离子束刻蚀系统

上海屹持光电技术有限公司专业提供各种微纳结构加工服务典型案例： FIB加工微纳结构 紫外光刻微纳结构单晶硅反应离子刻蚀图片 ICP刻蚀微纳结构纳米压印点线图微流控细胞打印EBL 刻写微纳阵列FIB用于器件电极沉积激光直写图案激光直写器件微纳结构加工主要设备1，电子束曝光系统；2，聚焦离子束/ 扫描电子显微镜双束系统；3，双面对准接触式紫外光刻机；4，单面对准紫外光刻机；5，金属高密度等离子体刻蚀机；6，硅刻蚀高密度等离子体刻蚀机；7，反应等离子体刻蚀机；8，纳米压印机。

STRIP,TOMAHAWK,#02光阑条，用于原厂聚焦离子束TOMAHAWK型号的离子枪，光阑条是一个条状薄片上有多个不同孔径的圆孔，通过不同的孔径限制离子束的电流强度。以实现不同离子束电流间的切换。大束科技是一家以自主技术驱动的电子显微镜系列核心配件研发制造的供应商和技术服务商。目前公司主要生产电子显微镜的核心配件离子源、电子源以及配套耗材抑制极、拔出极、光阑等销往国内外市场，此外，还为用户提供定制化电子显微镜以及电子枪系统等的维修服务，以及其他技术服务和产品升级等一站式、全方位的支持。在场发射电子源（电子显微镜灯丝）、离子源以及电镜上的高低压电源、电镜控制系统研发制造等领域等均具有优势。

SUPPRESSOR,SW CONSUMABLE抑制极极电极，用于原厂聚焦离子束设备SW型号的离子枪，抑制极是聚焦离子束加载抑制极电压的电极，与拉出极配合，可对聚焦离子束的发射电流进行调节。大束科技是一家以自主技术驱动的电子显微镜系列核心配件研发制造的供应商和技术服务商。目前公司主要生产电子显微镜的核心配件离子源、电子源以及配套耗材抑制极、拔出极、光阑等销往国内外市场，此外，还为用户提供定制化电子显微镜以及电子枪系统等的维修服务，以及其他技术服务和产品升级等一站式、全方位的支持。在场发射电子源（电子显微镜灯丝）、离子源以及电镜上的高低压电源、电镜控制系统研发制造等领域等均具有优势。

EXTRACTOR ASSY,HT-SW拉出极电极，用于原厂聚焦离子束设备HT-SW型号的离子枪，拉出极是聚焦离子束加载拉出极高压的电极，用于将液态金属镓离子化，形成离子束。大束科技（北京）有限责任公司成立于2018年，是一家以自主技术驱动的电子显微镜系列核心配件研发制造的供应商和技术服务商。电子显微镜属于高端精密仪器，密集应用于我国的基础教学、科研平台、高科技项目研发等领域。目前公司主要生产电子显微镜的核心配件离子源、电子源以及配套耗材抑制极、拔出极、光阑等销往国内外市场，此外，还为用户提供定制化电子显微镜以及电子枪系统等的维修服务，以及其他技术服务和产品升级等一站式、全方位的支持。在场发射电子源（电子显微镜灯丝）、离子源以及电镜上的高低压电源、电镜控制系统研发制造等领域等均具有优势。

高品质的光阑，专为扫描电镜和透射电镜、电子探针、聚焦离子束和X-射线仪而设计。高精密的钻孔和形状，可以避免电子散射。孔径符合制造商预先设计的严格的公差。材质有铂合金（Pt / Ir ，95:5 ％ ）、钼（Mo），金（Au）。每种孔径厚度的光阑又有A、B、C、D四种不同规格和形状，孔径可用于目前所有品牌的EM系统制造商： FEI /飞利浦，日本电子，日立，蔡司/ LEO ， CAMECA ，拓普康，TESCAN， CamScan等 。用户也可根据自己的实际需要设计加工新的光阑。产品包装实拍图：产品编号产品名称规格产地OZ63400黄金光阑直径：3mm 20um,AU中国

