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脉冲离子计数检测

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脉冲离子计数检测相关的仪器

  • PDD检测器是脉冲放电离子化检测器所有工作模式检测器的统称。按照其工作模式,包括有无放射性的电子捕获检测器和氦离子化检测器等多种产品系列。该产品曾获得美国创新100奖R&D100的殊荣。 脉冲放电检测器特点:无放射性,多种工作模式电子捕获 /氦离子化检测器VICI PDDs (脉冲放电检测器)采用稳定的,低功率的脉冲直流放电氦做为离子源。柱子中洗脱剂的流向同放电区氦气的流向是相反的。偏移电极把生成的电子束射向捕获电极,捕获电极的电流的改变,即检测器的输出结果。 效果比常规的放射源检测器相当或者更好。 电子捕获模式下, PDD 是一个选择性检测器,用以检测复电子亲和化合物,如氟里昂,含氯农药,和其它卤素化合物。此类化合物的最低检测浓度都在飞克级(10-15) 或皮克级(10-12)。 由于不使用放射性物质,深受用户欢迎。 在氦离子化的工作模式下,PDD是一个通用的, 无破坏性的, 高灵敏度检测器。检测器对无机和有机化合物检测浓度范围较宽,且线性范围也很宽。对各种气体响应值为正(在固定电流下增加),最小检测浓度值为ppb级。 在石油化工和炼厂的应用场合,如果氢火焰检测器无法检测,这时PDD脉冲氦离子化测器是FID检测器的理想代用品。另外, 放电气体中掺杂有氩,氪,或者氙气时(取决于理想截止值),PDD 做为一种特殊的离子化检测器,主要用于脂肪族化合物,芳香族化合物,胺类和其它类型的选择性分析。D-2 型脉冲放电检测器D-2是一个双模式通用检测系统,可对原有的气相色谱仪进行改造增加检测器。D-2-1主要用作于脉冲氦离子化检测器模式工作,用以检测痕量物质。这套独立的系统包括检测器,控制器,静电计,氦纯化器和电源。 PDD检测器D-2模式成套完整部件检测系统包括检测池,脉冲发生部件,静电计,静电计和氦纯化器
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  • 产品展示 GC9800(N/PDHID)氦离子化气相色谱仪,配有VICI**度氦离子化检测器(PDHID)和*配套的脉冲高压电源、氦气净化器。仪器设置有带有载气吹扫保护的四阀多柱分析系统。对*超纯气体具有前组分切除、中心组分切割、后组分排空的通用性分析功能。针对不同被测气体,配置适用的多柱系统,就可实现对*超纯特种气体中有关PPb级痕量杂质的检测。仪器特点: 成套*的PDHID氦离子化检测器、脉冲高压源、氦气净化器、保证了高检测灵敏度及稳定性; 带有被测样品的前组分切除、中心组分切割、后组分吹扫排空的多柱分析系统,对*分析样的适应性强; 带有载气吹扫保护功能并可恒温控制的十通、六通、四通阀。 预柱与分析柱单独分开温控,便于调试、便于获得分离分析条件。 具有进样系统预冲洗系统,使进样*度高、稳定性快、使取样气体用量少、防止了环境空气中O2、N2的干扰。 具有电脑反控和10/100M以太网通信接口及内置工作站,可实现远程监管。
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  • PDD脉冲放电检测器 400-860-5168转1024
    仪器简介: VICI PDDs (脉冲放电检测器)利用在氦气中稳定的、低能耗、脉冲DC放电作为离子源。过柱的洗脱液沿着从放电区发出的氦气流相反的方向流动,被氦气放电发出的光子离子化。斜线电极聚焦发生的电子到收集电极,在那改变稳定电流,电流再被量化为检测器输出。性能与带常规放射源的检测器相当或更优。 在氦气光化电离模式下的PDD为石油化学或炼油厂环境的火焰离子检测器一个极好的替代产品,而它火焰和氢气的使用存在问题。另外,当氦气放电气体与适当的惰性气体如氩、氪或氙(决定于期望的截止点)混合时,PDD 可作为特殊光化电离检测器用于脂肪族化合物、芳香族、胺以及其它物质选择检测。技术参数: D-4 和D-6选择各种类型,易于安装在当前使用的大多数GC上,包括Varian 3800、Shimadzu 14和17、Thermo Finnigan Trace、Mega和Top,以及Hewlett Packard 5890。D-4为单一模式,在氦气光化电离模式下痕量分析为最优,D-6为电子捕获检测器。PDD D-4型 &ndash 氦气光化电离 描述 110 VAC 货号 230 VAC 货号在氦气光化电离模式下痕量分析最优检测器检测器专门用于HP 5890 D-4-I-HP58 D-4-I-HP58-220Shimadzu GC 14* D-4-I-SH14-R D-4-I-SH14-R-220Shimadzu GC 17* D-4-I-SH17-R D-4-I-SH17-R-220Thermo Trace GC* D-4-I-TQ-R D-4-I-TQ-R-220Varian 3800* D-4-I-VA38-R D-4-I-VA38-R-220*使用已有的GC FID静电计用于所有其它GC D-4-I D-4-I-220PDD D-6型 &ndash 电子捕获 描述 110 VAC 货号 230 VAC 货号电子捕获检测用最优检测器检测器专门用于HP 5890 D-6-HP58 D-6-HP58-220Shimadzu GC 17 D-6-SH17-R D-6-SH17-R-220Thermo Trace GC D-6-TT-R D-6-TT-R-220Varian 3800 D-6-VA38-R D-6-VA38-R-220主要特点: 在电子捕获模式,PDD为选择检测器,可用来监控高电子亲和力的化合物如氟里昂、含氯杀虫剂和其它卤素化合物。对于此类化合物,最低检测限(MDQ)为&ldquo femtogram&rdquo (10-15) 或皮克(10-12) 级。PDD与常规放射ECD的灵敏度和响应特征相类似,且可在高达400° C的温度下操作。在此模式下工作,He 和CH4 从柱出口刚好逆流引入。 在氦气光化电离模式,PDD为通用的、非破坏性的、高灵敏度检测器。对无机和有机化合物均在很宽的范围内呈线性,对fixed气体的反应为正电(稳定电流增加),检测限MDQ低至ppb级。
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  • 脉冲计数器 400-860-5168转2623
    脉冲计数器/时间间隔定时器教学实验装置 我们的&ldquo 双缝干涉,单光子时间 &ldquo 已经成为经典的基本量子悖论&rdquo 在单光子探测和实验示范。我们的新的脉冲计数器/间隔定时器单元:从噪声背景中区分脉冲事件,脉冲振幅10 mV至1伏特 正确的单位时间内的计数' 事件' ,0.1,1.0,或10秒计数的时间间隔 可替代地,测量的脉冲之间的时间间隔和它的后继脉冲,1 - 微秒的分辨率 写无限长度的数据文件(通过超级终端,在一台主机),每单位时间的连续计数,或连续计数之间的时间间隔。到计数器/定时器单元,旨在发现即使是低层次的模拟脉冲以上的噪声背景下站立起来,建立一个电子鉴别。大约10毫伏到几伏特的范围内可连续调节和线性鉴别的阈值水平。监视器的输出为输入脉冲正是满足鉴别的阈值标准的视图。图1所示的鉴别器的行动。图。1:示波器获得10 ns /格上跟踪的痕迹:模拟输入鉴别 下跟踪:监视器输出脉冲鉴别。设置的&ldquo 范围较低跟踪事件进行触发, 所以上跟踪显示所有但只这已激活鉴别 鉴别器的输出是一组标准化的脉冲,其中每个PMT脉冲会议产生的脉冲的电子标准。但是时间发生的这些事件应该服从泊松过程的法律-他们预期发生互不相关,并在随机的时间,但仍然在一些平均汇率。最受欢迎的任何计数器测量的平均计数率的研究单光子事件。但是,对于学习计数率的波动,因此随机事件的统计特性,是需要很长的一系列这样的计数。例如,假设我们正在计数的光子到达中央条纹的干涉图案的顶部的两个狭缝的装置被设置为监视的强度。如果我们调整光源强度平均约1000每秒计数率,我们会找到什么,如果我们做很多重复个别测量?答案是如图所示。2,这是一个散点图的脉冲计数1秒1200连续试验。图。2:在1秒闸门时间检测到的光子事件数的散点图, 观察数的函数绘制,1200连续观察 统计数据显示波动的平均值,1086计数/秒和学生可以从我们的新的计数器处理的数据文件来研究这些波动。他们应该探讨的问题包括:计数率的标准差是什么?结果,这取决于如何(变量)平均计数率?卡方检验什么说一下图中的数据。2?这是图中的数据的直方图。2?(参见图3)。这是分销高斯,它有预期的宽度从泊松统计图。3:直方图的数据的图。2,显示还预计 预计从中央极限定理中心极限定理分布高斯分布回到图的情节。2:显示计数到达的平均增长率大约为10 3 /秒,这意味着计数到达10 -3 s或1毫秒的平均时间间隔。但是,如果脉冲和它的第一个继任者,之间的时间间隔重复测量,个别值将导致?什么值的分布将导致重复这种测量系列?你知不知道,这些值将有什么直方图?我们的新的计数器/定时器可被配置来衡量这样一个时间间隔,如此反复做,并将结果写入到一个文件中,很容易给人一种(说)5000的时间间隔测量样本。在这样的样本中,我们发现(例如)近1000次的时间间隔在1-200&mu s范围。所有5000测得的时间间隔的直方图示于图。(4)图。4 5000测量 一个光子事件和它的第一个继任者之间的时间间隔分布的直方图显示:半对数图,横轴以微秒 直方图是不是高斯,但指数字符。暗示这种分布的平均间隔是0.910毫秒,比预期值0.921毫秒的平均计数率从图。2。但是,直方图不有一个峰,该值,事实上,在最短的时间间隔是最有可能的。还请注意,在何种程度上的分布相匹配的预期指数是一个随机事件的假设测试:光子探测任何周期性事件,或在他们的到来,任何相关性将直接显示在这个情节。还有许多其他来源的电子事件,一些高度(但不完全)定期,其他近(或全部)随机,和所有的人易患统计研究。你可能会认为一个相当完美的时钟,或盖革计数器,此类事件的来源。这样的统计研究的先决条件,是一个大样本的数据,我们现在已经取得容易,简单,尽可能获得。我们重视我们新的计数器/定时器操作的透明度,确保数据(例如),可以采取手工的第一模式的理解是怎么回事。我们确信学生做最好采取手动设置的第一个(小)的数据,让他们明白的列表数据和直方图来自介于抽象和聚合的过程中。返回到双缝实验,我们希望学生能够看到光子事件,他们正在检测,无论是在干扰最大或最小,仍然显示所有的统计特性,是随机的,互不相关的事件的预期,但但发生在一个明确的平均率。邀请更深入探讨的基本量子谜。 IntroductionTeachSpin&rsquo s &lsquo Two-Slit Interference, One Photon at a Time&rsquo has become a classic demonstration of the &lsquo essential quantum paradox&rsquo and an experiment in single-photon detection. Now, we&rsquo ve improved its electronics with a new Pulse Counter/Interval Timer unit which makes possible a whole new set of investigations in the statistics of random-event processes.Our NEW Pulse Counter/Interval Timer unit will:discriminate pulse events from a noise background, for pulses of amplitude 10 mV to 1 Volts correctly count &lsquo events per unit time&rsquo , with 0.1, 1.0, or 10-second counting intervals alternatively, measure the time interval between a pulse and its successor pulse, to 1- µ s resolution and write data files of unlimited length (via HyperTerminal, in a host computer) of successive counts per unit time, or intervals between successive counts.An electronic discriminator, designed to detect even low-level analog pulses standing up above a noise background, is built into the counter/timer unit. The discriminator&rsquo s threshold level can be adjusted continuously and linearly over a range of about 10 mV to several Volts. A monitor output gives a view of exactly what input pulses are meeting the discriminator&rsquo s threshold criterion. Figure 1 shows the discriminator in action.
