微米膜厚测量仪

C11011-01W 微米膜厚测量仪 C11011-01W型光学微米膜厚测量仪利用激光相干度量学原理，测量速度达60Hz，适用于产品线上在线测量。此外，选配的映射系统可以测量指定样品的厚度分布。C11011-01W应用广泛，比如用于产品制造过程监控或质量控制。欢迎您登陆滨松中国全新中文网站 查看该产品更多详细信息！特性利用红外光度测定进行非透明样品测量测量速度高达60 Hz测量带图纹晶圆和带保护膜的晶圆长工作距离映射功能可外部控制参数型号C11011-01W可测膜厚范围（玻璃）25 μm to 2900 μm*1可测膜厚范围（硅）10 μm to 1200 μm*2测量可重复性（硅）100 nm*3测量准确度（硅） 500 μm: ±0.5 μm； 500 μm: ±0.1 %*3光源红外LED（1300 nm）光斑尺寸φ60 μm*4工作距离155 mm*4可测层数一层（也可多层测量）分析峰值探测测量时间22.2 ms/点*5外部控制功能RS-232C / PIPE接口USB2.0电源AC100 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz功耗50W*1：SiO2薄膜测量特性*2：Si薄膜测量特性*3：测量6 μm厚硅薄膜时的标准偏差*4：可选配1000mm工作距离的模型C11011-01WL*5：连续数据采集时间不包括分析时间

C11665-01 微米膜厚测量仪 C11665-01型光学微米测厚仪是一款非接触薄膜测厚仪器，它将光源、探测器和数据分析模块集成到一个箱体里，实现了紧凑型设计。在半导体行业，TSV技术的广泛应用使得基底测厚成为至关重要的方面，与此同时半导体薄膜工业正将连接层制作的越来越薄。这些领域的进步需要1 μm到300 μm范围内高准确度的膜厚测量。C11665-01可对多种类型的材料（硅基底，薄膜等等）进行测厚，测量范围为0.5 μm 到 700 μm，这也是半导体和薄膜制造领域经常使用应用的厚度。欢迎您登陆滨松中国全新中文网站 查看该产品更多详细信息！特性无参照物工作尺寸紧凑，节省空间高速、高准确度不整平薄膜精确测量分析光学常数（n,k）可外部控制参数型号C11665-01可测膜厚范围（玻璃）0.5 μm to 700 μm*1可测膜厚范围（硅）0.5 μm to 300 μm*2测量可重复性（硅）0.1 nm*3 *4测量准确度（硅）±1 %*4 *5光源LED测量波长940 nm to 1000 nm光斑尺寸Approx. φ1 mm*4工作距离5 mm*4可测层数最大10层分析FFT 分析，拟合分析，光学常数分析测量时间19 ms/点*6光纤接口形状FC外部控制功能RS-232C / Ethernet电源AC100 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz功耗85W*1：SiO2薄膜测量特性*2：Si薄膜测量特性*3：测量6 μm厚硅薄膜时的标准偏差*4：取决于所使用的光学系统或物镜的放大率*5：在标准量具的测量保证范围内*6：连续数据采集时间不包括分析时间

WeiMi微米一键式快速影像测量仪、一键式闪测仪，采用智能光学系统、远心光学镜头，大视野、大景深，测量范围更大，一键完成所有尺寸测量，测量速度更快！使用微米一键式快速测量仪，无需定位夹具，产品任意摆放在工作台上，一键启动自动定位测量对象、匹配模板、测量评价、报表生成，实现一键式快速、精度高、稳定、全尺寸测量。一键式快速影像测量仪、一键式闪测仪应用范围广泛，可一键测量手机中框、手机玻璃、轴承、密封垫、断路器、齿轮、磁性材料、机械、电子、模具、注塑、精密冲压件、接插件、连接器、印刷电路板等工件的所有尺寸。 广东微米测量技术有限公司工厂总部位于广东省东莞市，服务网点辐射中国华南、华东、华北、西北等地区，以及亚洲、欧洲的多个国家，并与多家知名企业与事业单位保持了良好的合作关系。公司主营产品：二次元影像测量仪,光学影像测量仪,全自动影像测量仪,半自动影像测量仪,CNC影像仪,OMM影像测量仪,一键式快速测量仪,多镜头测量仪,龙门大行程二次元,线宽测量仪,刀具测量仪,CCD定位系统,激光平面度测量仪,自动全检机,激光检测仪,金相显微镜,非标定制测量设备等。我司的技术团队由深入钻研中国影像行业的技术人员组成。公司的硬件设计、生产与软件研发团队紧密配合、相辅相承；软件不断开发出硬件在同行业所不了解的沉睡潜能、硬件被开发出的潜能促使着软件不断升级更新，以满足客户多方面的需求。

中图仪器NS系列微米到纳米尺度表面形貌接触式台阶测量仪用于测量台阶高、膜层厚度、表面粗糙度等微观形貌参数，是一款超精密接触式微观轮廓测量仪器。它采用了线性可变差动电容传感器LVDC，具备超微力调节的能力和亚埃级的分辨率，同时，其集成了超低噪声信号采集、超精细运动控制、标定算法等核心技术，使得仪器具备超高的测量精度和测量重复性。NS系列微米到纳米尺度表面形貌接触式台阶测量仪应用场景适应性强，其对被测样品的反射率特性、材料种类及硬度等均无特殊要求，能够广泛应用于半导体、太阳能光伏、光学加工、LED、MEMS器件、微纳材料制备等各行业领域内的工业企业与高校院所等科研单位，其对表面微观形貌参数的准确表征，对于相关材料的评定、性能的分析与加工工艺的改善具有重要意义。工作原理测量时通过使用2μm半径的金刚石针尖在超精密位移台移动样品时扫描其表面，测针的垂直位移距离被转换为与特征尺寸相匹配的电信号并最终转换为数字点云信号，数据点云信号在分析软件中呈现并使用不同的分析工具来获取相应的台阶高或粗糙度等有关表面质量的数据。产品功能 1.参数测量功能1）台阶高度：能够测量纳米到330μm甚至1000μm的台阶高度，可以准确测量蚀刻、溅射、SIMS、沉积、旋涂、CMP等工艺期间沉积或去除的材料；2）粗糙度与波纹度：能够测量样品的粗糙度和波纹度，分析软件通过计算扫描出的微观轮廓曲线，可获取粗糙度与波纹度相关的Ra、RMS、Rv、Rp、Rz等20余项参数；3）翘曲与形状：能够测量样品表面的2D形状或翘曲，如在半导体晶圆制造过程中，因多层沉积层结构中层间不匹配所产生的翘曲或形状变化，或者类似透镜在内的结构高度和曲率半径。2.数采与分析系统1）自定义测量模式：支持用户以自定义输入坐标位置或相对位移量的方式来设定扫描路径的测量模式；2）导航图智能测量模式：支持用户结合导航图、标定数据、即时图像以智能化生成移动命令方式来实现扫描的测量模式。3）SPC统计分析：支持对不同种类被测件进行多种指标参数的分析，针对批量样品的测量数据提供SPC图表以统计数据的变化趋势。3.光学导航功能配备了500W像素的彩色相机，可实时将探针扫描轨迹的形貌图像传输到软件中显示，进行即时的高精度定位测量。4.样品空间姿态调节功能NS系列微米到纳米尺度表面形貌接触式台阶测量仪配备了精密XY位移台、360°电动旋转平台和电动升降Z轴，可对样品的XYZ、角度等空间姿态进行调节，提高测量精度及效率。 性能特点1.亚埃级位移传感器具有亚埃级分辨率，结合单拱龙门式设计降低环境噪声干扰，确保仪器具有良好的测量精度及重复性；2.超微力恒力传感器1-50mg可调，以适应硬质或软质样品表面，采用超低惯量设计和微小电磁力控制，实现无接触损伤的接触式测量；3.超平扫描平台系统配有超高直线度导轨，杜绝运动中的细微抖动，真实地还原扫描轨迹的轮廓起伏和样件微观形貌。在太阳能光伏行业的应用台阶仪通过测量膜层表面的台阶高度来计算出膜层的厚度，具有测量精度高、测量速度快、适用范围广等优点。它可以测量各种材料的膜层厚度，包括金属、陶瓷、塑料等。针对测量ITO导电薄膜的应用场景，NS200台阶仪提供如下便捷功能：1）结合了360°旋转台的全电动载物台，能够快速定位到测量标志位；2）对于批量样件，提供自定义多区域测量功能，实现一键多点位测量；3）提供SPC统计分析功能，直观分析测量数值变化趋势；部分技术参数型号NS200测量技术探针式表面轮廓测量技术探针传感器超低惯量，LVDC传感器平台移动范围X/Y电动X/Y(150mm*150mm)(可手动校平)样品R-θ载物台电动，360°连续旋转单次扫描长度55mm样品厚度50mm载物台晶圆尺寸150mm（6吋）,200mm（8吋）尺寸（L×W×H）mm640*626*534重量40kg仪器电源100-240 VAC，50/60 Hz，200W使用环境相对湿度：湿度 （无凝结）30-40% RH温度：16-25℃ (每小时温度变化小于2℃)地面振动：6.35μm/s（1-100Hz）音频噪音：≤80dB 空气层流：≤0.508 m/s（向下流动）恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。

