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离子束清洗系统
仪器信息网离子束清洗系统专题为您提供2024年最新离子束清洗系统价格报价、厂家品牌的相关信息, 包括离子束清洗系统参数、型号等,不管是国产,还是进口品牌的离子束清洗系统您都可以在这里找到。 除此之外,仪器信息网还免费为您整合离子束清洗系统相关的耗材配件、试剂标物,还有离子束清洗系统相关的最新资讯、资料,以及离子束清洗系统相关的解决方案。
离子束清洗系统相关的方案
KRi 射频离子源 IBSD 离子束溅射沉积应用
上海伯东美国 KRi 考夫曼品牌 RF 射频离子源, 无需灯丝提供高能量, 低浓度的宽束离子束, 离子束轰击溅射目标, 溅射的原子(分子)沉积在衬底上形成薄膜, IBSD 离子束溅射沉积 和 IBD 离子束沉积是其典型的应用.
离子束研磨金属样品观察电子通道衬度图像
使用Leica EM TIC 3X三离子束切割仪的平面旋转抛光台抛光大概90分钟后,整片数毫米的样品在电镜下已经看不到划痕,无论在二次电子图像还是背散射电子图像下都非常平整。
等离子清洗仪处理TEM透射电镜样品清洗和活化
SEM/TEM电镜样品对于前处理有如下三点应用需求:1.等离子清洗;2.等离子活化;3.高真空存储。针对扫描电镜领域,导电差的样品易于在场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)和聚焦离子束扫描电子显微镜(FIB-SEM)中形成“积碳”的问题;以及在透射电镜领域,有机污染物影响高分辨成像及STEM成像产生“白框”碳污染的问题,可以通过RF射频离子源在样品放入扫描电镜或透射电镜观察表征之前,对样品进行真空等离子清洗的工艺来减轻甚至消除积碳影响。离子清洗的工作原理为:RF射频离子源通入氧气后产生的等离子体被电磁场束缚于离子源内部;只有部分电中性的活性氧原子由于气压差的作用源源不断地被“挤压”进入到样品腔室内,与样品表面残留的有机污染物发生化学反应,生成CO2,CO,H2O并被真空泵组抽出;最终实现样品成像无积碳之目的,同时提高成像分辨率及衬度。离子活化原理与离子清洗原理类似,RF射频离子源通入氧气后产生的等离子体被电磁场束缚于离子源内部。只有部分电中性的活性氧原子由于气压差的作用源源不断地被“挤压”进入到样品腔室内,与样品表面发生作用,提高表面能使之亲水(表面氧原子与水形成氢键,使后者有序平铺)。但样品的表面能量高,处于不稳定状态,故亲水效果不会维持太久(~几十分钟)。高真空存储电镜样品及透射样品杆的原理为:真空泵组选用无油分子泵和无油隔膜泵,可以避免油污染的影响。并且由于采用分子泵+隔膜泵两级真空系统设计方案,系统能够实现高本底真空度,将样品表面残留气体及污染物抽走,避免样品前处理导致的二次污染问题。
用Leica EM TIC3X三离子束切割仪解剖太阳能电池
这种复合型材料要获得有效截面,机械切割磨抛方式很难保证切割面的平整,也无法避免样品剖面的污染和边缘损伤;如果采用聚焦离子束FIB加工,应对几百微米的加工区域,将耗费大量时间和带来极高的使用成本。因此,氩离子束切割仪几乎成为高效率、低成本的获取无应力损伤和无污染的平整剖面的唯一的选择。
上海伯东 IBE离子束刻蚀(离子铣)基本原理与应用介绍
在半导体制程工艺中,刻蚀(Etch)是指将晶圆上没有被光刻胶覆盖或保护的部分,以化学反应或物理作用的形式加以去除,完成将图形转移到晶圆片表面上的工艺过程。刻蚀分为湿刻蚀(Wet Etching)和干刻蚀(Dry Etching)。干刻蚀则泛指采用气体进行刻蚀的所有工艺,即在晶圆上叠加光刻胶或金属掩模后,将其裸露于刻蚀气体中的工艺。干法刻蚀分为三种:PE等离子体刻蚀、IBE离子束刻蚀和RIE反应离子体刻蚀。
用Leica EM TIC3X三离子束切割仪解剖半导体芯片
