反射薄膜分析仪

1. 产品概述FTPadv Expert薄膜测量软件具有FTPadv标准软件中包含的用户友好和以配方为导向的操作概念。突出显示拟合参数、测量和计算的反射光谱以及主要结果的光学模型同时显示在操作屏幕上。2. 主要功能与优势n、k 和厚度的测量该软件包设计用于 R（λ） 和 T（λ） 测量的高分析。多层分析可以测量单层薄膜和层叠的每一层的薄膜厚度和折射率。大量的色散模型集成色散模型用于描述所有常见材料的光学特性。通过使用快速拟合算法改变模型参数，将计算出的光谱调整为测量的光谱。3. 灵活性和模块化 SENTECH FTPadv Expert 软件包用于光谱数据的高分析，根据反射和透射测量结果确定薄膜厚度、折射率和消光系数。它扩展了SENTECH FTPadv薄膜厚度探头的标准软件包，适用于更复杂的应用，包括光学特性未知或不稳定的材料。可以在光滑或粗糙、透明或吸收性基材上测量单个透明或半透明薄膜的薄膜厚度、折射率和消光系数。该软件允许分析复杂的层堆栈，并且可以确定堆栈的每一层的参数。我们的FTPadv Expert薄膜测量软件具有FTPadv标准软件中包含的用户友好和以配方为导向的操作概念。突出显示拟合参数、测量和计算的反射光谱以及主要结果的光学模型同时显示在操作屏幕上。该软件包包括一个大型且可扩展的材料库，该库基于表格材料文件以及参数化色散模型。FTPadv Expert 软件可选用于膜厚探头 FTPadv，以及反射仪 RM 1000 和 RM 2000 软件包的一部分。

1. 产品概述RM 1000 和 RM 2000 光谱反射仪可测量表面光滑或粗糙的平面或弯曲样品的反射率。使用SENTECH FTPadv Expert软件计算单膜或层叠的厚度、消光系数和折射率。厚度分别为 2 nm 和 50 μm （RM 2000） 或 100 μm （RM 1000） 的单片、层叠和基板可以在 UV-VIS-NIR 光谱范围内进行分析。2. 主要功能与优势突破折光率测量的限SENTECH反射仪通过样品的高度和倾斜调整以及光学布局的高光导率，具有精密的单光束反射率测量功能，允许对n和k进行可重复的测量，在粗糙表面上进行测量，以及对非常薄的薄膜进行厚度测量。紫外到近红外光谱范围RM1000 410 纳米 – 1000 纳米RM2000 200 纳米 – 1000 纳米高分辨率映射RM 1000 和 RM 2000 反射仪可选配 x-y 成像台和成像软件以及用于小光斑尺寸的物镜。3. 灵活性和模块化SENTECH RM 1000 和 RM 2000 代表我们的反射仪。桌面设备包括高度稳定的光源、带有自动准直望远镜和显微镜的反射光学器件、摄像机、高度和倾斜度可调的样品平台、光谱光度计和电源。它可以选配 x-y 成像台和成像软件，以及用于第二种光斑尺寸的物镜。除了薄膜厚度和光学常数外，薄膜的组成（例如氮化镓上的AlGaN，硅上的SiGe），增透膜（例如在纹理硅太阳能电池上，紫外线敏感的GaN器件）以及小型医疗支架上的涂层都可以通过我们的反射仪进行测量。这些反射仪支持微电子、微系统技术、光电子、玻璃涂层、平板技术、生命科学、生物技术等域的应用。用于我们的反射仪 RM 1000 / 2000 的综合性、以配方为导向的 SENTECH FTPadv EXPERT 软件包括测量设置、数据采集、建模、拟合和报告。已经内置了一个包含预定义、客户验证和即用型应用程序的广泛数据库。“自动建模”选项允许从光谱库中自动选择样本模型。基于SENTECH在椭圆偏振光谱方面的业知识，庞大的材料库和各种色散模型使我们的光谱反射仪能够分析几乎所有的材料和薄膜。操作员可以很容易地使用新的光学数据更新数据库。SENTECH通过椭圆偏振光谱法测量具有未知光学特性的新材料，为客户提供支持。

光反射薄膜测厚仪原产国：美国薄膜表面或界面的反射光会与从基底的反射光相干涉，干涉的发生与膜厚及折光系数等有关，因此可通过计算得到薄膜的厚度。光干涉法是一种无损、精确且快速的光学薄膜厚度测量技术，我们的薄膜测量系统采用光干涉原理测量薄膜厚度。该产品是一款价格适中、功能强大的膜厚测量仪器，近几年，每年的全球销售量都超过200台。根据型号不同，测量范围可以从10nm到250um，它最高可以同时测量4个膜层中的3个膜层厚度（其中一层为基底材料）。该产品可应用于在线膜厚测量、测氧化物、SiNx、感光保护膜和半导体膜。也可以用来测量镀在钢、铝、铜、陶瓷和塑料等上的粗糙膜层。 应用领域理论上讲，我们的光干涉膜厚仪可以测量所有透光或半透光薄膜的厚度。以下为我们最熟悉的应用领域(半导体薄膜，光学薄膜涂层，在线原位测量，粗糙或弧度表面测量)：□ 晶片或玻璃表面的介电绝缘层(SiO2, Si3N4, Photo-resist, ITO, ...)；□ 晶片或玻璃表面超薄金属层(Ag, Al, Au, Ti, ...)；□ DLC(Diamond Like Carbon)硬涂层；SOI硅片；□ MEMs厚层薄膜(100μm up to 250μm)；□ DVD/CD涂层；□ 光学镜头涂层；□ SOI硅片；□ 金属箔；□ 晶片与Mask间气层；□ 减薄的晶片( 120μm)；□ 瓶子或注射器等带弧度的涂层；□ 薄膜工业的在线过程控制；等等… 软件功能丰富的材料库：操作软件的材料库带有大量材料的n和k数据，基本上的常用材料都包括在这个材料库中。用户也可以在材料库中输入没有的材料。软件操作简单、测速快：膜厚测量仪操作非常简单，测量速度快：100ms-1s。软件针对不同等级用户设有一般用户权限和管理者权限。软件带有构建材料结构的拓展功能，可对单/多层薄膜数据进行拟合分析，可对薄膜材料进行预先模拟设计。软件带有可升级的扫描功能，进行薄膜二维的测试，并将结果以2D或3D的形式显示。软件其他的升级功能还包括在线分析软件、远程控制模块等。

薄膜的光学特性主要有反射和干涉.NanoCalc薄膜反射测量系统可以用来进行10nm~250µ m的膜厚分析测量，对单层膜的分辨率为0.1nm。根据测量软件的不同，可以分析单层或多层膜厚。产品特点 1、可分析单层或多层薄膜2、分辨率达0.1nm3、适合于在线监测操作理论最常用的两种测量薄膜的特性的方法为光学反射和透射测量、椭圆光度法测量。NanoCalc利用反射原理进行膜厚测量。查找n和k值可以进行多达三层的薄膜测量，薄膜和基体测量可以是金属、电介质、无定形材料或硅晶等。NanoCalc软件包含了大多数材料的n和k值数据库，用户也可以自己添加和编辑。应用NanoCalc薄膜反射材料系统适合于在线膜厚和去除率测量，包括氧化层、中氮化硅薄膜、感光胶片及其它类型的薄膜。NanoCalc也可测量在钢、铝、铜、陶瓷、塑料等物质上的抗反射涂层、抗磨涂层等。

台式薄膜探针反射仪 FTPadvFTPadv是一种具有成本效益的台式反射膜厚仪解决方案，它具有非常快速的厚度测量。在100毫秒以内进行测量，其精度低于0.3nm，膜厚范围在50 nm -25 μm。为了便于分光反射测量操作，该仪器包括了范围广泛的预定配方。 简易的膜厚测量通过选择合适的配方，FTPadv反射仪以小于100ms的测量速度、精度小于0.3nm、厚度范围为50nm-25μm的精度进行厚度测量。 独特的自动建模通过测量反射光谱和光谱数据库的比较，将测量误差减到很小。 光谱椭偏SE为基础的材料数据库基于SENTECH精确的椭偏光谱测量的大型材料库为测量新材料的光学常数提供了配方。 应用二十年来，SENTECH已经成功地销售了用于各种应用的薄膜厚度探针FTPadv。这种台式反射仪的特点是不管在低温或高温下，在工业或研发环境中，都能通过远程或直接控制，对小样品或大样品进行实时或在线厚度测量。 台式反射仪FTPadv精确、可重复地测量反射和透明衬底上透明和弱吸收膜的厚度和折射率。FTPadv可以结合在显微镜上，或者配备有稳定的光源，用于测量厚度达到25 μm (根据要求可更厚)的膜层。更具备了从SENTECH光谱椭偏仪经验中受益的预定义的、经由客户验证的、以及随时可以使用的应用程序的广泛数据库。 FTPadv的特征在于对来自叠层样品的任何膜层的厚度进行测量，使得FTPadv成为膜厚测量的理想成本效益的解决方案。用于工艺控制的FTPadv包括具有采样器的光纤束、具有卤素灯的稳定光源以及FTP光学控制站。局域网连接到PC允许了远程控制的FTPadv在工业应用，如恶劣环境，特殊保护空间或大型机械。 反射仪FTPadv带有大量预定义的配方，例如半导体上的介质膜、半导体膜、硅上的聚合物、透明衬底上的膜、金属衬底上的膜等等。独特的自动建模,这特性允许通过与光谱库的快速比较来检测样本类型。该反射仪将操作误差减到很小。用光学反射法测量膜厚从未如此容易。 SENTECH FTPadv菜单驱动的操作软件允许单层和叠层结构的厚度测量，具有极好的操作指导。此外，它还具有强大的分析工具和出色的报告输出功能。附加的自动扫描软件可用于控制电动样品台。将软件升级到用于反射测量的高级分析的软件包FTPadv EXPERT，即可应用于具有未知或不恒定光学特性的材料。因此，单层薄膜厚度测量以及折射率和消光系数分析是可实现的。 SENTECH FTPadv菜单驱动的操作软件允许单层和叠层结构的厚度测量，具有极好的操作指导。此外，它还具有强大的分析工具和出色的报告输出功能。附加的自动扫描软件可用于控制电动样品台。将软件升级到用于反射测量的高级分析的软件包FTPadv EXPERT，即可应用于具有未知或不恒定光学特性的材料。因此，单层薄膜厚度测量以及折射率和消光系数分析是可实现的。

PHI 4700薄膜分析仪产品介绍产品名称：薄膜分析仪产品型号：PHI 4700品 牌：日本ULVAC-PHI产 地：日本前言在开发新材料及薄膜制程上，为了有助于了解材料组成间的相互作用及解决制程上的问题，材料组成或薄膜迭层的深度分析是非常重要的。PHI 4700使用了AES分析技术为基础，搭配高感度半球型能量分析器、10 kV LaB6扫瞄式电子枪、5 kV浮动柱状式Ar离子枪及高精密度自动样品座。针对例行性的俄歇纵深分析、微区域的故障分析，提供了全自动与及高经济效益的解决方法。PHI 4700是建基于Ulvac-Phi公司的高性能PHI 700Xi俄歇扫描纳米探针。它提供了高度自动化，成本效益的方案进行例行俄歇深度分析和微米范围的故障分析。 PHI 4700可以轻易的配备上互联网的设备，以供远程操作或监控之用。优点量化薄膜的成分 层的厚度测量检测相互扩散层 微米范围多点分析基本规格全自动多样品纵深分析: PHI 4700薄膜分析仪在微小区域之纵深分析拥有绝佳的经济效益，可在SEM上特定微米等级之微小区域快速进行深度分析。图2显示长年使用的移动电话镀金电极正常与变色两个样品之纵深分析结果，两者材质皆为镀金之锡磷合金。从电极二（变色电极）可看到金属锡扩散到镀金膜上，因为界面的腐蚀而产生氧及锡导致电极变色。高感度半球型能量分析器：PHI 4700半球形能量分析器和高传输输入镜头可提供最高的灵敏度和大幅缩短样品侦测时间。除此之外，具有全自动的量测功能，此装置可在短时间内测量多个样品。点选屏幕上软件所显示的样品座，可以记录欲量测的位置，对产品与制程管理上之数据搜集可进行个别分析。10 kV LaB6扫瞄式电子枪：PHI的06-220电子枪是基于一个以LaB6为电子源灯丝以提供稳定且长寿命电子枪的工具，主要在氩气溅射薄膜时进行深度分析。06-220电子枪还可以：产生二次电子成像，俄歇测绘和多点分析。在加速电压调节从0.2至10千伏。电子束的最小尺寸可保证小于80纳米。浮动柱状式Ar离子枪：PHI的FIG- 5B浮动柱状式Ar离子枪:提供离子由5伏到5千伏。大电流高能量离子束被用于厚膜，低能量离子束（250-500 V）用于超薄膜。浮动柱状式，确保高蚀刻率与低加速电压。物理弯曲柱会停止高能量的中性原子，从而改善了接口定义和减少对邻近地区的溅射。五轴电动样品台和Zalar方位旋转：PHI 15-680精密样品台提供5轴样品传送：X，Y，Z，旋转和倾斜。所有轴都设有摩打及软件控制，以方便就多个样品进行的自动纵深分析。样品台提供Zalar（方位角）旋转的纵深剖析，透过减少构件与溅射在一个固定样本的位置，以优化纵深分析。PHI SmartSoft用户界面：PHI SmartSoft是一个被认同为方便用者使用的操作仪器软件。软件透过任务导向和卷标横跨顶部的显示指导用户从输入样品，定义分析点，并设定分析。多个分析点的定义和最理想样品的定位是由一个强大的&ldquo 自动Z轴定位&rdquo 功能所提供。在广泛使用的软件设置，可让新手能够快速，方便地设立测量及其模板。可选用配备热/冷样品座样品真空传送付仪（Sample Transfer vessel）应用领域半导体薄膜产业微电子封装产业无机光电产业微摩擦学

