离子溅射仪的原理

【产品详情】 Pfeiffer P3号油可有效改善真空泵性能，适用于离子溅射仪及喷碳仪设备所配备的真空泵，尤其是Agar所有型号的离子溅射仪及喷碳仪的真空泵。 【产品参数】技术参数Pfeiffer P320℃蒸汽压/mbar6.6×10-515℃的比重0.8725℃的粘度210 cs40℃的粘度94 cs流动点-15℃闪点264℃极限压力1×10-3 mbar产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

【技术参数】 产品名称规格适用离子溅射仪品牌铬靶直径57mm x 3.2mm 厚度 Agar Scientific所有型号Cressington 所有型号(308系列除外) 【产品详情】 离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材：铬靶 产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌钯靶直径57mm x 0.1mm 厚度 Agar Scientific所有型号Cressington 所有型号(308系列除外)Polaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620 【产品详情】 离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材：钯靶 产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

最精密的离子溅射标样，用于校准离子枪。提供SiO2、Si3N4、Ta2O5和NiCr-7薄膜

纯英国进口溅射镀膜仪专用靶材产地：英国品牌：Cressington类型：Au, Pt, Au/Pd, Pt/Pd, Cr, Ir, W, Ti, Ag, 高纯碳棒等现阶段由于国内用户辨别能力不足导致市场上非常多的厂家用国产靶材冒充进口靶材现象，而国产靶材由于杂质多（虽然宣称纯度优于4个9），质量次会导致镀膜效果不均匀，污染溅射头等问题，主要区别：1. 国产靶材包装为简单的塑料密封包装，而进口靶材为特制硬纸板保护加真空包装；2. 国产靶材没有产地信息或简单贴牌，而进口靶材有明显的产品信息和编号；

