扫描电镜半导体标准

品牌： GATAN 名称型号：GATAN冷冻传输系统Alto2500制造商： GATAN公司经销商：欧波同有限公司 产品综合介绍： 产品功能介绍扫描电镜工作者都面临着一个不能回避的事实，就是所有生命科学、石油地质学以及许多材料科学的样品都含有液体成分。很多动植物组织含水量达到98%，这是扫描电镜工作者最难对付的样品问题。冷冻传输设备是一种将经过冷冻制样后的样品置入 SEM 样品室内，并维持样品低温状态的一种设备。它综合了制样、维持样品低温真空环境、在不破坏 SEM 真空前提下安全传送样品至SEM。是冷冻扫描电镜不可或缺的利器！品牌介绍美国GATAN公司成立于1964年并于70年代末进入中国市场。GATAN公司以其产品的高性能及技术的先进性在全球电镜界享有极高声誉。作为世界领先的设计和制造用于增强和拓展电子显微镜功能的附件厂商，其产品涵盖了从样品制备到成像、分析等所有步骤的需求。产品应用范围包括材料科学、生命科学、地球物理学、电子学，能源科学等领域， 客户范围涵盖全球的科研院所，高校，各类检测机构及大型工业企业实验室，并且在国际科学研究领域得到了广泛认同。经销商介绍欧波同有限公司是中国领先的微纳米技术服务供应商，是一家以外资企业作为投资背景的高新技术企业，总部位于香港，分别在北京、上海、辽宁、山东等地设有分公司和办事处。作为蔡司电子显微镜、GATAN扫描电子显微镜制样设备及附属分析设备在中国地区最重要的战略合作伙伴，公司秉承“打造国内最具影响力的仪器销售品牌”的经营理念，与蔡司，GATAN品牌强强联合，正在为数以万计的中国用户提供高品质的产品与国际尖端技术服务。产品主要技术特点： Alto 2500 是一款高分辨率的新一代冷冻传输系统，专为场发射扫描电镜（FE SEM）设计，是冷冻扫描电镜中的性能冠军。Alto 2500系统提供的制样技术包括快速冷冻（为了保持含水状态），真空传输（防止样品污染），冷冻断裂（展示内部微观结构），升华（净化非含水成分）和镀膜（允许高分辨表面成像和X-RAY分析）。Alto 2500冷冻前处理室 Alto 2500配备了专用的直接连在SEM上的前处理室。该高真空前处理室配有一个独立的且在工作中无振动产生的涡轮分子泵。前处理室高程度可视化有利于观察样品，同时室内装有灯管，配合双筒显微观察镜可以在处理样品过程中更好的观察样品。大容量一体式液氮冷肼设计，不仅保证看充足的低温供应和优异的低温环境，而且提供了无污染操作环境。冷肼上部装有一个冷台和防污染板，温度可分别达到-180℃和-190℃。利用样品台加热器可以使其升温，从而达到可控温度升华的目的。珀热电阻温度传感器能够灵敏的显示冷台和防污染板的温度。前处理室还配置了标准双功能冷冻断裂刀具，还可选配可控断裂深度的冷冻旋转断裂刀具。喷镀专为冷冻环境设计的磁控高性能喷镀单元，5nm的分辨率精度是获取高分辨率FEG-SEM图像的保证。该单元可选配互换式多点喷碳装置。真空传递装置 真空传递装置是一个紧凑而轻巧的装置，将经过快速冷冻工作台冷冻后的样品继续保持真空状态，并转移到前处理室和SEM样品室中。大面积玻璃窗保证了良好的可视性，可以让操作者顺利的将样品推送到冷台。 快速冷冻工作台冷冻工作台含有两个可制“液氮泥”的处理罐，不仅可以快速冷冻样品，而且还能装载预冷冻样品。可选配‘撞击式冻装置’。SEM冷台模块低温氮气高效冷却的冷台模块很易于SEM样品台楔合。利用内置可控温加热器和精确的温度感应器能轻易的控制温度在-185℃到+50℃之间。冷台模块冷气管具有一定的弯曲度，即使在通有冷却氮气的情况下冷台也可旋转一定的角度。在FIB+SEM中，可以设置最大倾斜角度。为了保证获得无污染的图像，在SEM样品室内配置了一个独立的根据不同SEM而定制的可显温度的防污染板。系统控制面板键盘控制器显示系统参数，只有手掌大小，操作简单。在使用过程中，控制器可以方便的放在任意方便的位置。安全特性整个系统提供了电子机械互锁，保证了操作者和显微镜的安全性。产品主要技术参数： 样品预处理装置液氮泥快速冷冻（-210℃）；多功能液氮泥工作站，有装载样品座的铰链式装置，可将冷冻预处理后的样品很方便的对接至真空传输装置上。前处理室的冷台由直接嵌入的液氮杜瓦直接冷却，确保最佳制冷效率和最低制冷速度；通过减震装置将分子泵直接耦合到前处理室上，确保最佳的抽气效率和样品室真空；冷源4-2-1 冷冻前处理室采用一体式液氮冷阱制冷，扫描电镜冷台采用过冷氮气气冷，分体式液氮杜瓦只需6 L液氮，可连续提供扫描电镜冷台3 h连续工作时间；高真空冷冻制备腔室，包括：前级机械泵，涡轮分子泵（70 L/S），工作时前处理室真空度优于10-6 mbar量级；多角度样品观察窗，×10倍和 ×20倍双目显微观察镜，气锁阀门控制真空传递装置连接，；球阀与扫描电镜样品室连接，具有电动开关和电动机械安全锁；一体式液氮冷阱及防污染装置，防污染装置可设温度为 -190℃；样品制备腔室内部液氮冷冻台（-180℃ ～ +100℃）及防污染装置；样品处理包括断裂、升华、喷镀功能。标配冷冻断裂刀；可设定升华时间及温度，自动升华；标配Pt靶材磁控喷镀，可选其他靶材（Au/Pd, W , Ir 和 Cr），自动喷镀，提供高纯氩气供给连接组件；真空传输装置设计紧凑小巧，使用方便，密封效果好。扫描电镜冷台和防污染装置低温氮气气冷扫描电镜冷台（-185℃ ~ + 50℃），温度稳定度为1℃；根据扫描电镜类型定制防污染装置，可设温度为 -190℃或更低；扫描电镜样品室内配置LED照明灯。高集成按键式控制板，体积小，可方便的放置在触手可及的位置。 产品主要应用领域： ● 植物学、动物学和医学（如植物叶、根毛、花粉、冬虫夏草、动物器官组织等）● 食品原料（如牛奶、酵母等）● 脂类、聚合体、油漆和化妆品（如面霜、雪花膏、牙膏等）● 光束或电子束灵敏的材料(如：照相感光乳剂)● 石油地质学(泥、泥浆、油母岩等)● 液体、半液体和泡沫（啤酒花、冰淇淋、酸奶等）● 热敏半导体材料(如：低K材料)喷镀前 喷镀后 真菌感染后的叶片表面 硅藻绿霉菌 冰淇淋 酸奶

[ 产品简介 ]蔡司钨灯丝扫描电镜EVO系列，作为高性能的扫描电子显微镜，可为显微镜专家和新用户带来直观、简便的使用体验。该系列有丰富的配件选项，无论是应用在生命科学，材料科学，抑或是工业测量等领域，都可以根据您的需求量身定制。且具有超大样品舱室、自动化工作流程以及简单易用等特点，是实验室日常检测、工业常规质量控制和失效分析等领域必不可少的综合型显微分析设备。[ 产品特点 ]&bull 30kV加速电压下二次电子图像分辨率高达3.0nm&bull 超大样品观察-最大直径300mm，最大高度210mm &bull 智能化导航-导航相机让样品定位更加便捷&bull 关联显微分析-与蔡司的光学显微镜联用&bull ZEN软件-完整的数据管理和分析功能&bull 自动化工作流程[ 应用领域 ]&bull 汽车行业，如清洁度分析，失效分析&bull 钢铁行业，如夹杂物分析，相分析&bull 电子半导体行业，如缺陷检测，断面失效分析&bull 地矿行业，如岩相分析，自动矿物分析&bull 制造与装配工业，如质量分析，非金属夹杂物分析&bull 材料科学，如金属、陶瓷、高分子等样品表征&bull 生命科学，如动植物分析，微生物研究&bull 刑侦、法医学&bull 考古学、文物保护与修复10kV下集成电路成像低真空下纤维织物成像低真空下橘子组织成像20kV下轴承滚珠表面图像

