多层镀层测厚仪

菲希尔金镍测厚仪，无损多层镀层测厚仪金镍测厚仪用途 该设备适用于多层镀层厚度测量及材料分析，可用来定量和定性分析样品的元素组成，也可用于镀层和镀层系统的厚度测量，最多可同时测定24种元素，广泛应用于电路板、半导体、电镀、珠宝等工业中的功能性镀层及电镀槽液中的成分浓度分析。 金镍测厚仪特点：1、无论是镀层厚度测量，还是镀液分析，复杂的多镀层应用，一个软件程序就可以完成所有测量应用2、X射线管有带玻璃窗口和钨靶的X射线管或带铍窗口和钨靶的微聚焦X射线管多种选择3、X射线探测器PC（比例接收器）、PIN（硅PIN接收器）、SDD（硅漂移接收器）4、可自动切换的准直器和多种滤片可以灵活地应用不同测量。X射线荧光镀层测厚及材料分析仪测量方向产品型号应用范围检测器射线管基本滤片准值器数量/尺寸(mm)C型开槽从下往上XUL一款适合电镀厂测量镀层厚度的性价比高的仪器，它配备了一个固定的准值器和滤，射线管出射点稍大，非常适合测量点在1mm以上的应用。对于测量典型电镀层厚度的应用，如Cr/Ni/Cu等，非常合适。PC标准11（Φ0.3）是XULM多用途的镀层厚度测量仪。无论是薄的还是厚的镀层（如50nm Au或100um Sn）都通过选择好的高压滤片组合很好的测量。微聚焦管可以达到在很短的测量距离内小到100um的测量点大小。高达数kcps的计数率可以被比例接收器接收到。PC微聚焦34（0.05*0.05-Φ0.3）是XAN110/120专门为分析金合金开发的划算的仪器。比较XAN而言，只有一个固定的准直器和固定的滤片，特别适合贵金属分析。XAN 110配备比例接收器，适于几种合金元素的简单分析。XAN120配备了半导体接收器，更可以应用于多元素的复杂分析。PC(XAN 110)PC(XAN 120)标准11（Φ0.3XAN110）1(Φ1XAN120)否XAN分析专用仪器，测量方赂从下到上。用途广泛。测量室全封闭，可以使作大准直器分析，高计数康可也可被硅漂移探测器处理。激发和辐射检测方式与XDV-SDD相同。它是金合金分析和塑料中有害物质衡量分析的理想仪器。PINSDD微聚焦3/64（Φ0.2-Φ2）否从上往下测量XDL适合镀层厚度测量的耐用仪器，即使大测量距离也可以测量（DCM，范围0-80mm）配备一个固定的准值器和固定的滤片。适合测量点在1mm以上的应用；跟XUL类似。可选 用自动测量的可编程工作台。PC标准11（Φ0.3）是XDLM比XDL适用面更广，配备微聚焦管，4个可切换的准直器和3个基本滤片。测量头与XULM想似；适合于测量小的结构如接插件触点或印刷线路板，也可以测量大的工作（DCM,范围0-80mm）PC微聚焦34（0.05*0.05-Φ0.3）是XDAL与XDLM类似但配备了半导体接收器。这样就可能可以分析元素和测量超薄层（基于良好的信噪比）。比较适合测量结构较大的样品。PIN微聚焦34（Φ0.1-Φ0.6）是XDC-SDD适合于全部应用的高端机型。根据测量点大小和光谱组成，激发方式灵活多样。配备了硅漂移接收器，即使强度高达100kcps的信号也可以在不损失分辨率的情况下处理。SDD微聚焦64（Φ0.1-Φ0.3）否SDV-U专用微观分析的测量仪器。根据X射线光学部件的不同，可以分析小到100um或更小的结构。强度很高所以精度也非常好。即使很薄的镀层，测量不确定性小于1nm也是可能的。仅适于测量表面平整或接近平整的样品。SDD微聚焦4多毛细管系统是XDV-Vacuum具备综合测量能力的通用高端机型。与XDV-XDD相当。但可外配备了可抽真空的测量室，这样就使得分析从原子序数Z=11(Na)开始的轻元素成为可能。高精度的马达驱动的XYZ平台和视频摄像头可以精确定位样品位置和测量细小部件。SDD微聚焦64（Φ0.1-Φ3）否在线测量X-RAY 4000用于生产过程中薄膜，金属带或穿孔带的连续测量。测量头可以装配与样品传送方向的直角的位置。操作方便，启动迅速。数据接口可集成到质量管理或控制系统X-RAY54000用于生产线上连续测量的法兰式测量头。测量带状物，薄膜或玻璃的金属元素。在空气和真空都可以测量。提供水冷版本仪器。

