开槽台式微区仪

1.品名、数量及用途1.1 品名：台式微量高速冷冻离心机1.2 数量：1台1.3 用途：用于各大实验室，分子生物学等实验室各种样品的分离，离心。2.工作条件2.1环境温度 5 - 40°C 室温2.2 湿度可达 80%2.3 220V(+10%或-10%)，50Hz(+1或-1)电源条件下；3.主要技术指标3.1 转速：15000RPM*3.2离心力: 22302 x g*3.3容量: 50ml（10x5ml）3.4控温范围：-20度到40度3.5转速范围：300-15,000rpm（100rpm增量）*3.6 可提供一次离心10个5ml尖底管转头，或24个2ml管转头，或32个0.2mlPCR管转头*3.7 可提供使用离心冻存管的转头 3.8速度/RCF转换：有3.9通过单旋钮便可一键飞梭轻松完成所有参赛设置，方便快捷*3.10 具有运行进程条显示，方便用户了解进程3.11 具有瞬时离心功能，可快速、方便的收集样品3.12 加减速速率：2级加速，2级减速可选3.13定时功能：1-99分钟3.14 运行噪音：53dB(A)*3.15具有转头自动识别功能，可显示转头编号3.16 错误代码直接显示，快速排除仪器故障

CRONO移动式微区X射线荧光光谱仪是一款可移动且可重新配置的快速检测的微型XRF扫描仪。基于EDXRF技术，可对大型样品进行原位，非破坏性和快速检测。XRF组件完全集成到一个紧凑的测量头中，元素检测范围从Na到Am，即使在低于2keV或高于25keV时（例如Sn，Sb和Ba k激发）。测量头安装在电动机上，探测器芯片面积50m㎡。电动框架和移动拉杆可以很容易地拆卸运输。若将测量头安装在轻型三脚架上，CRONO又可以变成一款便携式的用于单点测量的便携式XRF。该系统完全非接触式工作，距离样品1厘米，同时由于监测系统的设置，该分析区域将shi终处于控制之下。CRONO拥有两种前端的技术支持。其中CUBE是CMOS前置放大器，同时数字脉冲处理器DANTE可对样品进行快速的实时扫描。CRONO的软件可以控制和查看每一个界面，并实时显示光谱和元素分布图，同时每一个像素点的光谱都被自动存储，报告工具可自动为每个单独检测或整个项目检测生成pdf格式的测量报告。50厘米x 40厘米绘画的元素分布图（左1图）。测量时间：30分钟，线扫描速度：20mm/s，准直器孔径2 mm，X射线管设置50 kV和100μA。从左2图：BaLα，PbLα，CaKα 元素浓度范围从高到低依次是红色，黄色，绿色，蓝色。

M4 TORNADOPLUS - 微区X射线荧光成像的新纪元M4 TORNADO微区X射线荧光成像光谱仪PLUS能够检测出C（6）-Am（95）间元素的微区X射线荧光成像光谱仪。作为微区X射线荧光成像光谱仪M4TORNADO系列的新产品，M4 TORNADOPLUS又增添了功能，例如孔径管理系统，高通量脉冲处理器以及快速灵活更换的样品台。更轻、更快、更深M4 TORNADOPLUS采用轻元素窗口的大面积硅漂移探测器（SDD）实现对轻元素碳的检测，高通量脉冲采样，BRUKER孔径管理系统（AMS）可以获取大景深，对表面不平整样品分析具有优势。轻元素检测M4 TORNADOPLUS能够检测分析轻质元素碳的微区X射线荧光成像光谱仪，具备两个具有轻元素窗口的大面积硅漂移探测器和一个优化的Rh靶X射线光管。与普通微区X射线荧光成像光谱仪不同，M4 TORNADOPLUS在不影响较高能量范围内元素灵敏度的前提下，还可以检测原子数小于11的元素（Z＜11），例如氟（F）、氧（O）、氮（N）和碳（C）。随着功能性的增强，M4 TORNADOPLUS应用也正在开发和拓展中，例如地质学、矿物学、生物学、聚合物研究或半导体行业等方向。应用实例-萤石和方解石的区分萤石（CaF2）和方解石（CaCO3）都是以钙为主要成分的矿物。它们的区别在于分别存在轻质元素氟（F），氧（O），碳（C）；由于普通微区X射线荧光成像光谱仪检测不到Z＜11(Na）的元素，无法区分这两种矿物，所以萤石和方解石的光谱图上都只会显示Ca元素谱线。利用轻元素探测器，M4 TORNADOPLUS可以检测氟（F）、氧(O)和碳(C)，从而鉴别这两种矿物。图：鉴别萤石与方解石 左：方解石（红）和萤石（蓝）的元素分布图；图像尺寸：20×12mm2；扫描分辨率：800×460pixels 右：萤石（蓝）和方解石（红）的轻质元素光谱图。应用实例-电路板由于AMS的场深度深，如图所示电路板的X射线图像获得更多的细节。此外，由于激发X射线光子的入口和出口角度减小，光束能量依赖性变得不那么明显。图：具备AMS与不具备AMS的电路板元素分布图左图: 标准多导毛细管聚焦在电路板上，元件的高点失焦，显得模糊。右图: AMS系统加载下图像显示高景深，组件聚焦在更大的景深范围内。

v应用范围：Lowk晶圆，GaN晶圆，非lowk晶圆v设备特点：Ø 采用特殊定制的脉冲宽度激光加工，专为晶圆激光加工定制Ø 采用超短脉冲宽度加工，有效提高切割线品质Ø 特殊定制的脉冲宽度开槽后，热影响区稼动率：＞0.95

自动开槽制样机制样机的速度：350-2000转/分钟带有槽口深度计，槽口深度可微调数字式显示便于读取数值内置试样夹紧装置单齿或多齿切片，可装入多个样品防振动线性滑动器横移速度采用公制或英制单位，横移速度为0.081-0.1mm/转标准槽口带有深度设置单元快速的回转速度可移动的废料盘便于清洗符合ISO180、ISO170、ASTM D256等标准

