • 晶带轴与电子束

    按一般说法，电子束与晶带轴平行时得到二维点阵花样，但实际上，按布拉格条件，不是晶面与电子束要成一特定角度时才得到衍射点么。还有关于Ewald球，为何是散射束与透射束的矢量差为1/d, 但在实际电子衍射中，不是指晶面间两束反射束波程差么，不大好理解

  • 电子束汇聚角

    请教一下大家，透射电镜的会聚角α一般都会有几个档，那么这每一个档都对应一个确定的会聚角值还是对应一定的范围？通过brightness聚光散光会不会改变电子束的会聚角？都觉得α-1到3对应的都只是一个范围，聚光散光也会对会聚角产生影响？不然怎么叫做会聚电子束打菊池花样，平行电子束获得衍射花样呢？

  • 【讨论】请教关于电子束流大小的测量

    最近有人谈到电子束辐照,我想问一下电子束束流大小是怎样测量的,JEOL的电镜有小屏可以测大小,我是把小屏上测到的值折算到实际电子束辐照的面积上的束流密度,如屏上显示10 pA/cm2,实际辐照面积是100 nm2,那么实际束流密度是1A/cm2,不知道这样算对不对 还有一个奇怪现象是当你会聚电子束时,小屏上显示的束流值先增大,但是当电子束很小并接近到可会聚的最小束斑时,小屏上显示的束流值达到一个最大值后反而减小了,是不是当电子束很小时,小屏测量就不准,或者说用小屏测束流密度本身就不准. 不知大家是怎么测的. 还有在STEM下小束斑的束流密度怎么测.另外飞利普的电镜是怎么测的,我用的CM200没有找到类似于JEOL的显示值,不知是否有人知道

  • 求教：SEM 获得的图片信息中电子束 一般探测薄膜样品多深？

    SEM 是根据二次电子成像，我想知道通常获取的SEM照片, 电子束一般探测薄膜样品多深？仅仅是表面很薄的表面信息么？xrd 一般能探测多少？是1微米量级左右么？他们（SEM和XRD）两者获取的结构信息差别有多大？对于制备的样品来说，它们通常相互补充说明薄膜结构方面的信息，特此向大虾请教！多谢。。。

  • 日本电子JSM-6390 电子束斑指什么？

    如果没有单位增加了对机器的对比理解的难度。6390中一般需要调节的参数有哪些？加速电压和电子束斑吗？这里的电子束斑指的是束斑直径还是电子探针电流值？如果其值选50是什么概念？6700F中一般调节的探针电流最大值15.6700的探针电流与6390中的电子束斑该用什么公式等价。或者同台一起这俩参数见有无公式等价？探针电流单位啥？还是相对值？

  • 【求助】电子束不见了怎么办

    大家好，我用的是zeiss 1450vp 扫描电镜。前两天在实验的中途，先是出现EHT Tripped 的错误信息，这个问题以前遇到过，等重新打开电压和电流后就好了。这回不同了，等电压和电流都打开后，就是不见电子束。我检查了灯丝是好的，电脑上面显示电压也有。而且电脑没有任何的错误信息。就是没有电子束到样品上。请问高人，遇到这个问题从哪里下手查？谢谢

  • 磁共振原理（电子书）

    刚在资料中心上传了《磁共振原理》电子书，共十二章，238页，主要介绍了核磁共振技术的一些基本原理。希望对某些初学者有所帮助。具体下载地址在：http://www.instrument.com.cn/download/shtml/005383.shtml

  • 【求助】请教大侠指点一下tem中电子束强度的问题？？

    一般在文献中看到的tem中的电子束强度单位是A/cm2 我在电镜可以看到一个叫screen current的（几nA的节奏）是不是与ccd拍摄到得面积比一下就可以了呢？？ 但这好像是电子束打到整个荧光屏（scrren）的电流啊? 怎么算呢。。。。