高纯度的金属溅射靶材适用于多种品牌的离子溅射仪： 包括PELCO® , Cressington, Agar, Bal-Tec, Bio-Rad, Denton, Edwards, Emitech, Emscope, Gatan, ISI, JEOL, LEICA, Polaron, Quorum, and SPI.这些磁控溅射靶材的直径分为60,57,54,50和19mm。1、高纯60mm金属靶材：适用于Denton DESK II / DESK III / DESK IV/ DESK V, Edwards 150 B / SCANCOAT, Emitech K500/K550/K650和Emscope SC500离子溅射仪。货号产品描述单位91217铜靶, 99.99% Cu (?60mm x 0.076mm)块91210金靶, 99.99% Au (?60mm x 0.1mm)块91212金钯合金靶, 99.99% Au:Pd 60/40 (?60mm x 0.1mm)块91216镍靶, 99.98% Ni (?60mm x 0.1mm)块91214铂靶, 99.95% Pt (?60mm x 0.1mm)块91219钯靶, 99.95% Pd (?60mm x 0.1mm)块91229银靶, 99.99% Ag (?60mm x 0.1mm)块2、高纯57mm金属靶材：适合于 Agar, Cressington 108/208, Emitech SC7620/SC7610/K575X/K575XD, ISI 5400, JEOL JFC 1200/1300/1400/1600/2300HR, PELCO® Model 3, SC4/SC5/SC6/SC7, Polaron 5000/5400/SC7610/SC7620, Quorum Q150, 和 SPI Module/Super离子溅射仪货号产品描述单位8074铬靶, 99.95% Cr (?57mm x 3.2mm) (208HR only)块91117铜靶, 99.99% Cu (?57mm x 0.1mm) 块8077铜靶, 99.99% Cu (?57mm x 0.3mm)块91110金靶, 99.99% Au (?57mm x 0.1mm)块8071金靶, 99.99% Au (?57mm x 0.2mm)块91112金钯合金靶, 99.99% Au:Pd 60/40 (?57mm x 0.1mm)块91111金钯合金靶, 99.99% Au:Pd 60/40 (?57mm x 0.2mm)块91132-B铟锡氧化物靶 , 99.99% ITO, In2O3/SnO2 90/10 wt % 背面有1mm 铜片, (?57mm x 3mm 总厚)(208HR only)块91120铱靶, 99.95% Ir (?57mm x 0.3mm) (208HR only)块91124铁靶, 99.5% Fe (?57mm x 0.12mm) (208HR only)块8073钼靶, 99.95% Mo (?57mm x 0.25mm) (208HR only)块91116镍靶, 99.98% Ni (?57mm x 0.1mm) (208HR only)块8079铌靶, 99.95% Nb (?57mm x 0.25mm) (208HR only)块91119钯靶, 99.95% Pd (?57mm x 0.1mm)块91114铂靶, 99.95% Pt (?57mm x 0.1mm)块8076铂钯合金靶, 99.99% Pt:Pd 80/20 (?57mm x 0.1mm)块91115铂钯合金靶, 99.99% Pt:Pd 80/20 (?57mm x 0.2mm)块91118银靶, 99.99% Ag (?57mm x 0.1mm)块91129银靶, 99.99% Ag (?57mm x 0.3mm)块8075钽靶, 99.95% Ta (?57mm x 0.3mm) (208HR only)块91123钛靶, 99.6% Ti (?57mm x 0.2mm) (208HR only)块8078钨靶, 99.95% W (?57mm x 0.25mm) (208HR only)块3、高纯54mm金属靶材，适合于Bal-Tec SCD005/040/050/500, MED10/20 和LEICA EM SCD 005/050/500, MED 020 离子溅射仪。4、高纯50mm金属靶材，适合于Anatech/Technics Hummer I, II, III, Fullam EffaCoater 和 Fullam EMS-76离子溅射仪。 5、高纯38mm金属靶材，适合于Cressington 308HR离子溅射仪。6、高纯19mm金属靶材，适合于Gatan Model 681 and 682 PECS 离子束溅射仪镀非导电SEM样品时，如何选择相应靶材：Gold黄金优良的靶材，广泛应用于标准SEM镀膜。对于冷镀膜离子溅射仪(如Cressington 108auto)，对于热敏性样品几乎不会产生任何热量. 在高倍SEM下可看到颗粒尺寸. Gold/Palladium金钯合金溅射率低于纯黄金. 与Au相比，Au/Pd 的颗粒更小,但由于其有两个峰，所以不是很适合EDS分析，也不是很适合热敏性物质镀膜。Palladium钯成本低，可用于中低放大倍数场合，具有更低的SE信号Platinum铂金具有比Au 或 Au/Pd更小的溅射颗粒。但溅射率更低。如果有氧气，则应力开裂的敏感性。有更高的SE产出。Platinum/Palladium铂钯合金颗粒大小与Pt差不多，但应力开立的敏感性较小。非常适合FESEM，但更适合高分辨率镀膜仪208HR.Silver银成本低，可用于中低放大倍数场合，颗粒比Au大. 适合于小型SEMs。与Au或Pt相比，SE产出更低。. 如果样品没有放在真空环境下，则镀膜表面易氧化. 可用于特殊的EDS工作.Chromium铬非常细的溅射颗粒，适合于 FESEM. 为避免氧化，需用于208HR一样的高真空镀膜仪。镀膜后的样品只能存放在高真空环境中. 溅射离子直线下落。适合生物样品的BE成像，溅射产率低。Iridium铱非常细的溅射颗粒，适合于 FESEM，需用于208HR一样的高真空镀膜仪，溅射产率低。Tungsten钨可替代Cr.颗粒非常细，但氧化非常快，溅射产率低。 Nickel镍可作为特殊的EDS应用, 不适合SE成像.适合BE成像，溅射产率低，镀膜易氧化。Copper铜适用于EDS. 适合中/低放大倍数场合，BE成像.Note 1:铝的溅射产率非常低，对于SEM离子溅射不适用，且氧化非常快。Note 2:碳最适合于EDS应用，但很难溅射。碳的蒸发产率非常好。 金靶种类选择厂家型号60mm57mm54mm50mm38mm19mmAGAR手动型离子溅射仪XAGAR自动型离子溅射仪XAnatech/TechnicsHummer IXAnatech/TechnicsHummer IIXAnatech/TechnicsHummer IIIXAnatech/TechnicsHummer Jr.XBal-TecSCD 005XBal-TecSCD 040XBal-TecSCD 050XBal-TecSCD 500XBal-TecMED 10XBal-TecMED 20XBio-RadSC 5200XBio-RadSC 502XCressington108 manualXCressington108 autoXCressington108/auto/SEXCressington208HRXCressington308HRXDentonDESK IIXDentonDESK IIIXDentonDESK IVXDentonDESK VXEdwards150 BXEdwardsScancoatXEmitechSC7620/SC7610XEmitechK500X/K550X/K650X XEmitechK575/K575XD/Q150 XEmscope/PolaronSC 502XFullamEMS-76XGatanISI 5400XJEOLJFC-1200XJEOLJFC-1300PELCO® SC6X