ACC-KCLK开槽量块用于接触式干涉仪，光学计，比较仪器的校准，检定，调试，支持定做φ15mm平行平晶、8mm刃形测帽、 1mm三针；

Minimax 21K台式微量高速离心机Minimax 21K 台式高速微量离心机专为 5ml/2.0ml/1.5ml/0.5ml/0.2ml 离心管设计，适用于生命科学，医学和化工等实，整机小巧同时运行非常安静。产品特点/Product introduction◎ 转子最大容量(ml) 18 x 5ml ◎ 达到设定转速后，可修改运行参数 ◎ 最大离心力(rcf) :≤21000 x g(14800rpm) ◎ 操作面板独具设计感的动态图标，实时显示运行状态 ◎ 加速到最高转速时间:≤14S, 从最高转速减速时间:≤14S ◎ 转速和离心力不需切换，方便数据读取 ◎ 运行进程显示和错误代码提示 ◎ LCD 大显示屏，显示所有运行参数 ◎ 运行结束后，声音提示并自动开启上盖，便于样品降温 ◎ 独有的离心腔内温度显示，保证样品的安全 ◎ 瞬时离心功能，按住就可实现快速、便捷的离心 ◎ 交流变频铝壳电机升降速均匀平稳，温升小。Minimax 21K台式微量高速离心机Minimax 21K 台式高速微量离心机专为 5ml/2.0ml/1.5ml/0.5ml/0.2ml 离心管设计，适用于生命科学，医学和化工等实，整机小巧同时运行非常安静。产品特点/Product introduction◎ 转子最大容量(ml) 18 x 5ml ◎ 达到设定转速后，可修改运行参数 ◎ 最大离心力(rcf) :≤21000 x g(14800rpm) ◎ 操作面板独具设计感的动态图标，实时显示运行状态 ◎ 加速到最高转速时间:≤14S, 从最高转速减速时间:≤14S ◎ 转速和离心力不需切换，方便数据读取 ◎ 运行进程显示和错误代码提示 ◎ LCD 大显示屏，显示所有运行参数 ◎ 运行结束后，声音提示并自动开启上盖，便于样品降温 ◎ 独有的离心腔内温度显示，保证样品的安全 ◎ 瞬时离心功能，按住就可实现快速、便捷的离心 ◎ 交流变频铝壳电机升降速均匀平稳，温升小。主要性能参数/Technical parameter型号Minimax 21K电源220VAC±10% 50 -60Hz 110VAC±10% 60Hz功率500W驱动电机交流变频电机时间设定1 秒-99 分 59 秒最高转速14800rpm(100-14800rpm) 增 量 100rpm最大相对离心力21000×g(100 -21000×g) 增量 100×g最大容量24×1.5/2.0ml最大离心介质密度1.2g/ml加速到最高转速时间14s从最高转速减速时间14s噪音≤60db（A）重量12Kg体积（长×宽×高）360mm×245mm×230mm定角转头 #1容量：24×1.5ml最高转速：14800rpm最大相对离心力：21000×g定角转头 #2容量：18×5ml最高转速：14800rpm最大相对离心力：21000×g

H15K台式微量高速离心机小巧轻便、微量高速、瞬时离心 产品介绍H15K台式微量高速离心机采用宽频电源设计，在100-250V 50/60Hz电源中均能正常使用，适用于不同国家和电压不稳定地区；同时设备以其小巧精致、使用方便、转速高、运行噪音低、升降速快等优点，深受各类科研/检验工作者喜爱。 产品参数最高转速 15000r/min最大离心力 15093 xg容量 12X1.5ml（0.5ml/0.2ml适配器）或8×5ml（选配）转速精度 ±10 r/min定时范围 1S~99 min 59S/瞬时离心噪 声 ≤56dB（A）电 源 AC 100—250V 50/60HZ 3A功 率 100W外形尺寸 240×220×170(L×W×H) mm重 量 3.8 kg（不含转子） 产品优势1、BLDC电机1.温升小：连续运行样品升温≤6℃2.噪音小：设备运转过程中噪音≤56dB(A)3.免维护：采用先进无刷电机，无需维护4.升速快：多档升降速可调，升至最高转速最快档只需10s 2、更安全1.铝合金内盖：超强硬度铝合金内盖，使得离心工作更加安全；同时内部导风口可快速散热。2.10毫米不锈钢转轴：门盖与机身的衔接处，使用不锈钢材质转轴，超10万次开关门实验无坏损，使用更加安心。3.不锈钢转子盖：设备配套12×1.5ml角转子的专用不锈钢制转子盖，搭配磁吸式取放接口，让取放样品更加省时省力。 3、更便捷1.电阻式触控屏 彩色液晶屏，参数全位数显示，无需×倍数 RPM与rcf之间自动换算，同时显示，无需人工计算 电阻式触摸屏，带上手套也能正常操作设备 运行过程中也可以修改离心参数小幅度增减转速、离心力数值使用滑片可大幅度增减转速、离心力数值 2.智能门锁：钢制门扣+智能门锁，让离心工作更加便捷：自动感应门锁，主动监测开关门状态，离心完成自动开门，方便取样。 3.阻尼式开盖：阻尼式门盖设计，离心工作完成后，门盖自动开启，并缓慢打开，整个过程无振动；一定程度防止样品震荡，确保实验安全和数据准确。 4.仿生吸盘底座：采用吸附性极强的仿生吸盘，固定简单，移动方便。 5.磁吸式转子盖：高磁自动吸附转子盖，无需拧紧，轻移轻取。 4、更小巧体积小240×220×170mm近似普通鼠标垫大小 体重轻3.8kg与普通电饭煲重量相似

H1650-W台式微量高速离心机具有三层保护，超速、门盖、误操作等多种保护，安全可靠；7款转子供用户选择。仪器特点：◆微机控制，触摸屏显示，无刷直流电机，无碳粉污染◆电子门锁 技术参数 型号H1650-W订货号0203167000最高转速16500r/min最大相对离心力18360xg最大容量12×5ml转速精度±30r/min定时范围1min~99min 整机噪声≤65dB(A)电源AC220V±22V 50Hz 3A整机功率250W外形尺寸(长×宽×高)320×370×235 (mm)外包装尺寸(长×宽×高)530×410×290(mm)重量11kg H1650-W台式微量高速离心机转子型号产品名称最高转速（r/min）最大相对离心力(×g)容量No.1角转子165001836012×1.5/2.2mlNo.2角转子165001836018×0.5mlNo.3角转子120001014212×5mlNo.4角转子130001617024×1.5mlNo.5角转子15000138003×8×0.2ml PCR条No.6毛细管转子120001480012根No.7毛细管转子120001480024根 ◆如果您需了解产品报价，设备实际价格（经销价，代理价等）和其他技术参数等任何问题，可在线留言，我们会在半个工作日之内电话联系您，给您一个满意的答复。◆如果您需要我公司的产品宣传画册，报价单及产品说明书，可在线留言。我们会EMS、速递或EMAIL邮寄给您。注：留言时请按要求详细填好真实资料，谢谢合作!

