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磁控溅射镀膜仪

仪器信息网磁控溅射镀膜仪专题为您提供2024年最新磁控溅射镀膜仪价格报价、厂家品牌的相关信息， 包括磁控溅射镀膜仪参数、型号等，不管是国产，还是进口品牌的磁控溅射镀膜仪您都可以在这里找到。 除此之外，仪器信息网还免费为您整合磁控溅射镀膜仪相关的耗材配件、试剂标物，还有磁控溅射镀膜仪相关的最新资讯、资料，以及磁控溅射镀膜仪相关的解决方案。

磁控溅射镀膜仪相关的论坛

  • 扫描电镜不导电样品磁控溅射镀膜仪常见问题解决

    随着电镜技术和应用快速发展，越来越多电镜用户对样品前处理提出了更高的要求。其中磁控溅射镀膜仪就专用来给场发射扫描电镜不导电样品进行喷金镀膜。本作品主要从两大方面介绍磁控溅射镀膜仪。1.简易演示真空磁控

  • 【原创大赛】磁控溅射原理及TEM样品的制备

    当前，制备非晶的方法主要有淬火法和气相沉积法。快冷法又分为铸膜法和甩带法，适合于制备大块非晶。气相沉积法分为真空蒸发法、化学气相沉积法、脉冲激光沉积法和磁控溅射法。~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~磁控溅射法制备非晶样品有其独特的有点，下面主要介绍下磁控溅射制备非晶样品的原理。电子在电场E的作用下，在飞向基板的过程中与氩气原子发生碰撞，使其电离出氩离子和一个新的电子，电子飞向基片，氩离子在电场作用下飞向阴极靶，并以高能量轰击靶的表面，使靶材发生溅射。在溅射的过程中，溅射离子，中性的靶原子或分子即可在基片上沉积形成膜。综上所述，磁控溅射的基本原理就是以磁场来改变原子的运动状态，并束缚和延长原子的运动轨迹，从而提高电子对工作气体的电离几率和有效地运用了电子的能量。这也体现了磁控溅射低温、高效的原理。常用的TEM样品以TEM载网为基片。TEM载网是直径为3nm，厚为20μm，网格间距为80μm，最底下一层铜或者钼，上面覆盖一层约为5nm厚的无定形碳作为支撑膜。利用磁控溅射法制备沉积的薄膜就沉积在这种TEM载网的无定形碳的支撑膜上，为了减少非弹性散射对衍射数据的影响，在实验过程中尽可能制备厚度比较小的薄膜厚度，约为15nm-20nm，这样制得的样品就可以直接在透射电子显微镜中进行直接的表征。

  • 【求购】求购镀膜机

    最近单位要买一台磁控溅射镀膜机，不知国内外哪些厂家的设备比较好，因为镀膜机的部件比较多，又要求真空，出点小问题难免，所以售后方面得好。不知哪位比较有经验的，指点指点。

  • 难怪在镀膜上可以看到金颗粒，原来如此

    难怪在镀膜上可以看到金颗粒，原来如此

    如果在镀膜时所用的设备是直流溅射仪或磁控溅射仪而非离子束溅射仪，在放大倍率为几万倍下观察，就会看到镀膜结构。绝大多数用户所使用的离子溅射仪都属于前两种。下面的照片是我对三个文献有关内容的综合。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2013/01/201301262045_422846_1609375_3.jpg

