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微小光斑测量仪

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微小光斑测量仪相关的仪器

  • μBeam微小光斑测量仪以色列Duma Optronics 公司于1989年成立,是一家专业从事激光光束自动化测量系统研发和生产的公司。其生产的光束质量分析仪产品类型丰富,功能全面。公司的Beam Analysis光束质量分析仪主要有三种类型:CCD类型分析仪(最新产品)、亚毫米光束分析仪、刀口法类型分析仪。-量微米级大小光束(0.5um)-可测量连续光束和高低重复频率的脉冲光束-长的测量距离-高分辨率、高灵敏度CCD读出装置-宽光谱范围,优越的快速聚焦性能?自动验证分析报告主要参数:参数数值相机类型CCD1/4"光谱范围350–1310nm放大倍数100x、50x、20x、10x衰减器内置可卸NG10衰减片尺寸163.5 x83mm透镜工作距离6.0mm(100x),13mm(50x),33.5mm(10x),20mm(20x)最小可测光束大小0.5μm(100x)最大帧速25Hz
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  • 【产品介绍】科研型小光斑拉曼光谱仪采用单模光纤版本的显微拉曼,最小光斑可达1μm。在高NA的半复消色差100倍干物镜的配合下实现更优效果,在同样视野光斑占比下,通过配合光学扩展量的能量传递,放大样品,缩小光斑聚焦尺寸。【产品优势】最小光斑可达1μm配合独创壳层隔绝表面增强技术,信号放大至百万倍级别外观简单,轻松便携: 整机一体化设计,美观、耐用,轻便、小巧,方便携带,适用于实验室,现场等多种场合光纤耦合,采样更方便: 灵活的光纤探头可在不同位置进行测量【检测实例】★1064科研型小光斑拉曼光谱仪:一条白色线宽是5微米;光斑大小≤1微米。
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  • 激光光斑功率测量仪 / AUT-BPPM-LP系列激光功率和光斑测量仪产品简介:AUT-BPPM-LP 系列的激光功率和光斑测量仪为 Cinogy INSIDE 产品解决方案系列之一,内置有高性能 的 CinCam 系列光斑分析仪相机,以及测量功能和算法非常强大的 RayCi 控 制软件,适配有功率计,是一款激光功率和光斑的多功能测量仪。AUT-BPPM-LP 系列改善了传统光斑分析仪和功率计只能单独测量的特性, 即可以兼容实时测量激光的功率和光斑的参数,客户无需更换不同的测量设备, 实现了一机多用。标准的 AUT-BPPM-LP 系列采用的是一体化紧凑型设计,主要用于实时测量 低功率激光的功率、光斑直径、能量分布、位置、椭圆度等等。激光功率和光斑测量仪产品特点:波长范围覆盖 150nm - 1700nm直接可测功率1W以内直接可测光斑直径22um~11mm适配CinCam cmos系列相机,可灵活更换实时测量激光的功率、光斑尺寸、位置等参数CINOGY INSIDE产品解决方案,保证了超高的性能激光功率和光斑测量仪主要技术指标:探测器适配高性能的CinCam CMOS相机分析软件RayCi光谱响应150nm~1700nm 可选分辨率Min. 2.2um可测功率Max. 1W接口USB2.0/USB3.0/GigE可测光斑直径22um~11mm散热风冷激光功率和光斑测量仪主要软件视图:如需了解更详细信息,可下载产品数据单进行查阅或者直接咨询产品负责人~更多详情请联系昊量光电/欢迎直接联系昊量光电关于昊量光电:上海昊量光电设备有限公司是光电产品专业代理商,产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、光学元件等,涉及应用涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国防、量子光学、生物显微、物联传感、激光制造等;可为客户提供完整的设备安装,培训,硬件开发,软件开发,系统集成等服务。
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  • 厂家介绍:美国 DataRay 公司成立于1988年,专业提供激光光束分析仪器,对激光光束的光斑大小,形状和能量分布等参数进行全面的测试和分析;可提供2D或3D的显示,并对分析的结果进行打印输出。适合各种各样的激光光束,帮助你对你的激光光束的品质提供一个量化的结果。 应用领域:&bull 通信:光缆加工/熔接、研发&bull 材料加工:焊接、蚀刻、切割&bull 消费设备:光学鼠标&bull 天文&bull 激光制造与品控&bull 光谱学&bull 3D扫描&bull 粒子检测&bull LED:室内照明、车头灯&bull LIDAR:AR、VR&bull 生物医学:眼科手术、激光手术、内部跟踪一、线光斑分析仪Dataray公司独有的线光斑测量仪 Max光斑长度可以达到200mm, 通过在高稳定、高重复性的电动平台上搭载光束质量分析仪,利用先进的图像拼接处理的软件设计,实现大尺寸线光斑的实时测量。Dataray公司提供50mm(LLPS-50)和200mm (LLPS-200)两种行程的线光斑测量仪供客户选择。 产品特点&bull 光谱范围:190-1150nm(取决于使用的光束质量分析仪,可拓展至163nm-16um);&bull 分辨率:4um(取决于所使用的的光束质量分析仪);&bull 线光斑的宽度(Min.55um)和长度测量(Max.200mm);&bull 线光斑倾斜角测量;&bull 通过线光斑回归线测量竖直方向圆心;应用领域&bull 机器视觉&bull 3D扫描&bull 条纹扫描&bull LD激光阵列发光测试&bull 粒子计数&bull 水平仪经纬仪设备现场分析 二、大尺寸光斑测量仪DataRay公司通过将激光照射在透射屏上,利用高质量的透镜进行成像,可以实现大尺寸的光斑测量,最大可测光斑可以达到200mm。产品特点l 配置 WinCamD-LCM相机l 光谱范围:355-1150nml 透射屏尺寸:200 x 200 mml 有效像素大小:170 x 170 μml 成像透镜:焦距12.5mm,f/1.4-f/16l 信噪比:2500:1应用领域l 大尺寸激光光束测量l 全强度分布分析l 主/次直径测量
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  • QE(大小光斑带mapping功能)量子效率测量;SpectralResponse,QE,IPCEsystemOverviewThePVE300systemisamonolithic,turnkeysolutionforphotovoltaicdeviceresearchinindustryandacademia,permittingthequickandaccuratecharacterisationofphotovoltaicdevicesandmaterials.BackedbyBentham’sextensiveexperienceinthefieldoflightmeasurement,thissystemcanbeconfiguredtocoverthespectralrangeanddevicetypeofyourchoice.FeaturesAbsolutespectralResponsively,ExternalQuantumEfficiencymeasurement IncidentPhotontoChargeCarrierEfficiency(IPCE)measurement Integratingsphere-baseddeterminationofreflectance/transmittancetoyieldinternalquantumefficiency(IQE,%)AllTypeofSolarCell,Silicon,Ge,CdTe,CIS,Organic,Dye-sensitized SingleorMulti-junctiondevices(withBiaslightoption) Spectralrange300---1100nm OptionalExtensionto1800nmTestingundervariablebiaslight,Biaslightintensityuptoonesunillumination
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  • 光斑分析仪 BEAMAGE-3.0光学测量仪特点:①USB 3.0的最 da传输速率 比普通USB 2.0(兼容USB 2.0)接口快10倍②高分辨率 兆像素的分辨率即使是准确分析测量极小的光束也能够游刃有余: 2.2兆像素的分辨率(Beamage-3.0) 4.2兆像素的分辨率(Beamage-4M)③大面积传感器 11.3 x 6.0(Beamage-3.0) 11.3 x 11.3 mm(Beamage-4M),加倍Beamage-3.0的大小!④提供IR涂层处理 Beamage-IR产品经过特殊荧光剂处理,用于IR波长(1495-1595 nm)⑤符合ISO标准 D4σ直径清晰度、质心、椭圆率、和定向符合国际标准ISO 11146:2004以及ISO 11146:2005的规定⑥简单高效 简单的界面给人非常直观的感觉。界面包含很多有用的显示及控制特色: 2D、3D和XY显示 背景消除功能 无二的“动画”功能 高斯拟合 半对数图⑦外部触发,能够使得相机与脉冲激光器同步
