质谱气体分析仪

APIX超高纯电子气质谱分析仪 结合了工艺先进的电子电路和功能强大的过程分析软件的、性能卓越 的大气压离子化质谱仪 (API-MS)使得 Thermo Scientific APIX 生产线提供的分析仪系统成为半导体和电子工业大宗气体连续质量控制的选择。 API-MS 为传统质量控制技术提供了一个成本-效益的替代方案，允许每种大宗气体中一系列潜在污染物浓度监测能够达到很低的测量下限；相较于其他技术，甚至能够优于100倍。 APIX产品线提供了更多完整的杂质分析，包括： H2、CO、CO2、H2O、O2、CH4 、Kr和 Xe ，以及其他需要测量的杂质。随着 300 mm 晶圆生产者发布更严格污染物控制气体质量标准，这种技术将持续的成为ppt级杂质测量下限的首选技术。 特点： 快速在线测量（典型＜5秒）确保 了立即响应供气的波动状况 完全集成的多分析器分析方案提 供了污染物的快速检测 超高的灵敏度和10ppm的测量下限满足当下以及未来的严格的气体分析要求 备份能力在单个大气压离子化分 析器（API）在维护时，允许每 一台大气压离子化质谱仪（APIMS）支持多流路分析 针对于工厂控制和数据集中的标准 化工业通讯协议 (OPC, DDE, Modbus, Siemens 3964R, PROFIBUS, 等等)应用 超高纯氮气（UHP N2） 超高纯氩气（UHP Ar） 超高纯氦气（UHP He） 超高纯氢气（UHP H2） 运行原理APIX δQ 和APIX Quattro 采用阳离子大气压离子化质谱仪 （ API-MS）技术, 该技术被电子工业广泛用于检测超纯气体中的污染物。进样时，样气以大气压或略高于大气压的压力进入离子源。 金属针设置在靠近由孔板行成的通向棱镜组的入口附近。它带有高的电压，能够产生电晕放电。这就产生了从孔板到针头的电子流。电子与离子源中 大量样气发生反应，从而导致大量样气气体分子的电离。 幸运的是，相对于氮气、氢气、氦气和氩气而言，这些出现在样气中浓度很低的污染物需要很少的能量就可以产生 电离。正是因为如此，任何污染物分子出现在样气中，它们与样气离子发生反应的几率就非常高。 这种反应发生时，电荷转移至污染物气体分子，这就形成了再次电离。 这个电荷转移导致非常高比例的污染物气体分子被电离。 事实上，这个效率比其他使用真空腔电离技术的质谱仪， 其效率要高1000倍。 部份样品、完全电离的污染物，经过一系列的减压透镜后，进入三重四级杆质谱仪。一个测量质量数达到300道尔顿（原子质量单位）三重四级杆能够确保实现所有污染物的精确测量。脉冲计数放大器的噪声等级仅为10个脉冲，每106个脉冲, 与大气压离子源配合后, 能够确保12数量级的测量下限，它可以低1012之一 (即1 ppt). 配置：APIX δQ的标准配置为一个单一机箱，它里面配置了1个大气压离子化质谱仪（API-MS）和 一个Air Liquide 气体处理单元，它能够用于ppb或ppt级自动校准。标准机箱是为 相对空气洁净且有温度控制的环境而配置；如果需要，一定数量的冷却降温和吹扫选项也可以满足更多环境需求。 APIX Quattro 标准配置使用了三个机箱，两个配置了4 个大气压离子化质谱仪（API-MS）独立机箱，和第三个装有一个Air Liquide 气体处理单元机箱。 四个质谱仪中的每一个都安装在滑轨上，以便向前拖出，便于维护。 顶部安装的机箱盖包含流路切换阀组， 用于采样气体连接。它允许多个流路连接到每个独立的 散装气体分析器。这种流路选择可以是手动或完全自动完成。每一个大气压离子化质谱仪（ API-MS ）都是独立的，并且都具备多流路切换功能。当一台质谱仪进行年度固定维护时，可以使用其余三台质谱仪监测四个散装气体。 在这两种配置的机箱盖组件包含一个氢安全系统，以确保质谱仪在氢气泄漏时安全关闭。这个安全设备使用独立于质谱仪供电。如果需要有限的机动性，可以提供一组车轮，使该质谱仪能够安全地从一个测试点推送到另一个测试点。 