高纯度的金属溅射靶材适用于多种品牌的离子溅射仪： 包括PELCO® , Cressington, Agar, Bal-Tec, Bio-Rad, Denton, Edwards, Emitech, Emscope, Gatan, ISI, JEOL, LEICA, Polaron, Quorum, and SPI.这些磁控溅射靶材的直径分为60,57,54,50和19mm。1、高纯60mm金属靶材：适用于Denton DESK II / DESK III / DESK IV/ DESK V, Edwards 150 B / SCANCOAT, Emitech K500/K550/K650和Emscope SC500离子溅射仪。货号产品描述单位91217铜靶, 99.99% Cu (?60mm x 0.076mm)块91210金靶, 99.99% Au (?60mm x 0.1mm)块91212金钯合金靶, 99.99% Au:Pd 60/40 (?60mm x 0.1mm)块91216镍靶, 99.98% Ni (?60mm x 0.1mm)块91214铂靶, 99.95% Pt (?60mm x 0.1mm)块91219钯靶, 99.95% Pd (?60mm x 0.1mm)块91229银靶, 99.99% Ag (?60mm x 0.1mm)块2、高纯57mm金属靶材：适合于 Agar, Cressington 108/208, Emitech SC7620/SC7610/K575X/K575XD, ISI 5400, JEOL JFC 1200/1300/1400/1600/2300HR, PELCO® Model 3, SC4/SC5/SC6/SC7, Polaron 5000/5400/SC7610/SC7620, Quorum Q150, 和 SPI Module/Super离子溅射仪货号产品描述单位8074铬靶, 99.95% Cr (?57mm x 3.2mm) (208HR only)块91117铜靶, 99.99% Cu (?57mm x 0.1mm) 块8077铜靶, 99.99% Cu (?57mm x 0.3mm)块91110金靶, 99.99% Au (?57mm x 0.1mm)块8071金靶, 99.99% Au (?57mm x 0.2mm)块91112金钯合金靶, 99.99% Au:Pd 60/40 (?57mm x 0.1mm)块91111金钯合金靶, 99.99% Au:Pd 60/40 (?57mm x 0.2mm)块91132-B铟锡氧化物靶 , 99.99% ITO, In2O3/SnO2 90/10 wt % 背面有1mm 铜片, (?57mm x 3mm 总厚)(208HR only)块91120铱靶, 99.95% Ir (?57mm x 0.3mm) (208HR only)块91124铁靶, 99.5% Fe (?57mm x 0.12mm) (208HR only)块8073钼靶, 99.95% Mo (?57mm x 0.25mm) (208HR only)块91116镍靶, 99.98% Ni (?57mm x 0.1mm) (208HR only)块8079铌靶, 99.95% Nb (?57mm x 0.25mm) (208HR only)块91119钯靶, 99.95% Pd (?57mm x 0.1mm)块91114铂靶, 99.95% Pt (?57mm x 0.1mm)块8076铂钯合金靶, 99.99% Pt:Pd 80/20 (?57mm x 0.1mm)块91115铂钯合金靶, 99.99% Pt:Pd 80/20 (?57mm x 0.2mm)块91118银靶, 99.99% Ag (?57mm x 0.1mm)块91129银靶, 99.99% Ag (?57mm x 0.3mm)块8075钽靶, 99.95% Ta (?57mm x 0.3mm) (208HR only)块91123钛靶, 99.6% Ti (?57mm x 0.2mm) (208HR only)块8078钨靶, 99.95% W (?57mm x 0.25mm) (208HR only)块3、高纯54mm金属靶材，适合于Bal-Tec SCD005/040/050/500, MED10/20 和LEICA EM SCD 005/050/500, MED 020 离子溅射仪。4、高纯50mm金属靶材，适合于Anatech/Technics Hummer I, II, III, Fullam EffaCoater 和 Fullam EMS-76离子溅射仪。 5、高纯38mm金属靶材，适合于Cressington 308HR离子溅射仪。6、高纯19mm金属靶材，适合于Gatan Model 681 and 682 PECS 离子束溅射仪镀非导电SEM样品时，如何选择相应靶材：Gold黄金优良的靶材，广泛应用于标准SEM镀膜。对于冷镀膜离子溅射仪(如Cressington 108auto)，对于热敏性样品几乎不会产生任何热量. 在高倍SEM下可看到颗粒尺寸. Gold/Palladium金钯合金溅射率低于纯黄金. 与Au相比，Au/Pd 的颗粒更小,但由于其有两个峰，所以不是很适合EDS分析，也不是很适合热敏性物质镀膜。Palladium钯成本低，可用于中低放大倍数场合，具有更低的SE信号Platinum铂金具有比Au 或 Au/Pd更小的溅射颗粒。但溅射率更低。如果有氧气，则应力开裂的敏感性。有更高的SE产出。Platinum/Palladium铂钯合金颗粒大小与Pt差不多，但应力开立的敏感性较小。非常适合FESEM，但更适合高分辨率镀膜仪208HR.Silver银成本低，可用于中低放大倍数场合，颗粒比Au大. 适合于小型SEMs。与Au或Pt相比，SE产出更低。. 如果样品没有放在真空环境下，则镀膜表面易氧化. 可用于特殊的EDS工作.Chromium铬非常细的溅射颗粒，适合于 FESEM. 为避免氧化，需用于208HR一样的高真空镀膜仪。镀膜后的样品只能存放在高真空环境中. 溅射离子直线下落。适合生物样品的BE成像，溅射产率低。Iridium铱非常细的溅射颗粒，适合于 FESEM，需用于208HR一样的高真空镀膜仪，溅射产率低。Tungsten钨可替代Cr.颗粒非常细，但氧化非常快，溅射产率低。 Nickel镍可作为特殊的EDS应用, 不适合SE成像.适合BE成像，溅射产率低，镀膜易氧化。Copper铜适用于EDS. 适合中/低放大倍数场合，BE成像.Note 1:铝的溅射产率非常低，对于SEM离子溅射不适用，且氧化非常快。Note 2:碳最适合于EDS应用，但很难溅射。碳的蒸发产率非常好。 金靶种类选择厂家型号60mm57mm54mm50mm38mm19mmAGAR手动型离子溅射仪XAGAR自动型离子溅射仪XAnatech/TechnicsHummer IXAnatech/TechnicsHummer IIXAnatech/TechnicsHummer IIIXAnatech/TechnicsHummer Jr.XBal-TecSCD 005XBal-TecSCD 040XBal-TecSCD 050XBal-TecSCD 500XBal-TecMED 10XBal-TecMED 20XBio-RadSC 5200XBio-RadSC 502XCressington108 manualXCressington108 autoXCressington108/auto/SEXCressington208HRXCressington308HRXDentonDESK IIXDentonDESK IIIXDentonDESK IVXDentonDESK VXEdwards150 BXEdwardsScancoatXEmitechSC7620/SC7610XEmitechK500X/K550X/K650X XEmitechK575/K575XD/Q150 XEmscope/PolaronSC 502XFullamEMS-76XGatanISI 5400XJEOLJFC-1200XJEOLJFC-1300PELCO® SC6X