1.独特的三离子束系统,可获得最佳的截面处理质量,并可高效获得宽且深的切割区域,大大降低工作时间。并可实现在一次处理过程中最多处理3个样品。因此对有高通量需求的实验室,徕卡EM TIC 3X是最佳解决方案。2.可装配系统,根据您的样品制备需要,可以有针对性地在徕卡EM TIC 3X上装配一体化设计样品台-标准样品台,多样品台或冷冻样品台。3.冷冻样品台针对温度敏感型样品如橡胶或水溶性高分子聚合纤维等,可以使用冷冻样品台对样品进行低温下处理,获得高质量处理结果。样品托和挡板的温度都可达到-150摄氏度。
上海伯东IBE离子束刻蚀用于铌酸锂LiNbO3薄膜刻蚀
随着基于铌酸锂LN的光源、光调制、光探测等重要器件的实现,铌酸锂LN光子集成芯片有望像硅基集成电路一样,成为高速率、高容量、低能耗光学信息处理的重要平台,在光量子计算、大数据中心、人工智能及光传感激光雷达等领域彰显其应用价值。由于铌酸锂LN的特殊化学性能,IBE离子束刻蚀+EBL电子束曝光是最优的解决方案。
伯东NS 10 IBE离子束刻蚀机用于物理量传感器(MEMS)加工
上海伯东某科研客户的研究方向是物理量传感器,用于监测土壤的力学结构变化,一般用于山体、岩石和冻土等环境研究。这种传感器通过镀膜、沉积、刻蚀等工艺多次循环来加工,Au 和 Pt 是传感器加工中常用的涂层,在完成镀膜(溅镀 Sputter 或者电子束蒸镀 E-beam)用传统的湿法刻蚀、ICP 刻蚀和 RIE 刻蚀等工艺无法有效的刻蚀出所需的图形。离子束刻蚀 IBE 作为最有效的刻蚀方案可以解决这个问题,刻蚀那些很难刻蚀的硬质或惰性材料。
FIB-SEM-Ar“三束“系统
日立最新双束FIB系统 NX2000(图1)可以通过对已经加工好的样品再用Ar+离子束进行加工,达到更好的加工效果 。
KRi 离子源 e-beam 电子束蒸发系统辅助镀膜应用
上海伯东美国 KRi 考夫曼离子源 KDC 系列, 通过加热灯丝产生电子, 是典型的考夫曼型离子源, 离子源增强设计输出低电流高能量宽束型离子束, 通过同时的或连续的离子轰击表面使原子(分子)沉积在衬底上形成薄膜, 实现辅助镀膜 IBAD.
等离子清洗机应用范围
等离子清洗机主要可以应用在以下方面:★橡塑行业· 橡胶、复合材料、玻璃、布料、金属等· 在生产线上塑料瓶贴标签前处理湿粘系统替代热熔和扩散;· 使橡胶、塑料就能够进行印刷、粘合、涂覆等操作
摄像头支架在等离子清洗之后的接触角测试
摄像头支架需要进行等离子清洗,清洗之后会跟一些元件粘结到一起,因此我们要在支架进行等离子清洗之后的接触角测试。今天我们就使用CA200接触角测量仪来评估纤维表面的亲疏水性。
Diener等离子清洗机主要应用:汽车行业概述
提高前照灯和尾灯的粘接密封效果,降低粘接成本采用LED技术的现代前照灯可以在汽车的整个寿命期内连续使用,无需更换灯泡,为确保这种长使用寿命,在粘接由聚丙烯和聚碳酸酯制成的前照灯和尾灯时,粘合剂必段具有优异的密封性,并可提供可靠粘接。使用真空等离子清洗机清洗过后,可进行精准的局部预处理,可将所有关键区域中的非极性材料活化,从而确保前照灯的可靠粘接和长期密封。前照灯的等离子活化处理是等离子体技术较成功的工业应用之一。
等离子设备用于清洗行业解说
等离子设备用于清洗几乎所有的材料都能使用等离子进行精密清洗。工艺部件的表面通过离子来的物理轰击而被清洗。 工艺部件的表面也可与特定气体发生化学反应从而被清洗。工艺污染物转化为气相被排出。
杜伯特清洗系统对实验室锥形瓶清洗痛点解决方案
人工清洗锥形瓶,清洗慢,清洗效率低,清洗洁净度无法保障,清洗过程中,一些有毒有害试剂对清洗人员构成人生安全威胁。而杜伯特实验室清洗系统,有效的解决了三角瓶清洗难点、痛点。清洗速度快,清洗效果好,洁净度均一,全程自动化操作,避免清洗人员人工洗瓶时发生的意外事故。
等离子清洗机的优势
清洗对象经等离子清洗之后是干燥的,不需要再经干燥处理即可送往下一道工序。可以提高整个工艺流水线的处理效率;
尔迪盘点:等离子清洗机在医疗行业的应用
等离子清洗机是一种全新的高科技技术,在真空腔体里,通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体,通过等离子体轰击被清洗产品表面,以达到全面的清洗目的!它的应用范围比较广泛。像是橡塑行业、电子行业、半导体行业等都能有所应用。今天主要带大家看一下等离子清洗机在医疗行业的应用。