每一个质谱仪通过使用后备电池闪存、运行实时的操作系统的处理器控制。这个处理器作为一系列内部控制器的主人，它们之间的通过以太电缆实现互联。 这些微处理器中的每一个都能作为一个独立部件单独运行，例如气体处理器和多流路进样系统。气体处理器仅需要一个单独的校准气瓶并结合了来自渗透管装置的湿度校准。 内部配电装置通过内部分析仪网络进行监测和控制。 这一设计拓展了 GasWorks 软件的诊断能力。每一个多处理器网络提供了冗余的通讯渠道，允许质谱仪可靠、不需要电脑工作站独立运行，直接传送样品流路数据和诊断信息至DCS或SCADA系统。每一个通讯渠道都可被配置为点对点的 光纤通讯或是硬接线的电流回路、多点连接 。每个分析器都可以配置一个嵌入式opc服务器，与 Microsoft 主机或多种工艺网关协议(Modbus, Siemens, Allen-Bradley, 等.)实现无缝通信 。如果需要质谱仪提供硬接线模拟检测和数字报警输出， OPTO 22 SNAP 和 OPTOMIX 协议将被完全支持，一系列硬件卡件能够使用。 Thermo Scientific GasWorks 软件 Thermo Scientific GasWorks 软件包为质谱仪操作提供了一个直观的、信息丰富且灵活的窗口。使用安装了Gasworks软件的一台电脑可以完成初始设置，过程数据和诊断信息的显示。我们也可以断开电脑与APIX的连接；APIX能够脱离与电脑的连接而独立运行于无人值守模式。 从设计概念到数代产品，完全认可的ISO 9001质量程序得到了软件团队的严格执行。 软件安装可以随时检查，以确保其可验证的完整性和正确性。软件更新可以远程上传。 技术参数测量方式APIX δQ: 1x 三重四级杆质谱分析器 APIX Quattro: 4x 三重四级杆质谱分析器质量范围1-300 AMU离子源类型大气压离子化离子源背景＜1 ppt放大器和动态测量范围100 MHz脉冲计数型检测器脉冲计数通道电子倍增器检测噪声每106 有10个数检测下限 10 ppt (根据组份变化)分析时间（典型） 1s每个组份流路切换时间（典型）15分钟至 1 ppb适合的大宗气体H2 , N2 , Ar, He串口连接类型RS232, RS422, RS485检测的污染物H02 , He, CO, CO2 , O2 , CH4 , Kr 和 Xe (其他污染物也可检测)外形尺寸APIX δQ: 1.9 m (H) x 0.7 m (W) x 0.65 m (D) APIX Quattro: 1.9 m (H) x 2.1 m (W) x 0.65 m (D)

基于20多年稀有气体质谱仪的经验，Thermo Scientific开发了系列新一代多接收稀有气体质谱仪。它结合创造性的新特征和经过实践验证的成熟的同位素质谱技术，开发了Helix MC Plus、Helix SFT和ARGUS VI三款先进的静态真空稀有气体质谱仪，是多接收静态惰性气体质谱迈进的重要一步。Thermo Scientific HELIX SFT质谱是为氦同位素同时分析及高精度跳峰分析而设计的高分辨、多接收系统，可以同时测定3He和4He，也可以用跳峰模式测量任何稀有气体同位素。 主要特点 该系统可同时测量氦同位素，无需跳峰扫描，减少了分析时间，获得了更高的精度和产出效率； 丰度灵敏度：由于HELIX SFT独特的设计，质量4对质量3的贡献小于1ppb； 体积：HELIX SFT的内部体积约1400cc，这是当前技术的重要提升； 分辨率：低质量数接收器，通常用来测定3He，其分辨率大于700，这保证了3He 能够和两个干扰峰HD和H分开； 1010Ω/1011Ω/1012Ω/1013Ω放大器拥有不同的动态范围范围使大部分分析都能在长寿命的法拉第接收器上进行。