【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌金靶直径57mm x 0.1mm 厚度直径57mm x 0.2mm 厚度 Agar Scientific所有型号Cressington 所有型号(308系列除外), JEOL型号JFC-1200, JFC-1300, JFC-1400, JFC-1600, JFC-2300HRPolaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620金靶直径54mm x 0.1mm 厚度直径54mm x 0.2mm 厚度 Bal-Tec/Leica SCD005, SCD050, MED010, MED020 【产品详情】 离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材：金靶 产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

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【技术参数】 产品名称规格适用离子溅射仪品牌镍靶直径57mm x 0.1mm 厚度 Agar Scientific所有型号Cressington 所有型号(308系列除外)Polaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620镍靶直径54mm x 0.2mm 厚度 Bal-Tec/Leica SCD005, SCD050, MED010, MED020 【产品详情】 离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材：镍靶 产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

Quorum 耗材，靶材，载物台等附件Quorum提供了一系列消耗品和备件。溅射靶材Quorum为我们当前的Q系列（S和ES版本）和SC7620溅射镀膜机以及以前使用Emscope，Emitech，Polaron，Bio-Rad，Fisons Instruments和Thermo VG品牌制造的型号提供金属溅射靶材。包括E7400-314A TargetGold 0.2 mm, E7400-31C Target Platinum 0.2 mm, E7400-314IR Target Iridium 0.3 mm, SC500-314A Target Gold 60 mm x 0.1 mm thick, SC500-314E Target Silver 60 mm x 0.1 mm thick, SC502-314A Target Gold 57 mm x 0.1 mm, 更多溅射靶点请咨询大连力迪流体控制技术有限公司碳耗材：碳棒和碳纤维供应品有多种尺寸和纯度可供选择，通常用于将碳蒸发到样品上，用于 X 射线微量分析或透射电子显微镜 （TEM）分析。

