原位薄膜应力计

X射线透射显微成像/能谱（同步辐射）用氮化硅薄膜窗口 产品概述： X-射线薄膜窗能够实现软X-射线(如真空紫外线)的最大透射率。主要用于同步辐射X射线透射显微成像时承载样品。 X-射线越软(能量越低)，穿透能力越差，所需氮化硅薄膜窗越薄。特别在&ldquo 离轴&rdquo 状态工作（即薄膜与光束成一定角度）时，也需要较薄的薄膜窗口，便于X射线更好地穿透。 氮化硅薄膜窗口是利用现代MEMS技术制备而成，由于此种氮化硅窗口选用低应力氮化硅（0-250MP）薄膜，因此比计量式和ST氮化硅薄膜更坚固耐用。提供的氮化硅薄膜窗口非常适合应用于透射成像和透射能谱等广泛的科学研究领域，例如，X-射线（上海光源透射成像/能谱线站）、TEM、SEM、IR、UV等。 现在提供X-射线显微成像/能谱（同步辐射）用氮化硅薄膜窗系列产品，规格如下： 外框尺寸 (4种标准规格): &bull 5 mm x 5 mm (窗口尺寸：1.0 mm 或和 1.5 mm 方形) &bull 7.5 mm x 7.5 mm (窗口尺寸：2.0 mm 或 2.5 mm) &bull 10 mm x 10 mm (窗口尺寸：3.0 mm 或 5 mm 方形) 边框厚度： 200µ m、381µ m、525µ m。 Si3N4薄膜厚度：50、100、150和200nm 我们也可以为用户定制产品（30-500nm），但要100片起订。 本产品为一次性产品，不建议用户重复使用，本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。 技术指标： 透光度： 对于X射线用窗口，500nm厚的氮化硅薄膜有很好的X光穿透效果，对于软X射线（例如碳边吸收谱），100-200nm厚的氮化硅薄膜窗口是用户首选。 真空适用性： 真空适用性数据如下： 　 薄膜厚度 窗口面积 压力差 &ge 50 nm &le 1.0 x 1.0 mm 1 atm &ge 100 nm &le 1.5 x 1.5 mm 1 atm &ge 200 nm &le 2.5 x 2.5 mm 1 atm 表面平整度： 氮化硅薄膜窗口产品的表面平整性很稳定（粗糙度小于1nm），对于X射线应用没有任何影响。 温度特性： 氮化硅薄膜窗口产品是耐高温产品，能够承受1000度高温，非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米材料。 化学特性： 氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。 应用简介和优点： 1、 同步辐射X射线（紫外或极紫外）透射成像或透射能谱应用中是不可或缺的样品承载体。 2、 耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，利于制备理想的用于X射线表征用的自组装单层薄膜或薄膜（薄膜直接沉积在窗口上）。 3、 生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。 4、 耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。 5、 适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 同步辐射X射线应用参考文献：PRL

透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗口 产品概述： 与X射线用氮化硅窗口类似，透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗口也使用低应力氮化硅薄膜基底。但整体尺度更小，适合TEM装样的要求。窗口有单窗口和多窗口阵列等不同规格。同时NTI也定制多孔氮化硅薄膜窗口。 现在可以提供透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗系列产品，规格如下： 外框尺寸: &bull 3 mm x 3 mm (窗口尺寸：0.5 mm，薄膜厚度：30 nm) &bull 3 mm x 3 mm (窗口尺寸：1.0 mm，薄膜厚度：50 nm) 边框厚度： 200µ m、381µ m。 Si3N4薄膜厚度： 50nm、100nm 可以为用户定制产品(30-200nm)，但要100片起订。 本产品为一次性产品，不建议用户重复使用，本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。 技术指标： 表面平整度： 我们认为薄膜与其下的硅片同样平整， TEM用氮化硅薄膜窗口的表面粗糙度为：0.6-2nm。完全适用于TEM表征。 亲水性： 该窗格呈疏水性，如果样品取自水悬浮液，悬浮微粒则不能均匀地分布在薄膜上。用等离子蚀刻机对薄膜进行亲水处理，可暂时获得亲水效果。虽然没有对其使用寿命进行过测试，但预期可以获得与同样处理的镀碳TEM网格相当的寿命。我们可以生产此种蚀刻窗格，但无法保证其使用寿命。如果实验室有蚀刻工具也可对其进行相应的处理提高其亲水性能。 温度特性： 氮化硅薄膜窗口产品是耐高温产品，能够承受1000度高温，非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米材料。 化学特性： 氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。 应用简介和优点： 1、 适合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的对同一区域的交叉配对表征。 2、 大窗口尺寸，适合TEM大角度转动观察。 3、 无碳、无杂质的清洁TEM观测平台。 4、 背景氮化硅无定形、无特征。 5、 耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，（薄膜直接沉积在窗口上）。 6、 生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。。 7、 耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。 8、 适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 详细请咨询：021-35359028/ admin@instsun.com

TEM用氮化硅薄膜窗口氮化硅薄膜窗特点 低应力的8, 15 , 50nm厚的氮化硅支撑膜：50nm厚的薄膜具有最大的视野范围；8nm和15nm厚的无孔氮化硅薄膜适用于TEM超高分辨率的应用 氮化硅支撑膜：低应力的LPCVD非化学计量比氮化硅薄膜，良好的平整度、绝缘性和疏水性良好的化学稳定性：图像分辨率和机械强度达到理想的平衡 均匀性：减少了不同区域的不均匀性 TEM断面成像应用的特殊窗口：适用于倾斜断层成像的0.5x1.5mm大窗口，倾斜度最大可达75° 多窗口系列：2窗口，0.1x1.5mm；3x3系列，0.1x0.1mm 可应用于多种显微技术：良好的机械稳定性使得同一种薄膜可应用于TEM, SEM, EDX, XPS and AFM 薄膜和基底耐酸，不会被溶解：可以在酸性条件或常规条件下研究、制备样本 可应用于高温试验环境： 1000°C 可提供更对精确的分析，如样品中的碳含量，减少污染：可用于无碳环境中的TEM成像和分析 容易清洗：机械稳定性和化学稳定性使得薄膜很容易采用辉光放电或等离子清洗，无有机物残留，改善成像质量 良好的平整度：良好的纳米沉积基底和薄膜，无背景结构适合于SEM成像 超净加工，防止支撑膜上残留微粒：100级的超净间内包装 框架厚度：200 and 50μm ：200μm是标准的TEM支撑架；50μm是特殊的TEM支撑架 标准框架直径为3mm 同一批次的氮化硅薄膜窗具有相同的特性氮化硅薄膜窗规格单窗口系列窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度20nm500x500μmΦ3mm100μm20/50nm500x500μmΦ3mm200μm50nm1000x1000μmΦ3mm200μm50nm100x100μmΦ3mm200μm15nm0.25x0.25mmΦ3mm200μm50nm0.25x0.25mm 0.5x0.5mm0.75x0.75mm1.0x1.0mmΦ3mm200μm200nm0.25x0.25mm 0.5x0.5mm0.75x0.75mm1.0x1.0mmΦ3mm200μm15/50/200nm0.25x0.25mmΦ3mm50μm50nm/200nm0.5x1.5mmΦ3mm50μm 多窗口系列窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度50nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm200μm15nm/50nm/200nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm200μm50nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm50μm10nm/20nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm100μm10nm3x3阵列，8个窗口250X250μm，1个窗口250X500μmΦ3mm100μm20nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm200μm50nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm100μm15nm/50nm/200nm3x3阵列，窗口100X100μm，Φ3mm200μm50nm3x3阵列，窗口100X100μm，Φ3mm50μm8nm单窗口，窗口大小：0.6×0.6mm；25个网格，氮化硅支撑膜200nm；网格上的氮化硅薄膜8nm；网格大小：75μm ，网格间距：25μm；Φ3mm200μm 应用简介： 1、适合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的对同一区域的交叉配对表征。2、大窗口尺寸，适合TEM大角度转动观察。3、无碳、无杂质的清洁TEM观测平台。4、背景氮化硅无定形、无特征。5、耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，（薄膜直接沉积在窗口上）。6、生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。7、耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。8、适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 详细资料请咨询：021-35359028/ admin@instsun.com