M1030 全自动样品制备系统（ASaP），它能显著的提高经过切割、机械打磨和FIB加工的SEM样品的图象质量和分析数据的准确性，集等离子清洗、离子束刻蚀、反应离子束刻蚀、离子束喷镀功能于一身。带有气锁装置的装样系统，使得样品即使是在更换时也不影响整个设备的真空状态。样品尺寸：直径最大为25mm，厚度可达12.5mm

线性ECR宽波束离子源图1 EC/L600线性宽波束离子源产品介绍ECR离子源是利用稀薄气体中的高频放电现象使中性原子或分子电离，并从中引出离子束流的装置。在离子源内，等离子体运动轨迹是一条螺旋线。当电磁场的频率ω等于回旋频率ωc时，电子会发生共振吸收，此时电子对微波电场的能量产生很强的吸收(提高几个数量级），获得巨大能量的电子会撞击原子产生新的电子，而电离出的电子很快也会发生回旋共振，撞击原子产生更多的电子，从而使得真空室内等离子体可以达到很高的浓度。电子回旋共振不但让电子获得的能量大幅增加，而且使得电子和原子碰撞的几率大大增加，这使得等离子体的浓度得到很大提高。多个单ECR离子源结合到一起，组成线性ECR宽波束离子源。 1. EC/L600线性宽波束离子源使用简单、紧凑的微波耦合的无灯丝源，配备特殊电网绝缘调节系统，在交变电场与永磁体的静磁场的作用下，等离子体在真空室内部发生产生电子回旋共振(ECR)，拥有长达2米的工作模块，均匀离子流超过总长度的65**。2. EC/L600线性宽波束离子源使用功能陶瓷，维护方便快捷，工作寿命长（超过300小时），所有的惰性气体以及氧气等活性气体均可适用于离子源，栅网系统有多种形状与材料，方便实现**佳工艺适应。 技术规范图2 EC/L600线性宽波束离子源尺寸布局参数EC/L600类型法兰安装射频激励离子源多孔径提取栅网源材料放电管：Al2O3栅网：C微波天线的真空分离：二氧化硅杯永磁体：NdFeB外壳：不锈钢磁屏蔽：镀镍钢栅网类型2栅网或3栅网系统2种不同焦距的标准系统型号深度：标准110 mm（可调为250 mm）235 mm x 675 mm（无法兰）重量约75kg法兰带O形密封圈的非标准矩形法兰340 mm x 775 mm微波电源每个模块在2.45 GHz时约125-400 W离子电流**大1 A（取决于栅网类型和运行条件）离子能量100 到 2000 eV加速电压0 –1000 V过程气体惰性气体，N2（无限制）O2和含卤素气体（栅极寿命缩短）气流流量5-20sccm接头：1/8“Swagelock（空气和真空）冷却水1.5 l/min电连接6 mm Swagelock

这些盖玻片都由纯白玻璃制造，表面刻蚀了永久栅格。它有2种型式可选：l 方形刻蚀坐标盖玻片2号厚度的盖玻片有520个带标记的方格，每个方格的大小是600 x 600μm方便细胞或染色体的展开l 圆形刻蚀坐标盖玻片25mm直径。厚度2号的盖玻片有1-200个方格，每个方格500um宽可以放入六孔板适合活细胞的生长观察订购信息：货号产品名称规格72264-18刻蚀坐标盖玻片18 x 18 mm 25/盒 72264-23 刻蚀坐标盖玻片23 x 23 mm 25/盒72265-12刻蚀坐标盖玻片12 mm Diameter25/盒72265-25刻蚀坐标盖玻片25mm Diameter25/盒72265-50刻蚀坐标盖玻片25mm Photo-Etched German Glass 25/盒