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  • 大视场测量系统很容易将小零件整体呈现在屏幕上,但是也有其他的微型零件,不能够完全放入影像视窗中.带有很小特征的大一点的零件,从MEMS组件到微型机械装置---这些都是需要大一点或更精密的测量系统来监控。当产品体量较大或测量特征比较大时,就需要大规格的测量系统了。那么今天妙机影像测量仪厂家给大家浅析一下测量速度和微小特征的测量需求。  大体量的零件上微小尺寸的高速测量需要特殊技术的设备来实现。而光学系统允许宏观和微小尺寸测量的快速切换,传统的光学变焦镜头提供了一个放大范围,但是需要频繁变焦会是检测效率提升的一个瓶颈,这种情况下,变焦镜就需要更多的维护并在一定时间以后的更换。  对于这种应用,带有两个或更多内部固定镜头的光学系统就很理想。内部放大倍率是一倍和四倍的前置放大镜头。固定式镜头设计在无需移动零件的情况下,确保正常的校准和可靠性甚至在批量操作时。这种特殊的光学设计在不牺牲测量效率和成本的前提下,优化了在影像视窗内的零件和有关特征尺寸的测量。  另外一个关键是对于快速测量系统中使用快速转运零件到光学视窗下,或者在测量位置快速移动。在这里减少移动和测量速度的优化取决于零件设计。当零件特征比较微小时,最快的系统是XY平台运动加速度非常高的。而当距离很长时,平台运动加速度固然重要,但是平台运动速度也是至关重要的。当加速度是关键动因时,线性马达系统提供了最好的性能。这种马达是线性电磁阵列通过机械耦合驱动平台的,完全无磨损而且可以实现在短距离非常高的加速度。轴向运动的直线度和垂直度完全是独立驱动的系统,因此操控速度在全部系统加速度中只是其中一个因素。  以上就是我们影像测量仪生产厂家的内容介绍了,相信大家对此会有更深入的了解了,如有朋友需要购买的或者想了解更多关于这方面的知识,可以随时联系妙机科技咨询或者关注妙机科技了解更多。广东妙机精密科技股份有限公司(以下简称妙机科技)致力于为高科技领域提供完整的微米、奈米测量解决方案。妙机科技拥有完全自主品牌体系,从研发、生产、销售等关键环节,提供上、中、下游完整的产品供应及售后服务,目前在国内外占有一定的市场并享有较高的品牌知名度,未来将持续朝更高速、更高精度测量产品方向发展。
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  • BeamWatch是一款测量高功率激光光束质量的仪器,可测量激光束腰位置测量激光束腰尺寸、记录激光束腰位置的漂移,无需任何衰减,功率测量范围400W—无上限,波长范围:980-1080nm。高功率激光光束质量测量仪BeamWatch应用: 高功率激光切割 高功率激光焊接 激光器参数标定高功率激光光束质量测量仪BeamWatch性能参数: 型号BW-NIR-1-155BW-NIR-1-55BW-NIR-2-155BW-NIR-2-55波长980nm-1080nm最小功率密度2 Megawatts/cm2最大光斑尺寸12.5mm最小光斑尺寸155um55um155um55um连接电脑方式Gige Ethernet精度束腰尺寸精度±5%束腰位置精度±125um焦点漂移±50um发散角精度±3.5% RMSM2精度±3.5% RMS测量结果空间结果束腰尺寸X & Y、束腰位置X & Y、焦点漂移X & Y、质心X & Y、光标位置处尺寸、光标位置处椭圆度、瑞利长度等光束质量结果M2(X & Y & average)、K(X & Y & average)、BPP (X & Y & average)发散角(X & Y & average)
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  • 薄膜测量仪 400-860-5168转4585
    总部位于德国柏林科技园区的SENTECH仪器公司,已成为光伏生产设备世界市场之 一.我们是一家快速发展的中型公司,拥有60多名员工,他们是我们有价值的资产我们団 队的每个成员都为公司的成功做出贡献,我们总是在寻找与我们志同道合的新工作伙伴,我 们诚挚期待您的加入。薄膜测量仪器反射膜厚仪RM 1000和RM 2000扩展折射率指数测量极限我们的反射仪的特点是通过样品的高度和倾斜调整进行精确的单光束反射率测量,光学布局的高光导允许对n和kffl 行重复测量,对粗糙表面进行测量以及对非常薄的薄膜进行厚度测量. 紫外-近红外光谱葩围 RM 1000 430 nm-930 nm RM 2000 200 nm - 930 nm 高分辨率自动扫描 反射仪RM 1000和RM 2000可以选配x-y自动扫描台和自动扫描软件、用于小光斑尺寸的物镜和摄像机。综合薄膜测量软件FTPadv Expert宽光谱范围和高光谱精度 SENresearch4.0光谱椭偏仪覆盖宽的光谱范围,从190 nm(深紫外)到3500 nm(近红外)。 傅立叶红外光谱仪FTIR提供了高光谱分辨率用以分析厚度高达200|jm的厚膜。 没有光学器件运动(步进扫描分析器原理) 为了获得测量结果,在数据采集过程中没有光学器件运动。步进扫描分析器(SSA)原理是SENrsearch4.0光谱椭偏仪的一个独特特性。 双补偿器2C全穆勒矩阵测量 通过创新的双补偿器2C设计扩展了步进扫描分析器SSAJ京理,允许测量全穆勒矩阵。该设计是可现场升 级和实 现成本效益的附件。 SpectraRay/4综合椭偏仪软件 SpectraRay/4是用于先进材料分析的全功能软件包,SpectraRay/4包括用于与引导图形用户界面进 行研究的交互 模式和用于常规应用的配方模式.激光椭偏仪SE400adv亚埃精度稳定的氣氤激光器保证了 0.1埃精度的超薄单层薄膜厚度测量。 扩展激光欄偏仪的极限 性能优异的多角度手动角度计和角度精度优越的激光椭偏仪允许测量单层薄膜和层叠膜的折 射率、消光系数和膜厚. 高速测量 我们的激光椭偏仪SE 400adv的高速测量速度使得用户可以监控单层薄膜的生长和终点检 测,或者做样品均匀性的自动扫描。综合薄膜测量软件FTPadvExp测量n, k,和膜厚 该软件包是为R(入)和T(入)测量的高级分析而设计的。 查层膜分析 可以测量单个薄膜和层畳膜的每一层的薄膜厚度和折射率. 大量色散模型 集成的色散模型用于描述所有常用材料的光学特性。利用快速拟合算法,通过改变模型参数 将计算得到的光谱调整到实测光谱。
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  • 膜厚测量仪-MPROBE - MAKING THIN FILMS THICKNESS MEASUREMENT EASY产品负责人:姓名:魏工(David)电话:(微信同号)邮箱:美国Semisonsoft公司MProbe系列薄膜测厚仪测量厚度可以低至1nm,厚至1.8mm,埃级分辨率,非接触式无损快速测量。广泛应用在各种生产或研究中,比如测量薄膜太阳能电池的CIGS层,触摸屏中的ITO层等。大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且稳定的被测量。测量原理:当指定波长范围的光照射到薄膜上时,从不同界面上反射的光相位不同,从而引起干涉导致强度相长或相消。而这种强度的振荡是与薄膜的结构相关的。通过对这种振荡拟合和傅里叶变换就可获得样品厚度和相关的光学常数。比如:半导体(硅,单晶硅,多晶硅)半导体化合物(AlGaAs, InGaAs,CdTe, CIGS)微电子机械(MEMS)氧化物/氮化物光刻胶硬涂层(碳化硅,类金刚石炭)聚合物涂层(聚对二甲苯,聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺)高分子聚合物MProbe膜厚测量仪操作简单,只需一键操作即可获得样品的厚度、折射率(n, k)和表面粗糙度等信息,膜厚测量设备可支持不同光谱范围,光谱范围可达200-1700nm,因此可测量厚度范围可从1nm到2mm。 设备中无移动组件,所以测量结果几乎是即时得到的;TFCompanion测量软件使得测量过程非常简单且透明,测量历史、动态测量、模拟、颜色分析、直接在样品图像上显示结果。膜厚测量仪分类:1、单点膜厚测量——MPROBE-20MPROBE-20膜厚测量仪是一款台式单点膜厚测量设备,设备操作简单,一键获得样品的厚度和折射率,并可提供不同波段范围(适用于不同厚度薄膜)选择。MPROBE-20具有以下几种型号,客户可根据自己所需的波长范围和薄膜厚度进行选择。可供选择型号:型号波长范围核心配置厚度范围VIS200nm -1100nmF3 Ariel Spectrometer, 2048/4096 pix cmos, 16 bit ADC, 5W Tungsten-Halogen lamp10nm – 75 μmUVVISSR700nm -1100nmF4 Spectrometer, 2048 pix (backthinned),16 bit ADC 20W TH lamp, 30W Deuterium short-ark lamp1nm -75μmVIS-HR900nm-1700nmF4 Spectrometer, 2048 pix (backthinned),16 bit ADC, 5W TH lamp 1μm-400μmNIR200nm-800nmF4 spectrometer, InGaAs detector 512 pix., 16 bit ADC, 5W TH lamp50nm – 85μmUVVisF200nm -1700nmF4 spectrometer, Si detector 2048 pixels ccd, 16 bit ADC, 10W Xe flash lamp1nm – 5μmUVVISNIR1500nm-1550nmF4 Spectrometer, 2048pix (backthinned),16 bit ADC 20W TH lamp, 30W Deuterium short-ark lamp. F4spectrometer, InGaAs detector 512 pix., 16 bit ADC, 5W TH lamp1nm -75μmNIRHR200nm -1100nmF4 spectrometer, InGaAs detector 512 pix., 16 bit ADC, 5W TH lamp or SLDoption 10μm-1800μm (glass)4μm-400μm (Si)2、单点手持膜厚测量——MPROBE HCMPROBE HC膜厚测量仪是一款基于MPROBE-20平台开发专用于测量曲面和大型零件上的涂层,用手动探针代替样品台。