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测量厚度显微镜

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测量厚度显微镜相关的论坛

  • 【求助】测微米尺度半导体薄膜的厚度需要什么显微镜?

    请大家帮我分析一下,我想在玻璃或者硅上生长一层或多层金属氧化物薄膜,这些薄膜多数是半透明的,厚度在0.5-2微米之间,我希望能依靠一种光学显微镜对厚度有个大致的测量,然后根据结果改进我的实验参数,这就需要放大倍数在500倍以上,最好能达到1000倍甚至更高,但必须不能使用油镜。我看了江南永新和上海长方的显微镜资料,发现金相显微镜和偏光显微镜似乎对我有用,我对这两种显微镜的用途不甚了解,不知道该买哪一款。请热心的网友们帮我参谋参谋,谢谢了。

  • 【原创大赛】SGS材料说: 显微镜法测量金属和氧化物覆盖层厚度

    【原创大赛】SGS材料说: 显微镜法测量金属和氧化物覆盖层厚度

    [align=center][b]显微镜法测量金属和氧化物覆盖层厚度[/b][/align][b][/b][align=center]SGS 王晓卫[/align][align=left][b]1 前言:[/b][/align][align=left]在产品表面处理中,通过采用物理或者化学等方法(多数为化学方法),在金属或非金属材料的表面形成一层或多层具有一定厚度的金属和氧化物覆盖层,从而起到对产品外表美观、装饰,导电,防腐蚀等作用。[/align][align=left]覆盖层又分为金属覆盖层和氧化物覆盖层。金属覆盖层中常见的多为电镀层,如铜合金表面镀镍镀锡;氧化物覆盖层多为化学转化膜,如铝合金表面生成的氧化膜。[/align][align=left]覆盖层厚度和均匀性是表征覆盖层性能的重要参数,在科学研究、工艺控制、产品质量检测中常常对覆盖层厚度进行测量,测量方法主要有涡流法、磁性法、库仑法、显微镜法、扫描电子显微镜法、轮廓仪法,X射线法。显微镜法测量覆盖层厚度简单且直观,是较早使用的光学测量法。显微镜法测量厚度是一种破坏性测量方法,由于测量精确度高,也被作为厚度测量的仲裁方法。[/align][align=left][b]2 测量原理:[/b][/align][align=left]从待测件上切割一块试样,镶嵌后,采用适当的技术对横断面进行研磨、抛光和侵蚀。用校正过的标尺测量覆盖层横断面的厚度。[/align][align=left][b]3 测量流程:[/b][/align][align=left]取样→清洗→吹干→试样镶嵌→研磨→抛光→清洗→吹干→侵蚀→清洗→吹干→上校准过得金相显微镜观察拍照→使用测量软件,测量厚度。[/align][align=left][b]4 测试举例[/b][/align][align=left]4.1 铜合金表面电镀镍+电镀锡厚度测量[/align][align=center][img=,690,517]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2018/07/201807271415160847_2204_2883703_3.jpg!w690x517.jpg[/img][/align][align=left]使用双氧水氨水水溶液腐蚀,各层显示出清晰的分界面。铜合金表面电镀镍层厚度在3.3-4.6um之间,平均值为3.9um;最外层相对疏松电镀锡,厚度相对不均匀,在3.8-7.5um之间,平均值为4.9um。[/align][align=left][b]4.2 铝合金表面氧化膜厚度测量[/b][/align][align=center][b][img=,690,517]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2018/07/201807271416246565_4483_2883703_3.jpg!w690x517.jpg[/img][/b][/align][align=left]使用keller试剂腐蚀,清晰显示处氧化层与基体分界线。铝合金表面生成氧化膜厚度在15.3-15.8um,平均值为15.6um。[/align][align=left][b]5 测量心得[/b][/align][align=left]1.显微镜法测厚度的关键是制备符合要求的横断面。如果制备的横断面不符合要求,无论多么精密的设备都不能测量出厚度的真实值。样品横断面制备过程需考虑横断面斜度,覆盖层变形,表面粗糙度等。[/align][align=left]2.选择合适的试剂进行适当的侵蚀,在两种物质的界面上产生细而清晰地黑线,准确测量覆盖层厚度,如果不侵蚀或者侵蚀过度,界面线会不清晰或者线条变宽,产生测量误差。[/align]

  • 【讨论】利用金相显微测量涂层厚度的试验,大家有做过的不妨进来讨论一下!

    小弟最近研究利用金相实验来测量涂层厚度。查了一些资料,有人用磨光的截面直接在显微镜下看,来直接测量边缘的黑色区域,测量值为涂层厚度值。我觉得,这个厚度值偏大了些,因为在吹干试样时,不可避免的会激起缝隙中的水分或者杂物,从而覆盖了真实的涂层或者掩盖了真实的涂层宽度。不知道,我的想法对不对,请路过的大侠不惜赐教!

  • 【讨论】XRF测量磷镍镀层厚度 问题

    本人使用日本精工仪器测量铁基材料上磷镍镀层与通过做切片用电子显微镜测量的结果相差0.5um,是通过纯镍标准片建立工作曲线的,只测定了镍的的厚度为2.5um,通过SME拍照厚度为3.1um,想请教我能用什么方法把这个磷镍镀层的尺寸测得与实际尺寸接近,如果用XRF测试其修正参数应怎样确认,谢谢!