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  • CIC团簇离子计数器仪器简介CIC(Cluster ion Counter)团簇离子计数器是一款测量正离子和负离子团簇的浓度和平均迁移率的仪器。它的目的是为长期的现场监测和实验室实验提供可靠的团簇离子测量。仪器应用测量移动能力在0.25cm2/V/s以上的团簇离子总数,评估它们的平均迁移率基于车载的测量或室内实验中,以高达100毫秒的时间分辨率观察快速变化过程研究团簇离子浓度的时间发展(新粒子形成事件、离子诱导成核) CIC具有最小的进口损失,使其可以用作确认更先进的离子光谱仪(Airel的中性簇和空气离子光谱仪NAIS)或质谱仪结果的参考仪器在高海拔或室内实验中检测团簇离子在300到1200 hPa的宽范围大气压内工作测试原理 CIC使用两个独立的圆柱形微分迁移率分析仪,每个分析仪有三个收集电极。这使得仪器能够测量具有明确截止迁移率的团簇离子的总浓度,并额外评估被测离子的平均迁移率。来自收集电极的电信号以每秒30次的速度用高灵敏度积分静电计测量。仪表的进气口设计使离子损耗保持在最小。较短的进气口和较高的测量速率使仪器能够达到非常高的时间分辨率-超过100毫秒。正负两个分析单元的采样流量可根据实验要求和可用信号电平自由指定,流量范围为10 l/min到60 l/min。中心电极电压自动调整,以保持检测离子迁移率范围恒定。该仪器还内置空气压力传感器,考虑到粒子迁移率和空气压力之间的关系。这使得仪器可以操作机载飞机和室内实验。CIC内部机构原理图
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  • 详细产品介绍及技术参数  在使用旧式金属探测器时,令人讨厌的问题是地面的影响:随着探测盘与地面的距离变化仪器的信号也跟着变化,若把探测盘扫过凹凸不平的地面,这个变化就更大了,操作者仿佛到处都听到信号声,弄不清那里真正埋有金属。这种现象叫做"矿化反应"。造成"矿化反应"的原因,是由于构成土壤和各种矿物使仪器发出信号。在土壤结构复杂的地方,"矿化反应"非常强烈,它引起的信号比金属信号还要大,这时操作人员就很难判断发出信号的地方到底是埋有金属还是"矿化反应"。  地下高精度双脉冲脉冲金属探测仪内设有地平衡线路,能排除一切"矿化反应"的影响,只有在探测盘遇到金属时才发出信号,从而大大提高了探测深度和准确性。  地下高精度双脉冲脉冲金属探测仪产品特点:  ●外壳采用高强度ABS工程塑料,具有强度高、重量轻、寿命长   ●能有效准确区别黑色金属和有色金属功能   ●可以排除黑色金属(钢铁)只探测有色金属(金、银、铜)  ●设有地平衡线路,能消除“矿化反应”带来的影响,有效提高探测的深度及准确率   ●具有欠压工作报警装置   ●采用重复的充电电池进行工作   ●通过喇叭或耳机识别探测金属声音。  探测说明:  所有金属探测器的探测深度都是相对物体的大小来说的,一般有四个方面决定了探测的深度。  第一是物体的大小(物体越大磁场大测的就深、物体小磁场小测的就浅)  第二是根据地质的不同探测深度也不同(干燥的沙土地相对比的比在矿山上探测的深)  第三是根据物体埋藏时间的长短(埋的越长探测的就越深、因为金属和土壤结合可以产生氧化磁场增强)  第四 是和操作的熟练度,都有关系。最大深度是指100厘米*100厘米*2厘米厚的铝板再干燥的沙土中所达到的极限深度  探测工作是一件细致而又艰苦的作业,它要求操作者有耐心、信心和毅力。任何探测器都不能将地下的金属物体显示的一清二楚,若想要能准确地找到所需的东西,还要求操作者具有丰富的经验,根据仪器的反应仔细地分析,以作出正确的判断。  技术参数  操作方式:地平衡/识别  发射频率:6.99KHz  音频频率:437Hz  功 率:约2.5W  电 源:11.1V4Ah锂离子电池  标 配:充电器、耳机、探测盘  探测盘尺寸:探测盘(直径390mm)
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  • 仪器简介:IMP离子蚀刻探针(Ion Milling Probe),自带差式泵,坚固的二次离子质谱仪,适于分析离子蚀刻过程中的二次离子和中性粒子. 独有的专业终点检测(End Point Detection)仪器,用于离子蚀刻控制以及过程质量最优化监测.技术参数:应用: • 终点检测(End Point Detection) • 靶的纯度鉴定 • 质量控制/ SPC. • 残余气体分析 • 泄漏监测 主要特点:特点: • 高灵敏度的 SIMS/MS,带脉冲离子计数检测器 • 三级过滤四极杆,标准配置质量数为300 amu • 差式泵歧管,经连接法兰,接到过程室 • 离子光学器件,带能量分析器和内置离子源 • Penning规和互锁装置,以提供过压保护 • 数据系统与过程控制工具整合 • 稳定性(24h以上,峰高变化小于 ±0.5%) • 通过 RS232、RS485或以太网, 软件MASsoft控制 • 程控DDE, 平行数字式I/O, RS232通讯
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  • 瞬态(近红外)激光波前畸变检测干涉仪是将空间位相调制的共路剪切干涉技术与数字化波面高新计算技术相结合研制的新颖干涉系统,是浙江大学光电系现代光学仪器重点实验室、杨甬英等教授集多年基础、数年攻关完成的目前国内首台利用干涉方法仅需单幅干涉图就可以高分辨率检测各类高、低功率的脉冲激光、连续光波前畸变、检测各类高精度大口径精密表面的面形、动态检测各种流体的变化等。仪器抗噪、抗干扰性好特别适合于现场的实时检测。波前及面形的检测分辨率高,可高精度测量较大的波前畸变量,可以用于瞬态图象高速采集及检测。波前检测软件输出信息量丰富、可适用于不同波段的可见光、红外波段的检测。经权威单位与ZYGO干涉仪比对测试,近红外脉冲激光波前畸变检测的波前均方根已优于1/15波长。瞬态激光波前畸变检测干涉仪已达到国际先进、国内领先的先进水平。仪器技术指标:1、应用波长:从紫外、可见光至中远红外波段(波长可根据用户不同要求确定);2、光束接收口径:F10mm ~用户任定口径;3、仪器精度及重复性:波前均方根优于1/15波长;4、测量范围:波前畸变检测量可达50 mm;5、可用于脉冲光、连续光、各类精密表面面形测量:测量脉冲激光的脉宽可达1ns;6、光学系统具有高激光损伤阈值;7、高分辨率数据采集系统:科学级CCD相机,空间分辨率至1024× 1024以上或用户定;8、仪器利用共路剪切干涉技术,抗振动性好,可放于任何工作台现场使用;9、光束波前诊断软件包:给出检测波前位相(可以是光束波前、面形或流体的形变等)的三维图形、等高图、波前畸变的PV 值、均方根值、波面梯度值等;给出表征光束能量分散度的Streh1比;光学系统象差的评价参数OTF和PSF;软件具有友好的图形工作界面,工作于Windows 2000以上平台,软件有各类数据图象及数据输出功能。应用范围:本仪器是动、静态皆可检测的系统,可应用于航空、航天、航海及国民经济诸多领域:1. 配备高速的CCD与图象转换系统,可以检测具有较大畸变、快速变化的气体折射率密度场、高速绕流流场,获取高速飞行体在各个瞬间状态的三维流场的相关参数。并且可以应用于流体显示技术、空气动力学方面的研究。2. 良好的抗振性特别适合于在车间、现场进行各类精密表面面形的分析测量、不同尺寸的光学元件、硅片、金属表面面形、非球面等各类元件的精密检测。3. 可以检测各类高能激光系统的静态、动态波前畸变,特别为1053nm的近红外脉冲波前检测提供一个高精度、高分辨率的检测结果。系统配备标准近红外光源,可以检测1053nm 波段的各类光学材料的透射特性参数。图2是系统软件输出界面。图3是已实际用于纳秒级高能脉冲波前检测的干涉图。图4是纳秒级高能脉冲波前重构的三维图。
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  • TIC 微型团簇离子计数器仪器简介TIC(Tiny Ion Counter)一种测量正负团簇离子总浓度的仪器,旨在为室内和室外环境提供可靠且具有成本效益的长期集群离子监测解决方案。仪器应用测量移动能力在0.25cm2/V/s以上的团簇离子总数,评估它们的平均迁移率监测电离空气净化系统的运行情况使用多种设备测量大范围或不同海拔的团簇离子浓度的空间分布观察无人机上的团簇离子浓度加强空气质量监测解决方案,更全面地了解室内气候和健康风险仪器特点低维护,清洁简单体积小,重量轻适合长期运行,具有广泛的连续内部诊断,保证可靠的测量结果可集成到自定义物联网解决方案和具有数据通信协议的数据采集系统测量原理TIC使用两个独立的平行电板迁移率分析仪,离子通过电场并被推向收集电极。沉积的离子产生电信号,用高灵敏度积分静电计测量并转化为离子浓度。分析仪的样品流量可以根据实验的要求和可用的信号电平在2 L/min到9 L/min的范围内自由设定。仪器还内置空气压力传感器,用以调节补偿空气压力变化对离子迁移率的影响。