产品类别：摆锤式冲击试验机（摆锤冲击试验辅助设备） 名　　称：冲击试样缺口手动开槽机品　　牌：西班牙霍伊特产品简介：摆锤冲击试验辅助设备。西班牙霍伊特-冲击试样缺口手动开槽机专为测试机构和实验室而设计，适用小批量生产冲击试验的测试试样。 该开槽机用于在已预先加工好的10mm标准方形试样条上加工夏比和悬臂梁摆锤冲击试样的“V型”和“U型”槽口。操作简单方便、槽口尺寸精准。 标准拉刀适用于碳素钢和低合金钢类的冲击试样加工。其特制的带有特殊涂层的拉刀，主要用于切削高强度、高硬度的钢材或者是不锈钢。西班牙霍伊特-冲击试样缺口手动开槽机专为测试机构和实验室而设计，适用小批量生产冲击试验的测试试样。该开槽机用于在已预先加工好的10mm标准方形试样条上加工夏比和悬臂梁摆锤冲击试样的“V型”和“U型”槽口。操作简单方便、槽口尺寸精准。标准拉刀适用于碳素钢和低合金钢类的冲击试样加工。其特制的带有特殊涂层的拉刀，主要用于切削高强度、高硬度的钢材或者是不锈钢。拉刀类型 根据国际标准EN ISO 148-1和ASTM E23在夏比和悬臂梁冲击试样上开槽用的拉刀。槽口深度洛氏HRC 硬度值V2 mm 42 或 52 （带有特殊耐磨涂层）U2 mm 32 或 45 （带有特殊耐磨涂层）U3 mm 32 或 45 （带有特殊耐磨涂层）U5 mm 32 或 45 （带有特殊耐磨涂层）满足标准ASTM E23, DIN 148-1, EN 148-1, ISO 148-1, UNE 148-1

台式微电脑测土配肥仪品牌：宏创 型号：HC-NS20 一、HC-NS20台式微电脑测土配肥仪测试项目： 土壤：水分、pH、含盐量、铵态氮、有效磷、速效钾、有机质、硝态氮、碱解氮、全氮、全磷、全钾。 二HC-NS20台式微电脑测土配肥仪优势：★微电脑控制，程序化设计，5.1寸大屏幕中文汉字背光显示，交直流两用，内置锂电池，可野外流动测试。 ★无需空白和标准校准，一键式操作，直接读取数据，配套成套附件及成品药剂。 ★内置作物专家施肥系统，依据测试结果直接得出科学施肥配方。 ★触摸式按键，内置热敏打印机，可打印测试结果和施肥建议，具备历史查询功能。 三、HC-NS20台式微电脑测土配肥仪仪器技术指标： 1.电源：交流 220±22V 直流7.5V（仪器内置锂电池） 2.功率： ≤6W 3.重复性误差： ≤0.5%（0.005，重铬酸钾溶液） 4.线性误差： ≤3%（0.03硫酸铜检测） 5.灵敏度：红光≥4.5 ×10-5 蓝光≥3.17×10-3 6.波长范围 ：红光：620±4nm 蓝光：440±4nm 7.土壤中速效N、P、K等多种养分一次性同时浸提测定。 8.肥料中氮（N）、磷（P）、钾（K）等多养分同时、快速、准确检测。 9.仪器无需做空白和标准，样品直放直读，消除用户校准带来的误差，保证测试结果准确。 10. 5.1寸大屏幕中文汉字背光显示，自动存储打印检测结果，可存储1000条以上检测结果。 11.具备历史数据查询功能，可查询、打印测试结果和家施肥建议。 12.数据打印：内置热敏打印机，可打印出测试日期、测试时间、测试项目、作物种类、作物产量、施肥量等信息。 四、HC-NS20台式微电脑测土配肥仪测试速度： 从取样到打印出结果总时间： 测一个土壤样品（N、P、K）≤15分钟，同时检测十个土壤样品（N、P、K）≤50分钟； 测一个土壤样品（有机质、pH、含盐量）≤15分钟。 五、HC-NS20台式微电脑测土配肥仪产品仪器特点： 功能全：测试项目全、内置专家施肥系统、科学指导施肥。 配套齐全：该仪器集药、器、仪为一体，携带方便，相当于一个小型土壤化验、配肥站。适于农业服务部门或农资经销商、肥料厂商测土配方施肥。 操作简便、无需校准，直接测试，速度快捷，成品药剂开瓶即用，无须配置。 六、HC-NS20台式微电脑测土配肥仪售后服务：仪器整机质保一年（主机质保五年），终身免费维修服务，免费邮寄仪器。 七、配置清单：仪器箱一个，专业药品试剂箱一个

KQ116台式微型超声波清洗器/KQ118台式微型超声波清洗器/KQ218台式微型超声波清洗器简介：超声发生源与清洗槽为一体化.主要适用于商业、轻工、大专院校、科研单位的小批量清洗、脱气、消泡、乳化、混匀、置换、提取、粉料粉碎及细胞粉碎。我公司可提供各种型号的超声波清洗器，详情请来电咨询：021-64927579KQ116台式微型超声波清洗器/KQ118台式微型超声波清洗器/KQ218台式微型超声波清洗器技术参数：型号 仪器尺寸 清洗槽内尺寸 容量 超声频率 超声功率 加热功率 温度可调 时间可调 网架 降音盖 排水长× 宽× 高（mm） 长× 宽× 高（mm） （L） （KHz） （W） （W） （oC） （min）KQ116台式超声波清洗器 223× 114× 123 167× 90× 52 0.6 40 50 无 无 10 有 有 无KQ118台式超声波清洗器 223× 114× 123 167× 90× 52 0.6 40 70 无 无 10 有 有 无KQ218台式超声波清洗器 223× 114× 123 167× 90× 52 0.6 40 100 无 无 10 有 有 无KQ-50台式超声波清洗器 （圆形）ф145× 210 ф140× 100 1.5 40 50 无 无 无 无 无 无KQ-50B台式超声波清洗器 170× 160× 210 150× 140× 100 2 40 50 无 无 1-20 有 无 无KQ-50E台式超声波清洗器 208× 192× 210 150× 140× 100 2 40 50 100 0-80 1-20 有有无KQ2200B台式超声波清洗器 260× 160× 260 230× 140× 100 3 40 100 800 0-80 1-20 有 无 有KQ2200E台式超声波清洗器 260× 160× 280 230× 140× 100 3 40 100 800 0-80 1-20 有 有 有KQ-100台式超声波清洗器 320× 174× 260 300× 150× 100 4 40 100 无 无 1-20 无 无 有KQ-100E台式超声波清洗器 320× 174× 280 300× 150× 100 4 40 100 800 0-80 1-20 有 有 有KQ-100V台式超声波清洗器 410× 260× 330 300× 150× 130 5.8 40 100 600 0-80 1-20 有 有 有台式超声波清洗器KQ116/KQ118台式微型超声波清洗器/KQ218台式超声波清洗器主要特点： 附设溶液加热装置；温控范围0&mdash 80oC ；清洗器的外壳除KQ118、218、50E采用优质工程塑料之外，其余全部采用优质不锈钢板；附设超声定时装置，1&mdash 20分钟内任意设定。

