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薄膜镀层控制仪

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  • 网络讲堂:9月16日 最新镀层、薄膜表征工具-辉光放电光谱仪&椭圆偏振光谱仪

    http://img3.17img.cn/bbs/upfile/images/20100518/201005181701392921.gif最新镀层、薄膜表征工具——辉光放电光谱仪&椭圆偏振光谱仪讲座时间:2014年09月16日 10:00 主讲人:武艳红、王锋武艳红,HORIBA Scientific 辉光放电光谱技术应用工程师。王锋,HORIBA Scientific 椭圆偏振光谱技术应用工程师。http://img3.17img.cn/bbs/upfile/images/20100518/201005181701392921.gif【简介】 辉光放电光谱和椭圆偏振光谱仪作为现在最常用的两种镀层、薄膜表征技术。前者主要应用于镀层元素的深度剖析,它能够获得镀层中各元素随深度的分布状况,可以分析几纳米~100多微米的深度,深度分辨率1nm。后者是一种无损的分析技术,可以精确测量1A~40微米范围内的薄膜,并能表征单层、多层薄膜表面的粗糙度和氧化层,甚至可以获取折射率、消光系数等。 本次课程中我们将会介绍这两种技术的基本原理、可分析的材料,并对主要应用领域及案例进行深度分析。-------------------------------------------------------------------------------1、报名条件:只要您是仪器网注册用户均可报名参加。2、报名并参会用户有机会获得100元手机充值卡一张哦~3、报名截止时间:2014年09月16日 9:304、报名参会:http://simg.instrument.com.cn/meeting/images/20100414/baoming.jpg

  • XRD、XRF看过来!10月14日马尔文X射线技术培训(纳米、多晶、涂层镀层、半导体薄膜测量)

    XRD、XRF看过来!10月14日马尔文X射线技术培训(纳米、多晶、涂层镀层、半导体薄膜测量)

    [font=&][color=#000000]马尔文帕纳科联合仪器信息网将于10月14日举办微观丈量“膜”力无限——X 射线分析技术应用于薄膜测量主题活动,特邀高校资深应用专家及马尔文帕纳科技术专家分享薄膜表征技术与应用干货,全面展示马尔文帕纳科针对薄膜材料测量的解决方案。此外,活动直播间还特别设置了答疑及抽奖多轮福利环节。[/color][/font][b][color=#006600]点击报名 [url=https://www.instrument.com.cn/webinar/meetings/malvernpanalytical2022/]微观丈量 膜力无限——马尔文帕纳科 X 射线分析技术应用于薄膜测量_网络讲堂_仪器信息网 (instrument.com.cn)[/url][/color][/b][font=&][color=#000000][b]背景介绍:[/b][/color][/font][font=&][color=#000000]薄膜,通常是指形成于基底之上、厚度在一微米或几微米以下的固态材料。薄膜材料广泛应用于不同的工业领域,譬如半导体、光学器件、汽车、新能源等诸多行业。沉积工艺是决定薄膜成分和结构的关键,最终影响薄膜的物性;对薄膜成分、厚度、微结构、取向等关键参数进行测量可以为薄膜沉积工艺的调整和优化提供依据,改善薄膜材料性能。[/color][/font][font=&][color=#000000][/color][/font][font=&][color=#000000][b]活动日程:[/b][/color][/font][table][tr][td=1,1,99]时间[/td][td=1,1,280]环节[/td][td=1,1,256]报告人[/td][/tr][tr][td=1,1,99][color=#000000]14:00-14:10[/color][/td][td=1,1,280][color=#000000]开场致词,公司介绍与薄膜应用概述[/color][/td][td=1,1,261][color=#000000]程伟,[/color][color=#000000]马尔文帕纳科 先进材料行业销售经理[/color][/td][/tr][tr][td=1,1,99][color=#000000]14:10-14:50[/color][/td][td=1,1,280][color=#000000][b]X射线衍射仪在纳米多层薄膜表征中的应用[/b][/color][/td][td=1,1,261][b][color=#000000]朱京涛,[/color][color=#000000]同济大学 教授[/color][/b][/td][/tr][tr][td=1,1,99][color=#000000]14:50-15:00[/color][/td][td=1,1,280][color=#000000]答疑 & 第一轮抽奖[/color][/td][td=1,1,261][color=#000000]定制马尔文帕纳科公仔一对[/color][/td][/tr][tr][td=1,1,99][color=#000000]15:00-15:30[/color][/td][td=1,1,280][color=#000000][b]多晶薄膜应力和织构分析[/b][/color][/td][td=1,1,261][b][color=#000000]王林,[/color][color=#000000]马尔文帕纳科 中国区XRD产品经理[/color][/b][/td][/tr][tr][td=1,1,99][color=#000000]15:30-15:40[/color][/td][td=1,1,280][color=#000000]答疑 & 第二轮抽奖[/color][/td][td=1,1,261][color=#000000]定制午睡枕[/color][/td][/tr][tr][td=1,1,99][color=#000000]15:40-16:25[/color][/td][td=1,1,280][color=#000000][b]X射线衍射及X射线荧光分析技术在半导体薄膜领域的应用[/b][/color][/td][td=1,1,261][b][color=#000000]钟明光,[/color][color=#000000]马尔文帕纳科 亚太区半导体销售经理[/color][/b][/td][/tr][tr][td=1,1,99][color=#000000]16:25-16:35[/color][/td][td=1,1,280][color=#000000]答疑、课程评价有礼[/color][/td][td=1,1,261]电脑包、公仔1对[/td][/tr][tr][td=1,1,99][color=#000000]16:35-16:55[/color][/td][td=1,1,280][color=#000000][b]X射线荧光光谱在涂层镀层分析中的应用[/b][/color][/td][td=1,1,261][b][color=#000000]熊佳星,[/color][color=#000000]马尔文帕纳科 中国区XRF产品经理[/color][/b][/td][/tr][tr][td=1,1,99][color=#000000]16:55-17:00[/color][/td][td=1,1,280][color=#000000]答疑 & 第三轮抽奖&结束语[/color][/td][td=1,1,261][color=#000000]倍思车载无线充电器[/color][/td][/tr][/table][img=,690,335]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2022/10/202210091517508512_6104_5138539_3.png!w690x335.jpg[/img][b][/b][font=&][color=#000000][b]重要内容抢先看:[/b][/color][/font][font=&][color=#000000]【同济大学,朱景涛教授】将分享[b]X衍射仪在纳米多层薄膜表征中的应用[/b],主要采用掠入射X射线反射、X射线衍射、X射线面内散射等测试方法,表征周期、非周期、梯度多层膜,以及膜层厚度、界面宽度、薄膜均匀性、结晶特性、粗糙度等信息;[/color][/font][color=#000000]【马尔文帕纳科中国区,XRD产品经理 王林】将分享X射线衍射法测量[b]多晶薄膜的残余应力和织构分析方法[/b];【马尔文帕纳科亚太区,半导体销售经理 钟明光】将展示马尔文帕纳科在[b]半导体薄膜领域[/b]的专业分析解决方案;【马尔文帕纳科中国区,XRF产品经理 熊佳星】将分享X射线荧光光谱在[b]涂层镀层无损分析[/b]中的应用。[b][color=#336666]专题页面:[url=https://www.instrument.com.cn/topic/malvernpanalytical.html][font=宋体]https://www.instrument.com.cn/topic/malvernpanalytical.html[/font][/url][/color][/b][/color]

  • 【求助】薄膜样品制样

    10-20um的塑料薄膜上镀有10-30nm的金属层,想通过断面确定镀层的厚度,怎么制样才能得到不被破坏的截面?

