翘曲度检测

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翘曲度检测相关的仪器

  • 中图仪器WD4000半导体晶圆粗糙度翘曲度检测设备采用白光光谱共焦多传感器和白光干涉显微测量双向扫描技术,完成非接触式扫描并建立表面3D层析图像,实现Wafer厚度、翘曲度、平面度、线粗糙度、总体厚度变化(TTV)及分析反映表面质量的2D、3D参数。无图晶圆厚度、翘曲度的测量通过非接触测量,将晶圆上下面的三维形貌进行重建,强大的测量分析软件稳定计算晶圆厚度、粗糙度、总体厚度变化(TTV),有效保护膜或图案的晶片的完整性。无图晶圆粗糙度测量Wafer减薄工序中粗磨和细磨后的硅片表面3D图像,用表面粗糙度Sa数值大小及多次测量数值的稳定性来反馈加工质量。在生产车间强噪声环境中测量的减薄硅片,细磨硅片粗糙度集中在5nm附近,以25次测量数据计算重复性为0.046987nm,测量稳定性良好。WD4000半导体晶圆粗糙度翘曲度检测设备通过非接触测量,将晶圆的三维形貌进行重建,强大的测量分析软件稳定计算晶圆厚度,TTV,BOW、WARP、在高效测量测同时有效防止晶圆产生划痕缺陷。兼容不同材质不同粗糙度、可测量大翘曲wafer、测量晶圆双面数据更准确。测量功能1、厚度测量模块:厚度、TTV(总体厚度变化)、LTV、BOW、WARP、TIR、SORI、平面度、等;2、显微形貌测量模块:粗糙度、平整度、微观几何轮廓、面积、体积等。3、提供调整位置、纠正、滤波、提取四大模块的数据处理功能。其中调整位置包括图像校平、镜像等功能;纠正包括空间滤波、修描、尖峰去噪等功能;滤波包括去除外形、标准滤波、过滤频谱等功能;提取包括提取区域和提取剖面等功能。4、提供几何轮廓分析、粗糙度分析、结构分析、频率分析、功能分析等五大分析功能。几何轮廓分析包括台阶高、距离、角度、曲率等特征测量和直线度、圆度形位公差评定等;粗糙度分析包括国际标准ISO4287的线粗糙度、ISO25178面粗糙度、ISO12781平整度等全参数;结构分析包括孔洞体积和波谷。产品优势1、非接触厚度、三维维纳形貌一体测量 WD4000半导体晶圆粗糙度翘曲度检测设备集成厚度测量模组和三维形貌、粗糙度测量模组,使用一台机器便可完成厚度、TTV、LTV、BOW、WARP、粗糙度、及三维形貌的测量。2、高精度厚度测量技术(1)采用高分辨率光谱共焦对射技术对Wafer进行高效扫描。(2)搭配多自由度的静电放电涂层真空吸盘,晶圆规格最大可支持至12寸。(3)采用Mapping跟随技术,可编程包含多点、线、面的自动测量。3、高精度三维形貌测量技术(1)采用光学白光干涉技术、精密Z向扫描模块和高精度3D重建算法,Z向分辨率高可到0.1nm;(2)隔振设计降低地面振动和空气声波振动噪声,获得高测量重复性。(3)机器视觉技术检测图像Mark点,虚拟夹具摆正样品,可对多点形貌进行自动化连续测量。4、大行程高速龙门结构平台(1)大行程龙门结构(400x400x75mm),移动速度500mm/s。(2)高精度花岗岩基座和横梁,整体结构稳定、可靠。(3)关键运动机构采用高精度直线导轨导引、AC伺服直驱电机驱动,搭配分辨率0.1μm的光栅系统,保证设备的高精度、高效率。5、操作简单、轻松无忧 (1)集成XYZ三个方向位移调整功能的操纵手柄,可快速完成载物台平移、Z向聚焦等测量前准工作。(2)具备双重防撞设计,避免误操作导致的物镜与待测物因碰撞而发生的损坏情况。(3)具备电动物镜切换功能,让观察变得快速和简单。WD4000自动测量Wafer厚度、表面粗糙度、三维形貌、单层膜厚、多层膜厚。可实现砷化镓、氮化镓、磷化镓、锗、磷化铟、铌酸锂、蓝宝石、硅、碳化硅、玻璃不同材质晶圆的量测。