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真空离子溅射仪原理

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真空离子溅射仪原理相关的耗材

  • 真空泵油喷碳仪离子溅射仪真空泵专用/0.5L
    【产品详情】PfeifferP3号油可有效改善真空泵性能,适用于离子溅射仪及喷碳仪设备所配备的真空泵,尤其是Agar所有型号的离子溅射仪及喷碳仪的真空泵。【产品参数】技术参数Pfeiffer P320℃蒸汽压/mbar6.6×10-515℃的比重0.8725℃的粘度210 cs40℃的粘度94 cs流动点-15℃闪点264℃极限压力1×10-3mbar产品详细价格及资料,请登录电镜耗材在线商城网站查看。
  • 全自动型离子溅射仪
    【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸120mm ? x 120mm H,高强度不锈钢结构(可选150mm x 165mm)样品台尺寸可放置12个标准钉形样品台,高度可在 60mm内调节溅射头低电压平面磁控管,靶材更换快速,环绕暗区护罩溅射靶材金(标配),铂,金/钯,铂/钯, 银等靶材尺寸直径57mm x 0.1mm 厚度溅射控制系统微处理器控制,远程电流/电压感应;最大电流40mA,程序化数字控制;提供真空安全联锁装置,配有过流保护;模拟计量真空 Atm - 0.001mb 电流: 0 – 50mA控制方式自动气体换气和放气功能,带有“暂停”控制的数字定时器(0-300s)机械泵2L/s工作媒介气体氩气,纯度最低99.9%工作电压220V, 50/60HZ膜厚监控仪(选配)通过6MHz石英晶体进行原位监控,显示纳米级厚度,可精确到0.1nm适用配套Zeiss, JEOL, Hitachi, FEI, Tescan, Phenom等扫描电镜 【产品详情】Agar 全自动喷金仪(离子溅射仪)为英国进口设备,操作简单,适用于扫描电镜样品制备,可喷金、铂、金/钯、铂/钯、银等。喷金仪使用小贴士:1)需要溅射喷金的样品a)第一类样品是电子束敏感的样品,主要包括生物样品,塑料样品等。SEM中的电子束具有较高能量,在与样品的相互作用过程中,它以热的形式将部分能量传递给样品。如果样品是对电子束敏感的材料,那这种相互作用会破坏部分甚至整个样品结构。这种情况下,用一种非电子束敏感材料制备的表面镀层就可以起到保护层的作用,防止此类损伤;b)另一类样品是非导电的样品,由于样品不导电,其表面带有“电子陷阱”,这种表面上的电子积累被称为“充电”。为了消除荷电效应,可在样品表面镀一层金属导电层,镀层作为一个导电通道,将充电电子从材料表面转移走,消除荷电效应。在扫描电镜成像时,溅射材料可以增加信噪比,从而获得更好的成像质量。2)溅射材料常用的溅射材料为金,导电性高。喷金仪的真空度越高,所溅射的金属颗粒越小,可以减少样品表面形貌失真的情况。当需要超高分辨率成像时,首选高真空喷金仪,同时还可以选用其他溅射材料,如:铬,铱等,溅射的晶粒更细小。此外,如果需要做EDS能谱分析的话,建议选择喷碳仪,因碳的X射线峰不会与其他元素的峰值发生冲突。产品详细价格及资料,请登录电镜耗材在线商城网站查看。
  • 小型离子溅射仪 暂无 暂无
    产品说明:该离子溅射镀膜机是对透射电镜及扫描电镜及样品进行离子刻蚀和涂复导电层的设备,主要用于对生物、有机物及金属样品溅射一层均匀而致密的金属膜供扫描电镜观察,亦可对各种样品进行离子刻蚀以及对透射电镜支持膜作亲水处理,以获得理想的实验表面。仪器操作简单方便,是配合中小型扫描电子显微镜制样必备的仪器。真空保护:20Pa配有微量充气阀调节工作真空工作室工作媒介气体:空气或氩气,配有氩气专用进气口和微量充气调节
  • 小型离子溅射仪 MSBC-12
    SBC-12 小型离子溅射仪主要用于扫描电子显微镜样品镀导电膜(金膜),仪器操作简单方便,是配合中 小型扫描电子显微镜制样必备的仪器。真空检测:皮氏计;真空保护:20Pa配有微量充气阀调节工作真 空;工作室工作媒介气体:空气或氩气,配有氩气专用进气口和微量充气调节。
  • 离子溅射仪(日产)
    离子溅射仪是对透射电镜及扫描电镜及样品进行离子刻蚀和涂复导电层的设备,主要用于对生物、有机物及金属样品溅射一层均匀而致密的金属膜供扫描电镜观察,亦可对各种样品进行离子刻蚀以及对透射电镜支持膜作亲水处理,以获得理想的实验表面。仪器操作简单方便,是配合中小型扫描电子显微镜制样必备的仪器。型号:MSP-10
  • FIB和离子溅射仪标样
    为了能更好的对FIB和离子溅射仪的 离子枪的参数进行测试,推出了FIB 和离子溅射仪标样。
  • 银靶溅射靶材Ag
    【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌银靶直径54mm x 0.2mm厚度Bal-Tec/Leica SCD005, SCD050, MED010, MED020【产品详情】离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材:银靶产品详细价格及资料,请登录电镜耗材在线商城网站查看。
  • 铬靶靶溅射靶材Cr
    【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌铬靶直径57mm x 3.2mm厚度Agar Scientific所有型号Cressington所有型号(308系列除外)【产品详情】离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材:铬靶产品详细价格及资料,请登录电镜耗材在线商城网站查看。
  • 钯靶Pd靶溅射靶材
