单面湿膜制备器

制备研发器是一种半制备超临界流体色谱系统分析，它将分析SFC的功能和分离并收集少于1克特定化合物的独特能力相结合。它包括更高流速（高达15毫升/分钟）、容纳高达10个分析柱或6个制备柱的更大且更灵活的温箱。通过使用Alias自动取样器，制备研发器以2倍速度传输更大的容量。特征：CO2泵和溶剂泵和自动背压调节器一起构成流体传输模组Analytical-2-Prep双阀温箱具有独特抽屉设计以便于接取增强的易于使用SuperChrom软件可实现最大程度的控制灵活性、方法编程、叠层进料能力和全质谱获取/数据分析可选用的完全整合的2998 PDA和/或2424ELS检测器较小占据面积（92 cm高x 98 cm长x 68 cm宽）

单面制备器（1 8 0 5 4 2 0 3 0 1 6）产品说明：涂膜器可对湿膜或干膜的厚度进行精确控制。常规质量控制及研究开发试验时，涂料的遮盖力、不透明性、耐擦洗能力、抗流挂性能及其它质量试验都要求有一个一致性好重复性佳的涂层。 产品参数：材质：高级耐磨耐腐蚀合金钢。有效涂布宽度：100mm总长：130mm产品名称订购编号厚度15um单面制备器TR 3001/100/01515微米20um单面制备器TR 3001/100/02020微米25um单面制备器TR 3001/100/02525微米30um单面制备器TR 3001/100/03030微米37.5um单面制备器TR 3001/100/03737.5微米40um单面制备器TR 3001/100/04040微米50um单面制备器TR 3001/100/05050微米60um单面制备器TR 3001/100/06060微米75um单面制备器TR 3001/100/07575微米80um单面制备器TR 3001/100/08080微米100um单面制备器TR 3001/100/100100微米125um单面制备器TR 3001/100/125125微米150um单面制备器TR 3001/100/150150微米200um单面制备器TR 3001/100/200200微米250um单面制备器TR 3001/100/250250微米300um单面制备器TR 3001/100/300300微米400um单面制备器TR 3001/100/400400微米500um单面制备器TR 3001/100/500500微米600um单面制备器TR 3001/100/600600微米有效涂布宽度：80mm总长：100mm产品名称订购编号厚度双面制备器TR 3002/125um/50um双面制备器TR 3002/270um/100um双面制备器TR 3002/3150um/200um双面制备器TR 3002/4300um/400um规格1：有效涂布宽度：80mm、总长100mm。规格1：有效涂布宽度：160mm、总长190mm。产品名称订购编号厚度涂膜宽度四面制备器TR 3004/80/15um10um15um20um80mm四面制备器TR 3004/80/210um20um30um40um80四面制备器TR 3004/80/320um40um60um80um80四面制备器TR 3004/80/425um50um75um100um80四面制备器TR 3004/80/530um60um90um120um80四面制备器TR 3004/80/650um75um100um150um80四面制备器TR 3004/80/750um100um150um200um80四面制备器TR 3004/80/8100um150um200um250um80四面制备器TR 3004/80/9100um200um300um400um80四面制备器TR 3004/80/10250um500um700um1000um80四面制备器TR 3004/160/15微米10微米15微米20微米160mm四面制备器TR 3004/160/210微米20微米30微米40微米160四面制备器TR 3004/160/320微米40微米60微米160微米160四面制备器TR 3004/160/425微米50微米75微米100微米160四面制备器TR 3004/160/530微米60微米90微米120微米160四面制备器TR 3004/160/650微米75微米100微米150微米160四面制备器TR 3004/160/750微米100微米150微米200微米160四面制备器TR 3004/160/8100微米150微米200微米250微米160四面制备器TR 3004/160/9100微米200微米300微米400微米160四面制备器TR 3004/160/10250微米500微米700微米1000微米160有效涂布宽度：12.7mm、总长25mm。产品名称订购编号厚度方形制备器TR 3005/12/138um/76um方形制备器TR 3005/12/275um/150um流挂仪产品说明：符合GB/T 9264 ASTM D 3730标准，测定湿膜在垂直状态下的上端涂料向下端流动变厚情况，以便通过控制涂料物理性能选择一个合适的湿膜厚度保证获得一个均匀膜厚。此流挂性能有利于对垂直、边角、圆孔、圆弧工件的涂装控制。粘度、细度、厚度是影响流挂的主要因素。产品参数：材质：高级耐磨耐腐蚀合金钢。外形尺寸：120mm×20mm×20mm10条不同厚度的涂膜，湿膜宽度为6mm，条膜间距为1.5mm，相邻条膜厚度差25 μm 订购信息：产品名称订购编号厚度流挂仪TR 3060/150-75-100-125-150-175-200-225-250-275流挂仪TR 3060/2250-275-300-350-375-400-425-450-475流挂仪TR 3060/3450-475-500-525-550-575-600-625-650-675流挂仪TR 3060/4650-675-700-725-750-775-800-825-850-875流挂仪TR 3060/5850-875-900-925-950-1000-1025-1050-1075 流平仪产品说明：符合 ASTM 2801标准，用于测定湿膜在水平放置状态时的涂料在2D状态的流动情况，以便通过控制涂料物理性能选择一个合适涂装状态。产品参数：材质：高级耐磨耐腐蚀合金钢。 订购信息：产品名称订购编号厚度流挂仪TR 3080/1100-200-300-500-1000µ m流挂仪TR 3080/2250-500-1000-2000-4000µ m 配套粘度计 搅拌机 涂膜机 耐洗刷 耐磨仪 色差仪 白度计 光泽计 测厚仪 制备器 线棒 炉温仪 硬度计 弯曲仪 冲击仪 反射率仪 遮盖力仪 细度板 拉拔仪 百格刀 划格刀 盐雾箱 PH计 电导率仪 比色计 平膜仪

仪器简介：湿膜制备器产品展台为您精选湿膜制备器产品，欢迎您来电咨询湿膜制备器产品的详细信息！湿膜制备器的种类有很多，不同湿膜制备器的应用范围也会有细微的差别，而本公司将会为您提供全方位的解决方案。 湿膜制备器主要用于涂布规定厚度的湿膜，以测定试样的遮盖力、色泽或制备样板等。技术参数：湿膜制备器 湿膜制备器主要用于涂布规定厚度的湿膜，以测定试样的遮盖力、色泽或制备样板等。 主要技术参数（&mu m） 型号 SZQ-25 SZQ-37.5 SZQ-50 SZQ-75 SZQ-100 SZQ-125 SZQ-150 SZQ-200 SZQ-250 SZQ-300 SZQ-400 SZQ-500 规格 25 37.5 50 75 100 125 150 200 250 300 400 500 精度 ± 2 ± 2 ± 2 ± 3 ± 3 ± 4 ± 4 ± 5 ± 5 ± 6 ± 8 ± 10主要特点：湿膜制备器主要用于涂布规定厚度的湿膜，以测定试样的遮盖力、色泽或制备样板等。

湿膜制备器 ZBQ-4四面湿膜制备器 多槽沟涂膜器被设计用在平坦的底材上涂布均匀的油漆，粘结剂及其类似产品。我司把多槽沟涂膜器可选择的多样性和固定槽沟涂膜器的精度结合在一个仪器上。可适用于水性，酸性和碱性的产品。 主要技术参数： ■ 不锈钢- 耐腐蚀 ■ 有效涂布宽度：80mm；总长：100mm 5µ m，10µ m，15µ m，20µ m 25µ m，50µ m，75µ m，100µ m 50µ m，100µ m，150µ m，200µ m 30µ m，60µ m，90µ m，120µ m 100µ m， 200µ m，300µ m，400µ m 50µ m， 75µ m，100µ m，150µ m 100µ m， 150µ m，200µ m，250µ m 250µ m， 500µ m，750µ m，1000µ m

热丝CVD金刚石设备研发设计制造了热丝CVD金刚石设备，分为实验型设备和生产型设备两类。设备主要用于微米晶和纳米晶金刚石薄膜、导电金刚石薄膜、硬质合金基金刚石涂层刀具、陶瓷轴承内孔镀金刚石薄膜等。例如可用于生产制造环保领域污水处理用的耐腐蚀金刚石导电电极。可用于平面工件的金刚石薄膜制备，也可用于刀具表面或其它不规则表面的金刚石硬质涂层制备。 平面工作尺寸圆形平面工作的尺寸：最*大φ650mm。矩形工作尺寸的宽度600mm/长度可根据镀膜室的长度确定（如：工件长度1200mm）。配置冷水样品台。热丝电源功率可达300KW，1KW ～300KW可调（可根据用户工艺需求配置功率范围）设备安全性-电力系统的检测与保护-设置真空检测与报警保护功能-冷却循环水系统压力检测和流量检测与报警保护-设置水压检测与报警保护装置-设置水流检测报警装置设备构成真空室构成双层水冷结构，立式圆形、立式D形、立式矩形、卧式矩形,前后开门，真空尺寸,根据工件尺寸和数量确定。热丝热丝材料：钽丝、或钨丝热丝温度：1800℃～ 2500℃ 可调样品台可水冷、可加偏压、可旋转、可升降 ，由调速电机控制，可实现自动升降，（热丝与衬底间距在5 ～ 100mm范围内可调），要求升降平稳,上下波动不大于0.1mm。工作气路（CVD）工作气路根据用户工艺要求配置：下面气体配置是某一用户的配置案例。H2(5000sccm，浓度*100*%)CH4(200sccm，浓度*100*%)B2H6（50sccm，H2浓度99%）Ar(1000sccm，浓度*100*%)真空获得及测量系统控制系统及软件实验型 热丝CVD金刚石设备单面热丝CVD金刚石设备双面热丝CVD金刚石设备生产型热丝CVD金刚石设备可制备金刚石面积-宽650*1200mm可制备金刚石φ 650mm

