台式磁控溅射仪

磁控溅射仪（2019下半年购入，9成9新）[img=,690,920]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/10/202310091529314999_3303_5829706_3.jpg!w690x920.jpg[/img][img=,690,920]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/10/202310091529317199_6660_5829706_3.jpg!w690x920.jpg[/img][img=,690,920]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/10/202310091529323410_1965_5829706_3.jpg!w690x920.jpg[/img][img=,690,920]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/10/202310091529325843_2573_5829706_3.jpg!w690x920.jpg[/img]设备技术要求 1.样品基台：直径 6 英寸样品2.反应腔室：304 不锈钢材质3.靶座系统：3 英寸圆形靶座 4 个，位于腔室上部；靶与样品的距离90~110mm 可调4.真空系统：分子泵，机械泵5.真空测量：薄膜规（进口），全量程规（进口）6.气路系统：标配 2 路进气，种类和流量可定制；管路配件（进口）7.电源系统：500W/13.56MHz 自动匹配射频源 1 套（进口）；500W 直流电源 2 套（进口）8.样品载台：自转旋转 5-30rpm 可调；加热温度 300℃；可加射频偏压200V 预清洗基片9.真空性能：本底真空优于 6.67x10-5Pa10.控制系统：工控机；触摸屏，菜单自动/手动操作11.安全控制：异常报警12.工艺应用：金属薄膜和介质薄膜沉积13.不均匀性：≤±5%@6 英寸14.设备尺寸：一体型设备；占地面价（参考）1.0m*1.50m。[img=,554,628]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/10/202310091529103198_4423_5829706_3.png!w554x628.jpg[/img]运行需求：供电需求： 380V、三相五线制；设备总功率需求约为 15KW冷却水：＞1.5L/min压缩空气： 0.4~0.6Mpa

http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2011/08/201108112134_309901_2355867_3.jpg这是磁控溅射制备的氧化铝薄膜，厚度30-50nm， S1是制备样品，P1是经过750度处理后的样品，想对比变化，可是峰位怎么都对不上啊？？ 基底材料用的是氧化硅wafer， 请这里的大师兄们给帮忙分析一下吧？？？ 急啊，老板要我解释呢 小师妹先在这里谢谢大家了！！