  • 液相透射电子显微镜液体厚度调节中的真空度精密控制解决方案

    液相透射电子显微镜液体厚度调节中的真空度精密控制解决方案

    [size=16px][color=#339999][b][font='微软雅黑',sans-serif]摘要:为了实现[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/5p]液相[/url]电子显微镜的更广泛和更便捷应用,需要对微芯片中的液体样本厚度进行精密调控。本文基于透射显微镜中被检液体样本内外压差对应于液体厚度这一凸起变形膨胀的基本现象,提出了通过精确控制液体池内部真空度来实现液体厚度精密调控的解决方案。真空度的高精度控制将采用动态平衡法,可在宽区间[/font]0.1~100kPa[font='微软雅黑',sans-serif]范围内的任意真空度下实现±[/font]1%[font='微软雅黑',sans-serif]的控制精度,最终实现液体样本厚度的高精度自动调节和控制。[/font][/b][/color][/size][size=16px][color=#339999][b][font='微软雅黑',sans-serif][/font][/b][/color][/size][align=center][size=16px][font='微软雅黑',sans-serif][img=真空度精密控制技术在液相透射电子显微镜液体厚度调节中的应用,550,328]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/02/202302201108567445_1826_3221506_3.jpg!w690x412.jpg[/img][/font][/size][/align][size=16px][font='微软雅黑',sans-serif][/font][/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=24px][color=#339999][b]1. 问题的提出[/b][/color][/size][/font][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px] 近年来,基于透射电子显微、微纳加工和薄膜制造技术的液相透射电子显微技术,为构建多种纳米级分辨率尺度下的微实验平台,发展新型纳米表征技术和众多领域的相关研究提供了有效途径。如图[/size][/font][size=16px]1[/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px]所示,一个标准的液体池是由隔离材料支撑起两片电子透明氮化硅([/size][/font][size=16px]SiN[/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px])薄膜窗口的硅微芯片,液体样品被填充在这两个窗口之间。[/size][/font][font='微软雅黑',sans-serif][/font][align=center][size=14px][b][color=#339999][img=液相透射额电子显微镜液体腔基本结构示意图,500,321]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/02/202302201111174803_9349_3221506_3.jpg!w690x444.jpg[/img][/color][/b][/size][/align][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px][color=#339999][/color][/size][/font][align=center][b][font='微软雅黑',sans-serif]图[/font][size=16px]1 [/size][font='微软雅黑',sans-serif]液相透射额电子显微镜液体腔基本结构示意图[/font][/b][/align][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px][font=微软雅黑, sans-serif] [/font]理论上,液体厚度可以通过微芯片之间的间隔垫片来设定,但在实际观察中需要将微芯片放置在透射电子显微镜的超高真空环境中,使得膜窗口内外的压力不同,此压差会造成膜窗口凸起变形膨胀而造成液体厚度发生改变,而这种改变往往超过了好几倍。因此,除非产生气泡,这种厚度变化将严重影响观测的分辨率。另外,可以用柱子连接顶部和底部膜窗口以最小化膨胀,但这种固定厚度的液体池无法加载不同的样本进行观测,并不具有通用性和适用性。[/size][/font][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px][font=微软雅黑, sans-serif] [/font]由此可见,液体池在透射电子显微镜超高真空环境下的凸起变形膨胀,反而是一种可利用的特性,通过这种膨胀可实现不同厚度的液体样品以使得在保证高分辨率的条件下对多种液体样本进行观测,更具有通用性和适用性,但这种液体厚度可调的前提是液体厚度可精确控制。[/size][/font][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px][font=微软雅黑, sans-serif] [/font]因此,为了实现液相电子显微镜中液体样本厚度可调,就必须设法对液体池膜窗口内外的压差进行精密控制。本文将针对液体池内部的真空度控制提出相应的解决方案,真空度的高精度控制将采用动态平衡法,可在[/size][/font][size=16px]0.1~100kPa[/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px]范围内的任意真空度下实现±[/size][/font][size=16px]1%[/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px]的控制精度,由此实现液体样本厚度的精密可调和恒定控制。[/size][/font][b][size=24px][color=#339999]2. [font='微软雅黑',sans-serif]解决方案[/font][/color][/size][/b][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px][font=微软雅黑, sans-serif] [/font]采用控制液体样本的真空度来调节微芯片内外压差实现液体样本厚度变化控制的方法,实际上早在文献[/size][/font][size=16px][1,2][/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px]中进行过简单描述,如图[/size][/font][size=16px]2[/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px]和图[/size][/font][size=16px]3[/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px]所示。[/size][/font][font='微软雅黑',sans-serif][/font][align=center][size=14px][b][color=#339999][img=文献1所述的真空压力控制系统结构示意图,690,311]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/02/202302201111448082_9675_3221506_3.jpg!w690x311.jpg[/img][/color][/b][/size][/align][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px][color=#339999][/color][/size][/font][align=center][b][font='微软雅黑',sans-serif]图[/font][size=16px]2 [/size][font='微软雅黑',sans-serif]文献[/font][size=16px]1[/size][font='微软雅黑',sans-serif]所述的真空压力控制系统结构示意图[/font][/b][/align][align=center][size=14px][b][color=#339999][/color][/b][/size][/align][align=center][size=14px][b][color=#339999][img=文献2所述的真空压力控制系统,550,570]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/02/202302201112014834_1301_3221506_3.jpg!w690x716.jpg[/img][/color][/b][/size][/align][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px][color=#339999][/color][/size][/font][align=center][b][font='微软雅黑',sans-serif]图[/font][size=16px]3 [/size][font='微软雅黑',sans-serif]文献[/font][size=16px]2[/size][font='微软雅黑',sans-serif]所述的真空压力控制系统[/font][/b][/align][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px][font=微软雅黑, sans-serif] [/font]文献[/size][/font][size=16px][1][/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px]中基本给出了采用真空度控制来实现液体厚度调节的整个装置结构示意图,但并没有给出调节厚度用的真空度控制范围。文献[/size][/font][size=16px][2][/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px]虽然仅给出了示意草图和控制值装置的照片,但对应不同液体厚度的调节给出了相应的真空度范围为[/size][/font][size=16px]5~100kPa[/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px]。[/size][/font][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px][font=微软雅黑, sans-serif] [/font]我们从真空度控制的基本原理分析,文献[/size][/font][size=16px][1,2][/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px]采用的是相同的控制方法,即动态平衡法,也就是通过分别调节图[/size][/font][size=16px]2[/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px]所示的进气和出气流量来实现不同设定真空度的动态平衡控制。[/size][/font][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px][font=微软雅黑, sans-serif] [/font]另外,之所以采用动态平衡法控制真空度,这主要是因为一是可以实现很高的控制精度,控制精度可以轻松达到±[/size][/font][size=16px]1%[/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px]以内;二是因为这种方法非常适用于小尺寸空间内的真空度控制。[/size][/font][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px][font=微软雅黑, sans-serif] [/font]本文所述的解决方案也是采用上述动态平衡法进行液体样本的真空度控制,不同之处在于进行了进一步的细化,给出了工程化的具体实施方案和详细描述。[/size][/font][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px][font=微软雅黑, sans-serif] [/font]根据上述文献中所述的调节液体厚度所对应的真空度控制范围,我们首先确定出解决方案所需覆盖的真空度控制范围为[/size][/font][size=16px]0.1~100kPa[/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px],这样基本可以满足液相透射电子显微镜下液体样本所有厚度调节的需要,同时真空度控制精度要求优于±[/size][/font][size=16px]1%[/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px]。具体实施方案所述装置如图[/size][/font][size=16px]4[/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px]所示。[/size][/font][font='微软雅黑',sans-serif][/font][align=center][size=14px][b][color=#339999][img=真空度控制装置结构示意图,600,312]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/02/202302201112219088_5274_3221506_3.jpg!w690x359.jpg[/img][/color][/b][/size][/align][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px][color=#339999][/color][/size][/font][align=center][b][font='微软雅黑',sans-serif]图[/font][size=16px]4 [/size][font='微软雅黑',sans-serif]用于液体样本厚度调节的真空度控制系统结构示意图[/font][/b][/align][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px][font=微软雅黑, sans-serif] [/font]图[/size][/font][size=16px]4[/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px]所示的液相电子显微镜中用于液体样本厚度调节的真空度控制系统主要包括真空计、电子针阀、真空泵、真空压力控制器和计算机及其软件,他们各自的功能和及其详细说明如下:[/size][/font][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px][font=微软雅黑, sans-serif] [/font]([/size][/font][size=16px]1[/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px])真空计:用于精密测量液体样本的真空度。