  • 出售磁控溅射仪（私聊）

    出售磁控溅射仪（私聊）

    磁控溅射仪（2019下半年购入，9成9新）[img=,690,920]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/10/202310091529314999_3303_5829706_3.jpg!w690x920.jpg[/img][img=,690,920]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/10/202310091529317199_6660_5829706_3.jpg!w690x920.jpg[/img][img=,690,920]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/10/202310091529323410_1965_5829706_3.jpg!w690x920.jpg[/img][img=,690,920]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/10/202310091529325843_2573_5829706_3.jpg!w690x920.jpg[/img]设备技术要求 1.样品基台：直径 6 英寸样品2.反应腔室：304 不锈钢材质3.靶座系统：3 英寸圆形靶座 4 个，位于腔室上部；靶与样品的距离90~110mm 可调4.真空系统：分子泵，机械泵5.真空测量：薄膜规（进口），全量程规（进口）6.气路系统：标配 2 路进气，种类和流量可定制；管路配件（进口）7.电源系统：500W/13.56MHz 自动匹配射频源 1 套（进口）；500W 直流电源 2 套（进口）8.样品载台：自转旋转 5-30rpm 可调；加热温度 300℃；可加射频偏压200V 预清洗基片9.真空性能：本底真空优于 6.67x10-5Pa10.控制系统：工控机；触摸屏，菜单自动/手动操作11.安全控制：异常报警12.工艺应用：金属薄膜和介质薄膜沉积13.不均匀性：≤±5%@6 英寸14.设备尺寸：一体型设备；占地面价（参考）1.0m*1.50m。[img=,554,628]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/10/202310091529103198_4423_5829706_3.png!w554x628.jpg[/img]运行需求：供电需求： 380V、三相五线制；设备总功率需求约为 15KW冷却水：＞1.5L/min压缩空气： 0.4~0.6Mpa

  • 溅射氧化铝薄膜的XRDf衍射峰分析？

    溅射氧化铝薄膜的XRDf衍射峰分析？

    http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2011/08/201108112134_309901_2355867_3.jpg这是磁控溅射制备的氧化铝薄膜，厚度30-50nm， S1是制备样品，P1是经过750度处理后的样品，想对比变化，可是峰位怎么都对不上啊？？ 基底材料用的是氧化硅wafer， 请这里的大师兄们给帮忙分析一下吧？？？ 急啊，老板要我解释呢 小师妹先在这里谢谢大家了！！

  • 【已应助】求助学位论文一篇成功，谢谢灰太狼！

    【序号】： 1【作者】： 光学工程【题名】： 基于ANSYS的（非）平衡磁控溅射镀膜机磁场模拟【期刊】： 优秀研究生学位论文【年、卷、期、起止页码】： 【全文链接】：http://edu.nulog.cn/detail.htm?306178谢谢！

  • 关于红外反射镜的镀膜。

    红外反射镜的镀膜材质有镀金、镀银、镀铝的，性能上相差多少呢？还有号称“金刚石加工切削整体合金反射镜,光路传输效率更高于一般金属镀层技术的反射镜”的，这种合金反射镜是什么材质的？