部分技术规格品牌CHOTEST中图仪器型号WD4000系列测量参数厚度、TTV(总体厚度变化)、BOW、WARP、LTV、粗糙度等可测材料砷化镓、氮化镓、磷化镓、锗、磷化铟、 铌酸锂、蓝宝石、硅、碳化硅、氮化镓、玻璃、外延材料等厚度和翘曲度测量系统可测材料砷化镓 氮化镓 磷化 镓 锗 磷化铟 铌酸锂 蓝宝石 硅 碳化硅 玻璃等测量范围150μm~2000μm扫描方式Fullmap面扫、米字、自由多点测量参数厚度、TTV(总体厚度变 化)、LTV、BOW、WARP、平面度、线粗糙度三维显微形貌测量系统测量原理白光干涉干涉物镜10X(2.5X、5X、20X、50X,可选多个)可测样品反射率0.05%~100粗糙度RMS重复性0.005nm测量参数显微形貌 、线/面粗糙度、空间频率等三大类300余种参数膜厚测量系统测量范围90um(n= 1.5)景深1200um最小可测厚度0.4um红外干涉测量系统光源SLED测量范围37-1850um晶圆尺寸4"、6"、8"、12"晶圆载台防静电镂空真空吸盘载台X/Y/Z工作台行程400mm/400mm/75mm恳请注意:因市场发展和产品开发的需要,本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改,恕不另行通知,不便之处敬请谅解。
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  • 线路板翘曲度检查机 400-860-5168转2189
    爱思达翘曲度检查机QQ1000主要用于线路板行业检测板的翘曲问题。可自动进行检测并自动判断结果。翘曲度检查机用途:ASIDA–QQ1000(翘曲度检查机)是一款用于PCB成品板或覆铜板板弯、板翘检测,并根据检测结果自动作出OK\NG判断并进行分选的仪器。翘曲度检查机特征:1、可用于PCB成品出货前对板翘曲度的检测,也可用于PCB工艺流程过程中对板翘曲度的检测;2、采用高精度的CCD激光传感器,可准确辨别PCB板弯、板翘,稳定性高;3、自由设定板的尺寸信息及板弯板翘公差,数组无限制;4、采用在线检测方式,易与工艺流程中的其它设备搭配使用,通用性强;5、根据设计标准可自动判别OK/NG,搭配自动收板平台,可进行自动分类收板,提高检测效率;6、能同时使用并保存缺陷信息数据和翘曲图,并通过电脑软件分析PCB的品质状况,改善工艺制程;7、模块化工程设计,操作方便简单,人性化界面,检测步骤简单,无需专业人员易学易操作;8、个性化软件设计,可根据用户不同的检测需求,快速对软件进行升级。
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  • PCB翘曲度检查机 400-860-5168转2189
    翘曲度检查机用途ASIDA–QQ1000(翘曲度检查机)是一款用于PCB成品板或覆铜板板弯、板翘检测,并根据检测结果自动作出OK\NG判断并进行分选的仪器。 翘曲度检查机特征1、可用于PCB成品出货前对板翘曲度的检测,也可用于PCB工艺流程过程中对板翘曲度的检测;2、采用高精度的CCD激光传感器,可准确辨别PCB板弯、板翘,稳定性高;3、自由设定板的尺寸信息及板弯板翘公差,数组无限制;4、采用在线检测方式,易与工艺流程中的其它设备搭配使用,通用性强;5、根据设计标准可自动判别OK/NG,搭配自动收板平台,可进行自动分类收板,提高检测效率;6、能同时使用并保存缺陷信息数据和翘曲图,并通过电脑软件分析PCB的品质状况,改善工艺制程;7、模块化工程设计,操作方便简单,人性化界面,检测步骤简单,无需专业人员易学易操作;8、个性化软件设计,可根据用户不同的检测需求,快速对软件进行升级。 翘曲度检查机技术参数项目规格 型号 ASIDA-QQ1000可检测电路板尺寸 Min:40*80mm Max:630*550mm可测电路板厚度 0.3mm~5.0mm放板间距 ≥40 mm检测速度 6.5m/min or 12.5m/min(可选)可测翘曲度 0.3~3.0mm测量精度±0.1mm操作温度 22℃±5℃电源要求 AC220V 50Hz本机尺寸 3510mm×1160mm×1050mm(L×W×H)气压容量要求 0.5~0.7Mpa重量 450kg