  • 低气压线性控制技术在防止同步辐射光源和原位透射电镜氮化硅薄膜窗口破裂中的应用

    低气压线性控制技术在防止同步辐射光源和原位透射电镜氮化硅薄膜窗口破裂中的应用

    [size=16px][color=#339999][b]摘要:氮化硅薄膜窗口广泛应用于同步辐射光源中的扫描透射软X射线显微镜和原位透射电镜,但氮化硅薄膜只有几百纳米的厚度,很容易因真空抽取初期的快速压差变化造成破裂。为此,本文提出了线性缓变压力控制解决方案,即控制安装有氮化硅薄膜窗口的真空腔内的气压,按照固定的速度进行缓慢减压,从而实现氮化硅薄膜窗口的防止。同时本解决方案对以往的高精度控制方案进行了简化,简化为只用一只皮拉尼真空计和只控制电动球阀。[/b][/color][/size][align=center][size=16px][color=#339999][b]~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~[/b][/color][/size][/align][size=18px][color=#339999][b]1. 问题的提出[/b][/color][/size][size=16px] 氮化硅(Si3N4)薄膜作为一种无机非金属材料,具有高强度、高硬度、高耐热性、高耐腐性和低热膨胀系数等特点,这种薄膜是扫描透射软X射线显微成像技术(STXM)应用中十分理想的生物样品支持膜,利用同步辐射光源中的STXM技术可以对自然状态下的生物样品进行亚微米级的空间与化学分析。氮化硅薄膜还可作为真空窗口,隔开高真空的软X射线部分与大气压,用于生物活细胞研究,也可作为同步辐射光束线中的污染阻挡层。另外,这种氮化硅薄膜还可以作为液体芯片上的观察窗口可以实现高分辨率的原位透射电镜(TEM)的液体观测。[/size][size=16px] 在上述的这些氮化硅薄膜窗口的应用中,普遍需要高真空环境,需要通过氮化硅薄膜将高真空和大气压隔开。氮化硅薄膜一般很薄,最厚也只有500nm,这使得氮化硅薄膜窗口非常脆弱,在正常抽真空时很容易因为窗口两侧快速形成的压差而造成破裂。为此要求在抽真空的初期,也就是在低气压(低真空)阶段要进行慢速抽气,即控制腔室中的压力降低速度,此时这个真空度的典型变化曲线如图1所示。[/size][align=center][size=16px][color=#339999][b][img=01.真空腔体内的真空度随时间变化曲线,690,269]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/07/202307141719028289_1096_3221506_3.jpg!w690x269.jpg[/img][/b][/color][/size][/align][align=center][size=16px][color=#339999][b]图1 设备腔体内的真空度随时间变化曲线[/b][/color][/size][/align][size=16px] 如图1a所示,通常使用每秒几豪巴的抽速就可以保证氮化硅薄膜安全运行,并允许在大约10分钟内达到大约1豪巴,并在大约 15分钟内达到10–2毫巴范围。在此压力下,再开启涡轮泵可以安全启动并在几分钟内进入10–6豪巴的设备高真空工作范围。为了更直观的描述抽真空初期慢速的线性减压,如图1b所示所示用了线性坐标来描述,其中真空度是按照线性进行控制和变化。[/size][size=16px] 为了实现上述低气压阶段的线性减压,本文提出了如下的低气压线性控制解决方案,由此可防止氮化硅薄膜窗口的破裂。[/size][size=18px][color=#339999][b]2. 解决方案[/b][/color][/size][size=16px] 针对将真空腔体从大气压1000mBar线性慢速降到1mBar的低气压控制,本文提出解决方案的真空度控制系统结构如图2所示。[/size][align=center][size=16px][color=#339999][b][img=02.低气压线性变化控制系统结构示意图,550,291]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/07/202307141720026347_5596_3221506_3.jpg!w690x366.jpg[/img][/b][/color][/size][/align][align=center][size=16px][color=#339999][b]图2 低气压线性变化控制系统结构示意图[/b][/color][/size][/align][size=16px] 在解决方案中采用了由真空计、电动阀门和控制器组成的闭环控制回路,其中低漏率的电控针阀和电控球阀分别用于调节进气和排气流量。[/size][size=16px] 真空压力控制器具有可编程功能的程序控制器,用于采集真空计信号和驱动电控阀门对腔体内的真空度进行控制,使真空度按照设定斜率进行变化。[/size][size=16px] 由于控制系统的主要功能是控制真空度按照线性变化,并不要求有很高的控制精度,由此对控制系统中的相关部件做了以下几方面的简化:[/size][size=16px] (1)由于控制量程是从一个1000mBar大气压线性降到1mBar,如果不考虑测控精度,真空计可以直接采用量程宽泛的皮拉尼真空计,无需采用高精度但量程较窄的电容真空计。由此仅需一只皮拉尼真空计就可覆盖整个所需的真空度范围,而用电容真空计则需要两只才能覆盖量程。[/size][size=16px] (2)对于高精度的真空度控制,除了需要采用不同量程的高精度电容真空计之外,还需在不同量程范围内分别调节排气流量和进气流量。如果不考虑控制精度,真空度的线性控制可以仅通过固定进气流量和调节排气流量的方式来实现,由此电控针阀可以用手动针阀来代替,能固定针阀开度保持进气流量恒定即可,这样可以减少一路控制回路并降低成本。[/size][size=16px][color=#339999][b]3. 总结[/b][/color][/size][size=16px] 综上所述,通过此解决方案所使用的真空计、电控针阀(手动针阀)、电控球阀和真空压力程序控制器,可很方便的控制低气压范围内的真空度线性变化,从而可有效保证氮化硅薄膜窗口不被损坏。[/size][align=center][size=16px][color=#339999][b][/b][/color][/size][/align][align=center][b][color=#339999]~~~~~~~~~~~~~~~[/color][/b][/align][size=16px][/size]

  • 【求助】请教一个薄膜方面的问题

    最近做了两个薄膜样品, 其中一个是透明薄膜. 另外一个是在透明薄膜的基础上镀了一层特殊的反光材料,为黑色 客户想让我们帮着看看镀上的这层特殊材料是什么 我两个样品都做了红外 然后发现结果完全吻合 大家说说在红外行不通的基础上 还有什么更好的分析方法 来分析 这层镀层的成分

  • 如何测定表面镀层的成分组成和含量

    我用化学方法去除热镀铝板表面的镀层后,感觉表面还有一层薄膜,做金相没做出来,想做XRD, 但我担心膜太薄会被击穿影响结论。我最终的目的是想了解表面是否还有铝,以什么形态存在,含量有多少,我应该做哪些测试。

  • 【讨论】塑料薄膜上的镀金层厚度

    塑料如PPS或PET(厚2微米)上的镀金层、镀镍层如何测量?本网上查到的测厚仪是用于:非磁性金属基体上非导电覆盖层采用涡流测厚法,而磁性金属基体上非导电覆盖层采用电磁感应测厚法,无法满足塑料膜上的磁性材料镀层厚度(镍)或非磁性材料镀层(金)厚度测量!先谢谢了!

