因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准KRI 线性霍尔离子源 eH Linear上海伯东代理美国原装进口 KRI 线性离子源使用 eH 400 做为模组, 能应用于宽范围的衬底, 离子源长度高达 1 米, 通过严格调整模组间的距离可以实现更佳的均匀性和离子流. 由于模组是平行放置, 大大简化了气体, 功率和电子三者的分布. KRI 线性离子源使用标准的端部霍尔模组并使设备的需求简化, 一个低成本, 高电流和低能量的离子束可以很好的使用于 web 涂层, in-line 沉积和圆柱旋转溅射系统.霍尔离子源 eH 400 尺寸尺寸: 直径= 3.7“ 高= 3”放电电压 / 电流: 50-300eV / 5A操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体KRI 霍尔离子源 eH Linear 技术参数型号eHL400-2/ eHL400-3/ eHL400-4/ eHL400-5供电DC magnetic confinement - 电压40-200V VDC - 阳极结构模块化电源控制eHL-30010A配置- - 阴极中和器Filamentless - 离子束发散角度 45° (hwhm) - 阳极标准或 Grooved - 底座移动或快接法兰 - 高度10 cm宽度10 cm - 长度~ 100cm -工艺气体Ar, Xe, Kr, O2, N2, Others ModeleHL 200-3eHL 200-5Height (nominal)2.9” (7.4cm)2.9” (7.4cm)Width (nominal)3.3” (8.4cm)3.3” (8.4cm)Length (nominal)Determined by number of modules & applicationDetermined by number of modules & applicationCathode/NeutralizerYesYesAnode moduleYesYesFilamentlessYesYesOrientation Vertical / HorizontalVertical / HorizontalProcess gasesInert, reactive, & organicInert, reactive, & organicPower controllereH Plasma Power PackeH Plasma Power Pack1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.若您需要进一步的了解 KRI 霍尔离子源, 请参考以下上海伯东: 罗女士
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