这些盖玻片都由纯白玻璃制造，表面刻蚀了永久栅格。它有2种型式可选：l 方形刻蚀坐标盖玻片2号厚度的盖玻片有520个带标记的方格，每个方格的大小是600 x 600μm方便细胞或染色体的展开l 圆形刻蚀坐标盖玻片25mm直径。厚度2号的盖玻片有1-200个方格，每个方格500um宽可以放入六孔板适合活细胞的生长观察订购信息：货号产品名称规格72264-18刻蚀坐标盖玻片18 x 18 mm 25/盒 72264-23 刻蚀坐标盖玻片23 x 23 mm 25/盒72265-12刻蚀坐标盖玻片12 mm Diameter25/盒72265-25刻蚀坐标盖玻片25mm Diameter25/盒72265-50刻蚀坐标盖玻片25mm Photo-Etched German Glass 25/盒

【产品详情】Wenol金属抛光膏特别推荐用于电子显微镜SEM/TEM、离子束刻蚀系统、真空镀膜系统等各种设备的主要金属部件清洁擦亮剂。Wenol金属抛光膏为石油基清洁剂，不含硅基，清洁后的残余物很容易清除，更适用于如不锈钢等硬金属的表面，不建议用于铝等软金属。【规格详情】管装容量100ml产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

钙离子成像系统配件是测量显微镜下的生物样本中荧光强度的变化仪器高速钙成像系统,兼具高灵敏度和高速度的优势钙离子成像系统配件有单探测器和双探测器两种配置，分别对应于单发射和双发射实验，并且为比例测量提供特殊的双激发模式。钙成像系统特别适合： 测量或双发射实验 高灵敏度或高速实验 FRET测 无缝对接荧光和电生理学的实验是测量荧光强度变化的高速钙成像系统，可用于钙离子浓度测,钙离子成像.钙离子成像系统配件基本配置包括可编程控制光源(用于安装到显微镜上)取景器（用于选择测量区域）荧光探测器（基于光电二极管技术）控制单元（具有信号处理功能）对于采集速度大于1KHz的实验，可使用光电倍增管替代光电二极管以满足高速测量的要求，但是这仅适用于单发射钙离子成像系统配件配置方案单通道荧光测光系统配置光源（多色光源rome V）取景器（配带相机和显示器）取景器显微镜适配器探测器配带控制单元一个或多个双发射滤波片立方体一个或多个双发滤波片组件钙离子成像系统配件特色取景器控制测量区域测量区域的大小和位置可通过取景器的视场自由定位视频可视化调节测量区域同时进行样品荧光测量和红光可视化测量区域重叠显示在样品的发射图像上光电二极管探测---高灵敏度且承受过度曝光具有超高灵敏度和极低噪音，量子效率高达97％耐用不怕过度曝光最大采集速率高达1KHz，使用光电倍增管可获得更高的速度控制单元带有荧光探测模块---简化数据采集钙离子成像系统配件应用 测量分子内离子浓度（钙离子，镁离子，钾离子，PH等）FR ET测量单波长染料不需要空间分辨率的所有荧光测量

产 品 详 情 原装进口Omniprobe lift-out FIB专用载网，完美支持FIN或SEM/FIN系统对样品的处理和观察。载网上的齿针使样品在受到离子轰击时仍能保持稳定，同时下部的字母方便区别样品编号。载网厚度约为25-30μm。

在扫描电镜、聚焦离子束和双束 系统上进行纳米操纵和测量的最 佳方案. 主要应用 纳米结构的电学测量和表征 纳米结构的力学测量和表征 微米纳米尺度组装 透射电镜、拉曼和其它分析仪器 的样品制备 表面科学实验和研究 纳米连接技术研发 原位纳米尺度样品定位