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  • 产品简介:结构紧凑,模块化的,第二代5383脉冲式火焰光度气相色谱检测器(PFPD)提供了更强的易用性,设计的灵活性,同时保留了成熟的技术特点,为世界各地的实验室提供准确的实验结果。随着信号处理技术的显著改善灵敏度比传统的FPD检测器提高10倍,PFPD检测器使得硫,磷和其它元素的检测比以往更容易,检测结果更精确。直观,易于操作的软件集成了监测和分析功能,使得参数优化,数据分析变得简单。PFPD功能特点:● 与传统FPD相比,对S,P元素具有杰出的灵敏度和更好的选择性● 线性,等摩尔响应便于快速快捷的建立标准曲线● 双通道同时输出功能,可以同时输出例如:S+P或S+C的信号● 内部自清洁式设计,完全消除积灰的形成● 新的模块化设计,电路部分和气路部分可独立使用● 与SCD/XRF检测器相比具有长期的稳定性并且大大降低了维护费用了解更多产品信息,请拨打 400-889-1179
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  • (聚合物的聚合速率检测)脉冲核磁共振分析仪(聚合物的聚合速率检测)脉冲核磁共振分析仪基于低场脉冲核磁共振技术,是一种强大的无损分析检测工具。 已在包括食品、农业、材料、工业质量检测和质量控制、能源、医药等领域得到了广泛的应用,工业质控和大学的研究实验室中都有脉冲核磁分析仪分身影。 低场脉冲核磁共振分析仪操作简单,仅需简单的培训即可使用仪器,并且适用于工业在线应用。已在常规质量控制和过程检查中广泛应用于各种工业和研究机构。 聚合物具有广泛的应用,其物理和化学性质的不同让其适用于不同领域。工厂可以根据需求设计出具有相应特性的产品。 而如何优化聚合反应的条件,以便获得高效和高产的聚合物产品是工厂非常关心的问题。大分子聚合物是由较小的简单分子(单体)重复形成的,非常有必要测量聚合速率或单体向聚合物的转化率随时间的变化。 T2弛豫快慢可以评价分子或链段的运动情况,聚合物聚合过程中对应的T2弛豫时间将随着分子链长的增加而降低,而游离的单体T2弛豫时间较长,可以建立T2弛豫时间与聚合速率的对应关系进而研究聚合速率以及转化过程。 (聚合物的聚合速率检测)脉冲核磁共振分析仪基本参数:1、磁场强度:0.5±0.05T2、探头线圈:Ø 25mm; 低场脉冲核磁共振基本原理:样品放入磁体后,样品中的氢核会磁化,形成与磁场平行的净磁化强度。施加一定频率的射频脉冲样品会吸收射频能量,射频施加完后可以观察到核自旋态从激发态到平衡态的演变,能量以FID (自由感应衰减)衰减信号的形式放出。 FID的初始振幅与样品中氢核的数量成正比。FID衰减的原因主要有以下两个:1、磁场的不均匀性2、氢核之间的相互作用(自旋-自旋弛豫),受时间常数T2控制。 可以通过CPMG序列消除磁场不均匀性的影响,它由一系列脉冲组成,每个脉冲重新聚焦由于磁体不均匀而导致的信号衰减。该信号由一系列重新聚焦的信号组成,称为“自旋回波”信号,每个信号的最大幅度略小于前一个。 回波幅度的衰减完全归因于自旋自旋弛豫。
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  • 品牌介绍表理(SurfaceConcept)是一家专注于精密光电元器件的公司,其产品主要涵盖延迟线探测器、粒子精密计数、计数成像,以及相关的快速电子学(皮秒)。这些产品可以为用户组建大型飞行动量谱仪、原子探针、电子显微镜和其他精密光学产品,提供显著的性能提高和各种便利。产品照片多路恒比甄别器数字多路计数器 时间-数字转换器电平转换器NIM-TTL高压电源主要技术参数序号产品名称性能指标参数1多路恒比甄别器输入信号频率(最大)115MHz输入幅度范围-50mV至-1.5V输出抖动 14ps步长 30ps典型值2数字多路计数器最大频率(周期输入信号)200MHz 双脉冲分辨率5ns3时间-数字转换器数字时间窗27.4ps典型值,40µ s(最大启停时间)可选触发频率范围0Hz 至9MHz输入脉冲间隔(同一通道)5.5 ns最大事件速率80MHz(最大)4电平转换器NIM-TTL工作频率(最高)250MHz输出抖动 14 ps5高压电源专为MCP设计,搭载过压保护等多种功能提供多种桌面式、机架式等多种形式应用领域序号应用领域1电子和离子的飞行时间分析(TOF)2时间相关或时间符合光子和粒子成像3用于x射线和电子能谱的门控成像4检测尺寸可达120mm的大面积真计数成像(XPS, UPS, EELS)5电子能量和飞行时间分析仪(XPS, UPS, EELS)6飞行时间光电电子显微镜(ToF PEEM)7中能离子散射与飞行时间分析(MEIS - ToF)8原子探针断层扫描/显微镜(APT, 3D-AP)9x射线吸收/发射光谱(XAS, XES)10门控对比增强x射线皮秒成像11荧光寿命成像(FLIM, FLIM- fret)
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  • 脉冲迷你无气源离子风机适合在自动化设备上使用,可替代离子风棒,可避免在洁净室使用离子风棒带来的“乱流”,因此,迷你卧式离子风机也称为“无气流离子风棒”迷你型直流脉冲风机,也称小型风幕机,是斯泰科微开发的新产品。*DC24V输入更安全*迷你系列 宽区域 大风量*适合无气源区域使用
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  • 钙离子和氟离子计 400-860-5168转0376
    avvor 9000钙离子和氟离子计内建内存,可接收长时间历史数据,可记录并显示实时与历史测值,并绘制曲线图(8G记忆卡与USB随身碟机种为选购),可设定记录频率及下载历史数据到电脑,并纪录历史警报。钙氟离子计7寸彩色触控式屏幕,操作简易,多国语言,功能强大;可设定自动清洗功能,并设定清洗时间(清洗模块另购)。 原理 含氟的水样中加入含有强螯合剂之缓冲液,可将氟盐复合物(如铝或铁等的氟盐)转化成自由氟离子,并消除阳离子及 pH 值之干扰(氟离子电极最适合的 pH 值范围在4-9之间)。利用氟选择性电极,测定水样中氟离子之氧化电位,以决定氟离子之活性或浓度。 利用此原理,透过触控主机进行5点(含)以上线性校正曲线或经验值予以修正,以达到在线水质监测之目的。 可选购 ◆钙离子和氟离子计可扩充模块为多人手机简讯系统,能自行编译工程名称,地点及简讯内容,并可自动传输数据到图控记录,可定时发送历史资料,亦可在水质到达警戒值时,实时通知使用者。 ◆钙氟离子计可选购3G/GPRS模块及原厂软硬件,进行实时网页监控,让使用者透过IE浏览器及PDA上网监看,并拥有个人登录账号、密码、SMS告警、历史曲线图与报表打印功能。 技术参数: 检测项目 钙离子 氟离子 检测范围 0.02~4010ppm 0.02~1900ppm 分辨率 0.01ppm 精确度 ± 5% full scale 信号输出 DC4-20mA Isolated Max load 1K&Omega 操作温度 0 to 55℃ 防护等级 IP 65 外观尺寸 D400× 300× 150mm H× W× D(BOX)
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  • 美国Neocera PLD 脉冲激光沉积系统 P180 & PED 脉冲电子束沉积系统 PED-180 Neocera P180 脉冲激光沉积系统 • Neocera 在 PLD 设备与工艺开发方面具有不可超越的经验• Pioneer 系列 PLD 系统是全球研发领域广泛使用的商业化系统• Neocera 不仅为客户提供基本的 PLD 系统,也提供完整的PLD 实验室交钥匙方案 PLD 实验室交钥匙方案 脉冲激光沉积系统(PLD)一种用途广泛的、用于薄膜沉积以及纳米结构和纳米粒子合成的方法 PLD 是一种复杂材料沉积的有效方法脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition)是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材,生成与靶材组成相同的薄膜。PLD 的独特之处是能量源(脉冲激光)位于真空室的外面。这样,在材料合成时,工作压力的动态范围很宽,达到 10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度,可以合成一系列具有独特功能的纳米结构和纳米颗粒。