真空计采用测量精度较高的薄膜电容真空计,为满足全量程真空度测量需要,配备了两只不同量程的真空计。[/size][/font][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px][font=微软雅黑, sans-serif] [/font]([/size][/font][size=16px]2[/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px])电子针阀:用于精密调节进气和排气流量。电子针阀是一种步进电机驱动的高速针型阀,通过[/size][/font][size=16px]0~10V[/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px]的模拟电压信号可在小于[/size][/font][size=16px]1s[/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px]的时间内精密快速的调节针型阀开度以实现高精度流量调节,非常适合小尺寸空间内的真空度控制。配备了两只[/size][/font][size=16px]NCNV[/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px]系列的电子针阀分别用来进行进气和排气流量的调节以最终达到真空度的高精度控制。[/size][/font][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px][font=微软雅黑, sans-serif] [/font]([/size][/font][size=16px]3[/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px])真空泵:用作真空源。作为真空源的真空泵,一般采用低污染的干式真空泵,并降低震动和噪音对整个透射电子显微镜的影响。[/size][/font][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px][font=微软雅黑, sans-serif] [/font]([/size][/font][size=16px]4[/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px])真空压力控制器:用来接收真空计测量信号,根据真空度设定值对电子针阀进行[/size][/font][size=16px]PID[/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px]自动控制,使液体样品的真空度快速达到设定值并可长时间保持恒定。对于[/size][/font][size=16px]0.1~1kPa[/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px]范围内的高真空度控制,控制器需采集[/size][/font][size=16px]10Torr[/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px]量程的真空计[/size][/font][size=16px]1[/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px]信号,同时将排气用电子针阀固定为全开状态,控制器对进气用电子针阀的开度进行自动调节。对于[/size][/font][size=16px]1~100kPa[/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px]范围内的低真空度控制,控制器需采集[/size][/font][size=16px]1000Torr[/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px]量程的真空计[/size][/font][size=16px]2[/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px]信号,同时将进气用电子针阀固定为某个开度状态,控制器对排气用电子针阀的开度进行自动调节。为了实现这种宽量程范围内的真空度控制,配备了独立双通道的[/size][/font][size=16px]VPC2021[/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px]系列高精度真空压力[/size][/font][size=16px]PID[/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px]控制器,其中的两个通道分别对应两只真空计的信号采集,并组成两路独立的闭环控制回路对不同范围内的真空度进行自动控制。[/size][/font][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px][font=微软雅黑, sans-serif] [/font]([/size][/font][size=16px]5[/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px])计算机和软件:计算机用来与真空压力控制器进行通讯,计算机软件则可通过界面形式对真空压力控制器进行各种参数设定、运行控制以及过程参数的数字显示、图形显示、存储和调用。尽管单独使用真空压力控制器也可以进行真空度控制,但需要通过控制器上的按钮进行手动操作,操作比较繁复,而通过计算机软件进行控制器操作,则更直观和简便。[/size][/font][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px][font=微软雅黑, sans-serif] [/font]为了满足液体厚度调节控制的高精度要求,上述关键部件的主要技术指标如下:[/size][/font][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px][font=微软雅黑, sans-serif] [/font]([/size][/font][size=16px]1[/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px])真空计:薄膜电容真空计,量程分别为[/size][/font][size=16px]10Torr [/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px]和[/size][/font][size=16px]1000Torr[/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px],任意真空度测量值的精度为[/size][/font][size=16px]0.25%[/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px]。[/size][/font][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px][font=微软雅黑, sans-serif] [/font]([/size][/font][size=16px]2[/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px])电动针阀:步进电机驱动,控制信号为模拟电压或电流信号,从全闭到全开的全程响应时间小于[/size][/font][size=16px]1s[/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px],重复精度优于±[/size][/font][size=16px]0.1%[/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px],阀芯具有耐腐蚀作用。[/size][/font][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px][font=微软雅黑, sans-serif] [/font]([/size][/font][size=16px]3[/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px])真空压力控制器:[/size][/font][size=16px]24[/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px]位[/size][/font][size=16px]AD[/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px],[/size][/font][size=16px]16[/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px]位[/size][/font][size=16px]DA[/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px],[/size][/font][size=16px]0.01%[/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px]最小输出百分比,[/size][/font][size=16px]PID[/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px]参数具有自整定功能,[/size][/font][size=16px]RS 485[/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px]通讯和标准[/size][/font][size=16px]MODBUS[/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px]通讯协议,随机配备计算机操控软件。[/size][/font][b][size=24px][color=#339999]3. [font='微软雅黑',sans-serif]总结[/font][/color][/size][/b][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px][font=微软雅黑, sans-serif] [/font]液相透射电子显微镜已经成为实时监测液体中纳米材料过程的基本技术,由于液体和透射电子显微镜高真空之间存在的压力差,氮化硅膜窗口通常会发生弯曲,可通过调节液体池的内部真空压力来动态调节液体厚度,从而在用于高分辨率成像的中心窗区域中产生超薄液体层。[/size][/font][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px][font=微软雅黑, sans-serif] [/font]通过本文提出的解决方案,可搭建起独立的真空度控制装置,用于对液相透射电子显微镜的微芯片液体样本进行各种厚度的自动调节和恒定控制,而且可以达到很高的控制精度。[/size][/font][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px][font=微软雅黑, sans-serif] [/font]此外,液体池内部的高精度真空度自动控制,也为液体厚度按程序方式的动态改变提供了可能,这非常有利于克服扩散限制,达到本体溶解条件。[/size][/font][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px][font=微软雅黑, sans-serif] [/font]总之,解决方案提供了在液相透射电子显微镜实验中测量和动态调整液体厚度的基本方法,使得新的实验设计和溶液化学的更好控制成为可能。[/size][/font][b][size=24px][color=#339999]4. [font='微软雅黑',sans-serif]参考文献[/font][/color][/size][/b][size=16px][1] Inayoshi Y, Minoda H, Arai Y, et al. Directobservation of biological molecules in liquid by environmental phase-platetransmission electron microscopy[J]. Micron, 2012, 43(11): 1091-1098.[/size][size=16px][2] Keskin S[/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px],[/size][/font][size=16px]Kunnas P[/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px],[/size][/font][size=16px]De Jonge N[/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px]。[/size][/font][size=16px]Liquid-phaseelectron microscopy with controllable liquid thickness[J][/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px]。[/size][/font][size=16px]Nano Letters[/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px],[/size][/font][size=16px]2019[/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px],[/size][/font][size=16px]19[/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px]([/size][/font][size=16px]7[/size][font='微软雅黑',sans-serif][size=16px]):[/size][/font][size=16px] 4608-4613.[/size][size=16px][font='微软雅黑',sans-serif][/font][/size][align=center]~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~[/align][size=16px] [/size]