Xact 自动电镜样品制备系统 SELA是一家半导体行业最前沿的产品表征和失效分析设备的制造商，隆重推出了提供优异样品质量、可以大幅度降低周转时 间和提高生产率的Xact技术，是一个使用全新的AIM技术的TEM样 品制备系统。SELA 公司独创的自适应离子研磨技术比传统的聚焦离子束（FIB）技术更优越， AIM 可以将大面积材料制作的样品宽度降 低到 50nm以下，精确度高，免人工且产量较高。SELA的最新系统 -Xact，推出了一种独特的双束技术，可以 获得更清晰的无伪影样品图像和更精确的终点探测。 Xact 结合 SELA 的扫描电镜定向的微劈尖方法 ，可以满足半导体行业和纳米技术领域中高质量标准、自动化表征以及失效分析的要求。 Xact和SELA最新的独立的预减薄系统（EM3）为 TEM和SEM提供了一个综合的，高性价比的样品制备方法，预减薄和最终减薄 是两个独立且优化的设备，可以同时进行两个过程，从而提高整 体的生产率。这也会降低单个样品的制作成本，进而提高具有高质量、大面积和终点探测的样品制备工作的成功率。产品优势※ 无可匹敌的质量，免人工※ 高精度的特定区域研磨※ 常规薄片减薄到30nm以下，覆盖大面积相关区域※ 各方向薄区硬度均可满足要求※ 高效生产，带有突破性终点探测※ 采用独特的动态氙离子束减薄的AIM技术自适应性离子减薄（AIM技术）入射角：0～30°全球定位：0～360°※ 能量变化：1～10keV※ 精抛：1000～1600eV※ 点轮廓：圆形或者椭圆※ 点尺寸：10～1000μm※ 最大电流：20μA扫描范围：200μm研磨速度：粗抛 0.5～2μm/min精抛 5～20nm/minSEM/STEM※ SEM/STEM实时图像监控※ STEM基于实时厚度监控※ SEM采用钨或者LaB6灯丝※ 三点的暗场/明场的热电探测器加工参数 自动光束校正的光学部件 厚度测量范围5～2000nm 非晶态1～2nm※ 进程中的厚度变化控制※ 进程中的表面质量控制※ 研磨质量控制※ 基于厚度测量反馈进行样品剖面优化※ 感兴趣区域/厚度：10μm/40μm/操控器 反转倾斜-360°※ 五轴快速样品触发器※ 通过扩展X轴载入样品※ 自动样品准直和定位

液态镓离子源，应用于原厂的聚焦离子束设备，液态镓离子源是将液态金属镓灌入尖端的漏斗状结构，在拉出极高压的作用下形成镓离子束。大束科技（北京）有限责任公司成立于2018年，是一家以自主技术驱动的电子显微镜系列核心配件研发制造的供应商和技术服务商。电子显微镜属于高端精密仪器，密集应用于我国的基础教学、科研平台、高科技项目研发等领域。目前公司主要生产电子显微镜的核心配件离子源、电子源以及配套耗材抑制极、拔出极、光阑等销往国内外市场，此外，还为用户提供定制化电子显微镜以及电子枪系统等的维修服务，以及其他技术服务和产品升级等一站式、全方位的支持。在场发射电子源（电子显微镜灯丝）、离子源以及电镜上的高低压电源、电镜控制系统研发制造等领域等均具有优势。

安捷伦生产了多种用于 7500 ICP-MS 系列产品的优质离子透镜。静电离子透镜在离子穿过真空系统进入质谱仪和检测器，即最后一个真空室时将它们聚焦成密集的“离子束”。离子透镜还能将离子从光子和残留的中性物质中分离出来与其他配置相比，“离轴”离子透镜的离子传输效率更高，质量数范围也更宽。离轴透镜中并没有使用光子挡板，所以仪器总体的离子传输效率更高。还提供各种离轴透镜的组件和附件。离子传输效率极高的离轴或 omega 透镜能够将带正电荷的离子与光子和中性颗粒分开。可提供两种提取透镜。提取透镜的位置正好在截取锥后面，安装在截取锥基座上。它们的作用是提取正离子并将正离子加速传输到 Einzel 透镜。Omega 透镜由 5 个透镜（omega 偏置、omega (+)、omega (-)、QP 聚焦和板偏置）组成，其作用是将光子和离子分开，引导离子进入四极杆质谱仪。提供用于提取透镜或 omega 透镜的螺钉和垫片。可提供各种额外的组件和消耗品：透镜清洁及抛光组件包、八极杆和八极杆组件以及用于反应气的管线。