台式高精度薄膜制备与加工系统Moorfield Nanotechnology是英国材料科学领域高性能仪器研发公司，成立25年来专注于高质量的薄膜生长与加工技术，拥有雄厚的技术实力，推出的多种高性能设备受到科研与工业领域的广泛好评。Moorfield公司近十年来与曼彻斯特大学诺奖技术团队紧密合作，推出的台式高精度薄膜制备与加工系列产品由于其体积小巧、性能、易于操作更是受到很多科研单位的赞誉。Moorfield Nanotechnology推出的台式设备体积小巧，但性能已经可以和大型设备相媲美。这些设备已经进入了欧洲的实验室，诸如曼彻斯特大学、剑桥大学、帝国理工学院、诺森比亚大学、巴斯大学、埃克塞特大学、伦敦玛丽女王大学、哈德斯菲尔德大学、莱顿大学、亚森工业大学、西班牙光子科学研究所、英国物理实验室等著名单位都是Moorfield Nanotechnology的用户和长期合作者。诸多的用户与合作者让产品的性能和设计理念得到了高速发展，并迈入全球化的进程。如今Quantum Design中国子公司与Moorfield Nanotechnology正式合作，作为中国的代理和战略合作伙伴，将为中国用户提供高性能的设备与优质的服务。除了台式设备之外我们还提供多种大型设备和定制服务。全系列产品即将上线，敬请期待… … 台式高性能CVD石墨烯/碳纳米管快速制备系列—nanoCVD超快速高质量石墨烯生长设备，整个过程30分钟内搞定！CVD被公认为是石墨烯具有应用前景的制备手段。NanoCVD系列台式设备是专为制备高质量的石墨烯与碳纳米管而开发的高性能台式CVD系统。与曼彻斯特大学诺奖团队的长期合作使得该系列产品在制备石墨烯等碳基纳米材料方面具有雄厚的技术积累。该系列产品操作简便，生长条件控制，生长迅速、制备出的样品具有高质量、高可重复性，可清楚的观测到分数量子霍尔效应。尤其适合于需要快速得到高质量石墨烯或碳纳米管用于高端学术研究的团队。点击查阅详细信息台式高性能多功能PVD薄膜制备系列—nanoPVD可媲美大型PVD的台式高性能PVD系统 ，爆款热销中！基于多年大型薄膜制备系统的设计与研发所积累的丰富经验，Moorfield Nanotechnology推出了台式高性能多功能PVD薄膜制备系列产品。该系列产品是为高水平学术研究研发的小型物理气相沉积设备。该系列产品包含磁控溅射、金属/机物热蒸发系统。这些设备虽然体积小巧但是性能，能够快速实现高质量纳米薄膜、异质结的制备，通常在大型设备中才有的共溅射功能也可以在该系列产品上实现。便捷的操作、智能的控制、高效的制备效率让您的学术研究进入快车道。点击查阅详细信息台式超二维材料等离子软刻蚀系统—nanoETCH用于超刻蚀二维材料与样品表面处理的等离子体刻蚀系统，诺奖团队都在用！石墨烯等二维材料的微纳加工与刻蚀需要很高的精度，而目前成熟的传统半导体刻蚀系统在面对单层材料的高精度刻蚀需求时显得力不从心。为了解决目前维纳加工中常用的蚀系统功率较大、难以精细控制的问题，Moorfield Nanotechnology 推出了台式超二维材料等离子软刻蚀系统 - nanoETCH。该系统对输出功率的分辨率可到达毫瓦量，对二维材料可实现超的逐层刻蚀，也可实现对二维材料进行层内缺陷制造，此外还可对石墨基材等进行表面处理。点击查阅详细信息台式气氛\压力控制高温退火系统—ANNEAL从高真空到各种气氛都能控制的高端热处理系统Moorfield Nanotechnology专门为制备高质量的样品而推出的台式气氛\压力控制高温退火系统，该系统可以满足从高真空到各种气氛的退火需求。对气压和温度都能进行控制，该系统不仅仅是普通的退火系统更是二维材料、基片等进行可控热处理的重要保障。该系统颠覆了传统箱式、管式炉的粗放退火方式，开创了退火的新篇章。点击查阅详细信息多功能高磁控溅射喷金仪—nanoEM是一台喷金仪，但不仅仅是喷金仪！多功能高磁控溅射喷金仪—nanoEM是Moorfield Nanotechnology为SEM、TEM样品的表面导电处理以及普通样品的高质量电生长而设计的金属溅射系统。系统配备SEM样品托、TEM样品网、普通薄膜样品等多种专用样品台。虽然该系统主要为溅射金属而设计，但是该设备的性能已经达到了高质量薄膜样品的制备标准。通过选择不同的配置可以兼顾样品的表面导电处理、电制备与学术研究型薄膜样品的制备。因此nanoEM是一台不可多得的多功能高磁控溅射喷金仪。点击查阅详细信息部分单位及用户评价意大利比萨大学（nanoPVD S10A）Moorfield近在意大利比萨大学安装了另一台nanoPVD-S10A磁控溅射系统。在这里，它将被Giuseppe Barillaro副教授领导的团队用于为新型器件生长保护性和功能性涂层。该小组的研究应用包括纳米医学、生物传感、微电子学和光子学。诺森比亚大学（nanoPVD S10A，MiniLab）DR. GUILLAUME ZOPPI对Moorfield的评价：在诺森比亚大学，我们正在研究各种材料的应用，特别是光伏材料。作为不可或缺的部分，Moorfield近安装的用于磁控溅射和电子束蒸发的nanoPVD和MiniLab系统发挥了关键作用。Moorfield专家的专业建议确保了我们得到为合适的设备，我们对设备的质量和快速、高效的技术支持留下了深刻的印象。很高兴能和Moorfield的团队一起工作。巴斯大学（nanoPVD-T15A）DR. PETRA CAMERON对Moorfield的评价：我们的研究重点是电化学材料、能源材料和钙钛矿光伏材料。我们之前一直在寻找一个可靠且易于使用的台式蒸发设备。现在，我们新的Moorfield nanoPVD-T15A热蒸发系统可以高质量的沉积金属电和钙钛矿光伏材料的接触层。让我们喜欢的另一方面是，该系统是模块化的，可以很容易地升低温有机物蒸发模块。我们的nanoPVD-T15A已经迅速成为一个关键设备，现在每天都在使用。DR MATTHEW COLE（副教授）对Moorfield的评价：Moorfield的服务速度快如闪电。他们的产品支持是的，屈一指的。丹麦技术大学（MiniLab090手套箱集成系统）为了满足Tim Booth在二维材料和异质结的合成和应用研究，系统在MiniLab090的基础上集成了手套箱，允许在惰性气体环境下进行完整的设备操作。系统配置包括软刻蚀、热蒸发和磁控溅射。Tim Booth教授对Moorfield的评价：在DTU，我们近从Moorfield采购了一套手套箱集成系统，系统配置包括软蚀刻系统、热蒸发和磁控溅射功能，用于我们研究二维材料和异质结的合成和应用。该系统允许我们在高精度控制的低氧和水气条件下执行2D材料器件的大部分微加工步骤。Moorfield团队在设计和安装过程中至关重要并且非常专业，如果有任何疑问，他们总是可以立即提供技术支持。他们在提供2D材料技术支持方面有多年的经验，所以我们知道我们有了得力的助手。系统的高质量和设计方案让我们印象深刻，我们期待着在未来的许多年里与设备和Moorfield团队一起工作。强烈推荐!”MiniLab090手套箱集成系统，图中红色部分为集成系统的控制屏幕和主机部分。曼彻斯特大学（手套箱集成退火和刻蚀系统）DR. ROMAN GORBACHEV对Moorfield的评价：我的团队近与Moorfield合作，为我们的应用方向定制了一个集成手套箱的热退火和软蚀刻组合系统。它安装于新的National Graphene Institute (NGI)，现在被用于石墨烯和2D材料的研究。我们一直对Moorfield的专业技术和提高客户满意度的奉献印象深刻，这次也不例外！西班牙光子研究所（手套箱集成退火和刻蚀系统）位于西班牙巴塞罗那Castelldefels 的ICFO （光子科学研究所）是一个致力于光学领域科学和技术的研究中心。DR. STIJN GOOSSENS对Moorfield的评价：在ICFO，我们正在努力建立一个的新材料研究中心。近安装的Moorfield 手套箱集成热退火系统、电子束沉积系统，以及新的nanoETCH系统，起到了关键作用。我们对他们专业的销售建议、他们系统的质量和可靠性以及他们快速、有效的支持印象深刻。很高兴能和他们的团队一起工作！Evonetix公司（MiniLab 026 热蒸发系统）Evonetix公司致力于利用基因合成技术，促进合成生物学领域的快速发展。Evonetix的优势是基因合成的高保真性和并行性。DR. DAN BRATTON PH.D对Moorfield的评价：在Evonetix，我们正在开创一种可扩展和高保真基因合成的创新方法。我们想拥有一种将金属蒸发到各种基材上的设备，我们联系了Moorfield Nanotechnology公司，该公司根据我们的要求定制了一个Minilab 026蒸发系统。在整个过程中，Moorfield Nanotechnology团队非常友好且知识渊博，在安装前后都提供现场培训。在Evonetix, Minilab 026已经被证明是非常有用的设备。特别是，我们喜欢它的紧凑设计，它的易用性，以及它所带来的样品数量的增加。我们愿意向任何人推荐该设备和团队。Evonetix团队与新安装的MiniLab026热蒸发系统曼彻斯特城市大学（MiniLab 060）DR. JUSTYNA KULCZYK对Moorfield的评价：在MMU，我们近成立了曼彻斯特燃料电池创新中心，以开发利用可再生能源的创新技术方案。为此，我们采购了Moorfield MiniLab 060磁控溅射系统，该系统具有快速进样室、衬底偏压和等离子清洗、脉冲直流和射频电源以及共沉积功能。在系统设计过程中，Moorfield提供了非常宝贵的建议。我们对系统和软件的质量，以及他们团队的专业知识、沟通和技术支持都留下了深刻的印象。我们将推荐给任何现在或将来考虑使用PVD系统的人。曼彻斯特城市大学正在利用Moorfield Nanotechnology公司的MiniLab 060系统进行先进的燃料电池的研究

Munich Metrology VPD 系统及模组　Munich Metrology GmbH, 是 PVA TePla的全资子公司, 拥有VPD，气相分解设备超过二十年的VPD经验，无论在设备和应用方面都是前沿供应商。在2012年Munich Metrology 被PVA-TEPLA收购，Munich Metrology 产品目前是由PVA-TEPLA制造，扩大其半导体集团的计量功能。产品：WSMS - 晶圆表面测量系统　Munich Metrology提供了最先进的，完全整合的VPD测量系统。该WSMS包括前缘的VPD，气相分解，最先进，精密的化学品输送系统，自动提供所需的所有集成的ICP-MS分析的校准的化学品VPD和所有的化学物质样品采集系统系统。它是一台用计算机控制的系统，接受远程命令，并通过SECS / GEM工厂自动化接口提供的测量结果实时在一个完整的测量系统。该WSMS的优点包括：全自动最低的检出限制更快地取得测量结果实时操作过程通过精密，无错，加药，稀释，混合和传递到两个VPD和ICP-MS的操作精确测量无需人工较准, 降低成本UtilitiesDimensionPower : 220/110 V, 2.2 kWDI water : 1.5 bar (20 psi), 2 l/hNitrogen : 1.5 bar (20 psi), 0.7 m3/hExhaust : 50 m3/hDrainDepth : 1507 mmWidth : 2065 mmHeight : 2140 mmTable Top : 945 mmWeight : 1100 kgWSPS - 晶圆表面制备系统(VPD Preparation)WSPS系统包括处理模块，机器人控制，录像带站cassette stations 和固定负载接口站系统中的FOUPS，提供过滤后的洁净空气，工具和电源各个独立模块。WSPS软件提供了完整的系统运行能力和数据收集，包括定制配方设置，作业定义，作业执行，晶圆优先级和远程监控和操作管理。扫描整个晶圆表面无残留系统模块设计自动处理功能适用于硅片及其它材料表面WSPS, Wafer Surface Preparation System and VPD ModulesPAD-Fume可编程自动分解烟化机PAD-Fume是Munich Metrology 晶圆表面清洗装置的模 块之一 , 用于分析硅片表面和其氧化物的超微量金属污染。它也可与自动液滴扫描器 PAD-Scan以及PAD-Dry （只适用于全反射X射线荧光-TXRF分析）组合使用。PAD-Fume, Oxide Etch ModulePAD-Scan可编程自动液滴扫描器PAD-Scan 提供了一个高度敏感硅晶片VPD分析的新质量。它的全自动化操作,除去了人工操作所造成的所有微粒污染，降低空白试验值, 从而大幅度提升并达到卓越的侦测度。由于其扫描程序的精确控制,PAD-Scan把VPD打造成为一个能提供优良重复性的可靠制备方法, 是个适合用于前端工艺, 针对晶圆表面质量管理的理想方案。由于精密的部分扫描模式,任何晶片的范围皆可选择用于收集VPD残液。机器手的晶圆处理能力可用于所有晶圆, 直径达300毫米。PAD-Scan, Sample Collection ModulePAD-Dry可编程自动液滴烘干机T只适用于全反射X射线荧光-TXRF分析。 采用真空及适度的热量, 平均及快速地把晶圆烘干。全自动化系统操作作为以生产导向工具的WSPS系统提供了自动晶圆处理，包括SMIF和FOUP loadports的所有选项。所有以软件标准，如SECS / GEM与工厂控制系统结合。　VPD 原理以校准了的化学溶液或超纯水（50?350微升）先以移液管滴到晶片上。之后由高纯度管作为引导，在晶片表面形成可编辑的格局。在扫描完成后，管子将在一个短氮气脉冲下脱离液滴。液滴可在晶片的预定位置上蒸发(用于TXRF分析)，或利用移液管转移到小瓶（用于ICP-MS分析）。扫描前后可以使用清洗液清洗，再用超纯水冲洗扫描官子和移液管。　300/450mm 桥梁工具Munich Metrology VPD 系统和模块可用于晶圆尺寸可达450mm。 所有450毫米的产品以桥梁工具将两个300和450毫米的晶圆一起工作。　系统翻新 (Refurbished Systems)Munich Metrology 可以将旧的GeMeTec VPD 产品翻新成一台先进的系统，请与我们的销售联系。