  • 【原创大赛】薄膜的物理气相沉积——溅射法

    【原创大赛】薄膜的物理气相沉积——溅射法

    溅射制膜的过程：气体辉光放电、等离子体、靶、溅射、沉积到衬底（一）与蒸发法相比，溅射沉积的主要特点：①沉积原子能量高，因此薄膜的组织更致密，附着力也可以得到明显改善；②制备合金膜时，其成分的控制性能好；③靶材可以是极难熔的材料；④可利用反应溅射技术，从金属无素靶材制备化合物薄膜；⑤由于被沉积的原子均携带有一定的能量，因而有助于改善薄膜对于复杂形状表面的覆盖能力，降低薄膜表面的粗糙度。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507151100_555534_2989334_3.jpghttp://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gif（二）溅射沉积分类主要的溅射方式可以根据其特征分为四种：（1）直流溅射；（2）射频溅射；（3）磁控溅射；（4）反应溅射。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507151102_555536_2989334_3.jpg图1 不同溅射方法的靶电流密度和靶电压的比较http://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gif（1）直流溅射直流溅射又称为阴极溅射或二极溅射图2直流溅射沉积装置示意图，其典型的溅射条件为：工作气压10Pa，溅射电压3000V，靶电流密度0.5mA/cm2，薄膜的沉积速率低于0.1μm/min直流溅射过程中常用Ar作为工作气体。工作气压是一个重要参数，它对溅射速率以及薄膜的质量都有很大影响直流溅射设备的优点和缺点：优点：简单缺点：使用的气体压力高，溅射速率较低，这不利于减小气氛中的杂质对薄膜的污染以及溅射效率的提高。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507151105_555538_2989334_3.jpg图2直流溅射沉积装置示意图http://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gif（2 ）射频溅射直流溅射要求靶材有较好的导电性，可以很大方便地沉积各类合金膜。对于导电性很差的非金属材料的溅射，我们需要一种新的溅射方法—射频溅射。射频溅射是适于各种金属和非金属材料的一种溅射沉积方法射频场对于靶材的自偏压效应。在衬底或薄膜本身是绝缘体的情况下，采取对其施加一个射频电压的方法，也可以起到对其施加负偏压的作用。（3）磁控溅射相对于蒸发沉积来说，一般的溅射沉积方法具有两个缺点。第一，溅射方法沉积薄膜的沉积速度较低；第二，溅射所需的工作气压较高 这两个缺点的综合效果是气体分子对薄膜产生污染的可能性较高。而磁控溅射技术：沉积速度较高，工作气体压力较低。工作原理：磁场对电弧运动有一定的约束作用（绕磁场螺旋前进）；（1）电子的电离效率高，有效提高了靶电流密度和溅射效率，（2）较低气压下溅射原子被气体分子散射的几率较小（三）气体放电是离子溅射过程的基础（1）首先介绍直流电场作用下的物质的溅射现象预抽真空，充入适当压力的惰性气体，如Ar气，10-1～10Pa；在正负电极间外加电压的作用下，电极间的气体原子将被大量电离；Ar—→Ar++e，Ar+被电场加速后射向靶材，撞击出靶材原子（分子），靶材原子脱离靶时仍具有一定能量，飞向衬底，电子被电场加速飞向阳极；http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507151107_555542_2989334_3.jpg图3直流气体放电体系模型及伏安特性曲线http://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gif电压进一步增大，发生极板两端电压突然降低，电流突然增大，并同时出现带有颜色的辉光，此过程称为气体的击穿；击穿后气体的发光放电称为辉光放电；这时电子和正离子是来源于电子的碰撞和正离子的轰击，即使自然游离源不存大，放电也将继续下去。而且维持辉光放电的电压较低，且不变，此时电流的增大显然与电压无关，而只与阴极板上产生辉光的表面积有关；正常辉光放电的电流密度与阴极材料和形状、气体种类和压强有关；由于正常辉光放电时的电流密度仍比较小，所以在溅射方面均是选择在非正常辉光放电区工作。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507151110_555543_2989334_3.jpg图4示意性地画出了在离子轰击条件下，固体表面可能发生的物理过程http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507151111_555544_2989334_3.jpg图5所示，不同能量离子与固体表面相互作用的过程不同当离子入射到靶材上时，对于溅射过程来说，比较重要的过程有两个：其一是物质的溅射；其二是二次电子发射：二次发射电子在电场作用下获得能量，进而参与气体分子的碰撞，并维持气体的辉光放电过程。http://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gifhttp://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gif （四）合金的溅射和沉积用溅射法沉积合金膜，比蒸发法易于保证薄膜的化学配比；溅射过程中入射离子与靶材之间有很大的能量传递。因此，溅射出的原子将从溅射过程中获得很大的动能，其数值一般可以达到5~20eV；一方面，溅射原子具有很宽的能量分布范围，其平均能量约为10eV左右；另一方面，随着入射离子能量的增加，溅射离子的平均能量也有上升的趋势；溅射过程还会产生很少的溅射离子，它们具有比溅射出来的原子更高的能量。能量较低的溅射离子不易逃脱靶表面的鞘层电位的束缚，将被靶表面所俘获而不能脱离靶材；由蒸发法获得的原子动能一般只有0.1eV，两者相差两个数量级；在溅射沉积中，高能量的原子对于衬底的撞击一方面提高了原子自身在薄膜表面的扩散能力，另一方面也会引起衬底温度的升高。