产 品 详 情 原装进口Omniprobe lift-out FIB专用载网，完美支持FIN或SEM/FIN系统对样品的处理和观察。载网上的齿针使样品在受到离子轰击时仍能保持稳定，同时下部的字母方便区别样品编号。载网厚度约为25-30μm。

EC/L800线性宽波束离子源线性ECR宽波束离子源图1 EC/L800线性宽波束离子源产品介绍 ECR离子源是利用稀薄气体中的高频放电现象使中性原子或分子电离，并从中引出离子束流的装置。在离子源内，等离子体运动轨迹是一条螺旋线。当电磁场的频率ω等于回旋频率ωc时，电子会发生共振吸收，此时电子对微波电场的能量产生很强的吸收(提高几个数量级），获得巨大能量的电子会撞击原子产生新的电子，而电离出的电子很快也会发生回旋共振，撞击原子产生更多的电子，从而使得真空室内等离子体可以达到很高的浓度。电子回旋共振不但让电子获得的能量大幅增加，而且使得电子和原子碰撞的几率大大增加，这使得等离子体的浓度得到很大提高。多个单ECR离子源结合到一起，组成线性ECR宽波束离子源。1. EC/L800线性宽波束离子源使用简单、紧凑的微波耦合的无灯丝源，配备特殊电网绝缘调节系统，在交变电场与永磁体的静磁场的作用下，等离子体在真空室内部发生产生电子回旋共振(ECR)，拥有长达2米的工作模块，均匀离子流超过总长度的80**。2. EC/L800线性宽波束离子源使用功能陶瓷，维护方便快捷，工作寿命长（超过300小时），所有的惰性气体以及氧气等活性气体均可适用于离子源，栅网系统有多种形状与材料，方便实现**佳工艺适应。技术规范图2 EC/L800线性宽波束离子源尺寸布局 图3 EC/L800线性宽波束离子源离子束轮廓参数EC/L800类型法兰安装射频激励离子源多孔径提取栅网源材料放电管：Al2O3栅网：C微波天线的真空分离：二氧化硅杯永磁体：NdFeB外壳：不锈钢磁屏蔽：镀镍钢栅网类型2栅网或3栅网系统2种不同焦距的标准系统型号深度：标准104.5 mm235 mm x 875 mm（无法兰）重量约80kg法兰带O形密封圈的非标准矩形法兰340 mm x 975 mm微波电源每个模块在2.45 GHz时约125-400 W离子电流1000 V（1.2 kW）时**大1200mA离子能量100 到 1000 eV加速电压0 –1000 V过程气体惰性气体，N2（无限制）O2和含卤素气体（栅极寿命缩短）气流流量40sccm，6 mm软管的插入式接头冷却水1.5 l/min电连接6 mm Swagelock