  • 【原创大赛】薄板镀层试样的金相制备方法-中船重工725所

    【原创大赛】薄板镀层试样的金相制备方法-中船重工725所

    [align=center][b]薄板镀层试样的金相制备方法[/b][/align][align=center]中国船舶重工集团公司第七二五研究所 试验测试与计量技术研究中心 王世宁[/align][align=center] [/align] 随着时代的演变、科技日新月异的进步,许多新颖和适应科学发展的产品不断的更新换代。但如何有效的抑制腐蚀行为、提高产品的表面应用、使用寿命,是近年来一重要的课题。至今为止,全世界因为腐蚀所造成的经济损失惊人,因此金属进行适当的防腐措施是金属生产过程中重要的一环。随着各种产品应用在各种不同的领域,研制的产品种类日益增多,许多镀层产品也越来越薄。 在材料科学与工程领域广泛应用各式的电子显微镜来对镀层的缺陷、金相组织、厚度进行测试。针对薄板镀层产品进行的金相试验在样品制备过程中就会有很多不便。“中国船舶重工集团公司第七二五研究所检测与校准中心”长期从事各类复杂样品的微观金相组织分析,在这方面积累了大量的工作经验,现以薄板镀层试样金相制备为例,和大家一起分享。 对于常规的镀层试样,我们需要在待检测试样上截取合适的试样,对其镀层进行边缘保护(如镶嵌),然后进行粗磨、细磨、抛光、侵蚀、观测。但如下图1、2中所示的待检试样,该试样很薄,用冷镶嵌的方法来镶嵌的话,由于冷镶嵌是用树脂材料和加速剂催化凝固,镶嵌出来的试样不够致密,在后续金相侵蚀的过程中会渗水,严重影响我们金相观察;而直接用普通的夹具夹持试样进行热镶嵌,镶嵌机内部压力较大,试样很容易被压弯,严重影响金相试验的结果不准确。[align=center][b][img=,588,353]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/09/201709300840_01_2401507_3.jpg[/img][/b][/align][b] [/b] 针对这种试样我们可以利用以下的方法来解决:从待检测试样上截取合适大小的试样,进行编号(如图3所示),取一块正方体或者长方体的金属或硬质材料,利用502胶水的强粘合性将试样紧贴的粘在长方体四周,(如图4所示),然后标记好顺序进行热镶嵌,镶嵌好模具里面的待检试样不会被压弯,检测面非常平整,经过粗磨细磨后如图5。[align=center][img=,588,668]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/09/201709300840_02_2401507_3.jpg[/img][/align] 将试样抛光后,放置在金相显微镜下放大到400×下观察抛光态形貌,可以清晰的看到待检试样板材基体和镀层上是否存在夹杂、裂纹等缺陷,利用测图软件也可以准确清晰的测量处镀层的厚度(见图6、7)。利用此方法来进行金相试样的制备可以大大的增加薄板类镀层试样的检测准确性。[align=center][img=,596,358]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/09/201709300841_01_2401507_3.jpg[/img][/align][align=center][/align]