台式电镜技术参数对比手册飞纳（FEI）、COXEM（库赛姆）、日立 随着科学技术飞速发展，电镜的创新也日新月异。很多朋友都听过台式电镜这种设备，那么你对台式电镜的了解又有多少呢？今天我们给大家介绍一下台式电镜。 首先我们来认识一下究竟什么是台式电镜？台式电镜是在2005年才出现在商业用途上的，它的发源地在韩国，您没看错确实是韩国——那个世界万物的创造者。虽然我不想承认“棒子”的思维，但是不得不佩服“棒子”的技术。韩国的国有机构纳米所拥有多项台式电镜的核心专利技术，世界上几乎全部的台式电镜厂家都要购买该机构的专利技术才能生产。日立台式电镜就是当年收购的韩国电镜厂家后搬回日本生产的，也可以说日立台式电镜跟日立大型电镜一毛钱关系都没有。背景介绍完了，我们该介绍什么是台式电镜了，（小编话唠，经常挨主编批，看官请见谅）台式扫描电镜具有体积小巧、操作简便、价格便宜，快速抽真空，制样简便等优势。此类新型仪器的出现填补了光学显微镜与传统大型扫描电子显微镜之间的间隙，可广泛应用于材料科学、纳米颗粒、生物医学、食品药品、纺织纤维、地质科学等诸多领域。那么接下来我要针对市场上主流的三个台式电镜品牌做一比较和介绍。飞纳（FEI）、COXEM（库赛姆）、日立。先看看这三款台式电镜的外观吧。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/05/201505051154_544842_3004185_3.jpg外观PK： 这项对决有一些鸡肋，关于外观的PK属于仁者见仁智者见智，凭借小编的审美COXEM无疑更“像”一台电镜，飞纳和日立更像一台PC机的机箱。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/05/201505051154_544843_3004185_3.jpg品牌知名度PK 此轮PK实为一场欧美品牌与日韩品牌的对决，飞纳（FEI）在市场上的推广活动比较频繁，从知名度讲无疑是排在第一名。日立凭借大型电镜的品牌知名度占据第二的位置，虽然日立电镜和日立台式电镜没有什么关系。此轮库赛姆排名第三。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/05/201505051154_544844_3004185_3.jpg发射源PK COXEM（库赛姆）和日立台式电镜选择传统的钨灯丝作为发射源，而飞纳（FEI）则采用六硼化铈作为发射源。就发射源本身而言，飞纳（FEI）采用了亮度更高的六硼化铈作为发射源，这一点是值得肯定的。但是，从理论上来讲，原本采用亮度更高发射源的飞纳（FEI）台式电镜应该在分辨率上至少优于高分辨率的COXEM（库赛姆）一倍，但实际从三家的分辨率和用户的使用体验上来看，飞纳（FEI）台式电镜的分辨率优于日立却远不及COXEM（库赛姆），在这一点上，小编认为还是各家的光学系统设计不尽相同所造成，分辨率的高低代表了此台式电镜光学系统的优越程度，这点大家可以多进行拍照对比考察。 接下来谈谈电镜发射源PK中三个最重要的参数比较——束流稳定性、易用性和性价比。飞纳（FEI）采用较为昂贵的六硼化铈作为发射源，但其在束流稳定性方面表现不佳，不稳定的束流会影响能谱分析的准确度，且一旦电镜意外关机，抽真空就需要10小时之久，这样的表现也让使用者有点伤不起，换一次六硼化铈灯丝的费用大约是钨灯丝的10倍且必须专业电镜工程师操作更换的时间成本也是让很多使用者头疼的事情，而飞纳（FEI）在使用了这么昂贵麻烦但高亮度的灯丝后，分辨率却仅仅压过了日立台式电镜而已，可见FEI在光学系统做的实在是不行。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/05/201505051154_544846_3004185_3.jpg分辨率PK 此轮PK也是台式电镜的核心数据PK，分辨率最高的是COXEM（库赛姆）（30kv下8nm），其次是飞纳（FEI）（30kv下17nm），而最令我们奇怪的是日立台式电镜没有公布他们的分辨率数据，据调查，日立台式电镜的验收分辨率大致在20nm—30nm之间。电镜的分辨率代表了电镜的制造水准，台式电镜是介于光学显微镜和大型电镜之间的分析设备，如果分辨率表现不佳，则不如购置一台分辨率较高的光学显微镜了。而COXEM（库赛姆）为什么能把分辨率做的那么高？经小编调研，COXEM（库赛姆）在光学系统设计方面确实有可圈可点之处。它打破了传统台式扫描电镜采用BSD探测器成像的局限性，利用创新的双聚光镜成像技术，采用大型扫描电镜成像方式，使用二次电子探测器作为基础成像单元，从而可以获得更高的分辨率（8nm），是真正意义上的高分辨率台式扫描电镜。这一轮的PK结果显而易见。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/05/201505051154_544846_3004185_3.jpg探测器PK 在探测器方面，飞纳（FEI）和日立是使用背散射电子探测器来同时观察表面形貌和成分图像，没有二次电子探测器，由于背散射电子的深度不及二次电子，因此分辨率表现不佳，表面形貌像立体感不强。COXEM（库赛姆）采用了特定探头观察特定形貌的方式来设计，标配了二次电子探测器和背散射电子探测器，二次电子探测器专门用来观察样品表面形貌，图像立体感较强，而背散射电子探测器则专门用来观察成分图像。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/05/201505051154_544847_3004185_3.jpg显示装置PK 在显示装置方面，飞纳（FEI）则是采用触摸屏作为显示器。这点要为飞纳（FEI）点个赞，但是电阻触摸屏灵敏度较差，不知道大家有没有用过老式电阻屏的手机，需要用非常大的力量去点击屏幕，如果触摸屏损坏整个电镜都将无法继续使用，这也是让人想骂娘的地方。日立和COXEM（库赛姆）都是采用独立的液晶显示器。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/05/201505051154_544848_3004185_3.jpg 载物台及样品台PK COXEM（库赛姆）和飞纳（FEI）都是标配的自动载物台，而日立的标配则是手动载物台。在样品台方面COXEM（库赛姆）和日立都是标准样品台，而飞纳（FEI）则是采用样品杯来放置样品，在这一点上标准样品台优势较为明显。标准样品台能够一次性放入多个样品，观察起来更为方便，而样品杯一次只能放置一个样品且样品大小也有一定局限性，在观察多个样品的情况下还需要频繁进行更换。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/05/201505051154_544849_3004185_3.jpg 性价比PK 性价比应该是大家最关心的，总体来说COXEM（库赛姆）价格比较合理，性价比也比较高！飞纳（FEI）的目前在市场上的价格卖到14、15美金左右，个人认为暴贵，飞纳（FEI）裸机的价格是6万美金左右，能谱3万美金，合起来价格也就在9美金左右，那些卖到14、15美金成交的企业不知道是否有什么内幕发生。日立的市场报价在16万美金到4万美金之间，跟低端的大型电镜的价格差不多，性价比不高！http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/05/201505051154_544850_3004185_3.jpg 说了这么多，相信大家对于台式电镜也应该有所了解了。台式电镜比较适用于中小型企业以及科研、高校，对于预算不足的企业，可以考虑考虑台式电镜。以上言论纯属个人见解，仅供参考！