  • 【求助】电子束焊接

    请问有谁做过电子束焊接纳米线?怎么焊接?通入什么样的气氛或者有什么高招,请赐教一下,特别感谢![em0801]

  • 电子引伸计结构以及工作原理

    电子引伸计结构以及工作原理金属材料试验机电子引伸计是感受试件变形的传感器，应变计式的引伸计由于原理简单、安装方便，目前是广泛使用的一种类型。引伸计按测量对象，可分为轴向引伸计、横向引伸计、夹式引伸计。钢筋拉力机电子引伸计径向引伸计：用于检测标准试件径向收缩变形，它与轴向引伸计配合用来测定泊松比μ，它将径向变形（或横向某一方向的变形）变换成电量，再通过二次仪表测量、记录或控制另一设备。铝型材拉力试验机电子引伸计夹式引伸计 用于检测裂纹张开位移。电子引伸计是断裂力学实验中最常用的仪器之一，它较多用在测定材料断裂韧性实验中。精度高，安装方便、操作简单。试件断裂时引伸计能自动脱离试件，适合静、动变形测量。金属材料弹性模量试验机电子引伸计应变片、变形传递杆、弹性元件、限位标距杆、刀刃和夹紧弹簧等。测量变形时, 将引伸计装卡于试件上, 刀刃与试件接触而感受两刀刃间距内的伸长,通过变形杆使弹性元件产生应变, 应变片将其转换为电阻变化量, 再用适当的测量放大电路转换为电压信号。电子万能材料试验机电子引伸计一般是用于，金属材料试验机，金属拉力试验机，万能材料试验机，伺服材料试验机，铝型材材料试验机，钢材拉力试验机，钢筋拉力机等等

  • 扫描电子显微技术SEM应用原理

    扫描电子显微技术SEM[b]分析原理：[/b]用电子技术检测高能电子束与样品作用时产生二次电子、背散射电子、吸收电子、X射线等并放大成象[b]谱图的表示方法：[/b]背散射象、二次电子象、吸收电流象、元素的线分布和面分布等[b]提供的信息：[/b]断口形貌、表面显微结构、薄膜内部的显微结构、微区元素分析与定量元素分析等