适用于 7700/7800/7900 和 8800/8900 型 ICP-MS 安捷伦生产了多种用于市场领先的 7700 ICP-MS 系列产品的优质离子透镜。静电离子透镜在离子穿过真空系统进入容纳质谱仪和检测器的最后一个室时，可保持这些离子聚焦成紧密的“离子束”。离子透镜还能将离子与光子、残留的中性物质分离。与其他配置相比，“离轴”离子透镜的离子传输效率更高，质量数范围也更宽。离轴透镜中并没有使用光子挡板，所以仪器总体的离子传输效率更高。安捷伦还提供各种组件和附件。离子传输效率极高的离轴或 omega 透镜能够将带正电荷的离子与光子和中性颗粒分开。可提供两种提取透镜。提取透镜的位置正好在截取锥后面，安装在截取锥基座上。它们的作用是提取正离子并将正离子加速传输到 Einzel 透镜。Omega 透镜由 5 个透镜（omega 偏置、omega (+)、omega (-)、QP 聚焦和板偏置）组成，其作用是将光子和离子分开，引导离子进入四极杆质谱仪。提供用于提取透镜或 omega 透镜的螺钉和垫片。可提供各种额外的组件和消耗品：透镜清洁及抛光组件包、八极杆和八极杆组件以及用于反应气的管线。

仪器特别采用了“薄轴承”试样台，在减薄过程中对离子束无遮挡而且散热好,更换样品既方便又不易损伤样品。这一特点特别有利于脆性样品（陶瓷、矿物等）的制备。该仪器操作十分简便安全，使用者无需专门培训即可操作，为此设计了下列保护装置，使仪器在使用中更稳定可靠，而且非常安全。1.在样品室中装有聚光照明系统，用于观察样品是否制备完成。2.为了保护观察窗和照明系统，专门设计了自动防污染装置。3.该仪器的真空系统装有防止误操作保护系统，防止由于误操作对扩散泵放气。4.在冷却水系统装有报警装置，当断水时自动报警

适用于 7700/7800/7900 和 8800/8900 型 ICP-MS 安捷伦生产了多种用于市场领先的 7700 ICP-MS 系列产品的优质离子透镜。静电离子透镜在离子穿过真空系统进入容纳质谱仪和检测器的最后一个室时，可保持这些离子聚焦成紧密的“离子束”。离子透镜还能将离子与光子、残留的中性物质分离。与其他配置相比，“离轴”离子透镜的离子传输效率更高，质量数范围也更宽。离轴透镜中并没有使用光子挡板，所以仪器总体的离子传输效率更高。安捷伦还提供各种组件和附件。离子传输效率极高的离轴或 omega 透镜能够将带正电荷的离子与光子和中性颗粒分开。可提供两种提取透镜。提取透镜的位置正好在截取锥后面，安装在截取锥基座上。它们的作用是提取正离子并将正离子加速传输到 Einzel 透镜。Omega 透镜由 5 个透镜（omega 偏置、omega (+)、omega (-)、QP 聚焦和板偏置）组成，其作用是将光子和离子分开，引导离子进入四极杆质谱仪。提供用于提取透镜或 omega 透镜的螺钉和垫片。可提供各种额外的组件和消耗品：透镜清洁及抛光组件包、八极杆和八极杆组件以及用于反应气的管线。

热灯丝宽波束离子源KF/F 40 KF/I 40图1 热灯丝宽波束离子源产品介绍热灯丝阴极离子源是通过加热灯丝发射原初电子，发射出来的原初电子，经过阴极鞘层被加速获得相应于等离子体与阴极之间电位差的能量。等离子体的电位略高于阳极电位。这类高速电子与从进气口均匀进入放电室的气体原子相碰撞形成等离子体，形成的离子被离子光学系统发出形成离子束。 1. KF40使用简单、紧凑的考夫曼离子源，可以方便快速地更换灯丝，配备特殊电网绝缘调节系统，所有的惰性气体以及氮气均可适用于离子源，栅网系统有多种形状与材料。2. KF40安装在仪器内部和外部均可，使用功能陶瓷，维护方便快捷，工作寿命长。技术规范图2 热灯丝宽波束离子源尺寸布局参数KF/F40KF/I40类型法兰安装考夫曼子源多孔径提取栅网内部安装射考夫曼源多孔径提取栅网源材料放电管：Al2O3栅网：C或Mo灯丝固定器：Mo永磁体：AlNiCo外壳：不锈钢灯丝：钨栅网类型2栅网或3栅网系统3种不同焦距的标准系统型号参见上图（无中和器）重量约4.5kg约2.5kg法兰DN 100 CF3个DN 40 CF介质引线阴极电流:**大30A放电电流/电压 **大6A / 150 V离子电流**大25 mA（取决于栅网类型和运行条件）离子能量50 到 1500 eV加速电压0 –1000 V过程气体惰性气体，N2，不能是活性气体气流流量2-7sccm接头：6 mm Swagelock2-7sccm接头：1/8“Swagelock（空气和真空）电连接HV-DC：BNCHC-DC：电源启动空气侧：BNC，电源接通真空侧：包括0.5米真空电缆的电源启动