FE-SEM获得的图像分辨率高，信息丰富，样品处理相对简单，并且它可以观察、测量并分析样品的细微结构，因此被广泛应用于纳米技术、半导体、电子器件、生命科学、材料等领域。近年来，以Materials Integration为代表，其应用领域及用途在不断扩展，短时间内获取大量数据，减轻作业负荷成为市场的一大需求。为满足这一需求，此次特推出的SU8700作为一款面向新时代的SEM，在日立电镜贯有的高图像质量和高稳定性的基础上，增加了包括自动获取数据等高通量的功能。SU8700可配置各种分析附件，适用于从低加速观察到高束流的EBSD分析，支持陶瓷、金属等不同材料的解析。该系列产品的特点如下：1．支持自动获取数据在FE-SEM的观察和分析中，需要根据测量样品与需求调整观察条件。调整所需时间的长短取决于用户的操作熟练度，这是造成数据质量与效率差异的因素之一。此系列产品标配自动调整功能，可避免人为操作导致的差异。此外，随着仪器性能的提升，需要获取的数据种类与数量也在增加，手动获取各种大量数据会大大增加用户的作业负担。此系列产品可选配“EM Flow Creator”，用户可根据自身需求设定条件，自动获取数据，这对于未来通过获取大量数据实现数据驱动开发起到重要作用。2．增加获取信息的种类与数量通过SEM能够收集到多种信号，且此系列产品最多可以同时显示和存储6个检测器的信号。在减少图像获取次数的同时能够获取多种信息。此外，为一次性获取大量信息，单次扫描像素扩展到了40,960 x 30,720（选配），是之前型号的64倍。利用这一功能，可凭借一张数据图像有效评估多处局部的细微结构。3．增强信号检测能力SU8700的样品仓设计巧妙，可使用短工作距离进行EDS分析，通过提高EDS分析的空间分辨率，能够实现更微小部位的分析。

日本电子扫描电镜JSM-6510A/JSM-6510LA详细介绍日本电子扫描电镜JSM-6510A/JSM-6510LA型与日本电子公司的元素分析仪（EDS），统合于一体。结构紧凑的EDS由显微镜主体系统的电脑控制，操作员只用一只鼠标，就可完成从图像观测到元素分析的整个过程。扫描电镜最基本的功能是对各种固体样品表面进行高分辨形貌观察。大景深图像是扫描电镜观察的特色，应用于生物学、植物学、地质学、冶金学等领域。观察可以是一个样品的表面，也可以是一个切开的面，或是一个断面。冶金学家已兴奋地直接看到原始的或磨损的表面。可以很方便地研究氧化物表面，晶体的生长或腐蚀的缺 陷。它一方面可更直接地检查纸，纺织品，自然的或制备过的木头的细微结构，生物学家可用它研究小的易碎样品的结构。例如：花粉颗粒，硅藻和昆虫。另一方面，它可以拍出与样品表面相应的立体感强的照片。电子束与样品作用区内，还发射与样品物质其他性质有关信号。例如：与样品化学成分分布相关的，背散射电子，特征X射线，俄歇电子，阴极荧光，样品吸收电流等；与样品晶体结构相关的，背散射电子衍射现象的探测；与半导体材料电学性能相关的，二次电子信号、电子束感生电流信号；在观察薄样品时产生的透射电子信号等。目前分别有商品化的探测器和装置可安装在扫描电镜样品分析室，用于探测和定性定量分析样品物质的相关信。操作窗口：直观的操作界面的设计，简明易懂便于迅速掌握操作。支持多用户：单个用户可以根据常用功能设置相应的图标，营造快捷的操作环境。用户登录时，即可加载已注册过的设定。同时显示两幅图像：画面上并列显示二次电子成像和背散射电子成像这两种实时图像。可同时观察样品的形貌和组成分布。微细结构测量：适合于多种测量功能。可在观察图像上直接进行测量。也可将测量结果贴至SEM图像，保存在文件中。标准的全对中样品台，能收录三维照片3D Sight（选配件），能够进行平面测量和高度测量，实现立体俯视图。从图像观察到元素分析，配合连贯一条龙分析型扫描电子显微镜配备两台监视 器，一台用于SEM图像观察和另一台用于元素分析（EDS）。一只通用鼠标即可同时控制两台监视 器。大尺寸画面使操作更加简便与舒 适。维护简便：工厂预置中 心灯丝，十分便于更换。因此，可长期保持稳定的高性能。此外，操作界面还能以映像形式显示灯丝维护的步骤说明。可信赖的真空系统：真空系统使用高性能的扩散泵保证了洁净的高真空状态。扩散泵内部无活动部件，体现了操作稳定，维护简便的特色。 日本电子扫描电镜JSM-6510A/ JSM-6510LA型的规格保证分辨率3.0nm（30kV）8.0nm（3kV）15nm（1kV）放大倍数5至300,000x加速电压0.5kV至30kV电子枪工厂预对中灯丝聚光镜变焦聚光镜物镜锥形物镜样品台全对中样品台X-Y80mm-40mmZ5mm至48mm旋转360°倾斜－10°至＋90°排气系统（高真空模式）DPx1，RPx1排气系统（低真空模式）DPx1，RPx2日本电子最 大的亮点——方便的导航系统

产品介绍：　　日立全新一代热场发射扫描电镜SU5000继承了日立半导体行业扫描电镜CD-SEM高稳定性和易操作的特点，不仅具有强大的观察分析能力，同时具有全新的操作体验。SU5000既满足了专业电镜操作者对高分辨观察和分析的需求，也满足了电镜初学者对高质量图片的需求，是一台操作简便且功能强大的扫描电镜。主要特点：1.　高稳定性热场发射电子枪2.　全新的EM Wizard软件，无需设置参数即可获得高质量图片3.　高分辨率和强大的分析能力4.　样品适用性强：不导电样品直接观察（低真空功能，10-300Pa）5.　全新的multi-finder功能，方便快捷的寻找样品6.　附件功能强大：拉伸台，冷热台，电子束曝光，红外CCD，离子束清洁系统等。

样品电流感生电流探测器是设计用来对扫描电镜中样品吸收的小电流进行探测。它提供精确的吸收电流测量，也能提供宽范围的束流成像。在较高的电子束流下，可以得到TV速率的图像；而在慢扫描时，可以得到低噪声的图像。差分输入能力允许样品对地浮动高达5V电压。当高能电子穿透晶体半导体时，随着硅价电子从其轨道中射出，硅原子的电离将吸收其大部分动能。每一次电离都产生一个自由电子，而空价位使原子的电不平衡，并带净正电荷。这种被称为空穴的净正电荷似乎在外场的影响下从一个原子迁移到另一个原子，造成了正电荷流动的错觉。在p掺杂区和n掺杂区交界处，由于电子和空穴的重新分布所产生的电场(费米势)，形成了一个移动载流子的狭窄空穴区。如果电子和由撞击电子产生的空穴可以进入这个耗尽区，那么它们也会被费米势扫到一边。载流子的这种运动表现为外部电路中的电流。n 吸收电流测量n 吸收电流成像n 兼容偏压样品在硅中，平均电子空穴对需要大约3.6eV的能量，与进入耗尽区载流子的数量成正比的外部电流很可能比原束流大2到4个数量级，这取决于原束流能量和能被吸收到耗尽区的空穴对的百分比。这种现象被称为电子束感生电流或EBIC。光子轰击可以产生同样的效果，这也是光电二极管和太阳能电池工作的基础。现代平面半导体器件由于其独特的二维结构，使其易于在扫描电子显微镜和激光扫描显微镜下采用EBIC（电子束感生电流）和OBIC（光束感生电流）技术进行定性和定量研究。对未钝化器件进行检查是需要的，EBIC也可以很容易地在已完成钝化的器件上执行，事实上，它可以揭示关于钝化层厚度和结深度的信息。EBIC图样的空间扩展可以提供载流子寿命和扩散长度的信息，而这些信息又指向了电阻率和晶体取向。EBIC方法也能用来检查用于半导体制造的晶圆的质量，方法是在表面涂上合适的结层，并在下面形成大面积结。晶界和孪晶界、层错和螺位错等晶体缺陷为电子空穴对形成了俘获（重组）中心，当束流冲击这些缺陷附近时，EBIC电流输出明显减少。

产品介绍：　　日立全新一代热场发射扫描电镜SU5000继承了日立半导体行业扫描电镜CD-SEM高稳定性和易操作的特点，不仅具有强大的观察分析能力，同时具有全新的操作体验。SU5000既满足了专业电镜操作者对高分辨观察和分析的需求，也满足了电镜初学者对高质量图片的需求，是一台操作简便且功能强大的扫描电镜。主要特点：1.高稳定性热场发射电子枪2.全新的EM Wizard软件，无需设置参数即可获得高质量图片3.高分辨率和强大的分析能力4.样品适用性强：不导电样品直接观察（低真空功能，10-300Pa）5.全新的multi-finder功能，方便快捷的寻找样品6.附件功能强大：拉伸台，冷热台，电子束曝光，红外CCD，离子束清洁系统等。