  • 【转帖】金刚石复合镀层的研究现状

    0 引言  工业上应用的材料经常是根据对强度的要求来选用的,但其表面性能,例如耐磨损性、抗腐蚀性、耐擦伤性、导电性不一定能满足要求。因此,需要选择不同的镀层以满足表面性能的要求。镀层的制备可通过机械镀、摩擦电喷镀、流镀、激光镀、浸镀、电泳涂装、复合电镀等技术来实现。近年来,高速发展起来的复合镀层以其独特的物理、化学、机械性能成为复合材料的新秀,得到广泛的关注,并已经被公认为一种生产技术。复合镀层是通过金属电沉积或共沉积的方法,将一种或数种不溶性的固体颗粒、纤维均匀地夹杂到金属镀层中所形成的特殊镀层。以超硬材料作为分散微粒,与金属形成的复合镀层称为超硬材料复合镀层。文中介绍的金刚石复合镀层就属于这一类。金刚石复合镀层的制备方法主要有化学复合镀和复合电沉积法。1 金刚石颗粒与金属离子共沉积机理  在复合镀液中加入的金刚石颗粒具有很强的化学稳定性,施镀过程中它不参与任何化学反应,只是与化学(电化学)反应产生的金属离子共同沉积在基体的表面上。故化学镀和电沉积复合镀层都可用相同的机理来解释。在研究复合电镀共沉积过程中,人们曾提出3种共沉积机理,即机械共沉积、电泳共沉积和吸附共沉积。目前较为公认的是由N.Guglielmi在1972年提出的两段吸附理论。Gugliemi提出的模型认为,镀液中的微粒表面为离子所包围,到达阴极表面后,首先松散地吸附(弱吸附)于阴极表面,这是物理吸附,是可逆过程。其次,随着电极反应的进行,一部分弱吸附于微粒表面的离子被还原,微粒与阴极发生强吸附,此为不可逆过程,微粒逐步进入阴极表面,继而被沉积的金属所埋入。  该模型对弱吸附步骤的数学处理采用Langmuir吸附等温式的形式。对强吸附步骤,则认为微粒的强吸附速率与弱吸附的覆盖度和电极与溶液界面的电场有关。王森林等研究耐磨性镍 金刚石复合镀层的共沉积过程,结果表面:镍 金刚石共沉积机理符合Guglielmi的两步吸附模型,其速度控制步骤为强吸附步骤。到目前为止,复合电沉积和其它新技术、新工艺一样,实践远远地走在理论的前面,其机理的研究正在不断的发展之中。2 金刚石复合镀层的制备及应用2.1 化学复合镀金刚石  化学镀是不外加电流,在金属表面的催化作用下经控制化学还原法进行的金属沉积过程。在镀液中加入不溶性微粒,使之与金属共沉积,即可得到复合镀层。化学复合镀不需电源和辅助阳极,不受基体材料形状的影响,可在材料的各部位均匀沉积,镀层致密硬度高,以及自润滑性、耐热性、耐腐蚀性和特殊的装饰性。在航空、机械、化工、冶金及核工业等方面有广泛的应用。复合化学镀镍镀层的性质随着选用微粒种类不同而异。金刚石有多种类型,大致可分为两类:单晶和多晶。制备复合材料所选用的金刚石类型取决于复合材料的最终用途。单晶金刚石适用于研磨和磨削,因其表面特征是具有尖锐的边角。  金刚石锉和砂轮等是用复合镀层作为功能面,易采用天然单晶金刚石。耐磨的复合材料不能含有单晶金刚石,因其粗糙的表面易磨损配对面,一般采用爆炸法人造多晶金刚石。化学镀镍-多晶金刚石复合材料具有良好的表面防护和抗擦伤性能。薄层的化学镀镍-金刚石作为中间层可以提高镍 铬电镀沉积物的抗腐性,是最早镀制的化学镀复合材料之一,现在此种镀层则主要用于抗磨。表1是Taber实验机测定金刚石镀层耐磨性结果[6],较对比试样硬铬高4倍,也优于工具钢及硬质合金。  国内有不少学者都研究过化学镀金刚石复合镀层。吴玉程等[7]研究表明在镍磷合金沉积溶液中加入金刚石颗粒(平均尺寸14μm),可以明显的强化镀层,提高耐磨性能。王正等[8]研究表明金刚石复合镀层除了硬度高,耐磨性好之外,还具有优良的导热性和耐腐性,因此可以大幅度提高铸塑模具和冷加工模具的使用寿命。张信义等研究表明热处理工艺对Ni P 金刚石(1μm)化学复合镀层结构及性能的影响,研究表明复合镀层在镀态具有非晶态特征,镀层在300℃开始晶化,在200℃~400℃镀层有良好的耐磨性能。2.2 复合电镀金刚石  用电镀的方法将金刚石固结在金属镀层中得到金刚石复合镀层。在实际工作中,金属镀层起结合剂的作用,金刚石起主要作用。我国金刚石电镀制品是与树脂结合剂和青铜结合剂金刚石磨具一起,于60年代发展起来的。后来逐渐开发了各种非磨削工具。现已形成了比较成熟的工艺。金刚石电镀制品现已广泛的应用在机械加工业、电器电子工业、光学玻璃工业、地质钻探工业、建筑工业、工艺美术及日用品工业。起着不可替代的作用。电镀金刚石复合镀层在新领域的应用也是现在研究的热点。  于金库等]研究表明复合电刷镀金刚石制造工艺简单,得到的镀层硬度耐磨性良好,具有广泛的工业应用前景。余火昆等]对银基金刚石复合镀层的性能进行了研究,其研究表明复合镀层中金刚石含量越高,粒径越小,其磨损率越小,接触电流较大时效果更明显,从而提高了接触头的使用寿命及其耐大接触电流的能力。李云东等提出了一种能很好的适应电镀金刚石工具要求的新型镀层镍钴锰三元合金镀层。研究结果表明,镍钴锰三元合金镀层具有比镍钴或镍锰镀层更高的综合机械性能和低得多的钴含量,更适用于制造电镀金刚石工具,是一种有发展前途的更新替代镀层。王维等针对硬齿面齿轮加工中的刮削,磨削等加工方法中存在的问题,提出了在滚齿机上用金刚石镀层蜗杆珩轮强制珩磨硬齿面的新方法。结果表明工具加工表面质量好,加工效率高。周振君等将金刚石复合镀应用到柔性磨具上,结果表明复合镀层提高了磨具寿命及磨削效率。此外,用复合镀法制造的高硬度的梯度功能材料,如Ni 金刚石、Co 金刚石已经成功的在航空航天领域得到了应用。2.3 复合镀纳米金刚石  复合镀早期添加的金刚石大多是微米级的。随着纳米材料与纳米技术研究的不断深入,把纳米级的金刚石微粒引入到复合镀层中已成为复合镀发展的新趋势。纳米金刚石具有超微粒子的一般性质,如体积效应、表面效应以及小尺寸量子效应等。同时它还具有金刚石的一般性质,如高硬度、高导热性、高弹性模量、高耐磨性、低的比热容与极好的化学稳定性。近年来,俄罗斯、西方各国竞相研究开发纳米金刚石工业产品,并在复合镀层、研磨、抛光、润滑、高强度树脂和橡胶等领域得到了广泛的应用,我国也有多家单位从事这方面的研究。纳米金刚石兼备超硬材料和纳米颗粒的双重特性。具有减磨耐磨,自润滑性,在刀具、研磨、复合镀、润滑、摩擦等方面,都会有广泛的应用。特别是对于精密仪器、高光洁度表面精细加工用刀具等方面纳米金刚石具有其它材料无法比拟的特性。表2列出了有铬 纳米金刚石镀层零件的使用期限与普通表面硬化方法的对比数据。      此外,纳米复合镀在电接触材料中也大有发展前途。吴元康等使用纳米金刚石颗粒来增强银基镀层,降低了电磨损率,提高了电触头的使用寿命及耐大电流强度的能力。国内在该领域的研究尚在探索起步阶段。加快这方面的研究并尽快将其投入使用,不论对国防和民用都具有重要意义。现在研究中存在的主要问题有:  (1) 纳米金刚石在镀液中的分散。纳米级金刚石粉现在主要是由爆炸法制备。平均粒径4~10nm。复合电镀要求将金刚石粉均匀的分散在镀液中,按照胶体分散体系的定义(半径为10 9~10-7m),此时镀液应为胶体分散体系。溶胶中胶团的结构较为复杂,从真溶液到溶胶是从均相到开始具有相界面的超微不均匀相,且由于分散相的颗粒小,表面积大,其表面能也高,这就使得胶粒处于不稳定状态,它们有相互聚结起来变成较大的粒子而聚沉的趋势。实验表明掺有金刚石微粉的镀液其团聚情况严重,且得到的镀层中,纳米级金刚石粉团聚情况也很严重,这很大程度上影响了纳米金刚石粉在实际中的应用。

  • 【求助】求助薄膜的氧化层的成分和分布该如何测

    各位大侠! 本人需要测试玻璃基板上CuInGa合金表面的氧化情况,(具体需要知道氧化层的厚度,分布和成分),用什么测试方法。高手指教谢谢!CuInGa的合金薄膜制备方法是磁控溅射,厚度大概几个微米。XRD小角可以看表面的氧化层吗?XPS能分析出氧化物吗?因为氧化膜很薄(估计几个纳米),所以不清楚这些仪器的能力是否可以达到。

  • 汽车和航空业锌镍镀层检测用什么光谱仪好?

    锌镍(ZnNi)是一种高性能的镀层,它通常用于汽车、航空航天和国防工业的部件,如燃料线,紧固件,同轴电缆,连接器,和用于与铝连接钢组件。锌镍镀层具有高电导率和优异的耐蚀性能,即使在恶劣的环境中也表现很好。它作为一个屏障,防止基材被腐蚀。锌镍镀层的性能取决于其厚度和组成(通常为10-15%镍和90-85%锌)。控制镀层的厚度和成分能确保镀件满足其功能要求,而且运行成本最小化。[align=center][img=手持式X射线荧光光谱仪,650,506]http://www.yidekeyi.com/UploadFiles/FCK/2016-02/6359138516297462114281240.jpg[/img][/align][b]德国斯派克手持式X射线荧光光谱仪[/b]可以为铁上锌镍镀层检测提供精确和可重复的结果。[b][url=http://www.yidekeyi.com/]手持式光谱仪[/url][/b]的易用性和耐用性使其成为理想的工具,用于在车间对零部件的进货检验,以及对工艺和质量控制。校准软件的通用性也可实现镀液分析(单一和多元素),保证了镀液成分的快速监测。分析结果几秒钟内在[b]手持式X射线荧光[url=http://www.yidekeyi.com/fxyq.html]光谱仪[/url][/b]的屏幕上显示,现场即可判定一个部件是否合格或是否需要修改电镀工艺,大大提高生产力,并节约了成本。

