样品制备镀膜机

ARC-LITE样品制备镀膜机ARC-lite样品制备镀膜机是一种快速的, 在常温状态下对各种封装形式器件和WAFER的样品，进行COATING的设备.　　设备主要特点:1. ARC-lite样品镀膜在常温下进行。 2. ARC-lite可以适用于ASAP-1选择区域精细研磨和ULTRAPOL ADVANCE抛磨后等镀膜,以便使样品在显微镜或其他观察时更为清晰 。3. 快速方便-只用45秒。4. 样片效果比不做镀膜可提高60%。5. 各种形式/尺寸封装和WAFER样品都可适用。6. 价格实惠,小巧方便。7. 可用于emission microscopy, Laser, FIB, voltage, thermal, FMI, probing, and most other backside techniques.

美国Denton金/碳镀膜机 丹顿真空公司位于美国费城，是世界著名真空镀膜设备制造商。从1964年成立至丹顿已为全球客户制造了数千台多种规格的蒸发设备、溅射和PECVD镀膜系统，用于大工业生产、科研开发和小规模制造。丹顿用于科研开发和小规模制造的中小型镀膜设备据美国市场占有率之首。Desk V HP 专用电子显微镜样品制备 – SEM TEM FE-SEM 金/碳镀膜机特点● 内置泵系统● 极短的沉积时间● 一致的沉积参数● 图形界面彩色触摸板● 薄膜厚度控制● 样品清洁的蚀刻模式● 多样靶材材料选择● 更多可选功能

Ossila公司浸渍提拉镀膜机英国Ossila公司浸渍提拉镀膜机性能卓越，内置软件，操作简单，价格经济，为科研领域工作者提供一款理想的适用于液相镀膜制备而设计的精密仪器。目前在化学、材料科学的研究中，被广泛应用于溶胶-凝胶（sol-gel）法薄膜材料制备。如硅片、晶片、玻璃、陶瓷、金属等所有固体材料表面薄片材料镀膜工艺，可以控制膜片提出速度，进而控制涂层厚度，保证良好重复性。提供2年的质保，为使用者提供更高的保障。功能特征u 高精度电机---Ossila浸渍提拉镀膜机采用高精度电机，样品浸渍重复性好。u 平滑运动---Ossila浸渍提拉镀膜机采用微频步进电机，基片浸入、提出过程平滑准确，保证浸渍镀膜效果。u 基片兼容性好---各种尺寸、形状和材质的基片都可以，兼容性好。u 浸渍速度可设置范围广---Ossila浸渍提拉镀膜机基片浸提速度自0.01mm/秒至50mm/秒可设置。只需一台浸渍提拉镀膜机,便可以实现不同厚度的浸渍镀膜效果。u 形体小巧---Ossila浸渍提拉镀膜机占地面积小，只需20cmx30cm空间即可工作，适合大多数实验室。u 坚固耐用，防滑式设计---Ossila浸渍提拉镀膜机采用防滑台脚设计，具有牢牢的抓地功能，避免工作过程不会发生位移。u 软件操作简单---Ossila浸渍提拉镀膜机的内置软件(不需外接电脑)可以实现手动和自动控制。用户界面友好，实验编程和参数设置简单。样品的浸入速度、停留时间、提出速度、干燥时间等整个浸渍过程都是可调可控。手动浸渍情况下，用户可独立设置系统的样品浸入和提出。u 全彩显示屏---任何照明条件下、无论从任何角度，彩色显示屏都有良好的可识别性，视觉舒适性好。u 内置安全措施----Ossila浸渍提拉镀膜机内置软件多种安全保护，包括基于软件的碰撞探测功能，为用户提供高级别的安全性。当基片或工作臂碰到提拉镀膜机底座或烧杯底时系统自动停止工作。降低样品、玻璃容器或提拉机本身受损的风险。u 样品提出速度可变---样品提出速度在整个基片长度范围内可调整，以达到不同涂层厚度梯度效果，快速优化胶片厚度。u 用户协议可保存---Ossila浸渍提拉镀膜机可以存储20个不同的用户协议，每个协议可设置保存20个不同的步骤编程，可随时调用，节省时间，尤其适用于多个科学家共用一台设备的非常繁忙的实验室。u 快速释放夹---用户可以快速往工作臂上加样和卸样。u 标尺的磁铁固位---夹子下方有内置磁铁块，可以很方便地将金属标尺固定到位，便于测量(标尺是标配)。技术规格v 最小提取速度：0.01mm.s-1。v 提取速度：50 mm s-1。v 速度再重现性：±0.01%@1mms-1，±0.1% @10mm.s-1，± 0.3% @ 50mm.s-1。v 最长行程：100 mm。v 循环次数：1000个循环。v 定时器最长可设置时间：99:59:59 (时:分:秒)。v 内置软件特征：提出速度可变，重复循环，碰撞检测功能。v 程序数量：20。v 电源：DC24V。v 产品整体尺寸：宽200mmx高350mm (450mm完全展开)x长300mm。v 运输重量5kg。

产品简介：钙钛矿镀膜机主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成。适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作，广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域。 产品型号钙钛矿镀膜机主要特点1、样品位于真空室上方，蒸发源位于真空室下方，向上蒸发镀膜，且蒸发源带有挡板装置。2、设有烘烤加热功能，可在镀膜过程中加热样品，最高烘烤加热温度为180℃。3、设有断水、断电连锁保护报警装置及防误操作保护报警装置。技术参数1、镀膜室：不锈钢材料，采用方形前后开门结构，内带有防污板，腔室尺寸约为600mm×450mm×450mm2、真空排气系统：采用分子泵+机械泵系统3、真空度：镀膜室极限真空≤6×10-4Pa4、系统漏率：≤1×10-7Pa5、蒸发源：安装在真空室的下底上；有机蒸发源4个、容积5ml，2台蒸发电源，可测温、控温，加热温度 400℃，功率0.5KW；无机蒸发源4套、容积5ml，2台蒸发电源，加热电流300A，功率3.2KW； 蒸发源挡板采用自动磁力控制方式控制其开启6、样品架：安装在真空室的上盖上，可放置?120mm的样品、载玻片，旋转速度0-30rpm7、加热温度：RT-180℃，测温、控温8、膜厚控制仪：石英晶振膜厚控制仪，膜厚测量范围0-999999?