  • 扫描电镜电子束穿透成像效应

    [align=center]作者：驰奔仪器 Microexplore[/align] 扫描电镜信号出射深度或信号从样品表面发射的面积大小，决定了扫描电镜探测样品信息的空间分辨率。电子束样品相互作用区和被测信号取样区这两个概念对于图像解释和定量x射线显微分析都很重要。 评估电子束样品作用区的三个主要变量1)平均原子序数Z ，原子序数高作用区越小；2)束电子能量Kev ，束电子能量越低，作用区越小；3)倾斜角度θ，倾斜角越大作用区越小在精细电子显微分析中，往往通过蒙特卡洛模拟来判定电子束样品作用区及各种散射信号取样空间。[url=http://photo.blog.sina.com.cn/showpic.html#blogid=149e935230102xgu1&url=http://album.sina.com.cn/pic/0062Af6Pzy7nyjRvaG24e][img=扫描电镜电子束穿透成像效应,690,481]http://s15.sinaimg.cn/mw690/0062Af6Pzy7nyjRvaG24e&690[/img][/url] 为表征微观表面真实形貌，往往采用低的加速电压或低的电子束着陆电压，减小作用区，降低信号出射深度。 二次电子（SE）信号常用于表征形貌，逃逸深度一般在几个纳米到几十纳米，然而SE信号来源非常复杂，有来自入射束产生的SE1，很大一部分是背散射电子逃逸出表面过程中产生的SE2，还有背散射电子撞机样品室的表面产生的SE3，这些SE可能同时被探测器接收，那么我们就会看到如下两个较为极端情况下，SE信号样品取样区分布和成像效果。事实上只有SE1才能精细表征表面形貌. SE2/3产额与BSE信号产额正相关，因此携带了较为粗糙的形貌信息和成分信息。 当使用高束能量，由于作用区增大，SE的绝大部分是SE2/3，30nm碳膜表层SE1信号反差已经微不足道，电子束成像就几乎无视其存在了，因此图像变得透明，直接看到下面光栅。这种效应可以称为电子束穿透成像效应。[url=http://photo.blog.sina.com.cn/showpic.html#blogid=149e935230102xgu1&url=http://album.sina.com.cn/pic/0062Af6Pzy7nymqSHeq5a][img=扫描电镜电子束穿透成像效应,690,624]http://s11.sinaimg.cn/mw690/0062Af6Pzy7nymqSHeq5a&690[/img][/url] 我们使用北京的DEMO（驰奔Genesis-I型钨丝枪扫描电镜），[url=http://photo.blog.sina.com.cn/showpic.html#blogid=149e935230102xgu1&url=http://album.sina.com.cn/pic/0062Af6Pzy7nyq1nmYj0b][img=扫描电镜电子束穿透成像效应,690,545]http://s12.sinaimg.cn/mw690/0062Af6Pzy7nyq1nmYj0b&690[/img][/url]采用3kv、5kv、10kv、15kv、20kv、25kv、30kv，更为连续的加速电压，观察金属表面碳物质附着物，印证电子束穿透成像效应。 [url=http://photo.blog.sina.com.cn/showpic.html#blogid=149e935230102xgu1&url=http://album.sina.com.cn/pic/0062Af6Pzy7nyoNoWAK1e][img=扫描电镜电子束穿透成像效应,690,517]http://s15.sinaimg.cn/mw690/0062Af6Pzy7nyoNoWAK1e&690[/img][/url] [url=http://photo.blog.sina.com.cn/showpic.html#blogid=149e935230102xgu1&url=http://album.sina.com.cn/pic/0062Af6Pzy7nyoNyg6bbf][img=扫描电镜电子束穿透成像效应,690,517]http://s16.sinaimg.cn/mw690/0062Af6Pzy7nyoNyg6bbf&690[/img][/url][url=http://photo.blog.sina.com.cn/showpic.html#blogid=149e935230102xgu1&url=http://album.sina.com.cn/pic/0062Af6Pzy7nyoNCbBk16][img=扫描电镜电子束穿透成像效应,690,517]http://s7.sinaimg.cn/mw690/0062Af6Pzy7nyoNCbBk16&690[/img][/url][url=http://photo.blog.sina.com.cn/showpic.html#blogid=149e935230102xgu1&url=http://album.sina.com.cn/pic/0062Af6Pzy7nyoNx1va98][img=扫描电镜电子束穿透成像效应,690,517]http://s9.sinaimg.cn/mw690/0062Af6Pzy7nyoNx1va98&690[/img][/url][url=http://photo.blog.sina.com.cn/showpic.html#blogid=149e935230102xgu1&url=http://album.sina.com.cn/pic/0062Af6Pzy7nyoNGcLx73][img=扫描电镜电子束穿透成像效应,690,517]http://s4.sinaimg.cn/mw690/0062Af6Pzy7nyoNGcLx73&690[/img][/url][url=http://photo.blog.sina.com.cn/showpic.html#blogid=149e935230102xgu1&url=http://album.sina.com.cn/pic/0062Af6Pzy7nyoNKIywac][img=扫描电镜电子束穿透成像效应,690,517]http://s13.sinaimg.cn/mw690/0062Af6Pzy7nyoNKIywac&690[/img][/url][url=http://photo.blog.sina.com.cn/showpic.html#blogid=149e935230102xgu1&url=http://album.sina.com.cn/pic/0062Af6Pzy7nyoNFnpc3e][img=扫描电镜电子束穿透成像效应,690,517]http://s15.sinaimg.cn/mw690/0062Af6Pzy7nyoNFnpc3e&690[/img][/url]图像解释：3-5kv下表现出良好碳质结构形态，此时电子束的穿透深度大约为500nm ~ 1微米 ，不足以穿透样品且碳质结构表面SE信号为反差主导。10kv，电子束穿透深度大约为2微米，应该没有穿透中心的炭黑部位，此时SE2/3为主导，几无形貌反差，成分反差明显。15kv以上，电子束开始穿透碳黑部位，SE2/3为反差主导，且基底的BSE出现一定形貌反差，加速电压越高，来自基底的SE2/3主导反差越来越高，越来越无视炭黑存在。