    【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌钯靶直径57mm x 0.1mm厚度Agar Scientific所有型号Cressington所有型号(308系列除外)Polaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620【产品详情】离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材:钯靶产品详细价格及资料,请登录电镜耗材在线商城网站查看。
  • 铂靶溅射靶材Pt
    【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌铂靶直径57mm x 0.1mm厚度直径57mm x 0.2mm厚度Agar Scientific所有型号Cressington所有型号(308系列除外)Polaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620铂靶直径54mm x 0.2mm厚度Bal-Tec/Leica SCD005, SCD050, MED010, MED020【产品详情】离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材:铂靶产品详细价格及资料,请登录电镜耗材在线商城网站查看。
  • 金靶溅射靶材Au
    【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌金靶直径57mm x 0.1mm厚度直径57mm x 0.2mm厚度Agar Scientific所有型号Cressington所有型号(308系列除外), JEOL型号JFC-1200, JFC-1300, JFC-1400, JFC-1600, JFC-2300HRPolaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620金靶直径54mm x 0.1mm厚度直径54mm x 0.2mm厚度Bal-Tec/Leica SCD005, SCD050, MED010, MED020【产品详情】离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材:金靶产品详细价格及资料,请登录电镜耗材在线商城网站查看。
  • 镍靶溅射靶材Ni
    【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌镍靶直径57mm x 0.1mm厚度Agar Scientific所有型号Cressington所有型号(308系列除外)Polaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620镍靶直径54mm x 0.2mm厚度Bal-Tec/Leica SCD005, SCD050, MED010, MED020【产品详情】离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材:镍靶产品详细价格及资料,请登录电镜耗材在线商城网站查看。
  • 离子溅射标样,Si3N4膜,于1x3cm Si片上
    最精密的离子溅射标样,用于校准离子枪。提供SiO2、Si3N4、Ta2O5和NiCr-7薄膜
  • 铂钯合金靶靶溅射靶材Pt/Pd
    【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌铂钯靶直径57mm x 0.1mm厚度直径57mm x 0.2mm厚度Agar Scientific所有型号Cressington所有型号(308系列除外)Polaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620铂钯靶直径54mm x 0.2mm厚度Bal-Tec/Leica SCD005, SCD050, MED010, MED020【产品详情】离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材:铂钯靶产品详细价格及资料,请登录电镜耗材在线商城网站查看。
  • 金钯合金靶Au/Pd溅射靶材
    【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌金/钯靶直径57mm x 0.1mm厚度直径57mm x 0.2mm厚度Agar Scientific所有型号Cressington所有型号(308系列除外)Polaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620金/钯靶直径54mm x 0.2mm厚度Bal-Tec/Leica SCD005, SCD050, MED010, MED020【产品详情】离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材:金/钯靶产品详细价格及资料,请登录电镜耗材在线商城网站查看。
  • Quorum 溅射靶材-金属靶材-电镜用靶材
    Quorum 耗材,靶材,载物台等附件Quorum提供了一系列消耗品和备件。溅射靶材Quorum为我们当前的Q系列(S和ES版本)和SC7620溅射镀膜机以及以前使用Emscope,Emitech,Polaron,Bio-Rad,Fisons Instruments和Thermo VG品牌制造的型号提供金属溅射靶材。包括E7400-314A TargetGold 0.2 mm, E7400-31C Target Platinum 0.2 mm, E7400-314IR Target Iridium 0.3 mm, SC500-314A Target Gold 60 mm x 0.1 mm thick, SC500-314E Target Silver 60 mm x 0.1 mm thick, SC502-314A Target Gold 57 mm x 0.1 mm, 更多溅射靶点请咨询大连力迪流体控制技术有限公司碳耗材:碳棒和碳纤维供应品有多种尺寸和纯度可供选择,通常用于将碳蒸发到样品上,用于 X 射线微量分析或透射电子显微镜 (TEM)分析。