膜厚测量仪主要参数:精度0.01nm或0.01%准确度0.2%或1nm稳定性0.02nm或0.03%聚焦点尺寸0.2mm或0.4mm样品尺寸25mm厚度范围0.05-70um3、聚焦光斑膜厚测量仪——MPROBE 40MPROBE 40是一款聚焦的小光斑膜厚测量系统,该产品将显微系统和膜厚测量设备结合起来,用于对膜厚的微区测量,光斑可达2μm。该设备集成相机和软件,可精确显示待测位置,并同时显示测量结果。该设备有不同波长范围可选,可供选择的产品型号如下:4、原位测量膜厚测量仪——MPROBE 50 INSITUMPROBE 50 INSITU是一款支持原位测量膜厚测量仪,该设备采用门控数据采集方式因此可以在高环境光的条件下工作。此外该型号膜厚测量仪支持定制以满足不同形状的真空腔。根据可用的光学窗口,支持斜入射和垂直入射。光线可以聚焦样品表面或准直,探测探头可以放置在沉积室光学端口内部或外部,由于该膜厚测量仪没有移动部件,通常测量时间约10ms。此外该型号还有多种波段范围可选,可供选择型号如下5、支持Mapping的聚焦膜厚测量仪——MPROBE 60MPROBE 60是一款聚焦并可做mapping的膜厚测量设备,重复精度可达0.01nm,精度可达1nm,mapping面积可达300*300mm。并支持多种波长范围可选。可选波长型号:6、在线膜厚测量仪——MProbe 70MProbe 70是一款高性能膜厚测量仪,主要设计用于24/7生产线上的连续测量。该设备主要有两种配置一个是在产线上配备多个固定的探头,第二种是将探头装在扫描仪上扫描。
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  • Filmetrics-F40薄膜厚度测量仪 结合显微镜的薄膜测量系统 Filmetrics的精密光谱测量系统让用户简单快速地测量薄膜的厚度和光学常数,通过对待测膜层的上下界面间反射光谱的分析,几秒钟内就可测量结果。 当测量需要在待测样品表面的某些微小限定区域进行,或者其他应用要求光斑小至1微米时,F40是你的好选择。使用先前足部校正显微镜的物镜,再进行测量,即可获得精准的厚度及光学参数值。只要透过Filmetrics的C-mount连接附件,F40就可以和市面上多数的显微镜连接使用。C-mount上装备有CCD摄像头,可以让用户从电脑屏幕上清晰地看样品和测量位置。* 取决于材料1.使用5X物镜参考2.是基于连续20天,每天在Si基底上对厚度为500纳米的SiO2 薄膜样品连续测量100次所得厚度值的标准偏差的平均值3.是基于连续20天,每天在Si基底上对厚度为500纳米的SiO2薄膜样品连续测量100次所得厚度值的2倍标准偏差的平均值 选择Filmetrics的优势桌面式薄膜厚度测量的专家 24小时电话,E-mail和在线支持 所有系统皆使用直观的标准分析软件附加特性嵌入式在线诊断方式 免费离线分析软件 精细的历史数据功能,帮助用户有效地存储,重现与绘制测试结果相关应用半导体制造 生物医学原件&bull 光刻胶 &bull 聚合物/聚对二甲苯&bull 氧化物/氮化物 &bull 生物膜/球囊壁厚度&bull 硅或其他半导体膜层 &bull 植入药物涂层微电子 液晶显示器&bull 光刻胶 &bull 盒厚&bull 硅膜 &bull 聚酰亚胺&bull 氮化铝/氧化锌薄膜滤镜 &bull 导电透明膜
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  • Filmetrics-F40薄膜厚度测量仪 结合显微镜的薄膜测量系统 Filmetrics的精密光谱测量系统让用户简单快速地测量薄膜的厚度和光学常数,通过对待测膜层的上下界面间反射光谱的分析,几秒钟内就可测量结果。 当测量需要在待测样品表面的某些微小限定区域进行,或者其他应用要求光斑小至1微米时,F40是不错的选择。使用先前足部校正显微镜的物镜,再进行测量,即可获得精准的厚度及光学参数值。只要透过Filmetrics的C-mount连接附件,F40就可以和市面上多数的显微镜连接使用。C-mount上装备有CCD摄像头,可以让用户从电脑屏幕上清晰地看样品和测量位置。* 取决于材料1.使用5X物镜参考2.是基于连续20天,每天在Si基底上对厚度为500纳米的SiO2 薄膜样品连续测量100次所得厚度值的标准偏差的平均值3.是基于连续20天,每天在Si基底上对厚度为500纳米的SiO2薄膜样品连续测量100次所得厚度值的2倍标准偏差的平均值 选择Filmetrics的优势桌面式薄膜厚度测量的专家 24小时电话,E-mail和在线支持 所有系统皆使用直观的标准分析软件附加特性嵌入式在线诊断方式 免费离线分析软件 精细的历史数据功能,帮助用户有效地存储,重现与绘制测试结果相关应用半导体制造 生物医学原件&bull 光刻胶 &bull 聚合物/聚对二甲苯&bull 氧化物/氮化物 &bull 生物膜/球囊壁厚度&bull 硅或其他半导体膜层 &bull 植入药物涂层微电子 液晶显示器&bull 光刻胶 &bull 盒厚&bull 硅膜 &bull 聚酰亚胺&bull 氮化铝/氧化锌薄膜滤镜 &bull 导电透明膜
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  • F40薄膜厚度测量仪 400-860-5168转3827
    Filmetrics-F40薄膜厚度测量仪 结合显微镜的薄膜测量系统Filmetrics的精密光谱测量系统让用户简单快速地测量薄膜的厚度和光学常数,通过对待测膜层的上下界面间反射光谱的分析,几秒钟内就可测量结果。 当测量需要在待测样品表面的某些微小限定区域进行,或者其他应用要求光斑小至1微米时,F40是你的好选择。使用先前足部校正显微镜的物镜,再进行测量,即可获得精准的厚度及光学参数值。只要透过Filmetrics的C-mount连接附件,F40就可以和市面上多数的显微镜连接使用。C-mount上装备有CCD摄像头,可以让用户从电脑屏幕上清晰地看样品和测量位置。* 取决于材料1.使用5X物镜参考2.是基于连续20天,每天在Si基底上对厚度为500纳米的SiO2 薄膜样品连续测量100次所得厚度值的标准偏差的平均值3.是基于连续20天,每天在Si基底上对厚度为500纳米的SiO2薄膜样品连续测量100次所得厚度值的2倍标准偏差的平均值选择Filmetrics的优势桌面式薄膜厚度测量的专家24小时电话,E-mail和在线支持所有系统皆使用直观的标准分析软件附加特性嵌入式在线诊断方式免费离线分析软件精细的历史数据功能,帮助用户有效地存储,重现与绘制测试结果相关应用半导体制造 生物医学原件&bull 光刻胶 &bull 聚合物/聚对二甲苯&bull 氧化物/氮化物 &bull 生物膜/球囊壁厚度&bull 硅或其他半导体膜层 &bull 植入药物涂层微电子 液晶显示器&bull 光刻胶 &bull 盒厚&bull 硅膜 &bull 聚酰亚胺&bull 氮化铝/氧化锌薄膜滤镜 &bull 导电透明膜
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  • C11011-01W 微米膜厚测量仪 C11011-01W型光学微米膜厚测量仪利用激光相干度量学原理,测量速度达60Hz,适用于产品线上在线测量。此外,选配的映射系统可以测量指定样品的厚度分布。C11011-01W应用广泛,比如用于产品制造过程监控或质量控制。欢迎您登陆滨松中国全新中文网站 查看该产品更多详细信息!特性利用红外光度测定进行非透明样品测量测量速度高达60 Hz测量带图纹晶圆和带保护膜的晶圆长工作距离映射功能可外部控制参数型号C11011-01W可测膜厚范围(玻璃)25 μm to 2900 μm*1可测膜厚范围(硅)10 μm to 1200 μm*2测量可重复性(硅)100 nm*3测量准确度(硅) 500 μm: ±0.5 μm; 500 μm: ±0.1 %*3光源红外LED(1300 nm)光斑尺寸φ60 μm*4工作距离155 mm*4可测层数一层(也可多层测量)分析峰值探测测量时间22.2 ms/点*5外部控制功能RS-232C / PIPE接口USB2.0电源AC100 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz功耗50W*1:SiO2薄膜测量特性*2:Si薄膜测量特性*3:测量6 μm厚硅薄膜时的标准偏差*4:可选配1000mm工作距离的模型C11011-01WL*5:连续数据采集时间不包括分析时间
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  • HITACHI FT160 XRF萤光镀层厚度测量仪 快速、准确地分析纳米级镀层FT160 台式 XRF 分析仪旨在测量当今 PCB、半导体和微连接器上的微小部件。准确、快速地测量微小部件的能力有助于提高生产率并避免代价高昂的返工或元件报废。FT160 的多毛细管光学元件可以测量小于 50 μm 的特征上的纳米级镀层,先进的检测器技术可为您提供高精度,同时保持较短的测量时间。其他功能,例如大样品台、宽样品舱门、高清样品摄像头和坚固的观察窗,可以轻松装载不同尺寸的物品并在大型基板上找到感兴趣的区域。该分析仪易于使用,与您的 QA / QC 流程无缝集成,在问题危机发生前提醒您。HITACHI FT160 XRF萤光镀层厚度测量仪产品亮点FT160 的光学和检测器技术专为微光斑和超薄镀层分析而设计,针对细小的特征进行了优化。用于从安全距离查看分析的大观察窗测量方法符合 ISO 3497、ASTM B568 和 DIN 50987 标准IPC-4552B、IPC-4553A、IPC-4554 和 IPC-4556 一致性镀层检测用于快速样品设置的自动特征定位为您的应用优化的分析仪配置选择在小于 50 μm 的特征上测量纳米级镀层将传统仪器的分析通量提高一倍可容纳各种形状的大型样品专为长期生产使用的耐用设计HITACHI FT160 XRF萤光镀层厚度测量仪产品对比FT160FT160LFT160S元素范围Al – UAl – UAl – U探测器硅漂移探测器 (SDD)硅漂移探测器 (SDD)硅漂移探测器 (SDD)X射线管阳极W 或 MoW 或 MoW 或 Mo光圈多毛细管聚焦多毛细管聚焦多毛细管聚焦孔径大小30 μm @ 90% 强度(Mo tube)35 μm @ 90% 强度(W tube)30 μm @ 90% 强度(Mo tube)35 μm @ 90% 强度(W tube)30 μm @ 90% 强度(Mo tube)35 μm @ 90% 强度(W tube)XY轴样品台行程400 x 300 mm300 x 300 mm300 x 260 mm样品尺寸上限400 x 300 x 100 mm600 x 600 x 20 mm300 x 245 x 80 mm样品聚焦聚焦激光和自动聚焦聚焦激光和自动聚焦聚焦激光和自动聚焦测试点识别???软件XRF ControllerXRF ControllerXRF Controller