Thermo Scientific Delta V Advantage新一代同位素比质谱仪凝聚了我们在质谱仪领域里50年以上的经验。同位素比质谱仪的基础原理是把任何类型的无机或有机化合物转换成为单纯的气体。作为DELTA V Advantage 的进样系统，有广泛的样品预处理设备和接口可供选择。它可以与元素分析仪、GasBench、气相色谱或液相色谱等装置联用，用于测定C、N、S、H、O等多元素的稳定同位素比值，可用于食品安全、农业、环境、地质、海洋等领域，进行食品真实性鉴定、原产地判别以及环境污染物溯源等研究。赛默飞世尔为实践中在每个应用中可能遇到的各种各样的样品的 全自动分析提供应用气相色谱，液相色谱和元素分析仪的完整分析方案。该仪器具有以下特点： 极好的扩展性，可以与各种外围设备联用，确保高度自动化和高性能在保证卓越的线性和稳定性的同时，展示了最好的灵敏度结构紧凑，坚固耐用

针对生物发酵尾气分析需求，SHP8400PMS过程气体质谱分析仪配置多通道采样系统，高稳定性四级杆质量分析器，耐水、耐氧性双灯丝离子源等进口关键部件。整个仪器精度高、漂移小 、响应快、维护少并且可以实现多个生物反应器发酵尾气实时、连续、精确的全组分气体分析 ，是提供发酵尾气监测的理想工具。详细信息 SHP8400PMS 过程气体质谱分析仪依托多年研发应用经验，以实时、高精度、在线监测多路生物过程气体为目标，配置16通道采样系统，具有指纹谱图库的电子轰击离子源，经典、成熟的四极杆质量分析器，性能稳定，使用寿命长的法拉第检测器等。另有专业设计的发酵尾气预处理系统，保证分析结果准确的同时确保了仪器不受溢罐等特殊情况的伤害。更高的投资回报率◆一台过程质谱多可同时分析15台发酵罐尾气组分，台均投入费用少；◆快速在线气体分析（每个取样点快30秒），准确反映工艺动态，给工艺优化提供强有力支撑；◆高稳定性，3-6个月的标定间隔，可长时间稳定运行；◆全组分分析，自动生成摄氧率（OUR）、二氧化碳释放率（CER）、呼吸商（RQ）等数据和曲线；◆自动化程度高，维护需求少，运营成本低；16通道采样系统◆每一通道均为独立进气和独立排气，彻底摒除通道间干扰◆连续流动式取样，保证气体的实时更新◆可控温的进气管路，有效防止过程气体在采样过程中冷凝全组分气体分析◆SHP8400PMS可实现气体全组分分析，除了提供N 2 、O 2 、C O 2 、A r等无机气体的监测结果，也能实现甲醇、乙醇、甲烷等有机气体的实时分析。高精度流量控制◆仪器内置温度补偿型全自动高精度电子流量控制系统，当样气状态改变时，自动进行流量调节，避免了样气压力、温度波动对数据准确性的影响，保证长期连续监测过程中数据的一致性。高稳定质量分析◆72小时内质量轴偏差优于0.1am u，是连续稳定监测的可靠保证。全中文在线质谱分析工作站◆采用新一代Fluent Ribbon用户界面，在提供丰富信息的同时，降低操作难度，易于用户掌握。质谱仪在线监控示意图 在线气体前处理系统◆针对生物过程设计的多通道样气在线处理系统，具备除尘、除湿、除泡沫、控温及调压等功能，保证样气的真实快速传输和质谱仪的长期稳定运行。 完美兼容各种发酵控制系统和工艺分析软件◆软件的数据存储格式和内部交换格式均采用通用的工业标准，与其他软件系统完美兼容。 SHP9000PA在线监控及工艺分析软件◆中文软件界面，适用于工业生产以及实验室多参数过程监控，可根据用户工艺流程定制工艺画面，通过实时数据的采集即时掌握整个工艺流程的概况。◆支持各类工业P LC ，数据采集装置以及本公司在线质谱仪等各类在线分析仪器。自动生成摄氧率（OUR）、二氧化碳释放率（CER）、呼吸商（RQ）等数据和曲线，提供趋势图，柱状图等显示监测数据或历史数据，可更直观地对参数进行分析处理，用户可轻易发现参数之间的相关性，同时按要求格式保存输出。◆可输出控制信号，具有报警功能。