另外,PLD 是一种 “ 数字 ” 技术,在纳米尺度上进行工艺控制(?/pulse)。 Neocera Pioneer 系列 PLD 系统 — 基于优秀经验的创新设计 Neocera 利用 PLD 开展了深入广泛的研究,建立了获得 优秀 薄膜质量的临界参数,特别适用于沉积复杂氧化物薄膜。这些思考已经应用于 Pioneer 系统的设计之中。 • 很多复杂氧化物薄膜在相对高的氧压(100 Torr)下冷却可获得好的质量。所有 Pioneer 系统都具备此功能(压力范围可从额定初始压强到大气压)。这也有益于纳米粒子的生成。• Pioneer PLD 系统的激光束入射角为 45°,保持了激光密度在靶材上的最大均匀性,同时避免使用复杂而昂贵的光学部件。更大的入射角能够拉长靶材上的激光斑点,导致密度均匀性的损失。• 为了避免使用昂贵的与氧气兼容的真空泵,消除油的回流对薄膜质量的影响,所有 Pioneer 系统的标准配置都采用无油泵系统。• 我们的研究表明靶和基片的距离是获得优秀薄膜质量的关键参数。Pioneer 系统采用可变的靶和基片的距离,对沉积条件进行控制。 技术参数: 。作为完整 PLD 实验室解决方案供应商,我们还可提供:248nm 激光器(准分子、固体等),气体柜,激光。器和光学器件桌,以及光学器件等。• 带 * 的项目均可客户化。• 上述技术指标如有变更,恕不另行通知,详情见具体报价描述或者咨询销售工程师。 离子辅助沉积 ( IBAD )高性能的离子辅助沉积系统离子辅助沉积已经成为在无规取向的基片或非晶衬底上沉积双轴结构薄膜的一种重要技术。Neocera 开发了离子辅助的PLD 系统,该系统将 PLD 在沉积复杂材料方面的优势与 IBAD 能力结合在一起。 无定形和多晶衬底上单个类单晶薄膜的沉积 离子辅助PLD沉积原理示意图 结果和最佳理论值吻合 连续组成扩展 ( CCS )连续组成扩展功能(CCS)可在单次沉积中沉积很多不同组分的材料,大大缩短了沉积不同组分材料合成新材料的时间,实现合成材料组分的优化。PLD-CCS 系统能以连续的方式改变材料,没有必要使用掩模。可以在每一次循环中,以小于一个单分子层的速率,快速连续沉积每一种组份,其结果是类似于共沉积法。该法无需在沉积后进行退火促进内部扩散或结晶,对于生长温度是关键参数的研究或者被沉积的材料或基片不适合高温退火的情况是非常有帮助的。Neocera 公司PLD 系统可在同一个系统上实现带有连续组成扩展功能(CCS-PLD)和标准型 PLD 功能。 PLD-CCS 三元连续组分扩散 PLD 原理示意图 三元模拟相图 In-Sn-Zn 氧化物相图解 激光分子束外延 ( Laser MBE )激光 MBE 是普遍采用的术语,该法是一种纳米尺度薄膜合成的理想方法,高真空下的 PLD 与在线工艺监测的反射高能电子衍射(RHEED)的联合应用,用户提供了类似于 MBE 的薄膜生长的单分子水平控制。 正确的设计是成功使用 RHEED 和 PLD 的重要因数RHEED 通常在高真空(10-6 torr)环境下使用。然而,因为在某些特殊情况下,PLD 采用较高的压力,差动抽气是必要的,维持 RHEED 电子枪的工作压力,同时保持 500 mTorr 的 PLD 工艺压力。同时,设计完整的系统消除磁场对电子束的影响是至关重要的。Neocera 激光 MBE 系统可以添加客户定制系统,比如超高真空激光衬底加热器,用于集成原位分析系统(XPS/ARPERS 等)。样品可以简单地从激光 MBE/PLD 系统传送到超高真空 XPS/ARPERS 系统。 激光 MEB 原理示意图 激光 MBE 计算机上的 RHEED 图案 RHEED 强度震荡曲线 脉冲电子束沉积系统(PED):PED-180 脉冲电子束沉积(Pulsed Electron Deposition)是高能脉冲 (100ns) 电子束 ( 约 1000 A,15 keV) 在靶材上穿透将近 1 um,使靶材快速蒸发形成等离子体。对靶材的非平衡提取(烧灼)使等离子体的组成与靶材的化学计量组成一致。在优秀条件下,靶材的化学计量与沉积薄膜的保持一致。所有的固态材料如金属、半导体和绝缘体等都可以用 PED 技术沉积各自的薄膜。 独立的交钥匙脉冲电子束沉积系统 PED• 外延薄膜沉积,多层异质结构(heterostructures)与超晶格• 氧化物薄膜沉积时氧气兼容• 升级选项:离子辅助 PED, 连续组份沉积 PED, 进样系统 load-lock• 可附加的沉积源:脉冲激光与射频 / 直流溅射• 集成 XPS/ARPES UHV 集群系统,原位高真空基片传送系统 PED 沉积的代表性材料示例• 高温超导 (HTS) YBCO( 和 GdBCO) 薄膜• 顺电 (Ba-SrTiO3) 薄膜• 金属氧化物 (SrRuO3) 薄膜• 隔热 / 音玻璃 (SiO2) 膜和 Al2O3 膜• 聚四氟乙烯 (PTFE) 薄膜 PED-180 系统的技术指标
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  • 作用:配合示波器使用,用于检测计量快速瞬变脉冲群模拟器的输出波形,具备良好的性能和测试精度,能与所有脉冲群发生器兼容。 标称衰减量:60dB (HMC500),54dB (HMC1000)标称电压比:500:1 (HMC500),1000:1 (HMC1000)阻抗HMC500 输入50Ω @ 输出50ΩHMC1000 输入1000Ω @ 输出50Ω
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  • 1.主要应用领域:HS05C测氡仪是携带式、智能化、新一代辐射防护检测仪表。它基于常温常压空气脉冲电离室,实现氡及其子体的探测,实现空气中氡浓度的快速测量。由于空气脉冲电离室对Rn222、Po218、Po214衰变参数的α射线形成4π角度探测,因此响应速度快,探测效率高,测量灵敏度高,实现环境氡浓度的快速测量或连续累积测量。由于空气脉冲电离室氡极其子体信号的探测基本不受空气温度湿度影响,因此具有准确性高、测量数据稳定等特点,在众多对空气氡探测方法中,电离室测氡性能最为理想,目前电离室测氡是国际上标准氡室通用基准测氡方法。产品的主要应用领域:HS05C型:内置气泵,流气式快速取样,扩散式跟踪,主要应用于空气氡的瞬时测量,主要应用于环境检测领域的空气氡快速检测。➢空气中氡浓度测量➢材料表面氡析出率测量➢土壤表面氡析出率测量由于电离室对振动敏感,有振动场合不宜采用,因此本产品只适合静止状态下对环境氡的连续监测。标准适合性:◆GB/T50325-2020《民用建筑工程室内环境污染控制规范》-泵吸脉冲电离室法;◆GB/T18883-2022《室内空气质量标准》即将颁布,脉冲电离室法;◆HJ1212-2021《环境空气中氡的标准测量方法》,脉冲电离室法;◆GB/T16146-2015《室内氡及其子体控制要求》;◆GBZ/T182-2006《空气氡及其衰变产物测量规范》; ◆T/CECS569-2019《建筑室内氡检测方法标准》,GB50325-2020引用的标准;2.HS05测氡仪优点◆体积小(φ90*252mm),重量轻(1.6kg),便于携带;◆灵敏度高,测量数据稳定,对比RAD7测氡仪,约是其5倍灵敏度;◆相对闪烁瓶测氡而已,响应速度更快;◆相对闪烁瓶和半导体而言,探测器不需要避光;◆相对于半导体而言,温湿度影响小,测量数据更稳定;◆电离室是标准氡室基准所采用的氡气测量用探测器;◆可安装在通用相机架上,满足标准规定现场工作取样0.8-1.5米高度要求;3.HS05C技术指标➢探测器:常温常压空气脉冲电离室,灵敏体积为0.44L;➢检测对象:222Rn、220Rn及其子体(混合);➢其它参数:温度、湿度同步测量⚫温度:精度0.5℃;⚫湿度:精度3%RH;➢防干扰:电路硬件振动屏蔽功能,防止干扰信号被记录;软件采用特殊滤波算法,增加响应能力和抗偶然振动能力;➢灵敏度:1cpm≈30Bq/m3;(也即≈1.23cpm/pCi• L-1)➢探测下限:2Bq/m3(60分钟测量周期);➢测量范围:2-30,000Bq/m3;➢不确定度(测量误差):≤10%(K=2);➢测量周期:快速(10分钟)、中速(20分钟)、中速(30分钟)、慢速(60分钟)三种设置;➢取样方式:内置泵流气式取样(2分钟12个气体交换其体积); ➢响应能力(90%):20分钟(流气式)➢恢复能力(10%):120分钟➢打印存储:自动保存65536次测量数据;支持现场蓝牙打印;➢通信接口:USB接口和蓝牙接口➢显示操作:OLED显示,可按钮设置;➢电源:3.7V/9Ah➢功耗:100mW,能连续工作16天(内置泵不工作);➢工作条件:-18℃-50℃,相对湿度≤95%(无冷凝水);➢主机重量:约1.6Kg;➢主机尺寸:φ90*252mm(长)(HS05C);➢现场安装:配安装支架;