高真空镀膜机 Leica EM ACE600 您选择了用于TEM和FE-SEM分析的最高分辨率。Leica EM ACE600是完美的多用途高真空薄膜沉积系统，设计来根据您的FE-SEM和TEM应用的需要生产非常薄的，细粒度的和导电的金属和碳涂层，用于最高分辨率分析。这种高真空镀膜机可以通过以下方法进行配置:溅射、碳丝蒸发、碳棒蒸发、电子束蒸发和辉光放电。适用于Leica EM ACE600高真空镀膜机的Leica EM VCT真空冷冻传输系统，是无污染的低温扫描电镜样本制备的理想解决方案。高真空镀膜仪 – 配置您的镀膜体系 – 我们铸造您真正需要的镀膜仪Leica EM ACE600 可以配置如下镀膜方式: 金属溅射镀膜 碳丝蒸发镀膜 碳棒蒸发镀膜（带有热阻蒸发镀膜选配件） 电子束蒸发镀膜 辉光放电 连接VCT样品交换仓，与徕卡EM VCT配套实现冷冻镀膜，冷冻断裂，双复型，冷冻干燥和真空冷冻传输Leica EM ACE 镀膜仪 为您开启最优越的镀膜体验 全新一代ACE系列镀膜仪是徕卡与前沿科学家合作研发的结晶，它涵盖了您在样品制备过程中所需的所有镀膜需求，从常温镀膜到冷冻断裂/冷冻镀膜。让我们开启大门来体验全新镀膜设备的先进技术。我们的理念只有一个，即“力求简约，简便，快速并可靠地实现样品表面镀膜，使您的样品在EM中获得最好的图像”。

钙钛矿镀膜机主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成。适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作，广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域。主要特点1、样品位于真空室上方，蒸发源位于真空室下方，向上蒸发镀膜，且蒸发源带有挡板装置。2、设有烘烤加热功能，可在镀膜过程中加热样品，最高烘烤加热温度为180℃。3、设有断水、断电连锁保护报警装置及防误操作保护报警装置。技术参数1、镀膜室：不锈钢材料，采用方形前后开门结构，内带有防污板，腔室尺寸约为600mm×450mm×450mm2、真空排气系统：采用分子泵+机械泵系统3、真空度：镀膜室极限真空≤6×10-4Pa4、系统漏率：≤1×10-7Pa5、蒸发源：安装在真空室的下底上；有机蒸发源4个、容积5ml，2台蒸发电源，可测温、控温，加热温度 400℃，功率0.5KW；无机蒸发源4套、容积5ml，2台蒸发电源，加热电流300A，功率3.2KW；蒸　　　　　 发源挡板采用自动磁力控制方式控制其开启6、样品架：安装在真空室的上盖上，可放置?120mm的样品、载玻片，旋转速度0-30rpm7、加热温度：RT-180℃，测温、控温8、膜厚控制仪：石英晶振膜厚控制仪，膜厚测量范围0-999999A

高真空电阻热蒸发镀膜机（高真空镀膜机）采用电阻热蒸发技术，它是在高真空条件下，通过加热材料的方法，在衬底上沉积各种化合物、混合物单层或多层膜。可用于生产和科学实验，可根据用户要求专门订制；可用于材料的物理和化学研究；可用于制备金属导电电极；可用于有机材料的物理化学性能研究实验、有机半导体器件的原理研究实验、OLED实验研究及有机太阳能薄膜电池研究实验等。设备构成-单镀膜室-单镀膜室＋进样室-单镀膜室＋手套箱（可将镀膜室放在手套箱内）-单镀膜室＋进样室＋手套箱（可将镀膜室放在手套箱内）-多镀膜室＋样品传递室＋手套箱（组成团簇式结构，样品传递采用真空机械手）设备组成电阻热蒸发源组件、样品掩膜挡板系统、真空获得系统及真空测量系统、分子泵（或冷泵）真空机组、旋转基片加热台、工作气路、手套箱连接部件、样品传递机构，膜厚控制系统、电控系统、恒温冷却水系统等组成。热蒸发源类型和数量，可根据用户需要进行配置。可选件：膜厚监控仪，恒温制冷水箱。热蒸发源种类及配置电阻热蒸发源组件：数量：1～12套（可根据用户要求配装）；电阻热蒸发源种类：钽（钨或钼）金属舟热蒸发源组件、石英舟热蒸发源组件、钨极或钨蓝热蒸发源组件、钽炉热蒸发源组件（配氮化硼坩埚或陶瓷坩埚）、束源炉热蒸发组件（配石英坩埚或氮化硼坩埚）。高真空电阻热蒸发镀膜机（高真空镀膜机）工作条件（实验室应具备的设备工作条件）供电：4kW，三相五线制～ AC 380V工作环境湿度：10℃～ 40℃工作环境温度：≤50%冷却循环水：0.2m3/h，水温18℃～ 25℃水压：0.15MPa ～ 0.25MPa真空性能极限真空：7×10-5Pa～7×10-6Pa设备总体漏放率：关机12小时，≤10Pa操作方式手动、半自动关于鹏城半导体鹏城半导体技术（深圳）有限公司，由哈尔滨工业大学（深圳）与有多年实践经验的工程师团队共同发起创建。公司立足于技术前沿与市场前沿的交叉点，寻求创新引领与可持续发展，解决产业的痛点和国产化难题，争取产业链的自主可控。公司核心业务是微纳技术与高端精密制造，具体应用领域包括半导体材料、半导体工艺和半导体装备的研发设计和生产制造。公司人才团队知识结构完整，有以哈工大教授和博士为核心的高水平材料研究和工艺研究团队；还有来自工业界的高级装备设计师团队，他们具有20多年的半导体材料研究、外延技术研究和半导体薄膜制备成套装备设计、生产制造的经验。公司依托于哈尔滨工业大学（深圳），具备先进的半导体研发设备平台和检测设备平台，可以在高起点开展科研工作。公司总部位于深圳市，具备半导体装备的研发、生产、调试以及半导体材料与器件的中试、生产、销售的能力。公司已投放市场的部分半导体设备|物理气相沉积（PVD）系列磁控溅射镀膜机、电子束镀膜机、热蒸发镀膜机，离子束溅射镀膜机、磁控与离子束复合镀膜机|化学气相沉积（CVD）系列MOCVD、PECVD、LPCVD、热丝CVD、ICPECVD、等离子刻蚀机、等离子清洗机|超高真空系列分子束外延系统（MBE）、激光分子束外延系统（LMBE）|OLED中试设备（G1、G2.5）|其它金刚石薄膜制备设备、硬质涂层设备、磁性薄膜设备、电极制备设备、合金退火炉|太阳能薄膜电池设备（PECVD+磁控溅射）团簇式太阳能薄膜电池中试线团队部分业绩分布完全自主设计制造的分子束外延（MBE）设备，包括自主设计制造的MBE超高真空外延生长室、工艺控制系统与软件、高温束源炉、高温样品台、Rheed原位实时在线监控仪（反射高能电子衍射仪）、直线型电子枪、膜厚仪（可计量外延生长的分子层数）、射频源等关键部件。真空度达到2×10-8Pa。设备于2005年在浙江大学光学仪器国家重点实验室投入使用，至今仍在正常使用。设计制造磁控溅射与等离子体增强化学气相沉积法PECVD技术联合系统，应用于团簇式太阳能薄膜电池中试线。使用单位中科院电工所。设计制造了金刚石薄膜制备设备，应用于金刚石薄膜材料的研究与中试生产设备。现使用单位中科院金属研究所。设计制造了全自动磁控溅射设备，可加水平磁场和垂直磁场，自行设计的真空机械手传递基片。应用于高密度磁记录材料与器件的研究和中试。现使用单位国家光电实验室。设计制造了OLED有机半导体发光材料及器件的研究和中试成套装备。现使用单位香港城市大学先进材料实验室。设计制造了MOCVD及合金退火炉，用于GaN和ZnO的外延生长，实现LED无机半导体发光材料与器件的研究和中试。现使用单位南昌大学国家硅基LED工程技术研究中心。设计制造了磁控溅射研究型设备。现使用单位浙江大学半导体所。设计制造了电子束蒸发仪研究型设备。现使用单位武汉理工大学。团队在第三代半导体装备及工艺方面的技术积累2001年 与南昌大学合作设计了中试型的全自动化监控的MOCVD，用于外延GaN和ZnO。2005年 与浙江大学光学仪器国家重点实验室合作设计制造了第一台完全自主知识产权的分子束外延设备，用于外延光电半导体材料。2006年 与中国科技大学合作设计超高温CVD 和MBE。用于4H晶型SiC外延生长。2007年 与兰州大学物理学院合作设计制造了光学级金刚石生长设备（采用热激发技术和CVD技术）。2015年 中科院金属研究所沈阳材料科学国家（联合）实验室合作设计制造了金刚石薄膜制备，制备了金刚石电极、微米晶和纳米晶金刚石薄膜、导电金刚石薄膜。2017年-优化Rheed设计，开始生产型MBE设计。-开始研制PVD方法外延GaN的工艺和装备，目前正在进行设备工艺验证。2019年 设计制造了大型热丝CVD金刚石薄膜的生产设备。2021年 MBE生产型设计。2022年 大尺寸金刚石晶圆片制备（≥Φ6英寸）。2023年 PVD方法外延氮化镓装备与工艺攻关。