C12562 纳米膜厚测量仪系列C12562型光学膜厚测量仪是一款利用光谱相干度量学工作的非接触型膜厚测量系统。光学膜厚测量仪系列可以测量薄至10nm的薄膜，而可测范围达到10nm到1100μm，因此可用来测量多种目标。此外，该测量仪可达到100Hz的高速测量，因此可进行快速移动的产品线进行测量。欢迎您登陆滨松中国全新中文网站 查看该产品更多详细信息！特性可测量10nm薄膜缩短测量周期（频率高达100Hz）增强型外部触发（适合高速测量）涵盖宽波长范围（400 nm到1100 nm）软件增加了简化测量功能可进行双面分析不整平薄膜精确测量分析光学常数（n,k）可外部控制参数型号C12562-02可测膜厚范围（玻璃）10 nm to 100 μm*1测量可重复性（玻璃）0.02 nm*2 *3测量准确度（玻璃）±0.4 %*3 *4光源卤素灯测量波长400 nm to 1100 nm光斑尺寸Approx. φ1 mm*3工作距离10 mm*3可测层数最多10层分析FFT 分析，拟合分析，光学常数分析测量时间3 ms/点*5光纤接口形状FC外部控制功能RS-232C, Ethernet电源AC100 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz功耗80W*1：以 SiO2折射率1.5来转换*2：测量400 nm 厚SiO2 薄膜的标准偏差*3：取决于所使用的光学系统或物镜的放大率*4：可保证的测量范围列在VLSI标准测量保证书中*5：连续数据采集时间不包括分析时间

薄膜测厚仪 金属箔片厚度测量仪 无纺布材料厚度检测仪无纺布材料厚度检测仪是一种专业设备，用于精确测量无纺布以及其他薄型材料的厚度。这类仪器设计精密，确保在生产、质量控制和研究中提供准确的厚度数据。以下是基于通用参数和功能的详细介绍：薄膜测厚仪 金属箔片厚度测量仪 无纺布材料厚度检测仪基本参数与特点：测量范围：0～2 mm（标准量程）（0-6mm，0-12mm可选，其它行程可订制）。分辨率：高精度仪器的分辨率可达到1微米（um），确保测量的细微差异也能被捕捉。测量原理：采用接触式测量技术，接触式通常通过压头轻触材料表面。重复性：高质量的检测仪重复性误差小于0.5%，保证每次测量的一致性。显示与操作：配备清晰的LCD显示屏，显示即时测量结果，操作界面简单直观，便于快速读取和操作。兼容标准：设计符合GB/T 3820等国家标准，确保测试结果的标准化和可比性。适用材料：不仅限于无纺布，还适用于薄膜、纸张、金属箔、纺织品等薄型材料。稳定性与耐用性：具有良好的稳定性和耐用性，适合在实验室和生产线上长期使用。数据处理：部分高级型号可能支持数据存储、输出至电脑，便于数据分析和记录管理。校准功能：内置校准机制，确保长期使用的准确性，用户可定期进行校准以维持测量精度。薄膜测厚仪 金属箔片厚度测量仪 无纺布材料厚度检测仪操作流程：准备样品：确保无纺布样品平整无皱。放置样品：将样品置于测量区域，保持稳定。启动测量：按下测量按钮，仪器自动进行厚度读取。读取结果：显示屏上显示即时的厚度数据。记录与分析：根据需要记录数据，进行进一步的质量评估或分析。

C11627-01 纳米膜厚测量仪系列 C11627-01型光学膜厚测量仪是一款利用光谱相干度量学工作的非接触型膜厚测量系统。因其将光源、分光光度计和数据分析单元集成为一个单元，所以其配置紧凑，仅由一个主单元和光纤组成。此仪器设计紧凑，节省空间，适合安装进用户的系统中，可进行多种目标的测量。此外，该仪器为无参照物测量，因此省略了烦人的参照物测量，可长时间稳定地进行高速、高准确度测量。欢迎您登陆滨松中国全新中文网站 查看该产品更多详细信息！特性无参照物工作尺寸紧凑，节省空间高速、高准确度不整平薄膜精确测量分析光学常数（n,k）可外部控制参数型号C11627-01可测膜厚范围（玻璃）20 nm to 50 μm*1测量可重复性（玻璃）0.02 nm*2 *3测量准确度（玻璃）±0.4 %*3 *4光源LED测量波长420 nm to 720 nm光斑尺寸Approx. φ1 mm*3工作距离10 mm*3可测层数最多10层分析FFT 分析，拟合分析，光学常数分析测量时间19 ms/点*5光纤接口形状FC外部控制功能RS-232C,Ethernet电源AC100 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz功耗70W*1：以 SiO2折射率1.5来转换*2：测量400 nm 厚SiO2 薄膜的标准偏差*3：取决于所使用的光学系统或物镜的放大率*4：可保证的测量范围列在VLSI标准测量保证书中*5：连续数据采集时间不包括分析时间

C10178-01 纳米膜厚测量仪系列 C10178-01型光学膜厚测量仪是一款利用光谱相干度量学工作的非接触型膜厚测量系统。通过光谱相干，可快速、高灵敏度、高准确度地测量膜厚。由于使用我公司的光子多通道分析仪（PMA）为探测器，在测量多种滤光片、镀膜等的膜厚的同时，还可以测量量子收益、反射率、透射率以及吸收系数等多种项目。欢迎您登陆滨松中国全新中文网站 查看该产品更多详细信息！特性高速、高准确度实时测量映射功能不整平薄膜精确测量分析光学常数（n,k）可外部控制与特定附件配合，可测量量子收益、反射率、透射率以及吸收系数等。参数型号C10178-01测量模型标准型（通用测量）可测膜厚范围（玻璃）20 nm to 50 μm*1测量可重复性（玻璃）0.01 nm*2 *3测量准确度（玻璃）±0.4 %*3 *4光源卤素灯测量波长400 nm to 1100 nm光斑尺寸Approx. φ1 mm*3工作距离10 mm*3可测层数最多10层分析FFT 分析，拟合分析，光学常数分析测量时间19 ms/点*5光纤接口形状φ12套筒型外部控制功能RS-232C, 通过PIPE或Ethernet进行内部软件数据传输接口USB2.0电源AC100 V to 120 V/ AC200 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz功耗250W*1：以 SiO2折射率1.5来转换*2：测量400 nm 厚SiO2 薄膜的标准偏差*3：取决于所使用的光学系统或物镜的放大率*4：可保证的测量范围列在VLSI标准测量保证书中*5：连续数据采集时间不包括分析时间

Filmetrics-F40薄膜厚度测量仪 结合显微镜的薄膜测量系统 Filmetrics的精密光谱测量系统让用户简单快速地测量薄膜的厚度和光学常数，通过对待测膜层的上下界面间反射光谱的分析，几秒钟内就可测量结果。 当测量需要在待测样品表面的某些微小限定区域进行，或者其他应用要求光斑小至1微米时，F40是不错的选择。使用先前足部校正显微镜的物镜，再进行测量，即可获得精准的厚度及光学参数值。只要透过Filmetrics的C-mount连接附件，F40就可以和市面上多数的显微镜连接使用。C-mount上装备有CCD摄像头，可以让用户从电脑屏幕上清晰地看样品和测量位置。* 取决于材料1.使用5X物镜参考2.是基于连续20天，每天在Si基底上对厚度为500纳米的SiO2 薄膜样品连续测量100次所得厚度值的标准偏差的平均值3.是基于连续20天，每天在Si基底上对厚度为500纳米的SiO2薄膜样品连续测量100次所得厚度值的2倍标准偏差的平均值 选择Filmetrics的优势桌面式薄膜厚度测量的专家 24小时电话，E-mail和在线支持 所有系统皆使用直观的标准分析软件附加特性嵌入式在线诊断方式 免费离线分析软件 精细的历史数据功能，帮助用户有效地存储，重现与绘制测试结果相关应用半导体制造 生物医学原件&bull 光刻胶 &bull 聚合物/聚对二甲苯&bull 氧化物/氮化物 &bull 生物膜/球囊壁厚度&bull 硅或其他半导体膜层 &bull 植入药物涂层微电子 液晶显示器&bull 光刻胶 &bull 盒厚&bull 硅膜 &bull 聚酰亚胺&bull 氮化铝/氧化锌薄膜滤镜 &bull 导电透明膜

Filmetrics-F40薄膜厚度测量仪 结合显微镜的薄膜测量系统Filmetrics的精密光谱测量系统让用户简单快速地测量薄膜的厚度和光学常数，通过对待测膜层的上下界面间反射光谱的分析，几秒钟内就可测量结果。 当测量需要在待测样品表面的某些微小限定区域进行，或者其他应用要求光斑小至1微米时，F40是你的好选择。使用先前足部校正显微镜的物镜，再进行测量，即可获得精准的厚度及光学参数值。只要透过Filmetrics的C-mount连接附件，F40就可以和市面上多数的显微镜连接使用。C-mount上装备有CCD摄像头，可以让用户从电脑屏幕上清晰地看样品和测量位置。* 取决于材料1.使用5X物镜参考2.是基于连续20天，每天在Si基底上对厚度为500纳米的SiO2 薄膜样品连续测量100次所得厚度值的标准偏差的平均值3.是基于连续20天，每天在Si基底上对厚度为500纳米的SiO2薄膜样品连续测量100次所得厚度值的2倍标准偏差的平均值选择Filmetrics的优势桌面式薄膜厚度测量的专家24小时电话，E-mail和在线支持所有系统皆使用直观的标准分析软件附加特性嵌入式在线诊断方式免费离线分析软件精细的历史数据功能，帮助用户有效地存储，重现与绘制测试结果相关应用半导体制造 生物医学原件&bull 光刻胶 &bull 聚合物/聚对二甲苯&bull 氧化物/氮化物 &bull 生物膜/球囊壁厚度&bull 硅或其他半导体膜层 &bull 植入药物涂层微电子 液晶显示器&bull 光刻胶 &bull 盒厚&bull 硅膜 &bull 聚酰亚胺&bull 氮化铝/氧化锌薄膜滤镜 &bull 导电透明膜

