X射线荧光镀层测厚仪,涂层镀层测厚仪X射线荧光镀层测厚及材料分析仪系列测量方向产品型号应用范围检测器射线管基本滤片准值器数量/尺寸(mm)C型开槽从下往上XUL一款适合电镀厂测量镀层厚度的性价比高的仪器,它配备了一个固定的准值器和滤,射线管出射点稍大,非常适合测量点在1mm以上的应用。对于测量典型电镀层厚度的应用,如Cr/Ni/Cu等,非常合适。PC标准11(Φ0.3)是XULM多用途的镀层厚度测量仪。无论是薄的还是厚的镀层(如50nm Au或100um Sn)都通过选择好的高压滤片组合很好的测量。微聚焦管可以达到在很短的测量距离内小到100um的测量点大小。高达数kcps的计数率可以被比例接收器接收到。PC微聚焦34(0.05*0.05-Φ0.3)是XAN110/120专门为分析金合金开发的划算的仪器。比较XAN而言,只有一个固定的准直器和固定的滤片,特别适合贵金属分析。XAN 110配备比例接收器,适于几种合金元素的简单分析。XAN120配备了半导体接收器,更可以应用于多元素的复杂分析。PC(XAN 110)PC(XAN 120)标准11(Φ0.3XAN110)1(Φ1XAN120)否XAN分析专用仪器,测量方赂从下到上。用途广泛。测量室全封闭,可以使作大准直器分析,高计数康可也可被硅漂移探测器处理。激发和辐射检测方式与XDV-SDD相同。它是金合金分析和塑料中有害物质衡量分析的理想仪器。PINSDD微聚焦3/64(Φ0.2-Φ2)否从上往下测量XDL适合镀层厚度测量的耐用仪器,即使大测量距离也可以测量(DCM,范围0-80mm)配备一个固定的准值器和固定的滤片。适合测量点在1mm以上的应用;跟XUL类似。可选 用自动测量的可编程工作台。PC标准11(Φ0.3)是XDLM比XDL适用面更广,配备微聚焦管,4个可切换的准直器和3个基本滤片。测量头与XULM想似;适合于测量小的结构如接插件触点或印刷线路板,也可以测量大的工作(DCM,范围0-80mm)PC微聚焦34(0.05*0.05-Φ0.3)是XDAL与XDLM类似但配备了半导体接收器。这样就可能可以分析元素和测量超薄层(基于良好的信噪比)。比较适合测量结构较大的样品。PIN微聚焦34(Φ0.1-Φ0.6)是XDC-SDD适合于全部应用的高端机型。根据测量点大小和光谱组成,激发方式灵活多样。配备了硅漂移接收器,即使强度高达100kcps的信号也可以在不损失分辨率的情况下处理。SDD微聚焦64(Φ0.1-Φ0.3)否SDV-U专用微观分析的测量仪器。根据X射线光学部件的不同,可以分析小到100um或更小的结构。强度很高所以精度也非常好。即使很薄的镀层,测量不确定性小于1nm也是可能的。仅适于测量表面平整或接近平整的样品。SDD微聚焦4多毛细管系统是XDV-Vacuum具备综合测量能力的通用高端机型。与XDV-XDD相当。但可外配备了可抽真空的测量室,这样就使得分析从原子序数Z=11(Na)开始的轻元素成为可能。高精度的马达驱动的XYZ平台和视频摄像头可以精确定位样品位置和测量细小部件。SDD微聚焦64(Φ0.1-Φ3)否在线测量X-RAY 4000用于生产过程中薄膜,金属带或穿孔带的连续测量。测量头可以装配与样品传送方向的直角的位置。操作方便,启动迅速。数据接口可集成到质量管理或控制系统X-RAY54000用于生产线上连续测量的法兰式测量头。测量带状物,薄膜或玻璃的金属元素。在空气和真空都可以测量。提供水冷版本仪器。 X射线荧光镀层测厚仪,涂层镀层测厚仪用途:由于能量色散X射线荧光光谱法可以分析材料成分和测量薄镀层及镀层系统,因而应用广泛 在电子和半导体产业里,测量触点上薄金,铂和镍层厚度或痕量分析。在钟表和珠宝行业或采矿精炼工业中,精确分析贵金属合金组分。在质量管控和来料检验中,需要确保产品或零部件完全满足材料设计规范。如在太阳能光伏电池产业中,光伏薄膜的成分组成和厚度大小决定了光伏电池的效率。在电镀行业中,则需要测量大批量部件的厚度。对于电子产品的生产者和采购者,检验产品是否符合《限制在电子电气产品中使用有害物质的指令》(ROHS指令)也是十分关键的。在玩具工业中,也需要有可靠的有害物质检测手段对于以上测量应用,菲希尔的FISCHERSCOPE X-射线光变仪都能完美胜任。 X射线荧光镀层测厚仪,涂层镀层测厚仪用途领域:1、钟表,首饰,眼镜 2、汽车及紧固件 3、卫浴五金4、连接器5、化学药水6、通信7、半导体封装测试8、电子元器件 9、PCB(线路板)
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