产品介绍：磁控溅射镀膜机 LSMS-160： 用溅镀方式在样品表面沉积 数微米以下的薄膜，可制备包括各种金 属、半导体、铁磁材料,以及绝缘的氧化 物、陶瓷等物质。磁控溅射镀膜机 LSMS-160产品特点： 纯度高，结构更加完善； 减少环境污染，提高工作效率； 耗电量较低；磁控溅射镀膜机 LSMS-160参数：

产品详情美国Denton 金/碳镀膜机Vacuum详细介绍 丹顿真空公司位于美国费城，是世界著名真空镀膜设备制造商。 自一九六四年成立至今丹顿已为全球客户制造了数千台多种规格的蒸发设备、溅射和PECVD镀膜系统，用于大型工业生产、科研开发和小规模制造。 丹顿用于科研开发和小规模制造的中小型镀膜设备据美国市场占有率之首。 蒸发膜的厚度分布蒸发源的排放分布特性可用于确定真空室中用于生产均匀厚度涂层的正确几何形状。在大孔径衬底上或者在装载有许多小衬底的架子上生产均匀厚度的涂层可以通过对装有测试件的架子进行重复试验来完成。从一次试运行到下一次试运行，有意改变了几何形状 - 例如蒸发源的偏移量增加了，直到找到最佳排列。在本文中，我们首先测量了位于已知径向距离处的测试件上的涂层的厚度，在真空蒸发室中的单个旋转平板架上，并使用这些数据来查找源发射函数。然后使用已知的发射函数来确定在直径上产生最佳厚度均匀性的源偏移和弧线曲率。 更低的成本...更高的投资回报率 离子辅助沉积可提供高要求的光学应用所需的高品质，无缺陷，低应力，环境稳定（无漂移）的薄膜。 您将受益于： 独立控制离子电流密度和离子能量以优化薄膜性能长期运行，100％氧气或氮气反应气体稳定运行，延长运行时无过程漂移 冷阴极离子源是差分泵浦器件，等离子体腔室的一端通向真空环境。离子源的操作参数和薄膜的质量受控制真空度的参数的影响。在抽速很高的系统中制作好的薄膜要容易得多。当比较IAD薄膜沉积参数时，压力的差异可能是由泵浦速率引起的。 Desk V HP 专用电子显微镜样品制备– 金/碳镀膜机特点(SEM / TEM / FE-SEM)● 内置泵系统● 极短的沉积时间● 一致的沉积参数● 图形界面彩色触摸板● 薄膜厚度控制● 样品清洁的蚀刻模式● 多样靶材材料选择● 更多可选功能

派瑞林真空镀膜机用独特的真空气相沉积工艺制备，由活性小分子在基材表面“生长〞出完全敷形的聚合物薄膜涂层 ，具有其他涂层难以比拟的性能优势。它能涂敷到各种形状的表面，包括尖说的校边 ，裂缝里和内表面。可应用于航空航天、新能源汽车、电路板、磁性材料、传感器、硅橡胶、密封件、医疗器械等行业，具有广阔的市场前景。这款MQP-3001小设备腔体小，均匀性良好，适合科研单位进行实验研究，操作简便，稳定性强。公司始终以信誉求发展，以质量求生存为宗旨，坚持以人为本，与时俱进科技创新，公司将一如既往，努力打造优良品牌，同时也真诚地为用户提供周详的服务．有充足的技术及生产加工能力，欢迎广大客户选购本公司真空镀膜设备和派瑞林（Parylene）原材料以及来件涂层加工。