1. 悠久的电子显微镜研究及生产历史ZEISS公司具有悠久的电镜研究、生产历史，在世界上一直处于地位。当今的ZEISS公司纳米技术系统分部（The Nano Technology Systems Division of Carl Zeiss SMT）由德国本部电镜生产基地和英国剑桥厂及其他配件厂组成。积扫描电镜领域及透射电镜领域多年的研发经验，ZEISS电子束技术在世界上创造了数个一：一台静电式 TEM (1949)一台商用 SEM (1965)一台全数字 SEM (1985)一台带有成像滤波器的 TEM (1992)一台可变压力 FE-SEM (2001)一台具有Koehler照明的 200kV FE EFTEM (2003)一台具有镜筒内校正Omega能量滤波器的EFTEM (2003) ZEISS电镜技术经历了Cambridge、OPTON、LEICA、LEO等发展阶段，现已具有钨灯丝扫描电镜、场发射扫描电镜、双束显微镜(FIB and SEM)、透射电子显微镜等生产能力的厂家。其产品的高性能、高质量、高可靠性和稳定性已得到全世界广大用户的信赖与认可。2. 先进的仪器结构设计ZEISS扫描电镜采用通用的镜体设计，可配备各种不同的附件，适应各种分析的需要。并具有灵活的可升级性，可按照用户研究工作发展的需要进行升级。各种类型的扫描电镜均有高真空、低真空（或超低真空）型号，以满足不同样品检测的需要。3. 卓越的技术性能高分辨率 ： 目前，钨灯丝扫描电镜的分辨率达到3nm，能够满足失效分析、材料研究等方面的需要。大样品室： ZEISS扫描电镜具有世界上大的样品室，样品室内部尺寸为Φ365mm×275mm，全对中的样品台，可放置的大样品尺寸为Φ250mm×145mm，样品台大承载重量为5kg，方便各种大样品的分析。高效无污染真空系统： ZEISS各种型号的扫描电镜均采用了涡轮分子泵抽真空，其抽真空速度快、无污染、免维护是其大的优势。还可提供无油的真空系统。自动化操作： 新型的扫描电镜全部采用当前先进的计算机集成自动化控制，采用Windows视窗操作系统、图形用户控制界面，全部操作可用键盘和鼠标完成。样品台坐标轴全部马达驱动，软件功能强大，操作非常简单和方便。五轴马达自动控制全对中样品台：X:125mm Y:125mm Z:50mm T: 0～+90度 R:360度。高稳定性、可靠性： ZEISS扫描电镜具有很高的稳定性，镜筒、电路板等均采用了水冷，保证了其工作的稳定与可靠。做工的精湛，工艺的考究，也为世界之首。4. 全面的成像解决方案ZEISS的钨灯丝扫描电镜可以提供高真空、低真空和超低真空工作模式，对任何材料都没有局限性，满足金属、陶瓷、地矿、化工、半导体、生命科学等所有研究领域需要。其超大样品室预留足够端口，可搭配能谱、波谱、背散射电子衍射、阴极荧光等，样品台可装加热台、冷却台和拉伸台以满足各种研究需要。其大束流和优异的束流稳定度支持各种大束流和长时间的分析。扫描电镜的强大功能已使其成为研究所以及工厂的微观失效分析的一个基本工具，为失效分析提供真实确切的证据，提高相应领域的分析水平。广泛应用于航空航天、交通、材料、冶金、地矿、半导体、生命科学等方面。5. 低真空的应用在失效分析中，除了金属样品外，还有很多非金属样品，这些样品导电性很差。要分析这些非导电样品，样品的充电是不可避免的。由于电子束打到样品上使样品带电，其产生的电场影响了二次电子的产生和接收，使图像上呈现一片片亮的或暗的区域，无法进行正常观察。要对这些非导电样品进行分析，就必须排除样品充电的影响。其方法之一就是将样品上的电荷中和掉。ZEISS扫描电镜所采取的措施是：使样品室处于低真空状态，样品表面所产生的二次电子与样品室中的气体分子相碰撞，使气体电离，这些气体离子附着于样品表面，将样品上所带的电荷中和掉。使用专用的探测器，接收二次电子与气体分子相碰撞时产生的光子，这些光子也就代表了二次电子信号，使成像不受样品导电性的影响，在分析这些样品时能够得到理想的成像。对于一些含水、含油的样品，可以采用更低的真空度，使水分在该压力、温度下不至于挥发，这样便可观察到真实的生物样品形貌。6. 具有多种观察模式，分辨率模式、景深模式、分析模式、视场模式、鱼眼模式。

ZEISS公司具有悠久的电镜研究、生产历史，在世界上一直处于地位。当今的ZEISS公司纳米技术系统分部（The Nano Technology Systems Division of Carl Zeiss SMT）由德国本部电镜生产基地和英国剑桥厂及其他配件厂组成。积扫描电镜领域及透射电镜领域多年的研发经验，ZEISS电子束技术在世界上创造了数个一：一台静电式 TEM (1949)一台商用 SEM (1965)一台全数字 SEM (1985)一台带有成像滤波器的 TEM (1992)一台可变压力 FE-SEM (2001)一台具有Koehler照明的 200kV FE EFTEM (2003)一台具有镜筒内校正Omega能量滤波器的EFTEM (2003) ZEISS电镜技术经历了Cambridge、OPTON、LEICA、LEO等发展阶段，现已具有钨灯丝扫描电镜、场发射扫描电镜、双束显微镜(FIB and SEM)、透射电子显微镜等生产能力的厂家。其产品的高性能、高质量、高可靠性和稳定性已得到全世界广大用户的信赖与认可。2. 先进的仪器结构设计ZEISS扫描电镜采用通用的镜体设计，可配备各种不同的附件，适应各种分析的需要。并具有灵活的可升级性，可按照用户研究工作发展的需要进行升级。各种类型的扫描电镜均有高真空、低真空（或超低真空）型号，以满足不同样品检测的需要。3. 卓越的技术性能高分辨率 ： 目前，钨灯丝扫描电镜的分辨率达到3nm，能够满足失效分析、材料研究等方面的需要。大样品室： ZEISS扫描电镜具有世界上大的样品室，样品室内部尺寸为Φ365mm×275mm，全对中的样品台，可放置的大样品尺寸为Φ250mm×145mm，样品台大承载重量为5kg，方便各种大样品的分析。高效无污染真空系统： ZEISS各种型号的扫描电镜均采用了涡轮分子泵抽真空，其抽真空速度快、无污染、免维护是其大的优势。还可提供无油的真空系统。自动化操作： 新型的扫描电镜全部采用当前先进的计算机集成自动化控制，采用Windows视窗操作系统、图形用户控制界面，全部操作可用键盘和鼠标完成。样品台坐标轴全部马达驱动，软件功能强大，操作非常简单和方便。五轴马达自动控制全对中样品台：X:125mm Y:125mm Z:50mm T: 0～+90度 R:360度。高稳定性、可靠性： ZEISS扫描电镜具有很高的稳定性，镜筒、电路板等均采用了水冷，保证了其工作的稳定与可靠。做工的精湛，工艺的考究，也为世界之首。4. 全面的成像解决方案ZEISS的钨灯丝扫描电镜可以提供高真空、低真空和超低真空工作模式，对任何材料都没有局限性，满足金属、陶瓷、地矿、化工、半导体、生命科学等所有研究领域需要。其超大样品室预留足够端口，可搭配能谱、波谱、背散射电子衍射、阴极荧光等，样品台可装加热台、冷却台和拉伸台以满足各种研究需要。其大束流和优异的束流稳定度支持各种大束流和长时间的分析。扫描电镜的强大功能已使其成为研究所以及工厂的微观失效分析的一个基本工具，为失效分析提供真实确切的证据，提高相应领域的分析水平。广泛应用于航空航天、交通、材料、冶金、地矿、半导体、生命科学等方面。5. 低真空的应用在失效分析中，除了金属样品外，还有很多非金属样品，这些样品导电性很差。要分析这些非导电样品，样品的充电是不可避免的。由于电子束打到样品上使样品带电，其产生的电场影响了二次电子的产生和接收，使图像上呈现一片片亮的或暗的区域，无法进行正常观察。要对这些非导电样品进行分析，就必须排除样品充电的影响。其方法之一就是将样品上的电荷中和掉。ZEISS扫描电镜所采取的措施是：使样品室处于低真空状态，样品表面所产生的二次电子与样品室中的气体分子相碰撞，使气体电离，这些气体离子附着于样品表面，将样品上所带的电荷中和掉。使用专用的探测器，接收二次电子与气体分子相碰撞时产生的光子，这些光子也就代表了二次电子信号，使成像不受样品导电性的影响，在分析这些样品时能够得到理想的成像。对于一些含水、含油的样品，可以采用更低的真空度，使水分在该压力、温度下不至于挥发，这样便可观察到真实的生物样品形貌。6. 具有多种观察模式，分辨率模式、景深模式、分析模式、视场模式、鱼眼模式。