  • 【分享】磁性涂镀层厚度测量仪应用原理简介

    一、磁吸力原理测厚仪利用永久磁铁测头与导磁的钢材之间的吸力大小与处于这两者之间的距离成一定比例关系可测量覆层的厚度,这个距离就是覆层的厚度,所以只要覆层与基材的导磁率之差足够大,就可以进行测量。鉴于大多数工业品采用结构钢和热轧冷轧钢板冲压成形,所以磁性测厚仪应用最广。测量仪基本结构是磁钢,拉簧,标尺及自停机构。当磁钢与被测物吸合后,有一个弹簧在其后逐渐拉长,拉力逐渐增大,当拉力钢大于吸力磁钢脱离的一瞬间记录下拉力的大小即可获得覆层厚度。一般来讲,依不同的型号又不同的量程与适应场合。 在一个约350º角度内可用刻度表示0~100µm;0~1000µm;0~5mm等的覆层厚度,精度可达5%以上,能满足工业应用的一般要求。这种仪器的特点是操作简单、强固耐用、不用电源和测量前的校准,价格也较低,很适合车间作现场质量控制。 二、磁感应原理测厚仪磁感应原理是利用测头经过非铁磁覆层而流入铁基材的磁通大小来测定覆层厚度的,覆层愈厚,磁通愈小。由于是电子仪器,校准容易,可以实多种功能,扩大量程,提高精度,由于测试条件可降低许多,故比磁吸力式应用领域更广。当软铁芯上绕着线圈的测头放在被测物上后,仪器自动输出测试电流,磁通的大小影响到感应电动势的大小,仪器将该信号放大后来指示覆层厚度。早期的产品用表头指示,精度和重复性都不好,后来发展了数字显示式,电路设计也日趋完善。近年来引入微处理机技术及电子开关,稳频等最新技术,多种获专利的产品相继问世,精度有了很大的提高,达到1%,分辨率达到0.1µm,磁感应测厚仪的测头多采用软钢做导磁铁芯,线圈电流的频率不高,以降低涡流效应的影响,测头具有温度补偿功能。由于仪器已智能化,可以辨识不同的测头,配合不同的软件及自动改变测头电流和频率。 一台仪器能配合多种测头,也可以用同一台仪器。可以说,适用于工业生产及科学研究的仪器已达到了了非常实用化的阶段。利用电磁原理研制的测厚仪,原则上适用所有非导磁覆层测量,一般要求基本的磁导率达500以上。覆层材料如也是磁性的,则要求与基材的磁导率有足够大的差距(如钢上镀镍层)。磁性原理测厚仪可以应用在精确测量钢铁表面的油漆涂层,瓷、搪瓷防护层,塑料、橡胶覆层,包括镍铬在内的各种有色金属电镀层,化工石油行业的各种防腐涂层。对于感光胶片、电容器纸、塑料、聚酯等薄膜生产工业,利用测量平台或辊(钢铁制造)也可用来实现大面积上任一点的测量。

  • 牛津仪器X-Strata 920镀层测厚仪

    牛津仪器X-Strata 920镀层测厚仪,[color=#333333]牛津仪器是一家世界领先的高科技[/color][color=#333333]系统设备供应商。设计制造的设备可以在原子和分子层面,制造、分析和操控物质,并广泛应用于研究和工业领域为客户提供完美的解决方案。牛津仪器X-Strata 920镀层测厚仪。X射线荧光镀层测厚仪快速可靠的X射线荧光镀层厚度测量及材料分析,低成本、高效率.牛冿 OXFORD X-strata 920特别适合:PCB行业,电镀行业等做精密无损测试。可测镀金,银,铜,锡,及稀有金属等。[/color][color=#333333][/color][color=#333333]牛津仪器X-Strata 920镀层测厚仪工作性能[/color][color=#333333]1.测量元素范围:钛Ti22---铀U92;2.测量5层(4层镀层+底材层)镀层,同时分析15种元素,自动修正X射线重叠谱线;3.测量精度高、稳定性好,测量结果精确至μin;4.快速无损测量,测量时间短,10秒内得出测量结果;5.可分析固体、溶液;定性、半定量和定量分析;6.进行贵金属检测,如Au karat评价;7.材料鉴别和分类检测,材料和合金元素分析,元素光谱定性分析;8.强大的数据统计、处理功能:平均值、标准偏差、相对标准偏差、最大值、最小值、数据变动范围、数据编号、CP、CPK、控制上限图、控制下限图,数据分组、X-bar/R图表、直方图;9.结果输出:直接打印或一键导出到PDF、Excel文件;报告包含数据、图像、统计图表、客户信息等;10.测量位置预览功能;高分辨率彩色CCD样品观察系统,标准光学放大倍数为30倍;11.激光对焦和自动对焦功能;单击鼠标,Z轴自动扫描,镭射聚焦;12.拥有NIST认证的标准片;提供全球服务及技术支持。安全性:1.简单用户界面只向日常操作员设定有限的授权2.主管人员可进行系统维护3.系统自动生成操作员的使用记录4.自动锁定功能防止未授权的操作5.Z轴保护传感器6.安全防射线光闸7.样品室门开闭传感器8.X射线锁9.X射线警示灯10.紧急停止按钮11.前面板安全钮和后面板安全锁八、仪器配置:1.X-Strata920测试主机2.联想ThinkCentre计算机(原IBM)------Windows7中文版、SmartLink FP分析软件包3.17吋戴尔Dell液晶显示器4.佳能Canon彩色喷墨打印机[/color][color=#333333][/color]

  • 【求助】请问如何剥离镀层?

    最近在圆柱镀件表面进行化学镀镍,想要测定镍磷合金中的磷含量,可是学校没有能谱仪,只能手工剥离镀层,请问怎么操作才能把镀件表面的镀层剥下来啊?谢谢!

