世界上只有生产基于SiC膜的 FZP利用具有高耐用性、SiC膜和清晰形状的Ta X射线吸收体的FZP能生产坚韧、高精确、清晰的产品。公司的FZP因其高质量而在世界上被广泛用于产品生产。优点公司的由SiC膜和Ta吸收体图案组成的菲涅耳波带板(FZP)具有出色的高耐X射线辐射性、高分辨率和高对比度。只有公司提供基于SiC膜的菲涅耳波带板(FZP)具有出色的高耐X射线辐射性。的FZP由干法蚀刻的Ta组成。吸收体图案清晰,S/N比高,成像缺陷少, 能理想地应用于X射线显微镜、X射线微光束辐射和X射线成像。另外,还提供用于软X射线和极紫外(EUV、XUV)领域的Ta图案/SiN膜型FZP和Au板图案/SiN 膜型FZP。并提供台阶式(基诺全息照片)FZP。特点要点能用于X射线显微镜、EUV显微镜、X射线微光束辐射和同步加速器辐射光束监视等各种X射线应用。出色的高耐X射线辐射性最小区域宽度达25纳米可定制FZP标准产品列表型号宽高比膜材料膜厚度(微米)ΔRn(纳米)D(微米)NTm(纳米)FZP-S38/844.2SiN0.153884550160FZP-S50/805SiN0.25080400250FZP-S40/1555SiN240155970200FZP-S50/3308SiN1503301,650400FZP-S86/4168SiN2864161,200700FZP-100/1558SiN2100155388800FZP-173/2085.8SiN21732083001,000FZP-200/2068SiN22002062551,600FZP-C234/25000.6SiC0.22342,5002,670150※规格可能会变更,恕不预先通告。Rn:最外区域宽度D:直径N:全区域Tm:Ta厚度菲涅耳波带板(FZP)的X射线吸收体图案可按要求定制设计FZP,满足用户的特殊X射线能量、光学设置和聚焦、图像性能。如果本公司的标准产品商品目录中没有所需的产品,请联系我们。图案示意图(φ2.5mm)(光学显微镜)以对角观察的SEM图(SEM)菲涅耳波带板(FZP)的结构二进制型台阶(基诺全息照片)式最小区域宽度(最外区域)25纳米最大直径5毫米膜材料SiN, SiC膜厚度0.2至2微米吸收体材料Ta吸收体厚度0.1至2微米Si基板形状10平方毫米Si基板厚度1毫米※我们可与用户商讨不同需求。产品示例超精密图案菲涅耳波带板(FZP)菲涅耳波带板(FZP)直径:250微米,Ta厚度:125纳米,最外区域宽度:25纳米,膜:SiC 2.0微米高纵横比(较厚Ta吸收体)菲涅耳波带板(FZP)菲涅耳波带板(FZP)直径:100微米,Ta厚度:2.5微米,最外区域宽度:250纳米,膜:SiN 2.0微米台阶(基诺全息照片)式菲涅耳波带板(FZP)菲涅耳波带板(FZP)直径:100微米,Ta厚度:4.0微米,最外区域宽度:400纳米,膜:SiC 2.0微米菲涅耳波带板(FZP)中间区域的SEM 图:台阶(基诺全息照片)式菲涅耳波带板(FZP)、Ta图案
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