  • 小型离子溅射仪
    主要特点 1.快速高效的抽气,同时保证了镀膜的质量和样品无升温;2.标准的手动操作模式,电流和时间可控; 3.标准靶材可快速更换,顶部O圈密封性能优越;4.可冲入惰性气体 5.可选配M10高分辨膜厚检测仪来有效控制膜厚。
  • 铱靶
    我公司可订做多种靶材,如:金靶(Au),银靶(Ag),铂靶(Pt),镍靶(Ni)等高纯(99.99%)单质金属溅射靶材。主要适用:扫描电镜样品制备(小型离子溅射仪、镀膜机)、真空镀膜等。
  • 铱靶
    我公司可订做多种靶材,如:金靶(Au),银靶(Ag),铂靶(Pt),镍靶(Ni)等高纯(99.99%)单质金属溅射靶材。主要适用:扫描电镜样品制备(小型离子溅射仪、镀膜机)、真空镀膜等。
  • PVD高纯溅射靶材
    这些德国制造的PVD高纯溅射靶材是全球领先的超高纯度PVD镀膜材料,完全在德国生产,拥有世界一流的产品性能,非常适合PVD溅射靶材和PVD镀膜使用。PVD溅射靶材具有全球最为齐全的种类。Tribological Coatings and FilmsDescription:Targets for the components and tools in mechanical engineering and instrumentation.Example:Cr 99.95% WC 99.5%.Precision OpticsDescription:Targets for lasers, lightings and filters.Example:Ta 99.95%.Transparent Conductive Oxide (TCO) TargetsDescription:ITO, ZnO, SnO2 and ZnO: Al based targets for the photovoltaic, low E-glass and flat panel display industries.Example:ZnO 99.9% (TCO)Reflective MaterialsDescription:Reflective targets for solar applications.Example:Aluminum 6061.Thin Film Battery TargetsDescription:Lithium based targets for solid-state rechargeable batteries.Example:LiCoO2 99.9%Semiconductor TargetsDescription:High k-dielectric, Hafnium, Tantalum and Barium Titanate based targets for thin film capacitors.Example:Barium Titanate 99.9%.Storage MediaDescription:High density Ru targets for perpendicular storageCustom TargetsDescription:Compositions and shapes tailored for your needs.Materials ListingAAg99.99Al99.99 99.999AlN99.9Al2O399.99Al/Cu99.99 99.999Al/Si99.99 99.999Al/Si/Cu99.99 99.999Au99.99 99.999BBaFe12O1999.9BaF299.9BaMnO399.9(Ba,Sr)TiO399.9BaTa2O699.9BaTiO399.9BaZrO399.9Bi99.9 99.999Bi2O399.99Ba4Ti3O1299.9BN99.9CCa99CaF299.95CaTiO399.9CdTe99.995Ce99.9CeO299.9 99.99Cr99.9 99.95 99.99Cr2O399.8CrSiO299.5Co99.95CoO99.5Cu99.997Cu/Ga70/30at.%99.99CuO99.9DDyFeO399.9Dy2O399.9EEr2O399.9FFe99.95Fe2O399.9GGd2O399.9GaN99.99Ge99.999HHfO299.95I-KIn99.99 99.999In2O399.99In2O3/SnO290/10wt%99.99In/Sn99.99Ir99.8 99.9LLa99.9LaAlO399.9LiCoO299.9LiNbO399.9Li3PO499.9MMg99.98MgAl2O499.9MgB299.5MgFe2O499.9MgF299.9MgO99.95Mn99.9Mo99.9 99.95MoS299N-ONd99.9Nd2O399.9Ni99.95 99.98 99.99Ni/Cr99.95Ni/Cr/B99.95Ni/Cr/Si99.95Ni/Fe99.95Ni/V99.9Nb99.95Nb2O599.9P-QPb99.999Pb(Zr,Ti)O399.9Pd99.95Pt99.9 99.99Pr99.9Pr2O399.9RRe99.9Rh99.8Ru99.9RuO299.9SSe99.999Si99.999SiC99.5Si3N499.9SiO99.9SiO299.99Si/Cr99.99Sn99.99SrFe12O1999.9SrRuO399.9SrTiO399.9 99.99T-UTaC99.5Ti99.95 99.995TiB299.5TiC99.5TiN99.5TiO99.9TiO299.9TiSi299.5Ti/Al99.9TiW99,95 99,995VV99.7 99.9VC99.5VN99.5V2O599.9W-XW99.95WC99.5W/Ti99.95YYb2O399.9Y2O399.99ZZn99.99ZnO/Al2O3,98/2wt.%99.9 99.99 99.999ZnO99.9 99.99 99.999ZnS99.99ZnSn99.9Zn/Al99.99Zr99.2ZrB299.9ZrO2+3,8,or10mol.%Y2O399.9