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翘曲度检测相关的方案

翘曲度检测相关的论坛

  • 纺织品经家庭洗涤后扭曲度测定

    ISO 16322-2经家庭洗涤后针织和机织物的扭曲度测定测试原理样品按特定程序洗涤之后,利用在水洗前的样品上标准的基准点水洗前后的变化以毫米、百分率或角度来表示扭曲度。测试目的目的和范围:用三种测定方法(对角线法、倒T型法和筒状法)测定针织物或机织物经过反复家庭洗涤后的扭曲度。该方法不适用于经过生产过程后面料产生的扭曲,而只能适用于经反复家庭洗涤后的面料。技术术语扭曲:纬纱或针织线圈横列的方向与布边或成衣缝线的垂直方向成一定角度移动的结果。测试基本用具1.不褪色的记号笔2.直尺,三角板和丁字尺(至少500mm长)3.裁样模版(380×380m,530×510mm或680×380mm)4.调湿或干燥架5.全自动洗衣机,全自动烘干机6.包边机测试试样预调湿样品(根据ISO 139标准),将样品至少放置于标准大气下4小时后再裁剪、包边及测量。检测样品(方法A)1.平行于布边每个布样需要取三个38cm×38cm的检测样品。2.每个检测样品要包含不同的经纱和纬纱。3.标明正面和长度方向。织物标记方法A-(对角线标记法)检测样品(B)1.平行于布边每个布样需要取三个(680mm×380mm)大小的检测样品。2.每个检测样品要包含不同的经纱和纬纱。

  • 印制板材料检测|印制板性能检测

    [size=16px][color=#333333]点击链接查看更多:[url]https://www.woyaoce.cn/service/info-39670.html[/url]服务背景[/color][/size]印制板一般指印制电路板(PCB),印制电路板{Printed circuit boards},又称印刷电路板,是电子元器件电气连接的提供者。印制电路板多用“PCB”来表示,而不能称其为“PCB板”。印制板检测范围PCB印制板、弯插印制板、柔性印制板、刚性印制板、多层印制板、军用印制板、柔性多层印制板、热转印制板、刚挠结合印制板等。[size=16px][color=#333333]检测内容[/color][/size]印制板检测项目耐电流、材料硬度、剥离强度、镀层附着力、翘曲度检测、外层绝缘电阻、内层绝缘电阻、阻焊膜附着力、阻焊磨耐化学性等。

翘曲度检测相关的耗材

  • 多功能翘曲度测量仪配件
    多功能翘曲度测量仪配件是孚光精仪公司进口的全球领先的翘曲度检测仪器,一套翘曲度测试仪器可以测量:热沉,晶圆(wafer),太阳能电池和硅片翘曲度,应力以及表面形貌。多功能翘曲度测量仪配件是特别为半导体晶圆(wafer)和太阳能电池(solar cell)的翘曲度(warp) 和弯曲度(bow)以及表面形貌(topography)的测量而设计,可以测量晶圆翘曲度(wafer warpage) 和晶圆表面形貌, 晶圆应力,硅片张力,太阳能电池量子效率,既适合科研单位使用,也适合工业客户大产品、高效率的晶圆翘曲度和表面形貌的检测的需要。 我们还根据不同晶圆类型提供如下两种硅片翘曲度测量仪: 1. 非反射型:适合晶圆表面覆盖晶圆保护膜/胶带(wafer tape),图案化晶圆 /图样化晶圆(patterned wafer),粗糙的晶圆的应用; 2. 高反射型: 适合晶圆表面光滑 / 镜反射的应用。 多功能翘曲度测量仪配件特点: × 适合不同尺寸的晶圆检测,从0.5’‘到12' ' 的直径; * 标准检测能力为: 每小时可检测2000个晶圆或更多太阳能电池; × 同时测量多个晶圆或太阳能电池; × 测量镀膜后的晶圆或solar cell * 分析太阳能电池或晶圆应力和张力; * 对晶圆表面进行图像分析; * 测量图案化晶圆或非图案化的晶圆; * 具有太阳能电池的量子效率测量选项供选择 多功能翘曲度测量仪配件参数: × 翘曲度测量范围:1-20微米; * 重复精度: 百分之0.5 (1 sigma) * 给出结果:曲率半径,晶圆弯曲高度,翘曲度,测量日期和时间; * RMS粗糙度mapping: 0.5-20A (可选项); * 光源:根据用户的应用而配备不同光源; * 探测器:高分辨率探测器阵列并配备亚像素软件;