热反射（Thermo-Reflectance）方法基于超高速激光闪射系统，可测量基片上金属、陶瓷、聚合物薄膜的热物性参数，如：热扩 散系数、导热系数、吸热系数（Thermal Effusivity）和界面热阻。由于激光闪射时间仅为纳秒（ns）量级，甚至可达到皮秒（ps） 量级，此系统可测量厚度低至 10nm 的薄膜。同时，系统提供不同的测量模式，以适应不同的基片情况（透明 / 不透明）。 NETZSCH TR 特性：• 该方法符合日本国家标准：• JIS R 1689：通过脉冲激光热反射方法测量精细陶瓷薄膜的热扩散系数；• JIS R 1690：陶瓷薄膜和金属薄膜界面热阻的测量方法 。发展简史1990 年，日本产业技术综合研究所/日本国家计量院（AIST/NMIJ）发明热反射法，测量薄膜导热性能。2008 年，AIST 设立 PicoTherm 公司。2010 年，PicoTherm 公司推出纳秒级热反射系统 NanoTR。2012 年，PicoTherm 公司推出皮秒级热反射系统 PicoTR。2014 年，PicoTherm 公司和 NETZSCH 公司建立战略合作。由 NETZSCH 负责 PicoTherm 产品在全球的销售和服务。技术背景激光闪射法 -最主流的材料热扩散系数测试方法在现代工业中，关于材料的热性能、特别是热物理性能的相关知识变得日益重要。在这里我们可以举出一些典型领域，例如应用于高性能缩微电子器件的散热材料，作为持续能源的热电材料，节能领域的绝热材料，涡轮叶片中所使用的热障涂层（TBC），以及核工厂的安全操作，等等。在各种热物性参数之中，导热系数显得尤其重要。可以使用激光闪射法（LFA）对材料的热扩散系数/导热系数进行测定。这一方法经过许多年的发展已广为人知，可以提供可靠而精确的数据结果。样品的典型厚度在 50um 至 10mm 之间。NETZSCH 是一家世界领先的仪器制造厂商，提供一系列的热物性测试仪器，特别是激光闪射法导热仪。这些 LFA 系统在陶瓷，金属，聚合物，核研究等领域得到了广泛应用。热反射法 -测试厚度为纳米级的薄膜材料的热扩散系数随着电子设备设计的显著进步，以及随之而来的对有效的热管理的需求，在纳米级厚度范围内进行精确的热扩散系数/导热系数测量已经变得越来越重要。日本国家先进工业科学与技术研究所（AIST），在上世纪 90 年代初即已响应工业需求，开始研发“脉冲光加热热反射法”。于 2008 年成立了 PicoTherm 公司，同时推出了纳秒级的热反射仪器“NanoTR”与皮秒级的热反射仪器“PicoTR”，这两款仪器可对薄膜的热扩散系数进行绝对法的测量，薄膜厚度从数十微米低至纳米级范围。2014 年，NETZSCH 日本分公司成为了 PicoTherm 公司的独家代理。与我们现有的 LFA 仪器相结合，NETZSCH 现在可以提供从纳米级薄膜、到毫米级块体材料的全套的测试方案。为什么需要测试薄膜？薄膜的热性能与块体材料的热性能不同纳米级薄膜的厚度通常小于同类块体材料典型的晶粒粒径。由此，其热物理性能与块体材料将有着显著的不同。测量模式超快速激光闪射法 -RF 模式：后部（Rear）加热 / 前部（Front）探测可测试热扩散系数与界面热阻纳米级薄层与薄膜的热透过时间极短，传统的激光闪射法（LFA）使用红外测温，采样频率相对较低，已不足以有效地捕捉纳米级薄膜的传热过程。因此需要一种新的更快速的检测方式，可以克服经典的激光闪射法的技术局限。这一被称为超快速激光闪射法的技术，其典型模式为后部加热/前部探测方法。这一方式的测量结构与传统的 LFA 方法相同：样品制备于透明基体之上，测量方向为穿过样品厚度、与样品表面垂直。由加热激光照射样品的下表面，由探测激光检测样品上表面的传热温升过程。随着样品检测面的温度逐渐上升，其表面热反射率会相应发生变化。使用探测激光按一定采样频率对检测面进行照射，利用反射率的变化可获取检测面的温度上升曲线。基于该曲线进行拟合计算，可得到热扩散系数（如下图所示）。这里，金属薄膜（Mo）的热扩散系数测量结果为 15.9 mm2/s。时间域热反射法 -前部加热 / 前部探测（FF）测定热扩散系数与吸热系数除了 RF 方法之外，测量也可以使用前部加热/前部探测（FF）的结构进行。“Front”一词这里指的是沉积于基体上的薄膜的外表面，而“Rear”一词指的是薄膜与基体接触的一面。在 FF 测量配置中（如下图所示），加热激光与探测激光处于样品的同一面。加热激光加热的是薄膜的前表面的一个直径为几十微米的区域，探测激光则指向同一位置，观察在照射之后表面温度的变化。这一方法可以应用于非透明基体上的薄层材料，即 RF 方法不适合的场合。在下图的示例中，使用 FF 模式，金属薄膜（Mo）的热扩散系数测量结果为 16.1 mm2/s。结果证明了 RF 与 FF 模式之间结果高度的一致性（偏差2%）。NanoTR 原理NanoTR 具有先进的信号处理技术，可以进行高速的测量。测试过程中，一束脉冲宽度 1ns 的激光脉冲被周期性（间隔20us）地照射到样品的加热面上。使用探测激光记录检测面相应的温度响应。通过在极短时间内进行大量的重复测试，对重复信号进行累加，可以获得优异的信噪比。通过软件，仪器可以方便地在 RF 与 FF 两种测试方式之间进行切换，由此适合于各种类别的样品。NanoTR 遵从 JIS R 1689，JIS R 1690 标准，提供具有热扩散时间标准值的薄膜标样（RM1301-a），使结果具有 SI 可回溯性。该标样由 AIST 提供。PicoTR 原理对于皮秒级热反射分析仪 PicoTR，照射到样品的加热面上的是脉冲宽度仅为 0.5ps 的激光脉冲，重复周期为 50ns。使用探测激光，记录检测面相应的温度响应。PicoTR 允许用户在 RF 与 FF 两种模式之间进行自由切换。PicoTR 符合 JIS R 1689，JIS R 1690 标准。技术参数仪器型号NanoTRPicoTR温度范围RT，RT … 300°C（选配）RT，RT … 500°C（选配）测量模式RF/FFRF/FF样品尺寸10 × 10mm … 20 × 20mm10 × 10mm … 20 × 20mm薄膜厚度30nm … 20μm （取决于样品种类和测量模式）10nm … 900nm （取决于样品种类和测量模式）热扩散系数0.01 … 1000mm2/s0.01 … 1000mm2/s主激光脉冲宽度 1ns 光束直径 100μm 激光功率 100mW脉冲宽度 0.5ps 光束直径 45μm 激光功率 20mW

耐驰 NanoTR 热反射法薄膜导热系数测量仪 应用领域：可测量基片上金属、陶瓷、聚合物薄膜的热物性参数，如热扩散系数、热导率、吸热系数和界面热阻。 耐驰 NanoTR 热反射法薄膜导热系数测量仪 产品特点：- 精确的微米级薄膜导热测量方法- 可提供RF测量模式（后加热-前检测）和FF测量模式（前加热-前检测）- Nano TR遵循国际校准标准 耐驰 NanoTR 热反射法薄膜导热系数测量仪 技术参数：Nano TR温度范围RT，RT … 300°C（选配）测量模式RF/FF样品尺寸10×10 … 20×20mm薄膜厚度30nm … 20μm（取决于样品种类和测量模式）热扩散系数0.01 … 1000mm2/s主激光脉冲宽度 1ns光束直径 100μm激光功率 100mW详细参数，敬请垂询 *价格范围仅供参考，实际价格与配置、汇率等若干因素有关。如有需要，请向当地销售咨询。我们讲竭尽全力为您制定完善的解决方案。

F10-RT 薄膜厚度测量仪同时测量反射和透射以真空镀膜为设计目标，F10-RT 只要单击鼠标即可获得反射和透射光谱。 只需传统价格的一小部分，用户就能进行全面分析、确定 FWHM 并进行颜色分析。可选的厚度和折射率模块让您能够充分利用 Filmetrics F10 的分析能力。测量结果能被快速地导出和打印。选择Filmetrics的优势桌面式薄膜厚度测量专家 24小时电话，E-mail和在线支持 所有系统皆使用直观的标准分析软件附加特性嵌入式在线诊断方式 免费离线分析软件 精细的历史数据功能，帮助用户有效地存储，重现与绘制测试结果

反射高能电子衍射仪（ReflectionHigh-Energy Electron Diffraction）是观察晶体生长最重要的实时监测工具。它可以通过非常小的掠射角将能量为10～30KeV的单能电子掠射到晶体表面，通过衍射斑点获得薄膜厚度，组分以及晶体生长机制等重要信息。因此反射高能电子衍射仪已成为MBE系统中监测薄膜表面形貌的一种标准化技术。　　R-DEC公司生产的反射式高能电子衍射仪，以便于操作者使用的人性化设计，稳定性和耐久性以及拥有高亮度的衍射斑点等特长得到日本国内及海外各研究机构的一致好评和认可。用于有机薄膜晶体结构检测。世界首创！欢迎来电询问详细技术资料！

F10-AR薄膜厚度测量仪易于使用而且经济有效地分析减反涂层和镜头上的硬涂层F10-AR 是为简便而经济有效地测试眼科减反涂层设计的仪器。价格大大低于当今绝大多数同类仪器，应用几项技术， F10-AR 使线上操作人员经过几分钟的培训，就可以进行厚度测量。在用户定义的任何波长范围内都能进行最低、最高和平均反射测试。我们有专门的算法对硬涂层的局部反射失真进行校正。 我们的 AutoBaseline 能增加基线间隔，提供比其它光纤探头反射仪高出五倍的精确度。利用可选的 UPG-F10-AR-HC 软件升级能测量 0.25-15um 的硬涂层厚度。 在减反层存在的情况下也能对硬涂层厚度进行测量。无须处理涂层背面我们特殊的探头设计能抑制 1.5mm 厚基板 98% 的背面反射，使用更厚的镜头抑制的更多。就像我们所有的台式仪器一样，F10-AR 需要连接到您装有 Windows 计算机的 USB 端口上并在数分钟内即可完成设定。选择Filmetrics的优势 桌面式薄膜厚度测量专家 24小时电话，E-mail和在线支持 所有系统皆使用直观的标准分析软件附加特性 嵌入式在线诊断方式 免费离线分析软件 精细的历史数据功能，帮助用户有效地存储，重现与绘制测试结果