丹麦Sciteq公司为专业的管材测试仪器制造商，产品涵盖管材物理性能测试需求的各个方面，通过大量开创性的研发设计以及可靠的产品质量，Sciteq成为专业的管材测试仪器供应商。SCITEQ慢速裂纹刻痕仪是根据EN、CEN、英国和爱尔兰标准、ISO13479以及国标GB18476中规定，专门针对PE管材的慢速裂纹增长性能测试（即众所周知的抗缺口应力开裂性能测试）来制作切槽测试样品。具体测试工作是将加工出缺口/浅槽的PE管材试样置于80℃左右的水箱中进行耐水压测试而实现的。 SCITEQ制造的慢速裂纹扩展开槽机加工精度是首屈一指的。该仪器在管材表面刻出60°的槽，铣刀尺寸为Ø 76.2 x 12.5 x 25.4 mm，双直角铣切，转速为700 rpm，以150mm/min的速度及一定的深度在管壁上进行铣切。 结构特点铣刀的连续使用寿命大约为100米左右。铣刀从管材表面向缺口顶部进行铣割，铣割深度为管材一端的管壁厚度乘以0.2.。样品的长度必须与样品外径相当或至少要125mm。管子由两个气缸驱动夹持，铣削速率可在规定的最小与最大值之间进行调节。将管材定位于中心非常重要，使用管材夹紧装置很容易做到这一点。安全装置确保铣削时手无法触及铣刀，刻痕仪在铣削区域带有一个光源便于观察。 技术参数 注：须配合静水压测试工作站、水箱、端封、连接管道进行相关测试

台式微焦点文物检测CT该仪器在微焦点文物检测CT的基础上，开发的更小更紧凑的设备，适用于小型低密度文物检测和分析。主要功能：●检测对象内部各部分相对位置状况判定；●检测对象功能分析；●检测对象结构尺寸的测量；●密度测量；●逆向工程应用 主要优势特点：●射线源焦点尺寸为5微米，可对小型文物进行微米级精密分析。●成像方式：2D,3D。●测量功能：测量文物位置，局部尺寸等。●逆向工程：重建出文物前期影像，协助文物修复工作。●体积小，便于移动。

DOS-808A型实验室溶氧仪上海博取DOS-808A台式微量溶氧仪+溶解氧测定仪/溶氧仪 DOS-808A中文台式溶解氧仪是我公司生产的实验室电化学分析仪之一,可以配（ppb级或ppm级）极谱式电极，自动实现从ppb级到ppm级的宽范围测量，可以用电池供电便携至现场测，也可以用电源供电在实验室使用，适合各种工业及实验室测量。仪器特点：全中文显示,界面美观：采用高分辨率的液晶显示模块,所有的数据、状态和操作提示都是中文显示,完全没有厂家自己定义的符号或代码。历史数据功能：在测量状态时按存储键，二次表自动存储测量的氧浓度值和温度值,可存储3000组数据。存储50次标定的方式、时间和结果,以分析电极的变化规律背光功能：可在光线昏暗或彻底没光亮的环境下使用,根据温度变化,自动调节对比度,使显示始终清晰。工业控制式看门狗：确保仪表不会死机。四种标定方式：除传统的一点和两点标定方法外,还有手动输入零点和斜率以及已知氧浓度值标定等方法,以满足在各种情况下的使用。技术特点：1、测量范围：0～100.0 ug/L；0～20.00 mg/L（自动切换）；0～60℃；饱和度：0-200.0%；2、分辨率0.1 ug/L；0.01 mg/L； 0.1℃；3、整机基本误差：ug/L：±1.0%FS；mg/L：±0.5%FS ，温度：±0.5℃；4、自动温度补偿范围：0～60℃，25℃为基准；5、通讯接口讯接口：S232（选配）；6、数据存储：3000组7、电源：220V±10% ，50±1HZ；8、工作条件：环境温度：0～60℃ 相对湿度：85%。上海博取仪器有限公司 联 系 人： 程传军 固定电话：021-20980422

产品类别：摆锤式冲击试验机名　　称：BR-MO/2 冲击试样缺口全自动开槽机品　　牌：西班牙霍伊特产品简介：摆锤冲击试验辅助设备。西班牙霍伊特-可调速的全自动开槽机主要用于快速、高精度的加工用于制作夏比和悬臂梁测试试样的槽口。 拉刀非常容易更换，并已根据ISO、EN、ASTM和BS等标准做出了不同尺寸的刃口。其独有的速度控制器系统，使该设备可以加工更硬的材料，并能够提升拉刀的耐用性。 该机型使用起来非常舒适方便。将对应型号的拉刀安装好以后，通过固定夹钳和调整系统，将试样调整好位置并固定稳妥，然后根据试样的不同材质，选择好相对应的切削速度，按下向下移动的按钮，开始加工。 标准拉刀适用于碳素钢和低合金钢类的冲击试样加工。其特制的带有特殊涂层的拉刀，主要用于切削高强度、高硬度的钢材或者是不锈钢。摆锤冲击试验辅助设备。西班牙霍伊特-可调速的全自动开槽机主要用于快速、高精度的加工用于制作夏比和悬臂梁测试试样的槽口。拉刀非常容易更换，并已根据ISO、EN、ASTM和BS等标准做出了不同尺寸的刃口。其独有的速度控制器系统，使该设备可以加工更硬的材料，并能够提升拉刀的耐用性。该机型使用起来非常舒适方便。将对应型号的拉刀安装好以后，通过固定夹钳和调整系统，将试样调整好位置并固定稳妥，然后根据试样的不同材质，选择好相对应的切削速度，按下向下移动的按钮，开始加工。标准拉刀适用于碳素钢和低合金钢类的冲击试样加工。其特制的带有特殊涂层的拉刀，主要用于切削高强度、高硬度的钢材或者是不锈钢。1、制样速度快、缺口加工精度高、拉刀可快速更换。2、可根据不同硬度的试样，准确调节拉刀的切削速度。3、拉刀表面带有特殊涂层，适用于切削各类高硬度钢材或不锈钢。4、工作台配有千分尺，用于微调冲击试样缺口深度。5、全自动电动加载，精密滚珠丝杆传动，整个制样过程中平稳匀速无顿挫。6、配有集屑盒，切削下来的铁屑可直接落入盒内，避免卷入，损伤刃口。切削速度（mm/s）6 - 30可调回程速度（mm/s）37试样类型（mm）正方形 10 x 10机器尺寸(mm)400 x 400 x 1250重量（kg）125包装尺寸（mm）680 x 680 x 1400含包装总重（kg）满足标准ASTM E23 DIN 148-1 EN 148-1 ISO 148-1 UNE 148-1拉刀类型 根据国际标准EN ISO148-1和ASTM E23在夏比和悬臂梁试样上开槽用的拉刀。槽口深度洛氏HRC 硬度值V2mm42 或 52（带有特殊耐磨涂层）U2mm32 或 45（带有特殊耐磨涂层）U3mm32 或 45（带有特殊耐磨涂层）U5mm32 或 45（带有特殊耐磨涂层）