  • 【转帖】金相显微镜和生物显微镜的区别

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    我们可以提供激光光源,日本人说这种光源可以测膜层厚度、也可以用在台阶仪以及原子力显微镜,我到哪里能找到专业的知识和国内的生产厂家呢?

  • 【资料】显微镜分析系统在炭黑检测中的应用

    用显微图像分析法测定聚烯烃管材、管件和混配料中颜料或炭黑分散度(符合GB/T 18251-2000国家标准)·········l 显微分析系统及试验方法介绍:一.实验方法1.从管材、管件或粒料上取少量样品压在载玻片之间并加热制备试样,也可以使用切片机切片制备试样。2.依次将六个试样放在显微镜下,经过摄像采集设备在计算机上显示图像,通过软件的操作计算机自动给出测定粒子和粒团的尺寸及试样等级确定表(国家标准)。注:分散的尺寸等级由六个试样等级的平均值来确定。二.配置介绍:1. 三目显微镜2. 高清晰JVC摄像头3. 高性能图像采集卡4. 显微分析软件显微分析系统BM19A-UV实物图片 实验主要仪器:a) 显微镜: 三目XSP-BM19A显微镜,带有校准的正交移动标尺,能够测量出粒子和粒团的尺寸;b) 软件系统:计算机硬件设备一套,观测粒子或粒团的尺寸分布及外观分布的显微分析软件UV一套;c) 载玻片:厚度约1mm的载玻片,小刀,弹簧夹;d) 切片机:能够切出规定厚度的薄片;e) 加热设备:烘箱、热板等,可在150℃~210℃之间的控制温度下操作;f) 图像采集设备:JVC摄像头TK-C1021EC、三目显微镜摄像接口MCL 、显微镜图像采集卡SLG-V110。试样制备:本标准规定了两种试样制备方法:压片法和切片法。制备好的试样应厚度均匀,用于测定颜料分散的试样厚度至少为60μm,用于测定炭黑分散的试样厚度为25μm±10μm。压片方法:用小刀沿产品的不同轴线在不同部位切取六个试样。测定颜料分散时,每个试样质量大于0.6mg;测定炭黑分散时,每个试样质量为0.25mg±0.05mg。把六个样品放在一个或几个干净的载玻片上,使每一试样与相邻的试样或载玻片边缘近似等距排放,用另一干净的载玻片盖住。可以使用金属材料或其他材料制成

  • 测量显微镜的应用

    测量显微镜工作原理是使用透、反射的方式对工件长度和角度作精密测量。测量显微镜大多用于工业中,因此测量显微镜又称为[url=http://www.leica-microsystems.com/cn/%E4%BA%A7%E5%93%81/%E5%85%89%E5%AD%A6%E6%98%BE%E5%BE%AE%E9%95%9C/%E5%B7%A5%E4%B8%9A%E5%8F%8A%E6%9D%90%E6%96%99/%E6%AD%A3%E7%BD%AE%E6%98%BE%E5%BE%AE%E9%95%9C/%E8%AF%A6%E7%BB%86%E4%BB%8B%E7%BB%8D/product/leica-dm6-m]工业测量显微镜[/url]。测量显微镜的工作台除可以作平面移动外,还可以作360度的旋转,可从全方位观察器件。它的主要用途有:1、广泛应用于电子工业,比如观察电路板的构造,观察零件直接的精确距离;2、适用于制造业、精密零件以及不方便移动的物件的观察测量;3、用于生产作业线。

  • 金相显微镜的测量方法

    1、接触法:接触法是利用金相显微镜的标记对和紧靠测件测量点、线、面的万工显附件-----光学测孔器的测头连在一起的双刻线进行瞄准定位的测量方法。测量时将光学测孔器的测头紧靠件(内、外)表面。当测量孔径时,首先使测头与测件内孔接触,取得最大弦长后,使米字线中间刻线被光学测孔器的双套线套在中间,并在金相显微镜读取一数;然后改变测量方向,使测头在另一侧与测件接触,同样使米字线分划板的中间刻线仍被光学测孔器的双套线套在中间,在金相显微镜上读取另一数。两次读数的差,再加上测头直径的实际值,即为测件的内尺寸,如减去测头直径的实际值,即为测件的外尺寸。2、影像法:影像法是利用金相显微镜的标记,对影像法进行瞄准定位的测量方法。测量时,通常是先用(米字线)分划板上的刻线瞄准测件影像的边缘,并在读数显微镜上读出数值,然后移动工作台以同一条刻线瞄准测件影像的另一边,再作第二次读数。两次读数的差,就是被测件的测量值。3、轴切法:轴切法是利用金相显微镜的标记对通过测件轴心线并利用测量刀上的刻线进行瞄准定位的测量方法。金相显微镜测量刀是万工显的附件。其表面有一刻线,刻线至刃口的尺寸为0.3和0.9毫米两种,测量时,把测量刀放在测量刀垫板上,刻线面通过测件的轴线,并使测刀的刃口和被测面紧紧接触,用相应的米字线去瞄准,测量两把测刀刻线间的距离,就间接测得被测件的测量值。为了避免测量中的计算,在中间垂直米字线的两侧刻有两组共四条对称分布的平行线,每组刻线对中心刻线的距离分别为0.9和2.7毫米,它正好是测刀的刃口到刻线间的距离0.3和0.9毫米的3倍。这样用3倍物镜瞄准时,分划板上的0.9和2.7毫米刻线正好压住测刀上的0.3和0.9毫米刻线,这时测刀上的刃口正好被米字线的中间刻线所瞄准。主要用于螺纹中径测量。