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  • 厂家授权代理商——岱美仪器技术服务(上海)有限公司岱美有限公司与Filmetrics从03年开始的合作关系,单是国内于16年已卖出超过600台不同型号仪器,在国内有多个服务处均有工程师,保证能为客户提供及时的服务。 经济实惠的薄膜厚度测量系统的全球销售领头者,让复杂测量变得简单产品简介:美国 Filmetrics 公司生产的薄膜厚度测量仪利用反射干涉的原理进行无损测量,可测量薄膜厚度及光学常数。测量精度达到埃级的分辩率,测量迅速,操作简单,界面友好,是目前市场上极具性价比的薄膜厚度测量设备。设备光谱测量范围从近红外到紫外线,波长范围从200nm到1700nm可选。凡是光滑的,透明或半透明的和所有半导体膜层都可以测量。其可测量薄膜厚度在 1nm 到 13mm 之间,测量精度高达1 埃,测量稳定性高达 0.7 埃,测量时间只需一到二秒, 并有手动及自动机型可选。可应用领域包括:生物医学(Biomedical), 液晶显示(Displays), 硬涂层(Hard coats), 金属膜(Metal), 眼镜涂层(Ophthalmic) , 聚对二甲笨(Parylene), 电路板(PCBs&PWBs), 多孔硅(Porous Silicon), 光阻材料(Thick Resist),半导体材料(Semiconductors) , 太阳光伏(Solar photovoltaics), 真空镀层(Vacuum Coatings), 圈筒检查(Web inspection applications)等。应用:通过Filmetrics膜厚测量仪新反射式光谱测量技术,多达3-4层透明薄膜厚度、 n、k值及粗糙度能在数秒钟测得。其应用广泛,例如:半导体制造液晶显示器生物医疗元件微机电系统光学镀膜Photoresist光刻胶Oxides氧化物Nitrides氮化物SOI绝缘体上硅Cell Gaps液晶间隙Polyimide聚酰亚胺保护膜ITO纳米铟锡金属氧化物Polymer/Parylene Layers 聚合物/聚对二甲苯涂层Membrane/Balloon Wall Thickness 生物膜/气泡球厚度Drug-Coated Stent药物涂层支架Silicon Membranes硅膜AlN/ZnO Thin Film Filters氮化铝/氧化锌薄膜滤镜Hardness Coatings硬镀膜Anti-reflection Coatings增透镀膜Filters滤光膜层实例:几乎任何光滑、半透明、低吸收的膜都能测。包括:SiO2(二氧化硅) SiNx(氮化硅) DLC(类金刚石碳)Photoresist(光刻胶) Polyer Layers(高分子聚合物层) Polymide(聚酰亚胺)Polysilicon(多晶硅) Amorphous Silicon(非晶硅) 基底实例:对于厚度测量,大多数情况下所要求的只是一块光滑、反射的基底。对于光学常数测量,需要一块平整的镜面反射基底;如果基底是透明的,基底背面需要进行处理使之不能反射。包括:Silicon(硅) Glass(玻璃) Aluminum(铝)Gas(砷化镓) Steel(钢) Polycarbonate(聚碳酸脂)Polymer Films(高分子聚合物膜)产品应用,在可测样品基底上有了极大的飞跃:●几乎所有材料表面上的镀膜都可以测量,即使是药片,木材或纸张等粗糙的非透明基底。●玻璃或塑料的板材、管道和容器。●光学镜头和眼科镜片。服务:免费样机演示及测量 轻轻一按即可实现测量! 请联系我们,专业的应用工程师将为你演示它是如此的方便! 优势:* 提供在线诊断* 配送独立的软件包* 精通的历史功能即程序数据可存储、复制及策划结果* 免费软件升级 极易操作、快速、准确、机身轻巧及价格便宜为其主要优点,Filmetrics提供以下型号以供选择:一、单点测量系统(从 1nm 到 13mm 单层及多层厚度测量) F20全世界销量好的薄膜测量系统,有各种不同附件和波长(由220nm紫外线区 至1700nm近红外线区)覆盖范围,为任意携带型,可以实现反射率、膜厚、n、k值测量。F3-sX能测量半导体与介电层薄膜厚度到3毫米, 例如硅片F10-ARc可测量镜片和其他曲面的反射率,用于涂层厚度测量F10-HC测量硬涂层和防雾层厚度和折射率,聚碳酸酯硬涂层在汽车等行业应用普通F3-CS提供微小视野及微小样品测量,USB连接电脑即可使用,携带方便F10-AR测量眼科镜头和其他弯曲表面的反射率。还可以提供测量硬涂层厚度和透射率的可选件F10-RT可同时测量反射率和透射率,也可选配测量膜层厚度和折射率。普遍应用于真空涂层领域在F20实现反射率跟穿透率的同时测量,特殊光源设计特别适用于透明基底样品的测量。 二、F40 系列- 基于微米(显微)级别光斑尺寸厚度测量F40可以固定到您的显微镜上来测量小至 1um 光斑点的厚度和折射率这型号安裝在任何显微镜外,可提供小到1um光點(100倍放大倍數)來測量微小樣品。三、F50/F60系列- 表面的自动测绘F50为我们的F20系列产品增添自动测绘能力,以每秒钟 2 个点的快速测绘厚度和折射率这型号配备全自动XY工作台,由8"x8"到18"x18"或客戶提供所需尺寸均可。通过快速扫瞄功能,可取得整片样品厚度分布情况(mapping)。F54能以每秒测量两个点的速度快速的测绘薄膜厚度,样品直径可达450毫米F60-t满足生产环境的台式测绘系统,包括自动基准确定、凹槽定位、全封闭测量平台以及其它装置四、F30 系列- 在线厚度监控仪器 F30检测金属有机化学气相沉积(MOCVD)、阴极溅镀和其他沉积工艺中监控反射率、厚度和沉积率这型号可安装在任何真空镀膜机腔体外的窗口。可实时监控长晶速度、实时提供膜厚、n、k值。并可切定某一波长或固定测量时间间距。更可加装至三个探头,同时测量三个样品,具紫外线区或标准波长可供选择。F32实时监控薄膜顶部和底部的反射率和沉积速率公司网站:岱美中国:;岱美总部:上海分公司地址: 上海市浦东金高路 2216 弄 35 号6 幢 306-308 室电话: ,卜先生: 东莞分公司地址: 东莞市南城街道宏六路一号国金大厦401室电话: ,唐女士:北京分公司地址: 北京市丰台区丰台科技园汽车博物馆东路1号院诺德中心二期号楼1102室电话: ,贾先生: 岱美有限公司成立于1989年,是数据存储,半导体,光学,光伏和航空航天行业领头制造商和创新研发机构的先进设备分销商。在21世纪初期,Dymek已从我们在香港的总部扩展到亚洲,以满足客户的多样化需求。在当今全球化的市场中,我们的客户有连接东南亚各国的综合供应链已经成为基本。我们我们的专业人员随时准备与他们会面。我们总部设在香港,在中国(北京和上海,以及广东东莞)拥有强大的业务。我们还在马来西亚,新加坡,台湾,菲律宾和泰国的东南亚设有分支机构。我们所有的分支机构都已建立数十年,我们的许多客户对我们与他们建立的长达数十年的合作关系感到满意。我们的目标是建立持久的关系,满足东南亚快速增长企业的需求。对于我们的客户,我们不仅提供设备,还提供建议和技术指导,以及时了解我们不断发展的行业的新发展。对于我们的供应商,我们提供了深入的销售网络和数十年的东南亚复杂商业环境导航经验。我们将本地客户与来自欧洲,美国,日本和韩国的先进设备连接起来。可以立即联系我们,了解我们如何与您合作,实现您组织的长期财务目标。