Filmetrics-F40薄膜厚度测量仪 结合显微镜的薄膜测量系统 Filmetrics的精密光谱测量系统让用户简单快速地测量薄膜的厚度和光学常数，通过对待测膜层的上下界面间反射光谱的分析，几秒钟内就可测量结果。 当测量需要在待测样品表面的某些微小限定区域进行，或者其他应用要求光斑小至1微米时，F40是你的好选择。使用先前足部校正显微镜的物镜，再进行测量，即可获得精准的厚度及光学参数值。只要透过Filmetrics的C-mount连接附件，F40就可以和市面上多数的显微镜连接使用。C-mount上装备有CCD摄像头，可以让用户从电脑屏幕上清晰地看样品和测量位置。* 取决于材料1.使用5X物镜参考2.是基于连续20天，每天在Si基底上对厚度为500纳米的SiO2 薄膜样品连续测量100次所得厚度值的标准偏差的平均值3.是基于连续20天，每天在Si基底上对厚度为500纳米的SiO2薄膜样品连续测量100次所得厚度值的2倍标准偏差的平均值 选择Filmetrics的优势桌面式薄膜厚度测量的专家 24小时电话，E-mail和在线支持 所有系统皆使用直观的标准分析软件附加特性嵌入式在线诊断方式 免费离线分析软件 精细的历史数据功能，帮助用户有效地存储，重现与绘制测试结果相关应用半导体制造 生物医学原件&bull 光刻胶 &bull 聚合物/聚对二甲苯&bull 氧化物/氮化物 &bull 生物膜/球囊壁厚度&bull 硅或其他半导体膜层 &bull 植入药物涂层微电子 液晶显示器&bull 光刻胶 &bull 盒厚&bull 硅膜 &bull 聚酰亚胺&bull 氮化铝/氧化锌薄膜滤镜 &bull 导电透明膜

无标题文档Filmetrics F20 薄膜厚度测量仪测量厚度从 1nm 到 10mm 的先进膜厚测量系统不论您是想要知道薄膜厚度、光学常数，还是想要知道材料的反射率和透过率，F20都能满足您的需要。仅需花费几分钟完成安装，通过USB连接电脑，设备就可以在数秒内得到测量结果。基于模块化设计的特点，F20适用于各种应用。一：测量厚度、折射率、反射率和穿透率：单层膜或多层膜叠加单一膜层液态膜或空气层二：不同条件下的测量，包括： 在平面或弯曲表面光斑最小可达20微米桌面式、XY坐标自动化膜厚测量，或在线配置所有的这些功能都伴随着直观的软件界面以及我们即时的电话和互联网支持（24小时/每周5工作日）。这就是Filmetrics的优势，欢迎您试一试！ 膜层范例基本上所有光滑的、半透明的或低吸收系数的薄膜都可以测量。这包括几乎所有的电介质与半导体材料，例如：应用范围SiNXTiO2DLC光刻胶SU-8聚合物有机电致发光器AIQ材料非晶硅ITO硒化铜铟镓CIGS 厚度测量范围测量原理为何？软件功能以使用者为导向 其他的选用配件选择Filmetrics的优势桌面式薄膜厚度测量专家24小时电话，E-mail和在线支持所有系统皆使用直观的标准分析软件附加特性嵌入式在线诊断方式免费离线分析软件精细的历史数据功能，帮助用户有效地存储，重现与绘制测试结果应用半导体膜层 液晶显示器光刻胶 OLED加工膜层玻璃厚度介电层ITO和TCOs光学镀层生物医学硬涂层 聚对二甲苯抗反射层 医疗器械

高精度薄膜片材测厚仪 厚度测量仪 仪器简介：行业标准中关于薄膜、片材、铝箔铜箔片等厚度的测量采用的接触式测量方式，济南赛成科技根据GB/T 6672、GB/T 451.3、GB/T 6547、ASTM D645等标准研发的CHY-CA薄膜测厚仪即为该测量方式。CHY-CA仪器采用进口优质传感器，测厚分辨率高达0.1微米选用优质传动元件，确保了试验结果的稳定性与准确性。赛成 CHY-CA高精度薄膜、片材测厚仪 性能特点： （1）严格按照标准设计的接触面积和测量压力，同时支持各种非标定制?（2）测试过程中测量头自动升降，有效避免了人为因素造成的系统误差?支持自动和手动两种测量模式，方便用户自由选择。（3）实时显示测量结果的大小极限值、平均值以及标准偏差等分析数据，方便用户进行判断?（4）系统支持数据实时显示、自动统计、打印等许多实用功能，方便快捷地获取测试结果赛成 CHY-CA01高精度薄膜、片材测厚仪测试标准ISO 4593、ISO 534、ISO 3034、GB/T 6672、GB/T 451.3、 GB/T 6547、ASTM D374、ASTM D1777、TAPPI T411、JIS K6250、JIS K6783、JIS Z1702、 BS 3983、BS 4817赛成 CHY-CA01高精度薄膜、片材测厚仪 应用领域基础应用：薄膜、薄片、隔膜 、纸张、纸板 、箔片、硅片 、金属片 、纺织材料 、固体电绝缘体 、无纺布材料，如尿不湿、卫生巾片材等赛成 CHY-CA01高精度薄膜、片材测厚仪 技术指标测试范围： 0～2 mm（常规）0～6 mm；10 mm（可选）分辨率 ：0.1 μm测量速度 ：10 次/min （可调）测试压力 ：17.5±1 KPa（薄膜）；50±1 KPa（纸张）接触面积 ：50 mm2（薄膜）；200 mm2（纸张）注：薄膜、纸张任选一种；非标可定制进样步距 ：0～1000 mm进样速度 ：0.1～99.9 mm/s电 源 ：AC 220V 50Hz外形尺寸 ：461 mm(L)× 334 mm(W)× 357 mm(H)净重 ：32 kg

C11295 多点纳米膜厚测量仪 C11295型多点纳米膜厚测量系统使用光谱相干测量学，用以测量半导体制造过程中的薄膜厚度，以及安装在半导体制造设备上的APC和薄膜的质量控制。C11295可进行实时多点测量，也可以在膜厚测量中同时测量反射率（透射率）、目标颜色以及暂时变化。欢迎您登陆滨松中国全新中文网站 查看该产品更多详细信息！ 特性多达15点同时测量无参照物工作通过光强波动校正功能实现长时间稳定测量提醒及警报功能(通过或失败)反射(透射)和光谱测量高速、高准确度实时测量不整平薄膜精确测量分析光学常数（n,k）可外部控制参数型号C11295-XX*1可测膜厚范围（玻璃）20 nm to 100 μm*2测量可重复性（玻璃）0.02 nm*3 *4测量准确度（玻璃）±0.4 %*4 *5光源氙灯测量波长320 nm to 1000 nm光斑尺寸Approx. φ1 mm*4工作距离10 mm*4可测层数最多10层分析FFT 分析，拟合分析测量时间19 ms/点*7光纤接口形状SMA测量点数2~15外部控制功能Ethernet接口USB 2.0（主单元与电脑接口）RS-232C（光源与电脑接口）电源AC100 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz功耗约330W（2通道）~450W（15通道）*1：-XX，表示测点数*2：以 SiO2折射率1.5来转换*3：测量400 nm 厚SiO2 薄膜的标准偏差*4：取决于所使用的光学系统或物镜的放大率*5：可保证的测量范围列在VLSI标准测量保证书中*6：卤素灯型为C11295-XXH*7：连续数据采集时间不包括分析时间

菲希尔膜厚测量仪菲希尔膜厚测量仪X-RAY系列产品主要用于检测各产品部件上的涂层，镀层，膜厚，元素等的测量分析。其在各个环节中的用途如下：菲希尔膜厚测量仪产品用途：由于能量色散X射线荧光光谱法可以分析材料成分和测量薄镀层及镀层系统，因而应用广泛 在电子和半导体产业里，测量触点上薄金，铂和镍层厚度或痕量分析。在钟表和珠宝行业或采矿精炼工业中，精确分析贵金属合金组分。在质量管控和来料检验中，需要确保产品或零部件完全满足材料设计规范。如在太阳能光伏电池产业中，光伏薄膜的成分组成和厚度大小决定了光伏电池的效率。在电镀行业中，则需要测量大批量部件的厚度。对于电子产品的生产者和采购者，检验产品是否符合《限制在电子电气产品中使用有害物质的指令》（ROHS指令）也是十分关键的。在玩具工业中，也需要有可靠的有害物质检测手段对于以上测量应用，菲希尔的FISCHERSCOPE X-射线光变仪都能完美胜任。 菲希尔膜厚测量仪产品特点：快速无损的镀层厚度测量（单层或多镀层）分析固态，粉末或液态样品有害特痕量分析高精度和准确度十分广泛的应用准确测量基材是磁性和导电的材料样品制备非常简单测试方法安全，没有使用危害环境的化学制品无耗品，物超所值 菲希尔膜厚测量仪应用领域：钟表，首饰，眼镜 汽车及紧固件 卫浴五金连接器化学药水通信半导体封装测试电子元器件 PCB更多关于菲希尔膜厚测量仪请致电咨询。我司不仅是菲希尔膜厚测量仪代理商，同时也是一家PCB精密检测仪器及材料的生产厂家。