  • 薄膜包衣技术难点及解决方案

    20世纪50年代初,第一个真正意义的薄膜包衣片在美国诞生了。从那时算起,薄膜包衣技术已经经历了半个世纪的发展。而我国起步较晚,20世纪70年代末,才陆续出现少数医药研究单位和药厂研制的各种包衣液和薄膜包衣工艺,并逐渐推广应用。到了20世纪90年代中期,我国才逐渐出现了薄膜包衣技术“热”。但是从整体上看,这项技术在我国的发展仍然比较缓慢。许多制药企业由于技术上的原因,在应用上仍旧存在着不少问题。在片心表面通过喷雾的方法均匀地喷上一层比较稳定的高分子聚合物衣料,形成数微米厚的塑性薄膜层,使之达到一定的预期效果,这一工艺过程称为薄膜包衣。应用薄膜包衣技术是制药行业的需求和发展趋势。有些人认为薄膜包衣片没有糖衣片好,没有糖衣片那么光亮,事实上薄膜包衣与传统的包糖衣技术相比,有许多优点,如包衣耗时短,更能防潮、避光,药物稳定性更强等。包薄膜衣必须改变过去包糖衣的观念,这一点非常重要。一直以来,一些制药企业把薄膜包衣技术简单地看做是片剂生产中的独立环节,包薄膜衣就像包糖衣一样只是单纯包衣。其实,并不是那么简单。作为一项新技术,包薄膜衣对片心的要求相对于包糖衣而言要严格得多,片的硬度要求较高,而且它对各个工序之间的相互配合、生产过程中的一系列技术指标及要求的调整和相互配套都有所要求。所以,必须本着科学、求实的态度来对待薄膜包衣技术的引进及应用,只有这样,包出的片才能达到理想的效果。良好的片心质量对薄膜包衣起到决定性的影响。有时片心的机械质量太差,就根本无法进行薄膜包衣,即使勉强进行,衣膜质量也很难保证。在所有影响片心机械性能的因素当中,片的硬度和脆碎度最为重要,而脆碎度又比硬度显得更为突出。一般而言,适合包薄膜衣的中药片硬度应该在5kg/cm3,西药片硬度应该在4kg/cm3左右。如何检查呢?最简单的方法是硬度计检测;或将一素片垂直向上抛2米,使之自由落地,两次以上不断裂者为硬度合格。检查脆碎度的简单方法是用手指用力刮片的边缘或片的表面,没有片粉脱落者为宜;另一个方法是将30片左右的素片置于250ml的玻璃杯中,用力摇两分钟左右,以片的表面、片的边缘不磨损者为宜。对于吸湿性大的素片,硬度要求则更高。应用薄膜包衣技术进行包衣时,不管是采用高效包衣机、流化床包衣机,还是发行的糖衣锅进行包衣,都应遵照如下原则:一是片心硬度要够硬,否则开始包衣时,片心与锅壁反复摩擦,将会出现松片、麻面等现象;二是片床温度要保持恒定;三是设备中溶剂蒸发量与喷液过程中带入的溶剂量要保持平衡,即溶剂蒸发与喷液速率处于动态平衡。片面平整、细腻的关键在于整个过程中要掌握锅温、喷量、转速三者之间的关系,这是薄膜包衣操作过程中的重中之重。操作时,包衣液的雾化程度直接影响包衣所成衣膜的外观质量,而喷液的雾化效果直接由雾化压力以及雾化系统决定。喷雾开始时,掌握喷速和吹热风温度的原则是:使片面略带湿润,又要防止片面粘连,温度不宜过度过低。若温度过高,则干燥太快,成膜容易粗糙,片色不均;若温度过低,或喷速过快,则会使锅内湿度过度高,很快就会出现片的粘连等现象。锅的转速与包衣操作之间的关系是:转速低,衣膜附着力强;转速高,衣膜附着力差,易剥落。包衣过程中,温度过低,喷量过大,片子流动滞留,则有可能会出现粘片现象。这时可加大转速使其改善,必要时还可适当调节温度和喷量、喷程等加以克服。在使用包衣粉质量不变的情况下,包衣操作中常出现的问题及解决的方法如下:1、粘片:主要是由于喷量太快,违反了溶剂蒸发平衡原则而使片相互粘连。出现这种情况,应适当降低包衣液喷量,提高热风温度,加快锅的转速等。2、出现“桔皮”膜:主要是由于干燥不当,包衣液喷雾压力低而使喷出的液滴受热浓缩程度不均造成衣膜出现波纹。出现这种情况,应立即控制蒸发速率,提高喷雾压力。3、“架桥”:是指刻字片上的衣膜造成标志模糊。解决的办法是:放慢包衣喷速,降低干燥温度,同时应注意控制好热风温度。4、出现色斑:这种情况是由于配包衣液时搅拌不匀或固体状特质细度不够所引起的。解决的方法是:配包衣液时应充分搅拌均匀。5、药片表面或边缘衣膜出现裂纹、破裂、剥落或者药片边缘磨损:若是包衣液固含量选择不当、包衣机转速过快、喷量太小引起的,则应选择适当的包衣液固含量,适当调节转速及喷量的大小;若是片心硬度太差所引起,则应改进片心的配方及工艺。6、衣膜表现出现“喷霜”:这种情况是由于热风湿度过高、喷程过长、雾化效果差引起的。此时应适当降低温度,缩短喷程,提高雾化效果。7、药片间有色差:这种情况是由于喷液时喷射的扇面不均或包衣液固含量过度或者包衣机转速慢所引起的。此时应调节好喷枪喷射的角度,降低包衣液的固含量,适当提高包衣机的转速。8、衣膜表面有针孔:这种情况是由于配制包衣液时卷入过多空气而引起的。因而在配液时应避免卷入过多的空气。薄膜包衣技术在中药制药中的应用薄膜包衣是一种新型的包衣工艺,指在片芯之外包上比较稳定的薄层聚合物衣膜。自30年代以来就陆续出现了有关薄膜包衣的研究指导,但由于当时薄膜材料、包衣工艺和设备等条件尚不能适应生产要求,实际应用受到一定的限制。到了50年代,美国雅培药厂(AbbottLab)首先生产出新型的薄膜片剂,并用“Filmtab”商标取得专利。经过近40年的研究发展,生产设备和工艺的不断改进和完善,高分子薄膜材料的相继问世,使薄膜包衣技术得到了迅速发展,尤以日本的薄膜包衣技术发展得最快,已有80%片剂改为薄膜包衣。薄膜包衣工艺可广泛用于片剂、丸剂、颗粒剂,特别对吸温性强、易开裂、易退色的中药片剂更显示其优越性。进入90年代,薄膜包衣技术在中药行业有了一定发展,主要用于片剂的薄膜包衣。薄膜包衣与包糖衣比较,主要有以下优点:(1)时间较短(包一锅片剂只需2小时左右,而包一锅糖衣片需要约16小时),操作简便,干燥速度快,药物受热影响小,有利于提高药品的质量。(2)薄膜包衣工艺节约劳动力(1~2名操作工人)、厂房及设备(只需一间标准厂房及一台包衣锅),节约材料,所以成本较低,而前期投入也十分有限。(3)应用薄膜包衣工艺的片剂仅使片芯重增加2%~4%,而糖衣片剂(其中主要辅料成分是国外已淘汰的滑石粉)往往可使片芯重量增大50%~100%。(4)薄膜包衣工艺能减少工作场所的粉尘飞扬,有利于环保和劳动保护,亦可节约包装材料等。(5)应用薄膜包衣工艺的片剂压在片上的标志在包薄膜衣后仍清晰可见,便于患者辨别和使用。(6)薄膜包衣的片剂坚固耐磨,不易开裂;薄膜包衣材料有优异的物理性能,大多数材料均能抗湿抗热,可提高产品质量,延长产品的有效期。(7)薄膜包衣有众多的材料可供选择。除了能达到一般的包衣目的外,还可通过选择薄膜材料和设计包衣处方,使形成的包衣膜在一定的pH范围内溶解或崩解;也可控制膜的渗透性,使所包的药物在体内通过扩散作用陆续释放出来,达到定时、定位释放药物的目的。这是薄膜包衣具有广泛发展前途的一个重要原因。(8)生产工艺过程和材料用量可以标准化基于以上因素,国际上已基本淘汰了糖衣片,取而代之以薄膜包衣片,国内也在加速这个进程。目前,我国的中药薄膜包衣工艺的应用尚处在起步阶段,国内中药片剂主要还是以糖衣片为主,薄膜包衣的市场前景十分广阔,所以薄膜包衣技术的进一步的研究开发和提高,应引起我们的重视.