经济型、实验室级台式微型GTI风洞 X5605GTI 直流式小型风洞X5605，能够提供高精度且稳定的流速，可将风速传感器、皮托管或其他实物模型固定在风洞的可视测试实验段后进行反复吹风，即可得知测试数据或物理量变化。广泛用于开展科研型的缩比模型气动试验和小型零部件气动试验等，也可进行烟流演示试验、六分量测试试验、表面测试试验，更是企业或第三方检测公司用于风速计或皮托管等产品校准检测的理想选择。 功能特点产生0.3~40.0m/s的稳定风速；内置蜂窝器，气流速度分布均匀，气流方向与风洞轴线一致，试验段流场品质得到保证；测试实验段可视化，烟雾气流变化及传感器、实物模型等放置清晰明了；设置灵活，通过调整风机转速即可获得稳定风速；安装方便，占用空间小，无需其他支架或底座加固；操作简单，备用多种安装套件，满足不同管径的传感器安装至试验段测试口； GTI 直流式小型风洞X5605 规格参数型 号X5605风速范围0.3~40.0m/s风洞类型直流吸风式试验段尺寸230xφ120mm（内径）测试口尺寸φ2~20mm外形尺寸1002x237x319mm电 源AC220V 50Hz 450W重 量约20KgGTI 直流式小型风洞X5605经济型、实验室级台式微型GTI风洞 X5605

MLT-V15R台式微量高速离心机产品特点转头型号最高转速（RPM）最大RCF（Xg）离心管容量（mL）离心管描述最大容量适配器FAC15A15000211302ml标准微量管24*2mlFA15A.05FAC15B15000198705mlV底管8*5ml无FAC15E15000211302ml&5ml标准微量管92ml+0.5ml）*24N/AMLT-V15R台式微量高速离心机产品参数型号V15 RV15R Pro最高转速15,000RPM15,000RPM最大RCF21130Xg21130Xg最大容量60ml(12X5ml)60ml(12X5ml)转速精度10RPM10RPM转速/RCF转换有有时间1-99分钟或连续离心功能1-99分钟或连续离心功能显示背光式LCD背光式LCD操作噪音≤53db（A）≤53db（A）加速/减速 时间35秒/16秒35秒/16秒尺寸（长*深*高）290x350x270mm290x580x270mm净重16kg36kg电源230V，50HZ230V，50HZ温控参数/-20℃-+40℃

冲击试样缺口全自动开槽机-适用于塑料及复合材料（西班牙霍伊特） 摆锤冲击试验辅助设备产品介绍西班牙霍伊特全自动开槽机主要采用快速、精确的加工工艺来制作夏比和悬臂梁冲击试验的槽口。该机型主要适用于塑料及复合材料的加工。配有可微调的高精度千分尺，试样槽口的设置精度为 0.01mm。该机器包括一个 EN ISO 179-1 标准的切口刀片。机器尺寸（W x D x H）: 440 x 240 x 200 mm。机器重量: 22 kg。满足标准ASTM D256/A, ASTM D256/B, ASTM D4812, ASTM D6110, DIN 179-1, DIN 180, EN 179-1, EN ISO 179 A, EN 180, EN ISO 179 B,EN ISO 179 C,ISO 179-1, ISO 180, EN ISO 180 A, EN ISO 180 B, UNE 179-1, UNE 180

HI2314意大利哈纳HANNA台式微电脑电导率EC测定仪电导率【EC】：0.0 to 199.9、0 to 1999 µ S/cm、0.00 to 19.99、0.0 to 199.9mS/cmHANNA 的专用四环电导电极，只需一支电极即可完成多量程测量，电极采用PVC材质，不仅适用于实验室，也适用于野外测量新款外观设计，超大屏幕显示，四量程快速手动选择；仪器采用单点校准，自由选择和设定校准点人性化操作界面，三键式温度补偿和校准，操作简单、便捷；手动温度补偿，确保在不同环境下，测量精度和准确；采用*的微电脑技术，实验室定制设计，良好性价比。技术参数：技术指标HI2315HI2314电导率 EC测量范围0.0 to 199.9 μS/cm、0 to 1999 μS/cm0.00 to 19.99 mS/cm、0.0 to 199.9 mS/cm0.0 to 199.9 μS/cm、0 to 1999 μS/cm0.00 to 19.99 mS/cm、0.0 to 199.9 mS/cm解析度0.1 μS/cm、1 μS/cm、0.01 mS/cm、0.1 mS/cm0.1 μS/cm、1 μS/cm、0.01 mS/cm、0.1 mS/cm精度@ 20°C/68°F±1% F.S.（忽略温度探头误差）±1% F.S.（忽略温度探头误差）校准模式手动单点校准依据水样预测数据，选择比较相近的电导率标准缓冲液）手动单点校准依据水样预测数据，选择比较相近的电导率标准缓冲液）温度补偿自动温度补偿 0 to 50°C电导率补偿系数ß ＝0 to 2.5％/°C可调手动温度补偿 0 to 50°C电导率补偿系数ß ＝2.0％/°C其他标配电极HI76303 定制专用内置温度传感器四环电导率EC电极DIN接口，1米线长HI76300 定制专用四环电导率EC电极DIN接口，1米线长电源模式AC230V/12VDC 电源适配器【推荐：HI710006】适用环境0 to 50°C (32 to 122°F)， RH max 95%【无冷凝】尺寸重量主机尺寸：235 x 222 x 109 mm (9.2 x 8.7 x 4.3”)；主机重量：1.3 kg (2.9 lbs.)