S-4300扫描电镜利用电子束与物质相互作用产生的各种信号进行成像，对样品进行形貌和成份分析。主要技术指标：电子枪和高压：冷场发射枪，加速电压0.5-30kV。分辨率：二次电子分辨率：1.5nm（15kV），3.0nm（1kV）；背散射电子分辨率：3.0nm（15kV）。能谱：可鉴定的元素成分： Be-U；分辨率：127eV。　　功能用途：利用二次电子图象、背散射电子图象，可进行生物、化学、矿物、半导体、纳米材料等金相样品、断口样品的表面形貌观察。利用能谱仪进行微区成分分析。

蔡司公司最新推出的Sigma 500/VP场发射扫描电镜采用成熟的GEMINI光学系统设计，分辨率超过0.8nm，为您提供最高分辨率和最佳分析性能科研平台。Sigma500/VP专注于一流的EDS几何学设计使您可以获取精湛的分析性能。借助Sigma直观便捷的四步工作流程可以快速成像、简化分析程序、提高工作效率。您会比以往更快、更多的获取数据。多种探测器的选择使Sigma500/VP可以精准的匹配您的应用程序：您可以获取微小粒子、表面、纳米结构、薄膜、涂层和多层的图像信息。【技术参数】分辨率： 0.8nm @15 kV 1.6 nm @1kV放大倍数：10-1,000,000×加速电压：调整范围：0.02-30 kV（无需减速模式实现）探针电流： 4pA-20nA （40nA&100nA可选）低真空范围：2-133Pa（Sigma 500VP可用）样品室： 358 mm（φ），270.5 mm（h）样品台：5轴优中心全自动 X=125 mm（可选130mm）Y=125 mm（可选130mm）Z=50 mmT=-10o-90oR=360o 连续系统控制：基于Windows 7的SmartSEM操作系统，可选鼠标、键盘、控制面板控制【产品应用】 扫描电镜广泛用于材料科学（金属材料、非金属材料、纳米材料）、冶金、生物学、医学、半导体材料与器件、地质勘探、病虫害的防治、灾害（火灾、失效分析）鉴定、刑事侦察、宝石鉴定、工业生产中的产品质量鉴定及生产工艺控制等。在材料科学、金属材料、陶瓷材料半导体材料、化学材料等领域，进行材料的微观形貌、组织、成分分析。各种材料的形貌组织观察，材料断口分析和失效分析，材料实时微区成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面扫描和线扫描分布测量，晶体/晶粒的相鉴定，晶粒尺寸、形状分析，晶体、晶粒取向测量。

研究超大，超重，超高样品的分析型扫描电镜●可载样品直径达300mm●观察区域直径达203mm●在观察110mm高样品时可进行能谱分析●样品室设置多种接口，可安装EDS、WDS、EBSD和CL等多种分析用附件●5轴优中心马达台可以倾斜-20度~+90度●采用节能，清洁的涡轮分子泵S-3700N技术参数分辨率SE 3.0nm，30KV(高真空模式)10nm， 3KV(高真空模式)BSE4.0nm，30KV（低真空模式）放大倍率x5~x300，000加速电压0.3~30KV低真空范围6~270Pa图像电位移±50μm （工作距离10mm）样品尺寸直径300mm样品台X150mmY110mmZ5~65mmR360°T-20°~90°观测区域203mm样品高度直径110mm（工作距离10mm）样品台类型优中心马达台电子光学系统灯丝预对中灯丝物镜4孔活动光阑光阑固定比例偏压、手动偏压和自动4偏压枪偏压二次电子探头探测器5分割半导体式被散射探头分析位置工作距离10mm，取出角35°显示控制系统控制模式键盘鼠标、操纵杆、旋钮板显示器液晶显示器辅助功能3D动画演示功能电镜操作导航功能样品操作导航功能倾斜补偿功能存储图像精度640 x 480 , 1280 x 9602560 x 1920 , 5120 x 3840图片格式BMP, TIFF, JPEG图像显示模式全屏模式：1280 x 960标准模式：640 x 480分割模式：640 x 480 点x 2信号混合模式真空系统控制模式全自动分子泵210升/秒，一台机械泵135升/分，一台保护措施断电保护、漏气保护

SEM液态样品套件SP-102-24WETSEM技术是基于一个应用于标准SEM样品台的专利样品舱。该舱体的中心为一层透明的纳米技术薄膜，电子束可透过薄膜并完全将含水样品与电镜真空腔隔离。SEM液态样品处理SP-102-24套件适用于扫描液态及溶液中颗粒样品，包含QX-102样品舱体及所有必需配件。QX-102样品舱QX-102样品舱适用于多种含水丰富的材料和生物样品，比如食物、化妆品、油、墨水、溶液中的颗粒、附着或非附着细胞、微生物等。使用QX-012样品舱可以很容易观察不同粘稠度的样品如泡沫状、凝胶状、奶油状、乳胶状。样品既可以直接观察，也可以做适当的染色增强对比或标记处理。该样品舱就像一个细胞培养皿，特别为SEM设计。样品不需要包被及嵌入处理，和光学显微镜相比，电镜成像的样品处理更加简单。MP-10 Multi多孔板多孔板为同时处理多个QX-102样品舱设计，在样品处理过程中保持其湿度，并能与实验室标准仪器兼容。多孔板经无菌处理，一盒2个。IB-64 Imaging BufferQX Imaging Buffer适用于QX-102样品舱在SEM扫描前处理样品，能降低电子束对样品的损伤。经无菌处理，冷冻保存。RT-56标准样品舱标准样品舱帮助第一次使用WETSEM的用户找到扫描电镜成像时的合适参数。标准试剂盒包含40nm和500nm两种不同大小的纳米粒子。纳米粒子很容易在电镜中观察到，帮助确定适合的参数。AT-60 移液器枪头移液器枪头可安全方便的从单个QX-102样品舱中吸取液体样品。枪头适用于任何标准的移液器。如使用多个试剂盒或多个液体样品，推荐使用MA-4多孔移液器，可以同时提取多个液体样品。灭菌的移液器枪头一盒60个。 SEM动态水合作用套件SK-202C-24WETSEM技术是基于一个应用于标准SEM样品台的专利样品舱。该舱体的中心为一层透明的纳米技术薄膜，电子束可透过薄膜并完全将含水样品与电镜真空腔隔离。SK-202C-24套件包括QX-202C样品舱及所有必需配件。QX-202C 样品舱QX-202C主要用于不同动态水合过程电镜原位图像制作，例如水泥，石膏等材料的水合过程。QX-202C独特的设计可以应用于SEM真空腔。动态过程最长可达24小时，不再需要多个样品成像或反复抽真空。样品不需包被，干燥及冰冻，可简单放入试剂盒密封观察，可直接用BSE检测器观察。MP-12 多孔板多孔板为同时处理多个QX-202C设计，方便多个样品制备时的处理和保存。QX Imaging Buffer QX-Imaging buffer适用于SEM成像的标准样品舱。冰冻储存。标准样品舱标准样品舱帮助第一次使用WETSEM的用户找到扫描电镜成像时的合适参数。标准试剂盒包含40nm和500nm两种不同大小的纳米粒子。纳米粒子很容易在电镜中观察到，帮助确定适合的成像参数。Aplicator (Microman M25 and tips)Gilson Microman 移液器专门为精确移取少量粘稠液体和混合液而设计。同时提供Microman M25连接活塞和枪头。SEM含水固体样品套件SK-302-12WETSEM技术是基于一个应用于标准SEM样品台的专利样品舱。该舱体的中心为一层透明的纳米技术薄膜，电子束可透过薄膜并完全将含水样品与电镜真空腔隔离。SK-302-12套件包括QX302样品舱及所有必需配件。QX-302样品舱QX-302样品舱适用于多种含水固体样品，例如活体组织切片，自然状态的植物材料等。样品舱可用于多种样品大小，直径最大为3mm，厚度最大为1mm。扫描样品不需包被及嵌入，与光学电镜相比，电子显微镜成像样品处理更简单。MP-12 多孔板MP-12 多孔板为同时处理多个QX-302样品舱而设计，方便样品制备及储存。IB-74 Imaging BufferQX-Imaging buffer适用于SEM标准样品舱。冰冻保存。RT-58-标准样品舱 标准样品舱帮助第一次使用WETSEM的用户找到扫描电镜成像时的合适参数。标准试剂盒包含40nm和500nm两种不同大小的纳米粒子。纳米粒子很容易在电镜中观察到，帮助确定适合的成像湿度参数。

