怎么由薄膜的反射谱得到薄膜的吸收系数?
怎么由薄膜的反射谱得到薄膜的吸收系数?求解答,求不灌水,求实事求是,我真的着急,真的不明白了,50万的设备,测得东西完全不对路数。
求教_如何测量薄膜的绝对红外吸收(1-反射比-透射比)
在玻璃上制备了一层二氧化钛薄膜,现在想测试薄膜的光吸收和反射!目前有的仪器是Lambda 950,第一次接触,具体操作不会。还有就是:测试之前要扫基线,是不是要放一块玻璃来扫基线?另外薄膜的大小对测试是不是有影响,我用的1*1cm2的薄膜,用空白玻璃扫了下基线,测出来的曲线和文献上有差别,不知道是什么原因,恳请高手指点一二,谢谢了!!!急~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~
请各位推荐 测光学薄膜反射光谱的仪器波长范围:400 ~ 1600 nm最好在深圳能提供服务
普析1901的仪器,用积分球测定薄膜反射率,以前基本都是20%左右,现在到70-80%几,透过率反射率,RS交换都设置正常,求助可能哪方面出问题了
求教高手:分光光度计添加一个反射附件(有反射角或积分球)用来测量薄膜样品的表面反射率已经是一个逐渐广泛应用的手段了。问题是:使用有角度的反射附件或积分球时,是用基准镜或副白板做参比样品还是使用与样品有关的基片做参比?
我们的仪器是使用硫酸钡固体粉末作为Blank扫的,但是觉得测得的反射率不是很准确。请问如何测薄膜的反射率,我的薄膜比较光滑,是不是跟镜面反射有关,具体怎么操作呢,求指教
求教大神,这是老师给的任务 用椭偏仪测薄膜反射率 求教一下 怎么测?
现在在用PE的lambda 750S 紫外可见分光计,平常不是很熟悉,我主要做拉曼。现需要测试银纳米薄膜的多角度反射谱(银纳米薄膜贴在玻璃基片上), 手头有两个附件,5度反射附件(图1)和一个可变角度的反射附件(15度到90度,图二),包含一个铝镜。 现遇到四个问题:1)我认为这两个都是相对反射附件,参比光路不需要放任何东西,不知对不对?2)我看了一个关于lambda 950的PPT,上面写道“1. 在样品位置放反射标准做自动调零 2.扫描样品 3.将测量结果与标准的反射率值相乘,得到真实的反射率 ”这句话有几个地方不懂,一是这个反射标准是铝镜么?二是如果只关心相对反射率,测量的结果是否可以直接用,不用“测量结果与标准的反射率值相乘”?三是自动调零是否就是做基线,二者有区别么?3)测得的光谱总是在850附近有突变,我知道这可能是换光源或换光栅,但是别人的图上多数没有这个,需要后期处理掉么?多数用什么软件?别家的仪器也有这个问题么?4)多角度反射谱测量时,由于没有偏振片,是否测量的结果在大角度时差的比较多?用上偏振片,是否能准确说明不同偏振光的多角度的反射谱。很抱歉,提了这么多问题,但是真的很想弄懂这些问题,谢谢了。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2012/03/201203131826_354409_2166985_3.jpghttp://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2012/03/201203131827_354410_2166985_3.jpg
请问在哪可以测薄膜的红外反射谱?范围是多大?价格多少?谢谢---您好,已转到 IR 版。下次发帖记得到对应的技术版面,新手版面的浏览量小 ,可能耽误您的问题。
请问哪位大侠有关于使用带有积分球的分光光度计测量光学薄膜的反射率的材料?
我的薄膜比较光滑,想得到反射率,不知道如何操作。u3310是用积分球测还是用反射附件测呢?白板用什么做参比
[img=middle]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2010/07/201007062216_229098_1896367_3.jpg[/img]本来想测量半导体薄膜的透射谱从而获得超晶格对400-1700cm-1波段的吸收情况(还有一个对比片),谁知道这一段基本全被反射了!我要怎么样才能比较精确的获得它的吸收情况?(对比片的光谱和超晶格相比基本没有差别!)