TEM用液体原位芯片由于电镜需要真空环境的特点，正常情况样品只能做真空环境下静态电镜分析。运用新技术生产的液体芯片可将待测液体样品封闭起来，并通过氮化硅薄膜窗口做动态观测。基于氮化硅薄膜的液体原位芯片。它可以用作液体原位TEM观测。L-300液体芯片由上芯片和下芯片组合而成，芯片中间有10×50μm氮化硅薄膜观察窗口，下芯片左右两侧各有一个液体滴加口。上下两枚芯片由密封胶粘合在一起，中间有一个微型液体腔室。原位实验时首先在液体滴加口滴入待测液体，等待待测液体在浸润通过微型液体腔室并从另外一个液体滴加口渗出。再使用环氧树脂密封两个液体滴加窗口，待胶固化后即可进行原位液体观测。 ZB-NS0300 液体芯片使用说明 ZB-NS0300 液体芯片是用环氧树脂胶将上芯片和下芯片粘合在一起组合而成，中间形成微型液体腔室。芯片中间有 10um x 10um x 30nm 的氮化硅薄膜观察窗口，背面左右两侧各有一个液体滴加口。准备工作：待测液体、微量进样器、镊子、双面胶（固定芯片）、吸气装置（注射器针头带有橡胶圈）、胶（环氧树脂胶或指甲油）。待测液体封装流程： （示意图如第二页所示）1. 取出芯片，翻转芯片，使用双面胶将芯片固定在实验台上；2. 使用微量进样器向液体滴加口滴加待测液体；3. 将抽真空注射器插入另一液体滴加口；4. 向下按压橡胶使其尽量与芯片紧密贴合；5. 缓慢吸拉注射器， 观察左侧滴加口的液体是否减少，若没有减少，按住橡胶，继续缓慢吸拉注射器；6. 使用胶密封液体滴加口，胶干燥后即可进行原位液体观测。 ZB-NS0300原位TEM液体芯片剖面图 ZB-NS0300原位SEM液体芯片剖面图

X-ray应用薄膜窗口（X-Ray Windows）有两种薄膜，低应力lpcvd氮化硅膜具很强机械强度，适合高温和差压环境；G-FLAT™ 氧化硅膜平坦无褶皱，非常适合x射线显微镜和需要无氮气背景的分析。这些薄膜窗口是X射线显微镜和x射线光谱学技术的理想衬底，经过等离子清洗，无有机污染。平坦、均匀沉积的薄膜具有低场到场可变性和高x射线透射性。G-FLAT™ 氧化硅膜窗口，适合生物成像研究，具有玻璃状亲水表面。外框硅材质，外框大小5*5mm，框厚310μm，膜厚度300nm。无褶皱，与超高真空(UHV)应用兼容。LPCVD氮化硅膜窗口，外框大小5*5mm，框厚320μm，200 MP 低应力无孔氮化硅。产品信息：货号产品描述窗口(Sq.)膜厚规格76042-10G-FLAT™ SiO X-Ray Window500μm100nm20/pk76042-11G-FLAT™ SiO X-Ray Window500μm300nm20/pk76042-12Silicon Nitride X-Ray Window500μm50nm20/pk76042-13Silicon Nitride X-Ray Window1000μm50nm20/pk76042-14Silicon Nitride X-Ray Window500μm100nm20/pk76042-15Silicon Nitride X-Ray Window1000μm100nm20/pk76042-16Silicon Nitride X-Ray Window 1500μm200nm20/pk76042-17Silicon Nitride X-Ray Window2500μm200nm20/pk

TEM 原位液体芯片产品说明产品名称：Nano-VIEW Cell 产品编号：ZB-CG0010用途：原位 TEM 观测化学反应过程，原位 TEM 观测生物活体细胞/菌落等，可封装液体，制样方便，结果清晰。简介及使用方法：本款产品为密封式芯片，由上下两片具有氮化硅薄膜窗口的芯片组成，氮化硅膜厚度为 50nm。制样时，将待观测液体滴加在“Out-frame”的“liquid tank”中，再将“In-frame”扣在“Out-frame”之上（Au spacors 朝下），组成上图中最右图所示结构；再使用 AB 胶绕“In-frame”外缘将其与“Out-frame”粘接在一起，完成密封过程。 芯片密封之后，其外切圆尺寸为 3mm。使用案例：在 TEM liquid cell 中原位观测 Ag 纳米线与 S 纳米颗粒的反应过程，配方如下：原料：Ag 纳米线（1mol/L 于乙醇中）、 S 的乙醇饱和溶液制样过程：将 Ag 纳米线/乙醇溶液与 S 的乙醇饱和溶液混合后，取约 1μL 溶液滴加在 liquid tank 中，将两片芯片叠盖在一起，用胶将其外缘密封，封片观察。结果：随着观测时间的增加，可明显观察到 Ag 纳米线的缺陷的产生、逐渐生成 Ag2S 的过程。

TS 600 Tensile Stage 是一个在纤维、箔材和薄膜中应力/应变现象的原位 X 射线衍射研究的全新的，先进的样品台。这是第一台专门设计用于材料在机械负荷下结构变化的原位 XRD 研究的商用样品台。由于其体积小，重量轻，该仪器可用于同步加速器和实验室 X 射线衍射仪。而且，还可在透射和反射模式中工作以获取应力和应变方面中的新数据。

