靶等离子溅射仪

【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌铬靶直径57mm x 3.2mm厚度Agar Scientific所有型号Cressington所有型号(308系列除外)【产品详情】离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材：铬靶产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌钯靶直径57mm x 0.1mm厚度Agar Scientific所有型号Cressington所有型号(308系列除外)Polaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620【产品详情】离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材：钯靶产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌银靶直径54mm x 0.2mm厚度Bal-Tec/Leica SCD005, SCD050, MED010, MED020【产品详情】离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材：银靶产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸120mm ? x 120mm H，高强度不锈钢结构（可选150mm x 165mm）样品台尺寸可放置12个标准钉形样品台，高度可在 60mm内调节溅射头低电压平面磁控管，靶材更换快速，环绕暗区护罩溅射靶材金（标配），铂，金/钯，铂/钯, 银等靶材尺寸直径57mm x 0.1mm 厚度溅射控制系统微处理器控制，远程电流/电压感应；最大电流40mA，程序化数字控制；提供真空安全联锁装置，配有过流保护；模拟计量真空 Atm - 0.001mb 电流: 0 – 50mA控制方式自动气体换气和放气功能，带有“暂停”控制的数字定时器（0－300s）机械泵2L/s工作媒介气体氩气，纯度最低99.9%工作电压220V, 50/60HZ膜厚监控仪（选配）通过6MHz石英晶体进行原位监控，显示纳米级厚度，可精确到0.1nm适用配套Zeiss, JEOL, Hitachi, FEI, Tescan, Phenom等扫描电镜 【产品详情】Agar 全自动喷金仪（离子溅射仪）为英国进口设备，操作简单，适用于扫描电镜样品制备，可喷金、铂、金/钯、铂/钯、银等。喷金仪使用小贴士：1）需要溅射喷金的样品a)第一类样品是电子束敏感的样品，主要包括生物样品，塑料样品等。SEM中的电子束具有较高能量，在与样品的相互作用过程中，它以热的形式将部分能量传递给样品。如果样品是对电子束敏感的材料，那这种相互作用会破坏部分甚至整个样品结构。这种情况下，用一种非电子束敏感材料制备的表面镀层就可以起到保护层的作用，防止此类损伤；b)另一类样品是非导电的样品，由于样品不导电，其表面带有“电子陷阱”，这种表面上的电子积累被称为“充电”。为了消除荷电效应，可在样品表面镀一层金属导电层，镀层作为一个导电通道，将充电电子从材料表面转移走，消除荷电效应。在扫描电镜成像时，溅射材料可以增加信噪比，从而获得更好的成像质量。2)溅射材料常用的溅射材料为金，导电性高。喷金仪的真空度越高，所溅射的金属颗粒越小，可以减少样品表面形貌失真的情况。当需要超高分辨率成像时，首选高真空喷金仪，同时还可以选用其他溅射材料，如：铬，铱等，溅射的晶粒更细小。此外，如果需要做EDS能谱分析的话，建议选择喷碳仪，因碳的X射线峰不会与其他元素的峰值发生冲突。产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌铂靶直径57mm x 0.1mm厚度直径57mm x 0.2mm厚度Agar Scientific所有型号Cressington所有型号(308系列除外)Polaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620铂靶直径54mm x 0.2mm厚度Bal-Tec/Leica SCD005, SCD050, MED010, MED020【产品详情】离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材：铂靶产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

离子溅射仪是对透射电镜及扫描电镜及样品进行离子刻蚀和涂复导电层的设备，主要用于对生物、有机物及金属样品溅射一层均匀而致密的金属膜供扫描电镜观察，亦可对各种样品进行离子刻蚀以及对透射电镜支持膜作亲水处理，以获得理想的实验表面。仪器操作简单方便，是配合中小型扫描电子显微镜制样必备的仪器。型号：MSP-10