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  • 岱美有限公司与Filmetrics从03年开始的合作关系,单是国内16年间已卖出超过600台不同型号仪器,在国内有多个服务处均有工程师,保证能为客户提供及时的服务。 经济实惠的薄膜厚度测量系统的全球销售领头者,让复杂测量变得简单产品简介:美国 Filmetrics 公司生产的薄膜厚度测量仪利用反射干涉的原理进行无损测量,可测量薄膜厚度及光学常数。测量精度达到埃级的分辩率,测量迅速,操作简单,界面友好,是目前市场上极具性价比的薄膜厚度测量设备。设备光谱测量范围从近红外到紫外线,波长范围从200nm到1700nm可选。凡是光滑的,透明或半透明的和所有半导体膜层都可以测量。其可测量薄膜厚度在 1nm 到 13mm 之间,测量精度高达1 埃,测量稳定性高达 0.7 埃,测量时间只需一到二秒, 并有手动及自动机型可选。可应用领域包括:生物医学(Biomedical), 液晶显示(Displays), 硬涂层(Hard coats), 金属膜(Metal), 眼镜涂层(Ophthalmic) , 聚对二甲笨(Parylene), 电路板(PCBs&PWBs), 多孔硅(Porous Silicon), 光阻材料(Thick Resist),半导体材料(Semiconductors) , 太阳光伏(Solar photovoltaics), 真空镀层(Vacuum Coatings), 圈筒检查(Web inspection applications)等。应用:通过Filmetrics膜厚测量仪新反射式光谱测量技术,多达3-4层透明薄膜厚度、 n、k值及粗糙度能在数秒钟测得。其应用广泛,例如:半导体制造液晶显示器生物医疗元件微机电系统光学镀膜Photoresist光刻胶Oxides氧化物Nitrides氮化物SOI绝缘体上硅Cell Gaps液晶间隙Polyimide聚酰亚胺保护膜ITO纳米铟锡金属氧化物Polymer/Parylene Layers 聚合物/聚对二甲苯涂层Membrane/Balloon Wall Thickness 生物膜/气泡球厚度Drug-Coated Stent药物涂层支架Silicon Membranes硅膜AlN/ZnO Thin Film Filters氮化铝/氧化锌薄膜滤镜Hardness Coatings硬镀膜Anti-reflection Coatings增透镀膜Filters滤光膜层实例:几乎任何光滑、半透明、低吸收的膜都能测。包括:SiO2(二氧化硅) SiNx(氮化硅) DLC(类金刚石碳)Photoresist(光刻胶) Polyer Layers(高分子聚合物层) Polymide(聚酰亚胺)Polysilicon(多晶硅) Amorphous Silicon(非晶硅) 基底实例:对于厚度测量,大多数情况下所要求的只是一块光滑、反射的基底。对于光学常数测量,需要一块平整的镜面反射基底;如果基底是透明的,基底背面需要进行处理使之不能反射。包括:Silicon(硅) Glass(玻璃) Aluminum(铝)Gas(砷化镓) Steel(钢) Polycarbonate(聚碳酸脂)Polymer Films(高分子聚合物膜)产品应用,在可测样品基底上有了极大的飞跃:●几乎所有材料表面上的镀膜都可以测量,即使是药片,木材或纸张等粗糙的非透明基底。●玻璃或塑料的板材、管道和容器。●光学镜头和眼科镜片。服务:免费样机演示及测量 轻轻一按即可实现测量! 请联系我们,专业的应用工程师将为你演示它是如此的方便! 优势:* 提供在线诊断* 配送独立的软件包* 精通的历史功能即程序数据可存储、复制及策划结果* 免费软件升级 极易操作、快速、准确、机身轻巧及价格便宜为其主要优点,Filmetrics提供以下型号以供选择:一、单点测量系统(从 1nm 到 13mm 单层及多层厚度测量) F20全世界销量好的薄膜测量系统,有各种不同附件和波长(由220nm紫外线区 至1700nm近红外线区)覆盖范围,为任意携带型,可以实现反射率、膜厚、n、k值测量。F3-sX能测量半导体与介电层薄膜厚度到3毫米, 例如硅片F10-ARc可测量镜片和其他曲面的反射率,用于涂层厚度测量F10-HC测量硬涂层和防雾层厚度和折射率,聚碳酸酯硬涂层在汽车等行业应用普通F3-CS提供微小视野及微小样品测量,USB连接电脑即可使用,携带方便F10-AR测量眼科镜头和其他弯曲表面的反射率。还可以提供测量硬涂层厚度和透射率的可选件F10-RT可同时测量反射率和透射率,也可选配测量膜层厚度和折射率。普遍应用于真空涂层领域在F20实现反射率跟穿透率的同时测量,特殊光源设计特别适用于透明基底样品的测量。 二、F40 系列- 基于微米(显微)级别光斑尺寸厚度测量F40可以固定到您的显微镜上来测量小至 1um 光斑点的厚度和折射率这型号安裝在任何显微镜外,可提供小到1um光點(100倍放大倍數)來測量微小樣品。三、F50/F60系列- 表面的自动测绘F50为我们的F20系列产品增添自动测绘能力,以每秒钟 2 个点的快速测绘厚度和折射率这型号配备全自动XY工作台,由8"x8"到18"x18"或客戶提供所需尺寸均可。通过快速扫瞄功能,可取得整片样品厚度分布情况(mapping)。F54能以每秒测量两个点的速度快速的测绘薄膜厚度,样品直径可达450毫米F60-t满足生产环境的台式测绘系统,包括自动基准确定、凹槽定位、全封闭测量平台以及其它装置四、F30 系列- 在线厚度监控仪器 F30检测金属有机化学气相沉积(MOCVD)、阴极溅镀和其他沉积工艺中监控反射率、厚度和沉积率这型号可安装在任何真空镀膜机腔体外的窗口。可实时监控长晶速度、实时提供膜厚、n、k值。并可切定某一波长或固定测量时间间距。更可加装至三个探头,同时测量三个样品,具紫外线区或标准波长可供选择。F32实时监控薄膜顶部和底部的反射率和沉积速率公司网站:岱美中国:;岱美总部:上海分公司地址: 上海市浦东金高路 2216 弄 35 号6 幢 306-308 室电话: ,卜先生: 东莞分公司地址: 东莞市南城街道宏六路一号国金大厦401室电话: ,唐女士:北京分公司地址: 北京市丰台区丰台科技园汽车博物馆东路1号院诺德中心二期号楼1102室电话: ,贾先生: 岱美有限公司成立于1989年,是数据存储,半导体,光学,光伏和航空航天行业领头制造商和创新研发机构的先进设备分销商。在21世纪初期,Dymek已从我们在香港的总部扩展到亚洲,以满足客户的多样化需求。在当今全球化的市场中,我们的客户有连接东南亚各国的综合供应链已经成为基本。我们我们的专业人员随时准备与他们会面。我们总部设在香港,在中国(北京和上海,以及广东东莞)拥有强大的业务。我们还在马来西亚,新加坡,台湾,菲律宾和泰国的东南亚设有分支机构。我们所有的分支机构都已建立数十年,我们的许多客户对我们与他们建立的长达数十年的合作关系感到满意。我们的目标是建立持久的关系,满足东南亚快速增长企业的需求。对于我们的客户,我们不仅提供设备,还提供建议和技术指导,以及时了解我们不断发展的行业的新发展。对于我们的供应商,我们提供了深入的销售网络和数十年的东南亚复杂商业环境导航经验。我们将本地客户与来自欧洲,美国,日本和韩国的先进设备连接起来。可以立即联系我们,了解我们如何与您合作,实现您组织的长期财务目标。
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  • 岱美有限公司与Filmetrics从03年开始的合作关系,单是国内16年间已卖出超过600台不同型号仪器,在国内有多个服务处均有工程师,保证能为客户提供及时的服务。 经济实惠的薄膜厚度测量系统的全球销售领头者,让复杂测量变得简单产品简介:美国 Filmetrics 公司生产的薄膜厚度测量仪利用反射干涉的原理进行无损测量,可测量薄膜厚度及光学常数。测量精度达到埃级的分辩率,测量迅速,操作简单,界面友好,是目前市场上极具性价比的薄膜厚度测量设备。设备光谱测量范围从近红外到紫外线,波长范围从200nm到1700nm可选。凡是光滑的,透明或半透明的和所有半导体膜层都可以测量。其可测量薄膜厚度在 1nm 到 13mm 之间,测量精度高达1 埃,测量稳定性高达 0.7 埃,测量时间只需一到二秒, 并有手动及自动机型可选。可应用领域包括:生物医学(Biomedical), 液晶显示(Displays), 硬涂层(Hard coats), 金属膜(Metal), 眼镜涂层(Ophthalmic) , 聚对二甲笨(Parylene), 电路板(PCBs&PWBs), 多孔硅(Porous Silicon), 光阻材料(Thick Resist),半导体材料(Semiconductors) , 太阳光伏(Solar photovoltaics), 真空镀层(Vacuum Coatings), 圈筒检查(Web inspection applications)等。应用:通过Filmetrics膜厚测量仪新反射式光谱测量技术,多达3-4层透明薄膜厚度、 n、k值及粗糙度能在数秒钟测得。其应用广泛,例如:半导体制造液晶显示器生物医疗元件微机电系统光学镀膜Photoresist光刻胶Oxides氧化物Nitrides氮化物SOI绝缘体上硅Cell Gaps液晶间隙Polyimide聚酰亚胺保护膜ITO纳米铟锡金属氧化物Polymer/Parylene Layers 聚合物/聚对二甲苯涂层Membrane/Balloon Wall Thickness生物膜/气泡球厚度Drug-Coated Stent药物涂层支架Silicon Membranes硅膜AlN/ZnO Thin Film Filters氮化铝/氧化锌薄膜滤镜Hardness Coatings硬镀膜Anti-reflection Coatings增透镀膜Filters滤光膜层实例:几乎任何光滑、半透明、低吸收的膜都能测。包括:SiO2(二氧化硅) SiNx(氮化硅) DLC(类金刚石碳)Photoresist(光刻胶) Polyer Layers(高分子聚合物层) Polymide(聚酰亚胺)Polysilicon(多晶硅) Amorphous Silicon(非晶硅) 基底实例:对于厚度测量,大多数情况下所要求的只是一块光滑、反射的基底。对于光学常数测量,需要一块平整的镜面反射基底;如果基底是透明的,基底背面需要进行处理使之不能反射。包括:Silicon(硅) Glass(玻璃) Aluminum(铝)Gas(砷化镓) Steel(钢) Polycarbonate(聚碳酸脂)Polymer Films(高分子聚合物膜)产品应用,在可测样品基底上有了极大的飞跃:●几乎所有材料表面上的镀膜都可以测量,即使是药片,木材或纸张等粗糙的非透明基底。●玻璃或塑料的板材、管道和容器。●光学镜头和眼科镜片。服务:免费样机演示及测量轻轻一按即可实现测量!请联系我们,专业的应用工程师将为你演示它是如此的方便!优势:* 提供在线诊断* 配送独立的软件包* 精通的历史功能即程序数据可存储、复制及策划结果* 免费软件升级 极易操作、快速、准确、机身轻巧及价格便宜为其主要优点,Filmetrics提供以下型号以供选择:一、单点测量系统(从 1nm 到 13mm 单层及多层厚度测量) F20全世界销量好的薄膜测量系统,有各种不同附件和波长(由220nm紫外线区 至1700nm近红外线区)覆盖范围,为任意携带型,可以实现反射率、膜厚、n、k值测量。