薄膜拉力测试仪、塑料薄膜拉伸强度检测、塑料薄膜剥离测试仪介绍：LQJ211万能材料试验机有着超大数显控制系统-为主机曲线、力值、速度和变形动态显示，加上电脑可实现微机操作，参数随意设定，可以做不同材料30KN以内的拉伸、压缩、弯曲、剥离、撕裂、剪切、刺破、低调疲劳等多项力学试验.可根据国际标准ISO.JIS.ASTM.DIN等国际标准和国外标准进行试验和提供数据.以windows操作系统使试验数据曲线动态显示,试验数据可以任意删加,对曲线操作更加简便.轻松.随时随地都可以进行曲线遍历.叠加.分离.缩放.打印等全电子显示监控. 薄膜拉力测试仪、塑料薄膜拉伸强度检测、塑料薄膜剥离测试仪技术参数 Main specifications 1、最大负荷Load Accuracy： 30KN（任意选） 2、荷重元精度Load Accuracy： 0.01% 3、测试精度Measuring accuracy： ± 0.5% 4、操作方式Control： 全电脑控制,windows模式操作 5、有效试验宽度Valid width： 约420mm 6、有效拉伸空间Stroke： 约800mm 7、试验速度Tetxing speed : 0.001~500mm/min 8、速度精度 Speed Accuracy：: ± 0.5%以内； 9、位移测量精度Stroke Accuracy： ± 0.5%以内； 10、变形测量精度Displacement Accuracy： ± 0.5%以内 11、安全装置 Safety device： 电子限位保护，紧急停止键 Safeguard stroke 12、机台重量Main Unit Weight ： 约140kg

薄膜固相微萃取，简称TF-SPME或Thin Film SPME，是把吸附相涂在碳网片上的固相微萃取新技术，由加拿大皇家科学院院士以及滑铁卢大学的Janusz Pawliszyn教授发明，用于分析痕量的VOSs和SVOCs等挥发性有机物。TF-SPME通过增加萃取相体积和表面积，不牺牲分析时间的同时，大大提高了灵敏度，解决了传统固相微萃取过程中所存在的吸收速率和吸收能力限制的问题，是?种应用?泛的提取浓缩新技术，与GC/MS联用，特别适用于食品、香料、饮料和环境监测等?业。TF-SPME较SPME更为坚固耐用，可用于现场采样，对于环境较恶劣的样品兼容性强，可用于污水，湖水等目标待测物的萃取，同时还可用于食品风味物质的检测，萃取量大，萃取时间短，萃取完成后的TF可通过溶剂反萃或热脱附设备解吸，再进入气质系统中检测，是一种环境友好型采样设备和分析方法，促进绿色分析化学的应用。 产品详情：提供两种规格：20mm x 4.8mm，40mm x 4.8mm三种吸附剂： PDMS、PDMS/DVB和PDMS/HLB 产品特点：适用于更宽极性和非极性范围的化合物，适用于痕量挥发性有机物更大的相表面积/体积比，萃取效率高，灵敏度高坚固的膜设计适合于环境样品的采样无溶剂萃取的绿色环保技术 应用领域l 环境原位采样（如水中农药残留，多环芳烃 环境空气VOCs）l 食品香气成分（如饮料，肉类，酒类，奶制品）l 植物挥发性气味（如天然植物，烟草，中草药）l 生物样品（如唾液，汗液，尿液）

试验机薄膜穿刺夹具 特点： 适用范围：薄膜穿刺试验

公司简介英诺德（INNOTEG）是一家专业从事科学仪器设备研发生产的高科技企业，是集实验室设备研发生产、方法开发、实验室仪器销售和技术服务为一体的专业厂家。此外，英诺德还与各大科研院所、高校合作，积极推进科技成果项目的产业化。于2020年3月1日起全面推出TF-SPME产品，拥有专业团队为客户提供多种应用方案，专业的售后团队提供服务，为您的分析检测保驾护航。 TF-SPME简介薄膜固相微萃取，简称TF-SPME或Thin Film SPME，是把吸附相涂在碳网片上的固相微萃取新技术，由加拿大皇家科学院院士以及滑铁卢大学的Janusz Pawliszyn教授发明，用于分析痕量的VOSs和SVOCs等挥发性有机物。TF-SPME通过增加萃取相体积和表面积，不牺牲分析时间的同时，大大提高了灵敏度，解决了传统固相微萃取过程中所存在的吸收速率和吸收能力限制的问题，是?种应用?泛的提取浓缩新技术，与GC/MS联用，特别适用于食品、香料、饮料和环境监测等?业。 产品详情INNOTEG 薄膜固相微萃取 TF-SPME，较SPME更为坚固耐用，可用于现场采样，对于环境较恶劣的样品兼容性强，可用于污水，湖水等目标待测物的萃取，同时还可用于食品风味物质的检测，萃取量大，萃取时间短，萃取完成后的TF可通过溶剂反萃或热脱附设备解吸，再进入气质系统中检测，是一种环境友好型采样设备和分析方法，促进绿色分析化学的应用。提供两种规格：20mm x 4.8mm，40mm x 4.8mm三种吸附剂： PDMS、PDMS/DVB和PDMS/HLB 产品特点● 适用于更宽极性和非极性范围的化合物，适用于痕量挥发性有机物● 更大的相表面积/体积比，萃取效率高，灵敏度高● 坚固的膜设计适合于环境样品的采样 ● 无溶剂萃取的绿色环保技术 应用领域● 环境原位采样（如水中农药残留，多环芳烃；环境空气VOCs）● 食品香气成分（如饮料，肉类，酒类，奶制品）● 植物挥发性气味（如天然植物，烟草，中草药）● 生物样品（如唾液，汗液，尿液）色谱采购节期间限时巨惠！活动期间（2021.7.12-7.26），购买德祥色谱采购节专区产品都将获得①累积订单金额满99999元 送Heidolph顶置搅拌器（价值4999元） 1台 ②累积订单金额满59999元 送 Bel-Art“SPACE SAVER”聚碳酸酯真空干燥器，白色聚丙烯底部；0.31 立方英尺（价值2000元左右）1台 ③累积订单金额满19999元 送 1000元抵用券1张（仅用于英诺德通用色谱耗材单次使用） ④累积订单金额满5999元 送 200元抵用券1张（仅用于英诺德通用色谱耗材单次使用） ⑤累积订单满1999元 送 99元抵用券1张（仅用于英诺德通用色谱耗材单次使用）*注：抵用券为慧淘科仪商城抵用券限时活动，不容错过！

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薄膜厚度测量系统配件是一种模块化设计的薄膜厚度测量仪，可灵活扩展成精密的薄膜测量仪器，可在此基础上衍生出多种基于白光反射光谱技术的薄膜厚度测试仪，比如标准吸收/透过率，反射率的测量，薄膜的测量，薄膜温度和厚度的测量。薄膜厚度测量系统配件：核心模块----光谱仪；外壳模块----各种精密精美的仪器外壳；工作面积模块----测量工作区域；光纤模块----根据不同测量任务配备各种光纤附件；测量室-/环境罩---给测量带去超净工作区域。薄膜厚度测量仪核心模块---光谱仪孚光精仪提供多种光谱仪类型，不同光谱范围和光源，满足各种测量应用