  • 德国德尔格Drager,X-am 5600,气体检测仪
    德国德尔格Drager,X-am 5600,气体检测仪,小巧而坚固耐用德国德尔格Drager,X-am 5600,气体检测仪,销售热线:15300030867,张经理!小巧、轻便、操作简单 - 德尔格X-am 5600气体检测仪专为苛刻的工业环境而设计。其防水防尘等级高达IP67,并配有一体化抗腐蚀橡胶罩,即使在恶劣环境中仍可保持最佳性能。持久耐用的红外技术德尔格红外传感器具有高稳定性和抗中毒性,使用寿命长达八年。此项先进技术减少了更换传感器的数量,降低了用户的使用费用。此外,传感器每 12 个月才需校准一次,从而减少了维护成本。单一传感器或双重传感器 - 测量精确新型德尔格红外传感器可以用于检测易爆物质或CO2。红外IR Ex传感器可检测最低爆炸极限范围内的可燃碳氢化合物,对甲烷、丙烷和乙烯的检测范围还可达到0-100 Vol.-%。红外IR CO2传感器检测分辨率为0.01Vol.-%,可安全准确地检测环境空气中二氧化碳的有害浓度并报警。双重传感器(Dual IR CO2/Ex)具备双重功能,可同时满足对易燃易爆物质和二氧化碳进行专业可靠地检测的需求。可测量氢气除碳氢化合物之外,氢气也是易燃易爆气体。通常的红外传感器无法检测氢气的爆炸性,德尔格X-am 5600结合了两种传感器信号(红外Ex和电化学H2)用于准确检测氢气。这项目前为止仅能用催化燃烧传感器进行检测的应用领域已经可以通过X-am 5600的无中毒科技实现了。多种气体检测将创新红外科技和最新电化学XXS微型传感器技术相结合,可同时检测1到6种气体的检测仪可以可靠地检测可燃气体,O2,Cl2、CO、CO2、H2、H2S、HCN、NH3、NO、NO2、PH3、SO2等有毒有害气体和有机蒸气。通过电脑软件CC-Vision可对仪器进行个性化设置。此外,还可根据不同应用得需要方便地更换、校准或更换传感器。使用灵活这款小巧的气体检测仪最适合作为个人防护使用。控制面板上只有两个按键,凭直觉即可使用。气体从仪器的上部和正面进入,即使是仪器放入口袋或进气口被覆盖仍能保证准确测量。仪器可选配外置泵,其软管延伸距离可达20米。此长度非常适合对进入罐体或管道前的预检测。X-am 5600可以和创新型德尔格X-zone 5000远程无线传输多种气体监测报警系统结合使用,进行区域监测。适用于爆炸0区检测这款小巧可靠的气体检测仪适用于对最容易发生气体爆炸的0区气体进行检测。德国德尔格Drager,X-am 5600,气体检测仪,技术参数尺寸(长×宽×高):147×129×31mm重量:220克环境条件:温度:-20~+50℃压力:700~1300hPa湿度:10~95% RH防护等级:IP67报警:光报警 180度可视 声报警:>90dB(A),在30cm距离内 振动报警电池工作时间:碱性电池:>12小时 T4电池: >12小时 充电时间:<4小时数据存储器:每分钟记录1次,可存储1000小时数据德国德尔格Drager,X-am 5600,气体检测仪,认证ATEX:II 2 G EEx ia IIC,T4I M 2 EEx ia d IUL:Class I,Div 1,GroupA,B,C,D;Temp Code T4/T3CSA(申请中):Class I,Div 1,GroupA,B,C,D;Temp Code T4/T3IECEx:Ex ia d I/IIC T4/T3CE标志:电磁兼容性