高画质的钨灯丝扫描电镜, 图象质量更进一步。通过高画质提升扫描电镜的分析能力和操作性, 凝聚日立最先进科技“独具匠心”。SU3500钨灯丝扫描电镜具有实现了“3kV加速电压7nm分辨率”的全新电子光学系统, 可实现实时立体成像的“实时立体观察功能”＊1, 以及更高检测效率的 “UVD超高灵敏度可变压力检测器”＊1。它为观察和分析提出了崭新的标准。*1：自选特点低加速电压观察时分辨率更高，可更好地观察样品最表面的细微形状和更有效地降低样品的损坏全新设计的电子光学系统和信号处理技术实现了高速扫描和低噪音的观察和以前的常规扫描电子显微镜相比＊2，自动功能缩短＊3了大约11秒具有在低真空时可以非常好地观察样品最表面的细微形状的“UVD（超高灵敏度可变压力探测器）”＊4具有实现了实时立体成像的“实时立体观察功能”＊4（*2）：和日立SEM S-3400N相比（*3）：根据观察条件的不同，时间会有变动（*4）：自选规格 项目描述二次电子分辨率3.0nm（加速电压=30kV，WD=5mm高真空模式）7.0nm（加速电压=3kV，WD=5mm高真空模式）背散射电子分辨率4.0nm（加速电压=30kV，WD=5mm低真空模式）10.0nm（加速电压=5kV，WD=5mm高真空模式）放大倍率5 - 300,000倍（底片倍率＊5）7 - 800,000倍（显示器显示倍率＊6）加速电压0.3 - 30kV可变压力范围6 - 650Pa最大样品尺寸直径 200mm样品台X0 - 100mmY0 - 50mmZ5 - 65mmR360°T-20° - 90°可观察区域直径 130mm （旋转并用）最大样品高度80mm（WD=10mm）马达台5轴标配电子光学系统电子枪预对中的钨灯丝物镜光阑4孔可动光阑探检测器埃弗哈特 索恩利 二次电子探测器高灵敏度半导体背散射电子检测器EDX分析 WD10mm（取出角35°）图像显示操作系统Windows 7＊7（如有更改，恕不另行通知）图像显示模式全屏模式（1,280 × 960 像素）小屏模式（800 × 600 像素）双图像显示（800 × 600 像素）四屏幕显示（640 × 480像素）信号混合模式排气系统操作全自动排气涡轮分子泵210升/秒 × 1机械泵135L/min（162L/min，60Hz）× 1（*2）：以127mm×95mm（图像尺寸4"×5"）的显示尺寸规定倍率（*3）：以345mm×259mm（像素1,280×960）的显示尺寸规定倍率（*4）：Windows是微软公司在美国和其他国家的注册商标

[ 产品简介 ]蔡司钨灯丝扫描电镜EVO系列，作为高性能的扫描电子显微镜，可为显微镜专家和新用户带来直观、简便的使用体验。该系列有丰富的配件选项，无论是应用在生命科学，材料科学，抑或是工业测量等领域，都可以根据您的需求量身定制。且具有超大样品舱室、自动化工作流程以及简单易用等特点，是实验室日常检测、工业常规质量控制和失效分析等领域必不可少的综合型显微分析设备。[ 产品特点 ]&bull 30kV加速电压下二次电子图像分辨率高达3.0nm&bull 超大样品观察-最大直径300mm，最大高度210mm &bull 智能化导航-导航相机让样品定位更加便捷&bull 关联显微分析-与蔡司的光学显微镜联用&bull ZEN软件-完整的数据管理和分析功能&bull 自动化工作流程[ 应用领域 ]&bull 汽车行业，如清洁度分析，失效分析&bull 钢铁行业，如夹杂物分析，相分析&bull 电子半导体行业，如缺陷检测，断面失效分析&bull 地矿行业，如岩相分析，自动矿物分析&bull 制造与装配工业，如质量分析，非金属夹杂物分析&bull 材料科学，如金属、陶瓷、高分子等样品表征&bull 生命科学，如动植物分析，微生物研究&bull 刑侦、法医学&bull 考古学、文物保护与修复10kV下集成电路成像低真空下纤维织物成像低真空下橘子组织成像20kV下轴承滚珠表面图像

日立HITACHI扫描电镜SU8600系列高分辨场发射扫描电子显微镜 SU8600系列*设备照片包含选配项。 SU8600系列秉承了Regulus8200系列的高质量图像、大束流分析及长时间稳定运行的冷场成像技术，同时还提升了高通量、自动数据获取能力。 特点*高分辨成像日立的高亮度电子源可保证了即使在低着陆电压下，也可获得高分辨的图像。高衬度的低加速电压背散射图像3D NAND截面观察 在低加速电压条件下，背散射电子信号能够显示出氧化硅层和氮化硅层的衬度差别。快速BSE图像：新型闪烁体背散射电子探测器(OCD)*由于使用了新型的OCD探测器，即使扫描时间不到1秒，也仍然可以观察到Fin-FET清晰的深层结构图像.自动化功能*EM Flow Creator 允许客户创建连续图像采集的自动化工作流程。EM Flow Creator将不同的SEM功能定义为图形化的模块，如设置放大倍率、移动样品位置、调节焦距和明暗对比度等。用户可以通过简单的鼠标拖拽，将这些模块按逻辑顺序组成一个工作程序。经过调试和确认后，该程序便可以在每次调用时自动获得高质量、重现性好的图像数据。灵活的用户界面原生支持双显示器，提供灵活、高效的操作空间。6通道同时显示与保存，实现快速的多信号观测与采集。 技术参数机型SU8600 系列电子光学系统二次电子像分辨率0.6 nm@15 kV0.7 nm@1 kV *放大倍率20 to 2,000,000 x电子枪冷场发射电子源，支持柔性闪烁功能，包含阳极烘烤系统。加速电压0.5 to 30 kV着陆电压 *0.01 to 20 kV探测器（部分为选配项）上探测器(UD)UD ExB能量过滤器，包含SE/BSE信号混合功能下探测器(LD)顶探测器(TD)TD能量过滤器镜筒内背散射电子探测器(IMD)半导体式背散射电子探测器 (PD-BSED)新型闪烁体式背散射电子探测器(OCD)阴极荧光探测器(CLD)扫描透射探测器(STEM Detector)附件（部分为选配项）导航相机、样品室相机、X射线能谱仪(EDS)、背散射电子衍射探测器(EBSD)软件（部分为选配项）EM Flow Creater、HD Capture( 40,960×30,720 像素以下）样品台马达驱动轴5轴马达驱动（X/Y/R/Z/T）马达驱动轴X：0~110 mmY：0~110 mmZ：1.5~40 mmT：-5~70°R：360°样品室样品尺寸直径可达：150 mm*减速模式下

产品介绍：TESCAN VEGA 第四代钨灯丝扫描电子显微镜，采用全新的 Essence&trade 电镜操控软件系统，将扫描形貌图像与元素实时分析集成于同一个扫描窗口中。这种组合大大简化了样品表面形貌的采集及所含元素的数据分析工作，使得全新的第四代 VEGA SEM 成为质量控制、故障分析和研究实验室中常规材料等检测提供更gao效的分析的解决方案。TESCAN VEGA 采用创新的电子光学设计，确保在需要时即时、无缝地选择成像或分析条件，无需对任何电子光学镜筒内的元件进行机械对中。可以配置真空缓冲节能单元，使用后可显著缩短机械泵的运行时间，从而达到节能、环保的要求。主要特点:完全集成的 TESCAN Essence&trade EDS 分析平台，在 Essence&trade 电镜操控软件的单一窗口中即可实现 SEM 成像和元素成分分析。TESCAN 采用独特的无机械光阑设计，采用实时电子束追踪（In Flight Beam Tracing&trade ）的ZG技术，可帮助用户快速获得电镜合适的成像及分析条件。独特的大视野光路（Wide Field Optics&trade ）设计，zui低至2倍的放大倍数，无需额外的光学导航摄像头即可轻松、精确地实现 SEM 导航。直观、模块化的 Essence&trade 软件设计，不同经验等级的用户均可轻松操作。在样品台及装置的样品运动过程中，Essence&trade 3D 防碰撞模块可以直观的显示安装样品室内的探测器及样品台的位置信息，提供安全性的保护。SingleVac&trade 模式作为标准配置，为观测不导电样品和电子束敏感的样品提供便利的分析利器。可选配的真空缓冲节能单元可显著缩短机械泵的运行时间，提供环保、高经济效益的电子显微镜。模块化分析平台，可选配集成最多种类的探测器和附件（如阴极荧光探测器，水冷背散射电子探测器或拉曼光谱仪等）。大视野设计，实现低倍精确导航利用大视野光路(Wide Field Optics&trade )技术，用户可通过扫描窗口实时观察样品，直接实现感兴趣位置的精确导航。大视野光路技术取代了传统的CCD导航相机，提供无与伦比的大景深，同时也提供样品实际形貌的图像，实现更直观、先进的样品导航过程。在 SEM 观测窗口中，最小2倍的放大倍率保证了大视野无畸变的图像实时观测，可连续放大感兴趣的区域，无需光学导航相机。实时的SEM窗口同样可与预倾斜样品台（如 EBSD 预倾台）配合使用，对于需要倾斜分析的样品，支持扫描倾斜校正，从而实现更精确的导航。自动操作通过一次点击就可以进行自动灯丝加热和电子枪对中。众多的自动程序减少了用户的操作时间，并提供了操作的自动导航与自动化分析。通过内置脚本语言（Python）用户可以进入软件大多数功能，包括电镜控制、样品台导航、图像采集、处理与分析。通过脚本语言用户也可以自定义软件的自动操作。全新的 EssenceTM 电镜控制软件用户界面有各种语言版本。集成的 Essence&trade EDS 能谱软件，轻松快捷地实现从成像切换到元素分析，通过软件一键即可实现所有设置参数的更改。具备快速搜索功能、命令撤消及参数预设等多种功能，帮助用户gao效、快捷地完成分析工作。允许用户设定符合其自身体验水平或特定应用的工作流程。Essence&trade 防碰撞模型软件能够直观的模拟出样品室内情况，有效避免碰撞的发生。内置的自动系统检查。通过局域网或互联网可实现电镜远程诊断。模块化软件体系结构。标准的软件模块包括了：光电联用、测量工具、图像处理、对象区域等。选配软件包括了：颗粒度分析、三维表面重构等。软件：测量软件, 公差测量软件图像处理预设参数直方图及LUTSharkSEM&trade 基础版 (远程控制)3D 防碰撞模型软件对象区域光电联用 定时关机CORAL&trade （用于生命科学的电镜模块）自动拼图软件样品观察TESCAN Flow&trade (离线处理软件)