  • 混合显微镜可从三维测量生物分子

    中国科技网讯 据每日科学近日报道,最近,美国爱荷华大学与国家能源部艾米实验室科学家合作,将光学显微与原子力显微技术结合起来,开发出一种能对单个生物分子进行三维测量的方法,准确性和精确性都达到纳米级别。最近出版的《纳米快报》上详细介绍了该技术。 现有技术只能从二维平面来测量单个分子,只有X轴和Y轴,新技术称为驻波轴向纳米仪(AWAN),让研究人员能测量Z轴,也就是高度轴,样本也不需要经过传统光学或特殊表面处理。 “这是一种全新类型的测量技术,可以确定分子Z轴方向的位置。” 论文合著者、爱荷华大学物理与天文学副教授珊吉维·西瓦珊卡说,他们承担的研究项目有两个目标:一是研究生物细胞彼此之间怎样粘合,二是开发研究这些细胞的新工具。为此他们开发了新的显微技术。 研究小组用荧光纳米球和DNA单链测试了新式混合显微镜。他们把一台商用原子力显微镜与一台单分子荧光显微镜结合。将原子力显微镜的悬臂针尖放置在一束聚焦激光束上,以产生驻波纹样。 驻波是频率和振幅均相同、振动方向一致、传播方向相反的两列波叠加后形成的波。波在介质中传播时其波形不断向前推进,称为行波;上述两列波叠加后波形并不向前推进,叫做驻波。将一个经处理发光的分子放置于驻波内,当原子力显微镜尖端上下移动时,分子表面相应于它距针尖的距离而起伏发出荧光,由此可以对这一距离进行测量。在实验中,该技术在测量分子时可以准确到1纳米内,测量可多次重复,精确度达到3.7纳米。 西瓦珊卡说,该技术可以通过显微镜来提供高分辨率数据,给医疗研究人员带来便利。还具有商业化潜力,促进单分子生物物理学的研究。(常丽君) 《科技日报》(2012-8-9 二版)

  • 《Science》大子刊:原位电子显微学用芯片厚度的重大突破!

    [color=#000000]原位电镜(in situ transmission electron microscopy)是一种在电子显微镜下实时高空间分辨率观察和记录材料或样品在不同条件下变化的技术,这种技术的应用涵盖了多个领域,包括材料科学、纳米科技、生物学等。特别是得益于气体和液体环境的引入,大大的拓展了原位电镜技术的应用范畴,如腐蚀科学和催化反应等。电子显微镜本身具有非常高的真空工作环境,因此,[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp][color=#3333ff]气相[/color][/url]和[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/5p][color=#3333ff]液相[/color][/url]反应介质通常被密封在一个非常小的纳米反应器里面。由于氮化硅(SiNx)具有易于微纳米制造且在一定厚度下仍有可靠的力学特性及适度的电子透明度等优点,被广泛应用于原位电镜中芯片用的密封膜材料。[/color][color=#000000]在过去20年,基于像差校正器、单色器及直接探测器等硬件技术的发展,电子显微镜本身的性能包括空间和能量分辨率都得到显著提升。但是原位电子显微学直到目前为止,在空间分辨率上并无显著突破。关键原因是作为密封的SiNx膜材料限制了电镜本身及原位实验的品质因子。目前商用的SiNx膜的厚度一般为50 nm,而[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp][color=#3333ff]气相[/color][/url]和[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/5p][color=#3333ff]液相[/color][/url]电子显微学一般需要用两个原位芯片,这样仅密封膜的厚度就高达100 nm。如此厚的密封膜会造成非常高的有害电子散射,大大降低了原位电子显微学实验中采集的各种数据的信噪比。在原位电子显微学领域,学者们都一直认为降低SiNx膜的厚度非常必要,但是直到目前仍很难实现,因为仅通过刻蚀降低SiNx膜厚度,会造成力学性能的显著恶化。[/color][color=#000000]针对此问题,[b]美国西北大学的Xiaobing Hu[/b]和[b]Vinayak Dravid教授[/b]研究团队从自然界蜂窝结构稳定性获得灵感,巧妙利用[b]掺杂浓度对Si的刻蚀速率影响,在观察窗口区域引入了额外的微米尺度Si支撑图案,成功的将SiNx膜的厚度从50 nm降至10 nm以下。[/b]这种在窗口区域具有支撑图案的超薄原位芯片具有很多优点,如优异的力学性能、耐电子束辐照、充分大的可观察区域,保证了该超薄芯片在原位电子显微学上的广泛应用。基于Pd的储氢特性,作者系统了探索了超薄芯片对原位实验测量品质因子的影响,及Pd纳米颗粒的吸/析氢行为。[/color][align=center][img]https://img1.17img.cn/17img/images/202401/uepic/c12df4c5-8db9-4fce-8ddf-16d17cfd42fd.jpg[/img][/align][align=center][size=14px][color=#7f7f7f]图1. 超薄原位电镜用芯片的制备及其优异的力学稳定性和电子束耐辐照性能,插图A、C中标尺分别为10 mm, 100 μm[/color][/size][/align][color=#000000]图1A显示超薄芯片的制备过程,图1B显示了具有不同厚度的SiNx窗口的原位芯片。图1C的扫描透射模式下的暗场和明场像显示出超薄芯片窗口区域的蜂窝状特征。图1D显示出这种超薄芯片优异的力学特性,即使在5 nm厚的情况下,仍能承受1个大气压,完全满足绝大多数的[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp][color=#3333ff]气相[/color][/url]原位实验。图1E显示出超薄芯片非常好的耐电子束辐照特性,当厚度从50 nm降到10 nm时,临界电子束剂量几乎没有改变。图1E为用光学方法和电子能量损失谱测量的不同厚度的SiNx膜数据。[/color][align=center][img]https://img1.17img.cn/17img/images/202401/uepic/6f3b49eb-f7b1-4f8f-8a5f-362aa1e61846.jpg[/img][/align][align=center][size=14px][color=#7f7f7f]图2. 基于超薄原位芯片的[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp][color=#3333ff]气相[/color][/url]电子显微学实验品质因数的显著提升[/color][/size][/align][color=#000000]图2A为理论模拟不同厚度的SiNx对Au纳米颗粒明场像信噪比的影响,对于超薄原位芯片而言,即使在电子剂量比较低的情况下,仍可以拥有很好的信噪比,成像质量比较高。图2B、C显示出在一个大气压的Ar环境不同SiNx膜厚度下的高分辨像对比。可以看出与常规50 nm厚的原位芯片相比,超薄芯片的应用不仅提高了图像的信噪比,分辨率也从2.3 ?提高到1.0 ?。图2C显示出了能谱对比结果,可以看出在一个大气压的Ar环境下,当原位芯片窗口区域膜厚度从50 nm 降低到10 nm时,Ar/Si峰值比从0.59%升到8.3%,提高了14倍以上。图2E-G数据显示了超薄原位芯片显著提高了电子能量损失谱分析的灵敏度。[/color][align=center][img]https://img1.17img.cn/17img/images/202401/uepic/6d6e2657-12c9-4711-80d5-725e65b1eeb9.jpg[/img][/align][align=center][size=14px][color=#7f7f7f]图3. 基于超薄原位芯片电子显微学在储氢材料中应用[/color][/size][/align][color=#000000]图3A、3B为在不同支撑载体下纳米Pd颗粒的电子衍射对比图,可以看出超薄芯片显著压制了膜材料本身的有害电子散射,提高的电子衍射的信噪比。而这也允许研究人员在原位[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp][color=#3333ff]气相[/color][/url]实验中进行定量衍射分析。图3C-D的原位电子衍射,显示出Pd纳米颗粒在原位充氢、放氢过程中的相变行为。图3E的电子能量损失谱分析确认了相变产物PdHx的产生。[/color][color=#000000]基于[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp][color=#3333ff]气相[/color][/url]超薄原位芯片的设计与探索实验,作者提出这种超薄芯片的设计策略可大规模推广到[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/5p][color=#3333ff]液相[/color][/url]原位及其它基于SiNx的原位芯片上,大大提高原位电子显微学实验的品质因子,从而允许研究人员在原位实验过程中不单单观察形貌变化,可将其它先进电子显微学方法应用到原位实验上来。更进一步,这种超薄芯片也可拓展到原位X射线领域。可以说,超薄芯片的概念提出,将大大的影响整个原位实验领域。[/color][color=#000000]这一成果近期发表在[b][i]Science Advances[/i][/b]上,美国西北大学[b]胡肖兵研究副教授[/b],[/color][color=#000000][b]Vinayak Dravid讲席教授[/b][/color][color=#000000]为文章的通讯作者,[b]Kunmo Koo博士[/b]为文章的第一作者。[/color][来源:材料学网][align=right][/align]