仪器简介：高级薄膜测定系统 NKD-8000系统综合了光学、电子学和高级分析软件，是目前测定多层薄膜和基片的折射率、吸收系数和厚度最精确、最易用的系统。NKD-8000系列产品具有全自动、可同时测定透过光谱和反射光谱，入射光角度从0° 到90° 连续改变。对分光光谱仪而言，这是一项前所未有的新功能，使得NKD-8000适用于最具挑战性的光学测量。对多层薄膜和基片的n、k和d的测定变得准确、快捷。技术参数：光谱范围 NKD-8000 350nm&mdash 1000nm ( 标准模式 ) NKD-8000v 280nm&mdash 1000nm ( 紫外增强型) NKD-8000r 800nm&mdash 1700nm ( 红 外 型 ) NKD-8000w 350nm&mdash 1700nm (宽光谱 型 ) NKD-8000e 350nm&mdash 2200nm (超宽光谱 型 ) 注：宽光谱型提供两个检测器，可以覆盖350nm到1000nm和800nm到1700nm或2200nm (仅适用nkd-8000e)，但二者不能同时用。 获得数据时间 2&mdash 10分钟，这取决于光谱范围和不同选件 数据分析时间 5秒&mdash 5分钟，取决于数据的复杂程度 光谱分辨率 1nm或2nm （可选） 光源 NKD-8000v 150W 氙弧灯 其他 高稳态100W石英钨卤灯 样品尺寸 10× 10mm到200× 250mm标准系统,100mm 直径样品的扫描台 层数 至多5层，两个未知参数 薄膜厚度范围 1nm到25um，取决于角度、偏振和波长 1nm 需要增加椭偏模块 基片 透明、半透明或半吸收或半导体 材料 电介质、高聚物、半导体和金属 精确度 对于半吸收薄膜 典型 最大 薄膜厚度 ＜1% ＜3% 折射率 ＜0.1% ＜1% 消光系数 ＜1% ＜3% 对于金属薄膜 薄膜厚度 ＜1% ＜3% 折射率 ＜1% ＜3% 消光系数 ＜1% ＜3% 重现性 透射率 ＜0.01% ＜0.1% 反射率 ＜0.01% ＜1% 折射系数 ＜0.01% ＜0.1% 入射光角度 30° 、50° 或70° （标准单元）或由客户指定的从 20° 到70° 连续可变（可变角版本）或3个位置角度 样品上的光斑尺寸 5mm(标准系统)，250um（选件） 电源 220V，50Hz，2A 或110V，60Hz，3A 外观尺寸 890× 540× 720mm 重量 105Kg 选件 多角度，可变角度，X-Y样品扫描台，多种标准尺寸品架。样品观测显微镜。手动或全软件控制的偏振选件（s-、p-或非偏振）。样品加热台。台式机或工业PC。主要特点：主要特点 ◆ 可测定波长范围从280nm到2300nm的透射和反射光谱 ◆ 在同一区域可同时测定T和R值 ◆ 可对折射率(n)，吸收系数(k) 和厚度(d)进行准确测定 ◆ 样品可在X-Y扫描台上进行扫描 ◆ 入射光角度可以是固定角度、多角度和从0° 到90° 的连续变化的角度 ◆ 可用s-、p-或非偏振光作为入射光对T和R进行测定 ◆ 可对透明基片进行测定且不需要对样品进行前处理 ◆ 内建的材料数据库 ◆ 密封的样品室 ◆ 可选择散射模式 ◆ 具有在线或离线分析功能 对T和R同时测定 KD-8000系统在同一个光斑处，同时对透过光谱和发射光谱进行测定，保证了两套数据具有直接的相关性。通过测定这些光谱，全自动的控制和分析软件系统可以从中得到n、k和d值。而且所有这些都源自同一次测定。不同散射模式的选择使得对宽广范围材料的分析成为可能，而且用户可以选择缺省模式或者高级分析模式。 功能强大的Pro-OptixTM控制和分析软件系统包括一个可编辑的数据库，它允许对材料进行预先定义，以提高分析速度。该软件的其他特点包括颜色的匹配和太阳光的计算以及金属薄膜的算法。样品可以是透明的、不透明的或者半吸收的而无需对它们特殊处理。 NKD-8000是唯一一款能全部提供上述功能的分光型光学薄膜分析系统，它为薄膜表征设立了一个标准。 可变的入射光角度 ①反射光检测 ②光束管 ③Y轴坐标 ④透射光检测器 ⑤Z轴坐标 ⑥X轴坐标 ⑦样品台 ⑧马达驱动的可变角度选择装置 NKD-8000系统提供可变的角度选择装置，它提供完全马达驱动的，可由PC机控制入射光的角度，入射角度从从0° 到90° 可自由选择。 通过使用分析软件中的集成工具就可实现对T和R的s-偏振光谱和p-偏振光谱进行独立分析或二者一起分析。 通过作为选件的X-Y扫描台可以对大尺寸样品进行扫描，样品在X、Y两个方向上的最大行程是100mm，同时保持入射光斑始终位于行程的中间。 在测定时有许多样品架备选，它们可以夹持不同类型尺寸的样品。全PC控制使这种方法对整个样品的数据收集和分析变得简单、准确和快捷。 多个角度 如果在应用中只需一些不连续的入射光角度，那么多角度选件可以提供一个满意的解决方案。从0° 到90° ，用户可自定义三个入射光角度。 附件 热台：可控制样品温度至150度，测定变温下的T和R，对测定光学涂层和基体的光谱位移十分有用。 显微镜/相机：对样品进行显微分析。 微光斑附件：将入射光斑聚焦至200微米，特别适合表征微小样品和局部区域。

耐驰 PicoTR 热反射法薄膜导热系数测量仪 应用领域：可测量基片上金属、陶瓷、聚合物薄膜的热物性参数，如热扩散系数、热导率、吸热系数和界面热阻。 耐驰 PicoTR 热反射法薄膜导热系数测量仪 产品特点：- 精确的纳米级薄膜导热测量方法- 可提供RF测量模式（后加热-前检测）和FF测量模式（前加热-前检测）- Pico TR遵循国际校准标准 耐驰 PicoTR 热反射法薄膜导热系数测量仪 技术参数：Pico TR温度范围RT，RT … 500°C（选配）测量模式RF/FF样品尺寸10×10 … 20×20mm薄膜厚度10 … 900nm（取决于样品种类和测量模式）热扩散系数0.01 … 1000mm2/s主激光脉冲宽度 0.5ps光束直径 45μm激光功率 20mW详细参数，敬请垂询 *价格范围仅供参考，实际价格与配置、汇率等若干因素有关。如有需要，请向当地销售咨询。我们讲竭尽全力为您制定完善的解决方案。

仪器简介：ZF-3紫外透射反射分析仪简介： 使用说明： （一）、分析观察样品 将电泳好的凝胶样品或薄层、纸层样品放在仪器中央，开启&ldquo 反射紫外灯&rdquo 电源，调节反射紫外灯架高度与角度，使样品发出的萤光最清晰明亮。通常反射紫外离样品越近，则萤光越强。 （二）、拍摄样品照片 （1）打开&ldquo 照明&rdquo 白炽灯，利用白炽灯照明，调节照相高度及相机镜头使样品成像清晰。在相机前装上近摄接圈与PCR滤色镜。然后关闭&ldquo 照明&rdquo 白炽灯。 （2）开启透射紫外灯电源，进行拍摄，应根据不同的样品确定不同的曝光时间，以清晰满意的底片。 （三）注意：如使用时不用暗箱，必须在暗室内操作。 我公司生产的紫外分析仪系列产品： ZF1-I多功能紫外分析仪 ZF1-Ⅱ型紫外分析仪 ZF-1紫外透射反射分析仪 ZF-2紫外透射反射分析仪 ZF-3紫外透射反射分析仪 ZF-5 型手提式紫外分析仪（手提式紫外分析仪） ZF-6型三用紫外分析仪（台灯式ZF-1三用紫外分析仪） ZF-7型暗箱式三用紫外分析仪（暗箱式三用紫外分析仪） ZF-8型暗箱式四用紫外分析仪（暗箱式四用紫外分析仪） ZFD型紫外透射分析仪 UV-A型手提暗箱式紫外分析仪技术参数：ZF-3紫外透射反射分析仪的技术参数： 1、电源：AC220V± 10%50HZ 2、功率透射：48W 64W 反射24W 照明40W 3、紫外滤色片尺寸透射：ZF-3 200× 150mm 反射200× 80mm主要特点：ZF-3紫外透射反射分析仪的主要特点： ZF系列紫外射反射分析仪（配暗箱）是最新研制成功的新一代分析仪器。 本产品具有灵敏度高、使用方便、特别采用302NM波长对样品的破坏作用更小，是紫外分析仪的更新换代产品，它可适用于DNA、RNA电泳凝胶样品的观察，可检测蛋白质，核甘酸等，在制药工业中检查激素生物碱、维生素等能产生萤光的药品质量，对薄层分析，各种同功酶，纸层分析进行观察分析和摄影，并可作为PCR技术的专用仪器。 ZF-3型紫外透射反射分析仪装有一组透射紫外光源和二组反射紫外光源，分别供观察、分析和摄影用。 紫外透射分四组，供用户选择：一组254nm；二组302nm；三组365nm；四组白炽灯；紫外反射有二组；一组254nm；二组365nm。

仪器简介：ZF-2紫外透射反射分析仪简介： 使用说明： （一）、分析观察样品 将电泳好的凝胶样品或薄层、纸层样品放在仪器中央，开启&ldquo 反射紫外灯&rdquo 电源，调节反射紫外灯架高度与角度，使样品发出的萤光最清晰明亮。通常反射紫外离样品越近，则萤光越强。 （二）、拍摄样品照片 （1）打开&ldquo 照明&rdquo 白炽灯，利用白炽灯照明，调节照相高度及相机镜头使样品成像清晰。在相机前装上近摄接圈与PCR滤色镜。然后关闭&ldquo 照明&rdquo 白炽灯。 （2）开启透射紫外灯电源，进行拍摄，应根据不同的样品确定不同的曝光时间，以清晰满意的底片。 （三）注意：如使用时不用暗箱，必须在暗室内操作。 我公司生产的紫外分析仪系列产品： ZF1-I多功能紫外分析仪 ZF1-Ⅱ型紫外分析仪 ZF-1紫外透射反射分析仪 ZF-2紫外透射反射分析仪 ZF-3紫外透射反射分析仪 ZF-5 型手提式紫外分析仪（手提式紫外分析仪） ZF-6型三用紫外分析仪（台灯式ZF-1三用紫外分析仪） ZF-7型暗箱式三用紫外分析仪（暗箱式三用紫外分析仪） ZF-8型暗箱式四用紫外分析仪（暗箱式四用紫外分析仪） ZFD型紫外透射分析仪 UV-A型手提暗箱式紫外分析仪技术参数：ZF-2紫外透射反射分析仪的技术参数： 1、电源：AC220V± 10%50HZ 2、功率透射：64W 照明40W 3、紫外滤色片尺寸透射：200× 150mm 4、外型尺寸 350× 260× 360 5、波长：302nm不锈钢面板，（配暗箱，附数码相机机架装置端口）。 主要特点：ZF-2紫外透射反射分析仪的主要特点： ZF系列紫外射反射分析仪（配暗箱）是最新研制成功的新一代分析仪器。 本产品具有灵敏度高、使用方便、特别采用302NM波长对样品的破坏作用更小，是紫外分析仪的更新换代产品，它可适用于DNA、RNA电泳凝胶样品的观察，可检测蛋白质，核甘酸等，在制药工业中检查激素生物碱、维生素等能产生萤光的药品质量，对薄层分析，各种同功酶，纸层分析进行观察分析和摄影，并可作为PCR技术的专用仪器。 本仪器装有一组透射紫外光源供观察、分析和摄影用。并专门设计了一只暗箱，用户不需要暗室，即可对样品进行观察分析，暗箱上备有专门的相机安装装置，暗箱观察室上装有防紫外线玻璃，它滤去95%以上的紫外线。

产品简介：BSD-PB泡压法薄膜孔径分析仪，可准确测试滤膜、隔膜、织物、纤维、陶瓷、烧结金属等材料的通孔的最大孔径、最小孔径、平均孔径、孔径分布及渗透率，适用于研发、生产过滤材料及相关的科研单位和企业用户。BSD-PB泡压法薄膜孔径分析仪产品特点： 孔径测试范围：0.02-500um；多样品池设计针对不同尺寸样品，特殊样品可单独设计；具有全自动真空助润装置，可大大加速浸润时间，提高测试效率50%以上；根据待测样品不同，多种浸润液体可选；高精度双流量传感器，流量分段测量，量程互补，自动切换；高精度双压力传感器，分段压力测试，程序自动判断，自动切换；全不锈钢管路，金属硬密封，密封性好，耐压高，耐腐蚀；全程自动化智能化运行，无需人工值守，亲和的真人语音操作提示；详尽的仪器运行日志显示与记录，可精确到秒，全程实验记录可追溯；多项专利技术保障仪器稳定性和准确性； 气体流动法薄膜孔径分析仪测试理论： 以某种膜材料为例，将膜用可与其浸润的液体充分润湿，由于表面张力的存在，浸润液将被 束缚在膜的孔隙内；给膜的一侧加以逐渐增大的气体压强，当气体压强达到大于某孔径内浸润液的表面张力产生的压强时，该孔径中的浸润液将被气体推出；由于孔径越小，表面张力产生的压强越高，所以要推出其中的浸润液所需施加的气体压强也越高；同样，可知，孔径最大的孔内的浸润液将首先会被推出，使气体透过，然后随着压力的升高，孔径由大到小，孔中的浸润液依次被推出，使气体透过，直至全部的孔被打开，达到与干膜相同的透过率； 首先被打开的孔所对应的压力，为泡点压力，该压力所对应的孔径为最大孔径； 在此过程中，实时记录压力和流量，得到压力-流量曲线；压力反应孔径大小的信息，流量反应某种孔径的孔的多少的信息；然后再测试出干膜的压力-流量曲线，可根据相应的公式计算得到该膜样品的最大孔径、平均孔径、最小孔径以及孔径分布、透过率。气体流动法薄膜孔径分析仪专业制造商贝士德,测试精度高,重复性好,气体流动法薄膜孔径分析仪提供专业的售前技术支持和优质的售后服务.