我在玻璃基底上涂了一层太阳能热反射膜,想测它的可见到红外的反射率,就是想得到附件里的文献里的反射率图谱,可见到近红外,我用紫外-可见-近红外分光光度计测试反射率,得到的曲线跟文献中还类似;红外波段,我试过了FTIR的ATR附件,可变角度SR镜面反射附件,测出来的曲线都不理想,得到的都是透过率曲线,还有很强的吸收峰,仪器操作员也不太懂,给我转换成反射率并归一化后,也不理想。。我想得到的不是对样品化学成分的分析曲线,而是想看看样品对红外光的反射率,应该是反射光强/原始入射光强,我就纳闷了,这么简单的实验,竟然这么难。。。请各位大牛给指点,希望跟大家交流。我的qq:1557362947。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2014/06/201406211731_502684_2904588_3.jpg
在单面抛光的C-Si上溅射制备的非晶a-GaAsN薄膜,能做红外光谱分析吗?想要知道薄膜的组成,及组分含量,膜厚度约0.5微米,应该怎样做呢,做透射还是反射、还是傅里叶? 对红外光谱一无所知,请指教啊?
如题分光光度计可以测试薄膜反射率和透射率吗?要光谱反射和透射的,其中透射需要可以测试漫透射材料,求推荐仪器,波长范围为400到1100
转录 请自己 google 搜索 便携全反射X射线荧光分析仪 全反射X射线荧光分析仪 等文章全反射X荧儿(TXRF)分析技术是十多年前才发展起来的多元素同时分析技术,它突出的优点是检出限低(pg、ng/mL 级以下)、用样量少(Μl、ng级)、准确高度(可用内标法)、简便、快速,而且要进行无损分析,成为一种不可替代的全亲的元素分析方法。国际上每两年召开一次TXRF分析技术国际讨论会。该技术被誉为在分析领域是最具有竞争力的分析手段,在原子谱仪领域内处于领先地位。从整个分析领域看,与质谱仪中的ICP-MS和GDMS、原子吸收谱仪中的ETAAS和EAAS以及中子活化分析NAA等方法相比较,TXRF分析在检出限低、定量性好、用样量少、快速、简便、经济、多元素同时分析等方面有着综合优势。在X荧光谱仪范围内,能谱仪(XRF)和波谱仪(WXRF)在最低检出限、定量性、简便性、准确性、经济性等方面,都明显比TXRF差。在表面分析领域内,尤其在微电子工业的大面积硅片表面质量控制中,TXRF已在国际上得到广泛应用。1. TXRF分析仪工作原理:TXRF利用全反射技术,会使样品荧光的杂散本底比XRF降低约四个量级,从而大大提高了能量分辨率和灵敏率,避免了XRF和WXRF测量中通常遇到的木底增强或减北效应,大大缩减了定量分析的工作量和工作时间,同时提高了测量的精确度。测量系统的最低探测限(MDL)可由公式计算: (2)这里, 是木底计数率,t为测量计数时间,M为被测量元素质量,l代表被测量元素产生的特征峰净计数率,S=I/M就是系统灵敏度,由公式可以看出,提高灵敏底、降低木底计数率、增加计数时间是降低MDL的有效办法。木氏低、灵敏度高正是TXRF方法的长处,因而MDL很低。
朋友们,我现在有一种膜,可以选择一定角度的入射角透过,而其他角度全部反射,我不知道这种膜怎么设计,另外我想测试一下,同一波长,列如850nm波长,测试其60-80角度的通过率反射率,该用啥仪器来测试来,用知道的朋友告知一声,比较急,谢谢了在此
XRD掠入射衍射是分析薄膜表面结构的极为有效的放发,可以对薄膜进行深度分层分析,其参与散射的晶面接近垂直于薄膜表面。采用位敏探测器,可以在固定的入射角度同时记录散射强度随出射角的变化,等同于晶体截断杆扫描,扫描时晶体绕平行于表面法向的轴转动,因而可以记录在不同Qz处QxQy面内的散射强度分布。那么可不可以采用掠入射衍射方法表征垂直于薄膜便面的结构呢?比如说一个1-3型的薄膜样品,一相以柱状结构embedded in另外一相的matrix中。可不可以这样:扫描不同Qz层的强度分布,如果每层的分布强度一样或者接近,则可认为存在这样1-3型的柱状结构?