Leica EM ACE600是优良的多用途高真空薄膜沉积系统，设计来根据您的FE-SEM和TEM应用的需要生产非常薄的，细粒度的和导电的金属和碳涂层，用于高分辨率分析。这种高真空镀膜机可以通过以下方法进行配置:溅射、碳丝蒸发、碳棒蒸发、电子束蒸发和辉光放电。适用于Leica EM ACE600高真空镀膜机的Leica EM VCT真空冷冻传输系统，是无污染的低温扫描电镜样本制备的理想解决方案。理想重现的结果运行全自动化过程，辅以参数和协议设置。集成的石英测量和自动化3轴载物台移动。容易清洗可拆卸的门、卷帘、内部屏蔽、来源和载物台，确保制备高品质样本的环境清洁。小巧紧凑设计紧凑，占地面积小，节省实验室空间。操作简便直观的触摸屏，松推配合的连接器和免工具的目标变更，舒适的前门锁定。自定义配置配备了仪器，可满足您的具体需求。低温镀膜真空低温传输系统适应将室温镀膜机转换成低温镀膜机。样本能在低温下于受保护的环境中进行镀膜和传输。

Leica EM ACE600是优良的多用途高真空薄膜沉积系统，设计来根据您的FE-SEM和TEM应用的需要生产非常薄的，细粒度的和导电的金属和碳涂层，用于高分辨率分析。这种高真空镀膜机可以通过以下方法进行配置:溅射、碳丝蒸发、碳棒蒸发、电子束蒸发和辉光放电。适用于Leica EM ACE600高真空镀膜机的Leica EM VCT真空冷冻传输系统，是无污染的低温扫描电镜样本制备的理想解决方案。理想重现的结果运行全自动化过程，辅以参数和协议设置。集成的石英测量和自动化3轴载物台移动。容易清洗可拆卸的门、卷帘、内部屏蔽、来源和载物台，确保制备高品质样本的环境清洁。小巧紧凑设计紧凑，占地面积小，节省实验室空间。操作简便直观的触摸屏，松推配合的连接器和免工具的目标变更，舒适的前门锁定。自定义配置配备了仪器，可满足您的具体需求。低温镀膜真空低温传输系统适应将室温镀膜机转换成低温镀膜机。样本能在低温下于受保护的环境中进行镀膜和传输。

Quorum Technologies制造市场领先的科学仪器，用于电子显微镜（EM）样品制备。 电子显微镜是许多科学研究领域的重要研究工具，从对抗重大疾病到食品安全以及先进微电子和新材料的开发。 在Quorum Technologies，我们了解严格的EM样品制备是为客户提供清晰图像进行分析的唯一方法。Quorum Technologies 的全系列高质量仪器在冷冻 SEM、溅射镀膜、临界点干燥和辉光放电等样品制备技术方面处于领先地位，一次又一次地提供无与伦比的易用性和可重复性。 Quorum Technologies成立于2001年，但其产品品牌的历史可以追溯到更远的地方。最初的 Polaron Ltd 公司处于电子显微镜 （EM） 样品制备的最前沿，率先推出了扫描电子显微镜 （SEM） 溅射镀膜，并在 1970 年代初推出了第一台 SEM 临界点干燥机。 如今，Quorum Technologies 延续了这一优良传统，仍然是溅射镀膜、临界点干燥和冷冻 SEM 等制备技术的市市场领导者Quorum 溅射镀膜机和 SEM/TEM 碳镀膜机2-1 miniQS -入门级用于镀膜/涂布机MiniQS非常适合预算不高的用户，他也需要在易于使用的仪器中获得可重复的结果。MiniQS使用磁控溅射头，带有易于更换的圆盘靶2-2 Q plus 系列-全系列溅射镀膜机-用于电子显微镜和薄膜Q Plus系列是Quorum国际知名、市场领先的溅射和碳镀膜机系列的新版本。越来越多地用于高分辨率显微镜，其中超细涂层是必须的。溅射镀膜是在扫描电子显微镜（SEM）观察之前制备非导电或导电性差的试样的标准方法。Quorum提供低成本的旋转泵送溅射镀膜机，用于沉积非氧化性金属（如金（Au）和铂（Pt））和涡轮分子泵送镀膜机，适用于氧化性和非氧化性金属，如铬（Cr）。为了提供改进的超细涂层，Quorum推出了新的Q150V Plus，它提供1 x 10-6 mbar的极限真空，以获得卓越的效果。大型腔室溅射镀膜机可用于直径达 200 mm 的试样。大多数 Quorum 涂布机也可以使用易于更换的碳棒和碳纤维插件进行碳蒸发配置。型号有Q 150R Plus, Q 150T Plus, Q 150V Plus, Q300T Plus, Q 300 TD Plus。Q150V Plus 适用于高真空应用。这款新产品为用户提供了为超高分辨率应用（高于x 200k放大倍率）生产更细晶粒尺寸和更薄涂层的能力。Q150T Plus 镀膜机适用于 SEM、TEM 和许多薄膜应用。它有三种形式：作为溅射镀膜机、碳镀膜机或在一个紧凑的系统中同时溅射和碳蒸发。Q150R Plus 镀膜机适用于使用非氧化金属的 W-SEM 溅射应用以及用于 EDS 和 WDS 的碳涂层 SEM 试样。对于较大的试样，Q300T T Plus（涡轮分子泵送）型号允许涂覆最大 8“/200 mm 的单个大直径试样（例如晶圆），或多个直径相似的较小试样。两者都具有三重溅射头，以确保均匀的镀膜沉积。对于薄膜应用，Q300T D Plus 双目标顺序溅射镀膜机允许连续溅射金属层，而无需打破真空。Q150 GB 是 Q150T ES 涂布机的模块化版本，设计用于集成到手套箱中。SC7620是该系列的完善，这是一款紧凑的入门级SEM溅射镀膜机，可与可选的碳纤维蒸发附件一起使用。

GSL-1800X-ZF6钙钛矿镀膜机是一种利用电阻加热使膜材汽化蒸发后凝结在基片上成膜的加热镀膜方法，该方法结构简单、实用，使用可靠，适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作。 适用范围：钙钛矿材料、二维材料、光伏太阳能电池的器件制备等钙钛矿镀膜机主要由金属源蒸发沉积室，真空排气系统，真空测量系统，有机蒸发源，无机蒸发源，样品台系统，电控系统，配气系统等部分组成方便操作，制成的薄膜纯度高、质量好，膜厚可以准确的控制，成膜速率快，效率高，用掩膜可以获得清晰的图形，薄膜的生长比较单纯。恢复工作真空快，大气至5×10-4Pa≤15分钟。产品名称GSL-1800X-ZF6钙钛矿镀膜机产品型号GSL-1800X-ZF6主要参数1、极限真空度：5×10-5Pa，保压12小时2、膜厚均匀性≥95%；重复性≥95%；3、不锈钢蒸发基片托1个，最大可容纳一块4英寸样品4、蒸发源距离可调范围：260mm-320mm5、蒸发水冷电极2组（6个），组成4个蒸发舟，最大输出功率3Kw（电压 10V；电流300A）。6、提供2台有机电源，2台无机电源，最多同时蒸发4种材料。7、方型真空室尺寸500mm×500mm×450mm（长×宽×高）序号名称数量图片链接1有机材料蒸发电源2套-2无机材料蒸发电源2套-3膜厚监测仪系统1套-4分子泵1台-5冷水机1台-6聚酯PU管（Ø 8、6、4mm）10m-