薄膜相变分析仪是一款对相变材料相变特性进行测量与分析的精密光电仪器，可通过自动测量分析薄膜或者粉体等相变材料的热滞回线、相变温度、热滞宽度、相变幅度等特性参数。先进的模块化设计理念、精密的光探针技术、高端的进口芯片、便捷的自动测试分析软件、以及时尚的外观，使该仪器成为二氧化钒等相变材料研究的不二选择。中国科学院广州能源研究所，深圳大学等单位为典型用户。薄膜相变分析仪技术特点：1、精密光学测量技术，可进行单层、多层和超小样品的测量,且灵敏度更高2、非接触式信号采集，避免了接触式探针测量对样品的损伤和不稳定性缺点3、先进的光探针技术，使得采样范围最小直径可达300微米4、全自动一-键测量，操作简单，省时、省事5、超高采样速率1测量快速、准确，工作效率高6、触摸屏操作与电脑操作两种模式,测量随心所欲7、升温速率无级可调，根据实际需求任意选择8、与DSC测量相比，具有超高性价比9、科研型与基础型，满足不同需求技术规格1、仪器型号PTM17002、工作波长1550nm (特殊需要波长可定制)3、样品台温度范围:室温~120°C，温度精度+0.1°C4、采样频率1Hz5、最小采样范围直径300um6、红外非接触测温模式7、自然冷却与风冷两种降温模式8、加热速率无级可调9、设定参数后自动测量出薄膜相变的热滞回线10、USB2.0高速数据接口11、测试分析软件可得到相变温度、热滞宽度等特性参数12.可以Exce形式导出各原始测试数据和分析数据，以word形式导出测试分析报告

物理特性薄膜表征系统，高度集成且易于使用的测量平台。 薄膜的物理性质不同于大块材料，因为由于尺寸较小和高纵横比使寄生表面效应更强！ 增强表面散射的影响（a）附加边界散射（b）超薄层的量子约束（c） LINSEIS薄膜物性分析仪是表征各种薄膜样品优异测量工具。它是一种易于使用的独立系统，使用正在申请专利的测量系统设计，可提供高质量的结果。 组件 基本设置包括一个可以轻松沉积样品的测量芯片，以及提供所需环境条件的测量室。 根据应用，该设置可与锁定放大器和/或强电磁铁一起使用。 测量通常在UHV下进行，并且在测量期间使用LN2和强力加热器将样品温度控制在-170°C和280°C之间。 预制测量芯片 该芯片将用于热导率测量的3 ω技术与用于测量电阻率和霍尔系数的4点Van-der-Pauw技术相结合。 赛贝克系数可以使用位于Van-der-Pauw电极附近的附加电阻温度计来测量。 为了便于样品制备，可以使用剥离箔掩模或金属阴影掩模。 该配置允许几乎同时表征通过PVD（例如热蒸发，溅射，MBE），CVD（例如ALD），旋涂，滴铸或喷墨打印制备的样品。 该系统的一大优点是在一次测量运行中同时确定各种物理特性。所有测量都采用相同（平面内）方向，并且具有很高的可比性。 基本测量单元 ： 测量室，真空泵，带加热器的支架，电子颊侧装置，集成锁相放大器，3w方法分析软件，计算机和应用软件。可测以下物理参数： • λ - 热传导系数 (稳态法/平面内方向) • ρ - 电阻率 • σ - 电导率 • S - 赛贝克系数 • ε – 发射率 • Cp - 比热容 磁测量单元 可根据需求选择集成式电磁铁，可测物理参数如下： • AH - 霍尔常数 • μ –迁移率 • n -载流子浓度 薄膜材料性能有别于块体材料之处 - 因小尺寸和高纵横比所导致的表面效应如：边界散射和量子限域效应 *价格范围仅供参考，实际价格与配置等若干因素有关。如有需要，请拨打电话咨询（021-50550642；010-62237791）。我们定会将竭尽全力为您制定完善的解决方案。

一、概述 SR-C 紧凑型高精度反射膜厚仪，利用光学干涉原理，通过分析薄膜表面反射光和薄膜与基底界面反射光相干涉形成的反射光谱，快速准确测量薄膜厚度、光学常数等信息。■ 光学薄膜测量解决方案；■ 非接触、非破坏测量；■ 核心算法支持薄膜到厚膜、单层到多层薄膜分析；■ 是膜厚重复性测量精度：0.02nm■ 配置灵活、支持定制化二、产品特点■ 采用高强度卤素灯光源，光谱覆盖深紫外到近红外范围；■ 采用光机电高度整合一体化设计，体积小，操作简便；■ 基于薄膜层上界面与下界面的反射光相干涉原理，轻松解析单层薄膜到多层；■ 配置强大核心分析算法：FFT分析厚膜、曲线拟合分析法分析薄膜的物理参数信息；三、产品应用 反射膜厚仪广泛应用于各种介质保护膜、有机薄膜、无机薄膜、金属膜、涂层等薄膜测量。技术参数

反射/透射率积分球应用领域：材料的反射率/透射率测量不透明物体的反射率测试 浑浊样品的透射率测试颜色属性测试反射系统设计红外反射反射率与角度的关系 Labsphere的反射/透射率积分球可用于各种媒介的反射率和透射率测量。积分球内部涂料有两种选择：Spectraflect涂料，在300 – 2400 nm波长范围内效果较好；Infragold涂料适用于波长0.7 - 20 μm范围。 RT积分球有5个1英寸开口，可容纳样品和9°反射光束，在球的顶部有一个0.5英寸探测器口，镜面光束光阱用于去除镜面反射光束。 RTC积分球在RT积分球内增加了一个中心安装的样品架，用户可以针对一定角度测量反射率和透射率。积分球有5个开口可调节样品，顶部的中心安装平台装有参考光束，积分球底部有一个0.5英寸的探测器端口。 RT积分球和RTC积分球均能做任何几何角度测量。RT积分球可以测量镜面反射的9°/h结构和排出镜面反射9°/d结构；RTC除上述功能外还可测量变角度入射情况下的反射率。 积分球的开口处采用刀刃结构有助于收集大角度散射，挡板采用最小化设计，使得探测器能够非常大程度地看到球内壁表面。探测器口位于球的顶部和底部，使用挡板遮挡防止样品和参考口光束直接照射。RT-060-SF及RT-060-IG反射/透射率测试积分球 Labsphere的RT-060-XX积分球有5个1英寸的开口容纳样品和9°双光束结构结构中参考光束，也包括用于9°单光束结构测量中的端盖。两个1英寸的样品支架用于安装样品和反射/透射率标准板。积分球顶部具有0.5英寸的探测口，探测罩用以限制探测器视场范围。镜面光阱去除镜面反射光束。 积分球适合于镜面测量，包括非镜面反射测量，前散射和背散射测量，以及混浊或散射样品的透射率的测量。积分球的开口处采用刀刃形式有助于收集宽角度散射，阻挡效应可以最小化，允许有效的积分。为了保证高积分球效率，总开口面积应小于积分球表面积的5%。每个积分球拥有一个支架配件，由支杆底座和1/4-20支架组成，方便调节积分球的高度。 RTC-060-SF 和 RTC-060-IG反射率透射率积分球增加了中心样品架，方便用户测量反射率与辐射入射角度的关系，一些情况下，还能测透射率与辐射入射角度的关系。 RTC-060-IG 积分球具有5个开口来容纳样品和参考光束:三个1英寸、两个1.25英寸的开口。中心样品台安装在积分球的顶部，0.5英寸探测口在积分球底部。探测罩用于限制探测视场范围。 RTC 系列积分球配件包括四个样品架: 一个中心样品架，两个1.25英寸直径样品架和一个1英寸用于进一步灵活备用。中心样品架允许各种样品反射率与入射角度变化的测量。积分球包括颚式中心样品架，同时夹式和槽式中心样品架可供选择。颚式可以夹住1英寸*2英寸，最厚达0.38英寸的样品。夹式中心样品架设计用于薄膜或硬度不能承受颚式样品架的样品。夹式中心样品架可以夹住样品尺寸最大为1.50"x 2"x 0.125”的样品。槽式样品架为12.5平方毫米容器，可以承装液体和粉末，用于测试吸收和散射特性。订购信息及规格

QUASAR-R100 是一款体积小巧的光谱反射式膜厚、折射率测量仪器，操作简单，极易上手，应用广泛，快速准确的提供各种薄膜厚度的测量，如氧化物、氮化物、多晶硅、非晶硅、聚酰亚胺、透明导电层、光刻胶等介质薄膜、半导体薄膜以及各种涂层。产品特点 多参数测量可测量材料厚度、折射率（Refractive Index）、 消光系数（Extinction Coefficient）和反射率。 各种形状样品测量可测量例如4~8英寸的晶圆、方形样品或其他各种不规则形状样品。 软件功能丰富友善的用户界面以及灵活丰富的软件功能，各种丰富的数据分析及查看功能。 简单、易用测量流程简单，用户极易上手建立测量程式。 产品参数 ★Si基底上对厚度约500nm的SiO2薄膜样品连续测量30次数据的标准偏差 定制功能可根据客户需求搭配自动运动平台可根据客户需求配置小光斑

反射光谱膜厚仪SD-SR-100是一款专为薄膜厚度测量而设计的先进仪器。以下是对该产品的详细介绍：1. 测量范围与精度： - 该仪器能够测量从2纳米到3000微米的薄膜厚度，具有高达0.1纳米的测量精度。2. 测量功能： - 在折射率未知的情况下，SD-SR-100不仅可以测量薄膜的厚度，还能同时测量其折射率。 - 可用于测量半导体镀膜、手机触摸屏ITO等镀膜厚度、PET柔性涂布的胶厚、LED镀膜厚度、建筑玻璃镀膜厚度等多种应用场景。3. 测试原理： - 利用薄膜干涉光学原理进行厚度测量及分析。通过从深紫外到近红外可选配的宽光谱光源照射薄膜表面，探头同位接收反射光线，并根据反射回来的干涉光，用反复校准的算法快速反演计算出薄膜的厚度。4.软件支持： - 配备易于安装和操作的基于视窗结构的软件，界面友好，操作简便。 - 软件功能强大，支持多层膜厚的测试，并可对多层膜厚参数进行测量。 - 提供大量的光学常数数据及数据库，支持多种折射率模型，如Cauchy, Cauchy-Urbach, Sellmeier等。5. 特点与优势： - 先进的光学设计和探测器系统，确保系统性能优越和快速测量。 - 光源设计独特，具有较好的光源强度稳定性。 - 提供多种方法来调整光的强度，以满足不同测量需求。 - 配备微电脑控制系统，大液晶显示和PLC操作面板，便于用户进行试验操作和数据查看。 - 支持自动和手动两种测量模式，以及实时显示测量结果的较小值、平均值以及标准偏差等分析数据。6. 应用领域： - 广泛应用于医疗卫生、生物产业、农业、印刷包装、纺织皮革等多个行业，特别是在薄膜分析领域表现出色。综上所述，反射光谱膜厚仪SD-SR-100凭借其高精度、多功能和广泛的应用领域，成为薄膜厚度测量领域的理想选择。