薄膜综合物性分析仪(导热系数,电导率,电阻率,赛贝克系数,霍尔系数,迁移率 载流子浓度 发射率)同步测量苏需要的热物性参数,消除样品的几何尺寸,样品物质组分和热分布不均的影响,结果非常具有可靠性。可测量30nm-30μm的涂层与薄膜样品,样品面积约25mm²采用芯片式设计,样品于传感器紧密接触,构成一个缩小的热带发导热测量模型,可配置锁相放大器,以适应3ω法对样品的in-plance和cross-plance导热进行测量。可以适应不同材质样品。无论是金属,陶瓷,半导体等无机薄膜还是有机薄膜,都可以用TFA测量模块化设计, 根据需求,添加测量模块。1:瞬态导热测量磨坏:锁相放大器 配置3ω测量单元,可测平面,交叉面导热系数,比热等2: 霍尔效应测量模块: 配置磁场单元,可测霍尔电压,迁移率,载流子浓度。3 低温附件模块:-150°-400°C 样品两侧均安装LN2管道, 有利于样品两侧温度控制。导热系数:稳态热带法,3ω法。电阻于霍尔系数:范德堡法赛贝克:静态直流法http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2016/01/201601151255_581948_3060548_3.jpghttp://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2016/01/201601151255_581949_3060548_3.pnghttp://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2016/01/201601151255_581950_3060548_3.png
求购测光学薄膜透反射用可见光至近红外分光光度计。电话13851988278.
[color=#000000][b][color=#336666]会议报名请点击:[url=https://www.instrument.com.cn/webinar/meetings/malvernpanalytical2022/]微观丈量 膜力无限——马尔文帕纳科 X 射线分析技术应用于薄膜测量_网络讲堂_仪器信息网 (instrument.com.cn)[/url][/color][/b][/color][color=#336666][b]课程结束参与评价还可以拿电脑包和更多公仔![/b][/color][img=,690,335]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2022/10/202210091444586535_7755_5138539_3.png!w690x335.jpg[/img][color=#000000]马尔文帕纳科联合仪器信息网将于10月14日举办微观丈量“膜”力无限——X 射线分析技术应用于薄膜测量主题活动,特邀高校资深应用专家及马尔文帕纳科技术专家分享薄膜表征技术与应用干货,全面展示马尔文帕纳科针对薄膜材料测量的解决方案。此外,活动直播间还特别设置了答疑及抽奖多轮福利环节。[/color][color=#000000][b]背景介绍:[/b][/color][color=#000000]薄膜,通常是指形成于基底之上、厚度在一微米或几微米以下的固态材料。薄膜材料广泛应用于不同的工业领域,譬如半导体、光学器件、汽车、新能源等诸多行业。沉积工艺是决定薄膜成分和结构的关键,最终影响薄膜的物性;对薄膜成分、厚度、微结构、取向等关键参数进行测量可以为薄膜沉积工艺的调整和优化提供依据,改善薄膜材料性能。[/color][color=#000000][/color][color=#000000][b]活动日程:[/b][/color][table][tr][td=1,1,99]时间 [/td][td=1,1,280]环节[/td][td=1,1,256]报告人[/td][/tr][tr][td=1,1,99][color=#000000]14:00-14:10[/color][/td][td=1,1,280][color=#000000]开场致词,公司介绍与薄膜应用概述[/color][/td][td=1,1,261][color=#000000]程伟,[/color][color=#000000]马尔文帕纳科 先进材料行业销售经理[/color][/td][/tr][tr][td=1,1,99][color=#000000]14:10-14:50[/color][/td][td=1,1,280][color=#000000]X射线衍射仪在纳米多层薄膜表征中的应用[/color][/td][td=1,1,261][color=#000000]朱京涛,[/color][color=#000000]同济大学 教授[/color][/td][/tr][tr][td=1,1,99][color=#000000]14:50-15:00[/color][/td][td=1,1,280][color=#000000]答疑 & 第一轮抽奖[/color][/td][td=1,1,261][color=#000000]定制马尔文帕纳科公仔一对[/color][/td][/tr][tr][td=1,1,99][color=#000000]15:00-15:30[/color][/td][td=1,1,280][color=#000000]多晶薄膜应力和织构分析[/color][/td][td=1,1,261][color=#000000]王林,[/color][color=#000000]马尔文帕纳科 