在线质谱分析仪与气体分离测试系统联用上海伯东客户某研究院采购在线质谱分析仪 Omnistar 与气体分离测试系统联用进行 CH4, CO, C2H2,CO2 的快速定量分析.在线质谱分析仪使用方法: 质谱分析仪通过毛细管与气体分离测试系统连接, 开始测试前加配对应的标气, 利用氦气作为载体, 在测试前进行标定. 采用 MCD 定量模式分析, 即可快速在线实时分析反应产物的含量.在线质谱分析仪 Omnistar GSD 350 01 主要参数 质量数 1-100 amu 最大进气口压力 1200 hPa 检测极限 100 ppb 气体流率 1-2 sccm (0 °C) 输入模拟 5 x, -10 – +10 V, 14 bit | 16 bit 不锈钢毛细管长度 1m 进样加热温度最高 200 °C 铱灯丝, Y2O3 2根 鉴于客户信息保密, 若您需要进一步的了解在线质谱分析仪, 请联络上海伯东叶女士

SHP8400PMS-I 防爆型过程气体质谱分析仪，将前沿的在线质谱分析技术与针对性的行业解决方案相结合，实现过程气体的实时、在线分析。通过多通道采样实现多点监测，提供多组分、多流路同时分析。该款质谱分析仪适用于易燃易爆环境和复杂工况环境下的过程气体多组分同时分析，满足长期不间断在线分析和多路不同样品监测的需求。设备简介： SHP8400PMS-I防爆型在线工业质谱仪可用于危险及复杂工况环境下的气体成分快速在线分析，具有防爆、防水、防尘等防护功能。仪器可实现高精度多组分同时检测，提供精准的定性定量测试，并可与生产反应调控过程关联。高精度流体控制◆仪器内置温度补偿型全自动高精度电子流体控制系统，当样气状态改变时，自动进行流量调节，避免了样气压力、温度波动对数据准确性的影响，保证长期连续监测过程中数据的一致性。高稳定质量分析◆72小时内质量轴偏差优于0.1amu，是连续稳定监测的可靠保证。可靠的长期稳定性◆连续36天监测空气中Ar的含量，大标准偏差优于0.4，满足长期连续监测的实际需要。智能在线监控◆在线监控真空度、气路温度、分子泵状态等系统运行参数，如有异常情况出现，立即报警或停机，大程度保障运行安全。精益管理解决方案降低投资成本◆单台质谱仪轻松取代多台气相色谱仪，不仅降低设备投资费用，减少了占地面积，也节省了分析小屋的成本。◆多个工艺气流的各种气体分析数据由一台质谱仪提供，简化了与控制系统的连接，也更为高效。减少运行成本◆质谱仪运行无需载气、助燃气、色谱柱等，避免了气相色谱仪的高维护成本和气体消耗。 在线质谱分析控制原理示意图

因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准 残余气体分析仪 Hicube RGA 上海伯东销售维修德国 Pfeiffer 残余气体分析仪 HiCube RGA. 四极杆质谱 PrismaPro 与 HiCube 涡轮分子泵组的搭配, 质量数范围 1-300, 高分辨率和灵敏度. 适用于残余气体分析, 过程监测, 泄漏检测.残余气体分析仪 Hicube RGA 优势残余气体分析和氦气泄漏检测模式可用于从大气压至高真空环境高分辨率和灵敏度通过真空压力监测保护灯丝进气系统带集成式切断阀Pfeiffer 残余气体分析仪 Hicube RGA 技术规格 涡轮分子泵组HiCube&trade Eco功耗170W电压（范围）110 - 240 V 50 / 60 Hz氮气抽速67 l/s前级泵在 50 Hz 时的泵送速度1 m3/h极限真空1X10-7 hPa 真空计PKR 361测量范围1X10-9 至 1X103 hPa阀门EVN 116气体流量可调整, 自 5X10-6 至 3X103 hPa l/s进气口DN 16 ISO-KF PrismaProQMG 250 F1 QMG 250 F2QMG 250 F3QMG 250 M1QMG 250 M2QMG 250 M3检测器法拉第 Faraday (F)电子倍增器/法拉第 C-SEM/Faraday (M)质量数 amu1–1001–2001–3001–1001–2001–300四极杆直径／长度6 /125 mm 最小检测极限 F hPa *1,24X10-135X10-137X10-13---最小检测极限 M hPa *1,2---3X10-154X10-155X10-15对Ar的灵敏度 F