  • 【原创】真空镀膜在线监测设备---光密度在线检测仪

    真空镀铝膜生产几经波折后如今又在全国迅速发展，主要看重的是真空镀铝膜复合材料不仅在包装上具有很大前途，而且在工农业、通讯、国防和科研领域中得以广泛应用；真空镀膜产品在以后必将形成主流，具有很大的市场空间。 然而，在国内所有的真空镀膜生产厂家中能够生产出品质好的镀铝膜很少，所以才会出现上马快，下马也快的现象。 究其原因主要是真空镀膜行业还是处于一个发展的阶段，目前所有的真空镀膜厂家，都还没有使用一款合适的真空镀膜监测设备---真空镀膜光密度在线检测仪。所以在生产过程中很难控制好镀膜层厚度的均匀性，造成镀膜产品质量不过关，以至于镀膜品质不够好；而且生产效率低，真空镀膜生产厂家往往需要投入较大成本。 真空镀膜质量的影响因素较多，除了跟设备有关，还与操作人员的水平，技术人员的指导和合适的工艺条件有很大关系。 但是不可否认，决定真空镀膜产品品质的最重要因素是镀膜层厚度的均匀性；镀铝薄膜通常应用于具有阻隔性或遮光性要求的包装上使用，因此，镀铝层的厚度和表面状况以及附着牢度的大小将直接影响其镀铝膜性能。镀铝膜的检测主要体现在厚度、镀铝层牢度和镀铝层的表面状况等方面。 如果对镀铝膜检测方法有所了解的，就一定知道检测镀铝膜品质有一种方法叫光密度测量法，目前市场上深圳市林上科技已经研发生产出一款专门的光密度仪，它是用于直接测量镀铝膜的光密度值来判定镀铝膜产品品质的优劣。 薄膜表面镀铝的作用是遮光、防紫外线照射，既延长了内容物的保质期，又提高了薄膜的亮度，从一定程度上代替了铝箔，也具有价廉、美观及较好的阻隔性能。目前应用最多的镀铝薄膜主要有聚酯镀铝膜（VMPET）和CPP镀铝膜（VMCPP）。 由于真空镀铝薄膜上的镀铝层非常薄，因此不能用常规的测厚仪器检测其厚度，通常都是需要使用光密度法来检测。光密度（OD）定义为材料遮光能力的表征。它用透光镜测量。光密度没有量纲单位，是一个对数值，通常仅对镀铝薄膜和珠光膜进行光密度测量。 光密度是入射光与透射光比值的对数或者说是光线透过率倒数的对数。计算公式为D=log10（入射光/透射光）或OD=log10（1/透光率）。通常镀铝膜的光密度值为1－3（即光线透过率为10％－0.1％），数值越大镀铝层越厚，美国国家标准局的ANSI/NAPM IT2.19对试验条件做了详细规定。 但是对于国内众多真空镀膜厂家而言，需要在大批量的生产线上就能控制好镀膜产品的镀膜层厚度均匀性。那就需要使用透光率光密度在线检测仪，在真空镀膜生产线上实行连续监测，才能保证真空镀膜产品的质量，同时提高真空镀膜设备的在线生产效率，减少生产成本。

  • 怎么做Pt溅射镀膜厚度检查

    SEM版的朋友们大家好~我们的Pt sputtering coater通常使用范围是做2-10nm 厚的coating.溅射仪上有基于晶体震荡原理的thickness monitor, 但是我们不太相信. 想做独立的厚度检查.你们知道怎么测量这么薄(2-10nm)的镀层厚度吗? 基体为玻璃片.谢谢~

  • 求清華碩士學位論文1篇

    【序號】：1【作者】 : 杨勇【篇名】 : 工业磁控溅射镀膜中靶材利用率的提高【期刊】 : 清华大学,2006年【全文链接】 : http://0rz.tw/iVp1k