F3-sX 系列薄膜厚度测量仪满足薄膜厚度范围从15nm到3mm的先进厚度测试系统 F3-sX家族利用光谱反射原理，可以测试众多半导体及电解层的厚度，可测最大厚度达3毫米。此类厚膜，相较于较薄膜层表面较粗糙且不均匀，F3-sX系列配置10微米的测试光斑直径因而可以快速容易的测量其他膜厚测试仪器不能测量的材料膜层。而且仅在几分之一秒内完成。波长选配 F3-sX采用的是近红外光（NIR）来测量膜层厚度，因此可以测试一些肉眼看是不透明的膜层（ 比如半导体膜层） 。980nm波长型号，F3-s980，专门针对低成本预算应用。F3-s1310针对于高参杂硅应用。F3-s1550则针对较厚膜层设计。配件 配件包括自动绘图平台、测量点可视化的摄像机, 和可见光波段选项，使测量厚度能力最小达到15纳米。此外数据采集速率达到1kHz，让F3-sX系列成为许多在线应用的第一选择（比如“roll-to-roll”工艺）。 测量原理为何？FILMeasure分析-薄膜分析的标准部件可选配件 应用&bull Si晶圆厚度测试&bull 保形涂层&bull IC 芯片失效分析&bull 厚光刻胶（比如SU-8光刻胶）选择Filmetrics的优势&bull 桌面式薄膜厚度测量的专家&bull 24小时电话，E-mail和在线支持&bull 所有系统皆使用直观的标准分析软件附加特性&bull 嵌入式在线诊断方式&bull 免费离线分析软件&bull 精细的历史数据功能，帮助用户有效地&bull 存储，重现与绘制测试结果

卫生巾底膜厚度测量仪测量物体厚度的仪器适用于精确测量薄膜、复合薄膜、纸张、金属箔、硬件、纸板等硬软材料的厚度。分辨率为1um，广泛应用于薄膜、铝箔制造商、质量检验机构等单位。 技术特征彩色大液晶显示测试结果，以及每次测量值、统计值。触摸屏控制，无需计算机，主机可独立操作，可存储，查询测试结果，节省每次测试必须连接计算机的繁琐。仪器具有足够的密码保护等级（3级）。每个操作人员只有独特的登录名和密码组合才能进入仪器操作，以确保数据的完整性和标准化。配备微型打印机，快速打印每次测量结果和统计大值、小值、平均值。仪器自动保存多500组测试结果，随时检查打印。专业软件提供测试结果图形统计分析，准确直观地向用户展示测试结果。配备标准RS232接口，方便系统与计算机的外部连接和数据传输。系统程序具有ISP在线升级功能，可提供个性化服务。 技术参数 测量范围 0-10mm （其他量程可定制） 分辨率 1um 测量速度 10次/min（可调） 测量压力 20±0.5kPa（纸板） 17.5±1kPa（薄膜）；100±1kPa（纸张） 接触面积 50mm² （薄膜），200mm² （纸张）1000mm² （纸板） 注：纸板、薄膜、纸张任选一种 机器尺寸 450mm×340mm×450mm (长宽高) 重 量 28Kg 工作温度 15℃-50℃ 相对湿度 80%,无凝露 试验环境 无震动，无电磁干扰 工作电源 220V 50Hz 参照标准 GB/T6672、GB/T451.3、GB/T6547、ASTMD645、ASTMD374、ASTMD1777、TAPPIT411、ISO4593、ISO534、ISO3034、 DIN53105、DIN53353、JISK6250、JISK6328、JISK6783、JISZ1702、BS3983、BS4817 产品配置 标准配置：主机、标准量块、微型打印机卫生巾底膜厚度测量仪此为广告

为了保证功能涂层在任何工作环境中都能发挥其作用，油漆涂装技术正在朝着精细化控制优化生产工艺和确保经济可持续发展方向努力。例如：家电行业希望油漆涂层更加耐用，能够适应各种各样家用电器和厨房器具的要求；而建筑行业则期望粉末涂层能够耐用且适应不同环境，特别是防腐涂料，期望能够经受得住太阳暴晒和风雨冲刷。过薄涂层无法保证涂料充分发挥功能作用；过厚涂层则会造成表面不平整，导致光泽度不同；对于机械阻力而言，越厚涂层硬度越大，则越容易断裂，因此生产厂家必须严格控制涂装工艺质量，令产品膜厚快速精准控制在合格范围内，从而满足不同的使用需求。目前市场上普遍使用的是几十年前开发的接触式磁性测厚仪和涡流测厚仪，或者是超声波测厚仪，这些测厚仪器虽然是非破坏式测厚，但是只能等待涂层固化后才能测量膜厚，无法在湿膜状态下测出固化后干膜厚度。为了更好实现测湿膜直接显示干膜厚度功能，瑞士涂魔师非接触无损测厚仪应运而生。涂魔师膜厚测量仪是一款非接触无损涂层测厚仪，不管漆膜是烘干后还是未烘干，粉末涂料是固化前还是固化后，涂魔师都可以轻松测出其干膜厚度。涂魔师膜厚测量仪工作原理涂魔师膜厚测量仪采用ATO光热法原理和数字信息处理技术(DSP），通过计算机控制光源以脉冲方式加热待测涂层，其中内置的高速红外探测器从远处记录涂层表面温度分布并生成温度衰减曲线。表面温度的衰减时间取决于涂层厚度及其导热性能。最后利用专门研发的算法分析表面动态温度曲线计算测量待测的涂层厚度。涂魔师膜厚测量仪优势---精准协助厂家提高产线的喷涂效率及产品合格率湿膜状态下测出干膜厚度涂魔师膜厚测试仪能在涂层烘干前测出干膜的真实厚度，并实时直接传入ERP/MES系统，可全程数据化监控，也便于下次调用生产或回溯分析。自动监控，减少次品率全程数据化追溯涂装工艺，有效协助涂装部门在生产过程中及时发现喷涂厚度问题，马上调整设备参数，优化工艺过程和消耗品的更换频率。快速研发，提高质量研发中心不必等待涂层干透，快速确保样品干膜厚度达标而做出测试样品，大幅缩短研发周期，助力制定新的质量标准、生产工艺，使产品更加有竞争力。喷涂厂家使用涂魔师膜厚测量仪测量未固化涂层即时得出固化后涂层厚度，并且全程能实现生产工艺的统计及不间断追溯，高效监控膜厚真实情况，进行数据的不间断监控记录和智能统一管理。翁开尔是涂魔师中国总代理，欢迎致电【400-6808-138】咨询关于涂魔师全自动涂层测厚仪更多产品信息、技术应用和客户案例。

FT-100 薄膜厚度测量仪薄膜厚度测量范围 （Thickness Range）: 1 nm - 1.8 mm波长范围 （Wavelength Range）: 200 nm - 1700 nm精度 （Precision）: 0.01 nm or 0.01%稳定性 (Stability): 0.02 nm or 0.03%光斑大小 （Spot Size）: Depends on objective (4 um to 200 um. 2mm） 功能： 测量薄膜厚度、光学常数，反射率和透过率单层膜或多层膜叠加层； 适用于几乎所有透明，半透明，低吸收系数的薄膜测量，包括液态膜或空气层。测试条件： 平面或曲面可配XY平台实现全样品膜厚 mapping 可集成于以上测试平台 （ 三维轮廓仪，微纳米压痕/划痕仪，摩擦磨损仪等）