微纳米图形的制作已成为半导体器件、微机电系统和纳米科学等研究中的基本手段。但传统设备昂贵、庞大，NanoPattern图形发生器可以利用电子束/离子束/探针具有容易控制和分辨率高的特点方便地获得微纳米图形。而且不像普通光刻机需要先制作掩膜，并且有更高的分辨率和灵活性。NanoPattern图形发生器可利用扫描电镜/聚焦离子束/扫描透射电镜的外接扫描口、束流测量装置和二次电子检测输出等而使其升级获得微纳米图形制作的功能并且不损失电镜原来的任何功能。结合扫描电镜/聚焦离子束/扫描透射电镜上的其他功能如电子

微流控芯片光刻机系统配件专业为微流控芯片制作而设计，用于刻画制作微结构表面。微流控芯片光刻机采用多功能一体化设计理念，一台光刻机具有六个传统单一的表面刻划机器的功能，而且不需要无尘环境，用户安装使用不再需要单独建设超净间，从而大大提高用户的使用经济性和方便性。微流控芯片光刻机全自动化和可编程操作，适合几乎所有常用材料，可以根据用户的芯片衬底基片尺寸，形状和厚度进行调节。微流控芯片光刻机是一种无掩模光刻系统，具有两个易操作的软件，用户可以创建个人微结构图案，从单个微通道到复杂的微观结构都可以创建。微流控芯片光刻机具有技术突破性设计和灵活性优势，非常适合加工微纳结构用于MEMS，BioMEMS，微流控系统，传感器，光学元件，MicroPatterning微图案化，实验室单芯片，CMOS传感器和所有其他需要微结构的应用。这款无掩模光刻系统可以快速而轻松地做出许多种微图案结构，从最简单到非常复杂的都可以。它的写入磁头装备有一个激光二极管（波长405纳米- 50毫瓦），光学扫描器和F-θ透镜（405纳米）。激光束根据设定微结构图案而运动。为了方便使用，较好的再现性和较高的质量，焦距是可以根据基片厚度进行调节的。图像采集期间可以使用控制面板调节焦距。几个基片厚度都可以使用。编程参数被保存以供以后使用，修改或其他用户使用。编号名称MSUP基于无掩模光刻系统和湿法刻蚀技术的微结构化表面的单位生产。

产品特点：Parker HydroGen Mate去离子水系统维护工具箱Maintenance Kit for Parker HydroGen Mate DI Water System订货号：22001保修12个月产品名称：72-230型维护套件 （Maintenance Kit for Model 72-230）包括：预滤器（1） 树脂滤芯（2） 接头（1）

蚀刻有双环的载玻片用于荧光免疫检测实验，大小为25*75mm，厚度大约1mm，带有磨砂书写端。订购信息：货号产品名称规格71879-10Two Etched 10mm Circle Slide144/盒71879-11Two Etched 10mm Circle Slide10x144/盒71879-15Two Etched 15mm Circle Slide144/盒71879-16Two Etched 15mm Circle Slide10x144/盒

蚀刻有双环的载玻片用于荧光免疫检测实验，大小为25*75mm，厚度大约1mm，带有磨砂书写端。订购信息：货号产品名称规格71879-10Two Etched 10mm Circle Slide144/盒71879-11Two Etched 10mm Circle Slide10x144/盒71879-15Two Etched 15mm Circle Slide144/盒71879-16Two Etched 15mm Circle Slide10x144/盒