  • 射频激发光离子化灯PKR106
    光离子化灯PID Lamp简介光离子化灯常用于气相色谱学(GC),痕量气体监测以及在质谱分析中对样品进行电离。PID技术使用的灯带有真空紫外(VUV)区域内的一致光子能量。当气态分子电离能低于光子发出的能量时,分子可被离子化。光离子化灯常用于测量浓度为ppm到ppb级的挥发性有机物(VOCs)和其他气体。贺利氏提供完整系列的光离子化灯,它们在强度光谱纯度和寿命上都达到最高标准。贺利氏光离子化灯包括不同填充气体和窗口材料,采用直流(DC)和射频(RF)两种激发方式。贺利氏技术团队拥有专业设计力量,通过和OEM仪器生产商合作,可以按照客户在外形和功率方面的特定要求进行设计和生产。特性填充气体:Xe,Kr,Ar窗口材质:LiF,MgF2,Al2O3驱动方式:DC直流,RF射频光离子化强度:9.6 eV,10.0 eV,10.6 eV,11.8 eV高纯度气体以保证更长寿命高纯度窗口材料以保证更佳的光谱透过率工作原理将PID灯发射的真空紫外光束射入测试腔,当被测有机挥发性气体进入测试腔时,受到紫外光的轰击而发生电离,分裂成带正负电性的两个基团。在测试腔的两边装有一对施加了适当工作电压的电极,受到电极电压的吸引,带电基团分别趋向相应电极而形成正比于VOC浓度的电流。通过测量该电流大小,确定VOC浓度。分裂的基团经过电极后重新复合离开真空腔。应用气相色谱仪(GC)质谱仪(MS)大气和土壤的监测报警器顶室测试气体泄漏监测危险区域中的人员安全RF射频激发PID灯型号用于设计制造小型化或手持式仪器灯型号PKR 106填充气体Kr光离子强度(eV)10.6工作电流(mA)80 - 150起辉时间(ms)100长度×直径(mm)53×12.7产品优势为了达到无与伦比的光强、灵敏度和寿命表现,贺利氏使用高质量的原材料并精准地控制加工工艺。吸气剂灯体内部的金属块或金属环用来吸收透过灯体玻璃进入的杂质气体。一些厂家的吸气剂仅能在灯生产时有效,而一些厂家甚至不适用吸气剂;这会导致PID灯使用过程中光谱纯度退化。虽然这不会干扰监测VOCs的VUV谱线,但是会降低VUV谱线的能量,从而导致灵敏度和寿命的降低。贺利氏专利设计的吸气剂可以在整个工作寿命中发挥作用以保证高纯度的输出光谱。光窗材质许多厂家使用天然晶体来加工光窗,但是这些天然晶体中含有一些杂质。这回导致输出光谱发出不规则反射而降低输出强度,从而减少工作寿命。贺利氏采用高纯单晶MgF2,并切割成平面以保证最大透过率。窗口封接和加工工艺贺利氏选择了最佳的窗口封接原料且在真空下严密贴合以防止外部气体进入污染光谱。灯体的封接加工工艺也非常重要,保证了不同灯内充气气压相同,从而达到高度重现性。请联系我们为您的仪器应用安排优化的定制设计!
  • 射频激发光离子化灯PXR096
    光离子化灯PID Lamp简介光离子化灯常用于气相色谱学(GC),痕量气体监测以及在质谱分析中对样品进行电离。PID技术使用的灯带有真空紫外(VUV)区域内的一致光子能量。当气态分子电离能低于光子发出的能量时,分子可被离子化。光离子化灯常用于测量浓度为ppm到ppb级的挥发性有机物(VOCs)和其他气体。贺利氏提供完整系列的光离子化灯,它们在强度光谱纯度和寿命上都达到最高标准。贺利氏光离子化灯包括不同填充气体和窗口材料,采用直流(DC)和射频(RF)两种激发方式。贺利氏技术团队拥有专业设计力量,通过和OEM仪器生产商合作,可以按照客户在外形和功率方面的特定要求进行设计和生产。特性填充气体:Xe,Kr,Ar窗口材质:LiF,MgF2,Al2O3驱动方式:DC直流,RF射频光离子化强度:9.6 eV,10.0 eV,10.6 eV,11.8 eV高纯度气体以保证更长寿命高纯度窗口材料以保证更佳的光谱透过率工作原理将PID灯发射的真空紫外光束射入测试腔,当被测有机挥发性气体进入测试腔时,受到紫外光的轰击而发生电离,分裂成带正负电性的两个基团。在测试腔的两边装有一对施加了适当工作电压的电极,受到电极电压的吸引,带电基团分别趋向相应电极而形成正比于VOC浓度的电流。通过测量该电流大小,确定VOC浓度。分裂的基团经过电极后重新复合离开真空腔。应用气相色谱仪(GC)质谱仪(MS)大气和土壤的监测报警器顶室测试气体泄漏监测危险区域中的人员安全RF射频激发PID灯型号用于设计制造小型化或手持式仪器灯型号PXR 096填充气体Xe光离子强度(eV)9.6工作电流(mA)80 - 150起辉时间(ms)100长度×直径(mm)53×12.7产品优势为了达到无与伦比的光强、灵敏度和寿命表现,贺利氏使用高质量的原材料并精准地控制加工工艺。吸气剂灯体内部的金属块或金属环用来吸收透过灯体玻璃进入的杂质气体。一些厂家的吸气剂仅能在灯生产时有效,而一些厂家甚至不适用吸气剂;这会导致PID灯使用过程中光谱纯度退化。虽然这不会干扰监测VOCs的VUV谱线,但是会降低VUV谱线的能量,从而导致灵敏度和寿命的降低。贺利氏专利设计的吸气剂可以在整个工作寿命中发挥作用以保证高纯度的输出光谱。光窗材质许多厂家使用天然晶体来加工光窗,但是这些天然晶体中含有一些杂质。这回导致输出光谱发出不规则反射而降低输出强度,从而减少工作寿命。贺利氏采用高纯单晶MgF2,并切割成平面以保证最大透过率。窗口封接和加工工艺贺利氏选择了最佳的窗口封接原料且在真空下严密贴合以防止外部气体进入污染光谱。灯体的封接加工工艺也非常重要,保证了不同灯内充气气压相同,从而达到高度重现性。请联系我们为您的仪器应用安排优化的定制设计!