厂家授权代理商——岱美仪器技术服务（上海）有限公司岱美有限公司与Filmetrics从03年开始的合作关系，单是国内于16年已卖出超过600台不同型号仪器，在国内有多个服务处均有工程师，保证能为客户提供及时的服务。 经济实惠的薄膜厚度测量系统的全球销售领头者，让复杂测量变得简单产品简介：美国 Filmetrics 公司生产的薄膜厚度测量仪利用反射干涉的原理进行无损测量，可测量薄膜厚度及光学常数。测量精度达到埃级的分辩率，测量迅速，操作简单，界面友好，是目前市场上极具性价比的薄膜厚度测量设备。设备光谱测量范围从近红外到紫外线，波长范围从200nm到1700nm可选。凡是光滑的，透明或半透明的和所有半导体膜层都可以测量。其可测量薄膜厚度在 1nm 到 13mm 之间，测量精度高达1 埃，测量稳定性高达 0.7 埃，测量时间只需一到二秒, 并有手动及自动机型可选。可应用领域包括：生物医学（Biomedical）, 液晶显示(Displays), 硬涂层(Hard coats), 金属膜(Metal), 眼镜涂层(Ophthalmic) , 聚对二甲笨(Parylene), 电路板(PCBs&PWBs), 多孔硅(Porous Silicon), 光阻材料(Thick Resist),半导体材料(Semiconductors) , 太阳光伏(Solar photovoltaics), 真空镀层(Vacuum Coatings), 圈筒检查(Web inspection applications)等。应用：通过Filmetrics膜厚测量仪新反射式光谱测量技术,多达3-4层透明薄膜厚度、 n、k值及粗糙度能在数秒钟测得。其应用广泛，例如：半导体制造液晶显示器生物医疗元件微机电系统光学镀膜Photoresist光刻胶Oxides氧化物Nitrides氮化物SOI绝缘体上硅Cell Gaps液晶间隙Polyimide聚酰亚胺保护膜ITO纳米铟锡金属氧化物Polymer/Parylene Layers 聚合物/聚对二甲苯涂层Membrane/Balloon Wall Thickness 生物膜/气泡球厚度Drug-Coated Stent药物涂层支架Silicon Membranes硅膜AlN/ZnO Thin Film Filters氮化铝/氧化锌薄膜滤镜Hardness Coatings硬镀膜Anti-reflection Coatings增透镀膜Filters滤光膜层实例：几乎任何光滑、半透明、低吸收的膜都能测。包括：SiO2（二氧化硅） SiNx（氮化硅） DLC（类金刚石碳）Photoresist（光刻胶） Polyer Layers（高分子聚合物层） Polymide（聚酰亚胺）Polysilicon（多晶硅） Amorphous Silicon（非晶硅） 基底实例：对于厚度测量，大多数情况下所要求的只是一块光滑、反射的基底。对于光学常数测量，需要一块平整的镜面反射基底；如果基底是透明的，基底背面需要进行处理使之不能反射。包括：Silicon（硅） Glass（玻璃） Aluminum（铝）Gas（砷化镓） Steel（钢） Polycarbonate（聚碳酸脂）Polymer Films（高分子聚合物膜）产品应用，在可测样品基底上有了极大的飞跃：●几乎所有材料表面上的镀膜都可以测量，即使是药片，木材或纸张等粗糙的非透明基底。●玻璃或塑料的板材、管道和容器。●光学镜头和眼科镜片。服务：免费样机演示及测量 轻轻一按即可实现测量！ 请联系我们，专业的应用工程师将为你演示它是如此的方便！ 优势：* 提供在线诊断* 配送独立的软件包* 精通的历史功能即程序数据可存储、复制及策划结果* 免费软件升级 极易操作、快速、准确、机身轻巧及价格便宜为其主要优点，Filmetrics提供以下型号以供选择:一、单点测量系统（从 1nm 到 13mm 单层及多层厚度测量） F20全世界销量好的薄膜测量系统，有各种不同附件和波长(由220nm紫外线区 至1700nm近红外线区)覆盖范围，为任意携带型，可以实现反射率、膜厚、n、k值测量。F3-sX能测量半导体与介电层薄膜厚度到3毫米, 例如硅片F10-ARc可测量镜片和其他曲面的反射率，用于涂层厚度测量F10-HC测量硬涂层和防雾层厚度和折射率，聚碳酸酯硬涂层在汽车等行业应用普通F3-CS提供微小视野及微小样品测量，USB连接电脑即可使用，携带方便F10-AR测量眼科镜头和其他弯曲表面的反射率。还可以提供测量硬涂层厚度和透射率的可选件F10-RT可同时测量反射率和透射率，也可选配测量膜层厚度和折射率。普遍应用于真空涂层领域在F20实现反射率跟穿透率的同时测量，特殊光源设计特别适用于透明基底样品的测量。 二、F40 系列- 基于微米(显微)级别光斑尺寸厚度测量F40可以固定到您的显微镜上来测量小至 1um 光斑点的厚度和折射率这型号安裝在任何显微镜外，可提供小到1um光點(100倍放大倍數)來測量微小樣品。三、F50/F60系列- 表面的自动测绘F50为我们的F20系列产品增添自动测绘能力，以每秒钟 2 个点的快速测绘厚度和折射率这型号配备全自动XY工作台，由8"x8"到18"x18"或客戶提供所需尺寸均可。通过快速扫瞄功能，可取得整片样品厚度分布情况(mapping)。F54能以每秒测量两个点的速度快速的测绘薄膜厚度，样品直径可达450毫米F60-t满足生产环境的台式测绘系统，包括自动基准确定、凹槽定位、全封闭测量平台以及其它装置四、F30 系列- 在线厚度监控仪器 F30检测金属有机化学气相沉积(MOCVD)、阴极溅镀和其他沉积工艺中监控反射率、厚度和沉积率这型号可安装在任何真空镀膜机腔体外的窗口。可实时监控长晶速度、实时提供膜厚、n、k值。并可切定某一波长或固定测量时间间距。更可加装至三个探头，同时测量三个样品，具紫外线区或标准波长可供选择。F32实时监控薄膜顶部和底部的反射率和沉积速率公司网站：岱美中国：；岱美总部：上海分公司地址: 上海市浦东金高路 2216 弄 35 号6 幢 306-308 室电话: ，卜先生: 东莞分公司地址: 东莞市南城街道宏六路一号国金大厦401室电话: ，唐女士：北京分公司地址: 北京市丰台区丰台科技园汽车博物馆东路1号院诺德中心二期号楼1102室电话: ，贾先生: 岱美有限公司成立于1989年，是数据存储，半导体，光学，光伏和航空航天行业领头制造商和创新研发机构的先进设备分销商。在21世纪初期，Dymek已从我们在香港的总部扩展到亚洲，以满足客户的多样化需求。在当今全球化的市场中，我们的客户有连接东南亚各国的综合供应链已经成为基本。我们我们的专业人员随时准备与他们会面。我们总部设在香港，在中国（北京和上海，以及广东东莞）拥有强大的业务。我们还在马来西亚，新加坡，台湾，菲律宾和泰国的东南亚设有分支机构。我们所有的分支机构都已建立数十年，我们的许多客户对我们与他们建立的长达数十年的合作关系感到满意。我们的目标是建立持久的关系，满足东南亚快速增长企业的需求。对于我们的客户，我们不仅提供设备，还提供建议和技术指导，以及时了解我们不断发展的行业的新发展。对于我们的供应商，我们提供了深入的销售网络和数十年的东南亚复杂商业环境导航经验。我们将本地客户与来自欧洲，美国，日本和韩国的先进设备连接起来。可以立即联系我们，了解我们如何与您合作，实现您组织的长期财务目标。

岱美有限公司与Filmetrics从03年开始的合作关系，单是国内16年间已卖出超过600台不同型号仪器，在国内有多个服务处均有工程师，保证能为客户提供及时的服务。 经济实惠的薄膜厚度测量系统的全球销售领头者，让复杂测量变得简单产品简介：美国 Filmetrics 公司生产的薄膜厚度测量仪利用反射干涉的原理进行无损测量，可测量薄膜厚度及光学常数。测量精度达到埃级的分辩率，测量迅速，操作简单，界面友好，是目前市场上极具性价比的薄膜厚度测量设备。设备光谱测量范围从近红外到紫外线，波长范围从200nm到1700nm可选。凡是光滑的，透明或半透明的和所有半导体膜层都可以测量。其可测量薄膜厚度在 1nm 到 13mm 之间，测量精度高达1 埃，测量稳定性高达 0.7 埃，测量时间只需一到二秒, 并有手动及自动机型可选。可应用领域包括：生物医学（Biomedical）, 液晶显示(Displays), 硬涂层(Hard coats), 金属膜(Metal), 眼镜涂层(Ophthalmic) , 聚对二甲笨(Parylene), 电路板(PCBs&PWBs), 多孔硅(Porous Silicon), 光阻材料(Thick Resist),半导体材料(Semiconductors) , 太阳光伏(Solar photovoltaics), 真空镀层(Vacuum Coatings), 圈筒检查(Web inspection applications)等。应用：通过Filmetrics膜厚测量仪新反射式光谱测量技术,多达3-4层透明薄膜厚度、 n、k值及粗糙度能在数秒钟测得。其应用广泛，例如：半导体制造液晶显示器生物医疗元件微机电系统光学镀膜Photoresist光刻胶Oxides氧化物Nitrides氮化物SOI绝缘体上硅Cell Gaps液晶间隙Polyimide聚酰亚胺保护膜ITO纳米铟锡金属氧化物Polymer/Parylene Layers 聚合物/聚对二甲苯涂层Membrane/Balloon Wall Thickness生物膜/气泡球厚度Drug-Coated Stent药物涂层支架Silicon Membranes硅膜AlN/ZnO Thin Film Filters氮化铝/氧化锌薄膜滤镜Hardness Coatings硬镀膜Anti-reflection Coatings增透镀膜Filters滤光膜层实例：几乎任何光滑、半透明、低吸收的膜都能测。包括：SiO2（二氧化硅） SiNx（氮化硅） DLC（类金刚石碳）Photoresist（光刻胶） Polyer Layers（高分子聚合物层） Polymide（聚酰亚胺）Polysilicon（多晶硅） Amorphous Silicon（非晶硅） 基底实例：对于厚度测量，大多数情况下所要求的只是一块光滑、反射的基底。对于光学常数测量，需要一块平整的镜面反射基底；如果基底是透明的，基底背面需要进行处理使之不能反射。包括：Silicon（硅） Glass（玻璃） Aluminum（铝）Gas（砷化镓） Steel（钢） Polycarbonate（聚碳酸脂）Polymer Films（高分子聚合物膜）产品应用，在可测样品基底上有了极大的飞跃：●几乎所有材料表面上的镀膜都可以测量，即使是药片，木材或纸张等粗糙的非透明基底。●玻璃或塑料的板材、管道和容器。●光学镜头和眼科镜片。服务：免费样机演示及测量轻轻一按即可实现测量！请联系我们，专业的应用工程师将为你演示它是如此的方便！优势：* 提供在线诊断* 配送独立的软件包* 精通的历史功能即程序数据可存储、复制及策划结果* 免费软件升级 极易操作、快速、准确、机身轻巧及价格便宜为其主要优点，Filmetrics提供以下型号以供选择:一、单点测量系统（从 1nm 到 13mm 单层及多层厚度测量） F20全世界销量好的薄膜测量系统，有各种不同附件和波长(由220nm紫外线区 至1700nm近红外线区)覆盖范围，为任意携带型，可以实现反射率、膜厚、n、k值测量。F3-sX能测量半导体与介电层薄膜厚度到3毫米, 例如硅片F10-ARc可测量镜片和其他曲面的反射率，用于涂层厚度测量F10-HC测量硬涂层和防雾层厚度和折射率，聚碳酸酯硬涂层在汽车等行业应用普通F3-CS提供微小视野及微小样品测量，USB连接电脑即可使用，携带方便F10-AR测量眼科镜头和其他弯曲表面的反射率。还可以提供测量硬涂层厚度和透射率的可选件F10-RT可同时测量反射率和透射率，也可选配测量膜层厚度和折射率。普遍应用于真空涂层领域在F20实现反射率跟穿透率的同时测量，特殊光源设计特别适用于透明基底样品的测量。 二、F40 系列- 基于微米(显微)级别光斑尺寸厚度测量F40可以固定到您的显微镜上来测量小至 1um 光斑点的厚度和折射率这型号安裝在任何显微镜外，可提供小到1um光點(100倍放大倍數)來測量微小樣品。三、F50/F60系列- 表面的自动测绘F50为我们的F20系列产品增添自动测绘能力，以每秒钟 2 个点的快速测绘厚度和折射率这型号配备全自动XY工作台，由8"x8"到18"x18"或客戶提供所需尺寸均可。通过快速扫瞄功能，可取得整片样品厚度分布情况(mapping)。F54能以每秒测量两个点的速度快速的测绘薄膜厚度，样品直径可达450毫米F60-t满足生产环境的台式测绘系统，包括自动基准确定、凹槽定位、全封闭测量平台以及其它装置四、F30 系列- 在线厚度监控仪器 F30检测金属有机化学气相沉积(MOCVD)、阴极溅镀和其他沉积工艺中监控反射率、厚度和沉积率这型号可安装在任何真空镀膜机腔体外的窗口。可实时监控长晶速度、实时提供膜厚、n、k值。并可切定某一波长或固定测量时间间距。更可加装至三个探头，同时测量三个样品，具紫外线区或标准波长可供选择。F32实时监控薄膜顶部和底部的反射率和沉积速率公司网站：岱美中国：；岱美总部：上海分公司地址: 上海市浦东金高路 2216 弄 35 号6 幢 306-308 室电话: ，卜先生: 东莞分公司地址: 东莞市南城街道宏六路一号国金大厦401室电话: ，唐女士：北京分公司地址: 北京市丰台区丰台科技园汽车博物馆东路1号院诺德中心二期号楼1102室电话: ，贾先生: 岱美有限公司成立于1989年，是数据存储，半导体，光学，光伏和航空航天行业领头制造商和创新研发机构的先进设备分销商。在21世纪初期，Dymek已从我们在香港的总部扩展到亚洲，以满足客户的多样化需求。在当今全球化的市场中，我们的客户有连接东南亚各国的综合供应链已经成为基本。我们我们的专业人员随时准备与他们会面。我们总部设在香港，在中国（北京和上海，以及广东东莞）拥有强大的业务。我们还在马来西亚，新加坡，台湾，菲律宾和泰国的东南亚设有分支机构。我们所有的分支机构都已建立数十年，我们的许多客户对我们与他们建立的长达数十年的合作关系感到满意。我们的目标是建立持久的关系，满足东南亚快速增长企业的需求。对于我们的客户，我们不仅提供设备，还提供建议和技术指导，以及时了解我们不断发展的行业的新发展。对于我们的供应商，我们提供了深入的销售网络和数十年的东南亚复杂商业环境导航经验。我们将本地客户与来自欧洲，美国，日本和韩国的先进设备连接起来。可以立即联系我们，了解我们如何与您合作，实现您组织的长期财务目标。