中国区XRD产品经理[/color][/td][/tr][tr][td=1,1,99][color=#000000]15:30-15:40[/color][/td][td=1,1,280][color=#000000]答疑 & 第二轮抽奖[/color][/td][td=1,1,261][color=#000000]定制午睡枕[/color][/td][/tr][tr][td=1,1,99][color=#000000]15:40-16:25[/color][/td][td=1,1,280][color=#000000]X射线衍射及X射线荧光分析技术在半导体薄膜领域的应用[/color][/td][td=1,1,261][color=#000000]钟明光,[/color][color=#000000]马尔文帕纳科 亚太区半导体销售经理[/color][/td][/tr][tr][td=1,1,99][color=#000000]16:25-16:35[/color][/td][td=1,1,280][color=#000000]答疑、课程评价有礼[/color][/td][td=1,1,261]电脑包、公仔1对[/td][/tr][tr][td=1,1,99][color=#000000]16:35-16:55[/color][/td][td=1,1,280][color=#000000]X射线荧光光谱在涂层镀层分析中的应用[/color][/td][td=1,1,261][color=#000000]熊佳星,[/color][color=#000000]马尔文帕纳科 中国区XRF产品经理[/color][/td][/tr][tr][td=1,1,99][color=#000000]16:55-17:00[/color][/td][td=1,1,280][color=#000000]答疑 & 第三轮抽奖&结束语[/color][/td][td=1,1,261][color=#000000]倍思车载无线充电器[/color][/td][/tr][/table][b][/b][color=#000000][b]重要内容抢先看:[/b][/color][color=#000000]【同济大学,朱景涛教授】将分享X衍射仪在纳米多层薄膜表征中的应用,主要采用掠入射X射线反射、X射线衍射、X射线面内散射等测试方法,表征周期、非周期、梯度多层膜,以及膜层厚度、界面宽度、薄膜均匀性、结晶特性、粗糙度等信息;[/color][color=#000000]【马尔文帕纳科中国区,XRD产品经理 王林】将分享X射线衍射法测量多晶薄膜的残余应力和织构分析方法;【马尔文帕纳科亚太区,半导体销售经理 钟明光】将展示马尔文帕纳科在半导体薄膜领域的专业分析解决方案;【马尔文帕纳科中国区,XRF产品经理 熊佳星】将分享X射线荧光光谱在涂层镀层无损分析中的应用。[b][color=#336666]专题页面:[url=https://www.instrument.com.cn/topic/malvernpanalytical.html][font=宋体]https://www.instrument.com.cn/topic/malvernpanalytical.html[/font][/url][/color][/b][/color]
用过 TXRF8全反射X射线荧光分析仪 (北京普析)的盆友说说他的仪器怎么样呀?
最近工作上涉及到椭偏仪,想知道椭偏仪测量的优点与缺点都有什么?我看了一些资料,说椭偏仪测量存在如下缺点:1、薄膜基片如果是透明的,那么对样品的前处理会很麻烦,很费钱2、如果样品是有机物薄膜,椭偏仪很难测出结果来3、椭偏仪测量得到的数据需要手工处理,很复杂,非专业人员无法处理,暂时没有软件可以直接得薄膜的厚度、折射率、吸收系数值4、测量吸收系数时不能同时测量透射光与反射光,所以得到的吸收系数是有误差的不知道以上观点是不是正确? 为什么薄膜的基片不能是透明的?透明的基片对薄膜厚度测量有什么影响?为什么很难得到有机物薄膜的厚度?请指教,谢谢!不知道是否还有其他缺点?
http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2011/08/201108112134_309901_2355867_3.jpg这是磁控溅射制备的氧化铝薄膜,厚度30-50nm, S1是制备样品,P1是经过750度处理后的样品,想对比变化,可是峰位怎么都对不上啊?? 基底材料用的是氧化硅wafer, 请这里的大师兄们给帮忙分析一下吧??? 急啊,老板要我解释呢 小师妹先在这里谢谢大家了!!
请问X射线荧光光谱仪对薄膜和多层膜分析的基本参数方法原理及数学模型是什么?
实验室有一台,970CRT荧光分光光度计,目前在做石英玻璃上的荧光薄膜,想用这个仪器去测。请教两个问题,这台仪器可以测薄膜的荧光吗,能测的话,具体的操作步骤是什么呢,用过将石英玻璃插入比色皿中去测荧光,但是光谱上会有发射的荧光峰,怎么消除玻璃带来的反射峰呢,谢谢大家啦
用于样品表面、金属板上涂层薄膜的红外光谱测定。甚至用于单分子层的解析。入射光经反射镜照射到样品表面,其反射光再经另一反射镜进入仪器。反射吸收测定的原理是,只有与基板垂直的偶极矩变化可以被选择性地检测。
因为不太懂紫外,走了很多弯路。最近的这个样品是不透明的薄膜,所以大概吸收和透射模式是不能做了。 吸收模式尝试着做过一下,随着膜厚增加,吸光度基本是一个平线,依次从0.1变到0.3,0.5,没有什么有用的信息。漫反射模式也做了一下,虽然反射率有比较明显的变化,转化为漫反射吸光度或用K-M方程后,曲线形状与透明膜状态下有很大不同,就是明显不对。今天看到一篇文献,好像漫反射模式都是以粉末的形式做的。想请教大家的是,不透明的薄膜是否能用漫反射紫外进行表征?有那些注意事项?感谢各位的关注。