  • 射频激发光离子化灯PAR118
    光离子化灯PID Lamp简介光离子化灯常用于气相色谱学(GC),痕量气体监测以及在质谱分析中对样品进行电离。PID技术使用的灯带有真空紫外(VUV)区域内的一致光子能量。当气态分子电离能低于光子发出的能量时,分子可被离子化。光离子化灯常用于测量浓度为ppm到ppb级的挥发性有机物(VOCs)和其他气体。贺利氏提供完整系列的光离子化灯,它们在强度光谱纯度和寿命上都达到最高标准。贺利氏光离子化灯包括不同填充气体和窗口材料,采用直流(DC)和射频(RF)两种激发方式。贺利氏技术团队拥有专业设计力量,通过和OEM仪器生产商合作,可以按照客户在外形和功率方面的特定要求进行设计和生产。特性填充气体:Xe,Kr,Ar窗口材质:LiF,MgF2,Al2O3驱动方式:DC直流,RF射频光离子化强度:9.6 eV,10.0 eV,10.6 eV,11.8 eV高纯度气体以保证更长寿命高纯度窗口材料以保证更佳的光谱透过率工作原理将PID灯发射的真空紫外光束射入测试腔,当被测有机挥发性气体进入测试腔时,受到紫外光的轰击而发生电离,分裂成带正负电性的两个基团。在测试腔的两边装有一对施加了适当工作电压的电极,受到电极电压的吸引,带电基团分别趋向相应电极而形成正比于VOC浓度的电流。通过测量该电流大小,确定VOC浓度。分裂的基团经过电极后重新复合离开真空腔。应用气相色谱仪(GC)质谱仪(MS)大气和土壤的监测报警器顶室测试气体泄漏监测危险区域中的人员安全RF射频激发PID灯型号用于设计制造小型化或手持式仪器灯型号PAR 118填充气体Ar光离子强度(eV)11.8工作电流(mA)80 - 150起辉时间(ms)100长度×直径(mm)53×12.7产品优势为了达到无与伦比的光强、灵敏度和寿命表现,贺利氏使用高质量的原材料并精准地控制加工工艺。吸气剂灯体内部的金属块或金属环用来吸收透过灯体玻璃进入的杂质气体。一些厂家的吸气剂仅能在灯生产时有效,而一些厂家甚至不适用吸气剂;这会导致PID灯使用过程中光谱纯度退化。虽然这不会干扰监测VOCs的VUV谱线,但是会降低VUV谱线的能量,从而导致灵敏度和寿命的降低。贺利氏专利设计的吸气剂可以在整个工作寿命中发挥作用以保证高纯度的输出光谱。光窗材质许多厂家使用天然晶体来加工光窗,但是这些天然晶体中含有一些杂质。这回导致输出光谱发出不规则反射而降低输出强度,从而减少工作寿命。贺利氏采用高纯单晶MgF2,并切割成平面以保证最大透过率。窗口封接和加工工艺贺利氏选择了最佳的窗口封接原料且在真空下严密贴合以防止外部气体进入污染光谱。灯体的封接加工工艺也非常重要,保证了不同灯内充气气压相同,从而达到高度重现性。请联系我们为您的仪器应用安排优化的定制设计!
