原位氧气分析仪

产品简介通过MEMS芯片对样品施加力学、电场、热场控制，在原位样品台内构建力、电、热复合多场自动控制及反馈测量系统，结合EDS、EELS、SAED、HRTEM、STEM等多种不同模式，实现从纳米层面实时、动态监测样品在真空环境下随温度、电场、施加力变化产生的微观结构、相变、元素价态、微观应力以及表/界面处的结构和成分演化等关键信息。我们的优势力学性能1．高精度压电陶瓷驱动，纳米级别精度数字化精确定位。2．实现1000℃加热条件下压缩、拉伸、弯曲等微观力学性能测试。3．nN级力学测量噪音。4．具备连续的载荷-位移-时间数据实时自动收集功能。5．具备恒定载荷、恒定位移、循环加载控制功能，适用于材料的蠕变特性、应力松弛、疲劳性能研究。优异的热学性能1．高精密红外测温校正，微米级高分辨热场测量及校准，确保温度的准确性。2．超高频控温方式，排除导线和接触电阻的影响，测量温度和电学参数更精确。3．采用高稳定性贵金属加热丝（非陶瓷材料），既是热导材料又是热敏材料，其电阻与温度有良好的线性关系，加热区覆盖整个观测区域，升温降温速度快，热场稳定且均匀，稳定状态下温度波动≤±0.1℃。4．采用闭合回路高频动态控制和反馈环境温度的控温方式，高频反馈控制消除误差，控温精度±0.01 ℃。5．多级复合加热MEMS芯片设计，控制加热过程热扩散，极大抑制升温过程的热漂移，确保实验的高效观察。优异的电学性能1．芯片表面的保护性涂层保证电学测量的低噪音和精确性，电流测量精度可达皮安级。2．MEMS微加工特殊设计，同时加载电场、热场、力学，相互独立控制。智能化软件1．人机分离，软件远程控制纳米探针运动，自动测量载荷-位移数据。2．自定义程序升温曲线。可定义10步以上升温程序、恒温时间等，同时可手动控制目标温度及时间，在程序升温过程中发现需要变温及恒温，可即时调整实验方案，提升实验效率。3．内置绝对温标校准程序，每块芯片每次控温都能根据电阻值变化，重新进行曲线拟合和校正，确保测量温度精确性，保证高温实验的重现性及可靠性。技术参数类别项目参数基本参数杆体材质高强度钛合金控制方式高精度压电陶瓷倾转角α≥±20°，倾转分辨率＜0.1°（实际范围取决于透射电镜和极靴型号）适用电镜Thermo Fisher/FEI, JEOL, Hitachi适用极靴ST, XT, T, BioT, HRP, HTP, CRP(HR)TEM/STEM支持(HR)EDS/EELS/SAED支持应用案例600°C高温下铜纳米柱力学压缩实验以形状尺寸微小或操作尺度极小为特征的微机电系统 (MEMS)越来越受到人们的高度重视 , 对于尺度在 100μm 量级以下的样品 , 会给常规的拉伸和压缩试验带来一系列的困难。纳米压缩实验 , 由于在材料表面局部体积内只产生很小的压力 , 正逐渐成为微 / 纳米尺度力学特性测量的主要工作方式。因此 , 开展微纳米尺度下材料变形行为的实验研究十分必要。为了研究单晶面心立方材料的微纳米尺度下变形行为 , 以纳米压缩实验为主要手段 , 分析了铜纳米柱初始塑性变形行为和晶体缺陷对单晶铜初始塑性变形的影响。结果表明铜柱在纳米压缩过程中表现出更大程度的弹性变形。同时对压缩周围材料发生凸起的原因和产生的影响进行了分析 , 认为铜纳米柱压缩时周围材料的凸起将导致纳米硬度和测量的弹性模量值偏大。为了研究表面形貌的不均匀性对铜纳米柱初始塑性变形行为的影响 , 通过加热的方法 , 在铜纳米柱表面制备得到纳米级的表面缺陷 , 并对表面缺陷的纳米压缩实验数据进行对比分析 , 结果表明表面缺陷的存在会极大影响铜纳米柱初始塑性变形。通过透射电子显微镜 ,铜纳米柱压缩点周围的位错形态进行了观察 , 除了观察到纳米压缩周围生成的位错 , 还发现有层错、不全位错及位错环的共存。表明铜纳米柱的初始塑性变形与位错的发生有密切的联系。