岱美有限公司与Filmetrics从03年开始的合作关系，单是国内16年间已卖出超过600台不同型号仪器，在国内有多个服务处均有工程师，保证能为客户提供及时的服务。 经济实惠的薄膜厚度测量系统的全球销售领头者，让复杂测量变得简单产品简介：美国 Filmetrics 公司生产的薄膜厚度测量仪利用反射干涉的原理进行无损测量，可测量薄膜厚度及光学常数。测量精度达到埃级的分辩率，测量迅速，操作简单，界面友好，是目前市场上极具性价比的薄膜厚度测量设备。设备光谱测量范围从近红外到紫外线，波长范围从200nm到1700nm可选。凡是光滑的，透明或半透明的和所有半导体膜层都可以测量。其可测量薄膜厚度在 1nm 到 13mm 之间，测量精度高达1 埃，测量稳定性高达 0.7 埃，测量时间只需一到二秒, 并有手动及自动机型可选。可应用领域包括：生物医学（Biomedical）, 液晶显示(Displays), 硬涂层(Hard coats), 金属膜(Metal), 眼镜涂层(Ophthalmic) , 聚对二甲笨(Parylene), 电路板(PCBs&PWBs), 多孔硅(Porous Silicon), 光阻材料(Thick Resist),半导体材料(Semiconductors) , 太阳光伏(Solar photovoltaics), 真空镀层(Vacuum Coatings), 圈筒检查(Web inspection applications)等。应用：通过Filmetrics膜厚测量仪新反射式光谱测量技术,多达3-4层透明薄膜厚度、 n、k值及粗糙度能在数秒钟测得。其应用广泛，例如：半导体制造液晶显示器生物医疗元件微机电系统光学镀膜Photoresist光刻胶Oxides氧化物Nitrides氮化物SOI绝缘体上硅Cell Gaps液晶间隙Polyimide聚酰亚胺保护膜ITO纳米铟锡金属氧化物Polymer/Parylene Layers 聚合物/聚对二甲苯涂层Membrane/Balloon Wall Thickness 生物膜/气泡球厚度Drug-Coated Stent药物涂层支架Silicon Membranes硅膜AlN/ZnO Thin Film Filters氮化铝/氧化锌薄膜滤镜Hardness Coatings硬镀膜Anti-reflection Coatings增透镀膜Filters滤光膜层实例：几乎任何光滑、半透明、低吸收的膜都能测。包括：SiO2（二氧化硅） SiNx（氮化硅） DLC（类金刚石碳）Photoresist（光刻胶） Polyer Layers（高分子聚合物层） Polymide（聚酰亚胺）Polysilicon（多晶硅） Amorphous Silicon（非晶硅） 基底实例：对于厚度测量，大多数情况下所要求的只是一块光滑、反射的基底。对于光学常数测量，需要一块平整的镜面反射基底；如果基底是透明的，基底背面需要进行处理使之不能反射。包括：Silicon（硅） Glass（玻璃） Aluminum（铝）Gas（砷化镓） Steel（钢） Polycarbonate（聚碳酸脂）Polymer Films（高分子聚合物膜）产品应用，在可测样品基底上有了极大的飞跃：●几乎所有材料表面上的镀膜都可以测量，即使是药片，木材或纸张等粗糙的非透明基底。●玻璃或塑料的板材、管道和容器。●光学镜头和眼科镜片。服务：免费样机演示及测量 轻轻一按即可实现测量！ 请联系我们，专业的应用工程师将为你演示它是如此的方便！ 优势：* 提供在线诊断* 配送独立的软件包* 精通的历史功能即程序数据可存储、复制及策划结果* 免费软件升级 极易操作、快速、准确、机身轻巧及价格便宜为其主要优点，Filmetrics提供以下型号以供选择:一、单点测量系统（从 1nm 到 13mm 单层及多层厚度测量） F20全世界销量好的薄膜测量系统，有各种不同附件和波长(由220nm紫外线区 至1700nm近红外线区)覆盖范围，为任意携带型，可以实现反射率、膜厚、n、k值测量。F3-sX能测量半导体与介电层薄膜厚度到3毫米, 例如硅片F10-ARc可测量镜片和其他曲面的反射率，用于涂层厚度测量F10-HC测量硬涂层和防雾层厚度和折射率，聚碳酸酯硬涂层在汽车等行业应用普通F3-CS提供微小视野及微小样品测量，USB连接电脑即可使用，携带方便F10-AR测量眼科镜头和其他弯曲表面的反射率。还可以提供测量硬涂层厚度和透射率的可选件F10-RT可同时测量反射率和透射率，也可选配测量膜层厚度和折射率。普遍应用于真空涂层领域在F20实现反射率跟穿透率的同时测量，特殊光源设计特别适用于透明基底样品的测量。 二、F40 系列- 基于微米(显微)级别光斑尺寸厚度测量F40可以固定到您的显微镜上来测量小至 1um 光斑点的厚度和折射率这型号安裝在任何显微镜外，可提供小到1um光點(100倍放大倍數)來測量微小樣品。三、F50/F60系列- 表面的自动测绘F50为我们的F20系列产品增添自动测绘能力，以每秒钟 2 个点的快速测绘厚度和折射率这型号配备全自动XY工作台，由8"x8"到18"x18"或客戶提供所需尺寸均可。通过快速扫瞄功能，可取得整片样品厚度分布情况(mapping)。F54能以每秒测量两个点的速度快速的测绘薄膜厚度，样品直径可达450毫米F60-t满足生产环境的台式测绘系统，包括自动基准确定、凹槽定位、全封闭测量平台以及其它装置四、F30 系列- 在线厚度监控仪器 F30检测金属有机化学气相沉积(MOCVD)、阴极溅镀和其他沉积工艺中监控反射率、厚度和沉积率这型号可安装在任何真空镀膜机腔体外的窗口。可实时监控长晶速度、实时提供膜厚、n、k值。并可切定某一波长或固定测量时间间距。更可加装至三个探头，同时测量三个样品，具紫外线区或标准波长可供选择。F32实时监控薄膜顶部和底部的反射率和沉积速率公司网站：岱美中国：；岱美总部：上海分公司地址: 上海市浦东金高路 2216 弄 35 号6 幢 306-308 室电话: ，卜先生: 东莞分公司地址: 东莞市南城街道宏六路一号国金大厦401室电话: ，唐女士：北京分公司地址: 北京市丰台区丰台科技园汽车博物馆东路1号院诺德中心二期号楼1102室电话: ，贾先生: 岱美有限公司成立于1989年，是数据存储，半导体，光学，光伏和航空航天行业领头制造商和创新研发机构的先进设备分销商。在21世纪初期，Dymek已从我们在香港的总部扩展到亚洲，以满足客户的多样化需求。在当今全球化的市场中，我们的客户有连接东南亚各国的综合供应链已经成为基本。我们我们的专业人员随时准备与他们会面。我们总部设在香港，在中国（北京和上海，以及广东东莞）拥有强大的业务。我们还在马来西亚，新加坡，台湾，菲律宾和泰国的东南亚设有分支机构。我们所有的分支机构都已建立数十年，我们的许多客户对我们与他们建立的长达数十年的合作关系感到满意。我们的目标是建立持久的关系，满足东南亚快速增长企业的需求。对于我们的客户，我们不仅提供设备，还提供建议和技术指导，以及时了解我们不断发展的行业的新发展。对于我们的供应商，我们提供了深入的销售网络和数十年的东南亚复杂商业环境导航经验。我们将本地客户与来自欧洲，美国，日本和韩国的先进设备连接起来。可以立即联系我们，了解我们如何与您合作，实现您组织的长期财务目标。