产品介绍：日立全新一代大型钨灯丝扫描电镜SU3900采用超大的样品仓和多接口设计，适合超大样品的观察（直径300mm）以及多种分析功能的拓展。同时，SU3900也采用了全新的HexBias偏压技术，也可以配置高灵敏度的背散射探测器和可变压力二次电子探测器，使其高、低电压性能都得到了提升。SU3900也具有IFT灯丝监控技术、全新的光镜导航、集成的能谱以及报告导出等功能，使其操作也变得更得非常简单。 主要特点：HexBias偏压钨灯丝电子枪超大样品仓和多接口实际优异的高、低电压性能高灵敏度五分割背散射电子探测器可变压力二次电子探测器（高、低真空可用）全新的操作界面和光镜导航功能全自动灯丝设定和合轴报告导出和图片处理可集成的EDS简单方便的维护（灯丝更换视频）应用领域：材料科学生命医学食品卫生半导体电子元器件汽车制造文物考古金属冶金 主要参数：电子枪预对中钨灯丝加速电压0.3kV – 30kV分辨率3.0nm@30kV (SE)15.0nm@1kV (SE)4.0nm@30kV (BSE, LV)放大倍率5x – 300,000x（底片倍率）7x – 800,000x（显示器倍率）探测器二次电子探测器，高灵敏度无分割背散射电子探测器可变压力探测器UVD 2.0*低真空可变压力范围6 – 650Pa样品台（三轴马达）X: 0 - 150 mmY: 0 – 150 mmZ: 5 – 85 mmR: 0 – 360°T: -20° - +90°*选配

产品介绍：日立全新一代高分辨钨灯丝扫描电镜SU3800采用全新的HexBias偏压技术，使其低电压性能大大提升，同时升级的高灵敏度背散射探测器和可变压力探测器使得SU3800的观察能力进一步提升。SU3800还增加了IFT灯丝监控技术、全新的光镜导航、集成的能谱以及报告导出等功能，使其操作也变得更为简单。 主要特点：HexBias偏压钨灯丝电子枪优异的高、低电压性能高灵敏度五分割背散射电子探测器可变压力二次电子探测器（高、低真空可用）全新的操作界面和光镜导航功能全自动灯丝设定和合轴报告导出和图片处理可集成的EDS简单方便的维护（灯丝更换视频） 应用领域：材料科学生命医学食品卫生半导体电子元器件汽车制造 主要参数：电子枪预对中钨灯丝加速电压0.3kV – 30kV分辨率3.0nm@30kV (SE)15.0nm@1kV (SE)4.0nm@30kV (BSE, LV)放大倍率5x – 300,000x（底片倍率）7x – 800,000x（显示器倍率）探测器二次电子探测器，高灵敏度无分割背散射电子探测器可变压力探测器UVD 2.0*低真空可变压力范围6 – 650Pa样品台（三轴马达）X: 0 - 100 mmY: 0 – 40 mmZ: 5 – 65 mmR: 0 – 360°T: -20° - +90° *选配

Thermo Scientific™ Quattro™ 扫描电镜将成像和分析的全面性能与独特的环境模式（ESEM）相结合，使得样品研究得以在自然状态下进行。如今，研究型实验室普遍要求现代的扫描电镜可以适应多种多样的样品分析需求，希望在获得出色的图像质量的同时尽可能简化样品制备过程。Quat t r o 的场发射枪（FEG）确保了优异的分辨率，通过不同的探测器选项，可以调节不同衬度信息，包括定向背散射、STEM 和阴极荧光信息。来自多个探测器和探测器分区的图像可以同步采集和显示，使得单次扫描即可获得各种样品信息，从而减低束敏感样品的束曝光并实现真正的动态实验。Quattro 的三种真空模式（高真空、低真空和 ESEM™ ）使得系统极具灵活性，可以容纳任何 SEM 可用的广泛的样品类型，包括放气或者是与真空状态不相容的样品。此外，ESEM™ 可以在现实世界的条件下对样品进行原位研究，例如湿/潮湿、热或反应性的环境。Quattro 的分析样品仓可以满足日益增长的样品元素信息及晶体结构分析需求，它同时支持相对的双能谱（EDS）探测器、共面能谱（EDS）/电子背散射衍射（EBSD）和平行束波谱（WDS）探测器。无论什么类型的样品，在高真空下或与 Quattro 支持的独特实验条件相结合，无论样品导电、绝缘、潮湿或是在高温条件下，均可获得可靠的分析结果。由于多用户设施要求大量操作人员都能获得所有相关数据，同时尽可能缩短培训时间，所以易用性是至关重要的。Quattro 独特的硬件由帮助功能（用户向导）支持，不仅可以指导操作者，还可以直接与显微镜进行交互。并且通过“撤消（Undo）”功能，鼓励新手用户进行实验，而专家用户可以轻松缩短结果获取时间。主要优势在自然状态下对材料进行原位研究：具有环境真空模式（ESEM）的独特高分辨率场发射扫描电镜大程度缩短样品制备时间：低真空和环境真空技术可针对不导电和/或含水样品直接成像和分析，样品表面无荷电累积在各种操作模式下分析导电和不导电样品， 同步获取二次电子像和背散射电子像安装原位冷台、珀尔帖冷台和热台，可在-165°C 到 1400°C 温度范围内进行原位分析卓越的分析性能，样品仓可同时安装三个 EDS 探测器，其中两个 EDS端口分开 180°、 WDS 和共面 EDS/EBSD针对不导电样品的卓越分析性能：凭借“压差真空系统”实现低真空模式下的精确 EDS 和 EBSD 分析灵活、精确的优中心样品台，105°倾斜角度范围，可全方位观察样品 软件直观、简便易用，并配置用户向导及 Undo（撤销）功能，操作步骤更少，分析更快速全新创新选项，包括可伸缩 RGB 阴极荧光（CL）探测器、1100°C 高真空热台和 AutoScript（基于 Python 的脚本工具 API）

FE-SEM获得的图像分辨率高，信息丰富，样品处理相对简单，并且它可以观察、测量并分析样品的细微结构，因此被广泛应用于纳米技术、半导体、电子器件、生命科学、材料等领域。近年来，以Materials Integration为代表，其应用领域及用途在不断扩展，短时间内获取大量数据，减轻作业负荷成为市场的一大需求。为满足这一需求，此次特推出的SU8700作为一款面向新时代的SEM，在日立电镜贯有的高图像质量和高稳定性的基础上，增加了包括自动获取数据等高通量的功能。SU8700可配置各种分析附件，适用于从低加速观察到高束流的EBSD分析，支持陶瓷、金属等不同材料的解析。该系列产品的特点如下：1．支持自动获取数据在FE-SEM的观察和分析中，需要根据测量样品与需求调整观察条件。调整所需时间的长短取决于用户的操作熟练度，这是造成数据质量与效率差异的因素之一。此系列产品标配自动调整功能，可避免人为操作导致的差异。此外，随着仪器性能的提升，需要获取的数据种类与数量也在增加，手动获取各种大量数据会大大增加用户的作业负担。此系列产品可选配“EM Flow Creator”，用户可根据自身需求设定条件，自动获取数据，这对于未来通过获取大量数据实现数据驱动开发起到重要作用。2．增加获取信息的种类与数量通过SEM能够收集到多种信号，且此系列产品最多可以同时显示和存储6个检测器的信号。在减少图像获取次数的同时能够获取多种信息。此外，为一次性获取大量信息，单次扫描像素扩展到了40,960 x 30,720（选配），是之前型号的64倍。利用这一功能，可凭借一张数据图像有效评估多处局部的细微结构。3．增强信号检测能力SU8700的样品仓设计巧妙，可使用短工作距离进行EDS分析，通过提高EDS分析的空间分辨率，能够实现更微小部位的分析。