简单介绍无交叉干扰的原位测量 新型SITRANS SL原位氧气分析仪，西门子保持了原有光纤系统中可调谐二极管激光的技术优点，尽可能接近工艺进行分析。这项技术的变革是将参比气室整合到传感器中，它允许激光锁定完全独立于过程气体的浓度。SITRANS SL原位氧气分析仪的详细介绍SITRANS SL原位氧气分析仪(英文资料或详细信息请电话联系本公司)SITRANS SL操作稳定，可忽略漂移值，延长维护周期。这些特征使SITRANS SL成为最好的原位激光气体分析仪。SITRANS SL具有紧凑的分析单元和坚固的设计，以及增强的通信能力。SITRANS SL可以用在极其恶劣及危险的测量环境中，为客户的单点测量提供了完美的解决方案。SITRANS SL工业解决方案操作模式由于采用了可调的激光二极管技术，SITRANS SL原位分析仪可提供精确测量。传感器（发射端和接收端）只需直接安装在监测的工艺气体管道上，无需采样系统。激光由发射端发出，通过测量部分中的工艺气体，到达接收端的检测器上。测量将在短时间内在线进行，在过程控制中有效地节约成本。激光的本质特性决定了单一的光谱可以不受干扰。由于激光的带宽特别窄，只有吸收光谱与之相吻合的气体组分才能够有（吸收）反应。由于激光技术所固有的优秀补偿能力，所以来自其它方面的干扰，例如灰尘和温度，就可很容易地被去除。在线的内置参比池充满了无干扰参比气体，是已存在的西门子TDL（可调谐二极管激光）技术优势的进一步发展，无需人为自标定而且维修要求低，为客户提供了一个理想的解决方案。应用? 过程控制（化学工业）? 过程优化（钢铁工业）? 安全监控，例如：测量防爆环境中氧气最大与最小浓度值。优势技术参数测量组分 O2测量量程 0-100%，低量程可选分辨率 0.02Vol%光程 1-8 m过程气体温度 0-600oC过程气体压力 0.7-5 bar 绝压（T200oC） 0.9-1.1 bar 绝压（T600oC）响应时间 1-3s电气输入输出 2 个模拟输出， 2 个二进制输出， 2 个模拟输入， 2 个二进制输入， PROFIBUS DP (可选)。? 原位测量，不需要气体采样设备。? 内置的自动标定 — 运行稳定? 动态烟尘补偿? 快速响应? 没有交叉干扰? 可选防爆型号：ATE II 2 G Ex de IIC T6 II 2 D Ex tD A21 IP65 T85oC? 在“全集成自动化”（TIA）的平台概念上，加强集成通讯? 低成本、高性能的单点测量? 低维护? 校准及维修方便简单

产品名称：激光氧气分析仪　产品型号：GasTDL-3100激光氧气分析仪GasTDL-3100是基于可调谐半导体激光吸收光谱技术(TDLAS)的高性能光学分析仪器，采用对射式设计，可用于工业过程气体控制；其响应时间快速，在原位式测量中一般以秒计算，避免采样式测量带来的时间延迟，可在线及时的反应被测气体浓度。激光氧气分析仪产品特性　　　　 采用TDLAS技术，被测气体不受背景气体交叉干扰 原位安装，无需采样预处理系统 响应快速(T90≤4s)，可实时反应气体浓度 实时在线测量，气体浓度不易失真，测量精度高 在高温、高粉尘、高水分、高腐蚀性、高流速等恶劣测量环境下具有良好的适应性 隔爆防爆设计，安全系数高 构造简洁，无可动元件，无损耗元件，免维护激光氧气分析仪技术参数性能参数测量组份O2测量原理TDLAS测试范围O2:(0 ～ 5)%VOL （可定制100%）CO:(0 ～ 100)%VOLCO2:(0 ～ 100)%VOLCH4:(0 ～ 20)%VOL 精度≤±1%F.S.重复性≤±1%量程漂移≤±1%F.S.分辨率0.01%VOL响应时间T90≤4s工作参数防爆等级Exd II CT6安装方式原位安装环境温度 （-20～ +60）℃工作电源24V DC，24W吹扫气体（0.3～ 0.8）MPa工业氮气接口信号通讯RS485、RS232输出模式2路4-20mA输出3路继电器输出*注释：每套分析仪测量单一组分气体浓度