这些德国制造的PVD高纯溅射靶材是全球领先的超高纯度PVD镀膜材料，完全在德国生产，拥有世界一流的产品性能，非常适合PVD溅射靶材和PVD镀膜使用。PVD溅射靶材具有全球最为齐全的种类。Tribological Coatings and FilmsDescription:Targets for the components and tools in mechanical engineering and instrumentation.Example:Cr 99.95% WC 99.5%.Precision OpticsDescription:Targets for lasers, lightings and filters.Example:Ta 99.95%.Transparent Conductive Oxide (TCO) TargetsDescription:ITO, ZnO, SnO2 and ZnO: Al based targets for the photovoltaic, low E-glass and flat panel display industries.Example:ZnO 99.9% (TCO)Reflective MaterialsDescription:Reflective targets for solar applications.Example:Aluminum 6061.Thin Film Battery TargetsDescription:Lithium based targets for solid-state rechargeable batteries.Example:LiCoO2 99.9%Semiconductor TargetsDescription:High k-dielectric, Hafnium, Tantalum and Barium Titanate based targets for thin film capacitors.Example:Barium Titanate 99.9%.Storage MediaDescription:High density Ru targets for perpendicular storageCustom TargetsDescription:Compositions and shapes tailored for your needs.Materials ListingAAg 99.99 Al 99.99 99.999 AlN 99.9 Al2O3 99.99 Al/Cu 99.99 99.999 Al/Si 99.99 99.999 Al/Si/Cu 99.99 99.999 Au 99.99 99.999 BBaFe12O19 99.9 BaF2 99.9 BaMnO3 99.9 (Ba,Sr)TiO3 99.9 BaTa2O6 99.9 BaTiO3 99.9 BaZrO3 99.9 Bi 99.9 99.999 Bi2O3 99.99 Ba4Ti3O12 99.9 BN 99.9 CCa 99 CaF2 99.95 CaTiO3 99.9 CdTe 99.995 Ce 99.9 CeO2 99.9 99.99 Cr 99.9 99.95 99.99 Cr2O3 99.8 CrSiO2 99.5 Co 99.95 CoO 99.5 Cu 99.997 Cu/Ga 70/30 at.% 99.99 CuO 99.9 DDyFeO3 99.9 Dy2O3 99.9 EEr2O3 99.9 FFe 99.95 Fe2O3 99.9 GGd2O3 99.9 GaN 99.99 Ge 99.999 HHfO2 99.95 I-KIn 99.99 99.999 In2O3 99.99 In2O3/SnO2 90/10wt% 99.99 In/Sn 99.99 Ir 99.8 99.9 LLa 99.9 LaAlO3 99.9 LiCoO2 99.9 LiNbO3 99.9 Li3PO4 99.9 MMg 99.98 MgAl2O4 99.9 MgB2 99.5 MgFe2O4 99.9 MgF2 99.9 MgO 99.95 Mn 99.9 Mo 99.9 99.95 MoS2 99 N-ONd 99.9 Nd2O3 99.9 Ni 99.95 99.98 99.99 Ni/Cr 99.95 Ni/Cr/B 99.95 Ni/Cr/Si 99.95 Ni/Fe 99.95 Ni/V 99.9 Nb 99.95 Nb2O5 99.9 P-QPb 99.999 Pb(Zr,Ti)O3 99.9 Pd 99.95 Pt 99.9 99.99 Pr 99.9 Pr2O3 99.9 RRe 99.9 Rh 99.8 Ru 99.9 RuO2 99.9 SSe 99.999 Si 99.999 SiC 99.5 Si3N4 99.9 SiO 99.9 SiO2 99.99 Si/Cr 99.99 Sn 99.99 SrFe12O19 99.9 SrRuO3 99.9 SrTiO3 99.9 99.99 T-UTaC 99.5 Ti 99.95 99.995 TiB2 99.5 TiC 99.5 TiN 99.5 TiO 99.9 TiO2 99.9 TiSi2 99.5 Ti/Al 99.9 TiW 99,95 99,995 VV 99.7 99.9 VC 99.5 VN 99.5 V2O5 99.9 W-XW 99.95 WC 99.5 W/Ti 99.95 YYb2O3 99.9 Y2O3 99.99 ZZn 99.99 ZnO/Al2O3, 98/2 wt.% 99.9 99.99 99.999 ZnO 99.9 99.99 99.999 ZnS 99.99 ZnSn 99.9 Zn/Al 99.99 Zr 99.2 ZrB2 99.9 ZrO2 + 3, 8, or 10 mol.% Y2O3 99.9

上海屹持光电技术有限公司专业提供各种镀膜服务：典型实例 1，磁控溅射合金膜2，ICPPECVD 制备高厚低应力氧化硅薄膜3，沉积细胞定位电极4，磁控溅射的 制备的 Au/TiO2 连续 主要设备：1，磁控溅射镀膜系统2，磁控溅射镀膜机3，磁控溅射真空镀膜机4，电子束蒸发镀膜仪5，高密度等离子体增强化学气相沉积设备