高真空电阻热蒸发镀膜机（高真空镀膜机）采用电阻热蒸发技术，它是在高真空条件下，通过加热材料的方法，在衬底上沉积各种化合物、混合物单层或多层膜。可用于生产和科学实验，可根据用户要求专门订制；可用于材料的物理和化学研究；可用于制备金属导电电极；可用于有机材料的物理化学性能研究实验、有机半导体器件的原理研究实验、OLED实验研究及有机太阳能薄膜电池研究实验等。设备构成-单镀膜室-单镀膜室＋进样室-单镀膜室＋手套箱（可将镀膜室放在手套箱内）-单镀膜室＋进样室＋手套箱（可将镀膜室放在手套箱内）-多镀膜室＋样品传递室＋手套箱（组成团簇式结构，样品传递采用真空机械手）设备组成电阻热蒸发源组件、样品掩膜挡板系统、真空获得系统及真空测量系统、分子泵（或冷泵）真空机组、旋转基片加热台、工作气路、手套箱连接部件、样品传递机构，膜厚控制系统、电控系统、恒温冷却水系统等组成。热蒸发源类型和数量，可根据用户需要进行配置。可选件：膜厚监控仪，恒温制冷水箱。热蒸发源种类及配置电阻热蒸发源组件：数量：1～12套（可根据用户要求配装）；电阻热蒸发源种类：钽（钨或钼）金属舟热蒸发源组件、石英舟热蒸发源组件、钨极或钨蓝热蒸发源组件、钽炉热蒸发源组件（配氮化硼坩埚或陶瓷坩埚）、束源炉热蒸发组件（配石英坩埚或氮化硼坩埚）。高真空电阻热蒸发镀膜机（高真空镀膜机） 工作条件（实验室应具备的设备工作条件）供电：4kW，三相五线制～ AC 380V工作环境湿度：10℃～ 40℃工作环境温度：≤50%冷却循环水：0.2m3/h，水温18℃～ 25℃水压：0.15MPa ～ 0.25MPa真空性能极限真空：7×10-5Pa～7×10-6Pa设备总体漏放率：关机12小时，≤10Pa操作方式手动、半自动

SD-981M离子溅射仪喷金镀膜SEM样品制备是北京博远微纳科技有限公司（博远微朗）自主研发的一款高性能离子溅射仪。上市已来深受各大高校和科研院所的喜爱。SD-981M离子溅射仪喷金镀膜SEM样品制备于传统溅射仪相比，除兼备其他溅射仪功能外，还有有以优点：1、SD-891M是一款磁控溅射仪，可对温度敏感的样品进行镀膜，比如：薄膜、橡胶等。并且磁控溅射靶头部分的结构更加科学，稳定。2、操作模式方面：有自动和手动两种模式（满足更多人的镀膜需求）3、溅射方面：分为正常启动和柔和启动，可适应一些特殊样品4、真空方面：真空可调节，真空实现自动通气并稳压力的功能，即避免了手动调节真空的不便，同时避免了固定真空度颗粒度大等方面的缺点。5、操作界面方面：分为简易界面和多样化界面。可满足大多数人使用。6、样品台方面：可旋转（选配）SD-981M离子溅射仪喷金镀膜SEM样品制备具体参数如下：参数：主机规格：长510mm×宽310mm×高290mm（含腔体）靶材：Au（标配）50mm×0.1mm（D×H）样品室：玻璃腔体直径180mm×高120mm（D×H）样品台直径：φ70mm靶材尺寸：Ф50mm 最高真空度：1Pa工作真空：2-15Pa定时器：数码计时 0-600S镀膜面积：50mm溅射电流：0-50mA(可调）真空测量：皮拉尼真空计触摸屏：4寸程序：VPI人机界面可通入气体：多种机械泵：VRD-8速率：0--60nm/min主机功率：100W工作电压：220V,50HZ

●“近距红外蒸发真空镀膜机”正式推向市场，探索薄膜太阳能电池，如CdTe、硫化物和钙钛矿结构太阳能电池的重要手段，也用于有机柔性薄膜制备，为公司专利产品“一种近距红外热蒸发真空镀膜机”，专利号：CN201920208976.6，接受桌面式和一体式定制。●真空腔体：根据客户需求定制。●真空漏率：1X10-6Pa.L/S；极限真空优于5X10-5Pa，标准配置分子泵系统。●加热功率：小于12KW。●温控仪表：配置触摸屏温控仪和专用温控仪表，自主编程的温控系统，配置功率控制器，带有方便的温度分配和功率分配接线端。●腔体：功能材料透明腔体，直径不低于240mm，耐高温不低于1000℃，短期工作可达到1200℃。●温度隔离罩：配置专用温度隔离罩，降低环境温度对系统的影响，同时具有安全隔离功能。●配置2套坩埚，并设有陶瓷封结的温度传感器，精度为：±1℃，过冲不超过2℃。●配置2套基片温度平衡系统，配置进口精密耐高温专用传感器，精度为：±1℃，响应速度极快，特别适合超精密温度控制。●配置能量反射屏一套，配置有专用沉积环境仓，沉积反应仓可扩展至水冷系统。●配置移动小车一套，并配置不锈钢安装板和推手，配置福马轮4套，可根据客户实际需求设计为一体机和桌面式。●配置有SUS304柔性真空管路和相关标准件。●配置三路复合真空计一套，带RS485控制端口，配置有不锈钢毛细管路泄压阀，可以沉积柔性薄膜材料。●可选配洁净无油高真空真空系统。