F3-sX能测量半导体与介电层薄膜厚度到3毫米, 例如硅片F10-ARc可测量镜片和其他曲面的反射率,用于涂层厚度测量F10-HC测量硬涂层和防雾层厚度和折射率,聚碳酸酯硬涂层在汽车等行业应用普通F3-CS提供微小视野及微小样品测量,USB连接电脑即可使用,携带方便F10-AR测量眼科镜头和其他弯曲表面的反射率。还可以提供测量硬涂层厚度和透射率的可选件F10-RT可同时测量反射率和透射率,也可选配测量膜层厚度和折射率。普遍应用于真空涂层领域在F20实现反射率跟穿透率的同时测量,特殊光源设计特别适用于透明基底样品的测量。 二、F40 系列- 基于微米(显微)级别光斑尺寸厚度测量F40可以固定到您的显微镜上来测量小至 1um 光斑点的厚度和折射率这型号安裝在任何显微镜外,可提供小到1um光點(100倍放大倍數)來測量微小樣品。三、F50/F60系列- 表面的自动测绘F50为我们的F20系列产品增添自动测绘能力,以每秒钟 2 个点的快速测绘厚度和折射率这型号配备全自动XY工作台,由8"x8"到18"x18"或客戶提供所需尺寸均可。通过快速扫瞄功能,可取得整片样品厚度分布情况(mapping)。F54能以每秒测量两个点的速度快速的测绘薄膜厚度,样品直径可达450毫米F60-t满足生产环境的台式测绘系统,包括自动基准确定、凹槽定位、全封闭测量平台以及其它装置四、F30 系列- 在线厚度监控仪器 F30检测金属有机化学气相沉积(MOCVD)、阴极溅镀和其他沉积工艺中监控反射率、厚度和沉积率这型号可安装在任何真空镀膜机腔体外的窗口。可实时监控长晶速度、实时提供膜厚、n、k值。并可切定某一波长或固定测量时间间距。更可加装至三个探头,同时测量三个样品,具紫外线区或标准波长可供选择。F32实时监控薄膜顶部和底部的反射率和沉积速率公司网站:岱美中国:;岱美总部:上海分公司地址: 上海市浦东金高路 2216 弄 35 号6 幢 306-308 室电话: ,卜先生: 东莞分公司地址: 东莞市南城街道宏六路一号国金大厦401室电话: ,唐女士:北京分公司地址: 北京市丰台区丰台科技园汽车博物馆东路1号院诺德中心二期号楼1102室电话: ,贾先生: 岱美有限公司成立于1989年,是数据存储,半导体,光学,光伏和航空航天行业领头制造商和创新研发机构的先进设备分销商。在21世纪初期,Dymek已从我们在香港的总部扩展到亚洲,以满足客户的多样化需求。在当今全球化的市场中,我们的客户有连接东南亚各国的综合供应链已经成为基本。我们我们的专业人员随时准备与他们会面。我们总部设在香港,在中国(北京和上海,以及广东东莞)拥有强大的业务。我们还在马来西亚,新加坡,台湾,菲律宾和泰国的东南亚设有分支机构。我们所有的分支机构都已建立数十年,我们的许多客户对我们与他们建立的长达数十年的合作关系感到满意。我们的目标是建立持久的关系,满足东南亚快速增长企业的需求。对于我们的客户,我们不仅提供设备,还提供建议和技术指导,以及时了解我们不断发展的行业的新发展。对于我们的供应商,我们提供了深入的销售网络和数十年的东南亚复杂商业环境导航经验。我们将本地客户与来自欧洲,美国,日本和韩国的先进设备连接起来。可以立即联系我们,了解我们如何与您合作,实现您组织的长期财务目标。
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  • Dataray光斑分析仪 400-860-5168转5994
    光斑/光束质量分析仪 上海滨赛光电科技有限公司提供美国DataRay公司设计生产的Blade/WinCamD等各种系列相机型光束分析仪覆盖了从紫外(190nm)到中红外(16um)波段的光束测量,可测量不同类型激光(连续激光和脉冲激光),不同功率(微瓦级别光束测量至上千瓦激光测量),通过其独特的用户友好型的软件交互界面,可以帮助您方便快速的分析和统计激光光斑的全部信息。对于准直光束最大可测光斑直径可达25毫米,并且还有针对极小光斑(几个um级别),极大光斑(大于25mm),光束质量M² ,发散角等多种激光参数测量可以通过增加相应附件的形式来实现,对于您未来的测量需求直接购买附件就可实现,可以最大化的利用单个相机满足不同测量需求,避免了重复购买相机等情况。产品特点:1.超高像素分辨率2.多种像素尺寸3.便捷易用的软件界面让所有参数一目了然4.超小的外观设计5.连续和脉冲激光器都可以使用6.高速的USB3.0接口并支持远程操作,强大的软件功能7.适配各种大小的光斑,光束质量(M^2),发散角等所有参数8.各种特殊应用场景主要应用:1.连续和脉冲激光器光斑测量2.激光光斑模式缺陷检测3.准直器流水线检测4.光纤耦合检测5.高斯光或平顶光光斑能量分布检测
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  • 广东正业生产的长臂板厚测量仪,专用于PCB板行业的,用于检测覆铜层压板和多层板压层后的厚度测量,以及其它板材厚度的测量。 长臂板厚测量仪|PCB板厚度测量仪用途: 主要用于覆铜层压板和多层板压层后的厚度测量,以及其它板材厚度的测量。长臂板厚测量仪|PCB板厚度测量仪特点:● 喉深大,能对大型板材中间部位的厚度进行测量● 板厚测量范围大,测量精度高● 能进行mm/inch公制、英制单位切换● 测量数据液晶屏幕显示,非常直观● 能任意位置&ldquo 置零&rdquo ● 桌面为电木板,不会划伤被测板的表面● 性能稳定可靠、操作简单、使用方便长臂板厚测量仪|PCB板厚度测量仪技术规格:外形:宽mm900× 深mm× 990高× mm1150喉深(mm):530板厚测量范围(mm):0~25测量行程(mm):25桌面尺寸(mm):900× 870测量精度(mm):0.003额定电压/额定功率:220V~50Hz/100W重量(Kg):120
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  • 长臂板厚测量仪,PCB板厚测量仪PCB板厚测量仪用途:用于精密测量覆铜层压板,印制线路板和其它板材的厚度。数字显示读数为小数点后三位,该机配制脚踏开关,以便操作者更方便测量、取数。 PCB板厚测量仪特征:1、喉深大,可满足大型板材测量要求; 2、板厚测量范围大,测量精度高,可达0.003mm;3、公制、英制单位任意切换;4、测量数据液晶屏幕显示;5、可任意位置“置零”;6、花岗岩台面,经久耐用,美观大方;7、性能稳定可靠、操作简单、使用方便;8、可选配SPC(统计过程控制)软件,提高质量管控。
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  • 中图仪器CP系列微纳样品接触式微观表面台阶测量仪是一款超精密接触式微观轮廓测量仪器。主要用于台阶高、膜层厚度、表面粗糙度等微观形貌参数的测量。工作过程测量时通过使用2μm半径的金刚石针尖在超精密位移台移动样品时扫描其表面,测针的垂直位移距离被转换为与特征尺寸相匹配的电信号并最终转换为数字点云信号,数据点云信号在分析软件中呈现并使用不同的分析工具来获取相应的台阶高或粗糙度等有关表面质量的数据。结构主要组成部分1、测量系统(1)单拱龙门式设计,结构稳定性好,而且降低了周围环境中声音和震动噪音对测量信号的影响,提高了测量精度。(2)线性可变差动电容传感器(LVDC),具有亚埃级分辨率,13μm量程下可达0.01埃。高信噪比和低线性误差,使得产品能扫描到几纳米至几百微米台阶的形貌特征。(3)传感器设计使得在单一平台上即可实现超微力和正常力测量。测力恒定可调,以适应硬质或软质材料表面。超低惯量设计和微小电磁力控制,实现无接触损伤的精准接触式测量。2、工件台(1)精密的XY平台结合360°连续旋转电动旋转台,可以对样品的位置以及角度进行调节,三维位置均可以调节,利于样品调整。(2)超高直线度导轨,有效避免运动中的细微抖动,提高扫描精度,真是反映工件微小形貌。3、成像系统500万像素高分辨率彩色摄像机,即时进行高精度定位测量。可以将探针的形貌图像传输到控制电脑上,使得测量更加直观。4、软件系统测量软件包含多个模块。5、减震系统防止微小震动对测量结果的影响,使实验数据更加准确。CP系列微纳样品接触式微观表面台阶测量仪对被测样品的反射率特性、材料种类及硬度等均无特殊要求,广泛应用于半导体、太阳能光伏、光学加工、LED、MEMS器件、微纳材料制备等各行业领域内的工业企业与高校院所等科研单位,其对表面微观形貌参数的准确表征,对于相关材料的评定、性能的分析与加工工艺的改善具有重要意义。产品功能1.参数测量功能1)台阶高度:能够测量纳米到330μm甚至1000μm的台阶高度,可以准确测量蚀刻、溅射、SIMS、沉积、旋涂、CMP等工艺期间沉积或去除的材料;2)粗糙度与波纹度:能够测量样品的粗糙度和波纹度,分析软件通过计算扫描出的微观轮廓曲线,可获取粗糙度与波纹度相关的Ra、RMS、Rv、Rp、Rz等20余项参数;3)翘曲与形状:能够测量样品表面的2D形状或翘曲,如在半导体晶圆制造过程中,因多层沉积层结构中层间不匹配所产生的翘曲或形状变化,或者类似透镜在内的结构高度和曲率半径。2.数采与分析系统1)自定义测量模式:支持用户以自定义输入坐标位置或相对位移量的方式来设定扫描路径的测量模式;2)导航图智能测量模式:支持用户结合导航图、标定数据、即时图像以智能化生成移动命令方式来实现扫描的测量模式。3)SPC统计分析:支持对不同种类被测件进行多种指标参数的分析,针对批量样品的测量数据提供SPC图表以统计数据的变化趋势。3.光学导航功能配备了500W像素的彩色相机,可实时将探针扫描轨迹的形貌图像传输到软件中显示,进行即时的高精度定位测量。4.样品空间姿态调节功能CP系列微纳样品接触式微观表面台阶测量仪配备了精密XY位移台、360°电动旋转平台和电动升降Z轴,可对样品的XYZ、角度等空间姿态进行调节,提高测量精度及效率。性能特点1.亚埃级位移传感器具有亚埃级分辨率,结合单拱龙门式设计降低环境噪声干扰,确保仪器具有良好的测量精度及重复性;2.超微力恒力传感器1-50mg可调,以适应硬质或软质样品表面,采用超低惯量设计和微小电磁力控制,实现无接触损伤的接触式测量;3.超平扫描平台系统配有超高直线度导轨,杜绝运动中的细微抖动,真实地还原扫描轨迹的轮廓起伏和样件微观形貌。典型应用在太阳能光伏行业的应用台阶仪通过测量膜层表面的台阶高度来计算出膜层的厚度,具有测量精度高、测量速度快、适用范围广等优点。它可以测量各种材料的膜层厚度,包括金属、陶瓷、塑料等。针对测量ITO导电薄膜的应用场景,CP200台阶仪提供如下便捷功能:1)结合了360°旋转台的全电动载物台,能够快速定位到测量标志位;2)对于批量样件,提供自定义多区域测量功能,实现一键多点位测量;3)提供SPC统计分析功能,直观分析测量数值变化趋势;