台式钨灯丝。2：低倍下，钨灯丝的图像细节并不比冷场发射有太大差距。3：台式钨灯丝也能如实反映样品表面形貌。欢迎各位踊跃指点~

[table=100%][tr][td][align=center][table=100%][tr][td=2,1][align=center][b]小核磁（台式核磁）研究共聚物界面相容性（[url=http://www.niumag.com/vtmr.html]相关仪器[/url]）[/b][/align][/td][/tr][tr][td=2,1][color=#595757]小核磁（台式核磁）可以提供全面的科研解决方案，适用对象涵盖从橡胶等弹性体 材料到生物领域的膜材料和纳米材料等多种物质。可以利用[b]小核磁（台式核磁）研究共聚物界面相容性[/b]。小核磁（台式核磁）不仅仅提供单个的检测值，无损、快速、便捷的分析过程为工艺改进、过程研究等提供全程、长时间的在线监测。[/color][/td][/tr][tr][td=2,1][align=left][b][color=#595757]以下为用小核磁（台式核磁）研究共聚物界面相容性的部分相关案例[/color][/b][/align][/td][/tr][tr][td=2,1][align=center][img=,329,237]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2018/01/201801300917594952_7763_1423_3.jpg!w329x237.jpg[/img][/align][/td][/tr][tr][td=2,1][align=center][b][color=#595757]图一.与添加剂结合后T2弛豫图谱[/color][/b][/align][/td][/tr][tr][td=2,1][align=center][img=,333,236]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2018/01/201801300918101302_9239_1423_3.jpg!w333x236.jpg[/img][/align][/td][/tr][tr][td=2,1][align=center][b][color=#595757]图二.与不同添加剂结合后样品的T22弛豫时间[/color][/b][/align][/td][/tr][tr][td=2,1][align=left][b][color=#595757]在高分子材料领域，小核磁（台式核磁）可为您提供以下科研方案[/color][/b][/align][/td][/tr][tr][td=2,1][color=#595757]　1)评价交联聚合体(尤其是橡胶，橡胶产品)的交联信息；　2)评价交联的聚合体(尤其是橡胶，橡胶产品)的物性信息 　3)使用过的聚合体材料老化过程的品质鉴定；　4)基于橡胶的硫化，处理和生产条件优化的研究；　5)固体，半硬的聚合体，凝胶体，乳状液和液体的分子活动性研究 　6)固体基质中水分和水含量的成像和测定(例如：环氧树脂和半导体器材 　7)环氧树脂和橡胶的硫化过程中硫化状态、粘度和过程的探测 　8)样品中水或溶液粘合性和活动性的研究 　9)聚合物中增塑剂或橡胶含量的测定 　10)共混物或共聚物中橡胶含量测定 　11)共聚物相对含量测定 　12)橡胶胶乳中的固体含量测定 　13)临界水及水合作用的研究 　14)流变学的的研究，如粘性、密度、及材料的稳定性[/color][/td][/tr][tr][td=2,1][align=left][color=#2778be]使用仪器：[url=http://www.niumag.com/vtmr.html]VTMR20-010V-I核磁共振交联密度成像分析仪[/url][/color][/align][/td][/tr][tr][td=2,1][color=#595757]纽迈专注于“低场核磁共振”技术及应用推广、具备强大的研发能力、完备的生产、服务和成熟的运营管理体系。公司自主开发多款核磁共振分析仪器并已获得多项国家奖项和资质认证，产品广泛应用于农业食品、能源勘探、高分子材料、纺织工业、生命科学等行业领域，获得业界一致认可。[/color][/td][/tr][/table][/align][/td][/tr][/table]

赛默飞发布新一代台式核磁共振波谱仪picoSpin 80，根据公布的技术参数，与目前许多台式核磁共振仪器相比，picoSpin 80波谱仪具有最高分辨率。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2013/09/201309031516_461944_2063536_3.jpgpicoSpin 80波谱仪的特点和优点包括：　　•磁铁不需液体制冷剂制冷;　　•轻便、便携的设计使该仪器可以在多个实验室分享;　　•易操作的液毛细管系统不需要核磁共振管或其他消耗品。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2013/09/201309031517_461946_2063536_3.gif大家说说对这台仪器的看法，参与最少奖励两个积分