【产品详情】PfeifferP3号油可有效改善真空泵性能，适用于离子溅射仪及喷碳仪设备所配备的真空泵，尤其是Agar所有型号的离子溅射仪及喷碳仪的真空泵。【产品参数】技术参数Pfeiffer P320℃蒸汽压/mbar6.6×10-515℃的比重0.8725℃的粘度210 cs40℃的粘度94 cs流动点-15℃闪点264℃极限压力1×10-3mbar产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌金靶直径57mm x 0.1mm厚度直径57mm x 0.2mm厚度Agar Scientific所有型号Cressington所有型号(308系列除外), JEOL型号JFC-1200, JFC-1300, JFC-1400, JFC-1600, JFC-2300HRPolaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620金靶直径54mm x 0.1mm厚度直径54mm x 0.2mm厚度Bal-Tec/Leica SCD005, SCD050, MED010, MED020【产品详情】离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材：金靶产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌镍靶直径57mm x 0.1mm厚度Agar Scientific所有型号Cressington所有型号(308系列除外)Polaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620镍靶直径54mm x 0.2mm厚度Bal-Tec/Leica SCD005, SCD050, MED010, MED020【产品详情】离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材：镍靶产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

为了能更好的对FIB和离子溅射仪的 离子枪的参数进行测试，推出了FIB 和离子溅射仪标样。

【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌铂钯靶直径57mm x 0.1mm厚度直径57mm x 0.2mm厚度Agar Scientific所有型号Cressington所有型号(308系列除外)Polaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620铂钯靶直径54mm x 0.2mm厚度Bal-Tec/Leica SCD005, SCD050, MED010, MED020【产品详情】离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材：铂钯靶产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌金/钯靶直径57mm x 0.1mm厚度直径57mm x 0.2mm厚度Agar Scientific所有型号Cressington所有型号(308系列除外)Polaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620金/钯靶直径54mm x 0.2mm厚度Bal-Tec/Leica SCD005, SCD050, MED010, MED020【产品详情】离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材：金/钯靶产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

产品说明：该离子溅射镀膜机是对透射电镜及扫描电镜及样品进行离子刻蚀和涂复导电层的设备，主要用于对生物、有机物及金属样品溅射一层均匀而致密的金属膜供扫描电镜观察，亦可对各种样品进行离子刻蚀以及对透射电镜支持膜作亲水处理，以获得理想的实验表面。仪器操作简单方便，是配合中小型扫描电子显微镜制样必备的仪器。真空保护：20Pa配有微量充气阀调节工作真空工作室工作媒介气体：空气或氩气，配有氩气专用进气口和微量充气调节

SBC-12 小型离子溅射仪主要用于扫描电子显微镜样品镀导电膜（金膜），仪器操作简单方便，是配合中 小型扫描电子显微镜制样必备的仪器。真空检测：皮氏计；真空保护：20Pa配有微量充气阀调节工作真 空；工作室工作媒介气体：空气或氩气，配有氩气专用进气口和微量充气调节。

Quorum 耗材，靶材，载物台等附件Quorum提供了一系列消耗品和备件。溅射靶材Quorum为我们当前的Q系列（S和ES版本）和SC7620溅射镀膜机以及以前使用Emscope，Emitech，Polaron，Bio-Rad，Fisons Instruments和Thermo VG品牌制造的型号提供金属溅射靶材。包括E7400-314A TargetGold 0.2 mm, E7400-31C Target Platinum 0.2 mm, E7400-314IR Target Iridium 0.3 mm, SC500-314A Target Gold 60 mm x 0.1 mm thick, SC500-314E Target Silver 60 mm x 0.1 mm thick, SC502-314A Target Gold 57 mm x 0.1 mm, 更多溅射靶点请咨询大连力迪流体控制技术有限公司碳耗材：碳棒和碳纤维供应品有多种尺寸和纯度可供选择，通常用于将碳蒸发到样品上，用于 X 射线微量分析或透射电子显微镜 （TEM）分析。