  • 【资料】工业显微镜和生物显微镜的区别?

    工业显微镜和生物显微镜的区别,但就字面意思上能了解到它们最大的区别,就是用途不同,这里主要从其物镜上来说明它们的不同之处:物镜的鉴别能力可分为平面和垂直鉴别能力。物镜(objectivelens)物镜是决定光学显微镜基本性能及功能的最重要的光学单元。因此,为了满足各种需求和应用,我们研制出了有着最佳光学性能和功能(这对光学显微镜而言也是最重要的性能和功能)的物镜,推出了能满足不同使用目的多种物镜产品。 光学显微镜的用途大致分为“生物用”和“工业用”两大类。物镜也可以按照这两种用途,划分为“生物物镜用”物镜和“工业用”物镜。在工业用途中,一般是在金属矿物切片、半导体晶圆和电子零部件等标本没有被遮盖的状态下进行观察的。所以,工业显微镜用物镜采用了物镜前端和标本之间没有盖玻片状态的最佳光学系统设计。然而在生物用途中,一般是将生物标本放置在载玻片上,并从上面用盖玻片遮盖固定。由于生物用物镜需要透过盖玻片观察样本,所以采用了考虑到盖玻片的厚度(一般为0.17mm)的光学系统设计。  在这里说明生物显微镜和工业显微镜的物镜也是大有不同的,基本上物镜是按照用途、观察方法、倍率、性能(像差校正)等进行分类。其中,按照像差校正来分类的是显微镜物镜特有的分类方法。

  • 求购扫描探针-原子力显微镜

    领导要求调查一下扫描探针(原子力)显微镜,打算购买一个,我看了一下,国内外的很多家单位都有产品,这下不知道怎么搞了,也不知道性能上怎么区分啊。我们的要求是首先满足最低要求,能观测三维形貌,测量厚度,其次再考虑其他的功能模块。也就是说满足首先条件,预留其他功能窗口,大家帮忙推荐一下。也可以直接发我的信箱guigxms@163.com,宋。谢谢

  • 相差显微镜简单介绍

    相差显微镜:利用光的衍射和干涉现象将透过标本的光线光程差或相位差转换成肉眼可分辨的振幅差显微镜。提高了密度不同物质图像的明暗区别,可用于观察未经染色的细胞结构。 相差显微镜是荷兰科学家Zernike于1935年发明的,用于观察未染色标本的显微镜。活细胞和未染色的生物标本,因细胞各部细微结构的折射率和厚度的不同,光波通过时,波长和振幅并不发生变化,仅相位发生变化(振幅差),这种振幅差人眼无法观察。而相差显微镜通过改变这种相位差,并利用光的衍射和干涉现象,把相差变为振幅差来观察活细胞和未染色的标本。相差显微镜和普通显微镜的区别是:用环状光阑代替可变光阑, 用带相板的物镜代替普通物镜,并带有一个合轴用的望远镜。相衬显微镜,又称相差显微镜或位相显微镜。