薄膜偏振片英文名Thin film polarizer，薄膜偏振片是一种介质镀膜偏振片把s光和p光分开，适合高功率激光或高能量激光应用，适合内腔和外腔应用。布儒斯特型薄膜偏振片又叫Thin film polarizer,布儒斯特角偏振片，是一种适合高能激光应用的偏振片，损伤阈值高达10J/cm2 @1064nm 8ns. 薄膜偏振片常常作为格兰泰勒棱镜和偏振立方分束器（偏振立方体）的替代用品使用。常用的基质材料是BK7和紫外熔炉石英。56度入射角（布儒斯特角）情况下的 偏振比值Tp/Ts=200：1.特点：1）薄膜偏振片,Thin film polarizer有效地分开s光和p光 2）薄膜偏振片,Thin film polarizer配备有库存，可以立刻发货。薄膜偏振片标准参数 材料：BK7, UVFS直径公差：+0.0/-0.12mm厚度公差：+/-0.2mm净孔径：90%表面质量： 20-10 scratch&dig表面平整度：Lambda/10 @633nm平行度：30arec sec 消光比Tp/Ts：200:1典型透过率： Tp90%典型反射率：Ts99.5%激光损伤阈值： 5J/cm2 10ns 1064nm现有产品：266nm,343nm, 355nm, 400nm, 515nm, 532nm,780nm, 780-820nm, 795-805nm,940nm980nm, 1020-1040nm, 1064nm, 1550nm偏振片中国领先的进口精密激光光学器件旗舰型服务商--孚光精仪！

Atlas™ 标准薄膜制样机与高温薄膜制样系统Specac的等厚度薄膜制样工具主要用于高分子材料的光谱测定，根据热压制膜原理，所得到的样品是纯样品，谱图中只出现样品信息。Specac公司为满足客户的不同需求，提供三种等厚度薄膜制样工具，不仅可以将较厚的聚合物变成更薄的薄膜，还能将粒状，块状或板材，如药包材料，包装材料，特殊包裹材料等不规则的聚合物变成可以检测的薄膜。 GS15800高温薄膜制样系统技术参数： 最高操作温度高达400℃ 满足高端科研的要求 一周期40分钟 通过CE安全认证 集成的供热制冷设备? 2T的载荷极限 0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250, 0.500mm 薄膜直径29mm 压力范围0-2吨 一体式加热盘系统 双数字显示，精度1度 安全切换装置：70℃ 切断加热希同/55℃ 重启加热系统 一体式冷却盘高温薄膜制样机P/N GS15800有一组加热板是嵌入到薄膜制样机中的，所以当P/N GS15800装载在压 片机上时， 是不需要额外的Atlas 加热压盘P/NGS15515的。订购信息GS15640标准薄膜制样机特点：独立加热压盘，满足不同直径薄膜需要独立冷却盘，可缩短制膜周期重现性哈，制备过程简单 制膜过程无需化学品，成本低6种不同厚度的垫圈，适合各种高分子材料技术参数： 操作温度高达300℃ 一周期30分钟 4T的载荷极限 0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250, 0.500mm 薄膜直径29mm 双数字显示，精度℃ 可配套加热板P/N GS15515使用 冷却系统停止时切断加热系统 冷却水流速大于0.2/min时重启加热系统 独立冷却盒订购信息GS15640 Atlas™ 标准薄膜制样机包括: 0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250和0.500 mm 垫圈铝膜 直径40mm(200 片)Specacards 卡夹式，圆形通光孔直径10mm，样品架(20张)不锈钢镊子GS15800 Atlas™ 高温薄膜制样系统包括: 0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250and 0.500 mm 垫圈铝膜直径40mm(200 片)制作铝膜样品杯的工具Specacards 卡夹式，圆形通光孔直径10mm，样品架(20张)不锈钢镊子高稳定性及高精度的温度控制器(400℃) 薄膜制样套装GS15631 Atlas™ 标准型薄膜制样套装1包括: 薄膜制样系统(GS15640) 加热板和加热压盘以及数字全自动温控器(300°C) (GS15515)GS15633 Atlas™ 标准型薄膜制样套装2包括: 薄膜制样系统(GS15640)加热板和加热压盘以及数字温控器(300oC) (GS15515)15T手动液压机(GS15011)(对于GS15800,GS15631和GS15633，请指定220V或110V电压和使用的国家。)GS15800 Atlas™ 高温薄膜制样系统套装 包括: 高温薄膜制样系统(GS15800) 15T手动液压机(GS15011)(请指定220V或110V电压和使用的国家。)备件及耗材GS03800 卡夹式，圆形通光孔直径10mm，样品架 (100张/盒)GS03805 用于固定易伸缩薄膜样品的尼龙卡簧(20)GS03810 10mm x 25mm 矩形通光孔Specacards (100)GS03820 磁性薄膜样品架 圆形通光孔直径25mmGS15627 直径为40mm的铝膜(200)GS15641 冷却盒 用于标准薄膜制样系统 替换GS15642 标准薄膜制样压盘套装GS15629 标准薄膜制样机可替换的垫圈组件GS15805 高温薄膜制样机可替换的垫圈组件

可变角原位25次衰减全反射ATRFT-IR或色散仪高灵敏度ATR检测特点 入射光30°-60°可调 25次反射 适用于FT-IR或色散仪 样品架配两个引脚 标准 3” x 2” 样品架盘 多种晶体可选 可互换样品架(固体，液体，凝胶)25 次反射 ATR可变入射光25次反射ATR (P/N GS11000)是一款竖直方向的ATR晶体附件，入射光在30度-60度快速简单可调。通过调整样品架及晶体装置到适宜的位置，架体后方保持与刻度板设定角度相符。标准晶体架(P/N GS11001)用于固体样品，可选配液体架(P/N GS11003)及凝胶架(P/N GS11002)。为测量25次反射需保证样品覆盖梯形晶体正反两面。KRS-5是标配的ATR附件晶体，可选配一系列其他晶体如：ZnSe, Ge 及Si 以扩展样品操作能力及附件研究范围。四块反射镜通过调整角度及倾斜度反射、收集晶体的红外光。附件配备标准的3” x 2”架盘适配于市面上仪器的样品室，另外底座一角配备了支撑脚。支撑脚高度可调，保证附件在样品室内的平稳。支撑脚可通过翼形螺母锁住应用? 固体? 液体? 凝胶? 涂层及薄膜多深度研究订购信息GS11000 入射光可调25次反射ATR附件含固体架及45度角KRS-5 晶体可选配件GS11001 25次反射ATR固体架GS11002 25次反射ATR凝胶架GS11003 25次反射ATR液体架耗材GS11004 KRS-5 晶体 (45°) GS11006 Ge 晶体(45°)GS11009 Si 晶体(45°)GS11014 ZnSe 晶体(45°)GS11008 PTFE 垫圈液体架用（1大、1小，5套）