这些德国制造的PVD高纯溅射靶材是全球领先的超高纯度PVD镀膜材料，完全在德国生产，拥有世界一流的产品性能，非常适合PVD溅射靶材和PVD镀膜使用。PVD溅射靶材具有全球最为齐全的种类。Tribological Coatings and FilmsDescription:Targets for the components and tools in mechanical engineering and instrumentation.Example:Cr 99.95% WC 99.5%.Precision OpticsDescription:Targets for lasers, lightings and filters.Example:Ta 99.95%.Transparent Conductive Oxide (TCO) TargetsDescription:ITO, ZnO, SnO2 and ZnO: Al based targets for the photovoltaic, low E-glass and flat panel display industries.Example:ZnO 99.9% (TCO)Reflective MaterialsDescription:Reflective targets for solar applications.Example:Aluminum 6061.Thin Film Battery TargetsDescription:Lithium based targets for solid-state rechargeable batteries.Example:LiCoO2 99.9%Semiconductor TargetsDescription:High k-dielectric, Hafnium, Tantalum and Barium Titanate based targets for thin film capacitors.Example:Barium Titanate 99.9%.Storage MediaDescription:High density Ru targets for perpendicular storageCustom TargetsDescription:Compositions and shapes tailored for your needs.Materials ListingAAg99.99Al99.99 99.999AlN99.9Al2O399.99Al/Cu99.99 99.999Al/Si99.99 99.999Al/Si/Cu99.99 99.999Au99.99 99.999BBaFe12O1999.9BaF299.9BaMnO399.9(Ba,Sr)TiO399.9BaTa2O699.9BaTiO399.9BaZrO399.9Bi99.9 99.999Bi2O399.99Ba4Ti3O1299.9BN99.9CCa99CaF299.95CaTiO399.9CdTe99.995Ce99.9CeO299.9 99.99Cr99.9 99.95 99.99Cr2O399.8CrSiO299.5Co99.95CoO99.5Cu99.997Cu/Ga70/30at.%99.99CuO99.9DDyFeO399.9Dy2O399.9EEr2O399.9FFe99.95Fe2O399.9GGd2O399.9GaN99.99Ge99.999HHfO299.95I-KIn99.99 99.999In2O399.99In2O3/SnO290/10wt%99.99In/Sn99.99Ir99.8 99.9LLa99.9LaAlO399.9LiCoO299.9LiNbO399.9Li3PO499.9MMg99.98MgAl2O499.9MgB299.5MgFe2O499.9MgF299.9MgO99.95Mn99.9Mo99.9 99.95MoS299N-ONd99.9Nd2O399.9Ni99.95 99.98 99.99Ni/Cr99.95Ni/Cr/B99.95Ni/Cr/Si99.95Ni/Fe99.95Ni/V99.9Nb99.95Nb2O599.9P-QPb99.999Pb(Zr,Ti)O399.9Pd99.95Pt99.9 99.99Pr99.9Pr2O399.9RRe99.9Rh99.8Ru99.9RuO299.9SSe99.999Si99.999SiC99.5Si3N499.9SiO99.9SiO299.99Si/Cr99.99Sn99.99SrFe12O1999.9SrRuO399.9SrTiO399.9 99.99T-UTaC99.5Ti99.95 99.995TiB299.5TiC99.5TiN99.5TiO99.9TiO299.9TiSi299.5Ti/Al99.9TiW99,95 99,995VV99.7 99.9VC99.5VN99.5V2O599.9W-XW99.95WC99.5W/Ti99.95YYb2O399.9Y2O399.99ZZn99.99ZnO/Al2O3,98/2wt.%99.9 99.99 99.999ZnO99.9 99.99 99.999ZnS99.99ZnSn99.9Zn/Al99.99Zr99.2ZrB299.9ZrO2+3,8,or10mol.%Y2O399.9

金靶、铂靶、钯靶、银靶EMS公司提供多种贵金属溅射靶材，有金靶、铂靶（白金）、钯靶、金钯合金靶60:40、铂钯合金靶80:20,纯度在99.99%以上。EMS公司靶材适合多个厂家的镀膜仪器，Emitech, Emscope, Bio-Rad, Polaron, Edwards, Balzers, Plasma Sciences, Technics Hummers, Denton, Cressington等等。提供的所有靶材均是标准厚度0.1mm，厚度在0.05－6mm之间的厚度靶材，需要特别问询。可以根据你的需求定制合适直径的靶材（4-304.8mm之间）。 1.金靶和铂金靶Gold (Au) and Platinum (Pt) 货号 (Au) 直径 mm货号 (Pt)直径 mm91006-Au20.091006-Pt20.091007-Au20.491007-Pt20.491008-Au32.091008-Pt32.091009-Au39.091009-Pt39.091013-Au42.091013-Pt42.091014-Au50.091014-Pt50.091015-Au50.891015-Pt50.891016-Au54.091016-Pt54.091017-Au57.091017-Pt57.09101060.09101260.091018-Au63.591018-Pt63.591019-Au75.091019-Pt75.091020-Au76.091020-Pt76.02.钯靶和金钯靶Palladium (Pd) and Gold Palladium 60/40(AP)货号 (Pd)直径 mm货号（ AP60/40）直径 mm91006-Pd20.091006-AP20.091007-Pd20.491007-AP20.491008-Pd32.091008-AP32.091009-Pd39.091009-AP39.091013-Pd42.091013-AP42.091014-Pd50.091014-AP50.091015-Pd50.891015-AP50.891016-Pd54.091016-AP54.091017-Pd57.091017-AP57.091010-Pd60.09101160.091018-Pd63.591018-AP63.591019-Pd75.091019-AP75.091020-Pd76.091020-AP76.0