产品介绍：FlexSEM1000 II是日立新型落地式小型钨灯丝扫描电镜，具有体积小、操作简单、性能强、扩展功能丰富等特点。FlexSEM1000 II配备了二次电子探测器和背散射电子探测器，可以观察样品的形貌和成分；同时具有低真空功能，可以直接观察不导电样品和含水样品；配合新增的SEM-MAP光镜导航和5轴样品台可以快速、高效的完成观察任务。主要特点：1. 体积小、操作简单、性能强（4nm@20kV）、扩展功能丰富2. 拥有多个探测器（SE、BSE）3. 拥有低真空功能，不导电和含水样品直接观察4. 标配五轴样品台（三轴马达）5. 可选可变压力探测器UVD，实现高真空光信号（如CL）观察6. 可选SEM-MAP光镜导航功能7. 报告导出功能 应用领域：材料科学生命医学食品卫生半导体电子元器件汽车制造

产品介绍：Regulus8100是日立冷场发射扫描电镜的全新系列，Regulus8100保留了SU8010易维护、易操作等优点，进一步提高性能，1kV减速模式下分辨率达到了0.8nm，15kV达到0.7nm，高低电压均可满足高分辨的观察。主要特点：1. 配备加速电压减速功能，很好的低加速电压成像能力，1kV分辨率可达0.8nm2. 日立专利E×B技术，无需喷镀，可直接观测不导电样品3. 配备电子枪内置加热器，物镜光阑具有自清洁功能4. SE与BSE任意比例搭配功能样品：AlTiC基板加速电压：1kV倍率：2万倍应用领域：1、 纳米材料；2、 半导体器件；3、 高分子材料；4、 生物医学；5、 新能源。

聚焦离子束（Xe）扫描电镜 FERA 世界第yi个完全集成式Xe等离子源聚焦离子束扫描电子显微镜----FERA3，提供了超高离子束束流（zui高束流为2μA），其溅射速度比Ga离子源高50多倍。对于目前浪费时间或不可能进行的需要刻蚀的材料，FERA3型仪器是一个不错的选择。 新一代的聚焦离子束扫描电子显微镜为用户提供了zui新的技术优势，例如：改进的高性能电子设备使图像采集得速度更快，带有静态和动态图像扭曲补偿技术的超高速扫描系统，内置的编程软件等。 FERA3的设计适应各种各样的SEM应用与当今研究和产业的需求，其高分辨率、高电流和强大的软件使TESCAN FIB-SEM成为优xiu的分析工具。现代电子光路 独特的三透镜大视野观察（Wide Field Optics™ ）设计提供了许多工作与显示模式，体现了TESCAN特有可优化电子束光阑的中间镜设计 结合了完善的电子光学设计软件的实时电子束追踪（In-Flight Beam Tracing™ ），可模拟和优化电子束 全自动的电子光路设置与合轴 成像速度快 使用3维电子束技术可获取实时立体图像 三维导航高性能离子光路 高性能的等离子i-FIB设备使切片和材料的刻蚀既快又精que维修简单现在保持电镜处在优xiu的状态很简单，只需要很短的停机时间。每个细节设计得很仔细，使得仪器的效率zui大化，操作zui简化。自动操作电镜除了可以自动化设置外，还可进行聚焦、调节对比度/亮度等自动操作。除此之外，电镜还有样品台自动导航与自动分析 程序，能明显减少操作员的操作时间。通过内置脚本语言（Python）可进入软件的大多数功能，包括显微镜控制、样品台控制、图像采集、处理与分析等。通过脚本语言用户还可以自定义自动操作程序。用户界面友好的软件与软件工具 用户界面友好的操作系统基于Windows™ 平台，多用户和多语言操作界面 同时的FIB/SEM成像，易于操作 实时图像支持多窗口模式，可自定义实时图像参数 图像处理，报告生成，在线与离线图像处理 项目管理软件 内置的自动诊断（自检） TCP/IP远程控制，网络操作与远程进入/诊断 免费升级软件FERA3 GMFERA3 GM是一款由计算机完全控制的Xe等离子聚焦离子束（i-FIB）场发射扫描电子显微镜，可选配气体注入系统 (GIS)，可在高真空和低真空模式下工作，其具有突出的光学性能、清晰的数字化图像、成熟和用户界面友好的SEM/FIB/GIS操作软件等特点。基于Windows™ 平台的操作软件提供了简单的电镜操作和图像采集，可以保存标准文件格式的图片，可以对图像进行管理、处理和测量，实现了电镜的自动设置和许多其它自动操作。FERA3 XMFERA3 XM是一款由计算机全控制的Xe等离子聚焦离子束（i-FIB）场发射扫描电子显微镜，可选配气体注入系统 (GIS)，可在高真空和低真空模式下工作，其具有突出的光学性能、清晰的数字化图像、成熟和用户界面友好的SEM/FIB/GIS操作软件等特点。基于Windows™ 平台的操作软件提供了简易的电镜操作和图像采集，可以保存标准文件格式的图片，可以对图像进行管理、处理和测量，实现了电镜的自动设置和许多其它自动操作。

聚焦离子束（Xe）扫描电镜 FERA 世界第yi个完全集成式Xe等离子源聚焦离子束扫描电子显微镜----FERA3，提供了超高离子束束流（zui高束流为2μA），其溅射速度比Ga离子源高50多倍。对于目前浪费时间或不可能进行的需要刻蚀的材料，FERA3型仪器是一个不错的选择。 新一代的聚焦离子束扫描电子显微镜为用户提供了zui新的技术优势，例如：改进的高性能电子设备使图像采集得速度更快，带有静态和动态图像扭曲补偿技术的超高速扫描系统，内置的编程软件等。 FERA3的设计适应各种各样的SEM应用与当今研究和产业的需求，其高分辨率、高电流和强大的软件使TESCAN FIB-SEM成为优xiu的分析工具。现代电子光路 独特的三透镜大视野观察（Wide Field Optics™ ）设计提供了许多工作与显示模式，体现了TESCAN特有可优化电子束光阑的中间镜设计 结合了完善的电子光学设计软件的实时电子束追踪（In-Flight Beam Tracing™ ），可模拟和优化电子束 全自动的电子光路设置与合轴 成像速度快 使用3维电子束技术可获取实时立体图像 三维导航高性能离子光路 高性能的等离子i-FIB设备使切片和材料的刻蚀既快又精que维修简单现在保持电镜处在优xiu的状态很简单，只需要很短的停机时间。每个细节设计得很仔细，使得仪器的效率zui大化，操作zui简化。自动操作电镜除了可以自动化设置外，还可进行聚焦、调节对比度/亮度等自动操作。除此之外，电镜还有样品台自动导航与自动分析 程序，能明显减少操作员的操作时间。通过内置脚本语言（Python）可进入软件的大多数功能，包括显微镜控制、样品台控制、图像采集、处理与分析等。通过脚本语言用户还可以自定义自动操作程序。用户界面友好的软件与软件工具 用户界面友好的操作系统基于Windows™ 平台，多用户和多语言操作界面 同时的FIB/SEM成像，易于操作 实时图像支持多窗口模式，可自定义实时图像参数 图像处理，报告生成，在线与离线图像处理 项目管理软件 内置的自动诊断（自检） TCP/IP远程控制，网络操作与远程进入/诊断 免费升级软件FERA3 GMFERA3 GM是一款由计算机完全控制的Xe等离子聚焦离子束（i-FIB）场发射扫描电子显微镜，可选配气体注入系统 (GIS)，可在高真空和低真空模式下工作，其具有突出的光学性能、清晰的数字化图像、成熟和用户界面友好的SEM/FIB/GIS操作软件等特点。基于Windows™ 平台的操作软件提供了简单的电镜操作和图像采集，可以保存标准文件格式的图片，可以对图像进行管理、处理和测量，实现了电镜的自动设置和许多其它自动操作。FERA3 XMFERA3 XM是一款由计算机全控制的Xe等离子聚焦离子束（i-FIB）场发射扫描电子显微镜，可选配气体注入系统 (GIS)，可在高真空和低真空模式下工作，其具有突出的光学性能、清晰的数字化图像、成熟和用户界面友好的SEM/FIB/GIS操作软件等特点。基于Windows™ 平台的操作软件提供了简易的电镜操作和图像采集，可以保存标准文件格式的图片，可以对图像进行管理、处理和测量，实现了电镜的自动设置和许多其它自动操作。