产品详情法国Plassys超高真空多腔体电子束镀膜机MEB550SL3详细介绍超高真空多腔体电子束蒸镀系统磁控溅射、电子束蒸镀、超高真空、镀膜、约瑟夫森结、超导、量子器件、量子比特、多腔体、Qubit、UHV、铌基超导、氮化铌、钛氮化铌、NbTiN、NbN、sputtering systemEvaporation system、Nb-based superconductor、超导铝结、Josephson junction品牌：PLASSYS 型号：MEB 550SL3 产地：欧洲 法国 应用：约瑟夫森结（Al, Nb, NbN, NbTiN） 超高真空多腔体电子束蒸发镀膜仪电子束蒸镀仪是纳米器件制备中必不可少的仪器，用于蒸镀各种高纯金属薄膜，如Ti, Au, Ni, Cr, Al, Al2O3等。电子束蒸发沉积法可在同一蒸发沉积装置中安装多个坩埚，使得可以蒸发和沉积多种不同的高质量金属薄膜。开展量子计算机实验研究，如基于金刚石NV色心，离子阱，超导量子结，量子点电子自旋的研究，均需要蒸镀各种高质量金属薄膜来制备量子器件，特别是在利用超导量子结来实现量子计算的实验研究中，Josephson结的制备最为关键：需要在非常干净的蒸镀腔里进行，而且需要在不同的角度上蒸镀两次，两次之间需要注入氧气进行金属氧化。所以样品台必须具有三维的旋转功能，同时，蒸镀腔内还需要有可以注射氧气及其他气体来实现清洁和氧化过程。 推荐配置：可以用于沉积Ti, Ni, Au, Cr, Al, Al2O3等金属及氧化物薄膜，目前全球主要超导量子实验室均使用该设备制备超导Al结（量子比特和约瑟夫森结）和量子器件，可以制备大面积、高度稳定性和可重复性超导结。更详细信息或资料，请咨询我们！ 预处理腔：衬底旋转、倾斜（3D）；干泵+ 分子泵 真空度10-8 T 蒸发镀膜腔：电子枪6-15KW； 样品台： 。可加载4英寸衬底； 。衬底可加热到800℃ 。衬底旋转、倾斜， 。倾斜精度和重复性优于0.1°（可升级） 真空泵系统： 。干泵 + 低温泵； 。真空度10-10T或10-11T 膜厚控制仪： 。频率分辨率10-4Hz或更高； 。速率分辨率10-3nm/s； 。厚度分辨率10-2nm 残余气体分析仪 反应蒸镀：氧气气路+MFC 氧化腔体： 。静态/动态氧化 。臭氧发生器/原子氧发生源/辉光放电； 。卤素灯加热至最高200℃ 。残余气体分析仪分子泵 + 干泵；真空度10-8 T 全自动软件包，支持半自动和手动模式，支持远程网络操作和维护。典型用户：耶鲁大学、日本NTT、中科院物理所、中科大、南大、南方科技大学

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热蒸发镀膜机 - 极高性价比！型号：EasyDEP产地：韩国原装进口 仪器特点：1/ 沉积材料：金属；2/ 膜厚均匀性：≤ ± 5 % (4英寸基底)；3/ 沉积方式：热蒸发舟；4/ 极限真空：5.0 x 10 -6 Torr； 技术规格：1/ 最大样品尺寸：6英寸；2/ 基底旋转：0~10rpm；3/ 不锈钢腔体，ID250 x H300 mm；4/ 真空泵：机械泵，150L/Min；扩散泵，215L/Sec；5/ 薄膜厚度监控：石英振荡传感器实时厚度控制；6/ 厚度精度：0.5%；7/ 热蒸发源：4英寸热蒸发舟，交流电源；

英国Oxford Vacuum 电子束蒸发镀膜机Vapour Station 4微纳器件样品制备系统 产品简介该电子束蒸发镀膜仪是一款微纳器件样品制备系统，为有机无机多源有 气相分子沉积系统，高真空条件下，通过加热材料的方法，在衬底上沉积各 种化合物、混合物单层或多层膜，具有高真空多源有机、金属电阻蒸发及手 套箱保护条件下器件后期制作，主要用于有机半导体材料的物理化学性能， 研究实验、有机半导体器件的原理研究实验也可用于普通金属电极蒸发镀膜研究； 真空室采用优质不锈钢，氩弧焊接、采用先进钝化处理工艺。基片台尺 寸：3 英寸，配备一套 TELEMARK 的单袋电子束靶枪一套；镀膜室用一台 高精度石英晶振膜厚监测仪进行薄膜厚度监测，配备有原装石英晶振探头； 镀膜生长室放置2个热阻蒸发舟，是一款真空高性价比的电子束蒸发镀膜机。 技术参数尺寸:495 mm (L) x 485 mm (W) x 500 mm (H) 真空腔体:真空腔体要求：最大样品尺寸为 3 英寸，样品台直径为 75mm； 薄膜均匀性≤±1%；极限压力：真空腔室薄膜最高真空度＜3×10-7 mbar；真空计：真空测量系统，宽范围的真空规，最高真空度小于 3×10-7mbar；样品夹：真空腔体里配有样品夹，能够固定住样品；挡板：真空腔体里配有沉积挡板，工作时能区分开不同样品；蒸发样品池：配置单袋容量 1.5cc 的电子束靶枪，电源功率为3KW ；蒸发舟：2个热蒸发钨舟，用于沉积一些热蒸发材料； 薄膜监测仪：.电脑控制的薄膜监测仪，能实时监测薄膜的厚度情况；.测量频率范围至少包含6.0 to 5.0 MHz这个范围；.频率分辨率应≤±0.03 Hz （at 6 MHz）； 测量间隔应≤0.10 s；厚度显示分辨率≤1 ?； 真空系统： .真空系统组成：应至少包含一台干式涡旋泵和一台涡轮分子 泵，美国安捷伦干式涡旋泵作为前级泵；.爱德华涡轮分子泵： -N2抽速：240 L/s； -极限真空（ISO）：6×10-8mbar； -强制空气冷却，35°C,环境温度：30sccm； -标称旋转速度：60000rpm； -待机旋转速度范围：33000-60000rpm； -可编程功率限制范围：50-200W -强制空气冷却的环境空气温度：5-35°C； -噪音级别：45dB(A)冷却方式包含有风冷和水冷两种方式可供提前选择；