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  • 6Gs/s高速脉冲采集卡——飞行时间测量Ndigo6G-12是一种用于采集短脉冲的混合ADC/TDC高速脉冲采集卡。高速脉冲采集卡结合了一个四通道瞬态记录器和一个四通道时间间隔分析仪。Ndigo6G-12特别适合于飞行时间应用(TOF系统),如激光雷达、飞行时间质谱、时间分辨单光子计数(TCSPC)、多光谱飞行时间成像、荧光寿命成像显微镜(FLIM)等。结合脉冲形状信息(如面积或幅度),脉冲到达时间的测量精度可低至5ps。4个通道,1600 Msps, 12位分辨率,可以独立记录或与两个或一个通道(s)组合,具有高达6400 Msps的更高动态范围。此外,Ndigo6G-12还包括4个分辨率为13 ps的TDC通道。高速脉冲采集卡产品特色:消零:检测超过一定阈值的脉冲,只获取相关数据,以大量减少需要复制和分析的数据量高速脉冲采集卡可配置直流偏置:当获取单极脉冲时,将基线移到ADC范围的边缘,使动态范围翻倍。灵活的效用函数:大量有用的细节可以帮助您使用蕞少的外部组件创建高度集成的设置。集成TiGer计时模式发生器可以提供数字脉冲模式来控制您的实验或内部触发器。使用门和否决函数与我们的门控逻辑。这也适用于跨通道或从一个灵活的触发矩阵的额外数字输入。高速脉冲采集卡指标参数:ADC通道 4TDC通道 4门控通道4接口6x Lemo 00单通道采样率6.4 Gsps多通道采样率1.6Gsps分辨率12 bits蕞大带宽TBDTDC bin宽 12 psTDC 双脉冲分辨率 typically 4ns多次击发unlimited组间死时间noneTDC读出速率 30 MHits/sADC读出速率 6000 MBytes/s测量范围106 d常规 start/stop yes / yes同步板卡总数8读出总线PCIe3 x8时间基准50 ppb on board or external 10 MHz clock板载数据存储校准●触发窗口可调节●允许事件重叠●易用的Windows C API ●系统内固件更新●Linux支持 ●高速脉冲采集卡应用领域:FLIM荧光寿命成像显微激发荧光团的衰变时间通常在几纳秒的范围内。在荧光寿命成像中,样品的指数衰减需要皮秒范围内的时间分辨率来确定。LIDAR激光雷达激光雷达系统发射紫外线、可见光或近红外光来成像物体,并测量反射光子的飞行时间(TOF)。这种系统用于许多不同领域的目标检测和跟踪,从考古学到农业,自动驾驶汽车和机器人等。OTDR光时域反射在光学时域反射测量中,通过测量从光纤的同一端有多少光通过瑞利后向散射返回或从沿光纤的各个位置反射来确定反射时间。TOF质谱在许多TOFMS单元中,使用TDC来精确测量单个离子的到达。从到达时间推算出离子的飞行时间,由此可以确定被探测粒子的质荷比。TDR时域反射TDR (Time Domain refltometry)是一种测量沿导体反射的电子测量方法。它属于距离故障(DTF)测量的范畴。TDR测量提供了有关传输系统宽带行为的有意义的信息。FLCS荧光寿命相关光谱荧光相关光谱是一种高灵敏度的光学测量方法。在荧光发射强度随时间的波动被记录,这是由通过检测体积的单个荧光团引起的。更多详情请联系昊量光电/欢迎直接联系昊量光电关于昊量光电:上海昊量光电设备有限公司是国内知名光电产品专业代理商,代理品牌均处于相关领域的发展前沿;产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、精密光学元件等,涉及应用领域涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国防及更细分的前沿市场如量子光学 、生物显微、物联传感、精密加工、激光制造等;可为客户提供完整的设备安装,培训,硬件开发,软件开发,系统集成等优质服务。您可以通过我们昊量光电的官方网站www.auniontech.com了解更多的产品信息,或直接来电咨询4006-888-532。
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  • 名称:脉冲强光杀菌设备英文名称:Pulsed Light Power Sterilization Equipment品牌:Pulselight型号:FD2000产地:荷兰1.脉冲杀菌系统产品简介脉冲强光杀菌是一种新型非热杀菌技术,采用瞬时释放出的高强度脉冲光能作用于目标微生物,在光热和光化学效应的共同作用下,微生物自身被瞬间加热而出现细胞破裂,从而杀灭食品和包装上各类微生物,有效保持食品质量,延长货架期。这种技术与传统的杀菌方法相比,具有处理时间短、操作控制方便、不与物料和器械直接接触、无化学污染等优点,可在短时间内大幅度降低微生物菌群数量,有效杀死食品表面的致病菌和腐*菌,无化合物残留,对食品品质破坏小。 2.工作原理脉冲强光杀菌设备瞬时释放出的高强度脉冲光能导致细胞壁磨损甚至部分蒸发,微生物自身被瞬间加热而出现细胞破裂,从而达到杀灭食品和包装上各类微生物的作用。3.产品优势(1)新一代非热杀菌技术(2)易于集成到现有的生产线中(3)触屏操作面板可调节光源与传送带间距与传送带速度(4)广谱杀菌,不会对食品的色泽、口感和营养价值产生负面影响(5)闪光能量高,穿透力强,杀菌效果好(6)安全,产品通过CE认证 4.技术参数(部分)(1)闪光能量1850焦耳/闪光(2)闪光频率1闪光/秒5.应用领域肉制品/乳制品/海产品/新鲜果汁/酱料/调味品/即食小吃/食品包材/所有由微生物引起食品安全及品质问题之处 6.应用案例1. 果酱、果干等即食小吃杀菌实验结果客户案例:Oliva Tapas & More委托第三方检测结果,并因此购买了2台表1. 暴露于单增李斯特菌的Oliva产品的检测结果(Bos,2016) 表2. 暴露于沙门氏菌的Oliva产品的检测结果(Bos,2016) 2. 植物致病真菌防治实验结果表3.一或两次闪光下、不同光源距离脉冲强光处理下镰刀菌的减菌效果 3. 鸡蛋保鲜实验结果针对鸡蛋表面微生物污染,经过脉冲强光处理后,鸡蛋感官品质、营养物质以及蛋壳的完整性得以保持。研究表明,细菌的减少在2.3到3.8 Log之间(Hock et al. 2018)。 图1. 经UV- c(白色条)和脉冲UV(灰色条)光处理干净鸡蛋上沙门氏菌的减少情况注:被沙门氏菌污染的鸡蛋用蒸馏水清洗后,用UV-C和脉冲紫外线处理结果 图2. 蛋壳表面经紫外光处理后的扫描电镜观察图(A)0.6 J/cm2 (10 mW/cm2, 60 s)的UV-C光处理 (B)脉冲紫外线处理,10.8 J/cm2 (C)未经处理的控制4. 蘑菇经脉冲强光照射维生素D含量增加实验结果脉冲强光也可以用来改善饮食营养。脉冲强光可作为一种快速增加新鲜蘑菇中维生素D含量的方法。在每秒三次脉冲后,每份超过了维生素D2每日推荐摄食量99.99%水平。 图3. 脉冲强光处理的新鲜白蘑菇切片(双孢蘑菇)维生素D2含量以3次脉冲递增(3次脉冲=1 s暴露时间)误差条表示标准差,字母相同的平均值无统计学差异(p0.05)。 图4. 新鲜白色和棕色双孢菇以切片或整体的形式接受脉冲强光处理后(3次脉冲=1 s曝光时间)维生素D2含量变化(对照组蘑菇不接受脉冲光照射)小写字母相同的平均值差异无统计学意义(p0.05)。对照组蘑菇维生素D2含量分别为0.0106μg / g棕色品种,0.265μg / g白色品种。7.用户举例西北农林科技大学 ,荷兰OLIVA,great mall 等新型食品行业。
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  • DJ—6-A型脉冲电火花检漏仪一、概述:DJ—6-A型脉冲电火花检漏仪为高压仪器,是用于检测金属防腐涂层质量的专用仪器,使用本仪器可以对不同厚度的搪玻璃、玻璃钢、环氧煤沥青和橡胶衬里等涂层,进行质量检测。当防腐层有质量问题时,如出现针孔、气泡、裂隙和裂纹,仪器将发出明亮的电火花,同时声音报警、光报警。由于是用镍氢电池供电、体积小、重量轻,故特别适用于野外作业。该仪器设计先进,稳定可靠,可广泛用于化工、石油、橡胶、搪瓷行业,是用来检测金属防腐涂层质量的必备工具。二、主要技术性能:1、适用检测厚度:20um~1.5mm(也可根据用户需要提供检测防腐层在1.5mm以上的仪器)2、输出高压:600v~8000v(无级连续可调)3、输出高压值直接指示4、电池:12V/2800mA5、消耗功率:约3W6、主机体积:220 × 130 × 88 mm37、背景光8、瞬时开机,自动断电关机9、3位液晶显示输出电压,全触摸面板10、报警:耳机、峰鸣器双报警,LED光报警三、配置:⑴ DJ—6-A型脉冲电火花检漏仪主机    1台⑵ 高压探棒               1支⑶ 探刷(平刷/直刷)       2支⑷ 连接杆 1支⑸ 耳机 1支⑹ 背带 1条⑺ 保险丝 2支⑻ 使用说明书             1份⑼ 仪器保修卡 合格证       1份⑽ 探棒连线             1根⑾ 接地线              1根⑿ 充电器              1个⒀ 接地棒 1个⒁ 铝合金包装箱 1个注:可根据用户要求订做各种规格的环形探极、环形刷。