  • [求助]请教球面镀膜镜片反射率测试问题

    想求助一个关于球面镀膜镜片反射率测试的问题，希望群里专家能帮我解答下，万分感谢！1.球面镜片表面镀了反射膜，想测反射率，这个一般测得是镜面反射还是漫反射，比如岛津的分光光度计配合积分球配合硫酸钡的标准白板测得是哪个？2.我用光谱仪配合积分球配合标准白板搭建系统测试反射率是否能达到一样的效果？

  • （已应助）求助中文文献5篇，谢谢zhumenjun1984！

    【序号】：1【作者】：董骐 范毓殿 【题名】：非平衡磁控溅射及其应用【期刊】：真空科学与技术【年、卷、期、起止页码】：1996年 01期 【全文链接】：http://epub.cnki.net/grid2008/detail.aspx?filename=ZKKX199601010&dbname=CJFD1996【序号】：2【作者】：刘翔宇 【题名】：磁控溅射镀膜中靶的优化设计 【期刊】：电子科学与技术【年、卷、期、起止页码】：2005-04-21【全文链接】：http://epub.cnki.net/grid2008/detail.aspx?filename=2005035360.nh&dbname=CMFD2005【序号】：3【作者】：胡作启 李佐宜 刘卫忠 熊锐 【题名】：磁控溅射靶磁场的分布 【期刊】：华中理工大学学报【年、卷、期、起止页码】：1997年 11期 【全文链接】：http://epub.cnki.net/grid2008/detail.aspx?filename=HZLG711.012&dbname=CJFD1997【序号】：4【作者】：刘瑞鹏 李刘合 【题名】：磁控溅射靶优化设计及其磁场分析【期刊】：2006全国荷电粒子源、粒子束学术会议【年、卷、期、起止页码】：无【全文链接】：http://epub.cnki.net/grid2008/detail.aspx?filename=ZGDN200610001076&dbname=cpfd2006【序号】：5【作者】：张建民 王立 梁昌慧 【题名】：磁控溅射靶源设计及溅射工艺研究 【期刊】：陕西师范大学学报【年、卷、期、起止页码】：1999年 01期 【全文链接】：http://epub.cnki.net/grid2008/detail.aspx?filename=SXSZ901.010&dbname=cjfd1999

  • 机械泵 气压抽不下去

    大家好，我实验室的镀膜仪（型号：CS-400多靶直流、射频磁控溅射仪）出了些问题，想请教大家一下，谢谢。 刚开始机械泵（型号：2ZX-4）的三相电压反向了，结果导致喷油，然后把电压接好，清理好喷出的油后，机械泵就不能像以前一样快速抽到10pa以下了，大概抽到40pa左右，再往下抽就很慢了，感觉有地方漏气，希望大家能提出一些意见，谢谢。

  • 国产镀膜仪

    哪位大神能推荐一些比较好的国产镀膜仪啊？？急求·~~

  • 关于真空离子镀膜的问题

    我们公司是做尼龙和塑胶拉链的，最近总是接到客户投诉，说产品在经过真空镀膜后进行水洗测试，表面镀层会脱落的投诉。公司购买了真空镀膜设备，我们按设备供应商提供的工艺流程和试剂做了真空镀膜并进行了水洗测试，存在镀层会脱落的问题。以下是流程：产品表面清洁-去静电-喷底漆-烘烤底漆-真空镀膜-喷面漆-烘烤面漆（120°1m）-出成品。.在此，希望能得到各位老师的帮助：希望各位老师提供一个较成熟的流程，和各工序的参数如果设置？使用什么试剂会更好？希望各位老师解释一下真空镀膜后进行水洗测试，表面镀层会脱落的原因？是否因为没打好底的问题？望各位老师不吝赐教！谢谢！