  • 【求购】金相显微镜

    我要采购金相显微镜 要求配置电脑和相应的软件 放大倍数在 2000 4000 6000 8000能够看清镀层厚度 至少0.1微米

  • 【资料】GB/T 8014-2005 铝及铝合金阳极氧化氧化膜厚度的测量方法

    [img]http://www.instrument.com.cn/bbs/images/affix.gif[/img][url=http://www.instrument.com.cn/bbs/download.asp?ID=35351]GB/T 8014.1-2005 铝及铝合金阳极氧化氧化膜厚度的测量方法 第1部分:测量原则[/url][img]http://www.instrument.com.cn/bbs/images/affix.gif[/img][url=http://www.instrument.com.cn/bbs/download.asp?ID=35352]GB/T 8014.2-2005 铝及铝合金阳极氧化氧化膜厚度的测量方法 第2部分:质量损失法[/url][img]http://www.instrument.com.cn/bbs/images/affix.gif[/img][url=http://www.instrument.com.cn/bbs/download.asp?ID=35353]GB/T 8014.3-2005 铝及铝合金阳极氧化氧化膜厚度的测量方法 第3部分:分光束显微镜法[/url]

  • 【求购】诚恳的向各位高手请教选购显微镜的问题,请指点,谢谢!

    诚恳的向各位高手请教选购显微镜的问题,请指点,谢谢!我公司是厦门一家生产多晶硅太阳能电池片的专业公司,因为刚起步,所以目前欲购一台显微镜。这种多多晶硅太阳能电池片的大小为156mm X 156mm,厚度不到200—300um,质量10g左右。从宏观上看、摸,这种硅片都是很平滑的,但实际上,经过处理后的这种电池片的表面连续布满了小凹坑,深度大约是1—6微米,宽度大约是1—6微米,而这个正是我们所需要通过显微镜能直接目视观测到的。因此,我们对显微镜(系统)的最低要求是:1、总放大倍数能达到500倍,1000倍也可以。 2、显微镜的载物台必须能放得下这个电池片,而且能保证在所需的精度条件下,能通过自动或手动调节的方式,能观测到电池片的全部表面状况,就是行程一定要比较大。3、明暗场、偏光观察方式(如果有高手,也可以给我们提出合理的观察方式)。4、带摄像头(300万物理像素,500万物理像素也可以)。5、软件能测量太阳能电池硅片的深度(就是硅片表面深度大约是1—6微米,宽度大约是1—6微米)。6、即使不能精确或绝对测量硅片表面的深度,也请按照其他要求给出配置和报价。 目前情况是:蔡司的推荐Axio Imager.A2 Vario;徕卡的推荐DM2500M;奥林巴斯的推荐MX51;尼康的推荐LV150。因为我以前没有长期使用这样显微镜的经验,对很多方面都缺乏了解。所以,面对这四款我很难下决定。在这个论坛,我也有一段时间了,知道这里有很多高手。所以,我在这里诚恳的向大家寻求帮助,希望大家能给出一个公正、合理的评判,让我可以负责的选一款能满足我们要求、适合我们经济承受能力的显微镜来。当然,销售人员也可以推荐的品牌,只要说的在理就行。如果不方便,请给我发邮件douglas.dou@xiamensona.com。请大家不吝赐教!再次谢谢各位!

  • 显微镜知识--显微镜物镜分类

    物镜是显微镜的核心光学部件,各个厂家其型号和规格名目繁多,下面来介绍一下分类,供大家参考。大致可以有以下四种分类方式: 1.按色差校正程度分类 (1)一般消色差物镜:这是最常见的物镜,尽管各厂家的标示不一样,但一般都有“Ach”字样。 (2)平场消色差物镜:一般这种物镜标有PLAN字样,这种物镜的视场平坦,非常适合显微照相,观察起来也比较舒适。(3)半复消色差物镜,一般带有FL字样,能校正红、兰两色的色差和球差。这种可用于荧光观察等,是比较高级的物镜。 (4)复消色差物镜:标有APO字样,是观察和显微照相用的一流物镜,它们的性能只受物理定律的限制。该物镜具有优良的修正性和极其高的数值孔径,所以在观察和显微照相术方面具有最大的分辨率、色彩纯度、对比度以及图象平直度。如奥林巴司 UPLAN SAPO 100X/1.40 OIL物镜。 2.按功能分类(1)相差物镜(Phase contrast),用来观察无色透明的标本或活细胞,倒置显微镜上使用广泛,一般带有PH标志,且字体用绿色。(2)DIC物镜,可以做DIC的物镜,一般要求半复消色差物镜,DIC观察无色样品或或细胞。(3)HMC物镜,标有HMC标志,一种类似相差物镜的物镜,观察效果有立体感比较强,但不能用于荧光观察。(4)偏光物镜,一般标有POL字样,这种物镜装配了克服应力设备,是专做偏光的物镜。(6)多功能物镜,有的厂家生产一种多功能物镜,比如可以同时做相差,DIC,荧光等,这种物镜要稍微贵些。一般带有U标志,比如奥林巴斯的”UPLFLN”物镜和蔡司的”EC PLAN –NEOFLUAR”系列物镜。 3.按工作距离分类 (1)普通物镜:工作距离可以看切片,但不能看培养皿。 (2)长工作距离物镜:一般有LD标志,例如奥林巴斯的LUCPLFLN-PH物镜和蔡司的LD-A-PLAN PH物镜。 这些物镜可以用于培养皿、培养瓶等容器的观察。工作距离高至10.6mm,并可以进行光学修正,适用于0~2mm厚度的盖玻璃,通常由修正环或特殊的玻璃盖帽完成修正。4.特殊用途物镜 (1)水浸式物镜,一般有W标志,这些水浸入式物镜同直立显微镜一起主要应用于生理学,如脑片等较厚样品的观察。奥林巴斯XLUMPLFL20×W 和蔡司ACHROPLAN 40X W都是浸水式物镜。 (2)TIRF用专用物镜,要求数值孔径要大,NA一般在1.45到1.65。如NIKON公司的APO TIRF 60X 1.49物镜。 (3)超级荧光物镜:这种物镜的荧光透过率非常高,物镜用于对离子位移进行定性和定量的分析以及用于特别关键的荧光技术(如人体染色体的研究以及细胞遗传学)。这些物镜的突出特点是它们对340nm起的波长有特别高的数值孔径和高传输率(340nm时约为70%!)。视场平直足以可以使用CCD相机。如蔡司的FLUAR 20X 物镜。 当然还有其他更特殊的物镜,比如金相显微镜用的无盖玻片物镜和反射暗视野物镜、超低倍物镜等。 5.物镜上有很多的参数标记,来帮助大家识别物镜的等级和功能。下面用NIKON的一款物镜做例子以解释物镜的重要参数: (1) NIKON ---制造商名称: 尼康公司 (2) PLAN APO---物镜的名称: 平场复消色差物镜 (3) 60X 放大倍数: 60倍 (4) 0.95 数值孔径: 0.95 (6) DIC M 功能: 可以做DIC (7) ∞/0.11-0.23 表示无限远筒长/盖玻片厚度 (8) WD 0.15 表示工作距离 d 物镜利用光线使被检物体第一次成像,因而直接关系和影响成像的质量和各项光学技术参数,是衡量一台显微镜质量的首要标准。所以在选择显微镜时不仅仅要选择主机的型号,也一定要仔细选择物镜,结合自己的实际用途考虑合适的物镜等级和功能.这样您就能买到称心的产品了.