双人单面洁净工作台 水平送风无菌净化操作台超净工作台广泛适用于生物制药、化学实验、医疗卫生、电子光学等领域。并提供局部无菌、无尘的洁净工作台。主要特征：1、水平流形，准闭合式不锈钢台面，操作方便。2、箱体采用中纤板材紧密结合，保证长时间无锈蚀发生，面层电喷涂表面处理，表面光滑无尘。3、使用远程红外线遥控控制4、外壳冷轧钢，桌面敷设不锈钢。双人单面洁净工作台 水平送风无菌净化操作台技术参数参数SW-CJ-1BSW-CJ-1C洁净等级100级@≥0.5μm(美联邦209E）菌落数≤0.5个/皿．时（Φ90㎜培养平皿）平均风速0.25m～0.45/m/s(快、慢双速）噪音≤62dB(A)振动半峰值0.5μm(x.y.z方向）照度≥300LX电源AC单相220V/50Hz送风方式水平送风功耗0.4KW0.8KW重量150㎏300kg高效过滤器规格及数量865×600×38×①1355×600×38×①荧光灯/紫外灯规格及数量20W×①/20W×①30W×①/30W×①适用人数单人单面双人单面工作区尺寸870×550×620㎜1360×550×620㎜外形尺寸1050×730×1600㎜1600×730×1600㎜说明：本公司接受客户特殊规格要求的非标型净化工作台（可根据用户需要配备紫外灯杀菌功能）工作台使用红外线遥控控制。A键：风机启动（大风速）；B键：风机启动（小风速）；C键：照明灯；D键：杀菌灯；ON/OFF键：通电（关机）。工作台面就位地点应在环境较为清洁的工作室内，（最好置于十万等级或者三十万等级的初级净化间），插上220V交流电源后，按控制面板上的所示功能开启即可，开机前应对净化工作台的工作区面 及外壳进行认真清洁处理，去除表面积尘，开机后十分钟即可进行实施正常操作使用。关于洁净工作台的等级划分洁净实验室主要是通过人为的手段，应用洁净技术实现控制室内空气中尘埃、含菌浓度、温湿度与压力、以达到所要求的洁净度、温湿度和气流速度等环境参数。空气洁净度是指洁净空气环境中空气含尘量程度，空气洁净度的级别以含尘浓度划分。洁净度是指每升空气中所含粒径≥0.5um的尘粒的总颗粒。我国空气洁净等级标准分为：100级、1000级、10000级、100000级。国际标准则划分为：1级、2级、3级、4级、5级。洁净室一般实施两级隔离，一级隔离通过生物安全柜、负压隔离器、正压防护服、手套、眼罩等实现；二级隔离通过实验室的建筑、空调净化和电气控制系统来实现。但由于净化空调需要风量小为了安全起见，风量都按大的估算，一般都要超过规范规定，物别是百级以上，冷热负荷在要求不是很严格的情况可能估算，现在专门有净化空调机组，可以直接利用。二级~四级生物安全实验室应实施两级隔离。一般实验室装备有:洁净工作台、生物安全柜、边台或不锈钢操作台、洗涤台等。以PRC实验室为例（PCR即聚合酶链式反应），是分子生物学研究和实验的常规方法，也是生物学、医学临床等领域广泛应用的实验技术。其特点是能将微量的DNA大幅增加，实验室通常分为四个区域，即：试剂储存和准备区、标本制备区、扩增反应混合物配制和扩增区、扩增产物分析区（如使用全自动分析仪，区域可适当合并）。

产品简介根据《HJ/T166-2004土壤环境监测技术规范》、总站土字【2018】407号文件、《NY/T 1121.1-2006 土壤检测第1部分 土壤样品的采集、处理和贮存》等技术规范的要求，20目或10目土壤样品要求全制样，不可弃样。目前主要采用人工研磨、筛分的方式，效率较低、环境恶劣、劳动强度大、样品容易研磨过细等都是目前人工方法面临的主要问题。FASP-ECO型全自动土壤样品制备仪为用户带来了高效、合规、全流程可追溯的样品粗磨制备体验，帮助用户远离尘土飞扬的环境，使工作更加轻松安全！产品特点风干样品进样，一个进样位 10目/20目土壤样品粗磨、筛分、分样、称量、装样、清洁自动化制备设备全流程不接触任何金属，确保制样过程中没有外源性污染二级研磨模式，确保10目/20目样品制备效果，避免样品研磨过细全自动清洁，避免交叉污染实验条件全流程数字化记录，全流程可追溯，报表自动生成标准化流程制备，消除批次间差异，保证制备质量及批次稳定性改善实验室环境，由严重污染提升到优美洁净友好依据标准《HJ/T 166-2004 土壤环境监测技术规范》中国环境监测总站土字【2018】407号《土壤样品制备流转与保存技术规定》《NY/T 395-2012 农田土壤环境质量监测技术规范》《DZ/T 0130.4-2006 地质矿产实验室测试质量管理规范》《HJ/T 20-1998 工业固体废物采样制样技术规范》《EJ 428-1989 环境核辐射监测中土壤样品采集与制备的一般规定》《LYT1210-1999 森林土壤样品的采集与制备》等技术参数进样模块一个样品位，干样进样操作模块集成式制样操作模块研磨模块研磨部件不含金属元素，不会带来外源性污染分样混匀模块样品自动充分混匀，可选四分法分样筛分模块依据GB/T 6003.1-2012，可选10目或20目任意一种规格称量模块内置称量模块，可自动称量样品清洁模块自动清洁，电动毛刷接触式清洁，负压吸附，滤芯除尘应用领域 土壤环境监测农用地详查土壤与环境科学研究第三方检测机构场地调查与评估土壤普查

产品简介根据《HJ/T166-2004土壤环境监测技术规范》、总站土字【2018】407号文件、《NY/T 1121.1-2006 土壤检测第1部分 土壤样品的采集、处理和贮存》等技术规范的要求，20目或10目土壤样品要求全制样，不可弃样。目前主要采用人工研磨、筛分的方式，效率较低、环境恶劣、劳动强度大、样品容易研磨过细等都是目前人工方法面临的主要问题。FASP-ECO型全自动土壤样品制备仪为用户带来了高效、合规、全流程可追溯的样品粗磨制备体验，帮助用户远离尘土飞扬的环境，使工作更加轻松安全！产品特点风干样品进样，一个进样位 10目/20目土壤样品粗磨、筛分、分样、称量、装样、清洁自动化制备设备全流程不接触任何金属，确保制样过程中没有外源性污染二级研磨模式，确保10目/20目样品制备效果，避免样品研磨过细全自动清洁，避免交叉污染实验条件全流程数字化记录，全流程可追溯，报表自动生成标准化流程制备，消除批次间差异，保证制备质量及批次稳定性改善实验室环境，由严重污染提升到优美洁净友好依据标准《HJ/T 166-2004 土壤环境监测技术规范》中国环境监测总站土字【2018】407号《土壤样品制备流转与保存技术规定》《NY/T 395-2012 农田土壤环境质量监测技术规范》《DZ/T 0130.4-2006 地质矿产实验室测试质量管理规范》《HJ/T 20-1998 工业固体废物采样制样技术规范》《EJ 428-1989 环境核辐射监测中土壤样品采集与制备的一般规定》《LYT1210-1999 森林土壤样品的采集与制备》等应用领域 土壤环境监测农用地详查土壤与环境科学研究第三方检测机构场地调查与评估土壤普查

角膜制备仪Ophthalmic corneal printer 660眼部疾病损伤包括角膜、青光眼、视网膜、眼睑和眼眶等方面，现存的治疗方法存在移植物自愈效果不佳、供体数量短缺等问题。 投影式光固化生物3D打印技术在制造结构精度及复杂程度上具有显著的优势，打印结构在光学性能、力学强度、定制化程度等方面明显优于其他制造方法。出于以上优势，其可用于精细化眼部结构的制造，从而协助科研人员对眼部疾病的相关机理进行研究。此外也可用于眼部仿生结构的重建，为损伤部位针对性治疗方案的探索提供一种研究途径！技术指标及设备参数：光源： 405nm（其他波段可定制）投影精度： 25μm最小打印层高： 10μm沉积平台温控范围： RT-50℃（其他温度可定制）墨水料槽温控范围： RT-50℃（其他温度可定制）打印样品尺寸： 48mm(L)×27mm(W)×50mm(H)墨水料槽容量： 50μl-10ml（其他体积可定制）主机外观尺寸： 340mm(L)×210mm(W)×290mm(H)（可轻松放入超净台）洁净无菌系统： 正压过滤、紫外灭菌操作系统： 脱机打印、桌面打印可打印材料： 柔性材料：GelMA、PEGDA水凝胶等；刚性材料：光敏树脂等 3D打印仿生上皮/基质双层水凝胶支架用于角膜再生！快速测试自定义材料参数配方，极大提高实验效率！负载角膜上皮细胞、间充质干细胞分别打印上皮层、正交纤维基质层，加速上皮愈合与基质再生，为角膜的愈合提供有效的再生环境！

单面十字划格法附着力仪产品描述TQC单面十字划格法附着力仪套装(CC2000)是通过划出一系列的涂层切口，测量出表面干燥涂层附着力的一种工具。划出两系列平行线，彼此互相垂直，从而获得25个或100个形状大小相似的方格。在被划格区域，采用硬毛刷子擦刷或者在上面贴上胶带再撕下来，观察被处理后的涂层情况，根据标准从而进行评判。单面十字划格法附着力仪符合标准ISO/DIN 2409，ASTM D3359单面十字划格法附着力仪应用领域涂料、汽车、镀层、实验室、油墨、船舶、钢保护、木材等行业。 单面十字划格法附着力仪产品特点自动调节刀片固定器，确保切刀施加在涂层上压力的一致性 符合人体工程力学的手柄 切刀易于更换，不需要额外的工具 切刀尺寸范围宽，广泛适用于不同的涂层厚度和基板，可根据不同标准进行选择。单面十字划格法附着力仪产品型号单面十字划格法附着力仪测试，符合标准 DIN-ISO ，6个刀齿SP1690 TQC单面十字划格法附着力仪CC2000，刀齿间隔1 mmSP1691 TQC单面十字划格法附着力仪 CC2000，刀齿间隔2 mmSP1692 TQC单面十字划格法附着力仪CC2000，刀齿间隔3 mm单面十字划格法附着力仪 ，符合标准ASTM ，11个刀齿SP1699 TQC单面十字划格法附着力仪CC2000，刀齿间隔1 mmSP1700 TQC单面十字划格法附着力仪 CC2000，刀齿间隔1.5 mm 单面十字划格法附着力仪标准配置该测试套装包含一个轻质、舒适的手柄，一把坚硬钢刀(类型有多种，见上文)，1把尼龙刷，1个照明放大镜和胶带(粘着力4.3N/cm)。可选购配件1SP3007 1卷粘着力4.3N/cm 的胶带SP3010 3卷粘着力4.3N/cm 的胶带SP3020 1卷粘着力7.6 N/cm 的胶带SP1710 用于十字划格附着力测试的尼龙刷SP9700 2.5倍照明放大镜可选购配件2符合DIN-ISO标准的TQC刀头(适用于CC2000、CC3000)SP1702 刀齿间隔1 mmSP1703 刀齿间隔2 mmSP1704 刀齿间隔3 mm符合ASTM标准的TQC刀头(适用于CC2000、CC3000)SP1705 刀齿间隔1 mmSP1706 刀齿间隔1.5 mm单面十字划格法附着力仪评判标准 单面十字划格法附着力仪使用方法ISO 2409: 1mm间隔的，适用于 涂层厚度小于60微米的坚固底材2mm间隔的，适用于涂层厚度小于60微米的柔软底材2mm间隔的，适用于涂层厚度在61到120微米之间的所有底材3mm间隔的，适用于涂层厚度在121-250微米之间的所有底材ASTM D3359: 1mm间隔的，适用于涂层厚度小于50微米1.5mm间隔的，适用于涂层厚度在50-125微米之间安全注意事项刀头是锋利的，使用的时候要注意安全 请使用包装盒存储刀 。免责声明TQC保留技术改造的权利