贝克曼库尔特Beckman Coulter Microfuge 16 台式微量离心机使用超紧凑的贝克曼库尔特 Microfuge 16 台式微量离心机进行各种常规样品处理和微量样本实验方案。这种微处理器控制的迷你台式离心机可产生各种应用所需的离心力。仪器最大转速：14,800 rpm相对离心力可达：16,163 xg超小体积设计，为紧凑空间量身定做转速高达 14,800 rpm多种适配器可供选择，分离的样品范围为 0.2mL-2.0mL转头采用双排孔设计，每排孔与轴的角度不同，保证双排孔的最大相对离心力保持一致超快的加 / 减速 (13s/11s)，大大缩短运行时间采用无碳刷感应电机，免维护，使用寿命长所有转头都可以高温消毒，保证离心环境的安全整洁特点可进行快速微量离心免维护转子旋转速度可达到 14,800 rpm（相对离心力可达16,163 xg）大型明亮显示屏，简单的按钮键输入且运行完成时可自动释放盖子尽可能地提高生产力通过快速的加速和减速速率缩短处理时间选择脉冲，定时或连续运行以增加灵活性确保操作安全Microfuge 16 台式微量离心机采用无刷感应驱动，安全自动锁闭系统特殊的风冷转子腔设计，可实现多年安全及高性能运行超紧凑设计该仪器占地面积小，尺寸为 8.9×10.5 英寸可容纳 0.2 到 2.2 mL 的各种微量离心管，可选择标准或软启动/停止程序参数仪器型号 Microfuge 16高转速 14,800 rpm大相对离心力 16,163 xg大容量 24 x 1.5 / 2.0 mL时间设定 99 钟 99 秒 连续离心环境温度运行范围 4℃ - 40℃热量输出 90W体积（宽 x深x 高 cm） 22.6 x 26.6 x 17.6重量 6.4 kg订货编号A46473 Microfuge 16 主机A58837 Microfuge 16 主机?带 FX241.5P 定?转头B31606 Microfuge 20 主机B30143 Microfuge 20 主机?带 FA241.5P 定?转头B31614 Microfuge 20R 主机B30154 Microfuge 20R 主机?带 FA241.5P 定?转头

更高转速，更大容量Microfuge® 20系列台式微量离心机配合不同的转头及适配器使用，广泛应用于细胞及菌液的收集、核酸的提取、蛋白质分离等领域，是样品分离的理想选择。满足不同的实验需求? Microfuge® 20 为非制冷型，Microfuge® 20R为制冷型? 具备4中不同的转头可供选择，满足不同的实验需求? 生物安全转头可避免气溶胶外溢，充分保证工作人员及实验环境的安全 转速和容量兼容? 可在15,000rpm (20,627 xg)的最高转速下，实现样品的快速分离? 样品的分离量高达36x1.5/2.0mL 使用方便? 界面直接显示RPM或RCF? 具备多个程序存储功能，方便保存及调用常用的程序? 高效节能

中图仪器NS系列微纳样品接触式微观表面台阶测量仪是一款超精密接触式微观轮廓测量仪器。主要用于台阶高、膜层厚度、表面粗糙度等微观形貌参数的测量。工作过程测量时通过使用2μm半径的金刚石针尖在超精密位移台移动样品时扫描其表面，测针的垂直位移距离被转换为与特征尺寸相匹配的电信号并最终转换为数字点云信号，数据点云信号在分析软件中呈现并使用不同的分析工具来获取相应的台阶高或粗糙度等有关表面质量的数据。结构主要组成部分1、测量系统（1）单拱龙门式设计，结构稳定性好，而且降低了周围环境中声音和震动噪音对测量信号的影响，提高了测量精度。（2）线性可变差动电容传感器（LVDC），具有亚埃级分辨率，13μm量程下可达0.01埃。高信噪比和低线性误差，使得产品能扫描到几纳米至几百微米台阶的形貌特征。（3）传感器设计使得在单一平台上即可实现超微力和正常力测量。测力恒定可调，以适应硬质或软质材料表面。超低惯量设计和微小电磁力控制，实现无接触损伤的精准接触式测量。2、工件台（1）精密的XY平台结合360°连续旋转电动旋转台，可以对样品的位置以及角度进行调节，三维位置均可以调节，利于样品调整。（2）超高直线度导轨，有效避免运动中的细微抖动，提高扫描精度，真是反映工件微小形貌。 3、成像系统500万像素高分辨率彩色摄像机，即时进行高精度定位测量。可以将探针的形貌图像传输到控制电脑上，使得测量更加直观。4、软件系统测量软件包含多个模块。5、减震系统防止微小震动对测量结果的影响，使实验数据更加准确。NS系列微纳样品接触式微观表面台阶测量仪对被测样品的反射率特性、材料种类及硬度等均无特殊要求，广泛应用于半导体、太阳能光伏、光学加工、LED、MEMS器件、微纳材料制备等各行业领域内的工业企业与高校院所等科研单位，其对表面微观形貌参数的准确表征，对于相关材料的评定、性能的分析与加工工艺的改善具有重要意义。产品功能1.参数测量功能1）台阶高度：能够测量纳米到330μm甚至1000μm的台阶高度，可以准确测量蚀刻、溅射、SIMS、沉积、旋涂、CMP等工艺期间沉积或去除的材料；2）粗糙度与波纹度：能够测量样品的粗糙度和波纹度，分析软件通过计算扫描出的微观轮廓曲线，可获取粗糙度与波纹度相关的Ra、RMS、Rv、Rp、Rz等20余项参数； 3）翘曲与形状：能够测量样品表面的2D形状或翘曲，如在半导体晶圆制造过程中，因多层沉积层结构中层间不匹配所产生的翘曲或形状变化，或者类似透镜在内的结构高度和曲率半径。2.数采与分析系统1）自定义测量模式：支持用户以自定义输入坐标位置或相对位移量的方式来设定扫描路径的测量模式；2）导航图智能测量模式：支持用户结合导航图、标定数据、即时图像以智能化生成移动命令方式来实现扫描的测量模式。3）SPC统计分析：支持对不同种类被测件进行多种指标参数的分析，针对批量样品的测量数据提供SPC图表以统计数据的变化趋势。3.光学导航功能配备了500W像素的彩色相机，可实时将探针扫描轨迹的形貌图像传输到软件中显示，进行即时的高精度定位测量。4.样品空间姿态调节功能NS系列微纳样品接触式微观表面台阶测量仪配备了精密XY位移台、360°电动旋转平台和电动升降Z轴，可对样品的XYZ、角度等空间姿态进行调节，提高测量精度及效率。性能特点1.亚埃级位移传感器具有亚埃级分辨率，结合单拱龙门式设计降低环境噪声干扰，确保仪器具有良好的测量精度及重复性；2.超微力恒力传感器 1-50mg可调，以适应硬质或软质样品表面，采用超低惯量设计和微小电磁力控制，实现无接触损伤的接触式测量；3.超平扫描平台系统配有超高直线度导轨，杜绝运动中的细微抖动，真实地还原扫描轨迹的轮廓起伏和样件微观形貌。典型应用在太阳能光伏行业的应用台阶仪通过测量膜层表面的台阶高度来计算出膜层的厚度，具有测量精度高、测量速度快、适用范围广等优点。它可以测量各种材料的膜层厚度，包括金属、陶瓷、塑料等。针对测量ITO导电薄膜的应用场景，NS200台阶仪提供如下便捷功能：1）结合了360°旋转台的全电动载物台，能够快速定位到测量标志位；2）对于批量样件，提供自定义多区域测量功能，实现一键多点位测量；3）提供SPC统计分析功能，直观分析测量数值变化趋势；