最精密的离子溅射标样，用于校准离子枪。提供SiO2、Si3N4、Ta2O5和NiCr-7薄膜

溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式，较之较早的镀膜方式有多方面的优势相当明显，作为一项已经发展的较为成熟的技术，磁控溅射已经被应用于许多领域，根据客户要求定做各种规格的金属，合金陶瓷等离子溅射的靶材。

激光诱导等离子体光谱仪配件是一款欧洲进口的高度安全的激光诱导等离子体光谱仪，采用高度模块化设计，专业为样品分析而研发，是实验室科研和现场检测的理想工具。广泛用于材料分析，元素检测，工业检测，安全检测，反恐和国防等领域。孚光精仪还有更多激光仪可供选择，欢迎前来咨询。激光诱导击穿光谱仪配件特点安全型模块化设计具有世界上最为安全的配置，这套仪器对操作人员的危害几乎为零。特别对于样品室使用防激光辐射的高档光学窗口玻璃，不仅可以让您观看样品的测量，同时又保证您的安全。具有高度的使用灵活性，您可以手持着它进行测量，也可以放置到样品室上测量。中国最大的进口精密光学器件和科学仪器供应商！激光诱导等离子体光谱仪配件特色* 高度模块化和多功能设计，适合实验室和现场多种应用；* 高效率的等离子体采集光学，可配备6通道或8通道光谱采集系统；* 具有多种激光器选项，50mJ@1064nm, 355nm, 266nm, 100mJ@1064nm,355nm,266nm, 还有更多激光器供选择 * 可配备样品室(具有I级激光安全标准)或不配备样品室直接测量(IV级激光安全) * 激光头和样品方室可以多向安装工作；* 具有其他清洗功能（与外界气源连接，可供氩，氮，氦，空气等气体）；* 可安装高达8个光谱仪模块覆盖185-1000nm * 激光器电源小型化，非常方便拆卸，搬运；* 软件两年免费升级。孚光精仪是全球领先的进口科学仪器和实验室仪器领导品牌服务商，产品技术和性能保持全球领先,拥有包括光谱仪,激光诱导等离子体光谱仪在内的全球最为齐全的实验室和科学仪器品类，世界一流的生产工厂和极为苛刻严谨的质量控制体系，确保每个一产品是用户满意的完美产品。我们海外工厂拥有超过3000种仪器的大型现代化仓库，可在下单后12小时内从国外直接空运发货，我们位于天津保税区的进口公司众邦企业（天津)国际贸易公司为客户提供全球零延误的进口通关服务。更多关于激光诱导等离子体光谱仪参数，光谱仪价格等诸多信息，孚光精仪会在第一时间更新并呈现出来，了解更多内容请关注孚光精仪官方网站方便获取！

主要特点 1.快速高效的抽气，同时保证了镀膜的质量和样品无升温；2.标准的手动操作模式，电流和时间可控； 3.标准靶材可快速更换，顶部O圈密封性能优越；4.可冲入惰性气体 5.可选配M10高分辨膜厚检测仪来有效控制膜厚。

等离子体主动热探头是耐高温的等离子探头,用于高温等离子体过程中流入到目标表面的能量，也可作为离子流探头使用。由于等离子体主动热探头的灵敏度非常高，特别适合用于工业生产过程或研究中的有效质量控制。有一个特殊的版本，该版本有一个更多可选的可调参数，可以用来解决等离子体工艺的研发。等离子体主动热探头特点在生产高品质涂层或研究材料属性过程中，对等离子体工艺的表征，控制和监测是至关重要的。最重要的一个参数是通到基底的实际能量流入和总能量流入—主动热探头是测量这个决定性的量数的唯一工具。增殖的粒子影响基底的表面工艺和反应。这种能量与其他如热辐射能或化学能合成总流入能量。主动热探头连续定向测量流入的能量，保持层和表面性质很好的相关性。等离子体主动热探头产品概述适用于真空耐温高达450°C能量流入可多达（2±0，001）W/cm2 可衡量可变长度和几何图形包括系统控制和评估的软件包提供安装服务和流程优化咨询