DS-2000/14K 无掩膜单面光刻机 1．技术特征。采用 DMD 作为数字掩模，像素数 1024×768。采用 14 倍缩小投影光刻物镜成像。。采用专利技术——积木错位蝇眼透镜实现均明。。具备对准功能。采用进口精密光栅、进口电机、进口导轨、进口丝杠实现精确工件定位和曝光拼接，可适应 100mm?100mm 基片。。采用 CCD 检焦系统实现整场调平、自动逐场调焦或自动选场调焦曝光。 2．技术参数。光源：350W 球形汞灯（曝光谱线： i 线）或紫外LED；。照明不均匀性：2%；。物镜倍率：14 倍。曝光场面积：1mm×0.75mm。光刻分辨力：1 μm。工件台运动范围：X：100mm、 Y：100mm；。工件台运动定位精度：±0.65μm；。调焦台运动灵敏度：1μm；。对准精度：±2μm；。调焦台运动行程：6mm。检焦：CCD 检测，检测精度 2 微米。转动台行程：±6°以上。基片尺寸。外径: 。1mm—100mm，厚度：0.1mm--5mm 3．外形尺寸：840mm（长）x450mm(宽) x830mm（高） 4．配置（1）照明系统。350W 直流汞灯（或 LED）、椭球镜、准直镜、蝇眼透镜组、场镜组、365nm 滤光片、气动快门、DMD（美国德州仪器）、冷却风扇。。投影物镜：缩小倍率 14 倍。分辨力 1μm （2）工件台系统。X 台：电机驱动器（日本乐孜）、丝杠（日本 NSK）、导轨 2（日本 THK）、光栅（美国）。Y 台：电机及驱动器（日本乐孜）、丝杠（日本 NSK）、导轨 2（日本 THK）、光栅 2（美国）。转动台：电机及驱动器（日本乐孜），转动轴系。Z 台：电机及驱动器（日本乐孜）、丝杠、上升导向机构。承片台：4 英寸（可增加 3 英寸、2 英寸、1 英寸等） （3）检焦系统。焦面光学检测系统、CCD、焦面检测软件 （4）对准系统。对准光学检测系统、CCD、对准软件 （5）电控系统。汞灯电源及触发器、主机控制系统、软件、计算机、监视器（19 英寸液晶）、接口 （6）气动系统。电磁阀、旋转气缸、减压阀、压力表、真空表 （7）其他附件。真空泵一台(无油泵)。空压机一台（静音泵）。管道

产品详情日本JEOL截面样品制备装置IB-19520CCP　 IB-19520CCP在加工过程中利用液氮冷却，能减轻离子束对样品造成的热损伤。冷却持续时间长、液氮消耗少的构造设计。在装有液氮的情况下，也能将样品快速冷却、恢复到室温，并且可以拆卸。配有传送机构，在隔离空气的环境下能完成从加工到观察的全过程。 产品规格：离子加速电压2 ～ 8 kV离子束直径500 um( FWHM)研磨速率500 um（两小时的平均值、8 kV、硅材质换算、突出量:100 um）样品架冷却达到的温度-120 ℃样品冷却持续时间8小时以上制冷箱容量约1升承载样品的最大尺寸11mm(长) × 8mm（宽）× 3mm（厚）样品台移动范围X轴：±6mm、Y轴：±2.5mm固定样品方法夹式样品加工摆角±30°加工观察用相机的倍率约20～100倍（6.5寸显示器上）机械泵: 150 mm（宽） × 427 mm（长） × 230 mm（高）、约16 kg空气隔离系统转移舱空气隔离法将舱内设定成氩气气氛，盖上转移舱盖子，将样品封在舱里。操作方法触控屏、6.5寸显示器使用气体氩气(用质量流量控制器控制流量)压力测试潘宁真空计主抽真空系统涡轮分子泵辅助抽真空系统机械泵尺寸、重量主机：约670mm (宽) × 720mm(长) × 530mm(高)、约73kg机械泵：约150 mm (宽) × 430 mm(长) × 230 mm(高)、约16kg选配件大型旋转样品架（IB‐11550LSRH)、（IB‐11550LSRH)　基座样品架 （IB‐11560MBSH)　大型样品架（IB-11570LSH)　　喷碳样品架（IB-12510CCH）电源单相100～120 V±10%、50/60 Hz、0.6 kVA接地线独立地线(100 Ω以下)氩气使用压力：0.15±0.05 MPa(1.0 ～ 2.0 kg/cm2)纯度99.9999%以上(氩气、气瓶及调压器由客户自备)金属配管连接口:JISB0203 RC1/4室温15～25 ℃湿度60%以下 产品特点： ★ 冷却的效果　 样品：镀锌钢板 可提供500μm/h（8KV/2小时的平均值）的研磨速率。 ※ 通常加工（无冷却）时，铁和锌的接合面上能够观察到间隙，而冷却加工时则没有间隙 ★ 使用温度控制系统（选配件）冷却　 样品：硅晶片接合面 ※ 常规加工由于热损伤造成粘合剂变形，出现了很大的间隙。 -150 ℃时，冷却过度，能观察到胶粘剂和硅晶片研磨面的接合面上出现了间隙，但通过温度控制冷却则没有间隙。 ★ 合理利用间歇加工、冷却功能和温度控制冷却功能可支持各种样品的制备 ★ 进程监控功能 截面加工状态可通过CCD相机实时监控，倍率还可调整。 ★ 防止充放电的喷镀功能 备有离子束溅射功能（选配项）可以喷涂颗粒感良好的薄涂层。最适合于象EBSD等需要花样识别等情况。 ★ 平面离子减薄样品架 以小角度的离子束低角度照射样品，达到清除表面污垢、平滑表面等效果。另外也非常适合于选择性蚀刻。 ★ 截面样品制备单元 安装在平面离子减薄样品架上使用。该单元可用于在旋转样品的同时进行离子束加工。可以用来制备象多孔质材料、粉末、纤维等容易出现加工条纹的样品的截面。

FASP-ECO型粗磨专用自动样品制备仪适用于大体积、全样品量的土壤样品粗样制备以及针对制样环节的平行样比对实验。可自动完成10目或者20目样品全自动研磨、筛分、称量、装样、清洁等步骤，无需人工干预。 根据《HJ/T166-2004土壤环境监测技术规范》、总站土字【2018】407号文件等技术规范的要求，20目或10目土壤样品要求全制样，不可弃样。目前主要采用人工研磨、筛分的方式，效率较低、环境恶劣、劳动强度大、样品容易研磨过细等都是目前人工方法面临的主要问题。FASP-ECO型全自动土壤样品制备仪为用户带来了高效、合规、全流程可追溯的样品粗磨制备体验，帮助用户远离尘土飞扬的环境，工作得更加轻松和安全！ 产品特点：1. 风干样品进样，进样量：500g~3500g；制样效率：约10min/个2. 10目/20目土壤样品粗磨、筛分、分样、称量、装样、清洁自动化制备设备，全流程不接触任何金属，确保制样过程中没有外源性污染3. 二级研磨模式，确保10目/20目样品制备效果，避免样品研磨过细4. 全自动清洁，避免交叉污染，另可选配水洗模块，深度清洁5. 实验条件全流程数字化记录，全流程可追溯，报表自动生成6. 标准化流程制备，消除批次间差异，保证制备质量及批次稳定性7. 改善实验室环境，由严重污染提升到优美洁净友好

为什么需要在线过滤器从制备液相系统的角度来看，理想的溶剂、样品溶液不含颗粒物。颗粒物会加速色谱柱和密封件的磨损，容易造成制备柱堵塞，并且影响制备柱的分离效果。为了防止堵塞制备柱，建议在制备液相系统中使用适当的在线过滤器。 工作原理在线过滤器主要由筛板、密封圈、卡套组成，当液体流经在线过滤器时，粒径大于筛板孔径的颗粒物都会被筛板截住，确保流出的液体无大颗粒物，筛板的孔径可根据实际情况进行选择。1、耐压为10mpa2、标配筛板孔径3um3、以上数据为常规产品参数，也可根据需求进行配置

台式高性能多功能PVD薄膜制备系列—nanoPVD基于多年大型薄膜制备系统的设计与研发所积累的丰富经验，Moorfield Nanotechnology深入了解了剑桥大学、诺森比亚大学、帝国理工学院、巴斯大学、埃克塞特大学、伦敦玛丽女王大学等多所著名大学科研团队的具体需求，经过不懈努力推出了台式高性能多功能PVD薄膜制备系列产品。该系列产品是为高水平学术研究研发的小型物理气相沉积设备。推出之后短短几年时间已经在欧洲销售了数十台，该系列产品包含了磁控溅射、金属/机物热蒸发系统。这些设备虽然体积小巧，但是性能，能够快速实现高质量纳米薄膜、异质结的制备，通常在大型设备中才有的共溅射和反应溅射功能也可以在该系列产品上实现。的有机物沉积系统更是该系列的一大特色。便捷的操作、智能的控制、高效的制备效率让您的学术研究进入快车道。设备型号台式高质量多功能薄膜磁控溅射系统 - nanoPVD S10AnanoPVD S10A是Moorfield Nanotechnology倾力打造的一款高度集成化智能化的台式磁控溅射系统。该系统虽然体积小巧，但是功能出色、配置齐全。该型号的推出是为了解决传统台式设备功能简单不能满足高端学术研究的问题。剑桥大学、诺森比亚大学、帝国理工学院等用户都对这款台式设备给予了很高的评价。nanoPVD S10A多可安装3个水冷式溅射源，可实现高功率持续运行，靶材尺寸与大型系统一样是行业通用尺寸。系统可以实现两源共溅射方案，可以实现反应溅射方案，多可同时控制3路气体。系统具有分子泵，可快速达到5*10-7mbar高真空。腔体取放样品非常方便，样品台大尺寸4英寸，系统有智能化的触屏控制系统，采用完备的安全设计方案。nanoPVD S10A可用于制备高质量的金属薄膜、半导体薄膜、介电、缘材料薄膜以及复合薄膜、多层异质结等。主要特点：◎ 水冷式溅射源，通用2英寸设计◎ MFC流量计高精度控制过程气体 ◎ DC/RF溅射电源可选◎ 全自动触摸屏控制方案◎ 可设定、储存多个溅射程序◎ 大4英寸基片◎ 本底真空5*10-7mbar◎ 系统维护简单◎ 完备的安全性设计◎ 兼容超净间◎ 性能稳定选件：◎ 机械泵类型可选◎ 样品腔快速充气◎ 自动高精度压力控制◎ 添加过程气体◎ 500℃衬底加热◎ 衬底旋转，Z向调节◎ 三源溅射系统◎ 共溅射方案◎ DC/RF溅射电源可选◎ 溅射电源自动切换系统◎ 晶振膜厚测量系统典型配置方案：金属沉积：2个溅射靶，配DC电源与电源切换系统，衬底Z向调节与挡板系统，晶振膜厚测量系统。缘材料沉积：2个溅射靶，配RF电源与电源切换系统，衬底加热与氧气通入气路，衬底Z向调节与挡板系统，晶振膜厚测量系统。反应/共溅射：三个溅射靶，配备DC/RF电源与自由切换系统，三路过程气体（Ar、O2、N2）用于沉积氧化物或氮化物。台式超大面积高质量薄膜磁控溅射系统 - nanoPVD S10A-WAMoorfield Nanotechnology根据客户超大样品的需求推出了nanoPVD-S10A-WA超大面积高质量薄膜磁控溅射系统。该型号是nanoPVD-S10A的拓展型号，用于制备超大尺寸的样品，大样品可达8英寸。该系统基于nanoPVD-S10A的成熟设计和性能，在相同腔体的设计基础上对nanoPVD-S10A进行了调整，使溅射源正对衬底。结合衬底旋转，即使在生长8英寸的超大样品时也可获得很高的样品均匀度。与nanoPVD-S10A一样，溅射源采用水冷式设计，可以持续高功率运行，可实现共溅射等功能。nanoPVD-S10-WA是一款接受半定制化的设备，如有特殊需求请联系我们进行详细讨论。主要特点：◎ 可制备8英寸超大样品◎ 水冷式2英寸标准溅射源◎ MFC流量计高精度控制过程气体◎ 直流/交流溅射电源可选◎ 全自动触屏控制◎ 可设定、存储多个生长程序◎ 本底真空5×10-7mbar◎ 易于维护◎ 全面安全性设计◎ 兼容超净间◎ 系统性能稳定选件：◎ 机械泵类型可选◎ 腔体快速充气◎ 自动高分辨压力控制◎ 增加过程气体◎ 升至双溅射源◎ DC/RF电源可选◎ 溅射电源切换◎ 共溅射方案◎ 晶振膜厚测量系统台式高质量金属\有机物热蒸发系统 - nanoPVD T15AnanoPVD T15A是Moorfield Nanotechnology推出的 nanoPVD系列中新的型号，高腔体设计方案专为热蒸发而设计，确保薄膜均匀度，大可生长4英寸的薄膜样品。近一年时间在英国安装就有十几套，剑桥大学、巴斯大学、埃克塞特大学、伦敦玛丽女王大学等都是该设备的用户。系统可以配备低温蒸发(LTE)和标准电阻蒸发源，分别用于沉积有机物和金属薄膜。低热容有机物蒸发源具有高精度的控制电源，可以的控制蒸发条件制备高质量的有机物薄膜。金属源采用盒式屏蔽模式，可以有效的减少交叉污染等问题。智能的控制系统和灵活的配置方案使PVD-T15A非常适合应用于材料研究领域。nanoPVD T15A可用于制备高质量的金属、有机物薄膜和异质结等材料。可应用于传统材料科学和新型的OLED（有机发光二管）、OPV（有机光伏材料）和 OFET（有机场效应管）领域。主要特点：◎ 可选金属、有机物蒸发源◎ 高纵横比的腔体，增加样品均匀性◎ 全自动触屏控制系统◎ 可设定、储存多个蒸发程序◎ 大4” 基片◎ 本底真空5*10-7mbar◎ 维护简单◎ 完备的安全性设计◎ 性能稳定选件：◎ 机械泵类型可选◎ 样品腔快速充气◎ 自动高精度压力控制◎ 多4个有机蒸发源◎ 多2个金属蒸发源◎ 500℃衬底加热◎ 衬底旋转，Z向调节◎ 晶振测量系统典型配置指标：金属沉积：双金属源与挡板和晶振系统有机物沉积：四个低温蒸发源与挡板和晶振系统。金属/有机物沉积：两个金属源，两个有机源与挡板和晶振系统。发表文章A high speed PE-ALD ZnO Schottky diode rectifier with low interface-state densityJin, J., et al. Journal of Physics D: Applied Physics 2018 DOI: 10.1086/1361-6463/aaa4a2作者报道了利用用氧化锌和PtOx肖特基接触界面制备高速肖特基二管整流器的方法。为此，作者使用PE-ALD沉积ZnO，使用Moorfield nanoPVD-S10A系统通过射频溅射制备金属层和PtOx接触层，包括反应溅射模式(通过含氧气氛沉积Pt)。所制备的器件具有适用于噪声敏感和高频电子器件的性能。用户单位剑桥大学帝国理工学院埃克塞特大学巴斯大学诺森比亚大学伦敦玛丽女王大学