一、英国Quorum公司介绍Quorum Technologies制造市场领先的科学仪器，用于电子显微镜（EM）样品制备。严格的EM样品制备是为客户提供清晰图像进行分析的唯一方法。Quorum Technologies 提供全系列高质量仪器在冷冻 SEM、溅射镀膜机、临界点干燥仪和辉光放电等样品制备技术。Quorum Technologies成立于2001年，但其产品品牌的历史可以追溯到更远的地方。最初的 Polaron Ltd 公司处于电子显微镜 （EM） 样品制备的最前沿，率先推出了扫描电子显微镜 （SEM） 溅射镀膜，并在 1970 年代初推出了第一台 SEM 临界点干燥机。 如今，Quorum Technologies 延续了这一优良传统，仍然是电子显微镜溅射镀膜、临界点干燥仪和冷冻 SEM 等样品制备技术的市场领导者。二、Quorum主要产品 1、 冷冻电镜样品制备系统（Cryo-SEM 样品制备）PP3010冷冻电镜（Cryo-SEM）样品制备系统是最新的冷冻扫描电镜技术，将高质量的结果与无与伦比的易用性相结合。PP3010 是一款高度自动化、柱式、气冷式冷冻 电镜样品制备和冷冻转移系统，适用于大多数品牌和型号的 W-SEM、FE-SEM 和 FIB/SEM。冷冻电镜 和 FIB/SEM 的冷冻样品制备技术对于观察生物样品、液体湿样品或光束敏感样本至关重要。使用冷冻电子显微镜消不需要采用化学法固定和临界点干等燥传统样品制备方法，能够观察天然水合状态的样本。Quorum还提供PP3005 SEM Cool和PP3006 CoolLok - 用于低温应用的部分低温样品制备系统，在这些应用中不需要PP3010的全套样品处理能力。1-1. PP3010—冷冻电镜（Cryo-SEM）和束扫描电子显微镜FIB-SEM的样品制备系统PP3010 是一款高度自动化、易于使用、柱式气体冷冻制备系统，适用于大多数品牌和型号的 SEM、FE-SEM 和 FIB/SEM。。PP3010具有快速冷冻、样品处理和转移所需的全部设施。低温样品制备室是采用涡轮分子泵，包含用于冷压裂、可控的自动升华和溅射镀膜的工具。样品处理后，将样品从冷冻制备室转移到高度稳定的SEM冷台上进行观察。用于冷冻制备室和 SEM 室中的冷阱确保整个样品制备过程无霜。PP3010冷冻电镜样品制备系统的主要特点w SEM, FE-SEM and FIB/SEMs的高分辨率性能w 完全气体冷却，包括冷冻制备室 - SEM 上无沸氮w 高效冷却（最低 -190º C）w 一次填充 LN24 的运行时间24小时以- 允许无人值守的夜间运行（在典型工作温度下）w 大驱动的触摸屏界面w 自动升华、涂覆和系统启动w 极佳的标本可视性w 完全兼容高达 5kV 的 SEM 光束减速/级偏置模式w 柱外冷却和泵送系统 – SEM 上的最小质量w 屏幕数据记录和诊断w 低温传输装置的抽水储存w Prepdek 工作站 – 独立的工作区，无需额外的工作台空间w 冷冻工作流程选项1-2. PP3006 coollock 用于SEM 和FIB/SEM 的冷冻转移系统PP3006 CoolLok 可对 SEM、FIB/SEM、光束线或其他真空系统的试样进行快速转移和低温温度观察。应用包括光束敏感试样的热保护和塑料、聚合物低介电介质和软硬混合物等材料的低温观察。该系统还可用于从手套箱中输送环境温度试样的惰性气体。1-3 PP3005 SEMCool 用于 SEM and FIB/SEM的非气闸冷却系统SEMCool基于PP3006 CoolLok，但没有PP3004 QuickLok组件。它专为不需要将样品气闸交换到显微镜中的低温应用而设计。PP3005 仅推荐用于预计不频繁更换试样的应用。为了获得更大的试样通量，将气闸插入 SEM 或 FIB/SEM 是必不可少的1-4 Coolstage – Peltier冷却的SEM 工作台冷却台是帕尔贴驱动的冷却台，用于扫描电子显微镜 （SEM）、低真空 （LV） 或变压 （VP） 应用。有三种型号可供选择，以满足不同的用户要求。

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低真空镀膜机 喷金仪|喷碳仪|蒸镀仪 Leica EM ACE200为SEM和TEM分析生产同质和导电的金属或碳涂层，之前从未有过比与Leica EM ACE200涂层系统更方便的设备了。配置为溅射镀膜机或碳丝蒸发镀膜机后，可以在全自动化系统中获得可重复的结果，实现了一台EM ACE200具有喷金仪，喷碳仪，蒸镀仪三种功能。如果您的分析需要这两种方法，徕卡显微系统在一台仪器中提供可互换机头的组合仪表。各个选项，如石英晶体测量、行星旋转、辉光放电和可交换屏蔽共同构成这台低真空镀膜机。 特点理想重现的结果运行自动化的进程，并协助参数设置。小巧紧凑设计紧凑，占地面积小节省了实验室空间。容易清洗具备可拆卸门、卷帘、内部屏蔽、光源、载物台。操作简便直观的触摸屏和一键式操作。

伯东公司授权代理德国普发pfeiffer 镀膜机-灵活设计适合技术研究、开发和生产,可实现高真空蒸发镀膜,磁控溅射镀膜,离子镀.Pfeiffer Classic 系列镀膜机（高真空镀膜系统）经过大量实验和技术知识积累研发设计,通过ISO 9001认证, ISO 14001认证,低能耗主要应用领域: 半导体,光学,微电子学,显示屏,光电工程,表面处理等行业.Pfeiffer 镀膜机主要型号包含:Pfeiffer Classic 250 镀膜机(科研,小型研发)Pfeiffer Classic 500 镀膜机(科研,小规模生产)Pfeiffer Classic 570 镀膜机 (批量生产)Pfeiffer Classic 580 镀膜机 (生产线大批量生产)Pfeiffer Classic 590 镀膜机 (高吞吐量,通用的制造系统,满足最高工业需求)Pfeiffer Classic 620 镀膜机 (最大吞吐量)伯东公司pfeiffer 德国普发镀膜机 Classic 500,选用pfeiffer分子泵 Hipace 700,可定制,我司将竭诚为您服务pfeiffer 德国普发镀膜机 Classic 500 技术参数:真空腔体容量150 l 内部尺寸500 mm高度575 mmDoor OpeningW x H 500 x 575 mm整机漏率1x10-5 mbar x l /s最终压力5x10-7 mbar高真空泵组(标准型)分子泵Hipace 700隔膜泵MD4旋片泵DUO 20真空测量全量程真空计电源电压3 x 400 V频率50/60 HZ水冷Chamber Usage approx (a)500 l/hPump Set Usage approx (a)15 l/h进气温度25 °C压力4 – 6 barIn- and Outlet Nipple3/4"Hot WaterChamber Usage approx (a)500 l/h进气温度70 °C压力4 – 6 barIn- and Outlet Nipple3/8"尺寸占地面积1.4 m2L x W x H1,4 x 1 x 1,9 m重量600 kg最大环境温度40 °C 伯东公司 主要经营产品 德国 Pfeiffer 涡轮分子泵, 干式真空泵, 罗茨真空泵, 旋片真空泵 应用于各种条件下的 真空测量(真空计, 真空规管) 氦质谱检漏仪；质谱分析仪；真空系统以及 Cryopump 冷凝泵/低温泵, HVA 真空阀门, Polycold 冷冻机和美国KRI 离子源. 若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请登录我们网站或与市场部: 叶女士联系