金靶、铂靶、钯靶、银靶 EMS公司提供多种贵金属溅射靶材，有金靶、铂靶（白金）、钯靶、金钯合金靶60:40、铂钯合金靶80:20,纯度在99.99%以上。EMS公司靶材适合多个厂家的镀膜仪器，Emitech, Emscope, Bio-Rad, Polaron, Edwards, Balzers, Plasma Sciences, Technics Hummers, Denton, Cressington等等。提供的所有靶材均是标准厚度0.1mm，厚度在0.05－6mm之间的厚度靶材，需要特别问询。可以根据你的需求定制合适直径的靶材（4-304.8mm之间）。 1.金靶和铂金靶Gold (Au) and Platinum (Pt) 货号 (Au) 直径 mm货号 (Pt)直径 mm91006-Au20.091006-Pt20.091007-Au20.491007-Pt20.491008-Au32.091008-Pt32.091009-Au39.091009-Pt39.091013-Au42.091013-Pt42.091014-Au50.091014-Pt50.091015-Au50.891015-Pt50.891016-Au54.091016-Pt54.091017-Au57.091017-Pt57.09101060.09101260.091018-Au63.591018-Pt63.591019-Au75.091019-Pt75.091020-Au76.091020-Pt76.0 2.钯靶和金钯靶Palladium (Pd) and Gold Palladium 60/40(AP) 货号 (Pd)直径 mm货号（ AP60/40）直径 mm91006-Pd20.091006-AP20.091007-Pd20.491007-AP20.491008-Pd32.091008-AP32.091009-Pd39.091009-AP39.091013-Pd42.091013-AP42.091014-Pd50.091014-AP50.091015-Pd50.891015-AP50.891016-Pd54.091016-AP54.091017-Pd57.091017-AP57.091010-Pd60.09101160.091018-Pd63.591018-AP63.591019-Pd75.091019-AP75.091020-Pd76.091020-AP76.0

我公司可订做多种靶材，如：金靶（Au），银靶（Ag），铂靶（Pt），镍靶（Ni）等高纯（99.99%）单质金属溅射靶材。主要适用：扫描电镜样品制备（小型离子溅射仪、镀膜机）、真空镀膜等。

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流程简述： 化工原理是化工、生物、食品、制药等专业必修课。化工原理实验是大部分学校必做的实验。因此化工原理实验被列为重点实验内容之一。东方仿真使用自主开发平台，利用动态数学模型实时模拟真实实验现象和过程，通过3D仿真实验装置交互式操作，产生和真实实验一致的实验现象和结果。每位学生都能亲自动手做实验，观察实验现象，记录实验数据，验证公式、原理定理。另外，该系统还配备开放的标准实验思考题生成器。该系统分为教师站和学生站。通过网络，教师站上的监控和管理程序方便地对学生站运行的实验仿真软件进行实时的监控和管理。本仿真软件以北京化工大学实验装置为主，兼顾华东理工大学的实验装置。包括了所有典型的化工原理实验装置。培训工艺：1.1 、离心泵特性曲线测定1.2 、流量计的认识和校核1.3 、流体阻力系数测定1.4 、传热（水-蒸汽）实验1.5 、传热（空气-蒸汽）实验1.6 、精馏（乙醇-水）实验1.7 、精馏（乙醇-丙醇）实验1.8 、吸收（氨-水）实验一1.9 、吸收（氨-水）实验二1.10 、丙酮吸收实验1.11 、干燥实验1.12 、板框过滤实验建议配置：学员站：CPU：奔腾E2140或更强的CPU（或AMD Athlon X2 4000）内存：1G以上显卡和显示器：分辨率1024x768以上硬盘空间：至少1G剩余空间操作系统：Windows XP SP2/SP3教师站：CPU：奔腾E5200或更强的CPU（或AMD Athlon X2 5000）内存：1G以上（推荐2G以上）显卡和显示器：分辨率1024x768以上硬盘空间：至少1G剩余空间操作系统：Windows Server 2003 SP2网络要求：网络必须稳定通畅(统一式激活)

双线激光反射镜又名双激光谱线反射镜,是英文Dual Laser Line reflecting mirrors 的翻译。双线激光反射镜用于在两个不同的波带上实现进行高反或高透应用，入射角一般为45度。百分之百进口，质优价廉。双激光谱线反射镜采用多层镀膜，当可以在两个激光波长上实现最高的激光反射率。双线激光反射镜采用了离子束溅射技术（Iom Beam Sputtering, IBS)或电子束蒸发技术进行镀膜，这些镀膜技术非常成熟，并且采用多层镀膜技术可以保证双线激光反射镜高功率应用。双激光谱线反射镜,Dual Laser Line reflecting mirrors 技术指标基片尺寸公差：+0/-0.1mm基片波前畸变：基片表面质量：20/10 SD 40/20SD(曲面）镀膜粘附性和耐久性：Per MIL-C-675A净孔径： 90%镀膜反射率：R99,5% @ 0o Rs99,3% and Rp98,5% @ 45deg激光损伤阈值:3-5J/cm2 for 10 ns pulses @1064nm进The measured transmission curve for dual wavelength HR coating (HR @ 515+1030 nm)双线激光反射镜,双激光谱线反射镜,Dual Laser Line reflecting mirrors 询问服务：请阁下根据如下格式选择和填写您需要的镜片和镀膜参数，然后复制后直接通过Email发送给我们，您会收到及时的报价回复。Substrate material 基片材料 Shape 基片形状RectangularRound 请选择圆形或方型Dimensions 尺寸mm 如果是圆形就填写直径大小Thickness 厚度mm Type 类型Plano-ConcavePlano-ConvexOtherFlat/Flat如果您选择曲面镜片，请填写曲率半径 eg ROC1=-50mm ROC2=+1000mmSurface figure L/4 L L/2 L/8Surface quality 20/1040/2060/40Parallelism error10arcsec1arcmin3arcminWedgeNo wedge30arcmin1deg2deg3degCentral wavelenghs: eg. 1064nm+532nm Angle of incidence (AOI)deg Comments