溅射制膜的过程：气体辉光放电、等离子体、靶、溅射、沉积到衬底（一）与蒸发法相比，溅射沉积的主要特点：①沉积原子能量高，因此薄膜的组织更致密，附着力也可以得到明显改善；②制备合金膜时，其成分的控制性能好；③靶材可以是极难熔的材料；④可利用反应溅射技术，从金属无素靶材制备化合物薄膜；⑤由于被沉积的原子均携带有一定的能量，因而有助于改善薄膜对于复杂形状表面的覆盖能力，降低薄膜表面的粗糙度。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507151100_555534_2989334_3.jpghttp://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gif（二）溅射沉积分类主要的溅射方式可以根据其特征分为四种：（1）直流溅射；（2）射频溅射；（3）磁控溅射；（4）反应溅射。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507151102_555536_2989334_3.jpg图1 不同溅射方法的靶电流密度和靶电压的比较http://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gif（1）直流溅射直流溅射又称为阴极溅射或二极溅射图2直流溅射沉积装置示意图，其典型的溅射条件为：工作气压10Pa，溅射电压3000V，靶电流密度0.5mA/cm2，薄膜的沉积速率低于0.1μm/min直流溅射过程中常用Ar作为工作气体。工作气压是一个重要参数，它对溅射速率以及薄膜的质量都有很大影响直流溅射设备的优点和缺点：优点：简单缺点：使用的气体压力高，溅射速率较低，这不利于减小气氛中的杂质对薄膜的污染以及溅射效率的提高。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507151105_555538_2989334_3.jpg图2直流溅射沉积装置示意图http://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gif（2 ）射频溅射直流溅射要求靶材有较好的导电性，可以很大方便地沉积各类合金膜。对于导电性很差的非金属材料的溅射，我们需要一种新的溅射方法—射频溅射。射频溅射是适于各种金属和非金属材料的一种溅射沉积方法射频场对于靶材的自偏压效应。在衬底或薄膜本身是绝缘体的情况下，采取对其施加一个射频电压的方法，也可以起到对其施加负偏压的作用。（3）磁控溅射相对于蒸发沉积来说，一般的溅射沉积方法具有两个缺点。第一，溅射方法沉积薄膜的沉积速度较低；第二，溅射所需的工作气压较高 这两个缺点的综合效果是气体分子对薄膜产生污染的可能性较高。而磁控溅射技术：沉积速度较高，工作气体压力较低。工作原理：磁场对电弧运动有一定的约束作用（绕磁场螺旋前进）；（1）电子的电离效率高，有效提高了靶电流密度和溅射效率，（2）较低气压下溅射原子被气体分子散射的几率较小（三）气体放电是离子溅射过程的基础（1）首先介绍直流电场作用下的物质的溅射现象预抽真空，充入适当压力的惰性气体，如Ar气，10-1～10Pa；在正负电极间外加电压的作用下，电极间的气体原子将被大量电离；Ar—→Ar++e，Ar+被电场加速后射向靶材，撞击出靶材原子（分子），靶材原子脱离靶时仍具有一定能量，飞向衬底，电子被电场加速飞向阳极；http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507151107_555542_2989334_3.jpg图3直流气体放电体系模型及伏安特性曲线http://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gif电压进一步增大，发生极板两端电压突然降低，电流突然增大，并同时出现带有颜色的辉光，此过程称为气体的击穿；击穿后气体的发光放电称为辉光放电；这时电子和正离子是来源于电子的碰撞和正离子的轰击，即使自然游离源不存大，放电也将继续下去。而且维持辉光放电的电压较低，且不变，此时电流的增大显然与电压无关，而只与阴极板上产生辉光的表面积有关；正常辉光放电的电流密度与阴极材料和形状、气体种类和压强有关；由于正常辉光放电时的电流密度仍比较小，所以在溅射方面均是选择在非正常辉光放电区工作。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507151110_555543_2989334_3.jpg图4示意性地画出了在离子轰击条件下，固体表面可能发生的物理过程http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507151111_555544_2989334_3.jpg图5所示，不同能量离子与固体表面相互作用的过程不同当离子入射到靶材上时，对于溅射过程来说，比较重要的过程有两个：其一是物质的溅射；其二是二次电子发射：二次发射电子在电场作用下获得能量，进而参与气体分子的碰撞，并维持气体的辉光放电过程。http://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gifhttp://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gif （四）合金的溅射和沉积用溅射法沉积合金膜，比蒸发法易于保证薄膜的化学配比；溅射过程中入射离子与靶材之间有很大的能量传递。因此，溅射出的原子将从溅射过程中获得很大的动能，其数值一般可以达到5~20eV；一方面，溅射原子具有很宽的能量分布范围，其平均能量约为10eV左右；另一方面，随着入射离子能量的增加，溅射离子的平均能量也有上升的趋势；溅射过程还会产生很少的溅射离子，它们具有比溅射出来的原子更高的能量。能量较低的溅射离子不易逃脱靶表面的鞘层电位的束缚，将被靶表面所俘获而不能脱离靶材；由蒸发法获得的原子动能一般只有0.1eV，两者相差两个数量级；在溅射沉积中，高能量的原子对于衬底的撞击一方面提高了原子自身在薄膜表面的扩散能力，另一方面也会引起衬底温度的升高。