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  • 东亚DKK 脉冲喷气检测器PHCG-7D/PHCG-95D◎ 该探测器包括适用于可更换式 pH/ORP 电极头的浸入式支架和性能强大的脉冲喷气清洗器◎ 脉冲喷气清洗器可以发出脉冲喷射压缩空气,利用大量气泡有效去除电 极上的污垢 ◎ 可提供适用于深槽罐的插入型检测器 (PHCG-95D) 每个过程监控环境都将具有独特的要求,包括电极的传感器配置(包括潜水式流通池),系统压力和电压要求,室内/室外应用,数据记录要求以及电极维护问题。 了解您要进行的特定测量的所有参数非常重要。如果您需要其他信息,请在联系时提供所有这些信息,以便能够处理您的请求。
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  • 离子计 氟离子 IM2021-1 400-860-5168转4433
    离子计IM2021-1介绍离子计IM2021-1的用途离子计是用于测量溶液中离子浓度的电化学分析仪器。在日常检测中,酸度计(或PH计)也属于离子计的一种,主要是测量溶液的H+浓度。氟含量对水泥性能的影响根据水泥熟料配料方案和煅烧状况不同,以及掺加混合材种类和含量不同,因此水泥的初终凝时间也不相同。微量的氟会引起水泥较长时间的缓凝,氟对水泥的凝结时间的影响主要是与水泥的水化产生的氢氧化钙反应生成难溶性的氟盐,因此导致水泥的凝结时间延长。因此,准确测定水泥等其他原材料中的氟离子含量,对于水泥的质量有着至关重要的作用。离子计在水泥中的应用GB/T 176-2017《水泥化学分析方法》中氟离子的测定方法是离子选择电极法,该方法原理是待测试样经过酸溶变成液体,调节酸度定容后,测定溶液中的电位值,在标准工作曲线上查得氟离子的含量。该方法还可用于水泥生料、熟料、石膏等其他原材料中氟离子含量的测定。IM2021-1离子计考虑到水泥生产企业的使用需求,为更好提高我国水泥产品质量。IM2021-1型离子计仪器操作便捷,内置pH测量、氟离子测定程序,一键拟合曲线,并带有磁力搅拌功能,人机互动简便,广泛应用于水泥企业、质检机构及科研院校等单位。仪器特点1、整机外观精致,配合7寸触屏,UI界面一目了然2、具有计时搅拌功能,并可自定义搅拌时间、速度3、具有计算功能,输入质量,测量后自动计算出含量4、具有保存功能,可保存曲线方程和测量数据5、具有pH功能,通过校正,可测量溶液中的pH值主要技术参数1、电源:220V,100W2、酸度:0.00~14.003、范围:-1999.9 mV ~1999.9mV4、工作温度:5~40℃5、分辨率:pH 0.01仪器配置清单1、 IM2021-1主机 一台2、 电源线 一根3、 pH复合电极 一支4、 参比电极 一支5、 氟离子电极 一支6、 标准样品 一瓶7、 搅拌子 两只8、 说明书、合格证 一份9、 pH缓冲试剂 一套
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  • COM-3700空气离子计数器大型离子计数器5.3800 ~ 0.00269 c㎡/V・ sec (2000电动移动性) 地震预报空气离子测量仪 地震预测的原理是(假设)当地壳受到板块运动的压力时,地壳会产生微小的裂缝,放射性气体从那里释放到大气中。放出的氡气一边上升扩散一边生成大量的离子。释放氡气的同时在持续承受压力的地方发生地震。测定生成氡气的大气离子可以预测地震。COM-3700高效传感器可以测量自然环境中存在的正离子和负离子。产生离子的各种产品的离子测量。室内离子分布。为了将其应用于各种领域,如自然环境的离子测量,个人计算机输出具有。COM-3700PRO规格测量系统Gerdien电容器法测量有两种测量模式,自动测量和手动测量,它根据用途进行选择,并且可以测量。■ 自动测量:自动测量正离子和负离子,并进行测量值的显示输出。■ 手动测量:分别测量正离子和负离子,并进行测量值的显示输出。时基范围正离子,负0-5000000个/cc测量范围:R1=0-8000离子/立方厘米R2=0-50000离子/立方毫米R3=0-500000离子/立方厘米R4=0-5000000离子/立方毫米用于指示的显示器字符16图形两行液晶用于指示STN系统液晶的显示器,以及带有ON/OFF控制设施的背光时钟功能使用内置时钟,它在年、月和天的时间和每秒钟的功能。记忆功能
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  • 弹性模量测试仪 通过合适的外力给定试样脉冲激振信号,当激振信号中的某一频率与试样的固有频率相一致时,产生共振,此时振幅最大,延时最长,这个波通过测试探针或声学传感器的传递转换成电讯号送入仪器,测出试样的固有频率,由公式计算得出杨氏模量E、剪切模量G及泊松比U。弹性模量测试仪 符合标准ASTM E1876-2015 Standard Test Method for Dynamic Young’s Modulus, Shear Modulus, and Poisson’sRatio by Impulse Excitation of Vibration;ASTM C1259-14 Standard Test Method for Dynamic Young’s Modulus, Shear Modulus, and Poisson’s Ratio for Advanced Ceramics by Impulse Excitation of Vibration;JC/T 2172-2013 精细陶瓷弹性模量、剪切模量和泊松比试验方法 脉冲激励法;GB/T 5594.2-85 电子元器件结构陶瓷材料性能测试方法 杨氏弹性模量 泊松比测试方法;BS ISO 20343:2017(E) Fine ceramics (advanced ceramics,advanced technical ceramics)- Test method for determining elastic modulus of thick ceramic coatings at elevated temperature;GB/T 30758-2014 耐火材料 动态杨氏模量试验方法(脉冲激振法);ASTM C 1548-02 Standard Test Method for Dynamic Young’s Modulus, Shear Modulus, and Poisson’s Ratio of Refractory Materials by Impulse Excitation of Vibration;ISO12680-1 耐火材料动态杨氏模量试验方法-脉冲激振法弹性模量测试仪 技术参数测试方法:脉冲激振法测量范围:1~1000GPa (可通过改变试样尺寸适当扩大量程)测量项目:杨氏模量、剪切模量、泊松比及阻尼比测量误差: ±0.5% 频率范围:20~22000Hz频率精度:0.1HZ灵敏度 (mV/Pa): 1 mV/Pa采样率:44.1k/48k/88.2k/96k/176.4k/192k Hz输入阻抗:1.8KΩ试样形状:长条状试样尺寸:长度 (30~200)mm;宽度(2~60)mm 长度/高度≥5弹性模量测试仪 仪器特点l 无损检测,测后试样可用于其它测试;l 非接触式检测,不需要与试样耦合,测后试样表面洁净;l 不需连续输出频率从小到大的正弦波信号给发射探头(此处采用国际推崇方法);l 测试准确,操作简单、快速;l 可直观观察材料的共振峰,也可同一界面观察谐振峰(如果试样有层裂、大的缺陷时会出现谐振峰);l 采用进口高精度、稳定性好的传感器与数据处理器;l 采用国外先进软件,数据分析精度高,操作界面友好。