产品特点：离子源清洁粉Ion Source Cleaning Powder订货号：22685当您遇到灵敏度差和高质量丰度不足时，使用这种氧化铝粉末清洁接触样品或离子束的表面。产品名称：离子源清洁粉（Ion Source Cleaning Powder）类似：Agilent 8660-0791 Grace 03-920276-00,5124594

可调ECR离子源图1 EC/A125产品介绍ECR离子源是利用稀薄气体中的高频放电现象使中性原子或分子电离，并从中引出离子束流的装置。在离子源内，等离子体运动轨迹是一条螺旋线。当电磁场的频率ω等于回旋频率ωc时，电子会发生共振吸收，此时电子对微波电场的能量产生很强的吸收(提高几个数量级），获得巨大能量的电子会撞击原子产生新的电子，而电离出的电子很快也会发生回旋共振，撞击原子产生更多的电子，从而使得真空室内等离子体可以达到很高的浓度。电子回旋共振不但让电子获得的能量大幅增加，而且使得电子和原子碰撞的几率大大增加，这使得等离子体的浓度得到很大提高。1. EC125可调离子源用于外部法兰安装，使用简单、紧凑的微波耦合的无灯丝源，配备特殊电网绝缘调节系统，在交变电场与永磁体的静磁场的作用下，等离子体在真空室内部发生产生电子回旋共振(ECR)。2. EC125可调离子源使用功能陶瓷，维护方便快捷，工作寿命长（超过300小时），所有的惰性气体以及氧气等活性气体均可适用于离子源，栅网系统有多种形状与材料，并拥有全方向节点机械调整系统（每个方向10 grd），方便实现**佳工艺适应。技术规范图2 带有PBN的 EC/A125表1参数EC/A125EC/F125类型法兰安装可调射频ECR离子源多孔径提取栅网法兰安装射频ECR离子源多孔径提取栅网源材料放电管：Al2O3栅网：C或Mo微波天线的真空分离：二氧化硅杯永磁体：NdFeB外壳：不锈钢磁屏蔽：镀镍钢栅网类型2栅网或3栅网系统2种不同焦距的标准系统型号插入深度：280 mm（无PBN）直径：220 mm（无PBN）插入深度：135 mm（不带PBN）直径：220 mm（无PBN）重量14.5kg11.5kg法兰DN 250DN200微波电源~125 to 400 W at 2.45 GHz离子电流**大180 mA（取决于电网类型和运行条件）离子能量100 到 2000 eV加速电压0 –1000 V过程气体惰性气体，N2（无限制）O2和含卤素气体（栅极寿命缩短）气流流量5-20sccm接头：1/8“Swagelock（空气和真空）冷却水1.5 l/min接头6 mm Swagelock

产品特点：安捷伦竖式移液系统安捷伦的竖式移液系统是市场上最快速的精确移液工作站。其特点之一是可选配易于互换的 96、384、8 或 16 通道移液头。八个滑动托架排列在移液头的两侧，可以在节省桌面 空间，同时还能访问所有孔板。 移液头采用双轴定位支架，可以从 96、384 和 1536 孔板四边中的任意一边进入微孔板。直观的用户界面让操作者可以容易地创建和运行复杂的移液程序。* 节省空间：独特的八板定位、小型化设计为所有应用节省空间 * 易于整合：可无缝集成到各种安捷伦或第三方的自动化系统上 * 并行处理 在更换其它孔板的同时移液，显著增加了样品处理通量并缩短了试验时间* 节省试剂：100 nL 到 200 μL 的移液范围可节省昂贵的试剂和化合物，所以您可以充满自信地将您的试验体系降到最低订购信息：安捷伦竖式移液系统说明部件号竖式移液工作站G5401A