1，适用于测试玻璃，薄膜等透明固体样品2，适用于本公司所有常规型号光度计

FEP薄膜：也叫特氟龙薄膜，聚全氟乙丙烯薄膜；其特征主要有：1、耐高低温:-200～205℃ ，外观透明如保鲜膜，使用方便，环保；2、具有不粘性,拼水,拼油:水接触角θ=114о 电可靠性，高绝缘，不漏电；3、高透明度:透明度参考家用保鲜膜，对紫外线、可见光有很好的穿透性；4、耐强酸强碱，耐各种有机及无机化学溶剂，丙酮、醇类等各种腐蚀性溶剂；5、多作为封口膜，用于密封一些强腐蚀型瓶口；隔离实验室的一些腐蚀性溶剂；6、典型用途实例：中科院地化所常用来野外考察收集样品时，接收雨水用，通常会配套我公司同系列的FEP 透明管使用；品名宽度（mm）厚度mmFEP薄膜 200-2500.02-0.0150.03-0.040.05-0.150.15-0.2可按照客户要求生产250-280250-300300-35050060080010001200 FEP材质其他产品FEP取样瓶、容量瓶、洗瓶、滴瓶、消解瓶、消解管、离心管、薄膜、移液管、透明管、烧杯、分液漏斗，其他实验室常用器皿耗材等等。

成卷的或预先切成方形或圆形的Prolene，超聚酯，聚丙烯，Mylar，聚碳酸脂和聚酰亚胺样品支撑薄膜。 成卷的薄膜(7.6cm×15.2m） 正方形薄膜（63.5mm×63.5mm） 圆形薄膜（直径63.5mm） 多孔聚丙烯薄膜（6.4cm×5.1m）

迷你薄膜制样套装一款5分钟就能实现红外透射分析专用的聚合物薄膜制样机特点：液压机与加热压盘以及温控器一体化的设计体积小巧，方便存储，携带薄膜重现性好，使用快捷 无需化学品，成本低,6种不同的垫圈这种设计允许加热板先进行预加热，温度升高至样品所需的熔点，并保持这个温度。样品在被引入到预加热板之前，薄膜制样机就可以独立的为几克的样品准备好相应的载荷和合适的定型圈。当薄膜制样机达到预设温度并稳定后，通常使用0.5T负载转动丝杆来热压薄膜。一旦从热压机上移走，低温块体薄膜制备制样机可以在冷却板上快速冷却到室温，压制成型的薄膜可以移除。薄膜样品可被镶嵌在一个3×2英寸的自粘帖卡片(Specacard) 上以用于红外透射光谱分析使用。与传统方法相比，这个过程可缩短薄膜制备的周期，实际上，制作一个薄膜样品的周期可小于5分钟。如何制备薄膜样品放置好隔热板, 选择好定型圈和较小的铝膜，放到下方组件上。1) 将样品放到铝膜的中央位置，然后在上面覆盖上较大的铝膜和上方组件2) 将准备好的以上组件整体放置到预加热板平面间，再施加1T位的载荷。3) 一旦样品完成压缩从压片机取出，分开组件，小心的将铝膜从样品上剥离。4) 制成的薄膜放入Specacard，然后一同放置到光谱仪器中进行分析。 技术参数： 快速，可重复的制备薄膜样品 样品熔点范围从室温到260℃ 标准薄膜厚度15,25，50, 100,250和500μm 直径15mm 压力范围0-2吨 制样包包括液压机和集成的加热板 周期5分钟 加热压盘直径25mm 加热压盘最大功率：35W 温度控制器：双数字显示，精度1℃ 加热压盘可调距离0-20mm 独立冷却盘 重量5.7kg 订购信息 迷你薄膜制样套装 GS03970 迷你薄膜制样套装 备件及耗材 GS03971 迷你薄膜制样组件 (包括压板组件，隔热板， 下压板组件，定型圈组件) GS03972 定型圈(15, 25, 50, 100, 250 和500 μm GS03973 铝膜(200 对) GS03974 迷你薄膜制样机冷却板 GS03975 迷你薄膜制样机压板(包括上压板，隔热板，下压板) GS03800 Specacards (100包) 直径10mm的圆形通光孔 GS15628 不锈钢镊子

聚合物薄膜测厚仪配件用于测量聚合物薄膜、有机薄膜、高分子薄膜和 光致抗蚀剂薄膜, 光刻胶膜,光刻薄膜,光阻膜在加热或制冷情况下薄膜厚度和光学常量（n, k)的变化。为了这种特色的测量，孚光精仪公司特意研发了专业的软件和算法，使得该聚合物薄膜测厚仪能够给出薄膜的物理化学指标：例如玻璃化转变温度 glass transition temperature (Tg)，热分解温度，薄膜的厚度测量范围也高达10nm--100微米。聚合物薄膜测厚仪配件在传统薄膜测厚仪的基础上添加了加热/制冷的温度控制单元，使用白光反射光谱技术（WLRS)，实时测量薄膜厚度和折射率，并通过专业软件记录下这些数据，能够快速实时给出薄膜厚度和薄膜光学常量等物理化学性能数据，并且能够控制薄膜加热和制冷的速度，是聚合物薄膜特性深入研究的理想工具。干膜测厚仪所使用的软件也适合薄膜的其他热性能研究，例如：薄膜的热消融/热剥蚀thermal ablation研究，薄膜光学性质随温度的变化，薄膜预烘烤Post Apply Bake，光刻过程后烘烤 Post Exposure Bake对薄膜厚度的损失等诸多研究。对于薄膜的厚度测量，这款聚合物薄膜测厚仪,薄膜热特性测厚仪要求薄膜衬底是透明的，背面是不反射的。它能够处理最高4层薄膜的膜堆layer stacks，给出两个参数：例如两个薄膜的厚度或一个薄膜的厚度和光学常量。这套聚合物薄膜测厚仪,薄膜热特性测厚仪已经成功应用于测量不同聚合物薄膜的热性能，光刻薄膜的热处理影响分析，Si晶圆wafer上的光致抗蚀剂薄膜分析等。聚合物薄膜测厚仪配件参数 可测膜厚： 5nm-150微米；波长范围：200-1100nm 精度：0.5%分辨率：0.02nm 测量点光斑大小：0.5mm可测样品大小：10-100mm计算机要求：Windows XP, vista, Win7均可，USB接口；尺寸：360x400x180mm重量：13.5kg 电力要求：110/230VAC聚合物薄膜测厚仪配件应用聚合物薄膜测量光致抗蚀剂薄膜测量化学和生物薄膜测量，传感测量光电子薄膜结构测量 半导体薄膜厚度测量在线测量光学镀膜测量聚合物薄膜厚度测量polymer films测量测量有机薄膜厚度测量光致抗蚀剂薄膜测光刻胶膜测厚测量光刻薄膜厚度测量光阻薄膜测厚测量光阻膜厚度