  • 手表式辐射检测
    PM1208m个人剂量报警仪产品简介: PM1208m个人剂量报警仪是最新款的电子腕表型&gamma 伽玛个人剂量仪。 PM1208m个人剂量报警仪是一种世界上无同类产品的独有的仪器,它是在PM1208老款剂量仪基础上进行改进,采用更加人性化的轻巧表壳及真皮腕带使佩带着更为舒适灵活。 PM1208m个人剂量报警仪为控制辐射形势和人员受照水平而设计的。该仪表可用于工作在辐射源变化环境的专业人员,也可用于关心放射生态问题的普通人员。 一、PM1208m 腕式个人剂量仪特点 1、更宽检测范围及更高的检测精度 2、计时准确:高精度瑞士手表模块Ronda763可靠保证了手表的时间指示读数。 3、优异的防水性能: 外壳IP68防护等级,可以提供防水性能达到水下100m 4、电子发光背景灯使您即使在黑夜里也能清晰读数。 5、新型高强度轻巧外壳及真皮表带为使用人员提供更好佩带感觉 6、连续使用长:锂电池CR2032保证18个月时间内连续使用。 7、新颖的设计:PM1208为实时监测环境中射线剂量而设计。既检测环境污染,又检测剂量的累加值。最大限度地为在有核辐射环境中工作的人员提供保护。 PM1208m腕式个人剂量仪技术指标 探测器盖格&mdash 缪勒管 DER(剂量当量率) 记录和指示范围0.01&mdash 9999.99&mu Sv/h DER阈值范围 调整步长0.01&mdash 9999.99&mu Sv/h 0.01、0.1、1、10、100 DE(剂量当量)记录和指示范围 (阈值上限由应用的电池寿命确定) 0.001&mdash 9999.99mSv DE阈值范围 调整步长0.001&mdash 9999mSv 0.001、0.01、0.1、1.0、10.0、100 DE 记录的准确度(0.01&mdash 9999.999mSv) ± 20% 能量响应范围0.06&mdash 1.5Mev 电源CR2032 在天然辐射本底水平下, 一节电池(CR2032)连续运行寿命&ge 18月 石英表机芯Ronda 763(瑞士) 石英表机芯电源SR621SW 石英表机芯电池(SR621SW)寿命&ge 36月 防护等级 抗水能力全天候IP68 100米深 运行温度范围0&mdash +45℃ 尺寸50× 45× 20mm 重量(包括电池)95克 白俄罗斯Polimaster公司的PM1208m提供一天24小时辐射形势的控制,指示环境剂量当量率(DER)、环境剂量当量(DE)和DE的累积时间,在超过予置的DE和DER时会发声报警。瑞士制造的石英表RONDA763保证了表走时的可靠性和准确性。仪器的LCD显示具有包括日历和报警等的普通电子表的功能。最新的设计保证可在100米深的水中正常工作。PM1208m剂量仪表盘精致发光的背景光使用户可在黑暗中控制仪器的读数。CR2032电池保证仪器的一年连续运行。 选型:PM1208为金属表带,PM1208m为皮革表带。

翘曲度检测相关的资料

翘曲度检测相关的资讯

  • 2亿元!半导体检测设备研发商中安半导体完成A轮融资
    据江北科投集团2月14日消息,江北新区企业中安半导体于近日完成A轮2亿元融资。本次融资由中芯聚源、元禾璞华领投,江北科投、红杉资本以及老股东华登国际、金茂资本参与跟投,本轮融资资金主要用于新产品研发。江北科投集团消息显示,中安半导体于2020年3月在南京江北新区成立。另据企查查信息,中安半导体注册资本为2979.58万元人民币,是一家半导体检测设备研发商,旗下拥有硅片检测技术,旗下主要提供半导体硅片平整度检测设备、三维形貌检测设备等服务。据悉,中安半导体是利用公司自有的先进专利技术开发精密的晶圆量测和检测设备,目前已研发了200mm和300mm晶圆平整度翘曲度测量的设备。
  • 晶诺微亮相慕尼黑光博会,为半导体工艺提供国产先进量检测设备