岱美有限公司与Filmetrics从03年开始的合作关系，单是国内16年间已卖出超过600台不同型号仪器，在国内有多个服务处均有工程师，保证能为客户提供及时的服务。 经济实惠的薄膜厚度测量系统的全球销售领头者，让复杂测量变得简单产品简介：美国 Filmetrics 公司生产的薄膜厚度测量仪利用反射干涉的原理进行无损测量，可测量薄膜厚度及光学常数。测量精度达到埃级的分辩率，测量迅速，操作简单，界面友好，是目前市场上极具性价比的薄膜厚度测量设备。设备光谱测量范围从近红外到紫外线，波长范围从200nm到1700nm可选。凡是光滑的，透明或半透明的和所有半导体膜层都可以测量。其可测量薄膜厚度在 1nm 到 13mm 之间，测量精度高达1 埃，测量稳定性高达 0.7 埃，测量时间只需一到二秒, 并有手动及自动机型可选。可应用领域包括：生物医学（Biomedical）, 液晶显示(Displays), 硬涂层(Hard coats), 金属膜(Metal), 眼镜涂层(Ophthalmic) , 聚对二甲笨(Parylene), 电路板(PCBs&PWBs), 多孔硅(Porous Silicon), 光阻材料(Thick Resist),半导体材料(Semiconductors) , 太阳光伏(Solar photovoltaics), 真空镀层(Vacuum Coatings), 圈筒检查(Web inspection applications)等。应用：通过Filmetrics膜厚测量仪新反射式光谱测量技术,多达3-4层透明薄膜厚度、 n、k值及粗糙度能在数秒钟测得。其应用广泛，例如：半导体制造液晶显示器生物医疗元件微机电系统光学镀膜Photoresist光刻胶Oxides氧化物Nitrides氮化物SOI绝缘体上硅Cell Gaps液晶间隙Polyimide聚酰亚胺保护膜ITO纳米铟锡金属氧化物Polymer/Parylene Layers 聚合物/聚对二甲苯涂层Membrane/Balloon Wall Thickness 生物膜/气泡球厚度Drug-Coated Stent药物涂层支架Silicon Membranes硅膜AlN/ZnO Thin Film Filters氮化铝/氧化锌薄膜滤镜Hardness Coatings硬镀膜Anti-reflection Coatings增透镀膜Filters滤光膜层实例：几乎任何光滑、半透明、低吸收的膜都能测。包括：SiO2（二氧化硅） SiNx（氮化硅） DLC（类金刚石碳）Photoresist（光刻胶） Polyer Layers（高分子聚合物层） Polymide（聚酰亚胺）Polysilicon（多晶硅） Amorphous Silicon（非晶硅） 基底实例：对于厚度测量，大多数情况下所要求的只是一块光滑、反射的基底。对于光学常数测量，需要一块平整的镜面反射基底；如果基底是透明的，基底背面需要进行处理使之不能反射。包括：Silicon（硅） Glass（玻璃） Aluminum（铝）Gas（砷化镓） Steel（钢） Polycarbonate（聚碳酸脂）Polymer Films（高分子聚合物膜）产品应用，在可测样品基底上有了极大的飞跃：●几乎所有材料表面上的镀膜都可以测量，即使是药片，木材或纸张等粗糙的非透明基底。●玻璃或塑料的板材、管道和容器。●光学镜头和眼科镜片。服务：免费样机演示及测量 轻轻一按即可实现测量！ 请联系我们，专业的应用工程师将为你演示它是如此的方便！ 优势：* 提供在线诊断* 配送独立的软件包* 精通的历史功能即程序数据可存储、复制及策划结果* 免费软件升级 极易操作、快速、准确、机身轻巧及价格便宜为其主要优点，Filmetrics提供以下型号以供选择:一、单点测量系统（从 1nm 到 13mm 单层及多层厚度测量） F20全世界销量好的薄膜测量系统，有各种不同附件和波长(由220nm紫外线区 至1700nm近红外线区)覆盖范围，为任意携带型，可以实现反射率、膜厚、n、k值测量。F3-sX能测量半导体与介电层薄膜厚度到3毫米, 例如硅片F10-ARc可测量镜片和其他曲面的反射率，用于涂层厚度测量F10-HC测量硬涂层和防雾层厚度和折射率，聚碳酸酯硬涂层在汽车等行业应用普通F3-CS提供微小视野及微小样品测量，USB连接电脑即可使用，携带方便F10-AR测量眼科镜头和其他弯曲表面的反射率。还可以提供测量硬涂层厚度和透射率的可选件F10-RT可同时测量反射率和透射率，也可选配测量膜层厚度和折射率。普遍应用于真空涂层领域在F20实现反射率跟穿透率的同时测量，特殊光源设计特别适用于透明基底样品的测量。 二、F40 系列- 基于微米(显微)级别光斑尺寸厚度测量F40可以固定到您的显微镜上来测量小至 1um 光斑点的厚度和折射率这型号安裝在任何显微镜外，可提供小到1um光點(100倍放大倍數)來測量微小樣品。三、F50/F60系列- 表面的自动测绘F50为我们的F20系列产品增添自动测绘能力，以每秒钟 2 个点的快速测绘厚度和折射率这型号配备全自动XY工作台，由8"x8"到18"x18"或客戶提供所需尺寸均可。通过快速扫瞄功能，可取得整片样品厚度分布情况(mapping)。F54能以每秒测量两个点的速度快速的测绘薄膜厚度，样品直径可达450毫米F60-t满足生产环境的台式测绘系统，包括自动基准确定、凹槽定位、全封闭测量平台以及其它装置四、F30 系列- 在线厚度监控仪器 F30检测金属有机化学气相沉积(MOCVD)、阴极溅镀和其他沉积工艺中监控反射率、厚度和沉积率这型号可安装在任何真空镀膜机腔体外的窗口。可实时监控长晶速度、实时提供膜厚、n、k值。并可切定某一波长或固定测量时间间距。更可加装至三个探头，同时测量三个样品，具紫外线区或标准波长可供选择。F32实时监控薄膜顶部和底部的反射率和沉积速率公司网站：岱美中国：；岱美总部：上海分公司地址: 上海市浦东金高路 2216 弄 35 号6 幢 306-308 室电话: ，卜先生: 东莞分公司地址: 东莞市南城街道宏六路一号国金大厦401室电话: ，唐女士：北京分公司地址: 北京市丰台区丰台科技园汽车博物馆东路1号院诺德中心二期号楼1102室电话: ，贾先生: 岱美有限公司成立于1989年，是数据存储，半导体，光学，光伏和航空航天行业领头制造商和创新研发机构的先进设备分销商。在21世纪初期，Dymek已从我们在香港的总部扩展到亚洲，以满足客户的多样化需求。在当今全球化的市场中，我们的客户有连接东南亚各国的综合供应链已经成为基本。我们我们的专业人员随时准备与他们会面。我们总部设在香港，在中国（北京和上海，以及广东东莞）拥有强大的业务。我们还在马来西亚，新加坡，台湾，菲律宾和泰国的东南亚设有分支机构。我们所有的分支机构都已建立数十年，我们的许多客户对我们与他们建立的长达数十年的合作关系感到满意。我们的目标是建立持久的关系，满足东南亚快速增长企业的需求。对于我们的客户，我们不仅提供设备，还提供建议和技术指导，以及时了解我们不断发展的行业的新发展。对于我们的供应商，我们提供了深入的销售网络和数十年的东南亚复杂商业环境导航经验。我们将本地客户与来自欧洲，美国，日本和韩国的先进设备连接起来。可以立即联系我们，了解我们如何与您合作，实现您组织的长期财务目标。

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Filmetrics 薄膜厚度测量仪测厚仪F80-C膜厚测量仪使生产晶片的测量变得简单实惠工艺工程师希望薄膜厚度测量是快速容易的，现在高精度的厚度成像技术让 Filmetrics 可以快速建立配方，并且拥有快速的测试速度，而且价格仅仅是同行业测量设备的小部分。 F80 可以应用在化学机械抛光、化学气相沉积、蚀刻等工艺中，这是晶片追索工艺工程师所期待的。新技术= 低成本与传统的测量工具不同， F80 不需要高精度的移动硬件去找寻微小的测试 pads，相反的，它可以快速的测量每个 pad 附近数以千计点的厚度，然后处理“厚度成像”结果，进而找到正确的厚度。可以替换昂贵的移动硬件，进而节约很高的成本。使用方便因为使用厚度成像技术， F80 不依赖过时的基于视频的图像识别技术，这意味着在 CMP 应用中通常会遇到的前后表面光对照比不同的问题，在 F80 系统中是不存在的。 也意味着配方的建立更自动化和直观，数据可以及时存，从而节省了时间，训练及减少误操作引发的错误。快速因为厚度成像技术， 300 毫米晶片在 F80 上扫描 21 点仅仅只需要 29 秒的时间，非常快速。Filmetrics 薄膜厚度测量仪测厚仪Filmetrics 薄膜厚度测量仪测厚仪Filmetrics 薄膜厚度测量仪测厚仪