三为科学是制备色谱的市场主流品牌，其制备色谱系统包含：小分子分离纯化制备色谱系统和大分子蛋白纯化制备色谱系统。其制备色谱系统稳定性能高而且软件易用，专为进行单次和多次纯化的科学家设计。Purifier中压制备液相色谱系统旨在满足您的不同应用需求：不论您是每天只需处理少量样品，还是您的工作量要求仪器能实现更大通量，我们的制备液相色谱系统使您可快速制备宝贵且复杂的混合物并获得高纯度、高回收率的完全可信结果。高效的模块化制备色谱系统，广泛应用于天然产物、有机合成产物和蛋白质生物高分子的分离纯化。 Purifier中压制备色谱系统组成：整套仪器有液相泵、玻璃柱、紫外检测器、蒸发光散射检测器、梯度混合器、自动馏分收集器等配套组成，可按需选配。可选用多种规格玻璃柱，玻璃柱耐压可达50巴压力。玻璃柱柱壁清晰透明，可看到柱中样品分离情况，对操作人员有很大帮助。 中压制备液相色谱优点可灵活选择二元泵或四元泵进行中压多溶剂混合或在高达200 ml/min的流速下实现高压梯度溶剂混合通过高灵敏度的190-800nm全波长紫外检测器或基线噪音低至0.01mv蒸发光检测器器对目标化合物进行鉴别与分离可使用内径不超过50 mm的色谱柱对从几毫克到几克不等的样品进行可靠纯化高度灵活的模块化配置，一体化馏分收集，让科研过程更直观智能的全自动馏份收集器可按色谱峰、时间或体积进行馏份收集严格地权限管理、电子记录、电子签名、审计追踪功能，执行用户注册和多种权限设定方式泵系统中无脉冲，对分离效果有帮助，更有助于延长密封及仪器的使用寿命；标准的色谱分析系统；人机工程学：直观方便的操作；高速的系统总线保证高效的数据传输操作极其简单；维护非常方便；大大提高了实验室分离纯化的重复性和可靠性。灵活的设置使分析方法由分析色谱向制备色谱扩展更为容易系统易于升级，为您的试验室带来新的分离纯化新技术可快速完成小分子和大分子活性成分化合物的纯化和制备凸轮曲线补偿技术有效控制流量脉动，保证低基线噪声多点流量校正曲线，保证在全流量范围内的流量精度和系统的重复性 泵头具有自动清洗功能，避免缓冲液残留、结晶析出便捷更换灯和流通池，氘灯钨灯智能切换，确保运行时间优化316L不锈钢、PEEK、纯钛、哈氏合金，流路多种材料可供选择项目管理采用数据库模式管理数据，与项目关联的仪器方法、谱图数据、分析方法都存在项目下系统控制软件完全符合CFDA GxP和FDA 21CFR Part11法规要求系统可以与品牌色谱柱、SPE固相萃取柱适配连接中压制备色谱系统技术参数: 泵头316L不锈钢泵 高精度、低脉冲、耐腐蚀 （peek泵头可选）流速范围0.01-100.00ml/min（梯度）流速精度±0.5%压力范围0-10MPa压力脉动≤0.2MPa梯度类型台阶、线性变化梯度、可在线修改梯度和流速最小梯度调节1%检测器光源氘灯+钨灯（进口）检测波长190-800nm 全波长检测器 双波长同时检测波长精度±1nm吸光度范围0-2AU收集全自动收集器收集管架2×60支试管（Φ15mm*150mm试管） 其他规格可以选配收集模式普通模式（按时间收集、峰收集、阈值收集）、顺序收集、循环收集手动上样阀制备色谱阀（标配10ml定量环）上样方式固体上样或液体上样电源220V±10% 50Hz色谱软件控制通过sanochrom色谱软件控制泵、紫外、自动收集器等组件设置与运行控制界面图形界面，USB接口+RS-232可接口，采用基于Windows7/Windows 8/Windows 10的PC软件工作站，软件符合“CFDA GXP和FDA 21CFR Part 11 ”法规要求

Pilot系列制备色谱/制备色谱系统/制备色谱仪/中压制备色谱/flash制备色谱/快速制备色谱 Pilot系列制备色谱/制备色谱系统/制备色谱仪/中压制备色谱/flash制备色谱/快速制备色谱 广泛地应用于制药,化工和生物工程等领域中样品的分离和纯化。可使用于如合成原料的纯化,标准物质的制备,最终产品的提纯等方面。既有可用于上百种样品高通量组分收集的制备级系统，也有较为简单的以纯化少量样品为目标的低压混合系统。 制备色谱系统 技术特点 微处理器控制，高速双驱动和平行的泵头具有高速的腔室压力反馈，补偿再填充和溶剂压缩效果，实现在宽动态范围内获得精确高重现的流速。 采用轮曲线补偿技术有效控制流量脉动，保证最低的基线噪声。 多点流量校正曲线，保证在全流量范围内的流量精度。 浮动柱塞设计，保证高压密封圈的使用寿命。 10个用户程序，可实现流量和梯度编程。 双波长检测、波长时间程序和停泵扫描——三种测定方式使得基线噪音和漂移降到最低，获得了最高的灵敏度和最低检测限，以及更宽的线性范围。对应各种测定需求，可以同时对主要成分、副产物和杂质进行可靠的定量。 可快速便捷的更换灯和流通池，氘灯钨灯实现智能切换，确保正常运行时间的最大化。 制备色谱系统 配置清单及技术参数 1 制备色谱输液系统 流量范围：0.01 ～300.00 ml/min，(增量：0.01mL/min) 流量精度：± 1% 流量重复性：RSD ≤ 0.5% 压力脉动：≤ 0.5Mpa 压力范围：≤ 15Mpa 2 制备色谱紫外检测器系统 波长范围：190～700nm （氘灯+钨灯） 波长精度：± 1 nm 波长重复性：± 0.2 nm 流通池光程：半制备用流通池，1～5 nm,光程可调 基线噪声 ：±0.5×10-5 AU, 254nm,TC=1S 基线漂移 ：1.5×10-4 AU,254nm 量程范围：≥3 AU 时间常数 ：0.1/0.2/0.5/1.0/2.0/5.0/10.0 s 自动调零：数字调零，满量程 3 Rheodyne 进样阀 4 制备色谱工作软件 5 色谱柱型号可定制（ID 10mm-30mm） 6 制备色谱启动工具包 7 溶剂托盘

川昱仪器 单人单面水平送风超净工作台特征：1、水平流形，准闭合式不锈钢台面，操作方便。2、箱体采用中纤板材紧密结合，保证长时间无锈蚀发生，面层电喷涂表面处理，表面光滑无尘。3、使用远程红外线遥控控制4、实验区采用优质不锈钢，为操作者提供便利。川昱仪器 单人单面水平送风超净工作台技术参数参数SW-CJ-1BSW-CJ-1C洁净等级100级@≥0.5μm(美联邦209E）菌落数≤0.5个/皿．时（Φ90㎜培养平皿）平均风速0.25m～0.45/m/s(快、慢双速）噪音≤62dB(A)振动半峰值0.5μm(x.y.z方向）照度≥300LX电源AC单相220V/50Hz送风方式水平送风功耗0.4KW0.8KW重量150㎏300kg高效过滤器规格及数量865×600×38×①1355×600×38×①荧光灯/紫外灯规格及数量20W×①/20W×①30W×①/30W×①适用人数单人单面双人单面工作区尺寸870×550×620㎜1360×550×620㎜外形尺寸1050×730×1600㎜1600×730×1600㎜说明：本公司接受客户特殊规格要求的非标型净化工作台（可根据用户需要配备紫外灯杀菌功能）工作台使用红外线遥控控制。A键：风机启动（大风速）；B键：风机启动（小风速）；C键：照明灯；D键：杀菌灯；ON/OFF键：通电（关机）。工作台面就位地点应在环境较为清洁的工作室内，（最好置于十万等级或者三十万等级的初级净化间），插上220V交流电源后，按控制面板上的所示功能开启即可，开机前应对净化工作台的工作区面 及外壳进行认真清洁处理，去除表面积尘，开机后十分钟即可进行实施正常操作使用。安装调试插上洁净工作台电源，按控制面板上的所示功能开启即可，在开机前应对净化台的工作区面及外壳进行认真清洁处理，去除表面积尘，开机后10分钟即可进行实施正常操作使用。日常维护保养：1、根据实际使用情况，定期将初效过滤器拆下清洗，清洗周期一般为3~6个月。（若长期不洗，积尘将影响进风量不足而降低洁净效果）。2、当正常调换或清洗初效空气过滤器后，仍不能达到理想的截面风速时，则应调节风机的工作电压（旋动旋钮），从而达到理想的均匀风速（新工作台始用时把风机的工作电压调整到80V~90V即可）。3、一般在使用十八个月后当风机工作电压调整至*高点时，仍不能达到理想之风速时，则说明高效空气过滤器积尘过多（滤料上滤孔已基本被堵，要及时更新），一般高效空气过滤器的使用期限为十八个月。4、更换高效空气过滤器时，应注意型号规格尺寸的正确（原生产厂家配置），按箭头风向装置，并应注意过滤器的周边密封，无渗漏现象发生。