多功能台式　微米和纳米加工制造仪 适合各式纳米材料及薄膜的表面粗糙度或表面形貌量测。● 无需抽真空及快速的量测取得量测图像。● 直觉性的操作接口。● 一键扫描的快速功能。ACST为科研人员和教育工作者带来了一种先进的、多功能的台式微米和纳米制造的仪器，可以作为研究和教育工具。不仅帮助科研人员拓展他们现有的工作向不同的领域发展，而且还可以帮助教育工作者打夯实基础，教育学生掌握工业用的微米和纳米加工制造技术。COSMOS nanoFAB是一个加工制造仪器，这对我们培养纳米科学家的教育计划至关重要，也为学生在日益增长的微制造和纳米技术领域提供丰富的就业机会。 COSMOS nanoFAB采用了一种非常成熟的设计，充分考虑到其性能、成本和多样性。模块化设计理念允许在不同的技术中使用通用型的机械元件/电子元件，从而保证了使用方便和成本低廉。该仪器完全有能力成为快速j加工或新研究的实验验证工具。在教育领域，COSMOS nanoFAB可应用于表面化学、材料科学、工业应用、电子元件和半导体器件制造、生物分子固化和生物传感应用等领域的教学和应用。可被应用于高解析影像和测量需求，特别是具备次奈米级的 Z 轴分辨率。其低噪声和开回路设计于一体的扫描仪可以快速地针对样本进行扫描。独特光像散式的光路模块提供业界最小的雷射光点，让用户可运用于更小且快速的AFM 探针，COSMOS nanoFAB提供了在纳米和微米加工制造技术方面的功能，这并且在业界得到了很好的认可： ★ 紫外线光刻: 通过一系列的实验，学生们学习了紫外线光刻技术的概念；半导体行业的基本技术★ 微接触印刷（μCP）： 学生们了解这一传统简易的技术，使用有机、无机和生物材料进行纳米/微米的图案加工。★ 纳米压印加工技术（NIL）： 学生操作和实践纳米压印加工技术。业内专家认为，作为半导体行业未来的市场需求，纳米 压印加工技术（NIL）是最具前景的一项技术。 总之，COSMOS nanoFAB可以应用的领域包括：● 表面化学● 材料科学● 工业应用● 半导体器件的电子元件制造● 生物固定和生物传感应用● 直觉式的数据撷取软件 PSX 可提供用户在最基本教育训练下，即可直接操作。值得一提的是，一键扫描功能可自动地设定参数与进行扫描，用户同样能够快速获得高质量的扫描结果。PSX 内建的扫描库管理功能有效地简化扫描数据的整理，以方便用户删除或输出扫描图文件。 ● 永效性的光路校准系统---雷射点实时维持在四象限二极管中心，不须另外校正。● 一键扫描- 藉由智能预测算法，即可轻松点击按键便可进行全自动扫频、下针、做力图曲线、以及扫描样品等相关流程。 应用案例和模块信息介绍-微接触印刷（μCP）: 描述：微接触印刷(μCP)是一种非光刻技术，也是“软刻蚀技术”的前身。μCP是一种常有吸引力的、可以应用于生物技术领域的、用于微米和纳米图案/结构制备的技术。它使用弹性印章，通过将各种分子（从有机分子到大的生物物质）点印到固体基底上，以生成二维的微米和纳米结构。这项技术包括两个主要步骤：印章的制作及印刷，如图所示。包被靶标分子的弹性印章通过预施加的控制来接触基底表面，从而将靶标分子转移到基底上。不同的大小和形状的几何图形可以生成各种各样的印章，例如可以使用大的平面印章或滚动印章(类似于油漆辊)在平面和非平面表面上点印，从而轻松地对很大的区域进行图案制备。印章是由弹性体聚合物制成，如聚二甲基硅氧烷(PDMS)，聚氨酯，聚酰亚胺和树脂等等。 应用：微接触印刷是一个从下而上的加工技术,由于简单方便，高通量和成本低廉，现广泛应用于多个领域，如光学、MEMS、高密度分子电路、微流体、微阵列和生物传感器点印寡核苷酸、固定细胞来研究细胞-细胞和细胞-基底表面的相互作用、生成肽阵列研究免疫实验和生物传感器实验的蛋白质和生物配体。 我们客户还可以探索如何在大尺寸和纳米尺度上点印计算机芯片或者如何制作生物传感器。例如，在实验室里，可以使用大尺寸和纳米尺度的印章，用光刻技术制作纳米印章模板和聚合物。印章将被包被有机小分子与黄金等贵金属，然后点印在黄金薄膜的基底上，随后的是金的湿蚀刻，没有被有机分子保护的区域将被蚀刻。在这样的一个实验中，印章上的结构将被复制到基底上。 应用案例和模块信息介绍-光刻技术: 光刻技术是当今世界上最成功的精密加工技术之一。自1959年发明以来，它就是最有价值和最有利润的行业，最初是开发出来用于微电子工业（集成电路平面技术），现在也被用来制造微型器件（硅晶体平面的三维结构材料刻蚀)。从那以后，这个行业一直在广泛需求中不断发展，包括单个电路元件和整合的半导体材料，基本上所有的集成电路是用光刻技术制造的。光刻工艺概述如图所示，预先设计的图案是从光掩模（例如用电子束光刻法）传送到靶标的硅基底。该程序包括以下常用的步骤: 1、在硅片层基底上包被一层薄薄的紫外线敏感的聚合物抗蚀剂（光刻胶）（图2a，图2b）。 2、随后紫外光透过有图案的印章（图2c）进行照射，只有部分抗蚀剂暴露在紫外线下，这引起了抗蚀溶解度的变化。然后将印章放置于离样品尽可能近的地方但是不接触，如图2c所示。由于光衍射，辐射面积会增大一些，大于印章对应的开口区域（这将导致分辨率降低）。这种光刻蚀程序只能用于创建尺寸小于辐射波长的图案和器件。因此，半导体工业也开始使用更短波长的光线来做辐射。 3、紫外线曝光后，将样品浸入显影剂中，以便从显影剂中除去光刻胶暴露在光线下的地方（图2d）。 4. 硅晶片上的抗蚀图案随后被用来从裸片上蚀刻材料（将硅晶片暴露于蚀刻剂）（图2e）或沉积电路设计需要的其他材料。最后光刻胶完全脱离硅晶片（图2）。 在这四个步骤之后，抗蚀剂（光刻胶）上的图案特征被转移到硅晶片的基底上（步骤f）。整个过程可以按电路设计要求重复多次。 用途：光刻蚀是一种从上而下的制作工艺，选择光刻蚀工艺是因为它可以产生小到几十纳米的图案，并提供精确的控制形状，大小，并且制备成本非常低。 光刻技术被广泛应用于从微电子到生命科学的各个行业，在可预见的未来，它还将是微处理器、存储器和其他微电子设备信息技术的基础。此外，它还用于许多设备的制造业和小型化，从而带来了高性能、可移植性、节约时间、节省成本、节省试剂、提高生产通量、改善功耗、提高检测限度以及新功能的开发。 应用案例和模块信息介绍-纳米压印加工技术（NIL）: 描述：纳米压印加工技术（NIL）是基于一种与传统微加工有着根本区别的原理，该技术具有高通量，小于10纳米分辨率和低成本的优点，是目前其他现有刻蚀方法无法达到的。在压印过程中，图案被热敏或紫外光复制到抗蚀剂中，然后被转移到下面的基底上。在热敏纳米压印加工技术（NIL）(T-NIL)工艺中，将表面具有纳米结构的模具压入基底上铸造的薄层抗蚀剂中。抗蚀剂是一种热敏塑料，由于粘度低，在玻璃化温度（Tg）以上时容易变形。当抗蚀剂冷却到Tg以下时，模具被移除，模具的图案被复制在抗蚀剂中。在光固化纳米压印加工技术（UV- NIL）中，将模具在室温下，压入顶层的UV光刻胶中，然后紫外照射交联抗蚀剂，最后模具复制品转移到底层的抗蚀剂和基底上。 在这两个过程中，模具表面都涂上了钝化层，以防止在分离过程中抗蚀剂粘在模具上。在图案转移过程中，利用反应离子刻蚀~RIE等各向异性刻蚀工艺去除压缩区域的残余抗蚀剂，将压印中产生的厚度对比图案转移到整个抗蚀剂中。 应用：为了加快纳米结构的研究和商业化，必须有一个高通量和低成本的纳米加工技术，来实现尺寸、形状和间距完全自由化的设计。这就是为什么纳米压印会快速发展，并且它已经扩展到许多学科，如微电子学、生物学、化学、医学和信息存储。还有希望应用于光学器件、磁存储器、微电子机械系统、生物技术、微波器件的三D打印、生物技术中使用的微流控通道、存储器VRAM的环形结构、无源光学元件等。