  • 射频激发光离子化灯PKR100
    光离子化灯PID Lamp简介光离子化灯常用于气相色谱学(GC),痕量气体监测以及在质谱分析中对样品进行电离。PID技术使用的灯带有真空紫外(VUV)区域内的一致光子能量。当气态分子电离能低于光子发出的能量时,分子可被离子化。光离子化灯常用于测量浓度为ppm到ppb级的挥发性有机物(VOCs)和其他气体。贺利氏提供完整系列的光离子化灯,它们在强度光谱纯度和寿命上都达到最高标准。贺利氏光离子化灯包括不同填充气体和窗口材料,采用直流(DC)和射频(RF)两种激发方式。贺利氏技术团队拥有专业设计力量,通过和OEM仪器生产商合作,可以按照客户在外形和功率方面的特定要求进行设计和生产。特性填充气体:Xe,Kr,Ar窗口材质:LiF,MgF2,Al2O3驱动方式:DC直流,RF射频光离子化强度:9.6 eV,10.0 eV,10.6 eV,11.8 eV高纯度气体以保证更长寿命高纯度窗口材料以保证更佳的光谱透过率工作原理将PID灯发射的真空紫外光束射入测试腔,当被测有机挥发性气体进入测试腔时,受到紫外光的轰击而发生电离,分裂成带正负电性的两个基团。在测试腔的两边装有一对施加了适当工作电压的电极,受到电极电压的吸引,带电基团分别趋向相应电极而形成正比于VOC浓度的电流。通过测量该电流大小,确定VOC浓度。分裂的基团经过电极后重新复合离开真空腔。应用气相色谱仪(GC)质谱仪(MS)大气和土壤的监测报警器顶室测试气体泄漏监测危险区域中的人员安全RF射频激发PID灯型号用于设计制造小型化或手持式仪器灯型号PKR 100填充气体Kr光离子强度(eV)10工作电流(mA)80 - 150起辉时间(ms)100长度×直径(mm)53×12.7产品优势为了达到无与伦比的光强、灵敏度和寿命表现,贺利氏使用高质量的原材料并精准地控制加工工艺。吸气剂灯体内部的金属块或金属环用来吸收透过灯体玻璃进入的杂质气体。一些厂家的吸气剂仅能在灯生产时有效,而一些厂家甚至不适用吸气剂;这会导致PID灯使用过程中光谱纯度退化。虽然这不会干扰监测VOCs的VUV谱线,但是会降低VUV谱线的能量,从而导致灵敏度和寿命的降低。贺利氏专利设计的吸气剂可以在整个工作寿命中发挥作用以保证高纯度的输出光谱。光窗材质许多厂家使用天然晶体来加工光窗,但是这些天然晶体中含有一些杂质。这回导致输出光谱发出不规则反射而降低输出强度,从而减少工作寿命。贺利氏采用高纯单晶MgF2,并切割成平面以保证最大透过率。窗口封接和加工工艺贺利氏选择了最佳的窗口封接原料且在真空下严密贴合以防止外部气体进入污染光谱。灯体的封接加工工艺也非常重要,保证了不同灯内充气气压相同,从而达到高度重现性。请联系我们为您的仪器应用安排优化的定制设计!
  • 射频激发光离子化灯PKR106-6-14
    光离子化灯PID Lamp简介光离子化灯常用于气相色谱学(GC),痕量气体监测以及在质谱分析中对样品进行电离。PID技术使用的灯带有真空紫外(VUV)区域内的一致光子能量。当气态分子电离能低于光子发出的能量时,分子可被离子化。光离子化灯常用于测量浓度为ppm到ppb级的挥发性有机物(VOCs)和其他气体。贺利氏提供完整系列的光离子化灯,它们在强度光谱纯度和寿命上都达到最高标准。贺利氏光离子化灯包括不同填充气体和窗口材料,采用直流(DC)和射频(RF)两种激发方式。贺利氏技术团队拥有专业设计力量,通过和OEM仪器生产商合作,可以按照客户在外形和功率方面的特定要求进行设计和生产。特性填充气体:Xe,Kr,Ar窗口材质:LiF,MgF2,Al2O3驱动方式:DC直流,RF射频光离子化强度:9.6 eV,10.0 eV,10.6 eV,11.8 eV高纯度气体以保证更长寿命高纯度窗口材料以保证更佳的光谱透过率工作原理将PID灯发射的真空紫外光束射入测试腔,当被测有机挥发性气体进入测试腔时,受到紫外光的轰击而发生电离,分裂成带正负电性的两个基团。在测试腔的两边装有一对施加了适当工作电压的电极,受到电极电压的吸引,带电基团分别趋向相应电极而形成正比于VOC浓度的电流。通过测量该电流大小,确定VOC浓度。分裂的基团经过电极后重新复合离开真空腔。应用气相色谱仪(GC)质谱仪(MS)大气和土壤的监测报警器顶室测试气体泄漏监测危险区域中的人员安全RF射频激发PID灯型号用于设计制造小型化或手持式仪器灯型号PKR106-6-14填充气体Kr光离子强度(eV)10.6工作电流(mA)n/a起辉时间(ms)n/a长度×直径(mm)14×6产品优势为了达到无与伦比的光强、灵敏度和寿命表现,贺利氏使用高质量的原材料并精准地控制加工工艺。吸气剂灯体内部的金属块或金属环用来吸收透过灯体玻璃进入的杂质气体。一些厂家的吸气剂仅能在灯生产时有效,而一些厂家甚至不适用吸气剂;这会导致PID灯使用过程中光谱纯度退化。虽然这不会干扰监测VOCs的VUV谱线,但是会降低VUV谱线的能量,从而导致灵敏度和寿命的降低。贺利氏专利设计的吸气剂可以在整个工作寿命中发挥作用以保证高纯度的输出光谱。光窗材质许多厂家使用天然晶体来加工光窗,但是这些天然晶体中含有一些杂质。这回导致输出光谱发出不规则反射而降低输出强度,从而减少工作寿命。贺利氏采用高纯单晶MgF2,并切割成平面以保证最大透过率。窗口封接和加工工艺贺利氏选择了最佳的窗口封接原料且在真空下严密贴合以防止外部气体进入污染光谱。灯体的封接加工工艺也非常重要,保证了不同灯内充气气压相同,从而达到高度重现性。请联系我们为您的仪器应用安排优化的定制设计!