FR-pOrtable:一款精准&性价比高的薄膜表征设备 FR-pOrtable（便携式FR） 是一款独特设备，为精准测试单层或者 多层的透明和半透明的薄膜的光学特性提供了关键解决方案。使用 者可以在350nm-1000nm的特殊光谱范围内完成薄膜反射比的测试。 特征分析： FR-pOrtable是由一个微型3648像素16位分辨率的光谱仪和一个 高稳定的白炽灯和LED组成的混合光源组成的，光源的平均寿命 20000h。其紧凑型的设计和定制的反射探头保证了性能测试的高精准性以及可重复性。并且，既可以安装在台面上，又可以转化为手持式的厚度测试仪，轻松实现便携实时操作。性能分析：1、 USB接口供电，无需电源线。2、 真正的便携，用探头检测样品。3、 采用软塑料头，适合野外应用。4、 占地小，可以在办公室内表征薄膜特性。5、 市场最低价。软件：FR-Monitor软件系统提供了多种应用和多种功能的能力。它不但能够实时的监测吸光率，透射率和反射率光谱，而且也包含了用于精准测试独立的薄膜厚度（10nm到100μm）和光学常数（n&k）的白光反射光谱法（WLRS）运算（ThetaMetrisis TM），支持（在透明或者部分透明或者全反射的衬底上）多层薄膜（10层）的测试。不需要高深的光学知识，只要有基本的电脑技巧、一台电脑，轻松实现膜厚测量！用户评论暂无评论发评论问商家白光干涉测厚FR-pOrtable的工作原理介绍白光干涉测厚FR-p

一、概述 SR-Mapping 系列利用反射干涉的原理进行无损测量，通过分析薄膜表面反射光和薄膜与基底界面反射光相干涉形成的反射谱，同时搭配R-Theta位移台，兼容6到12寸样品，可以对整个样品进行快速扫描，快速准确测量薄膜厚度、光学常数等信息，并对于膜厚均匀性做出评价。■ 光学薄膜测量解决方案；■ 非接触、非破坏测量；■ 核心算法支持薄膜到厚膜、单层到多层薄膜分析；■ 膜厚重复性测量精度：0.02nm■ 全自动测量，测量点数跟位置在Recipe中可根据需要编辑 ■ 采用高强度卤素灯光源，光谱覆盖紫外可见光到近红外范围；■ 采用光机电高度整合一体化设计，体积小，操作简便；■ 基于薄膜层上界面与下界面的反射光相干涉原理，轻松解析单层薄膜到多层；■ 配置强大核心分析算法：FFT分析厚膜、曲线拟合分析法分析薄膜的物理参数信息；三、产品应用 广泛应用于各种介质保护膜、有机薄膜、无机薄膜、金属膜、涂层等薄膜测量。技术参数