价格电议氦质谱检漏仪镀膜机检漏上海伯东代理德国 Pfeiffer 多功能多用途氦质谱检漏仪 ASM 340 成功应用于刀具镀膜机检漏。目前市场上常见的金黄色、钴铜色、黑色等钻头、铣刀、模具等，这些器具都是经过镀膜技术加工后的涂层工具。经过涂层处理后的硬质合金刀片可以延长刀具寿命并且满足一些特殊的应用，刀具上的颜色不同也就说明涂镀不同的涂层。镀膜机检漏原因：镀膜机需要在高真空环境下工作，真空度的好坏直接影响镀膜的品质。有时候镀膜机的真空度抽不下来或者真空度不好，可能是接头松动或者有焊缝出现虚焊。传统的检漏方法需要镀膜机停机，充氮气，再在怀疑有漏的地方涂上肥皂泡，整个过程耗时费力容易误判，对于细微的泄漏无法检测。上海伯东代理 Pfeiffer 氦质谱检漏仪利用氦气作为示踪气体，最小漏率小于 5E-13 Pa m3/s，安全环保，检漏时不需要停机，直接在真空泵的旁路接入检漏仪便可以快速高效的完成检测了。上海伯东刀具镀膜检漏客户案例：某客户引进 Platit 镀膜机加装分子泵 Hipace 1500，旋片泵 Duo 35 用于刀具镀膜，与友厂对比，Pfeiffer 真空泵在更短时间达到更高且稳定的真空度。镀膜机检漏方法：采用真空法检漏，镀膜机不需要停机，直接在真空泵的旁路利用波纹管接入检漏仪，在怀疑有漏的地方喷氦气，即可完成检漏。若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 欢迎联络上海伯东叶女士

磁控溅射镀膜机 - 紧凑，适合科研，极高性价比！型号：AP-MMS1产地：韩国原装进口 仪器特点：1/ 沉积材料：金属、氧化物等；2/ 膜厚均匀性：≤ ± 5 % (4英寸基底)；3/ 沉积方式：直流磁控溅射，射频磁控溅射；4/ 极限真空：5.0 x 10 -6 Torr； 技术规格：1/ 最大样品尺寸：6英寸；2/ 基底旋转：0~10rpm；3/ 不锈钢腔体，ID250 x H300 mm；4/ 真空泵：机械泵，150L/Min；5/ 靶枪：2英寸直径 (选配：3英寸)；6/ 直流电源：2KW(800V - 2.5A)；7/ 气体传输模块：MFC控制，氩气，100sccm；

1. 产品介绍磁控溅射镀膜机Sputter2. 应用领域巨磁电阻（GMR）、组合材料科学（CMS）、半导体、超导体、纳米级器件、光子学、光伏（PV）、OLED（发光二极管）、有机薄膜。3. 技术参数最大样品尺寸：8英寸溅射源：强磁靶、永磁靶，数量根据用户定制电源：直流电源、射频电压真空系统：超高真空 样品台加热：最高至1100℃控制系统：全自动控制 进样室：根据用户需求定制 4. 企业简介深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。致力于提供半导体制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。公司已授实用新型权利 29 项，软件著作权 14 项，是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。

SD-650MHT双靶磁控溅射仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备。双靶磁控溅射仪原理:　　磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子；新电子飞向基片，Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜，而产生的二次电子会受到电场和磁场作用，产生E（电场）×B（磁场）所指的方向漂移，简称E×B漂移，其运动轨迹近似于一条摆线。若为环形磁场，则电子就以近似摆线形式在靶表面做圆周运动，它们的运动路径不仅很长，而且被束缚在靠近靶表面的等离子体区域内，并且在该区域中电离出大量的Ar 来轰击靶材，从而实现了高的沉积速率。随着碰撞次数的增加，二次电子的能量消耗殆尽，逐渐远离靶表面，并在电场E的作用下zui终沉积在基片上。由于该电子的能量很低，传递给基片的能量很小，致使基片温升较低。SD-650双靶磁控溅射镀膜机参数：品牌品牌 : 北京博远微纳科技有限公司 型号: SD-650MHT 仪器主机尺寸: 长610mm×宽420mm×高220mm（注：含腔体总高720mm） 工作腔室尺寸： 金属腔体：直径260mm×高500mm（外尺寸 ） 直径210mm×高270mm（内尺寸） 靶头：双靶 靶材尺寸：直径50mm×厚3mm（因靶材材质不同厚度有所不同） 靶材料：标配一块直径50mm×3mm的铜靶及直径50mm×3mm的铝靶 靶枪冷却方式： 水冷 极限真空度: 5×10-5Pa（10分钟可到5×10-3Pa） 电源：直流恒流电源：输入电压：220V 输出电压：0-600v 输出电流：0-1.6A 射频电源和匹配器：功率500W。 载样台： 直径200mm 工作气体：Ar等惰性气体（需自备气瓶及减压阀） 气路： 气路可以通过电磁流量阀与手动阀联动控制。 水冷： 自循环冷却水机 膜厚仪 : 实时监测，触摸屏控制 可镀材料： 铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等 电源电压： 220V 50Hz 启动功率 3KW 【SD-650MHT安装 / 使用 环境】选择一个合适的仪器摆放位置：1、放置SD-650MT高真空磁控镀膜仪在一个长130cm,宽60cm的平面桌子上（桌子的承重需要在200KG以上）；2，放置“外置 旋转机械真空泵”及“冷水机”在一个合适的位置（地面 / 靠近镀膜仪主机）；3，系统总重量（镀膜仪、电器柜、选装泵、冷水机）约为208~240KG（选配不同），请确保有4人一起移动 / 搬运仪器；4，仪器的使用 / 运行环境温度为15~25摄氏度，相对湿度不超过75%；5,为仪器提供一个220V，16A的空开。6，确保使用 / 运行环境有足够的通风，并且避免阳光直接照射到仪器。7，氩气和氩气瓶解压阀需自备。