川昱仪器 水平送风双人单面超净工作台广泛适用于生物制药、化学实验、医疗卫生、电子光学等领域。并提供局部无菌、无尘的洁净工作台。主要特征：1、水平流形，准闭合式不锈钢台面，操作方便。2、箱体采用中纤板材紧密结合，保证长时间无锈蚀发生，面层电喷涂表面处理，表面光滑无尘。3、使用远程红外线遥控控制4、实验区采用优质不锈钢，为操作者提供便利。技术参数参数SW-CJ-1BSW-CJ-1C洁净等级100级@≥0.5μm(美联邦209E）菌落数≤0.5个/皿．时（Φ90㎜培养平皿）平均风速0.25m～0.45/m/s(快、慢双速）噪音≤62dB(A)振动半峰值0.5μm(x.y.z方向）照度≥300LX电源AC单相220V/50Hz送风方式水平送风功耗0.4KW0.8KW重量150㎏300kg高效过滤器规格及数量865×600×38×①1355×600×38×①荧光灯/紫外灯规格及数量20W×①/20W×①30W×①/30W×①适用人数单人单面双人单面工作区尺寸870×550×620㎜1360×550×620㎜外形尺寸1050×730×1600㎜1600×730×1600㎜说明：本公司接受客户特殊规格要求的非标型净化工作台（可根据用户需要配备紫外灯杀菌功能）川昱仪器 水平送风双人单面超净工作台工作台使用红外线遥控控制。A键：风机启动（大风速）；B键：风机启动（小风速）；C键：照明灯；D键：杀菌灯；ON/OFF键：通电（关机）。工作台面就位地点应在环境较为清洁的工作室内，（最好置于十万等级或者三十万等级的初级净化间），插上220V交流电源后，按控制面板上的所示功能开启即可，开机前应对净化工作台的工作区面 及外壳进行认真清洁处理，去除表面积尘，开机后十分钟即可进行实施正常操作使用。　洁净工作台常见的故障维修：　　1.洁净工作台工作运转时风速很低。 　　方法：以上故障多大是洁净工作台的过滤器积尘过多或者是损坏的原因，可以考虑更换过滤器。 　　2.洁净工作台的风机不转动。 　　方法：这种故障大多洁净工作台的接触器没有工作或者是洁净工作台的风机电源熔芯已经被烧断了。 　　3.洁净工作台的荧光灯没亮。　　方法：洁净工作台的灯管和继电器损坏或者是灯管电源熔丝被烧断多会让荧光灯不亮。 　　如果洁净工作台再次出现故障的时候，大家可以尝试用以上方法来解决，如果解决不了要立即找维修人员进行修理。我们虽然不能杜绝这些故障的出现，但是我们可以减少问题的出现，只要在使用该产品之前做好安装工作，在使用过程中能够及时发现问题并且总结经验方法，就可以避免类似的问题再次出现，但能够很好的处理和避免常见故障的出现，还能使该产品可以充分的利用，使效果更明显。

金属纳米颗粒制备 金纳米材料具有众多易于调控的特性，比如局域表面等离子共振、表面增强拉曼、光致发光、易于表面修饰和生物相容性好。这使得金纳米材料广泛应用于我们生活的多个方面。合成金纳米颗粒常用的制备方法有很多，其中，直接FSP火焰喷雾燃烧法生长法应用广泛。金属纳米颗粒制备采用火焰喷雾热解工艺，受益于极短的工艺链使复杂纳米颗粒的生产只需一步。纳米粉末生产FSP通常生产高结晶氧化纳米颗粒。但合成了磷酸盐、纯金属。根据工艺条件。颗粒的典型尺寸范围 5 ~ 50nm。这些初级粒子形成较大的团聚体。 纳米产品的例子包括简单的金属氧化物TiO2Al2O3 ZrO2以及YSZ CGO 钙 矿或尖晶石复杂氧化物。此外：贵金属纳米颗粒可以制造沉积在火焰中的氧化物支持颗粒上于某些组合物。可以制备表面包覆或基质化的纳米颗粒。 FSP纳米颗粒的应用包括:催化剂电池材料陶瓷牙科 生物医学材料体传感器聚合物纳米复合材料陶瓷.... 原材料FSP的源材料是低成本的金属化合物酸盐、硝酸盐或有机金属。这些所谓的前体是混合或溶解在标准有机溶剂。同心甲氧支持火焰、燃前驱溶剂喷雾，并确保稳定燃烧还可以使用可选的护套体。 NPS-20是一种用于纳米颗粒合成的全集成化桌面式火焰喷雾热解装置。应用于研究早期产品开发阶段。NPS-20设计用于快速筛选FSP合成中可用的材料组成 工艺条件的大量参数加速纳米材料的科学发展。纳米颗粒制备仪主要特点：1产品纯度高，粒径小，分布均匀，比表面积大，高表面活性，松装密度低，气相法制备，克服了市场上湿化学法制备的颗粒硬团聚、难分散、纯度低等缺点；2表面存在大量的不饱和残键及不同键合状态的羟基，因表面欠氧而偏离了稳定的硅氧结构，所以具有高反应活性，粉体松装密度比较小，容易分散使用；3纳米颗粒晶相稳定、硬度高、尺寸稳定性好，可应用于各种塑料、橡胶、陶瓷产品的补强增韧，特别是提高陶瓷的致密性、光洁度、冷热疲劳性、断裂韧性、抗蠕变性能和高分子材料产品的耐磨性能尤为。由于颗粒也是性能优异的远红外发射材料，作为远红外发射和保温材料被应用于化纤产品和高压钠灯中。4公司可以进行针对性的表面处理包裹，使得纳米粉体可以稳定地分散在溶剂体系中，形成透明状或半透明状溶胶，应用在涂料、玻璃表面、电子封装等

捷克ECOM制备型紫外检测器TOY14DAD 600产品介绍：捷克ECOM制备型紫外检测器TOY14DAD 600是一款二极管阵列（DAD）检测器，可以同时进行4波长的检测，也可以进行DAD的扫描。在液相色谱分析过程中，同一样品中的不同化合物，由于吸收波长的差异，在同一波长下检测会导致定量的偏差，因此同时多波段检测有利于样品纯度的分析及定量。该检测器可以用到flash和制备仪器中。该检测器可以通过检测器面板上的按钮进行手动操作，也可以通过RS323连接电脑，实现反控操作。在检测器的后面板，有四个信号输出接口。捷克ECOM制备型紫外检测器TOY14DAD 600优点该款DAD检测器具有以下优点：1、同时四波长检测。2、波长设置为200-400nm，增量1nm。3、全波长在线扫描。4、光源的通过内置的计时器计时。5、流通池容易更换。6、电源范围比较宽（90-264V）。7、可以手动控制也可以通过计算机反控。8、信号可以通过模拟或者电子的形式输出。9、易于诊断和维护。众力合达科技（北京）有限公司是捷克ECOM公司在中国大陆地区授权的总代理，提供高质量的原厂产品，提供便捷及时的售后服务。

M 系列稀释/制备仪Cheminert M 系列稀释/制备仪简化了分配和稀释液体的样品制备过程。一种方便使用的神奇方式，消除稀释和分配应用中所涉及到的所有数学计算和额外图表。仅需输入稀释比例和最终体积，正确的体积就会自动计算和分配出来。对于批量稀释，简单输入体积和分配所需循环的次数，它就会计算出被吸入的总体积，就是这样简单！提供两种型号选择 – M10 流程为10nl～10ml，M50 流程50μl～50ml。稀释/制备仪是按无注射器、双向、阳极置换泵专利制造的，设计提供了最大的可用体积范围，并消除了更换和装填注射器的麻烦。对于多种溶剂的应用，多位流路选择阀可以方便与泵结合使用。其他特点包括：当吸入或分配步骤完成后，一个巧妙的探针指针发出信号给操作者。储存100 个程序的充足记忆。小巧的设计占据最小的安装空间。应用◇试剂的简单配制，使用手动配制方式◇ 微量试剂配制和基因组学◇ 为 AA、ICP、GC、和HPLC 稀释样品◇ 连续稀释所有样品◇ 多样品和试剂的补充、微碟、管到碟、管到管◇ 小体积和大体积稀释制备试剂◇ 滴定M 系列稀释/制备仪种类货号M10 型稀释/制备仪(10 nl～10 ml)CD10-4841-M1AM50 型稀释/制备仪(50 μl～50 ml)CD50-8572-M2A专利未决