  • 射频激发光离子化灯PKR106-6
    光离子化灯PID Lamp简介光离子化灯常用于气相色谱学(GC),痕量气体监测以及在质谱分析中对样品进行电离。PID技术使用的灯带有真空紫外(VUV)区域内的一致光子能量。当气态分子电离能低于光子发出的能量时,分子可被离子化。光离子化灯常用于测量浓度为ppm到ppb级的挥发性有机物(VOCs)和其他气体。贺利氏提供完整系列的光离子化灯,它们在强度光谱纯度和寿命上都达到最高标准。贺利氏光离子化灯包括不同填充气体和窗口材料,采用直流(DC)和射频(RF)两种激发方式。贺利氏技术团队拥有专业设计力量,通过和OEM仪器生产商合作,可以按照客户在外形和功率方面的特定要求进行设计和生产。特性填充气体:Xe,Kr,Ar窗口材质:LiF,MgF2,Al2O3驱动方式:DC直流,RF射频光离子化强度:9.6 eV,10.0 eV,10.6 eV,11.8 eV高纯度气体以保证更长寿命高纯度窗口材料以保证更佳的光谱透过率工作原理将PID灯发射的真空紫外光束射入测试腔,当被测有机挥发性气体进入测试腔时,受到紫外光的轰击而发生电离,分裂成带正负电性的两个基团。在测试腔的两边装有一对施加了适当工作电压的电极,受到电极电压的吸引,带电基团分别趋向相应电极而形成正比于VOC浓度的电流。通过测量该电流大小,确定VOC浓度。分裂的基团经过电极后重新复合离开真空腔。应用气相色谱仪(GC)质谱仪(MS)大气和土壤的监测报警器顶室测试气体泄漏监测危险区域中的人员安全RF射频激发PID灯型号用于设计制造小型化或手持式仪器灯型号PKR106-6填充气体Kr光离子强度(eV)10.6工作电流(mA)n/a起辉时间(ms)n/a长度×直径(mm)30×6产品优势为了达到无与伦比的光强、灵敏度和寿命表现,贺利氏使用高质量的原材料并精准地控制加工工艺。吸气剂灯体内部的金属块或金属环用来吸收透过灯体玻璃进入的杂质气体。一些厂家的吸气剂仅能在灯生产时有效,而一些厂家甚至不适用吸气剂;这会导致PID灯使用过程中光谱纯度退化。虽然这不会干扰监测VOCs的VUV谱线,但是会降低VUV谱线的能量,从而导致灵敏度和寿命的降低。贺利氏专利设计的吸气剂可以在整个工作寿命中发挥作用以保证高纯度的输出光谱。光窗材质许多厂家使用天然晶体来加工光窗,但是这些天然晶体中含有一些杂质。这回导致输出光谱发出不规则反射而降低输出强度,从而减少工作寿命。贺利氏采用高纯单晶MgF2,并切割成平面以保证最大透过率。窗口封接和加工工艺贺利氏选择了最佳的窗口封接原料且在真空下严密贴合以防止外部气体进入污染光谱。灯体的封接加工工艺也非常重要,保证了不同灯内充气气压相同,从而达到高度重现性。请联系我们为您的仪器应用安排优化的定制设计!
  • 空气喷射筛原理 汇美科HMK-200
    空气喷射筛原理简介HMK-200气流筛分仪(空气喷射筛)是一款用来测量粉体粒度分布的实验室用气流筛分仪器,由操作面板、筛盘、标准筛、喷嘴、电机及吸尘器组成。通过7寸液晶显示屏进行控制,实时显示仪器的工作状态。本仪器可以通过RS-232接口与电子称相连。内置微处理器可以对结果进行自动计算。仪器生产厂家与供应商为丹东汇美科仪器有限公司。型号为HMK-200的空气喷射筛分法气流筛分析仪采用国际先进筛分技术设计制造,仪器的主要参数性能与外国进口设备保持一致,而且该仪器价格合理,配套服务完善。汇美科已经成为世界实验室粒度气流筛分析及采购好品牌。工作原理具有专利技术的喷嘴将吸尘器产生的负压转化成动能,驱动粉体上升并与筛盖相碰撞,去除聚合颗粒的粉体继而被负压吸向标准筛。较大颗粒被留在筛网上面,较小颗粒被吸入吸尘器,从而实现对粉体的理想筛分。技术参数测量范围:5-5,000 um筛分量:0.1-2,000 g标准筛直径:200 mm/75 mm喷嘴旋转速度:低、中、高或者0-35 rpm无级变速可调计时范围:固定模式2-10 min任选或者持续模式切换气压范围:0-10 Kpa喷嘴间隙:2 mm仪器尺寸:58x35x35 cm电压:220 V/50 Hz/25 W重量:14.8 Kgs产品特点7寸大屏,液晶显示,触屏点击精确控制筛分操作。负气压筛前标定,筛中实时监测,并可实时调节,保证筛分精度。喷嘴转速在合理区间内可任意设定,并可选中低高速,提高效率。筛分时间在常规时间内任选,并可设定循环筛分模式,方便操作。世界先进开筛(Open Mesh)功能,有效防止近筛颗粒堵塞筛网。筛分结束后自动计算出筛下物料百分比。国际先进的样品收集装置,使筛下颗粒收集率可达99.99%应用领域常规筛析无法分析的干粉体:粉体质量轻粉体易静电颗粒易团聚被广泛应用于筛分以下粉末:医药、面粉、调味料化学物质粉末水泥、石墨、煤灰、涂料、陶土粉树脂、橡胶、塑料等
  • 贵金属溅射靶材(金靶铂金靶)