    晶诺微亮相慕尼黑光博会,为半导体工艺提供国产先进量检测设备中国上海,2024年3月29日 —— 在与Semicon China同期举办的2024慕尼黑上海光博会上,晶诺微(上海)科技有限公司(以下简称晶诺微)首度现身行业展会,将公司自主研发的光学量测设备和半导体量检测设备展示给专业参会者,且在现场展开深入地互动交流。伴随半导体市场的持续扩增以及国产化进程的不断加快,半导体量检测设备行业展现出蓬勃发展的良好态势。于技术层面而言,半导体量检测设备不断实现技术突破与创新,高精度、高速度、高稳定性成为当下乃至未来量检测设备的关键特点,在线、自动化、非接触式、纳米级测量乃是主要方向,其不仅提高了半导体制造的精度与效率,同时还降低了生产成本,为半导体产业的迅速发展提供有力支撑。于市场需求层面,伴随 5G、物联网、人工智能等全新 ICT 信息技术的高速进步,半导体市场需求持续上扬,进而促使量检测设备市场得以扩大。半导体量检测纵贯晶圆制造和芯片封装的整个过程。量检测的主要作用在于生产出符合关键物理参数的芯片并对工艺进行优化,从而能够快速精确地进行工艺控制以及良率管理。量测主要涵盖薄膜材料的厚度、光刻过程中关键尺寸的测量、晶圆厚度及弯翘曲测量等等;检测主要包含无图形缺陷、有图像缺陷、掩模版缺陷、缺陷复检等等。光学量测设备QUASAR R100是一款体积小巧的光谱反射式膜厚、折射率测量仪器,操作简单,极易上手,广泛应用于半导体、太阳能、LED、OLED、液晶、聚合物镀膜及科研实验室镀膜等领域。Quasar R100软件拥有丰富的材料数据库,客户还可以通过软件及自带数据库对材料、菜单进行管理,并具有丰富的数据查看、统计功能。QUASAR E100是一款桌面式光谱椭偏膜厚仪,它为客户提供更加准确和更加稳定的厚度和折射率测量,广泛应用于科研、半导体、液晶、太阳能制造等领域,适用于对厚度和折射率测量有更高精度要求的应用场景。半导体量检测设备晶诺微的半导体量测设备包括光学薄膜测量设备QUASAR S系列和晶圆厚度及翘曲度测量设备ZMET,检测设备包括缺陷检测设备PULSAR系列。QUASAR S系列应用于集成电路芯片制造生产线上的光学膜厚测量设备,适用于6、8、12吋生产线,产品技术成熟,测量精度高,测量速度快,技术上已达到或超越国际同类竞争产品水平,可实现纳米级厚度测量。半导体中缺陷检测是半导体制造过程中不可或缺的环节,对于提高产品质量、降低成本、提高生产效率、保障安全性和促进技术进步都具有重要意义。晶诺微缺陷检测设备PULSAR 系列包括L系列和H系列,PULSAR L 系列及 PULSAR H 系列是应用于电子、半导体工业领域的如WLP(晶圆级封装)、PLP(面板级封装)、晶圆制造前端工艺等,可实现从低分辨率到高分辨率的缺陷检测、分类、定位测量等功能。本次参展2024慕尼黑上海光博会是晶诺微初次在行业展会亮相,公司自 2021 年 8 月成立以来,专注于光学检测和测量相关领域,致力于设计、研发、生产制造及技术服务。其作为设备、仪器生产商,通过提供定制化的设备及工艺解决方案,切实满足了客户需求,成功实现了客户生产效率的提高、产品良率的提升以及生产成本的降低。在未来,晶诺微/ZENO 将继续秉持创新理念,不断追求卓越,为行业发展注入新的活力,助力相关产业迈向更高的台阶。关于晶诺微/ZENO晶诺微(上海)科技有限公司(简称晶诺微/ZENO)成立于2021 年8月,是一家从事与光学检测和测量(Metrology and Inspection)相关的设计、研发、生产制造以及相关技术服务的设备、仪器生产商,为客户提供定制化的设备及工艺解决方案,有效提升客户的生产效率、提升产品良率并降低生产成本。公司研发团队由光学测量、检测领域具有丰富研发、制造经验的技术人才组成,具备深厚的技术积累以及行业经验公司聚焦于电子、研发、半导体等相关领域的测量、检测技术,致力于打造先进的仪器设备产品。
  • 晶诺微亮相慕尼黑光博会,为半导体工艺提供国产先进量检测设备