薄膜溶解测量仪用于实时监测薄膜在液体过程中的薄膜厚度和光学常量（n, k)的变化，是全球领先的薄膜溶解测量仪和薄膜溶解测试仪。为了这种特色的测量，孚光精仪公司特意为薄膜溶解测量仪研发了Teflon样品池用于测量薄膜样品，使用一种岔头探针水平安装在Teflon 样品池的外部，距离玻璃窗口非常接近，使用白光反射光谱技术（WLRS)，实时测量薄膜厚度和折射率，并通过专业软件记录下这些数据。另外，根据需要，我们还能够在测量区域下安装搅拌装置stirrer，提供力学激励振动。孚光精仪还特意为薄膜溶解测量仪提供垂直的样品夹具，以固定小尺寸的硅样品或3' ' ，4' ' 直径的Si 晶圆。根据溶解过程的不同，如溶解速度的不同，它能够以实时或离线的方式测量，反射率数据都能够存储下来以便后续处理使用。还能够测量几十个纳米厚度的光致抗蚀剂和聚合物薄膜堆的溶解过程，而且还可以测量薄膜的膨胀等特殊现象。对于薄膜厚度的测量，薄膜溶解测厚仪需要光滑，具有反射性的衬底，对于光学常数测量，平整的反射衬底即可满足测量需要。如果衬底是透明的，衬底的背面不能具有反射性。能够给出两个参数：例如两个薄膜的厚度或一个薄膜的厚度和光学常量，已经成功应用于测量反射衬底（Si晶圆）上各种光滑，透明或轻度吸收薄膜的溶解过程，可研究的薄膜包括SiO2薄膜,SiNx薄膜,光致抗蚀剂薄膜，聚合物薄膜层等。薄膜溶解测量仪参数 可测膜厚： 5nm-150微米；波长范围：200-1100nm 精度：0.5% 分辨率：0.02nm 测量点光斑大小：0.5mm可测样品大小：10-100mm计算机要求：Windows XP, vista, Win7均可，USB接口；尺寸：360x400x180mm重量：15kg 电力要求：110/230VAC薄膜溶解测量仪应用：聚合物薄膜光致抗蚀剂薄膜测量化学和生物薄膜测量，传感测量光电子薄膜结构测量 在线测量光学镀膜测量 能够以实时或离线的方式测量，反射率数据都能够存储下来以便后续处理使用。

【固相萃取薄膜片 螯合物】固相萃取薄膜片螯合物是导入了亚氨基二乙酸基的聚合物基薄膜滤片。如使用螯合物薄膜片，可以高效率地将水中的多价金属阳离子萃取出来。由于其在碱金属基体中，也同样有着对于迁移金属的高选择性，因此，其对于海水中的重金属前处理，以及对于酸分解处理液实施淡化浓缩方面都有着非常优异的效果 特　长◆有着对于重金属的高选择性。迁移金属＞碱土类金属＞＞＞碱金属Pb＞Cu＞Cd＞Co＞Fe＞Ca＞Sr＞＞＞K、 Na◆不使用有害的有机溶剂。较之于以往的液／液萃取，可迅速且简单地萃取出重金属。 ◆可高效率地浓缩重金属。只需通过简单的过滤操作，即可对重金属实施浓缩。与加热板浓缩相比，可以大大缩短作业时间。◆薄膜片内无偏差不稳定问题。由于薄膜片内无偏差不稳定问题，因此可在薄膜片表面均一地浓缩重金属类。为此，作为对荧光X线之类固体试样实施非破坏分析之类装置的前辅助处理，是最为适用的。 使用领域◆可作为环境水中的重金属测定之前处理 ◆可用于海水中重金属的脱盐处理及浓缩◆可用于提升水的荧光X线的灵敏度 ◆实现水试样搬运时的轻量化目的（搬运所捕集的薄膜片） ◆在节省空间的前提下实现对金属用水试样的中期保管之目的◆作为食品中重金属测定的前处理【薄膜片型（适合于大容量样品）】 品　　名直　径包装单位（枚）Cat.No.　固相萃取薄膜片 螯合物47mm205010-3005590mm105010-30056

chemplex样品薄膜型号：090，250品牌：chemplex产地：美国 一、产品介绍： 在用x荧光光谱仪进行rohs检测，weee检测和一般材料成分分析时，由于样品的不规则（特别是液体、粉末等），需要借助样品杯和薄膜辅助检测；但不合适的样品薄膜往往造成样品污染并影响材料成分分析的x射线信号和检测结果。选择适当的薄膜材料对于分析结果至关重要。 在现有的众多不同的物质类型中，只有为数不多的几种具备能满足光谱化学需要的一致性和化学、物理属性。 如何选择薄膜样本支撑窗材料？适当的薄膜样本支撑窗的选择主要以满足首要重要的实验室要求为基础： 使用方便快捷； 避免造成待测样品污染； 优越的分析物透射比与强度； 对待测样品的耐化学性。chemplex industries有限公司专业从事样品前处理设备、耗材研发和生产的公司，是x射线光谱仪（xrf）配件耗材领域的全球知名厂商。chemplex xrf样品杯和样品薄膜用于rohs、weee专业测试仪器盛放小颗粒固体，粉末，液体，适用于各种品牌的x射线荧光光谱仪。chemplex样品薄膜薄膜张力特性极/佳，与样品杯组合使用，适合盛放各类金属重物、液体或粉末。对特别配制的塑料和保持其物理和化学属性一致性的特别关注，使得chemplex xrf样本杯、样品薄膜在xrf物质成分分析应用范围和性能上无与伦比。chemplex的许多xrf样本杯、样品薄膜被列为新颖独特的设计和应用，并被美国专利商标局授予知识产权地位。美同达作为美国chemplex公司的中国代理商，提供chemplex所有系列用于对应欧盟rohs和weee环保检测仪器——x射线荧光光谱仪（xrf）的检测实验消耗产品！我们不仅能够为您提供样品薄膜、样品杯, 还可根据您的样品应用为您选择、定制合适的样品薄膜、样品杯。 二、适用仪器：德国斯派克spectro、英国牛津oxford、日本堀场horiba、飞利浦/帕纳科philips/panalytical、德国布鲁克 bruker、美国赛默飞世尔科技（热电）thermo，瑞士arl及日本理学rigaku, siemens, spectrace,jordan, kevex, metorex,fisons, asoma，venus 200,valley等生产的x荧光光谱仪(xrf)。（适用x 射线荧光光谱仪品牌型号：所有x射线荧光光谱仪包括：尼通(niton)：xlt797z 、xlt794、xlt898 ；伊诺斯(innov-x)：alpha6000；牛津(oxford)：met-5000；帕纳科(panalytical)：minipal4、 minipal2；精工(seiko)：sea1000a；斯派克（spectro）：xepos、midex m；热电(thermo)：arl quant’x；日本电子（jeol）jsx－3400r；horriba等。） 三、spectromembrane® 样品薄膜随着spectromembrane® 样本支撑托架的面世，在处理薄膜时用户不再需要担心静电附着或潜在的污染风险或吸引空中颗粒等问题。除样本杯外，薄膜不再近距离接触其它任何物体。薄膜处理将通过使用集成的托框完成，托框能够在组装过程中自动分离，留下绷紧的薄膜样本平面。spectromembrane® 薄膜样本支撑托架由一块粘在托架上作为支撑物的薄膜样本支撑物质组成。在把薄膜物质粘在xrf样本杯上时，薄膜物质并不会被直接处理，这就消除了污染的可能性。接近完成或在完成附着时，薄膜将自动从托架上分离，留下绷紧的无皱样本支撑窗。