  • 【原创】选择镀膜仪器

    不同的扫描电镜对镀膜仪器的要求是不是有选择？选择镀的导电膜材料是不是也有所区别？求教！！！

  • 硅片上镀膜，膜的红外吸收测试问题

    在硅片上沉积了膜，膜无法取下，现需要测试膜的吸收，考虑到膜有反射，希望测试透过率光谱及反射率光谱来得到膜的吸收。现在试了几种方法：1、用傅立叶变换红外光谱测试。透过率用空白双面抛光硅片做背景，测试透过率；以金镜为背景用镀金的积分球附件测试反射率。结果有些出现反射率?透过率大于100%。2、用显微红外光谱仪测试。以空气为背景，测试硅片透过率T1，假设硅片对红外光不吸收，其反射率R1=1-T1；以硅片做背景，测试硅片上镀膜反射率R2，样品实际反射率R＝R1*R2；以硅片做背景测试样品透过率T。样品吸收=1-T-R=1-T-(1-T1)*R2。结果也会出现反射?投射大于100%。若用显微红外测试以金镜做背景也会出现这种情况。各位老师帮我分析一下原因吧，还有测试基底上的膜中红外的吸收应该用什么仪器，用什么测试方法。谢谢谢谢

  • 求文獻2篇

    【序号】：1【作者】：焦红岩【题名】：真空镀膜系统中反应溅射控制的分析与研究【期刊】: 《兰州交通大学》 【年、卷、期、起止页码】：2013【全文链接】：http://cdmd.cnki.com.cn/Article/CDMD-10732-1013352525.htm【序号】：2【作者】：王振伟【题名】：非平衡反应磁控溅射迟滞效应的PID神经网络控制仿真研究【期刊】: 《大连理工大学》 【年、卷、期、起止页码】：2009【全文链接】：http://lib.cnki.net/cdmd/10141-2009115877.html

  • 【原创】镀膜玻璃怎么拍SEM？

    唉，最近总有人拿镀膜的玻璃来给我拍SEM，我的是W灯丝的。玻璃上镀的是大约30－40nm的ZnO或TiO2，要求看ZnO的孔径生长情况。我是新手，费老大力在镀膜正面放大到10万倍下拍摄，能看出有一些排布均匀的黑点（可能就是他们要的孔），但黑点的边界模糊，不清楚，想问高手怎么能调节清楚？另外，他要求看这个镀膜的侧面，一直放大到10万倍，总看不到所谓的孔的截面，而且图片也不清楚，怎么调节呢？加速电压：20kv，15kv都有试过 调焦，像散，明亮度，对比度以及束斑都有调节，甚至电子枪的对中也一直调来着，尤其在5万倍以上总是不太清楚。愁死了。看的是SEI象。玻璃已镀金膜。谢谢！

  • 【求助】薄膜xrd掠入射能看薄膜的择优取向吗？谢谢！

    各位大侠帮忙解答:1. 我看文献上有的说xrd掠入射看薄膜物象鉴定，常规的θ/2θ扫瞄看薄膜的择优取向。薄膜xrd掠入射能看薄膜的择优取向吗？2. 我做常规的θ/2θ扫瞄时只有衬底峰没有薄膜信息，所以只能做掠入射，我是在单晶SiC片子上磁控溅射AlN薄膜（约500nm厚），但是我要对比不同参数下薄膜的择优取向，我该怎么测呢？3. 我用的设备是日本理学D/MAX 2500PC X射线粉末衍射仪，做掠入射时加了薄膜附件，采用2θ扫瞄模式，θ角固定（2.5、3、5、8、15、30度），不管θ角多大都没出现衬底峰只有薄膜峰，但是随着θ角的增大，AlN （0002）峰强也增大，而.（10-13）峰强则减小直到消失，这是为什么？另外，掠入射时θ角越小x线在薄膜中的光程应该越大，反应的薄膜信息应该越丰富对吗？为什么我做θ角0.5度和1度时什么峰都没有呢？

  • 金属镀膜纤维和金属纤维

    金属镀膜纤维和金属纤维,欧标和美标是不同单词表示，美标的金属镀膜纤维和金属纤维是不是都是用Metallic yarn来表示的？

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