我公司可订做多种靶材，如：金靶（Au），银靶（Ag），铂靶（Pt），镍靶（Ni）等高纯（99.99%）单质金属溅射靶材。主要适用：扫描电镜样品制备（小型离子溅射仪、镀膜机）、真空镀膜等。

我公司可订做多种靶材，如：金靶（Au），银靶（Ag），铂靶（Pt），镍靶（Ni）等高纯（99.99%）单质金属溅射靶材。主要适用：扫描电镜样品制备（小型离子溅射仪、镀膜机）、真空镀膜等。

微波等离子体清洗器配件是目前最为先进的等离子体清洗机，采用微波能量生产等离子体，在氧气或氩气以1-5torr的压力流经样品室时，微波能会有效地激发等离子体。等离子体清洗机配件产生的等离子体是电中性的高度电离的气体，这种等离子流经污染表面与之发生反应，污染表面自好清洗而不影响材料的大部分特性。与其他等离子产生方法不同，这款微波等离子清洗器使用2.45GHz的微波能，具有可调的的功率占空比和模拟功率调节功能。功率可调范围高达10-550瓦。使用该产品，可以获得更高的气压，更高的功率和更高的温度，当然，您将获得以前从未实现的更高的反应速度。微波等离子体清洗器配件特点微波等离子清洗技术是一种革命性的清洗方法。微波等离子清洗器本身价格不高，安全而易于使用，而且还节省空间。这种等离子体清洗机,微波清洗器不产生垃圾，不排放有毒有害的溶解物或气体，不需要独立的操作空间。是一种远远比化学清洗方法安全经济环保的清洗方式。我们提供三种规格的微波等离子体清洗器，这三款等离子体清洗机,微波清洗器的区别主要在于耐温玻璃样品室的容积大小。第一种等离子体清洗机,微波清洗器的样品室是直径4.1’’x6’’长，第二种等离子体清洗器是8’’x6’’x2’’，第三种是9’’x7’’x3’’。具有长方形样品室的清洗器都配有水冷系统可以控制温度，这样就可以清洗更多种类的器具而不必单位热损伤。微波等离子体清洗器配件配置：1.水循环浴；2.双气真空流动控制器：可与微波等离子清洗器联合使用的独立的器件，它的作用是按不同比例混合两种气体。该控制器包括为真空泵和水循环浴提供的功率输出，两个流量（0-5SCFM）计，两个压力计(0-60帕)，一个真空压力计（0-30’’Hg）和一个开关；3.离子阱：该离子阱用于保护易损伤材料，如：激光二极管发光面，光刻胶等。该离子阱可以中和带电离子，从而只允许中性辐射物参与清洗使得易伤材料免于清洗伤害。