台式高性能CVD石墨烯/碳纳米管快速制备系列—nanoCVDNanoCVD系列台式设备是专为制备高质量的石墨烯与碳纳米管而开发的高性能台式CVD系统。在与诺奖科研团队的长期合作中获得的丰富经验使该系列产品具有非常高的性能。特别是针对石墨烯、碳纳米管等不同的应用进行了针对性的优化。该系列产品操作简便，生长条件控制，生长迅速、制备出的样品具有高质量、高可重复性，这些特点使得该系列产品受到多个石墨烯研究团队的赞誉。该系列产品适合于想要制备高质量石墨烯或碳纳米管用于高端学术研究的团队。例如，埃克塞特大学、哈德斯菲尔德大学、莱顿大学、亚森工业大学这些知名的高校均是nanoCVD系列的用户。nanoCVD采用全新的设计理念，可以快速、高质量地生产石墨烯或碳纳米管。与传统的简易CVD(管式炉)相比，该系统基于冷壁设计方案，具有以下主要优点:◎ 系统可以快速的升温和降温。◎ 更加的条件控制和可靠的工艺重现性。◎ 安全性设计，具有尾气稀释模块。◎ 智能化设计，全自动引导式触屏操作系统。◎ 支持自动程序的设定与储存。◎ 雄厚的技术积累，专业的技术支持。设备型号台式超高质量石墨烯快速制备CVD系统- nanoCVD 8GnanoCVD-8G系统是性能稳定的快速的石墨烯生长系统。nanoCVD-8G具有压强自动控制系统，可以的控制石墨烯生长过程中的气氛条件。系统采用低热容的样品台可在2分钟内升温至1000℃并控温。该装置采用了冷壁技术，样品生长完毕后可以快速降温。正是因为这些条件可以让用户在30分钟内即可获得高质量的石墨烯。用户通过HMI触屏进行操作，所有的硬件都是自动化的。更有内置的标准石墨烯生长示例程序供用户参考。该系统安装迅速，非常适合需要持续快速获取高质量石墨烯用于高质量学术研究的团队。埃克塞特大学、哈德斯菲尔德大学、莱顿大学、亚森工业大学等很多全球著名的高校都是该系统的用户。主要特点： ◎ 合成高质量、可重复的石墨烯◎ 生长条件控制◎ 高温度：1100 °C◎ 生长时间：30 min◎ 基片尺寸大：20 × 40 mm2◎ 全自动过程控制◎ MFC流量计控制过程气体 (Ar、H2与CH4) ◎ 用户友好型触屏控制◎ 可设定、存储多个生长程序◎ 可连接电脑记录数据◎ 易于维护◎ 全面安全性设计，尾气稀释模块◎ 兼容超净间◎ 系统性能稳定部分数据展示：小型等离子增强大尺寸石墨烯制备CVD系统 - nanoCVD WPGnanoCVD-WPG将nanoCVD-8G高质量石墨烯生长的功能与等离子体增强技术相结合，系统可制备晶圆尺寸(3英寸或4英寸)别的样品。除此之外，利用该系统的生长控制条件可以制备多种高质量的2D材料，该系统是小型CVD系统性能上的一个重大飞跃。全新的设计方案和控制系统使该系统成为制备大面积2D样品的上佳选择。应用领域包括:石墨烯和2D材料、光伏电、触屏材料、高性能生物电子材料、传感器、储能材料。主要特点：◎ 晶圆样品尺寸: 3英寸、4英寸◎ 150 W/13.56 MHz RF 电源◎ 多个等离子体电◎ 高温度1100 °C◎ 腔体冷壁技术◎ 全自动条件控制◎ 用户友好的触屏操作◎ 可设定、存储多个生长程序◎ 可连接电脑记录数据◎ 易于维护◎ 全面安全性设计，尾气稀释模块◎ 兼容超净室◎ 基于成熟的NanoCVD技术生长条件：◎ 衬底：Cu、Ni等薄膜或薄片◎ 工作原料：CH4，C2H4， PMMA等◎ 保护气体：H2，Ar，N2等典型配置指标：◎ 腔体：腔壁水冷技术，热屏蔽不锈钢腔体◎ 真空系统：分子泵系统，5×10-7 mbar本底真空。◎ 样品台：大4英寸直径，高1100°C ◎ 操作控制：触摸屏/电脑接口；可手动控制或自动控制◎ 气体控制：MFC 流量计，Ar，CH4，H2为标配种类。◎ 过程控制：自动控制◎ 等离子源：150 W/13.56 MHz RF 电源，样品台附近或需要的位置产生等离子体。 ◎ 安全性：冷却与真空锁系统，气体稀释模块。台式超碳纳米管快速制备CVD系统 - nanoCVD 8NnanoCVD-8N与石墨烯生长系统nanoCVD-8G有诸多共同之处，并针对碳纳米管生长条件进行了优化。这些条件对于碳纳米管(CNT)样品的质量和可重复性(主要是单壁形式)是至关重要的。创新的冷壁式腔体与传统管式设备相比更易控制实验条件和快速升降温。nanoCVD-8N具有智能的控制系统和完备的安全性设计。设备易于安装，易于使用，是快速进入高质量研究的理想选择。该系统获得沃里克大学用户的高度赞誉。碳纳米管可采用Fe、Co、Ni的纳米颗粒作为催化剂生长在SiO2/Si, Si3N4以及石英等衬底上。通过衬底与催化剂的选择，可以生长的碳纳米管有：• 随机: 随机方向的相互交叠的单壁碳纳米管• 有序: 平行的单壁碳纳米管• 竖直: 竖直的单壁碳纳米管束主要特点： ◎ 合成的碳纳米管具有很高的可重复性；◎ 专门为单壁碳纳米管进行了优化；◎ 生长条件控制；◎ 高温度：1100 °C；◎ MFC流量计控制过程气体 (Ar、H2与CH4)； ◎ 基片尺寸：大20 × 40 mm2；◎ 生长时间：30 min；◎ 全自动生长条件控制；◎ 用户友好型触屏；◎ 可设定、存储多个生长程序◎ 可连接电脑记录数据；◎ 易于维护；◎ 全面安全性设计，尾气稀释模块；◎ 兼容超净间；◎ 系统性能稳定；部分数据展示： 发表文章Residual metallic contamination of transferred chemical vapor deposited grapheneLupina, G., et al. ACS Nano 2015 DOI: 10.1021/acsnano.5b01261本文作者研究了通常用于将CVD石墨烯放置到应用衬底上的湿转移工艺会导致材料的微量污染。这些纯度会对石墨烯的其他特殊特性产生不利影响，并对电子和光电应用产生影响。相关设备: nanoCVD-8G Transparent conductive graphene textile fibersNeves, A. I. S., et al. Scientific Reports 2015 DOI: 10.1038/srep09866使用nanoCVD-8G制成的石墨烯被转移到纤维上，次生产出柔韧的、完全嵌入的纺织电。石墨烯的高质量意味着电具有超低的表面电阻和高的机械稳定性。相关设备: nanoCVD-8G High quality monolayer graphene synthesized by resistive heating cold wall chemical vapor depositionBointon, T. H., et al. Advanced Materials 2015 DOI: 10.1002/adma.201501600展示了冷壁法CVD合成石墨烯的优势，并报道了使用nanoCVD – 8G制备的高质量石墨烯材料具有超高的载流子迁移率，表现出半整数量子霍尔效应，这与剥离制备的样品相当。相关设备: nanoCVD-8GMapping nanoscale electrochemistry of individual single-walled carbon nanotubesGüell, A. G., et al. Nano Letters 2014 DOI: 10.1021/nl403752e利用nanoCVD – 8N技术制备了单壁碳纳米管，并利用电化学技术对其进行了研究。高分辨率的测量可以检查单个单壁碳纳米管的特性。这一发现对未来使用SWNT电的器件设计具有重要意义。相关设备: nanoCVD-8N Nanoscale electrocatalysis: Visualizing oxygen reduction at pristine, kinked, and oxidized sites on individual carbon nanotubesByers, J. C., et al. Journal of the American Chemical Society 2014 DOI: 10.1021/ja505708y电化学技术，结合使用nanoCVD - 8N技术产生的单壁碳纳米管，被用来证明即使在没有掺杂、修饰或缺陷的情况下，碳纳米管也表现出显著的活性。相关设备: nanoCVD-8N用户单位埃克塞特大学哈德斯菲尔德大学莱顿大学亚森工业大学

主要功能和特点瑞士步琦Buchi公司是全球中低压制备色谱的市场领导者。其最新的Sepacore是高效的模块化制备色谱系统，广泛应用于天然产物、有机合成产物和蛋白质生物高分子的分离纯化。- 适合植物提取物，药物和化学合成产品等的快速分离纯化；- 高度模块化结构：用户可根据实际需求和预算选择最合适的体系，从最简单的flash系统（单泵＋色谱柱）到完整的梯度系统（双泵＋色谱柱＋检测器＋馏分收集器）；- 除了提供一般flash系统使用的塑料柱外，步琪还提供多种规格的玻璃色谱柱带塑料保护膜的强化玻璃，制备量从mg到150g，特别适合于分离天然产物等较复杂样品；- BUCHI泵的采用的是市场上唯一的三活塞泵设计，保证系统中无脉冲，对分离效果有帮助，更有助于延长密封及仪器的使用寿命；- 智能的全自动馏份收集器可按色谱峰、时间或体积进行馏份收集，并且具有独特的用户自定义样品架功能；- 连续波长的紫外/可见检测器；- 四种不同的进样模式方便进样；- 操作极其简单；维护非常方便；- 大大提高了实验室分离纯化的重复性和可靠性。 主要技术参数泵系统市场上唯一的三活塞无脉冲泵设计，即使在高流速下也能保持稳定准确的流速；压力范围高达50bar，流速可高达250ml/min；适用于所有有机溶剂，耐酸碱。色谱柱提供多种规格的flash塑料柱和玻璃柱，均有配套装柱器；flash柱：PolyPropylene材料，内径从12mm到40mm，最大制备量5g；玻璃柱：镀膜耐压玻璃柱管，内径从15mm到100mm，最大制备量150g。波长范围190 ~ 740nm全自动馏份收集器可按色谱峰、时间或体积进行馏份收集，具有独特的用户自定义样品架功能方便灵活的进样模式适合于液体或干法进样 更多产品信息和样本资料，请查询沃珑仪器网：

Moorfield Nanotechnology是英国材料科学领域高性能仪器研发公司，成立二十多年来专注于高质量的薄膜生长与加工技术，拥有雄厚的技术实力，推出的多种高性能设备受到科研与工业领域的广泛好评。高精度薄膜制备与加工系统 - MiniLab是英国Moorfield Nanotechnology公司经过多年技术积累与改进的旗舰型系列产品。MiniLab系列产品的定位是配置灵活、模块化设计的PVD系统，可用于高质量的科学研究和中试生产。高精度薄膜制备与加工系统 - MiniLab自推出以来销售已突破200套。这些设备已经进入了欧洲各大学和科研单位实验室，诸如曼彻斯特大学、剑桥大学、帝国理工学院、诺森比亚大学、巴斯大学、埃克塞特大学、伦敦玛丽女王大学、哈德斯菲尔德大学、莱顿大学、亚森工业大学、西班牙光子科学研究所、英国物理实验室等著名单位都是Moorfield Nanotechnology的用户和长期合作者。诸多的用户与合作者让产品的性能和设计理念得到了高速发展，并迈入全球化的进程。如今Quantum Design中国子公司与Moorfield Nanotechnology正式合作，作为中国的总代理和战略合作伙伴，将为中国用户提供高性能的设备与优质的服务。除了MiniLab系列之外我们还提供多种高性能的台式设备和定制服务。设备型号MiniLab 026MiniLab 026系统是小型落地式真空镀膜设备，具有容易操作的“翻盖”式真空腔。适用于金属、电介质和有机物的蒸发和溅射沉积镀膜。MiniLab 026采用一体化设计方案，真空腔的一部分向下插入支撑框架内。腔室可以采用翻盖式或钟罩式。该系统可配备多种沉积技术，热蒸发和低温蒸发源(生长金属和有机物)，磁控溅射源(金属和无机)。沉积源通常安装在腔室底部，样品他安装在部，可容纳直径达6英寸的基片。可提供基片加热、旋转和Z-shift。MiniLab 026还与手套箱兼容，是MiniLab系列中可以轻松与用户现有手套箱集成的系统。薄膜生长方式可选：热蒸发（金属）、低温热蒸发(有机物)、磁控溅射（金属、氧化物、氮化物、缘体）MiniLab 060MiniLab 060系统是MiniLab系列中受欢迎的通用平台，具有前开门式的箱式腔室，适用于多源磁控溅射，也适用于热蒸发和电子束蒸发。MiniLab 060采用一体化设计方案，真空腔体安装在控制系统电子机柜上。系统可以配备各种沉积技术，包括热蒸发和低温蒸发源(生长金属和有机物)，磁控溅射源(金属和无机)，电子束源(除有机物外的大多数材料类别)。沉积源通常安装在腔室底部，但溅射源也可以采用部安装的方式。样品台可容纳的基片尺寸高达11英寸，可提供基片加热、旋转、偏压和Z-shift。可配置行星式样品台、源挡板和基片挡板。系统配置可从手动操作的热蒸发系统到具有全自动过程控制的多种生长方案。必要时MiniLab 060系统可提供快速进样室。薄膜生长方式可选：热蒸发（金属）、低温热蒸发(有机物)、电子束蒸发、磁控溅射（金属、氧化物、氮化物、缘体）MiniLab 080MiniLab 080采用高腔体设计，非常适合热蒸发、低温热蒸发和电子束蒸发，更长的工作距离以获得更好的薄膜均匀性。MiniLab 080真空腔体安装于控制系统电子机柜上。该系统非常适用于需要较长的工作距离以获得更好均匀性的蒸发技术。蒸发入射角接近90°，对于光刻器件获得好的lift off效果。除了热蒸发、有机物热蒸发和电子束蒸发外，该系统还可以用于磁控溅射（用做复合生长系统）。样品台通常在腔室的部，可以容纳基片尺寸高达11英寸直径。可提供基板加热、旋转、偏压和Z-shift。可配置行星式样品台、源挡板和基片挡板。系统配置可从手动操作的热蒸发系统到具有全自动过程控制的多种生长方案。必要时MiniLab 080系统可提供快速进样室。薄膜生长方式可选：热蒸发（金属）、低温热蒸发(有机物)、电子束蒸发、磁控溅射（金属、氧化物、氮化物、缘体）MiniLab 090MiniLab 090系统是为兼容手套箱开发的，适用于对大气敏感的薄膜生长。高腔室设计方案是高性能蒸发的理想选择，同时也可以采用磁控溅射方式。MiniLab 090系统是用于金属、电介质和有机物沉积的落地PVD系统。系统包含一个箱式不锈钢腔体，前、后双开门设计可与手套箱集成，允许通过手套箱中前门或者外部的后门对系统进行操作。真空腔体具有大的高宽比，非常适合通过蒸发技术进行长工作距离的高均匀性涂层，但系统也可以配备磁控溅射。真空度优于5×10-7mbar。针对客户的预算和需求可提供非常灵活的配置。系统配置可从手动操作的热蒸发系统到具有全自动过程控制的多种生长方案。薄膜生长方式可选：热蒸发（金属）、低温热蒸发(有机物)、电子束蒸发、磁控溅射（金属、氧化物、氮化物、缘体）MiniLab 125MiniLab 125系统将模块化设计概念带进了中试规模。大的腔室允许增加组件的尺寸，进而满足大面积涂层需求，结合快速进样室设计方案，可提高样品的吞吐量。同时，系统是完全可定制化的，以匹配特定的镀膜需求。MiniLab 125系统是落地式真空镀膜设备可用于金属、电介质和有机薄膜沉积。系统包含一个带有前门的箱式不锈钢腔体，用于取放样品。大的腔室体积可以用于中试规模的涂层或采用较为复杂的配置满足灵活多变的实验需求。系统可安装所有主要的沉积组件或定制的组件。系统的本底真空可达5×10-7mbar。可根据用户的预算和具体应用采用灵活的配置方案。薄膜生长方式可选：热蒸发（金属）、低温热蒸发(有机物)、电子束蒸发、磁控溅射（金属、氧化物、氮化物、缘体）