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  • 简介:ALPHAGUARD P2000F是一款脉冲电离室测氡仪,主要用于现场快速或者连续长期高精度测量氡气活度Rn222 和钍射气活度Rn220。由于杰出的稳定性和高灵敏度,它被公认为经典的测氡实验室计量传递仪器。全世界几乎所有的主要氡室都使用ALPHAGUARD 测氡仪作为最重要的参考仪器。配合其他的附件,它也可以用于多种自然条件下的测量,如空气,水和土壤,析出率测量和氡子体测量等。特点:l 氡、钍测量的世界级参比设备l 高灵敏度、高精确度,灵敏度比静电法仪器(PIPS 探测器)高8-15 倍。l 无湿度效应,无须干燥管除湿l 脉冲电离室测氡无累积效应,可快速适应高低动态变化l 操作简单,响应快,适合现场使用l 稳定性极佳,刻度因子至少5 年无须改变l 用内置电池可自动工作10 天(40 天备选)l 自动存储4800 个数据l 经数十年的验证证明,无论在矿山还是实验室都坚固耐用,确保长期无故障运行。l 使用DataExper 软件输出结果l 便携式仪器,重量约4.5 公斤l 可选配析出率(含自动计算软件)、土壤、水氡配件技术参数:l 探测器:电离室,HV=750V;体积:0.62Ll 使用α谱仪测量,灵敏度在100Bq/m3氡气浓度情况下,计数为5cpml 测量范围:2Bq/m3 ~ 30,000Bq/m3(可选2,000,000 Bq/m3)l 测量周期:10 分钟或者60 分钟l 存储器:存储20 天的测量数据(10分钟测量周期的数据)l 传感器:内置温度、压力和相对湿度传感器l 尺寸:175×615×120mm3 l 重量:4.5 kgl 电源:网电或者电池(≥10 天)
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  • PLD脉冲激光沉积系统 400-860-5168转4967
    脉冲激光沉积系统-PLD型号:AP-PLD230 脉冲激光沉积系统(PLD)是将脉冲激光导入真空腔内照射到成膜靶上,靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态,然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。PLD方法可以获得拥有热力学理论上准稳定状态的组成和构造的人工合成薄膜材料。 我们PLD系统拥有最好的性能价比, 用户用最少的钱买到研究级高性能的纯进口PLD系统。技术参数配置:1.靶: 数量6个,大小1-2英寸,被激光照射时可自动旋转,靶的选择可通过步进电机控制 2.基板:采用适合于氧气环境铂金加热片,大小2英寸,加热温度可达1200摄氏度,温度差3%,加热时基板可旋转,工作环境最大压力是300mtorr 3.基板加热电源,最高到1200度 4.超高真空成膜室腔体:不锈钢sus304材质,内表面电解抛光,本底真空度5e-7 Torr 5.样品传输室:不锈钢sus304材质,内表面电解抛光,本底真空度5e-5 pa 6.排气系统:分子泵和干式机械泵 7.阀门: 采用超高真空挡板阀 8.真空检测:真空计 9.气路两套: 采用气体流量计控制 10.薄膜生长监控系统: 采用扫描型差分RHEED 11.监控软件系统:基板温度的监控和设定,基板和靶的旋转,靶的更换等 12.各种电流导入及测温端子 13.其它各种构造:各种超高真空位移台,磁力传输杆,超高真空法兰,超高真空密封垫圈,超高真空用波纹管等
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  • 奥远HPG系列高压脉冲电源1)产品简介:HPG系列电压脉冲电源是奥远电源的主营产品系列之一。根据订购型号的不同,奥远HPG电压脉冲电源可产生高达±950V至±10000V的快速高压脉冲。同时,HPG系列电源针对高阻抗电容负载进行了优化,非常适合驱动推斥极和偏转电极,以对飞行时间质谱仪和加速器中的粒子束进行静电调制。其坚固而通用的设计也使其非常适合用于脉冲或选通功率管栅、普克尔斯盒和 Q 开关、声换能器、微通道板、光电倍增管和图像增强器。奥远HPG系列电压脉冲发生器依靠其卓越的脉冲保真度,将持续优化使用它的任何系统的性能。2)产品特性• 根据订购型号不同,可产生0至正负10000V脉冲输出• 优秀的上升沿与下降沿时间、脉冲宽度以及脉冲重复频率• 经过优化驱动偏转,电网和其他容性负载防止高压 拉弧放电,短路和电路负载瞬变• 集成LED电平指示、输出电压、电流实时监测等功能3)典型应用飞行时间质谱仪 / 微通道板 / 激光器Q-开关 / 像增强器 / 普克尔盒驱动电源 ......4)型号选择:——(1)HPG-1K 双输出高压脉冲模块• 可同时输出正0至±950V脉冲电压• 1900V差分输出• 25ns 上升沿与下降沿时间• 50ns 至DC脉冲宽度• 20KHz 脉冲重复频率• 内部集成高压电源——(2)HPG-1K5 脉冲发生器 • 0至±1500V脉冲输出• 25ns 上升沿与下降沿时间• 60ns 至 DC 脉冲宽度• 240KHz 脉冲重复频率• 经过优化驱动偏转,电网和其他容性负载• 防止高压拉弧放电,短路和电路负载瞬态• 带LED电平指示器 输出电压、电流实时监测 ——(3)HPG-3K5 脉冲发生器• 0至±3500V脉冲输出• ≤25ns 上升沿与下降沿时间• 60ns 至 DC 脉冲宽度• 30KHz 脉冲重复频率• 经过优化驱动偏转,电网和其他容性负载• 防止高压拉弧放电,短路和电路负载瞬态• 带LED电平指示器,输出电压、电流实时监测 ——(4)HPG-6K 脉冲发生器• 0至±6000V脉冲输出• 60ns 上升沿与下降沿时间• 150ns 至 DC 脉冲宽度• 10KHz 脉冲重复频率• 经过优化驱动偏转,电网和其他容性负载• 防止高压拉弧放电,短路和电路负载瞬态• 带LED电平指示器,输出电压、电流实时监测 ——(5)HPG-8K 脉冲发生器• 0至±8000V脉冲输出• 60ns 上升沿与下降沿时间• 200ns 至 DC 脉冲宽度• 经过优化驱动偏转,电网和其他容性负载• 防止高压空气击穿放电,带短路和电路负载瞬态保护• 带LED电平指示,输出电压、电流实时监测 ——(6)HPG-10K 脉冲发生器• 0至±10000V脉冲输出• 60ns 上升沿与下降沿时间• 200ns 至 DC 脉冲宽度• 经过优化驱动偏转,电网和其他容性负载• 防止高压空气击穿放电,带短路和电路负载瞬态保护• 带LED电平指示,输出电压、电流实时监测 ————————————————————————————————————————————————————————————————————有关大连奥远电源及其更多产品的信息,请致电 / 进行咨询,或访问网站:大连奥远电源有限公司是大连奥远集团旗下的专门从事集高压电源行业研发、生产、销售于一体的高新技术企业。公司自主研发的高压脉冲电源、高压射频电源和高压直流电源,一直与大连化物所等多家科研机构及行业一流厂商进行业务合作,得到客户的一致好评。公司历时多年所研发出的高压直流电源也已获得质谱仪生产行业厂商的高度评价。大连奥远电源主推高压直流、高压脉冲、高压运算放大器、射频电源,以及相关的OEM定制,着力为客户解决根本问题。当前公司主要推广全系列的质谱仪器电源,以及相关解决方案,致力于以质谱仪电源为原点,慢慢向X光电源,高压运放芯片设计,FIB,EBM等领域进发。凭借多年的技术积累以及研发投入,奥远电源实现了在高压电源领域的突破,产品性能指标比肩行业顶尖厂商水平,并且在价格上极具竞争力,是OEM应用的理想选择。大连奥远电源有限公司地址:辽宁省大连市高新技术产业园区火炬路32号联系电话: / 联系人:谷经理
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  • 脉冲选择器/脉冲选择系统/脉冲拾取器所属类别: ? 调制器 ? 电光调制器/电光Q开关 所属品牌:美国ConOptics公司 脉冲选择器产品简介应用最广的飞秒脉冲选择系统(激光降频装置) 关键字:脉冲选择器,脉冲选择系统,脉冲拾取器,激光降频器,激光降频装置,Pulse selection,pulse picker Conoptics公 司生产的脉冲选择器,在其成熟的光电调制器产品系统上,添加了信号同步系统,此款脉冲选择器更加适合在钛宝石飞秒激光器脉冲选择中使用,也使得作为光脉冲 选择系统更加便捷——只需在相应刻度盘上选择就可达到相应脉冲选择需求,此款脉冲选择器系统就可自动快捷实现脉冲选择。此款脉冲选择器系统最可实现0-80Mhz重频可调。(此款脉冲选择器系统最高可实现0-100Mhz重频可调) 脉冲选择器重点参数: 脉冲选择器效果示意图: 分享到 : 人人网 腾讯微博 新浪微博 搜狐微博 网易微博 脉冲选择器相关产品 ConOptics低压电光调制器 激光脉冲选择器(控制电路) 用于双光子显微镜的电光调制器系统 铌酸锂(LiNbO3)电光强度调制器 铌酸锂(LiNbO3)偏振开关/偏振切换器
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  • PLD脉冲激光沉积系统 400-860-5168转1729