  • 【转帖】电子衡器仪表的结构原理和性能特点

    衡器仪表是指电子衡器中显示被称物的质量和称量状态的仪表，也叫称重显示器。电子衡器仪表原为模拟指示式，由误差放大器、可逆电机、平衡电桥、激励电源、度盘和指针等部分组成，按自动平衡电子电位差计原理工作。它称量速度慢，功能单一，准确度低，现已基本被淘汰。现用称重显示器为数字显示式。 电子衡器仪表的构成 结构原理 　数字显示式衡器仪表的品种很多,图1所示是其中的一种。数显器接受处理的是称重传感器输出的电信号。电信号有模拟量也有数字量，最常见的是几至几十毫伏的模拟电压。数显器的电路原理如图2所示。激励电源供给称重传感器工作电源，同时供给A/D（模／数）转换单元基准电压,其稳定度一般在0.1％以上。放大单元通常采用测量放大器结构，接受、放大称重传感器的信号。放大倍数一般为数百倍。滤波单元滤掉从机外混入的和放大器自身产生的电噪声。A/D转换单元把模拟量转换成数字量,转换位数通常取二进制数14位以上。数据处理单元是以微处理器为核心，使用外围支持芯片组成的，它在程序的控制下完成采集数据、运算、存贮等一系列操作，处理结果送到相应接口上。显示单元以数字或文字、图表等形式显示出称量值和称量状态，并可通过接口与外部设备联络。 衡器称重仪表的原理图-电路图 性能特点 数显衡器仪表的性能包括计量性能、功能、环境适应能力、安全性和可靠性5个方面。与通用的数字衡器称重仪表相比,数显器具有5个特点：①自带传感器激励电源，使用方便；②采用比率型A/D转换和倍频技术,计量性能中的长期稳定性好；③软件能真切地仿真振动、空秤变动、物料落差等称量特征，显示快、准、稳；④机内有空秤置零、零点跟踪、定标、最大秤量、分度位等参数的设定单元，改定方便，通用性强；⑤带输出接口，能够联接多种外部设备，方便地实现系统控制。 　　 准确度等级国际法制计量组织(OIML)3号建议规定，非自动衡器按准确度级别划分为4个等级。按配用衡器的级别，中国将电子衡器仪表也划分为4个等级,并分别冠以与电子衡器对应的级别代号：Ⅰ、Ⅱ、Ⅲ、Ⅳ。每个级别的衡器仪表的计量最大允许误差为对应级别衡器允许误差的0.7倍。 网友解释衡器仪表的基本架构原理 仪表架构其实很简单，一个电源为全部器件供电，一个AD部分负责将 传感器的模拟信号放大，模数转换到数字信号，一个中央处理器，也就是常说的单片机 （MCU），来处理AD部分读取到的重量信号，进行一系列的换算处理，最好译码为可显示阅读的信号，显示在显示屏上，同事一般还有键盘电路，来接受用户的 一些操控，很多仪表还带有并行打印口，微打驱动，RS232或RS485接口与上位机或其它仪表互联通讯，还有数字电流环接口，以连接大屏幕，另外工业控 制用的很多仪表带有4～20mA电流环接口，以配接PLC。高档的还有现场CAN总线或者以太网接口，某些仪表还有USB接口，不过USB由于传输距离太 近，在衡器仪表上用途较少，因此也很少有仪表有USB接口。

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