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  • 激光厚度测量仪采用现代化工艺制造,测量仪采用先进的专用激光位移传感器,配备可调式伸缩测试工作平台适合各种尺寸手机及平板玻璃厚度检测功能。搭配专业的控制系统,简洁化的校准修正功能通俗易懂,能自动保存测试数据,能让用户更好的对材料数据进行管控。该测量仪设计美观大方、操作简单、符合用户所需。能自动识别产品NG与OK以及各种厚度玻璃分箱识别等.技术参数检测模式正反射检测距离25± 1mm检测范围0-2mm光源红色半导体激光、波长 650nm / 输出功率达到 390 μ W激光等级IEC/JISCLASS 1FDAClass光斑尺寸 *1约25x35 μ m感光元器件线性图像传感器线性精度± 0.05% F.S.分辨率 *20.3 μ m测量精度2μ m采样周期 *3100/200/400/800/1 温度漂移 *4± 0.01%F.S. / ℃电源电压由专用控制器供给防护等级IP67 (包括连接器部)环境温度-10 ~ +50℃(无结露、冻结)/保存时:-20 ~ +60℃环境湿度35% ~ 85%RH/保存时:35% ~ 85%RH环境照度3,000lx以下(采用白炽灯的受光面照度)抗震动10~55Hz双振幅1.5mm X、Y、Z各方向二小时材质感应头壳体:压铸铝 投受光部护罩:玻璃重量1.5Kg
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  • 岱美有限公司与Filmetrics从03年开始的合作关系,单是国内16年间已卖出超过600台不同型号仪器,在国内有多个服务处均有工程师,保证能为客户提供及时的服务。 经济实惠的薄膜厚度测量系统的全球销售领头者,让复杂测量变得简单产品简介:美国 Filmetrics 公司生产的薄膜厚度测量仪利用反射干涉的原理进行无损测量,可测量薄膜厚度及光学常数。测量精度达到埃级的分辩率,测量迅速,操作简单,界面友好,是目前市场上极具性价比的薄膜厚度测量设备。设备光谱测量范围从近红外到紫外线,波长范围从200nm到1700nm可选。凡是光滑的,透明或半透明的和所有半导体膜层都可以测量。其可测量薄膜厚度在 1nm 到 13mm 之间,测量精度高达1 埃,测量稳定性高达 0.7 埃,测量时间只需一到二秒, 并有手动及自动机型可选。可应用领域包括:生物医学(Biomedical), 液晶显示(Displays), 硬涂层(Hard coats), 金属膜(Metal), 眼镜涂层(Ophthalmic) , 聚对二甲笨(Parylene), 电路板(PCBs&PWBs), 多孔硅(Porous Silicon), 光阻材料(Thick Resist),半导体材料(Semiconductors) , 太阳光伏(Solar photovoltaics), 真空镀层(Vacuum Coatings), 圈筒检查(Web inspection applications)等。应用:通过Filmetrics膜厚测量仪新反射式光谱测量技术,多达3-4层透明薄膜厚度、 n、k值及粗糙度能在数秒钟测得。其应用广泛,例如:半导体制造液晶显示器生物医疗元件微机电系统光学镀膜Photoresist光刻胶Oxides氧化物Nitrides氮化物SOI绝缘体上硅Cell Gaps液晶间隙Polyimide聚酰亚胺保护膜ITO纳米铟锡金属氧化物Polymer/Parylene Layers 聚合物/聚对二甲苯涂层Membrane/Balloon Wall Thickness生物膜/气泡球厚度Drug-Coated Stent药物涂层支架Silicon Membranes硅膜AlN/ZnO Thin Film Filters氮化铝/氧化锌薄膜滤镜Hardness Coatings硬镀膜Anti-reflection Coatings增透镀膜Filters滤光膜层实例:几乎任何光滑、半透明、低吸收的膜都能测。包括:SiO2(二氧化硅) SiNx(氮化硅) DLC(类金刚石碳)Photoresist(光刻胶) Polyer Layers(高分子聚合物层) Polymide(聚酰亚胺)Polysilicon(多晶硅) Amorphous Silicon(非晶硅) 基底实例:对于厚度测量,大多数情况下所要求的只是一块光滑、反射的基底。对于光学常数测量,需要一块平整的镜面反射基底;如果基底是透明的,基底背面需要进行处理使之不能反射。包括:Silicon(硅) Glass(玻璃) Aluminum(铝)Gas(砷化镓) Steel(钢) Polycarbonate(聚碳酸脂)Polymer Films(高分子聚合物膜)产品应用,在可测样品基底上有了极大的飞跃:●几乎所有材料表面上的镀膜都可以测量,即使是药片,木材或纸张等粗糙的非透明基底。●玻璃或塑料的板材、管道和容器。●光学镜头和眼科镜片。服务:免费样机演示及测量轻轻一按即可实现测量!请联系我们,专业的应用工程师将为你演示它是如此的方便!优势:* 提供在线诊断* 配送独立的软件包* 精通的历史功能即程序数据可存储、复制及策划结果* 免费软件升级 极易操作、快速、准确、机身轻巧及价格便宜为其主要优点,Filmetrics提供以下型号以供选择:一、单点测量系统(从 1nm 到 13mm 单层及多层厚度测量) F20全世界销量好的薄膜测量系统,有各种不同附件和波长(由220nm紫外线区 至1700nm近红外线区)覆盖范围,为任意携带型,可以实现反射率、膜厚、n、k值测量。F3-sX能测量半导体与介电层薄膜厚度到3毫米, 例如硅片F10-ARc可测量镜片和其他曲面的反射率,用于涂层厚度测量F10-HC测量硬涂层和防雾层厚度和折射率,聚碳酸酯硬涂层在汽车等行业应用普通F3-CS提供微小视野及微小样品测量,USB连接电脑即可使用,携带方便F10-AR测量眼科镜头和其他弯曲表面的反射率。还可以提供测量硬涂层厚度和透射率的可选件F10-RT可同时测量反射率和透射率,也可选配测量膜层厚度和折射率。普遍应用于真空涂层领域在F20实现反射率跟穿透率的同时测量,特殊光源设计特别适用于透明基底样品的测量。 二、F40 系列- 基于微米(显微)级别光斑尺寸厚度测量F40可以固定到您的显微镜上来测量小至 1um 光斑点的厚度和折射率这型号安裝在任何显微镜外,可提供小到1um光點(100倍放大倍數)來測量微小樣品。三、F50/F60系列- 表面的自动测绘F50为我们的F20系列产品增添自动测绘能力,以每秒钟 2 个点的快速测绘厚度和折射率这型号配备全自动XY工作台,由8"x8"到18"x18"或客戶提供所需尺寸均可。通过快速扫瞄功能,可取得整片样品厚度分布情况(mapping)。F54能以每秒测量两个点的速度快速的测绘薄膜厚度,样品直径可达450毫米F60-t满足生产环境的台式测绘系统,包括自动基准确定、凹槽定位、全封闭测量平台以及其它装置四、F30 系列- 在线厚度监控仪器 F30检测金属有机化学气相沉积(MOCVD)、阴极溅镀和其他沉积工艺中监控反射率、厚度和沉积率这型号可安装在任何真空镀膜机腔体外的窗口。可实时监控长晶速度、实时提供膜厚、n、k值。并可切定某一波长或固定测量时间间距。更可加装至三个探头,同时测量三个样品,具紫外线区或标准波长可供选择。F32实时监控薄膜顶部和底部的反射率和沉积速率公司网站:岱美中国:;岱美总部:上海分公司地址: 上海市浦东金高路 2216 弄 35 号6 幢 306-308 室电话: ,卜先生: 东莞分公司地址: 东莞市南城街道宏六路一号国金大厦401室电话: ,唐女士:北京分公司地址: 北京市丰台区丰台科技园汽车博物馆东路1号院诺德中心二期号楼1102室电话: ,贾先生: 岱美有限公司成立于1989年,是数据存储,半导体,光学,光伏和航空航天行业领头制造商和创新研发机构的先进设备分销商。在21世纪初期,Dymek已从我们在香港的总部扩展到亚洲,以满足客户的多样化需求。在当今全球化的市场中,我们的客户有连接东南亚各国的综合供应链已经成为基本。我们我们的专业人员随时准备与他们会面。我们总部设在香港,在中国(北京和上海,以及广东东莞)拥有强大的业务。我们还在马来西亚,新加坡,台湾,菲律宾和泰国的东南亚设有分支机构。我们所有的分支机构都已建立数十年,我们的许多客户对我们与他们建立的长达数十年的合作关系感到满意。我们的目标是建立持久的关系,满足东南亚快速增长企业的需求。对于我们的客户,我们不仅提供设备,还提供建议和技术指导,以及时了解我们不断发展的行业的新发展。对于我们的供应商,我们提供了深入的销售网络和数十年的东南亚复杂商业环境导航经验。我们将本地客户与来自欧洲,美国,日本和韩国的先进设备连接起来。可以立即联系我们,了解我们如何与您合作,实现您组织的长期财务目标。
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  • 激光放大器基于锥形放大器技术高功率优异的光斑质量操作简单Toptica激光放大器 TA pro光学测量仪Toptica激光放大器 TA pro光学测量仪Toptica激光放大器 TA pro光学测量仪Toptica激光放大器 TA pro光学测量仪基于锥形放大器技术高功率优异的光斑质量操作简单