    中国上海,2024年3月29日 —— 在与Semicon China同期举办的2024慕尼黑上海光博会上,晶诺微(上海)科技有限公司(以下简称晶诺微)首度现身行业展会,将公司自主研发的光学量测设备和半导体量检测设备展示给专业参会者,且在现场展开深入地互动交流。伴随半导体市场的持续扩增以及国产化进程的不断加快,半导体量检测设备行业展现出蓬勃发展的良好态势。于技术层面而言,半导体量检测设备不断实现技术突破与创新,高精度、高速度、高稳定性成为当下乃至未来量检测设备的关键特点,在线、自动化、非接触式、纳米级测量乃是主要方向,其不仅提高了半导体制造的精度与效率,同时还降低了生产成本,为半导体产业的迅速发展提供有力支撑。于市场需求层面,伴随 5G、物联网、人工智能等全新 ICT 信息技术的高速进步,半导体市场需求持续上扬,进而促使量检测设备市场得以扩大。半导体量检测纵贯晶圆制造和芯片封装的整个过程。量检测的主要作用在于生产出符合关键物理参数的芯片并对工艺进行优化,从而能够快速精确地进行工艺控制以及良率管理。量测主要涵盖薄膜材料的厚度、光刻过程中关键尺寸的测量、晶圆厚度及弯翘曲测量等等;检测主要包含无图形缺陷、有图像缺陷、掩模版缺陷、缺陷复检等等。光学量测设备QUASAR R100是一款体积小巧的光谱反射式膜厚、折射率测量仪器,操作简单,极易上手,广泛应用于半导体、太阳能、LED、OLED、液晶、聚合物镀膜及科研实验室镀膜等领域。Quasar R100软件拥有丰富的材料数据库,客户还可以通过软件及自带数据库对材料、菜单进行管理,并具有丰富的数据查看、统计功能。QUASAR E100是一款桌面式光谱椭偏膜厚仪,它为客户提供更加准确和更加稳定的厚度和折射率测量,广泛应用于科研、半导体、液晶、太阳能制造等领域,适用于对厚度和折射率测量有更高精度要求的应用场景。半导体量检测设备晶诺微的半导体量测设备包括光学薄膜测量设备QUASAR S系列和晶圆厚度及翘曲度测量设备ZMET,检测设备包括缺陷检测设备PULSAR系列。QUASAR S系列应用于集成电路芯片制造生产线上的光学膜厚测量设备,适用于6、8、12吋生产线,产品技术成熟,测量精度高,测量速度快,技术上已达到或超越国际同类竞争产品水平,可实现纳米级厚度测量。半导体中缺陷检测是半导体制造过程中不可或缺的环节,对于提高产品质量、降低成本、提高生产效率、保障安全性和促进技术进步都具有重要意义。晶诺微缺陷检测设备PULSAR 系列包括L系列和H系列,PULSAR L 系列及 PULSAR H 系列是应用于电子、半导体工业领域的如WLP(晶圆级封装)、PLP(面板级封装)、晶圆制造前端工艺等,可实现从低分辨率到高分辨率的缺陷检测、分类、定位测量等功能。本次参展2024慕尼黑上海光博会是晶诺微初次在行业展会亮相,公司自 2021 年 8 月成立以来,专注于光学检测和测量相关领域,致力于设计、研发、生产制造及技术服务。其作为设备、仪器生产商,通过提供定制化的设备及工艺解决方案,切实满足了客户需求,成功实现了客户生产效率的提高、产品良率的提升以及生产成本的降低。在未来,晶诺微/ZENO 将继续秉持创新理念,不断追求卓越,为行业发展注入新的活力,助力相关产业迈向更高的台阶。关于晶诺微/ZENO晶诺微(上海)科技有限公司(简称晶诺微/ZENO)成立于2021 年8月,是一家从事与光学检测和测量(Metrology and Inspection)相关的设计、研发、生产制造以及相关技术服务的设备、仪器生产商,为客户提供定制化的设备及工艺解决方案,有效提升客户的生产效率、提升产品良率并降低生产成本。公司研发团队由光学测量、检测领域具有丰富研发、制造经验的技术人才组成,具备深厚的技术积累以及行业经验公司聚焦于电子、研发、半导体等相关领域的测量、检测技术,致力于打造先进的仪器设备产品。
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