LC-100 系列半制备/制备系统LC-100 系列半制备/制备液相色谱可以满足常规实验室的纯化制备。半制备型液相色谱兼容分析和制 备的要求，高压制备型主要用于实验室较小流量的制备纯化与提纯。并可根据使用需要，搭配紫外检 测器或示差检测器，组成等度系统、高压二元梯度系统，实现实验室制备提取。半制备系统流量范围；0.01-50mL/min压力范围；30mL,0-25MPa/30-50mL,0-15MPa；流量设定值误差 ；±2%流速稳定性误差；0.50%流通池光程；可选配0.5mm、1.0mm、2.0mm、4mm高压半制备系统流量范围；0.01-50mL/min压力范围；0-42MPa流量设定值误差；±2%流速稳定性误差；0.50%流通池光程；可选配0.5mm、1.0mm、2.0mm、4mm制备系统流量范围；0.01-120,200,500mL/min压力范围；最高42MPa(根据流量)流量设定值误差；±2%流速稳定性误差；0.50%流通池光程；可选配0.5mm、1.0mm、2.0mm、4mm半制备型液相色谱系统主要参数型号；SP100(40mL)半制备系统流量范围；0.01-40mL/min压力范围；0-25Mpa流量准确度；士2%流量精密度；RSD0.1%高压半制备、制备型液相色谱系统主要参数型 号 ；HSPP100(120mL) 高压制备系统 HSP100(50mL) 高压半制备系统流量范围； 0.01-120mL/min 0.01-50mL/min压力范围 ；0-42Mpa流量准确度；±2%流量精密度；RSD0.2%

EasyPrep样品制备研磨仪是上海麟得科技有限公司研发生产的一款针对疑难样品的前处理设备。经典的”∞字形“运动模式配合研磨介质，通过物理方法帮助您快速、高效破碎样本，释放内容物，用于后续的核酸提取、免疫检测、化学成分分析等，整个过程迅速产热少，无接触、没有外源污染物引入，不产生交叉污染。主要特点：? 经典“∞字形”运动模式，快速、高效，30秒破碎动植物组织、毛发、水样、泥样等大部分样品? 压盖提醒、安全按钮、紧急制动按钮三重安全设计，为实验室操作人员和样品提供安全保证? 简单、易用的液晶显示屏操作界面，可预设15种程序? 提供配套的研磨珠和组织、环境样本核酸提取试剂盒? 人体工学设计，方便安装和拿取样品

KSV NIMA Langmuir和Langmuir-Blodgett膜分析仪用于制备和表征具有可控堆积密度的薄膜。当我们需要以半连续的沉积程序来制备超大面积的薄膜时，可以使用这种特殊的KSV NIMA roll to roll 柔性 LB膜制备系统。纳米材料薄膜涂层制备使用纳米颗粒材料制备的涂层和薄膜在各种产品和应用中越来越受到人们的重视和使用，如显示器、传感器、医疗器械、储能材料和能量采集材料等。成功制备出能同时满足堆积密度、分子取向、膜厚度等多参数要求的均一涂层成为了众所周知的科研挑战。而解决这种纳米颗粒薄膜涂层制备的一类精密技术就是KSV NIMA 的Langmuir-Blodgett (LB) 技术和 Langmuir-Schaefer (LS) 技术。技术优势KSV NIMA Langmuir膜分析仪可以在液-气界面制备单分子层，而KSV NIMA Langmuir Blodgett膜分析仪可以在液-气界面处形成单分子层，然后将该层作为涂层转移到固体基质上。Langmuir和Langmuir-Blodgett技术具有独特的优势，它们在全球被广泛应用于研究一些最基本的科学问题。 这些优点包括：精确控制分子堆积密度精确控制涂层厚度在大面积上均匀沉积可制备具有不同层结构的多层结构可使用不同种类的颗粒和基材，具有高度的灵活性在沉积之前可以预先监控涂层质量KSV NIMA 柔性LB膜制备系统KSV NIMA Langmiur和Langmuir-Blodgett膜分析仪是制备和研究单分子层的首要工具。基于30年来研究Langmuir膜累积得到的专业知识和经验，KSV NIMA 膜分析仪系统已成为一款多用途、功能强大的仪器，可以帮助您获得高质量数据。该系统设计非常灵活和坚固，可以确保超高质量的结果。当我们需要以半连续的沉积程序来制备超大面积的薄膜时，可以使用一种特殊的KSV NIMA 柔性 LB膜制备系统。操作原理如上图所示，在柔性膜制备过程中，柔性基材被连续地输送入槽体，在槽体中穿过单层纳米颗粒或其他材料。通过对沉积参数进行精确控制，能够快速地沉积大面积的均匀薄膜。柔性基材的运动由计算机控制的电动辊推动。在此过程中，超灵敏度的微量天平实时监测纳米颗粒的堆积密度。特点与优势质量单个固体PTFE槽（包括浸渍井）可以轻松清洁，没有任何胶水或涂层污染。可调支架、槽顶定位销、限位开关和溢流通道确保系统的安全可靠使用。支架可以很容易地移除来与显微镜集成。集成所有高精度部件的外壳一体化设计，坚固耐用。KSV NIMA广泛的知识和应用支持团队让您可以充分利用您的仪器-与当地合作伙伴和全球工程师合作。可用性采用超灵敏的压力传感器，使用标准Wilhelmy白金板方法进行表面压力感应。可选用一次性纸板来避免清洁或在有限空间内使用高质量铂金棒。功能强大的KSV NIMA LB软件将所有控制和数据分析集成到同一软件中，包括不同的表征工具。所有的槽都带有集成的温度控制通道，可以方便地与独立恒温水浴一起使用。多功能性专门的表征工具可以保证在涂层之前和涂层工艺之后的漂浮薄层质量。采用简单的槽体和滑障放置的开放式模块化设计，便于与特征化系统集成，可升级并易于清洁零件。同时允许在液-液界面处进行研究，并且可以使用交替系统在单个实验中对两种不同材料自动进行交替镀膜。提供各种配件如pH探头、不同尺寸的Wilhelmy板、注射口等应用概述KSV NIMA Langmuir和Langmuir-Blodgett膜分析仪可用于制备高度复杂的有序薄膜。 这些应用包括： 用纳米颗粒制备功能性涂层（改变例如润湿性、反射性、生物相容性、导电性、结合性质等） 在空气-缓冲液界面处形成模型细胞膜，研究毒素或药物对细胞膜的影响 形成用于研究聚合物交联、稳定性、降解等的聚合物薄膜 用多组分结构构建复杂的传感器表面 研究两亲分子的相互作用、吸附、解吸、界面稳定性和结构 界面流变学研究，以确定薄膜的稳定性、相变或反应通常用于薄膜制作的材料包括： 纳米颗粒（聚合物，陶瓷，金属）和石墨烯 脂质体和磷脂 聚合物和低聚物 蛋白质，多肽和其他生物聚合物 量子点 表面活性剂、乳液、胶体 其他两亲性分子软件KSV NIMA LB软件是制备涂层和研究Langmuir薄膜的强大工具。 基于30年的经验，KSV NIMA LB软件包含有效和简便的测量和数据处理所需的所有工具。多功能测试模式使得测量涵盖从浸渍到压缩等温线、吸附研究和界面流变学。 该软件将整个测量设置与结果一起保存，便于分析。 所有数据都可以根据需要轻松查看、绘图、报告和导出。测试功能包括： 用于沉积材料层的镀膜模式，包括镀膜效果参数转移比，在整个浸渍过程中保持堆积密度恒定 压缩/弛豫等温线，用于分子相互作用和相变 等温等压线，通过自动保持压力稳定并跟随温度/面积变化 单分子层动力学，用于酶、聚合或任何其他零级反应 酶、蛋白质、肽和类似分子的吸附和渗透 采用滑障振荡法测试界面流变学，用于Langmuir膜的粘弹性研究、乳液或泡沫稳定性等 集成的KSV NIMA表征工具功能，便于集成如与KSV NIMA 小型布鲁斯特角显微镜 MicroBAM联用时基于表面压力的自动图像记录应用实例纳米颗粒、石墨烯和氧化石墨烯涂层LB和LS技术提供了制备高度有序堆积的纳米颗粒薄膜的平台。 这些涂层具有特殊功能，可用于新的应用。在KSV NIMA中型槽上使用Langmuir-Blodgett技术沉积在石英基底上的单分子层200nm直径聚苯乙烯纳米球。 （a）单分子层的AFM图像，（b）同一图像的傅立叶变换，表明采用该技术可实现优异的结晶度。Copyright Dr. Alaric Taylor浸渍镀膜、LB和LS技术已被证明是控制石墨烯和氧化石墨烯薄膜的优良方法。 这些方法大大提高了由液体剥离方法生产得到的SG和SGO的沉积分散可控性。由于液体剥离法被认为是具有极大潜力的工业大规模生产石墨烯的方法，因此这些沉积方法在石墨烯研究中具有重要意义。利用PM-IRRAS，可以记录漂浮和沉积层的详细IR光谱以确定化学组成。 可制备一张石墨烯片，以验证LS是制备和研究单层石墨烯和氧化石墨烯薄膜的好方法。Gilje, S. et al., ‘Nano Letters’ (2007), 7, 3394-339亲脂性蛋白常常存在于细胞膜中，漂浮单分子层模型可用于研究它们在接近原始环境时的相互作用，研究参数包括不同环境或含量的膜的堆积密度。配件KSV NIMA提供了广泛的配件选择，可以集成到系统中提供进一步的检测表征功能。包括: MicroBAM 布鲁斯特角显微镜用于确保预沉积膜的表面结构完整性 用于自动导入样品颗粒或分子的自动进样泵 亚相蒸发补偿工具，防止长时间测量中的亚相蒸发 用于研究分子取向排布的表面电位仪(SPOT) Langmuir-Schaeffer水平沉积样品架 用于沉积环境的温度监控设备 用于监测沉积液体的pH测量探针 用于将样品直接导入亚相的注射端口 用于研究分子取向排布的表面电位仪(SPOT) Langmuir-Schaeffer水平沉积样品架 用于沉积环境的温度监控设备 用于监测沉积液体的pH测量探针 用于将样品直接导入亚相的注射端口技术参数KSV NIMA 柔性 LB膜制备系统表面积2330 cm2槽体内部尺寸685 mm x 340 mm x 4 mm 滑障速度(mm/min)0.1...270滑障类型1 个, POM材质膜天平测量范围(mN/m)0...300膜天平分辨率 (mN/m)0.03膜天平数量1 -2个亚相容积(mL)5430浸渍井尺寸300 mm x 300 mm x 50 mm柔性基板宽度1… 200 mm柔性基板转速1… 100 mm/min辊轴运动位置分辨率20 um薄膜提拉角度可调节, 30°- 90 °镀膜方式手动或半自动镀膜方式手动或半自动兼容性LB膜浸渍镀膜头、小型布鲁斯特角显微镜、表面电位仪、自动进样泵、亚相蒸发补偿工具、LS水平镀膜装置等