高性价比上照式光谱测厚仪，对各类镀层厚度分析的同时可对电镀液进行分析，适用于各种超大件、异形凹槽件、密集型多点测试或自动逐个检测大量的小部件。可靠的高性能：测试精度、稳定性高，在提供高质量的同时减少浪费和停机时间。更高的性价比：制造工艺升级，更具性价比，大大节省使用成本。前沿检测技术：高级成垂直光路系统，采用先进的解谱技术和影像识别算法，实现精准、快速、智能、自动检测，满足企业检测需求。使用寿命更长：模块化设计，聚焦节能，搭载自动休眠模式，延长使用寿命。核心EFP算法：先进的EFP算法不但对多层测试精准、校准方便，而且解决了多层合金、上下元素重复镀层及渗层的检测难题。四焦一体装置：搭载高集成四焦技术，可测量最大90mm深度的凹槽高低落差异形件。上照式设计：上下位机管理分工，可实现对超大型工件的快、准、稳高效测量。适用性强：精准测量各类金属镀层厚度的同时可对电镀液进行分析。自动：可编程自动位移平台，无人值守、自动检测样品；一次编程，便可实现成百上千个样品点的高效检测。智能：实现自动AI影像智能寻点，编程档案自动匹配测试位置，在面对大批同类型样品检测时，具备明显的优势。在线：根据客户要求，可个性化定制产线在线式检测，为工业4.0提供在线检测整体解决方案，提高检测效率，实现自动智能化工厂。XD-1000上照式光谱测厚仪，对各类镀层厚度分析的同时可对电镀液进行分析，适用于各种超大件、异形凹槽件、微小密集型多点测试或自动逐个检测大量的小部件，如线路板、引线支架、卫浴产品等

XU-100 X荧光光谱测厚仪高精尖检测技术，搞定企业品质管控！XU-100光谱测厚仪采用下照式C型腔体设计，搭配微聚焦X射线发生器和高集成垂直光路系统，以及高敏变焦测距装置，对各种大小异形件都可快速、精准、无损测量。
 检测各种金属镀层，检出限可达0.005μm，最小测量面积0.2mm² ，凹槽深度测量范围可达0-30mm，是一款测量镀层厚度性价比高、适用性强的机型。应用行业：电镀层分析紧固件行业五金行业汽车零部件配饰厚度分析电子元器件……常见样品：紧固件
 ZnAl/Fe、Zn/Fe、ZnNi/Fe五金制品
 Sn/Cu/Fe、Ni/Cu、Ni/Cu/Fe电子元器件
 Sn/Ni/Fe、Au/Ni/Cu、Ag/Cu
 汽车零部件Zn/Fe、ZnNi/Fe、ZnAl/Fe、Cr/Ni/Cu/ABS
 配饰首饰
 Au/Pd/925Ag、Rh/Pd/Cu、18KAu/Pd/Cu散热片NiP/Al……为什么选择XU-100？1.下照式设计
 可以快速方便地定位对焦样品。
 2.高精密微型移动滑轨快速精准定位样品。3.
 微焦X射线装置
 最小检测面积可达0.2mm² 的样品，可进行各类电镀层膜厚检测。
 高效率正比接收器即使测试0.2mm² 的样品，几秒钟也能达到稳定性。4.
 变焦装置算法
 可对各种异形凹槽进行检测，凹槽深度测量范围可达0-30mm。
 5.先进的EFP算法
 多层多元素，包括有同种元素在不同涂镀层的检测，都可以快、准、稳的做出数据分析。
 最小检测面积可达0.01mm² 凹槽深度范围0-30mm移动精度10μm最近测距光斑扩散度10%