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  • C11665-01 微米膜厚测量仪 C11665-01型光学微米测厚仪是一款非接触薄膜测厚仪器,它将光源、探测器和数据分析模块集成到一个箱体里,实现了紧凑型设计。在半导体行业,TSV技术的广泛应用使得基底测厚成为至关重要的方面,与此同时半导体薄膜工业正将连接层制作的越来越薄。这些领域的进步需要1 μm到300 μm范围内高准确度的膜厚测量。C11665-01可对多种类型的材料(硅基底,薄膜等等)进行测厚,测量范围为0.5 μm 到 700 μm,这也是半导体和薄膜制造领域经常使用应用的厚度。欢迎您登陆滨松中国全新中文网站 查看该产品更多详细信息!特性无参照物工作尺寸紧凑,节省空间高速、高准确度不整平薄膜精确测量分析光学常数(n,k)可外部控制参数型号C11665-01可测膜厚范围(玻璃)0.5 μm to 700 μm*1可测膜厚范围(硅)0.5 μm to 300 μm*2测量可重复性(硅)0.1 nm*3 *4测量准确度(硅)±1 %*4 *5光源LED测量波长940 nm to 1000 nm光斑尺寸Approx. φ1 mm*4工作距离5 mm*4可测层数最大10层分析FFT 分析,拟合分析,光学常数分析测量时间19 ms/点*6光纤接口形状FC外部控制功能RS-232C / Ethernet电源AC100 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz功耗85W*1:SiO2薄膜测量特性*2:Si薄膜测量特性*3:测量6 μm厚硅薄膜时的标准偏差*4:取决于所使用的光学系统或物镜的放大率*5:在标准量具的测量保证范围内*6:连续数据采集时间不包括分析时间
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  • 一、小麦亩穗数测量仪 麦穗形态测量仪产品简介:小麦育种研究中,小麦表型参数至关重要,小麦表型检测仪可用于小麦株高、夹角、基粗、小麦亩穗数、理论产量、穗长、小穗数、总粒数和千粒重等指标的测量,可多点快速取样数据可批量分析并获取平均值。这些表型参数在小麦品种筛选、小麦产量预测、麦穗动态发育、基因定位、功能解析和小麦遗传育种中发挥着至关重要的作用。软件集合多方面功能为一体,一站式解决小麦的表型参数测量问题。广泛适用于各农科院、高校、育种公司、种子站的小麦研究。二、小麦亩穗数测量仪 麦穗形态测量仪应用广泛:1、小麦亩穗数检测合适时期: 小麦抽穗期、开花期、灌浆期、成熟前期的小麦。2、麦穗形态测量的时期:室内考种时期:3、小麦夹角测量时期:抽穗期、开花期、灌浆期、乳熟期。4、千粒重测量时期: 室内考种时期。5、小麦株高测量时期: 各个生育时期。三、小麦亩穗数测量仪 麦穗形态测量仪技术参数:测量范围和误差:1、小麦亩穗数测量误差: ≤±5%。2、麦穗形态测量范围: 5——20cm。穗长误差: ±2%。小穗数误差: ≤ 3个。3、小麦夹角测量范围: 0-180°。作物粗: 0-5.2cm。夹角测量误差: +5%。4、作物茎粗测量误差: ±1%。5、千粒重测量误差: ±2%。6、株高测量范围: 0.1-1.1m。测量误差: ±1%。1.1 小麦亩穗数测量仪1.1简介小麦亩穗数测量仪也称小麦亩穗数测量系统,采用图像识别技术、深度学习的方法获取数据,可多点快速取样,数据批量分析,且数据互联互通。可以测量小麦的亩穗数、理论产量、种子数量和千粒重指标,为小麦的品种筛选、小麦产量预测、产量基因定位和功能解析发挥着至关重要的作用。小麦产量是由单位面积上的穗数、每穗数(每颖花数)和粒重三个基本因素构成,穗数是小麦产量重要构成要素之一,快速、准确地获取小麦穗数和千粒重对智能测产意义重大。1.2外形尺寸1、小麦亩穗数740mm*740*(620——1500)mm2、标定杆可上下伸缩调节高度3、背光板尺寸: 47cm*35cm*0.8cm4、图像分辨率:1600*7205、摄像头:1300W像素1.3测量误差1、小麦亩穗数误差±5%。2、千粒重误差±2%,修正后可达100%。1.4适用范围1、麦穗检测合适时期:小麦灌浆期至成熟前期的小麦2、千粒重可测量小麦种子的数量和千粒重2.小麦株高测量仪2.2.1简介小麦株高测量仪用于测量小麦的株高。在小麦不同时期测量株高的标准不同。小麦株高一般是指植株基部至主茎顶部即主茎生长点之间的距离。幼苗期:(1)伪茎高度:植株基部(或分粟节处)到最上部展开叶叶鞘顶部(即叶耳处)的距离为伪茎高度(或长度);(2)植株全长:植株基部到最上部展开叶的叶尖的距离做为植株全长。2.苗期:伪茎高度:植株基部(或分粟节处)到最上部展开叶叶鞘顶部(即叶耳处)的距离为伪茎高度(或长度);真茎高度:各节间的总长为真茎高度(或长度);(3)植株全长:植株基部到最上部展开叶的叶尖的距离做为植株全长。3.拔节期:(1)伪茎高度:植株基部(或分粟节处)到最上部展开叶叶鞘顶部(即叶耳处)的距离为伪茎高度(或长度);(2)真茎高度:各节间的总长为真茎高度(或长度);(3)植株全长:植株基部到最上部展开叶的叶尖的距离做为植株全长。4.灌浆期:从植株基部(或分蘖节处)量到穗顶(不包括芒)的距离则为株高。2.2.2技术参数测量杆高度:375mm+375mm+350mm测量精度: 1mm测量范围: 10——1100mm外壳材质: 铝合金软件系统: Android2.2.3小麦亩穗数测量仪 麦穗形态测量仪功能特点1、仪器带有数据管理云平台和APP,可通过电脑网页或手机查看数据。由测量杆,手机,识别APP软件组成。2、手机对准测量杆上的刻度,拍照自动识别刻度数据实时传输到手机。3、测量杆带有水平仪,使测量过程更规范,更准确。4、完善识别内容:自动识别结果中显示识别的高度数据,手动录入作物数据(如:品种、生育期等)完善作物信息。首页界面上可显示所有测量结果。5、可根据检测日期,种类,测量人,区组名称进行测量结果查询。6、数据分析管理:分析结果可查看,可将图片和数据excel导出。7、数据上传:自动在wifi/4G网络链接正常下上传至云平台,实现管理、查看、分析数据。平台数据可下载、分析、打印。3.小麦夹角茎粗测量仪3.1仪器简介小麦夹角茎粗测量仪可快速测定和分析小麦夹角、茎粗等作物性状参数,方便开展科学研究和育种分析。也适用于水稻、油菜等作物品种。3.2小麦亩穗数测量仪 麦穗形态测量仪技术参数1、支撑材料:不锈钢2、支架材料:黑色塑料3、背景材质:白色树脂4、测量范围:作物夹角:0——180°;作物茎粗:0——6cm5、测量误差:作物夹角±1°;作物茎粗:±1mm3.3功能特点1、超轻便手持式设计,方便田间和室内测量使用;2、大屏幕彩色手触摸屏,安卓系统,1300万像素+200万像素双摄;3、测量速度快,拍照3秒即出结果,可先拍照后批量处理;4、手动修正功能强大,手动触摸屏幕进行修正,使结果更准;5、手机和作物之间可以进行自由距离设置,适合多种植物的测量,适应性强;6、压板和转轴柄一体式连接,方便固定作物茎部,减少风吹草动对作物角度拍摄的影响;7、环境适应性广,无需做遮光处理,可以在离体或活体情况下测量作物夹角和茎粗数据;8、自动调节白平衡,不受天气、光照等环境条件的影响;9、数据查看多样化:拍照分析后即可查看测量结果,可在历史记录中查看数据报表,可导成Excel格式,并可分享至微信、QQ和钉钉;10、自动生成数据列表:测量时间,图片,作物夹角、作物茎粗等信息,节约数据整理时间;11、作物夹角适用的作物:水稻、小麦、油菜;作物茎粗对各种作物的茎粗都能测量。4.麦穗形态测量仪4.1仪器简介麦穗形态测量仪也叫麦穗形态测定仪,基于机器视觉技术,利用手机摄像头获取麦穗的图像,利用图像处理算法现场分析,获取麦穗形态参数,AI智能识别利用透视变化矫正图像、光照补偿算法、距离变化等技术,自动计算出小麦的穗长。麦穗形态测量仪一次测定,可同时获得麦穗穗长、小穗数等多项指标,主要应用于应用于小麦育种、小麦遗传研究等领域,4.2技术参数外形尺寸: 460*320*10mmEVA背板尺寸: 420*295*2mm底板材料: 黑色双面细磨砂亚克力测量范围: 5——20cm测量误差: ±2%图像分辨率: 1600*7204.3功能特点1、超轻便手持式设计: 方便室内和室外测量使用 2、大屏幕彩色手触摸屏: 安卓系统,1300万像素 3、多穗同时测量: 麦形态测量仪一次可以测量10个麦穗长度:4、测量速度快: 拍照3秒即出结果,可先拍照后批量处理 5、比例尺自动标定: 对倾斜拍照的图片可自动进行图片矫正,提高测量的精确度。6、适应性广: 无需做遮光处理,可以在离体或活体情况下测量麦穗形态。7、自动调节白平衡: 不受天气、光照等环境条件的影响 8、存储容量大: 50G存储数据,可看历史记录,相对生长速率等。9、数据查看多样化: 拍照分析后即可滑动查看结果,也可在历史记录中查看数据报表,可导成Excel格式10、自动生成数据列表: 测量时间,图片,GPS位置信息,穗长等信息,节约数据整理时间。小麦亩穗数测量仪 麦穗形态测量仪配置清单1、十字标定钢管 *42、伸缩杆 *13、地钉+转接器 *14、麦穗背板装置 *15、小麦夹角手持装置 *16、小麦株高标定杆 *17、小麦株高伸缩架 *18、可调光背光板 *19、超大彩色屏手机(已安装软件) *110、航空箱 *111、使用说明书 *1
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  • 薄膜厚度测量仪 400-860-5168转1329
    FT-100 薄膜厚度测量仪薄膜厚度测量范围 (Thickness Range): 1 nm - 1.8 mm波长范围 (Wavelength Range): 200 nm - 1700 nm精度 (Precision): 0.01 nm or 0.01%稳定性 (Stability): 0.02 nm or 0.03%光斑大小 (Spot Size): Depends on objective (4 um to 200 um. 2mm) 功能: 测量薄膜厚度、光学常数,反射率和透过率单层膜或多层膜叠加层; 适用于几乎所有透明,半透明,低吸收系数的薄膜测量,包括液态膜或空气层。测试条件: 平面或曲面可配XY平台实现全样品膜厚 mapping 可集成于以上测试平台 ( 三维轮廓仪,微纳米压痕/划痕仪,摩擦磨损仪等)
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