一,OBR 6225/6235 背光反射计 1546.7nm (测试长度20-500m)OBR 6200 系列是一款便携式、坚固耐用的超高分辨率反射仪，具有后向散射级灵敏度坚固耐用的电池供电集成系统，具有直观的触摸屏用户界面，非常适合现场维护应用。利用光学频域反射计（OFDR）技术，以亚毫米空间分辨率、高精度和高动态范围测量分布式回波损耗（RL）和插入损耗（IL）。OBR 6225 针对航空航天、海军、运输和工业应用中的短光纤网络进行了优化，而 OBR 6235 则非常适合数据中心环境。OBR 6235将测量长度范围扩展到500米，是数据中心互连精密测试的理想选择,用于中短光纤链路和组件的精确测试。OBR 6225/6235 背光反射计 1546.7nm (测试长度20-500m),OBR 6225/6235 背光反射计 1546.7nm (测试长度20-500m)产品特点完全便携且坚固耐用的OBR跟踪并分析回波损耗（RL）和插入损耗（IL）与长度的关系高精度测量长度和延迟空间采样分辨率低至80μm可提供IP65和MIL-STD认证产品应用&bull 现场光纤组件故障排除&bull 准确定位IL站点、高RL连接、光纤中断等。&bull 维护航空电子、航空航天、海军和工业网络&bull 验证数据中心互连的光纤长度&bull 光纤传感系统故障排除通用参数型号对比-OBR6225OBR6235通道数1 或 21采样分辨率（2 点） 0,080 毫米（@20 m 长）0.20毫米（@200 m 长）Max. 装置长度100 m、200 m 可选。500米中心波长1546.7nmRL 动态范围70dBOBR 6200系列以高分辨率绘制反射与长度的关系图，自动检测超过用户定义阈值的RL反射事件和IL位点OBR 6225参数表参数规格测量 光端口数量OBR 6225-11 portOBR 6225-22 ports测量长度模式20 m50 m100 m200 m1采样分辨率（两点）20.080 mm0.10 mm0.20 mm0.40 mm延迟/延迟测量精度5 ps10 ps20 ps40 ps波长扫描范围10 nm8 nm4 nm2 nm中心波长1546.7 nm测量时间10 s回波损耗测量RL动态范围370 dB总范围40 to -129 dB灵敏度4-129 dB分辨率 5± 0.1 dB精确5± 0.5 dB插入损耗测量IL动态范围，反射模式615 dB分辨率7± 0.1 dB精确7± 0.2 dBGeneral光输出功率4 mW电池3 h runtime 2 h charge time触摸屏显示器10.1”, 1280 x 800 resolution数据I/O端口USB-C, RJ45 Ethernet光学连接器OBR 6225-1FC/APC (SC/APC or FC/APC adapter patch cord)OBR 6225-2Sealed duplex FC/APC (FC/APC adapter patch cord)重量10.1 lb (4.6 kg)尺寸13.4 x 8.7 x 2.8 in (34 x 22 x 7 cm)环境军事认证（OBR 6225-2）MIL-STD-810G入口保护（OBR 6225-2）IP65电磁兼容性（OBR 6225-2）MIL-STD-461G工作温度-20 to 35 °C (0 to 35 °C charging)储存温度-20 to 60 °C工作高度0 to 2500 m (0 to 3000 m storage)CertificationsOBR 6225备注1.具有加长选项2.SMF-28中两个采样点之间的距离。3.最强反射大于-60dB和本底噪声之间的范围。4.Max. 长度的一半处的噪声基底回波损耗。5.以1cm的积分宽度测量。6.反向散射到达噪声基底之前的双向损耗和IL测量不再可能。7.分别以10 cm、12.5 cm、25 cm和50 cm的积分宽度对20 m、50 m、100 m和200 m模式进行测量。OBR 6235参数表参数规格测量光端口数量1 port测量长度模式100 m200 m500 m采样分辨率（两点）10.20 mm0.40 mm1.0 mm飞行时间延迟精度2± 0.1%波长扫描范围4 nm2 nm0.8 nm中心波长1546.7 nm测量时间10 s回波损耗测量RL动态范围370 dB总范围40 to -129 dB灵敏度4-129 dB分辨率5± 0.1 dB精确5± 0.5 dB插入损耗测量IL动态范围，反射模式615 dB分辨率7± 0.1 dB精确7± 0.2 dBGeneral光输出功率4 mW电池运行时间3 h电池充电时间2 h触摸屏显示器10.1”, 1280 x 800 resolution数据I/O端口USB-C, RJ45 Ethernet光学连接器FC/APC重量10.1 lb (4.6 kg)箱子尺寸13.4 x 8.7 x 2.8 in (34 x 22 x 7 cm)环境工作温度-20 to 35 °C (0 to 35 °C charging)储存温度-20 to 60 °CCertificationsOBR 6235备注1.SMF-28中两个采样点之间的距离。2.保证了维安内部NIST可追踪的HCN气体电池的准确性。3.最强反射大于-60dB和本底噪声之间的范围。4.Max. 长度的一半处的噪声基底回波损耗。5.以1cm的积分宽度测量。6.反向散射到达噪声基底之前的双向损耗和IL测量不再可能。7.分别在100米、200米和500米模式下，以25厘米、50厘米和125厘米的积分宽度进行测量。二,光矢量分析仪 Luna OVA 5000/5100 (C、O和L波段 损耗、色散和偏振测量仪)Luna OVA 5000是用于现代光网络设备的损耗、色散和偏振测量的快、准确、经济的工具。它是单连接、全参数表征光纤组件的理想设备，从耦合器到特种光纤，以及介于两者之间的一切（光纤布拉格光栅、阵列波导光栅、自由空间滤波器、可调谐器件、放大器等），所有这些只需要可调谐激光器的一次扫描.Luna Innovations正在推出OVA 5100产品，包括用于C和L波段的OVA 5100型号，以及用于O波段操作的OVA 5113。OVA 5100是具有同等功能和性能的OVA 5000系统的直接替代品。除了提供更便携的外形外，OVA 5100还代表了Luna对质量的承诺，并持续提供光学矢量分析仪（OVA）的不一样功能。光矢量分析仪 Luna OVA 5000/5100 (C、O和L波段 损耗、色散和偏振测量仪),光矢量分析仪 Luna OVA 5000/5100 (C、O和L波段 损耗、色散和偏振测量仪)产品特点&bull 对长度不超过150 m的设备进行单次测量、全参数分析&bull 在不到3秒的时间内对无源器件进行quan面表征&bull 完全偏振响应&bull 单次扫描，同时测量完整的参数范围--插入损耗（IL）--偏振相关损耗--偏振模色散（PMD）和二阶PMD--色散（CD）--组延迟（GD）--光时域响应--Jones矩阵元素--光学相位响应&bull 高分辨率C和L波段（OVA 5000）或O波段（OVA 5013）能力&bull 实时测量&bull 用户友好界面产品应用&bull 分析平面光电路和硅光子器件&bull 表征光纤组件&bull 测量频谱响应和时延响应&bull 通过完整的传递函数改进设备模拟和模型通用参数型号OVA 5100OVA 5100 (C & L band) OVA 5113 (O band)OVA 5000OVA 5000 (C & L band) OVA 5013 (O band)图片 机箱尺寸36.6 x 34.5 x 16.5 cm(14.4 x 13.6 x 6.5 in)47 x 42 x 21 cm(18.6 x 16.5 x 8.1 in)重量11.4 kg (25 lb)16.2 kg (35.8 lb)功能和规格等效的功能、软件、性能规范和配置。产品状态建议新购买维护模式 OVA 5100–OVA 5000的新外壳和名称Luna OVA 5100本质上是一款OVA 5000，封装尺寸较小，并进行了一些内部更新，以提高其可制造性和长期可支持性。在功能上，OVA 5100/5113系统是OVA 5000/5013的替代品，具有同等的功能、规格、功能和软件。OVA 5000/5013的所有选项均适用于OVA 5100/5113，零件号不变。重要可能影响系统与客户应用程序集成的变化将是系统的物理尺寸和重量的减少。维护OVA 5000和OVA 5013OVA 5000和OVA 5013型号已进入维护模式，这意味着Luna将继续全力支持和服务这些系统，并遵守产品保修。通过1次扫描，OVA 5000可以同时测量光子器件和子系统的完整传递函数。此屏幕显示IL和组延迟与波长的关系。参数快速模式 1平均模式 2单位OVA 50001525 - 1610nmOVA 50131270 - 1340nm波长:分辨率1.61.6pm精度3±1.5±1.5pm重复精度±0.1±0.1pm光学相位误差:30 m mod±0.05±0.0075radians损耗特性:动态范围6080dB纹波4±0.05±0.01dB分辨率±0.05±0.002dB插损精度±0.1±0.05dB回损精度±0.2±0.1dB色散:精度±10±5Ps/nm群延迟:量程(Range) 366ns精度±0.2±0.1ps损耗范围44560dBPMD:量程566ns精度（一阶）±0.03 (100pm steps)±0.15 (30pm steps)±0.08ps精度（二阶）±10±2ps损耗范围44050dBPDL:消光比4050dB精度±0.05±0.03dB测量速度:激光扫描速度7070nm/s全参数测量速度63030ms/nm全规格扫描速度71255s实时刷新率1NAHzMax. 测试长度:透射150150meters反射7575meters物理:重量16.2411.4 (5100新款)kg操作功率100W1级激光器10mW规格(W*D*H)470 X 420 X 21366 x 345 x 165 (5100新款)mm1.快速模式：无平均校准扫描，4次平均测量扫描，30 pm分辨率带宽，8 m设备长度（使用NIST认证的人工制品验证精度，IL除外）。高动态范围选项已启用。2.平均模式：4次平均校准扫描，64次平均测量扫描，30 pm分辨率带宽，8 m设备长度（使用NIST认证的人工制品验证精度，IL除外）。高动态范围选项已启用。3.由NIST内部可追踪的HCN气室保持精度。IL、GD和PMD在“平均模式”下的4.80、60和50 dB动态范围已安装并启用“高动态范围”选项。5.指出可以捕获的总设备脉冲响应持续时间。6.根据每次扫描的组合激光扫描和分析时间计算的速率。7.在快速模式（Fast Mode）：40 nm范围和平均模式（Average Mode）：2.5 nm范围内进行全规格测量（见注释4）。不包括校准时间。单次扫描中的完整特征OVA 5000quan面分析集成光子器件和子系统的光学特性，提供quan面的表征一次扫描和一次连接。OVA 5000使用干涉测量法直接测量线性传递函数（Jones矩阵），并同时测量其在每个波长下的四个复数元素。根据该数据，所有标准线性参数测量，包括IL、RL、GD、CD、PMD和PDL，都可以以z高的动态范围和可用的精度进行提取。其结果是实现了极其快速、高分辨率和精确的器件表征，是硅光子学和其他集成光子学器件的理想选择。高分辨率“零死区”反射计OVA 5000还可以作为具有光学频域反射计（OFDR）选项的高分辨率反射计进行操作。具有OFDR选项的OVA 5000可提供20μm采样分辨率、“零死区”和高灵敏度（95 dB）的反射计测量。使用此选项，您可以轻松“向内看”微型光子器件，并在波导内通常发生的规模上区分反射事件和杂质。完全偏振分析通过可选的偏振分析软件插件，OVA 5000可以测量、计算和显示光学组件对模拟输入偏振态的响应，从而消除了偏振对准的繁琐和困难任务。该软件显示插入损耗、群延迟和对用户定义的输入极化状态的脉冲响应。易于使用的滑块允许用户将模拟输入偏振调整到任何所需状态。anlaysis软件还绘制了偏振主态（PSP）的Min. 和Max. 插入损耗、群延迟和色散，以及偏振平均量（IL、GD、CD等），PMD、PDL、Jones矩阵元素和时域信息。使用单一仪器进行quan面表征OVA 5000是业界重要一款通过单次连接和单次高速测量扫描测量光学组件完整光谱和时间延迟响应的仪器。OVA 5000简化了测试设置，缩短了测试时间通过将多个光学仪器和组件的功能集成到单个仪器中。用单个OVA 5000替换所有这些仪器。型号说明型号 Description IncludesOVA 5000光学矢量分析仪，1525 nm-1610 nm用于C和L波段的OVA 5000主机、OVA软件、仪器控制器（工作站级笔记本电脑或台式电脑）和配件套件。OVA 5013光学矢量分析仪，1270 nm-1340 nm用于O波段的OVA 5000主机、OVA软件、仪器控制器（工作站级笔记本电脑或台式电脑）和配件套件。OPT02003桌面分析软件提供OVA 5000所有分析和数据可视化的软件，仅使用保存的OVA测量数据文件。OPT02004OFDR选项用于执行高分辨率反射测量的光学频域反射计（OFDR）软件。OPT02005极化分析软件分析对模拟输入极化状态的响应。OPT02006扩展的动态范围启用增强的动态范围（请参阅性能表）。 OPT02007自定义软件开发工具包带有允许自定义GUI开发的DLL的SDK工具包。三,OBR 4600背光反射计 O、C和L波段 (2000m测量长度 10um空间分辨率 适用实验室)光学后向散射反射仪(Optical Backscatter Reflectometer) Luna OBR 4600是Luna屡获殊荣的光学后向反射仪TM产品线的一部分。OBR 4600专为组件和短期网络测试和故障排除而设计，可实现具有反向散射水平灵敏度的超高分辨率反射计。OBR 4600具有低至10微米的采样分辨率、零死区、极低的噪声基底，以及扩展范围和分布式温度和应变传感的选项，提供了行业优秀的反射计技术，使您能够所未有地“看到”您的组件和系统内部。OBR 4600背光反射计 O、C和L波段 (2000m测量长度 10um空间分辨率 适用实验室),OBR 4600背光反射计 O、C和L波段 (2000m测量长度 10um空间分辨率 适用实验室)产品特点&bull “Zero Dead Zone零死区”反射计&bull 以10μm采样分辨率测量30 m&bull 80 dB动态范围&bull 后向散射级灵敏度（-130 dB）&bull 高速扫描（1 m段，z高3 Hz）&bull 增程提供2公里无死区的续航里程&bull 测量IL、RL、分布损耗、距离、极化状态、相位导数和群延迟&bull 高分辨率C和L波段（OBR 4600）或O波段（OBR-4613）能力产品应用方便地定位及诊断光纤的弯折、熔接、连接头及断裂等各类故障定位各点的插损,对小型化组件所未有的可见性轻松定位、识别和排除宏观弯曲、拼接、连接器和断裂,深入期间内部，评估每个接口的RL和IL,将IL点定位在网络或组件中的每个点上——消除削减(assembly – eliminate cutbacks)7秒内以10微米的分辨率完成30米的测量以3Hz的频率连续测量1米的范围可测试并定位2千米的光纤网络故障光纤组件的自动检验器件或模块内温度及应力的监测光纤或无源器件的故障定位光纤温度传感、光纤应力传感通用参数型号对比参数OBR 5T-50OBR 4200OBR 4600系列波长范围1546.69nm1542±2nm(OBR 4613) 1270-1340nm(OBR 4600) 1525-1610nm灵敏度 dB-125-125-130空间分辨率 mm0.021.50.01插损动态范围 dB101618回损动态范围 dB655070相位测量功能无无有传感功能无无有Max. 测量长度 m8.5(可延长到16)5002000测试时长 s0.084(8.5m)3.8(10m)6(30m)点扫描模式点扫描模式允许扫描被测设备的任何1米或2米区域，从而缩短测量时间和更小的数据文件。下表中的速率用于以100nm/s的激光调谐速度进行的测量。点扫描测量速率Mode-30 m mode70 m modeExtended Range (2000 m)扫描的子区域-1 or 2 m1 or 2 m80 m波长范围3.2 nm--0.15 Hz5 nm3.7 Hz2.9 Hz-20 nm1.8 Hz1.2 Hz-80 nm0.5 Hz--z佳采样分辨率10 μm20 μm0.25 mm示例应用硅光子器件构建在硅光子平台上，代表了一种高水平的功能，可小型化为极高的封装密度。OBR 4600的高空间分辨率和高灵敏度提供了以非常高的细节水平查看设备内部的能力。例如，UCSB的光电子研究小组在硅平台上制造了一条一米长的螺旋延迟线。OBR 4600用于测量光子集成电路（PIC）内部的分布损耗，该电路的尺寸仅为1cm2。波导的水平部分在螺旋上的扫描如左下图所示。波导交叉点间隔仅50微米，清晰可见。1米的螺旋波导显示在扫描波导中，与下面的螺旋环交叉。右图清楚地显示了一米螺旋上的分布损耗，包括水平波导交叉处的散射。OBR 4600背光反射计参数表参数规格指标单位Max. 测量长度:标准模式30或70meters长量程模式2000meters空间分辨率（两点间）1:10um(30米内)um20um（70米内）mm1mm（2000米内）mm死区:等于两点间的空间分辨率波长范围2：1270-1340 或 1525-1610nm波长分辨率（Max. ）0.02pm精度3±1.5pm回损:动态范围470dB总范围0~-125dB灵敏度-130dB分辨率± 0.05dB回损精度± 0.1dB插损:动态范围518dB分辨率± 0.05dB插损精度± 0.10dB群延时:精度1.0ps分布式传感6:空间分辨率±1.0cm温度精度7±0.1℃应力精度7±1.0μstrain测量时间8:标准模式快速扫描11定点模式115nm扫描时间31.60.3s时间与扫描波长速度2.1s+0.14s/nm1.3s+0.06s/nm0.15s+0.02s/nm长量程（2km）扫描时间20s所有参数适用于单模光纤。对于多模光纤，参数仅为名义值1. 在整个长度内。2. 名义范围。3. 精度由内置的、NIST可追溯的HCN气室来保证。4. 对于2千米的选项，回损动态范围是60dB。5. 这个插损动态范围是在标准的单模光纤散射水平（~-100dB/mm）低于背景噪声（~-118dB/mm）前的单程损耗。分布式传感分布式传感作为一种选择，允许您使用OBR 4600通过分析标准现成光纤固有的瑞利散射来检测和监测连续应变和温度，用户指出的空间分辨率低至0.32毫米。或者，Luna ODiSI平台针对传感应用进行了优化，并提供易于使用的，可重复和稳健的传感器测量解决方案。具有分布式传感选项的OBR 4600在需要额外灵活性和定制的专业或研究应用中te别有用。型号说明Catalog #DescriptionIncludesOBR 4600光学后向散射反射计，1525 nm-1610 nmOBR 4600主机，适用于C和L波段和标准长度模式（30米和70米），仪器控制器（工作站级笔记本电脑）和配件套件。OBR 4613光学后向散射反射计，1270 nm-1340 nm用于O波段和标准长度模式（30米和70米）的OBR 4600主机、仪器控制器（工作站级笔记本电脑）和配件套件。OPT060092000m测量扩展型号可选择扫描长度不超过2km、样本间距为1mm的设备。OPT06004桌面分析软件仅使用保存的OBR测量数据文件，提供OBR 4600的所有分析和数据可视化的软件。OPT06008自定义软件开发工具包带有允许自定义GUI开发的DLL的SDK工具包。四,OBR 5T-50 背光反射计 1546.69nm (8.5m或16m测量长度 适用生产线)光学后向散射反射仪TM OBR 5T-50是一款快速、简单易用、低成本的精密反射仪，可测量无源光学组件和模块（包括PLC、光缆、连接器、开关、耦合器等）的插入损耗（IL）和回波损耗（RL）分布。该仪器利用扫频干涉测量法测量作为距离函数的后向散射光，灵敏度为-125 dB，采样分辨率为20微米。OBR 5T-50通过使用单个仪器测量RL、IL和长度，降低了成本和复杂性，同时提高了测试吞吐量。OBR 5T-50 背光反射计 1546.69nm (8.5m或16m测量长度 适用生产线),OBR 5T-50 背光反射计 1546.69nm (8.5m或16m测量长度 适用生产线)产品特点业界优秀的测量速度、范围、精度和分辨率组合&bull 12 Hz采集速率&bull 8.5米测量范围&bull 0.0034%的飞行时间延迟精度&bull 20微米采样分辨率包括简化的用户界面和软件开发工具包（SDK）&bull 通过定制界面优化吞吐量自动定位反射事件并生成RL、IL和事件位置产品应用&bull 故障定位-自动RL、IL和长度测量&bull 亚皮秒分辨率的倾斜测量&bull 精密光缆和连接器&bull PLC和波导设备&bull 耦合器、开关和分束器&bull 实时光学对准通用参数型号对比参数OBR 5T-50OBR 4200OBR 4600系列波长范围1546.69nm1542±2nm(OBR 4613) 1270-1340nm(OBR 4600) 1525-1610nm灵敏度 dB-125-125-130空间分辨率 mm0.021.50.01插损动态范围 dB101618回损动态范围 dB655070相位测量功能无无有传感功能无无有Max. 测量长度 m8.5(可延长到16)5002000测试时长 s0.084(8.5m)3.8(10m)6(30m)OBR 5T-50参数表参数单次扫描10次扫描单位长度:Max. 测量长度8.5meters空间分辨率 120um长度测量精度 2±0.034%死区:Dead zone20um波长:波长范围40nm波长精度 21.5pm中心波长1546.69nm回损:动态范围6065dB回损量程-14~-120-14~-125dB灵敏度-120-125dB分辨率± 1.0± 1.0dB回损精度± 1.0dB插损:动态范围1015dB分辨率± 0.5dB插损精度± 0.5dB扫描速度:12HzMax. 光功率:8mW其他:光纤接头FC/APC重量7.85kg规格(W*D*H)360 x 320 x 170mmMax. 功耗50W1.SMF-28中沿长度轴的两个采样点之间的距离。2.通过NIST内部可追溯的HCN气室保证准确度。3.最强反射大于-30 dB和本底噪声之间的范围。4.Max. 长度的一半处的噪声基底回波损耗。5.以1cm的积分宽度测量。6.反向散射到达噪声基底之前的双向损耗和IL测量不再可能。7.以10cm的集成宽度测量。基于MEMS的光开关的回波损耗与长度测量。前两个反射相距5.0毫米。该测量是以20微米的采样分辨率记录的。业界优秀的测量速度、范围、精度和分辨率组合五,OBR 4200 便携式背光反射计 1542±2nm (最大测量500m 用于外场施工)Luna OBR 4200是业界一款具有反向散射灵敏度( backscatter-level sensitivity)的便携式超高分辨率反射计，旨在测试短网络。在一个小型、坚固、易于运输的平台中，OBR 4200能够“查看”500米外光纤组件或网络中的任何事件，无死区，分辨率为毫米。OBR 4200在便携式平台中具有业界优秀的灵敏度和分辨率，是光纤网络制造、现场检查和故障排除的最终工具。Luna OBR 4200为光纤模块和短期网络的制造商和安装商提供了所未有的现场便携式诊断功能。1OBR 4200 便携式背光反射计 1542±2nm (最大测量500m 用于外场施工),OBR 4200 便携式背光反射计 1542±2nm (最大测量500m 用于外场施工)产品特点＜3毫米空间分辨率500米测试长度内无死区-120dB的灵敏度0.1dB的插损分辨率OBR4200为光纤模块及短程网络的制造商和安装者提供了前未有的现场诊能力。产品应用光纤或无源器件的故障定位及检验光纤网络故障的现场诊断及排查光纤组件、连接器和短程网络的品质检验方便地定位及诊断光纤的弯曲、熔接、连接头及断裂等各类故障定位各点的插损，可节省大量故障排查时间光纤组件的多点位回损检验或光纤带缆的同步检验可用户自定义的用于光纤组件合格检验的图形界面软件开发工具（GUI SDK）光纤组件的自动检验器件或模块内温度及应力的监测通用参数型号对比参数OBR 5T-50OBR 4200OBR 4600系列波长范围1546.69nm1542±2nm(OBR 4613) 1270-1340nm(OBR 4600) 1525-1610nm灵敏度 dB-125-125-130空间分辨率 mm0.021.50.01插损动态范围 dB101618回损动态范围 dB655070相位测量功能无无有传感功能无无有Max. 测量长度 m8.5(可延长到16)5002000测试时长 s0.084(8.5m)3.8(10m)6(30m)OBR 4200参数表参数规格指标单位Max. 测量长度:0~500meters空间分辨率:低分辨率高分辨率事件分辨率(Event resolution)1＜50＜3Mm采样分辨率250.3mm中心波长3:1542±2nm回损:动态范围450dB总范围-10~-120dB灵敏度-120dB分辨率5± 0.2dB回损精度5± 0.4dB插损:动态范围616dB分辨率5± 0.1dB插损精度5± 0.2dB扫描速度:低分辨率高分辨率每次扫描前有2.6秒间隔时间0.010.12s/m光学输出:接口类型FC/APC输出功率10W输出条件标准单模光纤，可通过模式调节器来获得多模输出环境:工作温度0~40℃储存温度-20~60℃电源7电池续航时间5hr电池充电时间5hr规格重量规格8.5(L) x 10.7(W) x 3.85(H)in重量9.8lbs所有参数适用于单模光纤。多模光纤的测量需要通过模式调节器来获得。1. 50米长的SMF-28e光纤中14.5dB的FWHM峰宽，峰宽随着距离和模态分散的增加而增加。2. 轴向上两个采样点之间的距离。3. 扫描了以此为中心的3纳米宽的波长范围。4. 比最强反射大-30dB和背景噪声之间的范围。5. 2米整合宽度下的测量。6. 在散射达到背景噪声前的可允许的双程损耗和插损的测量将不再可能。7. 便携计算机的电池续航能力及充电时间，请参看便携计算机的数据手册。损耗测试上图：具有弯曲损耗和拼接损耗的光纤线束的OBR 4200测量下图：连接前7厘米处易于区分的弯曲损耗公司简介筱晓(上海)光子技术有限公司是一家被上海市评为高新技术企业和拥有上海市专精特新企业称号的专业光学服务公司，业务涵盖设备代理以及项目合作研发，公司位于大虹桥商务板块，拥有接近2000m² 的办公区域，建有500平先进的AOL(Advanced Optical Labs)光学实验室，为国内外客户提供专业技术支持服务。公司主要经营光学元件、激光光学测试设备、以及光学系统集成业务。依托专业、强大的技术支持，以及良好的商务支持团队，筱晓的业务范围正在逐年增长。目前业务覆盖国内外各著名高校、顶级科研机构及相关领域等诸多企事业单位。筱晓拥有一支核心的管理团队以及专业的研发实验室，奠定了我们在设备的拓展应用及自主研发领域坚实的基础。主要经营激光器/光源半导体激光器（DFB激光器、SLD激光器、量子级联激光器、FP激光器、VCSEL激光器）气体激光器（HENE激光器、氩离子激光器、氦镉激光器）光纤激光器（连续激光器、超短脉冲激光器）光学元件光纤光栅滤波器、光纤放大器、光学晶体、光纤隔离器/环形器、脉冲驱动板、光纤耦合器、气体吸收池、光纤准直器、光接收组件、激光控制驱动器等各种无源器件激光分析设备高精度光谱分析仪、自相关仪、偏振分析仪，激光波长计、红外相机、光束质量分析仪、红外观察镜等光纤处理设备光纤拉锥机、裸光纤研磨机 。