    金靶、铂靶、钯靶、银靶EMS公司提供多种贵金属溅射靶材,有金靶、铂靶(白金)、钯靶、金钯合金靶60:40、铂钯合金靶80:20,纯度在99.99%以上。EMS公司靶材适合多个厂家的镀膜仪器,Emitech, Emscope, Bio-Rad, Polaron, Edwards, Balzers, Plasma Sciences, Technics Hummers, Denton, Cressington等等。提供的所有靶材均是标准厚度0.1mm,厚度在0.05-6mm之间的厚度靶材,需要特别问询。可以根据你的需求定制合适直径的靶材(4-304.8mm之间)。 1.金靶和铂金靶Gold (Au) and Platinum (Pt) 货号 (Au) 直径 mm货号 (Pt)直径 mm91006-Au20.091006-Pt20.091007-Au20.491007-Pt20.491008-Au32.091008-Pt32.091009-Au39.091009-Pt39.091013-Au42.091013-Pt42.091014-Au50.091014-Pt50.091015-Au50.891015-Pt50.891016-Au54.091016-Pt54.091017-Au57.091017-Pt57.09101060.09101260.091018-Au63.591018-Pt63.591019-Au75.091019-Pt75.091020-Au76.091020-Pt76.02.钯靶和金钯靶Palladium (Pd) and Gold Palladium 60/40(AP)货号 (Pd)直径 mm货号( AP60/40)直径 mm91006-Pd20.091006-AP20.091007-Pd20.491007-AP20.491008-Pd32.091008-AP32.091009-Pd39.091009-AP39.091013-Pd42.091013-AP42.091014-Pd50.091014-AP50.091015-Pd50.891015-AP50.891016-Pd54.091016-AP54.091017-Pd57.091017-AP57.091010-Pd60.09101160.091018-Pd63.591018-AP63.591019-Pd75.091019-AP75.091020-Pd76.091020-AP76.0
  • 高真空镀膜台
    MDM220型该镀膜台主要用于电镜的试样蒸镀金属膜及碳膜,亦可用于光栏清洗。特点:容积大,真空度高,功能全——可作蒸发镀膜和溅射。镀膜均匀规格:主机外形尺寸(不含钟罩):长735宽360高880mm
  • 粒度分析仪原理 汇美科HMK-200
    粒度分析仪原理简介HMK-200气流筛分仪(空气喷射筛)是一款用来测量粉体粒度分布的实验室用气流筛分仪器,由操作面板、筛盘、标准筛、喷嘴、电机及吸尘器组成。通过7寸液晶显示屏进行控制,实时显示仪器的工作状态。本仪器可以通过RS-232接口与电子称相连。内置微处理器可以对结果进行自动计算。仪器生产厂家与供应商为丹东汇美科仪器有限公司。型号为HMK-200的空气喷射筛分法气流筛分析仪采用国际先进筛分技术设计制造,仪器的主要参数性能与外国进口设备保持一致,而且该仪器价格合理,配套服务完善。汇美科已经成为世界实验室粒度气流筛分析及采购好品牌。工作原理具有专利技术的喷嘴将吸尘器产生的负压转化成动能,驱动粉体上升并与筛盖相碰撞,去除聚合颗粒的粉a体继而被负压吸向标准筛。较大颗粒被留在筛网上面,较小颗粒被吸入吸尘器,从而实现对粉体的理想筛分。技术参数测量范围:5-5,000 um筛分量:0.1-2,000 g标准筛直径:200 mm/75 mm喷嘴旋转速度:低、中、高或者0-35 rpm无级变速可调计时范围:固定模式2-10 min任选或者持续模式切换气压范围:0-10 Kpa喷嘴间隙:2 mm仪器尺寸:58x35x35 cm电压:220 V/50 Hz/25 W重量:14.8 Kgs产品特点7寸大屏,液晶显示,触屏点击精确控制筛分操作。负气压筛前标定,筛中实时监测,并可实时调节,保证筛分精度。喷嘴转速在合理区间内可任意设定,并可选中低高速,提高效率。筛分时间在常规时间内任选,并可设定循环筛分模式,方便操作。世界先进开筛(Open Mesh)功能,有效防止近筛颗粒堵塞筛网。筛分结束后自动计算出筛下物料百分比。国际先进的样品收集装置,使筛下颗粒收集率可达99.99%应用领域常规筛析无法分析的干粉体:粉体质量轻粉体易静电颗粒易团聚被广泛应用于筛分以下粉末:医药、面粉、调味料化学物质粉末水泥、石墨、煤灰、涂料、陶土粉树脂、橡胶、塑料等
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