塑料薄膜厚度测量仪随着塑料薄膜、拉伸缠绕膜、尼龙膜等包装材料的应用，食品保鲜膜等包装品也得到了大量应用。为了确保这些包装材料的厚度和品质，需要使用厚度测量仪器进行检测。本文将介绍一种厚度测量仪器的检测原理，该仪器采用机械接触式进行测量，能够准确地测量各种材料的厚度。 该厚度测量仪器由机械框架、测量头、驱动器、传感器和测量软件等组成。在测量过程中，测量头与被测材料接触，传感器会感知测量头与被测材料之间的距离，并将距离信号传输到测量软件中进行处理和计算。 该厚度测量仪器采用机械接触式进行测量，其检测原理是利用测量头与被测材料接触时，测量头受到被测材料的顶出力，该力会使测量头的位移发生变化。测量头位移的变化量与被测材料的厚度之间存在一定的关系，通过测量位移变化量就可以计算出被测材料的厚度。 具体来说，该厚度测量仪器在测量过程中，将测量头放置在被测材料的表面，并施加一定的压力，使测量头与被测材料紧密接触。当测量头向上移动时，由于被测材料顶出力的作用，测量头的位移将发生变化。该位移变化量通过传感器传输到测量软件中，测量软件根据位移变化量和机械框架的结构参数，计算出被测材料的厚度。 该厚度测量仪器能够准确地测量各种材料的厚度，如塑料薄膜、拉伸缠绕膜、尼龙膜等。同时，该仪器还可以用于食品保鲜膜等包装材料的厚度检测。由于该仪器采用机械接触式进行测量，其具有以下优点： 1、测量精度高：由于测量头与被测材料直接接触，能够更准确地感知被测材料的厚度变化。2、稳定性好：由于机械结构比较稳定可靠，因此测量的重复性和准确性都比较高。3、适用范围广：可以用于不同材料的厚度检测，如塑料薄膜、拉伸缠绕膜、尼龙膜等包装材料以及食品保鲜膜等。 技术参数 测量范围 0-2mm （其他量程可定制） 分辨率 0.1um 测量速度 10次/min（可调） 测量压力 17.5±1kPa（薄膜）；100±1kPa（纸张） 接触面积 50mm² （薄膜），200mm² （纸张） 注：薄膜、纸张任选一种 进样步矩 0 ～ 1300 mm(可调) 进样速度 0 ～ 120 mm/s(可调) 机器尺寸 450mm×340mm×390mm (长宽高) 重 量 23Kg 工作温度 15℃-50℃ 相对湿度 80%,无凝露 试验环境 无震动，无电磁干扰 工作电源 220V 50Hz 塑料薄膜厚度测量仪 此为广告

Filmetrics F3-sX薄膜厚度测量仪F3-sX 系列能测量半导体与介电层薄膜厚度到3毫米,而这种较厚的薄膜与较薄的薄膜相比往往粗糙且均匀度较为不佳波长选配F3-sX系列使用近红外光来测量薄膜厚度，即使有许多肉眼看来不透光(例如半导体)。 F3-s980 是波长为980奈米的版本，是为了针对成本敏锐的应用而设计,F3-s1310是针对重掺杂硅片的最佳化设计,F3-s1550则是为了最厚的薄膜设计。附件附件包含自动化测绘平台，一个影像镜头可看到量测点的位置以及可选配可见光波长的功能使厚度测量能力最薄至15奈米。包含的内容：集成光谱仪/光源装置光斑尺寸10微米的单点测量平台FILMeasure 8反射率测量软件Si 参考材料FILMeasure 独立软件 (用于远程数据分析)型号规格*取决于薄膜种类型号厚度范围*波长范围F3-s98010µ m - 1mm960-1000nmF3-s131015µ m - 2mm1280-1340nmF3-s155025µ m - 3mm1520-1580nm额外的好处：每台系统內建超过130种材料库, 随着不同应用更超过数百种应用工程师可立刻提供帮助（周一 - 周五）网上的 “手把手” 支持 (需要连接互联网)硬件升级计划常见的选购配件：厚度测量软件升级SampleCam-sXStageBase-XY10-Auto-100mm

包装薄膜厚度测量仪 高精度接触式测厚仪仪器名称：CHY-02测厚仪制造商：山东泉科瑞达仪器设备有限公司仪器品牌：泉科瑞达包装薄膜厚度测量仪 高精度接触式测厚仪包装薄膜厚度测量仪 高精度接触式测厚仪是一种高精度的测量设备，主要用于测量塑料薄膜、薄片、隔膜、纸张、箔片、硅片等材料的厚度。以下是对接触式包装薄膜厚度测量仪的详细介绍：包装薄膜厚度测量仪 高精度接触式测厚仪产品特征高精度测量：采用机械接触式测量原理，通过精密的位移传感器测量薄膜材料的厚度。自动升降测头：在测试过程中，测量头自动升降，减少人为因素造成的误差。操作简便：配备大液晶屏显示，操作界面直观，支持手动和自动两种测量模式。数据管理：实时显示测量结果，包括最大值、最小值、平均值和标准偏差，方便数据分析。系统标定：配置标准量块用于系统标定，确保测试精度和数据一致性。打印功能：系统支持数据实时显示、自动统计和打印，方便获取测试结果。包装薄膜厚度测量仪 高精度接触式测厚仪技术参数测试范围：0～2mm（标配），可选配0～6mm或0～12mm的测量范围。分辨率：0.1μm，确保极高的测量精度。测量压力：17.5±1 kPa（薄膜），50±1 kPa（纸张），适应不同材料的测量需求。接触面积：50mm² （薄膜），200mm² （纸张），可根据测试材料选择。电源：AC 220V 50Hz，符合多数实验室的电源要求。外形尺寸：设备体积适中，便于实验室内安置。净重：大约26kg，便于移动和携带。执行标准该仪器符合多项国家和国际标准，如GB/T 6672、GB/T 451.3、GB/T 6547、ISO 4593、ISO 534、ISO 3034、ASTM D374、ASTM D1777、TAPPI T411、JIS K6250、JIS K6783、JIS Z1702、BS 3983、BS 4817等。包装薄膜厚度测量仪 高精度接触式测厚仪应用领域广泛应用于塑料薄膜、纸张、箔片、硅片等材料的厚度测量，适用于包装材料生产过程中的质量控制、研发与技术创新等领域。仪器配置标准配置通常包括主机、微型打印机、标准量块等。可选配件包括专业软件、通信电缆、配重砝码盘、配重砝码等。

镀铝膜厚度测量仪镀层厚度测量已成为加工工业、表面工程质量检测的重要环节，是产品达到优等质量标准的必要手段。为使产品国际化，我国出口商品和涉外项目中，对镀层厚度有了明确要求。本产品适用于各种镀铝薄膜、镀铝纸测试电阻值、均匀度、厚度值的测试。 技术特征 微电脑控制、LCD液晶显示、PVC操作面板，方便用户快速、直观的查看检测数据和结果 配置微型打印机，快速打印方块电阻值、厚度值、均匀度 数据实时显示电阻值、厚度值 试验结果记忆功能,方便用户查询 温度显示功能 高精度接触式测量 试验步骤1.将金属镀层测量仪与试样放置在GB2918规定的23±2℃.，45%-55%RH环境中放置4h后测量。2.每次测量前用无水乙醇擦拭仪器的测量头。3.将试样平放在测量仪的橡胶板上，使测量头与金属镀层接触良好。 4.每次测量前仪器必须校零。5.测量试样的电阻值。测试的实验结果自动显示打印金属镀层的方块电阻、金属镀层厚度和均匀度。 技术参数 厚度测量范围 厚度50-570&angst 方块电阻测量范围 0.5-5Ω 方块电阻测量误差 ±1% 样品尺寸 100×100mm 夹样精度 ±0.1mm 测温范围 0～50℃，精度±1℃ 外形尺寸 370mm×330mm×450mm （长宽高） 重 量 19kg 工作温度 23℃±2℃ 相对湿度 高80%,无凝露 工作电源 220V 50Hz 参照标准 GB/T 15717 产品配置 主机、微型打印机镀铝膜厚度测量仪此为广告

美国Filmetrics 光学膜厚测量仪 F60-C膜厚测量仪自动化薄膜厚度分布图案系统F60-c 光学膜厚测量仪先进的薄膜光谱反射系统，可以很简单快速地获得薄膜的厚度及 n&k， 采用 r-θ 极坐标移动平台，可以在几秒钟的时间内快速的定位所需测试的点并测试厚度， 可随意选择一种或极坐标形、 或方形、或线性的图形模式，也可以编辑自己需要的测试点。 针对不同的晶圆尺寸，盒对盒系统可以很容易的自动转换，匹配当前盒子的尺寸。 49点的分布图测量只需耗时约 45秒。可测样品膜层基本上所有光滑的、半透明的或低吸收系数的薄膜都可以测量。例如氧化硅 氮化硅 类金刚石 DLC光刻胶 聚合物 聚亚酰胺多晶硅 非晶硅 硅免费现场演示/支持点几下鼠标就可以在网络上在线看到现场演示！请联系我们，我们的应用工程师会在电脑上为您演示薄膜测量是多么容易Filmetrics 光学膜厚测量仪 F60-C膜厚测量仪Filmetrics 光学膜厚测量仪 F60-C膜厚测量仪Filmetrics 光学膜厚测量仪 F60-C膜厚测量仪Filmetrics 光学膜厚测量仪 F60-C膜厚测量仪