产品简介：SR-C系列紧凑型高精度反射膜厚仪，利用光学干涉原理，通过分析薄膜表面反射光和薄膜与基底界面反射光相干涉形成的反射谱，快速准确测量薄膜厚度、光学常数等信息。反射膜厚仪广泛应用于各种介质保护膜、有机薄膜、无机薄膜、金属膜、涂层等薄膜测量。 产品型号SR-C系列紧凑型高精度反射膜厚仪主要特点1、光学薄膜测量解决方案2、非接触、非破坏测量3、覆盖单层到多层薄膜4、核心算法覆盖薄膜到厚膜5、配置灵活、支持定制化6、采用高强度卤素灯光源，光谱覆盖可见光到近红外范围7、采用光机电高度整合一体化设计，体积小，操作简便8、基于薄膜层上界面与下界面的反射光相干涉原理，轻松解析单层薄膜到多层9、配置强大核心分析算法：FFT分析厚膜、曲线拟合分析法分析薄膜的物理参数信息技术参数型号SR-CVSR-CN基本功能获取薄膜厚度值以及R、N/K等光谱光谱波长范围380-800nm650-1100nm测量厚度范围50nm-20um100nm-200um测量时间1s光斑尺寸0.5-3mm重复精度0.1nm（100nmSiO2/Si）绝对精度±1nm or 0.5%入射角方式垂直入射可选配件1温控台2Mapping扩展模块3真空泵

产品特点： ? 非接触式、不破坏样品的光干涉式膜厚计。? 高精度、高再现性测量紫外到近红外波长反射率光谱，分析多层薄膜厚度、光学常数（n：折射率，k消光系数）。? 宽阔的波长测量范围。（190nm-1100nm）? 薄膜到厚膜的膜厚测量范围。（1nm~250μm）? 对应显微镜下的微距测量口径。产品规格： 标准型厚膜专用型膜存测量范围1nm~40μm0.8μm~250μm波长测量范围190~1100nm750~850nm感光元件PDA 512ch（电子制冷）CCD 512ch（电子制冷）PDA 512ch（电子制冷）光源规格D2（紫外线）、12（可见光）、D2+12（紫外-可见光）12（可见光）电源规格AC 100V±10V 750VA（自动样品台规格）尺寸4810（H）×770（D）×714（W）mm（自动样品台规格之主体部分）重量约96kg（自动样品台规格之主体部分） 应用范围： FPD -LCD、TFT、OLED（有机EL）半导体、复合半导体 -矽半导体、半导体镭射、强诱电、介电常数材料资料储存 -DVD、磁头薄膜、磁性材料光学材料 -滤光片、抗反射膜平面显示器 -液晶显示器、膜膜电晶体、OLED薄膜 -AR膜其他 -建筑用材料测量范围： 玻璃上的二氧化钛膜厚、膜质分析

产品特点： ? 非接触式、不破坏样品的光干涉式膜厚计。? 高精度、高再现性测量紫外到近红外波长反射率光谱，分析多层薄膜厚度、光学常数（n：折射率，k消光系数）。? 宽阔的波长测量范围。（190nm-1100nm）? 薄膜到厚膜的膜厚测量范围。（1nm~250μm）? 对应显微镜下的微距测量口径。产品规格： 标准型厚膜专用型膜存测量范围1nm~40μm0.8μm~250μm波长测量范围190~1100nm750~850nm感光元件PDA 512ch（电子制冷）CCD 512ch（电子制冷）PDA 512ch（电子制冷）光源规格D2（紫外线）、12（可见光）、D2+12（紫外-可见光）12（可见光）电源规格AC 100V±10V 750VA（自动样品台规格）尺寸4810（H）×770（D）×714（W）mm（自动样品台规格之主体部分）重量约96kg（自动样品台规格之主体部分） 应用范围： FPD -LCD、TFT、OLED（有机EL）半导体、复合半导体 -矽半导体、半导体镭射、强诱电、介电常数材料资料储存 -DVD、磁头薄膜、磁性材料光学材料 -滤光片、抗反射膜平面显示器 -液晶显示器、膜膜电晶体、OLED薄膜 -AR膜其他 -建筑用材料测量范围： 玻璃上的二氧化钛膜厚、膜质分析