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TESCAN--场发射扫描电镜 MIRA zui新一代的MIRA场发射扫描电镜给用户带来了zui新的技术优点（如改进的高性能电子设备使成像过程更快，快速扫描系统包括了动态与静态图像扭曲补偿，有内置的编程软件等），同时保持着zui高的性价比。MIRA3的设计适用于各种各样的SEM应用及当今研究和产业的需求。大电子束流下的高分辨率有利于分析应用，例如：EBSD、WDX等分析。MIRA3场发射扫描电镜可配置LM、XM或GM三种样品室。所有的MIRA样品室（LM、XM或GM）提供you xiu的5轴马达驱动全计算机化优中心样品台，完善的几何设计更适合安装能谱仪（EDS），波谱仪（WDX），电子背散射衍射（EBSD）。XM和GM样品室适用于大样品的分析。现代电子光路 高亮度肖特基电子枪可获得高分辨率/高电流/低噪音图像 独特的三透镜大视野观察（Wide Field Optics&trade ）设计提供了多种工作与显示模式 独特的中间镜的作用就如同软件“光阑转换器”，它以电磁方式有效地改变物镜光阑 结合了完善的电子光学设计软件的实时电子束追踪（In-Flight Beam Tracing&trade ），可模拟和优化电子束 可选的In-Beam探头可获得特高分辨率图像 电镜的全自动设置 成像速度快 使用3维电子束技术，实时得到立体图像，三维导航维修简单现在保持电镜处在you xiu的状态很简单，只需要很短的停机时间。每个细节设计得很仔细，使得仪器的效率zui大化，操作zui简化。自动操作设备的特点包括了自动设置和众多自动操作。除此之外，电镜还有样品台自动导航与自动分析 程序，能明显减少操作员的操作时间。通过内置脚本语言（Python）可进入软件的大多数功能，包括显微镜的控制、样品台的控制、图像采集、处理与分析。通过脚本语言用户还可以编程其自己的自动操作程序。用户界面友好的软件与软件工具 多语言操作界面 多用户界面（包括了EasySEMTM模式）不同账户的权利使常规分析过程更快 图片管理，报告生成 内置的系统检查与系统诊断 网络操作与远程进入/诊断 模块化软件体系结构 标准软件包括了测量、图像处理、对象区域，等模块 可选的软件和包括颗粒度分析标准版/专家版、3维表面重建，等模块MIRA3 GMMIRA3 GM是一款完全由计算机控制的场发射扫描电子显微镜，可在高真空和低真空模式下操作，其具有突出的光学性能，清晰的数字化图像，成熟、用户界面友好的操作软件等特点。基于Windows&trade 平台的操作软件提供了简易的电镜操作和图像采集，可以保存标准文件格式的图片，可以对图像进行管理、处理和测量，实现了电镜的自动设置和许多其它自动操作。MIRA3 XMMIRA3 XM是一款完全由计算机控制的场发射扫描电子显微镜，可在高真空和低真空模式下操作，其具有突出的光学性能，清晰的数字化图像，成熟、用户界面友好的操作软件等特点。基于Windows&trade 平台的操作软件提供了简易的电镜操作和图像采集，可以保存标准文件格式的图片，可以对图像进行管理、处理和测量，实现了电镜的自动设置和许多其它自动操作。MIRA3 LMMIRA3 LM是一款完全由计算机控制的场发射扫描电子显微镜，可在高真空和低真空模式下操作，其具有突出的光学性能，清晰的数字化图像，成熟、用户界面友好的操作软件等特点。基于Windows&trade 平台的操作软件提供了简易的电镜操作和图像采集，可以保存标准文件格式的图片，可以对图像进行管理、处理和测量，实现了电镜的自动设置和许多其它自动操作。 北京亚科电子（山东）欢迎来电咨询 ！

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场发射扫描电镜 MIRA zui新一代的MIRA场发射扫描电镜给用户带来了zui新的技术优点（如改进的高性能电子设备使成像过程更快，快速扫描系统包括了动态与静态图像扭曲补偿，有内置的编程软件等），同时保持着zui高的性价比。MIRA3的设计适用于各种各样的SEM应用及当今研究和产业的需求。大电子束流下的高分辨率有利于分析应用，例如：EBSD、WDX等分析。MIRA3场发射扫描电镜可配置LM、XM或GM三种样品室。所有的MIRA样品室（LM、XM或GM）提供优xiu的5轴马达驱动全计算机化优中心样品台，完善的几何设计更适合安装能谱仪（EDS），波谱仪（WDX），电子背散射衍射（EBSD）。XM和GM样品室适用于大样品的分析。现代电子光路 高亮度肖特基电子枪可获得高分辨率/高电流/低噪音图像 独特的三透镜大视野观察（Wide Field Optics™ ）设计提供了多种工作与显示模式 独特的中间镜的作用就如同软件“光阑转换器”，它以电磁方式有效地改变物镜光阑 结合了完善的电子光学设计软件的实时电子束追踪（In-Flight Beam Tracing™ ），可模拟和优化电子束 可选的In-Beam探头可获得特高分辨率图像 电镜的全自动设置 成像速度快 使用3维电子束技术，实时得到立体图像，三维导航维修简单现在保持电镜处在优xiu的状态很简单，只需要很短的停机时间。每个细节设计得很仔细，使得仪器的效率zui大化，操作zui简化。自动操作设备的特点包括了自动设置和众多自动操作。除此之外，电镜还有样品台自动导航与自动分析 程序，能明显减少操作员的操作时间。通过内置脚本语言（Python）可进入软件的大多数功能，包括显微镜的控制、样品台的控制、图像采集、处理与分析。通过脚本语言用户还可以编程其自己的自动操作程序。用户界面友好的软件与软件工具 多语言操作界面 多用户界面（包括了EasySEMTM模式）不同账户的权利使常规分析过程更快 图片管理，报告生成 内置的系统检查与系统诊断 网络操作与远程进入/诊断 模块化软件体系结构 标准软件包括了测量、图像处理、对象区域，等模块 可选的软件和包括颗粒度分析标准版/专家版、3维表面重建，等模块MIRA3 GMMIRA3 GM是一款完全由计算机控制的场发射扫描电子显微镜，可在高真空和低真空模式下操作，其具有突出的光学性能，清晰的数字化图像，成熟、用户界面友好的操作软件等特点。基于Windows™ 平台的操作软件提供了简易的电镜操作和图像采集，可以保存标准文件格式的图片，可以对图像进行管理、处理和测量，实现了电镜的自动设置和许多其它自动操作。MIRA3 XMMIRA3 XM是一款完全由计算机控制的场发射扫描电子显微镜，可在高真空和低真空模式下操作，其具有突出的光学性能，清晰的数字化图像，成熟、用户界面友好的操作软件等特点。基于Windows™ 平台的操作软件提供了简易的电镜操作和图像采集，可以保存标准文件格式的图片，可以对图像进行管理、处理和测量，实现了电镜的自动设置和许多其它自动操作。MIRA3 LMMIRA3 LM是一款完全由计算机控制的场发射扫描电子显微镜，可在高真空和低真空模式下操作，其具有突出的光学性能，清晰的数字化图像，成熟、用户界面友好的操作软件等特点。基于Windows™ 平台的操作软件提供了简易的电镜操作和图像采集，可以保存标准文件格式的图片，可以对图像进行管理、处理和测量，实现了电镜的自动设置和许多其它自动操作。设备咨询电话：（微信同号）；QQ：；邮箱：欢迎您的来电咨询！

产品性能：第六代 Phenom Pure 是一款使用高亮度 CeB6 灯丝的高分辨台式扫描电镜。放大倍数 175,000 倍，用于观察亚微米样品的微观结构。Pure 具有全自动操作、15 秒快速抽真空、不喷金观看绝缘体、2-3 年更换灯丝等特点，适用于传统大电镜待测样品的快速筛选，也适合于光学显微镜的分辨率无法满足需求的客户。Phenom Pure 经济型标准版产品参数电子显微镜：175,000 倍探测器：高灵敏度四分割背散射电子探测器灯丝材料：1,500 小时 CeB6 灯丝分辨率：优于 10 nm放置环境：采用专业防震设计，可摆放于普通实验室或办公室、厂房加速电压：5kV 和 10kV抽真空时间：小于 15 秒复纳科学仪器 (上海) 有限公司 (Phenom-Scientific)，负责荷兰飞纳台式扫描电镜在中国市场的推广和销售，提供专业的技术支持和测试服务，飞纳中国拥有最专业的服务团队，提供最优化的解决方案；飞纳中国提出飞纳学校 （Phenom University）的概念，为用户提供从扫描电镜基础理论到 Level 5 应用工程师的进阶培训，在上海、北京、广州设立了测试中心和售后服务中心，目前飞纳在中国已经拥有超过 1500 名用户。