产品信息：适用于大气捕集用empore 薄膜片 膜片支架滤纸支架EMI、EMO是将47mm滤纸及固相萃取薄膜片等组合在一起，用于对大气中有机物实施采集的支架。由于其素材中采用了特氟隆，因此可以降低空白的影响并降低吸附问题。EMI的吸引口直径为8mm，采集时的遮光性较为优异。而EMO的吸引口开口部直径扩大至30mm，因此可以在滤纸表面等进行均一的大气采集。EMI及EMO在装上2段适配器、3段适配器（选购件）后，可以阶段性地安装2 ～ 3 枚的过滤垫片，从而可以同时使用用于备份过滤器及其他不同种类的过滤器。滤纸支架订货信息：适用于大气捕集用empore 薄膜片 膜片支架用 途器 材Cat.No.备 注分析色谱柱CP-Sil 8CB1010-787510.0.25mmI.D.×30m df=0.25μmCP-Sil 8CB1010-787520.32mmI.D.×30m df=0.25μm滤纸支架 EMI-473008-8430047φ滤纸支架附件：8φ套筒、8φ盖、3脚固定件滤纸支架EMO-473008-8430647φ滤纸支架附件：吸引口盖、8φ盖、3脚固定件EMI（EMO）-47用 2段适配器3008-84303转换为2段支架（安装有Empore甩油环2枚）用的适配器EMI（EMO）-47用 3段适配器3008-84304转换为3段支架（安装有Empore甩油环3枚）用的适配器8φ套筒（内装5个）3008-84305入口侧的特氟隆 精密栓套筒8φ盖（内装2个）3008-84302出口侧8φ套筒的保护及密封盖滤纸支架用台座3008-84103将支架维持于一定高度用的三脚捕集相关产品特氟隆软管 8φ×6φ×10m3004-31862特氟隆联管节 8UT3006-28180外径8φ套筒连接用（内装1个）温室湿度数据记录器TH-1012702-3321598（W）×55（D）×28（H）mm、带有Windows98用解析软件玻璃纤维滤纸 GMF-1503015-645471μm 47mm 内装40枚（WATT MANN公司生产）石英纤维过滤器 47mmφ3015-64500高纯度石英 厚约0.64mm 内装100枚Empore薄膜片碳5010-3006047mm 内装20枚Empore薄膜片SDB-XD5010-3004647mm 内装20枚、平均粒子 10μmEmpore薄膜片C185010-3000647mm 内装20枚、平均粒子 10μmEmpore薄膜片C18 FF5010-3001047mm 内装20枚、平均粒子 50μm采样泵SP208-10L2702-17600流量范围：1L～10L、积算流量标示、带计时器、带有脉流降低功能萃取超声波清洗机 W-103T6220-33006槽内尺寸 φ98×65mm、带有计时器GL-SPE浓缩管5010-510110.5mL、1.0mL螺母／7mL、内装10根0.5mL、1.0mL的刻度 已经校正完毕GL-SPE浓缩管（褐色型）5010-510120.5mL、1.0mL螺母／7mL、内装10根共栓带刻度SPITZ管5010-5100112φmm、6mL内装20根带有基准刻度的共栓带刻度SPITZ管5010-5100216φmm、14mL内装20根

DHS 1100 是在成熟的 DHS 900 圆顶高温台基础上进一步发展的加热附件。具有从 25°C 到 1100°C 的更大温度范围。DHS 1100 设计小巧且重量轻，可安装到所有常用的四圆测角仪和多种 XYZ 平台上。其创新的采用石墨圆顶，使样品可在真空、空气和其他各种气体中进行测量。DHS 1100 是在现场高温条件下研究多晶体材料相变、纹理和内部压力理想样品台。DCS 500 圆顶冷却台是用于低温和高温的原位 X-射线衍射研究的最小附件，可安装到四圆测角仪和 XYZ 平台。DCS 500 的温度范围从 -180 °C 到 +500 °C 且所有 Φ 角度的收敛角范围从几乎为 0° 到 90° 2Θ，是分层结构现场研究和多晶材料相变和压力研究的理想样品台。

超快薄膜偏振片1.适用于钛：蓝宝石和镱掺杂激光器2.高达0.3 J / cm2 @ 200 fs @ 800nm损伤阈值3.优化分散S和P的最小色散超快薄膜偏振片采用薄膜涂层技术，可在近红外波长范围内实现zui佳性能。这些偏振器具有高损伤阈值，非常适用于高功率激光器，包括Ti：蓝宝石和掺镱激光源。透射偏振器可在偏振器的两侧具有偏振涂层，而反射偏振器由输入面上的偏振涂层和输出面上的抗反射涂层组成。订购信息消声系数对比度 波长范围 (nm)透射率 (%) 20:1Tp:Ts20:1750 - 850Tp85 / Ts4#88-23560:1Rs:Rp60:1750 - 850-#88-23620:1Tp:Ts20:1980 - 1090Tp85 / Ts4#88-23760:1Rs:Rp60:1980 - 1090- #88-238技术数据

教学型光学薄膜测厚仪配件是一款低价台式光学薄膜厚度测量仪,可测量薄膜厚度,薄膜的吸收率/透过率，薄膜反射率，荧光等，也可测量膜层的厚度,光学常量（折射率n和k)。光学薄膜测厚仪配件基于白光反射光谱技术，膜层的表面和底面反射的光VIS/NIR光谱，也是干涉型号被嵌入的光谱仪收集分析，结合多次反射原理，给出膜层的厚度和光学常数（n，k)，到货即可使用，仅仅需要用户准备一台计算机提供USB接口即可，操作非常方便。光学薄膜测厚仪配件参数 可测膜厚： 100nm-30微米；波长范围: 300-1000nm 探测器：650像素Si CCD阵列，12bit A/D精度：1%斑点大小：0.5mm 光源：钨灯-汞灯（360-2000nm)所测样品大小：10-150mm, 计算机要求：Windows XP, vista, Win7均可，USB接口；尺寸：320x360x180mm 重量：9.2kg光学薄膜测厚仪配件应用用于薄膜吸收率,透过率和荧光测量，用于化学和生物薄膜测量，传感测量用于光电子薄膜结构测量 用于半导体制造用于聚合物薄膜测量 在线薄膜测量用于光学镀膜测量