Titan-15密闭式微波消解/萃取工作平台

TITAN-12密闭式微波消解/萃取工作平台

TITAN-24密闭式微波消解/萃取工作平台

法国Black Hole Lab一站式微流控SU8模具台式工作站SU-8光刻台式工作站涵盖您在实验室加工微流体模具所需要的一切组件，即使没有超净间，凭借该工作站，您也可以加工出来具有与超净间相同的分辨率的模具。SU-8模具工作站可以缩短芯片加工的总时间。SU-8模具加工站是一个交钥匙的产品，无需购买任何其他设备。基本上仅需要一个化学通风厨和少量的工作空间。我们也可以根据您实验室内现有的设备来调整报价。优势&特点：（1）为易用性设计，达到与超净室相同的图案分辨率（2）易于通过面板或PC进行操作编程（3）能够设置多种加速度和速度的复杂序列（4）无堵塞，延长使用寿命（5）低振动，转速高达12000 rpm（6）提供晶圆对中工具（7）即使没有微流控加工的初步知识，也可以熟练的加工模具包含的工作组件：（1）可编程旋涂机（2）可编程数码电热板（3）可编程UV灯系统包括所有化学药品（SU-8，SU-8显影液、Omnicoat、异丙醇、丙酮等）和所有实验室配件（微量移液枪、计时器、玻璃器皿、封口膜、镊子、金刚石刮板、硅片、玻璃载玻片、一次性杯子、搅拌棒、手术刀等），以便为您提供完整的套件。 可编程旋涂机：适用于软光刻应用的设备该旋涂机结构紧凑，并且具有可编程功能。它适用于直径?150 mm的晶圆和5” × 5”（127 mm × 127 mm）的基板。此旋涂机经过微调，可加工可控和可重复的SU-8光致抗蚀剂层。其紧凑的尺寸和附加的小控制面板使该设备实现真正的移动。该旋涂机已广泛应用于SU-8光刻胶涂层。盖子上的孔可以进行动态SU-8涂覆。通过蓝牙轻松连接到您的PC，您可以保存并命名您的实验配方。主要优势（1）为易用性设计（2）易于通过操作面板或PC进行编程（3）能够设置多种加速度和速度的复杂序列（4）无堵塞，延长使用寿命（5）低振动（6）转速高达12000 rpm（7）提供晶圆对中工具可编程数码电热板：适用于软光刻应用的设备确保准确、均匀且稳定的温度设定点。该数字式热板设备可设置温度斜坡以进行加热和冷却。通过可编程控件使您的生活更加轻松，这些控件可以实现光刻过程的自动化。可编程热板的顶板和很大的加热表面积使它具有足够宽的区域，温度均匀，可以在4英寸的晶片上有效地烘烤SU-8光刻胶。温度斜坡使得能够减小光致抗蚀剂层内部的机械应力。可编程工具可进行长时间的光刻胶烘烤，而无需停留在设备的面。主要优势：（1）加热和冷却的温度斜坡曲线（2）4英寸晶圆的高温均匀性（3）微处理器显示屏保持温度恒定（4）小温度超调（5）自动计时器（6）光滑的铝板，易于清洁光刻胶可编程UV灯系统：适用于软光刻应用的设备独特的UV LED曝光和遮罩系统（可选），具有365 nm或者385 nm波长的可用光源。这是一种非常紧凑的台式系统，能够对直径大为4英寸的晶圆表面积进行曝光。该自动UV曝光系统与硬（物理）或软（接近）掩膜触点兼容，并具有可变的掩膜到基板距离的控制功能。该UV曝光系统具有2μm的分辨率，特别适合软光刻应用。闪光曝光可以减少光刻胶的内部机械应力。其体积小巧，可将其安装在所需的任何位置，尤其是在洁净室之外。主要优势：（1）晶圆表面上方的wan美单色曝光（带宽低于10 nm）（2）冷紫外线（3）光线发散角＜2°（4）强大的功率密度（5）LED使用寿命长：超过1万小时，相当于8-10年的使用时间（6）用户友好的触摸屏界面，可进行曝光周期编程（7）无需预热时间（8）直观的UV光源强度控制（9）自动化晶圆加载和卸载系统（10）可与玻璃和塑料光罩一起使用（11）在4英寸晶圆上具有很高的紫外线均匀度（12）集成紫外线仪表更多内容：自动匹配您实验室现有设备的报价！由于每个实验室都是不同的，因此，每个研究都是独特的，所以我们会根据实际需求尽可能地调整报价。我们与您一起讨论什么是效率高的设备，从而增加或删除设备、配件、化学品等等。微流控芯片PDMS加工实验室空间方案图

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