空气喷射筛分仪Aode-200空气喷射筛分技术（气流筛分技术）适用于粉状样品的高效粒度分级,对粉末样品团聚的分散有着明显的效果。空气喷射筛分技术可以wanmei的解决细粉末在筛分过程中，出现的筛孔堵塞，样品质量过轻，起静电，筛分后团聚等相关现象。Aode-200空气喷射筛是采用负压气流带动样品进行筛分，仪器通过一个负压发生器连接到仪器尾部的出气管，气流通过负压空气流道，作用于旋转开槽的的喷嘴上，喷嘴置于标准筛的底面喷射到筛网上，强大的气流会将标准筛的样品喷射起来将样品分散同时样品和空气混合将团聚的样品分散，由于是负压作用小于筛孔的粉末颗粒会被气流带动样品通过筛孔，从而完成样品的粒度分级。筛下样品会被收集器收集。空气喷射筛是 《中国药典2020版》用于“粒度和粒度分布测定”的zhiding筛分仪器，标准中规定对于粒径小于75μm的样品，则应采用空气喷射筛分法。气流筛工作原理 利用空气做载体、负压气流作为动能的原理，经过喷嘴的空气气流穿过筛网后与物料混合，由于压力差的作用在腔室中形成和物料的混合气流，向筛网喷射，从而达到快速准确筛分的目的。 空气喷射筛特点dute 的喷嘴和空气流道设计，让空气和样品充分混合后，撞击到透明筛盖上，分散了粉体的团聚对于细微粉末易团结、粉末易起静电、粘附性强的样品筛分尤为显著集成自动压力变送器，实时对筛分室内环境压力进行监控，从而提供稳压的筛分环境采用7寸彩色液晶显示屏对仪器quanfangwei操控。筛分设定时间、倒计时、实时压力显示、筛分结果等一目了然 压力调节装置采用dute 的机体合一设计，确保压力值稳定性仪器设计有自动计算功能，可对筛分数据进行自动计算并根据计算结果给出筛上百分比及筛下百分比。 可自由设定筛分时间，压力任意调节适用于干性物料的粒度分析，筛分精度高、噪音低、无环境污染自动清理筛网功能，dute OPEN MESH功能，能够分离和筛孔尺寸相近的颗粒，从而保证筛分过程中让小于筛孔的粉末颗粒得到充分筛分dute 的旋转喷嘴设计使筛分发挥zuida效能利用空气喷射原理的筛分技术能够减少小颗粒样品的团聚样品收集器，收集样品率达到99.9%空气喷射筛参数输入电压： 220VAC 50Hz环境温度： -10℃～50℃电机功率： 25 W工作负压： 0～-10KPa环境湿度： 0～90%RH屏幕显示： 7寸彩色触摸屏液晶显示筛分层级： 普通为1级，zuida为2级（需配置辅助配件）zuida样品量：100克尺寸（mm）： 宽300X深400X高225历史储存：大于50000次筛分粒度范围： 5微米-5毫米筛下样品收集率：99.9%适合标准筛：直径203mm、200mm、150mm、75毫米标准筛。测试重复性：1%测量精度： 1%负压精度：1%称量精度：1%压力感应速度：0.01秒审计追踪：，管理员可设置12个不同操作员登录名和登陆密码. 可追踪50000组测试数据。登陆管理：管理员和操作员不同权限登陆，可设置12组不同专属操作员登陆名称和登陆密码。操作员管理员登陆任意切换。同时具有无xianliang更改操作员登陆权限。筛分系统：筛分结束后自动计算筛余及筛下百分比含量。可设置参数有：筛分时间、转速、样品批号、样品来源、测试部门、筛孔尺寸、筛网直径、筛网高度、防堵筛孔开启适合标准：符合2015/2020版中国药典标准及进口微晶纤维素注册标准相关规定国外标准：符合ASTM、EP、USP、EP标准通讯：主机RS232接口与电子称通讯称量范围：0.01克-600克最小时间设定： 1秒典型筛分时间：2-5分钟气 流 量： 30-120m3/h转速（rpm）： 5-30转/分钟重量（公斤）： 20kg打印：可以对当前结果进行打印，历史查询结果中打印应用领域：适用任何类型干燥物料的粒度分析。而分析的重量则取决于筛网尺寸以及物料的密度。广泛应用于电力、化工、制药材料、化学品、塑料、橡胶、洗衣粉、矿物、粉末覆膜、色素、调色剂、陶瓷、食品、医药、冶金、矿业、建材、科研院所、技术监督及标准计量部门等行业实验室内干性粉状物料的粒度分析。基本配置 气流筛主机 1 台 、负压发生器1套、透明筛盖1个、敲击锤1个、标准筛2只（90微米以上）、密封圈2个、电源线1个、样品收集器1套、收集瓶1个、保险丝5只。售后服务提供免费的上门安装，及培训指导仪器质保期限为2年，延保每年500元仪器在出现售后需求后省外48小时，省内24小时到达现场终身进行免费培训指导以上信息由丹东奥德仪器有限公司为您提供如果您想筛分更细小的样品请选用我们为您准备的更为精密的筛分仪-声波振动筛分仪，筛分下限为5微米。如您在筛分实验中遇到困难可以随时向我们咨询，我们可以为您提供免费的解决方案。