  • 【分享】美以蔗糖为原料制造石墨烯 可以控制石墨烯厚度

    美国科学家使用普通的蔗糖制造出了纯净的石墨烯,用这种石墨烯可以研制出更轻、更快、更廉价、更紧实柔韧的计算机电子设备,可广泛运用于军用飞机和医疗领域。  美国莱斯大学化学教授詹姆斯·图尔领导的科研小组首先将少量的蔗糖放置在一薄层铜箔上,然后在加热和低压下让这些蔗糖接触流动的氢气和氩气。10分钟后,这些蔗糖缩减成纯净的单层石墨烯,调整气体的流动可控制石墨烯薄膜的厚度。  该研究团队的这种一步式低温处理方法不仅相对简单而且可控,不需要使用更难处理的化学气相沉积法以及其他需要高温的方法,使制造石墨烯变得更加容易。图尔解释道,在传统化学气相沉积法中,科学家需要持续使用气体(甲烷或乙烷)来调整石墨烯的生长环境和掺杂物质以让石墨烯的质量达到最优,但新方法使用了不同的碳原料,因此,可以更好地控制石墨烯中掺杂的物质和石墨烯的厚度。  美国空军科学研究处(AFOSR)的项目主管查尔斯·李表示,图尔正在探索的新化学方法,可以生产出高质量的碳基纳米结构,如碳纳米管和具有特定属性的石墨烯等。而掺杂了其他物质的石墨烯对空军和其他商业电子产品都非常有用。纯净的石墨烯缺乏能带隙,这使它难于用作数字器件。但掺杂了其他物质的石墨烯可以操控电子设备和光学设备的性能,这对于制造开关设备和逻辑设备来说非常重要。  新石墨烯材料在其他商业和医疗领域运用也极富潜力。科学家可以用其研制透明的触摸屏设备、创伤性脑损伤手术中使用的特殊生物相容型薄膜、个人电脑中更快捷的晶体管或太阳能捕获设备中的纤薄材料等。(科技日报)

  • 高分子薄膜缓释技术或成为疫苗接种新方法

    接种效果优于电穿孔法 可提高DNA疫苗的有效性2013年01月31日 来源: 中国科技网 作者: 王小龙 中国科技网讯 据麻省理工学院新闻网1月28日报道,该校研究人员日前开发出一种类似于膏药的疫苗,这种疫苗通过高分子薄膜的方式输送药物,可提高DNA疫苗的有效性。相关论文1月27日发表在《自然·材料学》杂志网络版上。 疫苗通常由灭活病毒制成,通过刺激人体免疫系统的方式,帮助免疫系统建立屏障阻止病毒感染。然而,这种方法对于艾滋病等病毒而言过于危险。近年来,为开发出更加有效和安全的疫苗,许多科学家在探索制造DNA疫苗。 大约20年前,科学家发现,一种DNA编码的病毒蛋白能够在啮齿动物中引起强烈的免疫反应,但在人体上一直无法复制。直到不久前,一种被称为电穿孔的方法在DNA疫苗的接种上获得了一些突破。这种方法首先需要在皮下注射DNA,然后再用电极产生电场,促使皮肤细胞膜打开小空隙,允许DNA进入。然而,这个过程较为痛苦,接种结果也存在不确定性。 新研究采用了不同的方法将DNA传递到皮肤当中,这种疫苗由多层被植入DNA的高分子材料组成。高分子薄膜上有若干个微型针头,贴在皮肤上时能够渗入皮肤中大约半毫米,这种深度足以使药物进入表皮细胞,又不会接触到真皮层的神经末梢,因此不会引发疼痛。一旦被贴在皮肤上后,薄膜就会逐渐降解,疫苗的释放过程从数天到数周不等。 研究人员可通过控制高分子薄膜层数的方法控制DNA的投递量,还能够通过控制高分子薄膜遇水分解的速度来控制用药时间。由于这种方法增加了DNA与免疫系统之间的交互时间,因此也提高了疫苗的有效性。在小鼠实验中,研究人员发现新方法接种效果优于电穿孔法。下一步,他们还将在类灵长动物上开展进一步的实验。 研究人员称,这种疫苗贴用于多种疾病的免疫,因为DNA序列可以很容易按照不同疾病的需要进行转化。与蛋白质疫苗相比,其优势在于,每个蛋白质都有其特殊性,在生产和接种效果上都存在不确定性,但DNA的行为始终是相同的,不管它采用怎样的抗原编码。 负责该项研究的麻省理工学院生物工程和材料学教授达雷尔·欧文说,如果这种疫苗能够在人体试验中获得成功,将会让接种疫苗的方式发生巨大改变。由于不再需要注射器并能够在室温下储存,疫苗的使用和运输将更加安全。此外,针对皮肤中丰富的免疫细胞、可生物降解的缓释材料的使用、无痛接种也是这种疫苗接种方式的优势。“这是一种有趣的方法,不但适用于接种基于DNA的病毒抗原,也适用于其他小分子的传输。”欧文说。(记者 王小龙) 《科技日报》(2013-01-31 二版)

  • 【原创大赛】金属电镀层确认的一些常用方法

    【原创大赛】金属电镀层确认的一些常用方法

    金属电镀层确认的一些常用方法 金属电镀层一般是为提高金属零件在使用环境中的抗蚀性能;装饰零件的外表,使其光亮美观;提高零件的工作性能,如硬度、耐磨性、导电性、电磁性、耐热性等等。那做为实验室一员,一般对接收的样品如何去判断是否有镀层及镀层是什么呢,根据工作的关系个人总结了以下本实验室常用的方法,仅供参考!一.单一镀层1.X射线荧光光谱仪(XRF)法:这个一般适用于0.1um以上镀层。主要是根据基材和镀层的成分对比,看出镀层的成分。案例a:确认样品表面是否电镀金,根据谱图显示样品基材是黄铜,表面镀金。同时可以看出镀层非常薄,因为已经测试到基材元素,不放大谱图很难看到金的峰。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/08/201508061129_559449_2042772_3.png 案例b:根据谱图显示样品基材是碳钢,表面镀锌。同时可以看出镀层比较厚。约几十微米。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/08/201508061129_559450_2042772_3.png2. X射线能谱仪(EDS)法:这个一般适用于0.1um以上镀层。一般有二种模式,直接测试表面和金相制样后测试截面。 案例a:直接测试,这种需要知道基材是什么然后才可以判断表面镀层成分。客户告知样品为一含氟工作电极表面有镀层,根据谱图可以看出样品基材是一含氟电极表面镀铂。同时可以看出镀层比较薄,因为已经测试到基材元素。对于镀层大于0.3um一般不会出现这种情况,直接显示镀层含量一般在90%以上(不考虑空气中的碳和氧)。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/08/201508061130_559451_2042772_3.png案例b:金相制样后EDS线扫描测试,这种不需要知道基材是什么即可以判断表面镀层成分。根据谱图看出样品基材是钢表面镀镍。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/08/201508061130_559452_2042772_3.png3.X射线光电子能谱仪(XPS)法,这个适用于表面10nm以上的镀层,分析下线比较低。谱图是表面溅射10nm后的XPS谱图,根据谱图可以看出样品表面镀铬.(不考虑空气中的碳和氧).http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/08/201508061130_559453_2042772_3.png二.复合镀层1. X射线荧光光谱仪(XRF)法:这个一般适用于0.1um~几十um复合镀层。主要需要客户告知镀层的电镀情况,即第一层镀什么,第二层镀什么,同时镀层不能太厚,太厚时需要慢慢打磨镀层然后能XRF确认。如何客户不告知每一层具体成分的话,只有自己根据经验判断。 案例a:客户声称样品基材是锌合金表面电镀铜然后在镀锡,根据谱图显示样品基材是是锌合金表面电镀铜然后在镀锡。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/08/201508061132_559454_2042772_3.pnghttp://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/08/201508061132_559455_2042772_3.pnghttp://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/08/201508061132_559456_2042772_3.png 2. X射线能谱仪(EDS)法:这个一般适用于0.3um以上镀层。金相制样后测试截面。案例:金相制样后EDS线扫描测试,根据谱图看出样品基材是铜表面镀镍后在镀铬。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/08/201508061132_559457_2042772_3.png3.X射线光电子能谱仪(XPS)法,这个适用于表面10nm以上的镀层,分析总厚度小于2μm。如果大于2μm就可以建议用其他方法测试了。因为大于2μm分析时间就比较长,成本比较高。按照一分钟溅射10nm,2μm的镀层就需要3个多小时了。还不算分析时间。案例:样品为一太阳镜表面膜层深度剖析。根据测