  • 金相显微镜的作战利器--特种物镜

    所谓"特种物镜"是在金相显微镜的其他一般物镜的基础上,专门为达到某些特定的观察效果而设计制造的。主要有以下几种:   (a)带校正环物镜(Correctioncollarobjective)   在物镜的中部装有环装的调节环,当转动调节环时,可调节物镜内透镜组之间的 距离,从而校正由盖玻片厚度不标准引起的覆盖差。调节环上的刻度可从0.11--.023,在物镜的外壳上也标科有此数字,表明可校正盖玻片从0.11-0.23mm厚度之间的误差。大多金相显微镜都可配备。  (b) 带虹彩光阑的物镜(Iris diaphragm objective)  在物镜镜筒内的上部装有虹彩光阑,外方也可以旋转的调节环,转动时可调节光阑孔径的大小,这种结构的物镜是高级的油浸物镜,它的作用是在暗视场镜检时,往往由于某些原因而使照明光线进入物镜,使视场背景不够黑暗,造成镜检质量的下降。这时调节光阑的大小,使背景变黑,使被检物体更明亮,增强镜检效果。这在微分干涉显微镜,粒子显微镜等配备较多。  (c) 相衬物镜(Phase contrast objective)  这种物镜是由于相衬镜检术的专用物镜,其特点是在物镜的后焦平面处装有相板。   (d) 无罩物镜(No cover objective)  有些被检物体,如涂抹制片等,上面不能加用盖玻片,这样在镜检时应使用无罩物镜,否则图象质量将明显下降,特别是在高倍镜检时更为明显。这种物镜的外壳上常标刻NC,同时在盖玻片厚度的位置上没有0.17的字样,而标刻着"0"。   (e) 长工作距离物镜  这种物镜是倒置显微镜的专用物镜,它是为了满足组织培养,悬浮液等材料的镜检而设计。  配置特种物镜的金相显微镜价格变化不大。

  • [经验] 显微镜目镜刻度使用方法

    更加精确的测量需使用目镜测微尺。目镜测微尺具有精细的刻度,安装在目镜筒内。目镜测微尺需用镜台测微尺进行校正。镜台测微尺是一种刻有精细刻度的玻片。假设总放大倍数为400×时,1个镜台测微尺单位0.1mm相当于39个目镜测微尺单位。则每一目镜测微尺单位=0.1/39mm=2.56μm。这时,就可用目镜测微尺测量标本。在上例中,目镜测微尺读数乘以2.56即为镜台测微尺的值。此外,也可用100um的线段表示标本中39个目镜测微尺单位的长度。 显微镜的保养 显微镜是高度精密的仪器。操作时要小心,调节各控制部件绝不能用力过猛。除用擦镜纸外不要用其他物品接触玻璃表面。记住,更换任何部件都将是十分昂贵的。 移动显微镜时,一只手持载物台上部的支架,另一只手托住底座。保持显微镜竖立(防止目镜掉落),轻轻放置。 用干净的擦镜纸轻轻擦拭镜头,每块擦镜纸只能用一次。不能用手指触模镜头,因为很难除净含油的指印,不允许任何溶液(包括水)接触镜头,盐水特别有害。

  • 生物显微镜和工具显微镜的原理

    生物显微镜和工具显微镜又称工具制造用显微镜,是一种工具制造时所用高精度的二次元坐标测量仪。生物显微镜工具显微镜是利用光学原理将工件成像经物镜投射至目镜,即借着光线将工件放大成虚像,再利用装物台与目镜网线(eyepiece reticle)等辅助,以作为尺寸、角度和形状等测量工作,可作为检验非金属光泽的工件表面。生物显微镜工具显微镜仪器在立柱上装有一显微镜,放大倍率从10倍至100倍间等数种倍率,工具显微镜的测量系统光源( 灯炮 ) 通电后,光线依次经过二个透镜滤热镜 ( 片)、镜径薄膜、透镜、反射镜、装物台、物镜、反射镜、目镜等,工件与物镜间的距离,随着放大倍率和工件厚薄,可利用对焦旋钮调至理想位置。1、 生物显微镜工具显微镜将人眼瞄准,采集元素的个别点坐标,改为CCD摄像机自动采集元素图像,采集信息量增大,减少人工干预,操作效率提高。 2、生物显微镜工具显微镜软件数据处理结果除以数据表示外,增加了图形信息窗,处理的点、线、图、弧等元素展现在屏幕上,形象直观,条理清晰,避免出错,并且可以输出到AUTOCAD形成工程图。3、引进先进的英国RENISHAW钢带反射光栅系统代替原有的玻璃光栅系统,该系统信号优良,安装间隙大,外形小巧,发热量小,安装调试简单,抗污染,抗腐蚀能力强,耐震性好等众多优点,大大提高了系统的可靠性,是当今国际最先进的光栅系统之一。4、 生物显微镜和工具显微镜生物显微镜工具显微镜除X、Y坐标数字显示外,将测高坐标和分度头角度坐标也改成数显,实现了四坐标全数显化,这一改进对凸轮轴测量十分有益。5、用半导体激光器作为指向器,红色光点打在工件表面,用于快速确定测量部位,避免了因CCD视场面积小带来的找象困难,解决了目前图像系统的通病。引用:www.bsdgx.com

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