缎带型Langmuir/LB膜分析仪1. 产品简介KSV NIMA为瑞典百欧林科技有限公司旗下的子品牌之一，主要经营方向为单分子层薄膜的构建与表征工具。缎带型Langmuir/LB（Langmuir-Blodgett）膜分析仪为KSV NIMA自主研发的一款单分子层膜的制备和表征设备。与常规型的L/LB膜分析仪相比，KSV NIMA L/LB缎带型膜分析仪可以提供更高的表面压力。使用缎带取代滑障，可以制备更规整的单分子层膜，同时更高的堆积密度，可以提供许多新的应用前景。缎带型Langmuir/LB膜分析仪主要有两款：缎带型Langmuir膜分析仪和缎带型LB膜分析仪。通过简单的更换槽体，任何KSV NIMA Langmuir或LB膜分析仪均可更换为缎带型膜分析仪，同理也可将缎带型膜分析仪更换为常规型。2. 工作原理位于气-液或液-液界面处不可溶的功能性分子、纳米颗粒、纳米线或微粒所形成的单分子层可定义为Langmuir膜。这些分子能够在界面处自由移动，具有较强的流动性，易于控制其堆积密度，研究单分子层的行为。将材料沉积在浅池（称顶槽）中的水亚相上，可以得到Langmuir膜。在滑障的作用下，单分子层可以被压缩。表面压力即堆积密度可以通过Langmuir膜分析仪的压力传感器进行控制。在进行典型的等温压缩测试时，单分子层先从二维的气相(G)转变到液相(L)最后形成有序的固相(S)。在气相中，分子间的相互作用力比较弱；当表面积减小，分子间的堆积更为紧密，并开始发生相互作用；在固相时，分子的堆积是有序的，导致表面压迅速增大。当表面压达到最大值即塌缩点后，单分子层的堆积不再可控。图1 单分子层膜状态受表面压力增加的影响缎带型Langmuir/LB膜分析仪几乎与常规型的膜分析仪的工作原理一致，唯一的区别是缎带型Langmuir/LB膜分析仪的压缩机理为缎带，而常规型的为滑障。缎带插入亚相中，将单分子层封闭起来，提供完美的膜限制空间。KSV NIMA缎带型膜分析仪的机理如下：图2 缎带型Langmuir/LB膜分析仪工作原理：1. 压缩； 2. 扩张3. 技术参数3.1 缎带式LB膜分析仪（KN 2005）1. 槽体材质：固体烧结，无孔PTFE材质，快速限位孔固定，可拆卸清洗或更换为多种其他功能性槽体，含双侧导流槽，内置水浴系统接口2. 框体特性：33 mm槽体高度调节，天平可XYZ三维定位调节，含安全限位开关，含搅拌、pH测量、样品注射辅助系统等接口3. 系统设计：模块化设计，可独立进行表面压测量和镀膜实验，可原位进行表面红外、表面电势、布鲁斯特角图像、界面剪切等测试 4. 总槽体表面积： 322 cm2 5. 最大扩展槽体表面积： 148.4 cm2 6. 最小压缩槽体表面积： 40.5 cm2 7. 滑障速度: 0.1-270 mm/min8. 滑障速度精度: 0.1 mm/min9. 测量范围：0-300 mN/m（铂金板）；0-1000 mN/m（铂金棒）10. 天平最大负荷: 1 g11. 天平定位调节： 360° x 110mm x 45 mm（XYZ）12. 传感精度: 0.1μN/m13. 表面压测试元件： 标准Wilhelmy白金板，W19.62 x H 10mm，符合EN 14370:2004国际标准。其他选项：Wilhelmy白金板（W10 x H10 mm）、液/液Wilhelmy铂金板（W19.62 x H7 mm）、Wilhelmy纸板、白金棒14. 总亚相容积：387 ml15. 测试槽（过吊带中线）亚相容积：226 ml16. 镀膜井尺寸：20 x56 x 65 mm（长 x 宽 x高）17. 最大基材尺寸：3 x 52 x63 mm或2英寸 18. 最大镀膜冲程： 80 mm19. 镀膜速度：0.1 – 108 mm/min20. 电源： 100...240 VAC21. 频率： 50...60 Hz4. 产品优势及亮点4.1 产品优势1. 专为极度精确测试设计的超敏感表面张力传感器。铂金属板，铂金属棒及纸板都可用作探针以满足不同的需求。2. 开放性的设计便于槽体在框架上的放置及不同槽体的快速更换，同时便于清洗槽体表面。3. 当需要清洁或更换新槽体时，槽体在框架上的拆卸/放置极其方便。4. Langmuir-Blodgett/Langmuir槽体是由便于清洁、可靠耐久的整块纯聚四氟乙烯构成，其独特的设计能够防止槽体和镀膜井发生泄漏，同时避免了使用胶水及其他封装材料造成的潜在污染。5. 对称缎带压缩为标准的均匀压缩方法。6. 居中的镀膜井有利于单分子层LB沉积的均一性。7. 通过外部循环水浴对铝制底板进行加热/冷却，以控制亚相的温度（水浴为分开销售）。8. 通过调整框架撑脚，可快速而准确地校准槽体水平。当需要放置显微镜时，框架撑脚也可很容易地从槽体上拆除。4.2 产品亮点4.2.1 联用或相关分析技术本产品可与界面红外反射吸收光谱仪(PM-IRRAS)，布鲁斯特角显微镜(BAM)，界面剪切流变仪（ISR），荧光显微镜，X射线等光学表征技术联用或对样品进行后续分析。具体如：1. 红外反射吸收光谱(KSV NIMA PM-IRRAS)2. 石英晶体微天平(Q-Sense QCM-D)3. 表面等离子共振仪4. 电导率测量仪5. 紫外可见吸收光谱仪6. 原子力显微镜7. X射线反射器8. 透射电子显微镜9. 椭圆偏振仪10. X射线光电子能谱仪等4.2.2 本公司可提供联用仪器简介1. 界面红外反射吸收光谱仪（PM-IRRAS）带极化模块的界面红外反射吸收光谱仪主要用来决定分子的取向和化学组成。2. 布鲁斯特角显微镜（BAM）可进行薄膜的均一性、相行为和形貌的单分子层成像和光学观测。3. 表面电位测量仪（SPOT）使用无损振荡板式电容技术来监测薄膜的电位变化，从而对单分子层的电学性质进行表征。提供堆积密度和取向等信息，可对任何Langmuir等温测试进行补充。4. 界面剪切流变仪（ISR）这种独特的剪切流变仪可以测量界面处的粘弹性。适用于气-液或油-水的研究，在控制表面压的同时，可对粘弹性进行分析。5. 产品应用5.1 应用范围l 生物膜及生物分子间的相互作用? 细胞膜模型（如：蛋白质与离子的相互作用）? 构象变化及反应? 药物传输及行为l 有机及无机涂料? 具有光学、电学及结构特性的功能性材料? 新型涂料:纳米管、纳米线、石墨烯等l 表面反应? 聚合反应? 免疫反应、酶-底物反应? 生物传感器、表面固定催化剂? 表面吸附和脱附l 表面活性剂及胶体? 配方科学? 胶体稳定性? 乳化、分散、泡沫稳定性l 薄膜的流变性? 扩张流变? 界面剪切流变（与KSV NIMA ISR 联用）5.2 客户发表成果（部分）1. Q. Guo et al., J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 630-631. (IF= 11.444)2. Kumaki et al., Macromolecules 1988, 21, 749-755. (IF= 5.927)3. S. Sheiko et al., Nature Materials 2013, 12, 735-740. (IF= 36.4)4. Q. Zheng et al., ACS Nano 2011, 5(7), 6039–6051. (IF= 12.033)5. Azin Fahimi et al., CARBON 2013, 64, 435 – 443. (IF=6.16)6. Xiluan Wang et al., J. Am. Chem. Soc. 2011, 133, 6338–6342. (IF= 11.444)7. Zhiyuan Zeng et al. Adv. Mater. 2012, 24, 4138–4142. (IF= 15.409)注：相关资料如有变化，恕不另行通知，瑞典百欧林科技有限公司对资料中可能出现的纰漏免责，更多资料欢迎来电询问。

缎带型Langmuir/LB膜分析仪1. 产品简介KSV NIMA为瑞典百欧林科技有限公司旗下的子品牌之一，主要经营方向为单分子层薄膜的构建与表征工具。缎带型Langmuir/LB（Langmuir-Blodgett）膜分析仪为KSV NIMA自主研发的一款单分子层膜的制备和表征设备。与常规型的L/LB膜分析仪相比，KSV NIMA L/LB缎带型膜分析仪可以提供更高的表面压力。使用缎带取代滑障，可以制备更规整的单分子层膜，同时更高的堆积密度，可以提供许多新的应用前景。缎带型Langmuir/LB膜分析仪主要有两款：缎带型Langmuir膜分析仪和缎带型LB膜分析仪。通过简单的更换槽体，任何KSV NIMA Langmuir或LB膜分析仪均可更换为缎带型膜分析仪，同理也可将缎带型膜分析仪更换为常规型。2. 工作原理位于气-液或液-液界面处不可溶的功能性分子、纳米颗粒、纳米线或微粒所形成的单分子层可定义为Langmuir膜。这些分子能够在界面处自由移动，具有较强的流动性，易于控制其堆积密度，研究单分子层的行为。将材料沉积在浅池（称顶槽）中的水亚相上，可以得到Langmuir膜。在滑障的作用下，单分子层可以被压缩。表面压力即堆积密度可以通过Langmuir膜分析仪的压力传感器进行控制。在进行典型的等温压缩测试时，单分子层先从二维的气相(G)转变到液相(L)最后形成有序的固相(S)。在气相中，分子间的相互作用力比较弱；当表面积减小，分子间的堆积更为紧密，并开始发生相互作用；在固相时，分子的堆积是有序的，导致表面压迅速增大。当表面压达到最大值即塌缩点后，单分子层的堆积不再可控。图1 单分子层膜状态受表面压力增加的影响缎带型Langmuir/LB膜分析仪几乎与常规型的膜分析仪的工作原理一致，唯一的区别是缎带型Langmuir/LB膜分析仪的压缩机理为缎带，而常规型的为滑障。缎带插入亚相中，将单分子层封闭起来，提供完美的膜限制空间。KSV NIMA缎带型膜分析仪的机理如下：图2 缎带型Langmuir/LB膜分析仪工作原理：1. 压缩； 2. 扩张3. 技术参数3.1 缎带式Langmuir膜分析仪（KN 1007）1. 槽体材质：固体烧结，无孔PTFE材质，快速限位孔固定，可拆卸清洗或更换为多种其他功能性槽体，含双侧导流槽，内置水浴系统接口2. 框体特性：33 mm槽体高度调节，天平可XYZ三维定位调节，含安全限位开关，含搅拌、pH测量、样品注射辅助系统等接口3. 系统设计：模块化设计，可独立进行表面压测量和镀膜实验，可原位进行表面红外、表面电势、布鲁斯特角图像、界面剪切等测试4. 槽体表面积（扩展）： 148.4 cm25. 槽体表面积（压缩）： 40.5 cm26. 槽体内部尺寸：358 x 90 x 10 mm（长 x 宽 x高）7. 滑障速度: 0.1-270 mm/min8. 滑障速度精度: 0.1 mm/min9. 测量范围：0-300 mN/m（铂金板）；0-1000 mN/m（铂金棒）10. 天平最大负荷: 1 g11. 天平定位调节： 360° x 110mm x 45 mm（XYZ）12. 传感精度: 0.1μN/m13. 表面压测试元件： 标准Wilhelmy白金板，W19.62 x H 10mm，符合EN 14370:2004国际标准。其他选项：Wilhelmy白金板（W10 x H10 mm）、液/液Wilhelmy铂金板（W19.62 x H7 mm）、Wilhelmy纸板、白金棒14. Langmuir测试槽亚相容积：322 ml15. 电源： 100...240 VAC16. 频率： 50...60 Hz4. 产品优势及亮点4.1 产品优势1. 专为极度精确测试设计的超敏感表面张力传感器。铂金属板，铂金属棒及纸板都可用作探针以满足不同的需求。2. 开放性的设计便于槽体在框架上的放置及不同槽体的快速更换，同时便于清洗槽体表面。3. 当需要清洁或更换新槽体时，槽体在框架上的拆卸/放置极其方便。4. Langmuir-Blodgett/Langmuir槽体是由便于清洁、可靠耐久的整块纯聚四氟乙烯构成，其独特的设计能够防止槽体和镀膜井发生泄漏，同时避免了使用胶水及其他封装材料造成的潜在污染。5. 对称缎带压缩为标准的均匀压缩方法。6. 居中的镀膜井有利于单分子层LB沉积的均一性。7. 通过外部循环水浴对铝制底板进行加热/冷却，以控制亚相的温度（水浴为分开销售）。8. 通过调整框架撑脚，可快速而准确地校准槽体水平。当需要放置显微镜时，框架撑脚也可很容易地从槽体上拆除。4.2 产品亮点4.2.1 联用或相关分析技术本产品可与界面红外反射吸收光谱仪(PM-IRRAS)，布鲁斯特角显微镜(BAM)，界面剪切流变仪（ISR），荧光显微镜，X射线等光学表征技术联用或对样品进行后续分析。具体如：1. 红外反射吸收光谱(KSV NIMA PM-IRRAS)2. 石英晶体微天平(Q-Sense QCM-D)3. 表面等离子共振仪4. 电导率测量仪5. 紫外可见吸收光谱仪6. 原子力显微镜7. X射线反射器8. 透射电子显微镜9. 椭圆偏振仪10. X射线光电子能谱仪等4.2.2 本公司可提供联用仪器简介1. 界面红外反射吸收光谱仪（PM-IRRAS）带极化模块的界面红外反射吸收光谱仪主要用来决定分子的取向和化学组成。2. 布鲁斯特角显微镜（BAM）可进行薄膜的均一性、相行为和形貌的单分子层成像和光学观测。3. 表面电位测量仪（SPOT）使用无损振荡板式电容技术来监测薄膜的电位变化，从而对单分子层的电学性质进行表征。提供堆积密度和取向等信息，可对任何Langmuir等温测试进行补充。4. 界面剪切流变仪（ISR）这种独特的剪切流变仪可以测量界面处的粘弹性。适用于气-液或油-水的研究，在控制表面压的同时，可对粘弹性进行分析。5. 产品应用5.1 应用范围l 生物膜及生物分子间的相互作用? 细胞膜模型（如：蛋白质与离子的相互作用）? 构象变化及反应? 药物传输及行为l 有机及无机涂料? 具有光学、电学及结构特性的功能性材料? 新型涂料:纳米管、纳米线、石墨烯等l 表面反应? 聚合反应? 免疫反应、酶-底物反应? 生物传感器、表面固定催化剂? 表面吸附和脱附l 表面活性剂及胶体? 配方科学? 胶体稳定性? 乳化、分散、泡沫稳定性l 薄膜的流变性? 扩张流变? 界面剪切流变（与KSV NIMA ISR 联用）5.2 客户发表成果（部分）1. Q. Guo et al., J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 630-631. (IF= 11.444)2. Kumaki et al., Macromolecules 1988, 21, 749-755. (IF= 5.927)3. S. Sheiko et al., Nature Materials 2013, 12, 735-740. (IF= 36.4)4. Q. Zheng et al., ACS Nano 2011, 5(7), 6039–6051. (IF= 12.033)5. Azin Fahimi et al., CARBON 2013, 64, 435 – 443. (IF=6.16)6. Xiluan Wang et al., J. Am. Chem. Soc. 2011, 133, 6338–6342. (IF= 11.444)7. Zhiyuan Zeng et al. Adv. Mater. 2012, 24, 4138–4142. (IF= 15.409)注：相关资料如有变化，恕不另行通知，瑞典百欧林科技有限公司对资料中可能出现的纰漏免责，更多资料欢迎来电询问。