  • 【讨论】椭偏仪测量薄膜厚度

    在si片上镀一层纳米碳膜,碳膜表面光洁如镜面,采用椭偏仪测量薄膜的厚度,测量时选择基底材料为si,将k设为0(透明薄膜,不知是否准确或透明薄膜如何定义?),根据SEM测量得到的薄膜厚度拟合得到一个n值(2.0921),采用此n值对类似情况下制备的薄膜进行厚度测量,测量得到的结果还行,基本与肉眼看到的薄膜厚度差别相当。不知此方法是否正确?1.是否能采用透明膜的测量方法测量碳膜?2.采用同一n值测量厚度是否合适?希望高手指点,谢谢!

  • 【求助】如何测试镀层中的镍含量?

    [center]如何测试镀层中的镍含量?[/center]小弟,在处理样品的时候遇到这样一个问题,某金属需要测试其表面电镀层的镍,和基材的镍含量。镀层太薄了,处理起来很难,请问有什么方法可以直接测试电镀层中的镍呢?测试基材的,我是用沙纸把电镀层打磨后再前处理消解。 如何测试镀层中的镍含量?

  • 【转帖】薄膜性能测试都有哪些内容 ? 需要什么仪器 ?

    1 *******************************************************************光学薄膜的性能主要包括:1)光学指标:反射率、透射率,吸收率等,一般使用分光光度计测量;2)颜色指标(实际上包含于第一项)3)光洁度,使用体视显微镜目视检验;4)膜层的牢固度,使用美军标牢固度测试胶带;5)膜层的硬度,使用专用的压力橡皮擦;6)膜层透射、反射的相位,一般使用椭圆偏振仪测量;7)激光损伤阈值,一般使用较大功率的激光器和功率计;8)抗环境性能:双高试验(高温、高湿),温度循环试验,一般要使用温度、湿度可控制设备、盐水浸泡试验等。 2 *******************************************************************1.光学特性:分光光度计,激光测定仪,ZYGO干涉仪,位相差测定仪2.膜强度:用干抹纸来回檫10下,膜面无划伤,放进耐湿机内(60度,90%RH)24小时后用600#胶纸拉膜面不脱膜.3.若第一次生产新产品,则需要做高温试验(一般90度,168H),低温试验(-40度,168H),高温高湿试验(60度,168H),周期试验(-40毒~+95度12周期),有的还要老化试验(1500H) 3 *******************************************************************在线分光光度计

  • 请教介孔薄膜的做法

    我刚刚学习介孔材料的合成,想合成SBA-15的介孔薄膜,我看了赵东元的文献中提到需要在酸度ph2,加热温度在35-140之间才能得到有序的SBA-15,而在2002年Peter C. A. Alberius等人在CM上发表的介孔薄膜中却使用了PH=2,温度不超过35度的条件,这不与赵等人的条件不符合嘛?不知薄膜制备条件和粉体关键区别在哪?另外,合成的薄膜怎么拨下来进行透射电镜观察?向牛人们虚心请教!非常感谢!

  • 谈谈薄膜真空计(3)

    谈谈薄膜真空计(3)

    http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2011/10/201110211922_325615_1608408_3.jpg学习和引进国外先进核心技术,,根据我国真空设备配套测控仪表的特点,研制出的陶瓷薄膜真空计,其测量精度和稳定性已经完全可以与进口产品相媲美了。根据国内设备的习惯,控制柜上数字面板表,还是经常使用的,采用专门设计的具有真空测控特点的精密二次仪器仪表,借籍于现代智能仪表技术的科技成果,有利于提供测量的精度、分辨率、稳定性和可靠性,增加智能化的自动控制功能,(可以配接任何一种模拟量、数字量的接口,比进口的薄膜真空计更灵活、更方便)实践证明,陶瓷薄膜真空计使用到真空冷冻干燥机、真空单晶炉、气氛真空炉、真空精馏设备、真空镀膜机等设备,做真空测量和自动控制,带来极大地方便和性能提高,可以快速升级为智能型的真空应用设备。当然,也可以用到实验室、计量室作为相应的真空段的0.1级标准器,陶瓷芯片的优异性能使其年稳定度达到0.1%以上。

  • 【求助】多层薄膜能测出每一层的拉曼普吗

    大概有十多层,薄的有几十纳米,厚的几百纳米,半导体量子井结构,薄膜之间因掺杂或载流子密度有所不同,载流子振荡可能会产生等离子激元与晶格震动的耦合,这样有没有可能分别测出每一层的拉曼光谱,或在拉曼光谱中找出每一层的特征峰?以前没做过拉曼测量,刚要接触,很多都不懂,谢谢回答!

  • 双层 薄膜 XRD 图谱 问题

    大家好!又有问题需要请教大家: 有没有人做过 双层薄膜的XRD 图谱,我有一批 Mo/Cu(InGa)Se2 双层 薄膜,想测下 这个双层的 XRD图谱,但是 结果 显示 上层薄膜 Cu(InGa)Se2 的特征峰 都能出来 ,而 下层 金属Mo 层的 特征峰 却不能出来,我的XRD 型号是X’PertPRO’s PANalytical X-ray diffraction (XRD) using CuKa radiation (l = 1.542Å),测试过程中 θ值 固定为 0.5。是不是 还需要修改 什么参数呀,请大家赐教,谢谢!

  • 【原创】薄膜测厚仪

    【原创】薄膜测厚仪

    电容性薄膜测厚仪 http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/01/201701191656_646126_2244676_3.jpg 名称属性 测厚仪组成部分发射探头 1个接受探头 1个电脑控制转换器 1个工业触摸屏 1个操作柜 1台U型探头支架 1个技术指标检测厚度: 10um-20mm检测精度:土0.1um检测宽度:根据产品宽度循环测厚设定在线速度 max:60m\min作业环境海拔低于1500米,三相380v电。适用于POF、牛奶包装膜、彩印膜、大棚膜等各类薄膜产品。

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