交叉偏振波滤波器（XPW系统）所属类别： ? 专用实验设备 ? 强场激光/等离子体器件与设备 所属品牌：法国SourceLAB公司 产品简介 时域对比度滤波器/交叉偏振波滤波器（XPW） ——可扩展高效激光时域对比滤波器SourceLAB时域对比滤波器（cross-polarized wave generation –XPW：交叉偏振波产生系统）1000以上的瞬态激光对比增强能力，同时兼具飞秒脉冲后压缩特性，是产生高对比度飞秒脉冲的理想选择。SL-XPW-1000激光时域对比滤波器系统（cross-polarized wave generation –XPW：交叉偏振波产生系统），初始为Laboratoire d’Optique Appliquée开发，可随时用于mJ以上超短脉冲对比增强的时域滤波。SL-XPW-1000激光时域对比滤波器系统，也可用于除数因子2或更大的飞秒后压缩，可能产生few-cycle脉冲。关键词：飞秒脉冲对比增强，等离子体镜，飞秒后脉冲压缩，XPW，时域滤波 SL-XPW-1000激光时域对比滤波器系统（cross-polarized wave generation –XPW：交叉偏振波产生系统），初始为Laboratoire d’Optique Appliquée开发，可随时用于mJ以上超短脉冲对比增强的时域滤波。SL-XPW-1000激光时域对比滤波器系统（XPW），也可用于除数因子2或更大的飞秒后压缩，可能产生few-cycle脉冲。这一滤波器是基于正交极化波的产生（XPW）。产品特点：高效率单晶装置中空光纤滤波卓越的空间轮廓对比增强103光谱质量增强扩展产生更短脉冲兼容载波包络相位易准直和鲁棒性应用领域：飞秒脉冲对比增强（three orders）飞秒脉冲后压缩（two-fold）高对比度few-cycle脉冲发生 应用文献：Efficient cross polarized wave generation for compact, energy-scalable, ultrashort laser source.pdfEnergy-scalable temporal cleaning device for femtosecond laser pulses based on cross-polarized wave generation.pdfFront-End Light Source for aWaveform-Controlled High-Contrast Few-Cycle Laser System for High-Repetition Rate Relativistic Optics.pdfHigh-fidelity front-end for high-power, high temporal quality few-cycle lasers.pdf 指标参数：PerformancesContrast enhancement103 or higherEnergy transmission15 % or moreMaximum input energy – Contact us if your applications require more5 mJ or oreStrehl ratio0.9MiscellaneousDimensions (L x W x H) – Custom designs available on request200 x 25 x 20 (cm x cm x cm)MassApprox. 4 kg (ex. vacuum pump)Micrometric translation stagesRange25.4 mmHigh-quality, high-straightness single-mode hollow-core fibreLength40 – 50 cmInner diameterWavelength dependentXPW crystal[011]-cristallographic orientation, high-quality polishing, BaF2 crystalThickness2 – 3 mmAR-coated FS vacuum windowsThickness500 μmDry vacuum pumpPumping speed6 m3/hUltimate vacuum-1 mbarSourceLab公司交叉偏振波滤波器（XPW） Jullien-apb-102-4-769-2011.pdfRamirez-oe-19-93-98-2011.pdfRicci-applsci-03-00314-2013.pdfRicci-rsi-84-043106-2013.pdf 相关产品 高重频太瓦激光器（500Hz TW Laser） 等离子体喷气靶（等离子体密度可达10^21） 高灵敏度等离子体分析仪 等离子体气体靶室 等离子体固体靶

微波等离子体源是具有着高度灵活性微波等离子体发生器，可有效应用在各种精密复杂的科研实验中。微波等离子体源创造性地使用分子气体混合物补充的纯氩气，氦气，确保了将化学工艺与具体应用的要求相匹配。微波等离子体源特点对于表面净化、超细清洗和表面活化以及实时样品制备的形态分析方法这些多样化应用，广泛的操作范围内的气体流量和微波功率，以及固有的高等离子体温度是必不可少的先决条件。具有上述性能，成为了工业和研究领域里生产和分析应用的强大工具。等离子体作为一种高新技术，广泛用于科学研究和工业应用，是表面处理中不可或缺的工具。等离子技术运用广泛，主要用于那些质量，生产力，环境的可持续性，精密度和灵活性很重要的应用。微波等离子体源MiniMIP特征紧凑和移动型灵活性高微波等离子体源应用广泛激活精洗净化形态分析（如有机汞，铅，锡化合物）化学反应器?处理技术和生物材料复杂的几何形状很难接近的位置精确和逐点操作惰性和分子气体提供能源多功能加工一体化微波等离子体源规格用于表面处理的紧凑型常压等离子体源装置手持装置尺寸 80x 65X 50mm（1.50米电缆接头）手持装置重量 0.5kg基本单元尺寸 110x 230x 375mm （高x宽x深）基本单元重量 6.5公斤电源 110-230VAC, 50/60 Hz功耗运输和储存条件温度 - 40°C - 70°C相对湿度 10% - 100%工作条件温度15°C - 40°C相对湿度 15% - 75%气压 800 hPa -1060 hPa资源工艺气体氩* *根据要求，提供其他气体和混合物微波频率 2.45GHz正向功率 10 W至60 W（可选）气体流量 0.6- 6升/分钟等离子量 约10mm3电子密度 高达2 x1021m-3气体温度 高达1700°C*取决于工艺气体和功率交付内容等离子体源装置微波发生器微波连接器电缆线

我公司可订做多种靶材，如：金靶（Au），银靶（Ag），铂靶（Pt），镍靶（Ni）等高纯（99.99%）单质金属溅射靶材。主要适用：扫描电镜样品制备（小型离子溅射仪、镀膜机）、真空镀膜等。

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