    仪器简介:Ion Beam Assisted Deposition (离子辅助沉积) 离子辅助沉积已经成为在无规取向的基片或无定形基片上沉积双轴结构薄膜的一种重要技术 高性能的IBAD(离子辅助沉积)系统 离子辅助沉积已经成为在无规取向的基片或无定形基片上沉积双轴结构薄膜的一种重要技术。Neocera开发了离子辅助的PLD系统,该系统将PLD在沉积复杂材料方面的优势与IBAD能力结合在一起。得到无人伦比的技术专家知识的支持Neocera离子辅助的PLD系统会得到重要应用经验的支持。系统开发结合了Neocera的工程和工艺经验,保证了最大的用途和工艺性能。 利用离子辅助的PLD, Neocera在柔性多晶yttria稳定的YSZ基片上,开发了具有下列性能的双轴结构的YBCO薄膜: l X-ray F-scan full width at half maximum of ~7° l 转变温度Tc在88-89K,转变宽度DTc约为约为0.5 K l 77 K零场强时,临界电流密度Jc范围 1.5&mdash 2x106 A/cm2 l 77 K时,磁深入深度l: 284nm l 77 K,10G时,表面电阻Rs等于700mW Continuous Composition Spread (连续组成扩展) 一种基于脉冲激光沉积的、组合材料合成的新型连续组成扩展(CCS)方法。 经济的组合合成 组合合成是材料科学中最激动人心的最新进展。在一次镀膜实验中,生产多种不同材料组成的能力,大大的提高了获得具有期望材料性能的最佳组成的速度。然而,现有组合合成系统的高成本对绝大多数研究预算来说都是不切合实际的。 得到Neocera PLD经验的支持 Neoceora已经应用我们丰富的PLD和开发性能可靠的经济型设备的经验,发明了PLD-CCS(脉冲激光沉积-连续组成扩展)系统。PLD-CCS受益于多层薄膜沉积的方便性和PLD工艺能在基片上改变二元,假二元,或三元体系的组成这一固有特性。 常规沉积条件下的组合合成 PLD-CCS能以连续的方式,而不是间隔的方式改变材料,没有必要使用掩模。这就允许在每一次循环中,以小于一个单分子层的速率,快速连续沉积每一种组份,其结果是基本等同于共沉积法。事实上,该法无需在沉积后进行退火促进内部扩散或结晶,对于生长温度是关键参数的研究或者被沉积的材料或基片不适合高温退火的情况是有用的。 Laser MBE (激光分子束外延) 一种纳米尺度薄膜合成的理想方法,PLD和原位高压RHEED的结合, 为单分子水平上的薄膜生长提供了精确控制。 使用激光MBE是纳米技术研究的理想工具 激光MBE是普遍采用的术语,定义了高真空下的PLD与在线工艺监测的反射高能电子衍射(RHEED)的联合应用。该法为用户提供了类似于MBE的薄膜生长的单分子水平控制。随着更多的PLD研究受到纳米技术的驱动,激光MBE变得对用户更加有益。 正确的设计是成功使用RHEED和PLD的重要因数 RHEED通常在高真空(10-6 torr)环境下使用。然而,因为在某些特殊情况下,PLD采用较高的压力,差动抽气是必要的,维持RHEED枪的工作压力,同时保持500 mTorr的PLD工艺压力。同时,设计完整的系统消除磁场对电子束的影响是至关重要的。 Neocera的激光MBE系统为用户在压力达到500mTorr时所需的单分子层控制。技术参数:一种用途广泛的、用于薄膜沉积和合成纳米结构和纳米粒子的方法。 PLD是一种复杂材料沉积的创新方法 激光脉冲镀膜(PLD)是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材,生成与靶材组成相同的薄膜。PLD的独特之处是能量源(脉冲激光)位于真空室的外面。这样,在材料合成时,工作压力的动态范围很宽,达到10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度,可以合成一系列具有独特功能的纳米结构和纳米颗粒。另外,PLD是一种&ldquo 数字&rdquo 技术,在纳米尺度上进行工艺控制(A° /pulse)。 Neocera Pioneer系列 PLD系统 &mdash 基于卓越经验的有效设计 Neocera利用PLD开展了深入广泛的研究,建立了获得最佳薄膜质量的临界参数,特别适用于沉积复杂氧化物薄膜。这些思考已经应用于Pioneer系统的设计之中。 很多复杂氧化物薄膜在相对高的氧气压力(100 Torr)下冷却是有利的。所有Pioneer系统设计的工作压力范围从它们的额定初始压力到大气压力。这也有益于纳米粒子的生成。 Pioneer PLD系统的激光束的入射角为45° ,保持了激光密度在靶材上的最大均匀性,同时避免使用复杂而昂贵的光学部件。浅的入射角能够拉长靶材上的激光斑点,导致密度均匀性的损失。 为了避免使用昂贵的与氧气兼容的真空泵流体,消除担心油的回流对薄膜质量的影响,所有Pioneer系统的标准配置都采用无油泵系统。 所有的系统都可以按完整PLD实验室的方式获得,包括248nm激光器,激光气体柜,激光和光学器件台,光学器件包。 我们的研究表明靶和基片的距离是获得最佳薄膜质量的关键参数。Pioneer系统采用可变的靶和基片的距离,对沉积条件进行最大的控制。主要特点: Pioneer240 Pioneer180 Pioneer120 Pioneer80 最大wafer直径 4&rdquo 2&rdquo 1&rdquo 0.5&rdquo 最大靶材数量 6个1&rdquo 或3个 2&rdquo 6个1&rdquo 或3个 2&rdquo 6个1&rdquo 或3个2&rdquo 4个1&rdquo 压力(Torr) 10-8 10-6 10-6 10-6 真空室直径 24&rdquo 18&rdquo 12&rdquo 8&rdquo 基片加热器 4&rdquo ,旋转 3&rdquo ,旋转 2&rdquo , 平板 1&rdquo ,平板 最高样品温度 850 ° C 850 ° C 950 ° C 950 ° C Turbo泵抽速 (liters/sec) 800 260 260 70 计算机控制 包括 包括 包括 包括 基片旋转 包括 包括 - - 基片预真空室 包括 选件 选件 - 扫描激光束系统 包括 选件 - - 靶预真空室 包括 - - - IBAD离子束辅助沉积 选件 选件 选件 - CCS连续组成扩展 选件选件 - - 高压RHEED 选件 - - - 520 liters/sec 泵 a/n 选件 - -
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  • 优异的性能, PVD公司生产的脉冲激光沉积分子束外延系统在国内有较多用户,为众多老师开启薄膜外延制备的新篇章。欢迎前来参观咨询。主腔室,样品传输腔,1100度加热系统,样品旋转,PLD靶材操控器及光路,K-cell热蒸发源,电子束蒸发源,射频RF离子源PVD公司是美国主要制造商,是一家专业从事脉冲激光沉积分子束外延(PLD MBE)和超高真空薄膜沉积系统及组件的设计和制造的公司,提供超高真空薄膜沉积系统,应用于分子束外延、UHV溅射和脉冲激光沉积。产品主要集中在小型研究开发系统,其应用主要包括:用分子束外延进行半导体材料、ZnO、GaN、SiGe和金属/氧化物外延生长;UHV磁控溅射磁性薄膜;脉冲激光沉积超导薄膜、氧化物和陶瓷材料。脉冲激光沉积(PLD)系统通常使用聚焦脉冲准分子或Nd:YAG激光器在真空室中蒸发一小部分固体目标材料,以产生与原始目标材料具有相同化学成分的薄膜。PLD工艺能够在各种背景气体成分和压力下沉积许多复杂材料。此外,可以使用其他类型的激光器,包括ps和fs激光器,并且可以使用适当的激光器提供替代技术,例如矩阵辅助脉冲激光蒸发(MAPLE)和谐振红外脉冲激光蒸发系统。PVD 产品为尺寸从 5 mm 方形到 300 mm 的基板提供各种 PLD 系统。我们还可以为卷对卷应用提供PLD系统。PVD产品将很乐意协助您为您的特定应用选择合适的PLD工具。大多数系统完全由计算机控制,易于使用。应用主要包括:分子束外延系统(MBE)GaAs、InP和GaSb外延HgCdTe外延GaN、InN和AlN外延Ⅱ-Ⅵ族外延SiGe外延Si/金属/氧化物外延超高真空物理气相沉积(PVD)系统磁控溅射系统脉冲激光沉积(PLD)系统电子束蒸发系统离子束沉积系统热蒸发系统已经在全球范围内安装了超过100套的超高真空系统。绝大部分的产品都是针对用户定制设计复杂的沉积系统。在标准系统制造业中有着深厚的为用户定制设计的背景,在用户中具有很好的声誉。许多的标准系统最初都是起源于针对某些客户对沉积过程特殊需求的解决方案,与广大的中国用户开展更为广泛的交流与合作,为广大的中国用户提供国际顶尖PLD MBE和超高真空薄膜沉积系统制造商的产品和服务。
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