等离子清洗机的八大应用
等离子清洗机在半导体、电子材料干式清洗中的应用越来越广泛,如硅胶片的光刻胶剥离、除去有机膜、界面活性化、微细研磨、除去碳化膜等领域,等离子产品都发挥了积极的作用。 从研究开发到工艺生产使用,从表面微细加工到表面处理改质,等离子设备有着很广的社会应用需求。在多个领域也都有普遍应用。
影响运动粘度检测精度的因素之一——清洗系统
全自动清洗系统是运动粘度仪提升检测效率、解放人力的重要组件,也是影响检测精度的因素之一。粘度管清洗不彻底,管壁内容易有残油或未完全挥发的清洗溶剂,直接影响样品在粘度管内的正常流动,容易形成交叉污染,造成整组数据或者平行测定超差。
达因特等离子清洗机-针对LED表面处理及解决方案
达因特等离子清洗机-针对LED表面处理及解决方案,测试的玻璃表面涂抹的胶水,但是不会影响Mini LED这种精密的产品,Mini LED表面各个位置的环氧树脂厚度还是很均匀的。
FIB-SEM双束电镜应用之Xe等离子快速切割技术
Xe等离子FIB能够实现微纳米,甚至毫米级的快速加工。Xe等离子FIB的最大束流为2μ A,另外Xe离子的原子量更大,对纯Si的溅射效率比Ga离子约高30%。虽然Xe离子的溅射效率高,但是由于Xe离子的直径较大,Xe等离子束加工样品时产生的注入效应和损伤要比Ga离子束小。
等离子清洗机处理手机PC壳案例,等离子处理后达因值56
清洗过程:PC壳放托盘由PLC控制好丝杆速度,调整高度3.两托盘并排放流水线上过等离子4.两枪头左右进行清洗,提高清洗效果
离子色谱法同时测定鼻清洗液中阴离子与阳离子
本方案利用离子色谱法同时分离测定鼻清洗液中阴离子与阳离子
金属清洗剂中氯离子的测定 应用资料
金属清洗剂中氯离子的测定 应用资料用电位滴定法测定金属清洗剂中的氯离子浓度。首先,向样品中加入水和硝酸溶液,然后用0.1mol/L硝酸银溶液滴定至终点。终点是滴定曲线上的最大拐点。根据硝酸银的滴定体积计算氯离子的浓度。
等离子清洗机在IC封装技术的应用
1.等离子清洗不产生废液排放。2.使用的氩气和氧气安全性高,无环境污染问题。3.经过等离子体处理铜引线框架,可去除有机物和氧化层,同时活化和粗化表面,确保打线和封装的可靠性。
晟鼎精密大气等离子清洗机-走速对比试验
采用大气旋转等离子表面处理设备,在除处理速度不同其他参数全部一致的条件下对比不同处理速度下对样品处理的效果,单从实验数据来看,处理效率相同的情况下,清洗速度越快清洗效果越好,且均匀性也稍强于前者。
实测大气和真空等离子清洗机表面处理,达因笔测试处理结果
采用真空等离子清洗机,型号SPV100,射频电源,功率500W,腔体100L,压缩空气流速150MPa/S,处理180秒,经真空等离子清洗机处理后达因值44。
等离子清洗机用于玻璃行业
等离子清洗技术的最大特点是不分处理对象的基材类型,对金属、半导体和大多数高分子材料,像是玻璃都能很好的清洁处理,常见的有手机玻璃盖板,显示屏,各种光学玻璃、曲面玻璃、玻璃纤维等等。
锂电材料截面微观分析——离子束研磨
伴随着经济全球化进程和化石燃料的大量使用,环境污染和能源短缺的问题日渐突出。为了减少化石燃料使用过程的污染,发展风、光、电可持续再生能源及新型动力电池和高效储能系统,实现可再生能源的合理配置及电力调节,对于提高资源利用效率,解决能源危机和保护环境都具有战略意义。
水文系统标准化清洗方案
随着我国城市化、工业化不断推进,粗放式的发展模式以牺牲环境为代价的,水污染程度日益严重,水质检测工作是全民饮用水水质质量的关键防线,而各规格用于采样、提纯、前处理、分析工作的玻璃器皿的清洗工作又是保障分析数据精确性和权威性的前提,必须保证器皿在下次使用时不受上次实验的影响。而实验室传统的手工清洗器皿的方式存在极大的偶然性,根本不能保障实验的可重复性,玻璃器皿的标准化清洗已是刻不容缓。
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