流程简述： “食品工程原理仿真实验”，就是利用动态数学模型实时模拟真实实验现象和过程，通过对仿真3D实验装置进行互动操作，产生和真实实验一致的结果。从而达到每个学生都能够一对一地亲自动手做实验，观察实验现象，验证公式、原理定理的目的。可以通过网络，使教师站上运行的监控程序与管理程序能方便地对下位机的学员站上运行实验仿真软件进行监控与管理，同时配有标准的实验思考题生成器，开放接口。培训工艺：1.1、流体粘度测定实验1.2、柏努利方程实验 1.3、雷诺实验 1.4、流体阻力实验 1.5、离心泵性能实验 1.6、过滤实验 1.7、传热实验 1.8、洞道干燥实验 1.9、流化床干燥实验 1.10、精馏实验 1.11、气体扩散系数测定实验1.12、液体扩散系数测定实验运行环境要求建议配置：学员站：CPU：奔腾E2140或更强的CPU（或AMD Athlon X2 4000）内存：1G以上显卡和显示器：分辨率1024x768以上硬盘空间：至少1G剩余空间操作系统：Windows XP SP2/SP3教师站：CPU：奔腾E5200或更强的CPU（或AMD Athlon X2 5000）内存：1G以上（推荐2G以上）显卡和显示器：分辨率1024x768以上硬盘空间：至少1G剩余空间操作系统：Windows Server 2003 SP2网络要求：网络必须稳定通畅(统一式激活)

这款欧洲进口激光谱线反射镜/(HR Laser Line mirrors )是一种高功率激光反射镜,比较适合关于中心波长百分之十范围内的激光高反使用。激光谱线反射镜,高功率激光反射镜在窄带上提供绝佳的高反性能，而且比较适合对反射要求较高的应用。这款激光谱线反射镜,高功率激光反射镜比较适合关于中心波长10%范围浮动的激光的高反应用，比如，HR@800nm, 比较适合反射的激光范围为760-840nm, 由于激光谱线反射镜适合的激光波段较窄，因此高功率激光反射镜常常被称为激光谱线反射镜Laser Line mirrors 或单波长激光高反镜。 这种激光谱线反射镜常常用于腔外激光束的操作应用，对激光束的反射要求非常严格，不允许存在透过激光的问题产生，常常使用这种单波段激光谱线反射镜,高功率激光反射镜，但是它只适合固定的入射角(常用45度），而且最好是单波长激光或对波带宽度要求很窄的激光。 单波长激光谱线反射镜,高功率激光反射镜采用了离子束溅射技术（Iom Beam Sputtering, IBS)或电子束蒸发技术进行镀膜，这些镀膜技术非常成熟。 基片尺寸公差：+0/-0.1mm 基片波前畸变：基片表面质量：20/10 SD 40/20SD(曲面） 镀膜粘附性和耐久性：Per MIL-C-675A 净孔径： 90% 镀膜反射率：R99,6% @ 0o Rs99,8% and Rp99,3% @ 45o 激光损伤阈值:5-7J/cm2 for 10 ns pulses @1064nm激光谱线反射镜,高功率激光反射镜问询： 根据如下格式填写您的要求，复制后发邮件给我们，我们将及时回复报价 Substrate material ShapeRectangularRoundElliptic Dimensionsmm Thicknessmm TypePlano-ConvexFlat/FlatPlano-ConcaveOther Radius of Curvature (ROC) for curved substrates only eg ROC1=-50mm ROC2=+1000mm Surface quality20/1040/2060/4020/5 Central wavelengthnm Angle of incidence (AOI)deg Surface figure L/4 L L/2 L/8 Parallelism error10arcsec1arcmin3arcmin- WedgeNo wedge30arcmin1deg2deg3deg Comments

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