手持式薄膜测厚仪配件是全球首款便携式光学薄膜厚度测量仪,可测量透明或半透明单层薄膜或膜系的薄膜厚度,薄膜的吸收率/透过率，薄膜反射率，荧光等。手持式薄膜测厚仪可测量膜层的厚度,光学常量（折射率n和k)，薄膜厚度测量范围为350-1000nm，不需要电线连接，也不需要实验室安装空间，它从USB连接中获取工作电源，这种独特设计方便客户移动测量，只需USB线缆从计算机控制测量即可，采用全球领先的3648像素和16bit的光谱仪，具有超高稳定性的LED和荧光灯混合光源，光源寿命高达20000小时，手持式薄膜测厚仪配件特色USB接口供电，不需要额外的线缆供电超级便携方便现场使用超低价格手持式薄膜测厚仪配件参数 可测膜厚： 15nm-90微米；波长范围: 360-1050nm 探测器：3648像素Si CCD阵列，16bit A/D精度：1nm 斑点大小：0.5mm 光源：LED混合光源（ 360-1050nm )所测样品大小：10-150mm, 计算机要求：Windows XP, vista, Win7均可，USB接口；尺寸：300x110x500mm 重量：600克手持式薄膜测厚仪配件应用用于薄膜吸收率,透过率和荧光测量，用于化学和生物薄膜测量，传感测量用于光电子薄膜结构测量 用于半导体制造用于聚合物薄膜测量 在线薄膜测量用于光学镀膜测量

布鲁斯特型薄膜偏振片材质BK7, UVFS直径/尺寸公差+0/-0.1 mm厚度公差±0.1 mm通光孔径90%表面质量20-10 S-D透射波前畸变（TWD）λ/10 @ 632.8 nm平行度误差30 arcsec消光比Tp / Ts200:1典型的传输Tp 95%典型的反射Rs 99.5%入射角Brewster angle激光损伤阈值报告www.altechna.com/lidt布鲁斯特薄膜偏振器用于高能量应用。它们的损伤阈值高达10 J /cm2@ 1064 nm，持续8 ns。布鲁斯特偏振器被用作Glan-Taylor激光偏振棱镜或立方偏振分束器的替代品。典型地，BK7或UVFS电介质涂布的布鲁斯特型薄膜偏振器将高能量激光束的s偏振分量和p偏振分量分开，并用于腔内和腔外的使用。典型的极化比Tp / Ts是200：1，在56°AOI（布鲁斯特角）下达到。为获得zui佳传输效果，布鲁斯特型薄膜偏振器应安装在适当的支架上进行角度调节。双波段或其他尺寸的薄膜偏振器可应要求提供。1）有效分离s偏振分量和p偏振分量2）针对流行的激光波长进行了优化3）许多布鲁斯特薄膜偏光片都可以从STOCK快速交货！ Altechna在标准，定制或客户提供的光学器件上提供各种高性能光学镀膜。我们的涂料覆盖从深紫外（193纳米）到远红外（25微米）的波长范围，涂层的zui大部分是在波长范围内zui常见的266纳米到2微米的激光和照明光源。我们根据个人要求提供一套标准和定制涂料：?防反射涂层?高反射涂层?分束器涂层?部分反射涂层?偏光片涂层?过滤涂料?超快GDD补偿涂层?Gires-Tournois干涉镜（GTI）?可变反射镜?金属涂层 在Altechna，我们的目标是以zui高的标准为不断增长的光子市场提供高损伤阈值，高质量涂层。每个涂层都是特殊的，多年来在光电领域，我们了解到灵活性是满足客户高要求的关键，因此我们的涂层采用不同的技术，分别选择不同的涂层。这里是我们在Altechna提供的涂层技术列表：?电子束蒸发?离子辅助沉积?离子束溅射?磁控溅射每种技术都是不同的，并根据光谱灵敏度，损伤阈值，硬度，表面质量等的要求使用。电子束蒸发离子辅助沉积离子束溅射磁控管溅射沉积速率10 ?/sec~10 ?/sec~3 ?/sec1-6 ?/sec每次涂布面积3000 cm23000 cm2500 cm22000 cm2导热系数LowMediumHighHigh涂层温度范围200 - 300°C20 - 100°C20 - 150°C20-100°C层数1-50~50200Up to 200密度和孔隙度PorousDenseNear bulkNear bulk粘连/耐久性LowGoodExcellentExcellent湿度敏感性YesYes, smallNoNo老化影响YesYes, smallNoNo内在应力 100MPa~ 100MPaFew 100MPaFew 100 MPa尺寸，mm基底材料波长，nm产品编号?25.4 x 3UVFS795-805 (centered @ 800 nm)2-BFP-0800-0254?25.4 x 3UVFS780-820 (centered @ 800 nm)2-BFP-0800-A-025420 x 40 x 5UVFS7802-BFP-0780-204020 x 40 x 5UVFS780-820 (centered @ 800 nm)2-BFP-0800-A-204020 x 40 x 5UVFS795-805 (centered @ 800 nm)2-BFP-0800-2040?25.4 x 3BK715502-BFP-1550-0254?25.4 x 3UVFS3432-BFP-0343-0254?25.4 x 3UVFS1020-1040 (centered @ 1030 nm)2-BFP-1030-0254?25.4 x 3UVFS2662-BFP-0266-025420 x 40 x 5UVFS1020-1040 (centered @ 1030 nm)2-BFP-1030-204020 x 40 x 5UVFS3552-BFP-0355-2040?25.4 x 3UVFS 5322-BFP-0532-0254?25.4 x 3UVFS10642-BFP-1064-025420 x 40 x 5UVFS2662-BFP-0266-204020 x 40 x 5UVFS5152-BFP-0515-2040?25.4 x 3UVFS7802-BFP-0780-0254?25.4 x 3UVFS4002-BFP-0400-025420 x 40 x 5UVFS4002-BFP-0400-204020 x 40 x 5BK715502-BFP-1550-204020 x 40 x 5UVFS5322-BFP-0532-204020 x 40 x 5UVFS10642-BFP-1064-204020 x 40 x 5UVFS3432-BFP-0343-2040?25.4 x 3UVFS3552-BFP-0355-0254?25.4 x 3UVFS5152-BFP-0515-0254定制你可以根据您的需求定制这个产品。如果您没有找到适合您的应用，请与我们联系，以便定制解决方案。