A/hPa*35X10-44X10-4 3X10-45X10-44X10-43X10-4最大工作压力 F hPa5X10-4最大工作压力 M hPa---5X10-55X10-55X10-5对临近质量数的影响*1 10 ppm 20 ppm 50 ppm 10 ppm 20 ppm 50 ppm操作温度 分析200 °C (max. 150 °C when operating with SEM)操作温度 电子5 – 50 °C烘烤温度 分析300 °C连接法兰DN 40 CF-F保压时间1 ms – 16 s/amu峰比值可重复性± 0.5 %接口以太网电源电压100–240 V AC，50/60 HzHiCube&trade RGA重量25.5 - 26.2 kg 残余气体分析仪 Hicube RGA 典型应用 残余气体分析: 对真空系统中残余气体的分析, 可以获知在达到所需的最终压力或调节要求时, 残余物质的组成. 由此可以得出各种有关系统表面性质, 脱附行为, 纯度和密封性以及工艺气体成分的结论. 这将为您提供有关真空室或真空组件状态的重要信息.泄漏检测: 上海伯东 Pfeiffer 残余气体分析仪 HiCube RGA 具有氦气泄漏检测模式, 可以通过软件控制激活. 此功能可以方便您发现真空系统中的任何泄漏.过程监控: HiCube RGA 可以在最大 300u 的测量范围内随时间观察任意数量的选定质量强度, 并可对选定的各质量分配警报循环阈值. 如果它们高于或低于所需极限, 则可以通过数字输出将信号提供给更高级别的控制系统. 因此残余气体分析仪 HiCube RGA 能够提供实时过程观察和控制功能. EVN 116 气体计量阀还可以使真空系统中的压力适应相应过程需求, 此外, 集成式切断阀还允许对泄漏设定点进行快速开/关控制.质量保证和过程优化: 诸如提供气体成分定量测定, 确定过程气体纯度, 以及监测真空镀膜过程相关气体成分等能力, 残余气体分析仪 HiCube RGA 是过程记录和质量保证中的重要工具. 即使测量正在执行, 所有测量值也会得到存储, 并且可以在不停止测量的情况下追踪. 即使仍在执行测量, 也可以导出测量结果以进行进一步分析.若您需要进一步的了解残余气体分析仪详细信息或讨论, 请联络：上海伯东: 叶女士 上海伯东版权所有, 翻拷必究！

上海伯东日本 Atonarp Aston™ 质谱分析仪无等离子体设计,可以实现快速, 化学特定的原位定量气体分析, 与光学发射光谱 OES 对比, Aston™ 质谱仪 的 OA% 灵敏度显示为 0.25%, 适用于半导体工艺中蚀刻计量控制, ALD, 3D-NAND 和新兴的堆叠式 DRAM.半导体蚀刻工艺挑战日益增加蚀刻是半导体制造中常用的工艺之一. 介电蚀刻用于形成绝缘结构, 触点和通孔, 多晶硅蚀刻用于在晶体管中创建栅极, 金属蚀刻去除材料以显示电路连接图案并钻穿硬掩模.连续蚀刻铝 Al, 钨, 铜 Cu,钛 Ti 和氮化钛 TiN 等工艺金属具有挑战性, 因为许多金属会形成非挥发性金属卤化物副产品（例如六氯化钨 WCl6）, 这些副产品会重新沉积在蚀刻侧壁上, 导致成品率降低（通过微粒污染或沉积材料导致短路）.随着半导体行业不断缩小关键特征尺寸并采用垂直扩展 (如 3D-NAND 存储器和全环绕栅极先进技术节点), 各种新的蚀刻挑战已经出现. 这些包括在晶圆上蚀刻更小的特征, 高展弦比 HAR 沟槽蚀刻 (具有小的开放面积百分比- OA%), 以及在新兴的非挥发性存储器和高 k介质中蚀刻金属闸极, 稀土金属等新材料. 对于先进的纳米级工艺, 如蚀刻到硅介质和金属薄膜, 选择性处理, 如原子层蚀刻 ALE 一次去除材料的几个原子层. ALE 提供了比传统蚀刻技术更多的控制. 对于 3D-NAND 和先进 DRAM 来说, 向批量生产过渡的重大挑战包括解决导体蚀刻困难的要求, 满足积极的生产斜坡和实现所需的吞吐量, 以推动成本效益.上海伯东日本 Atonarp Aston™ 质谱分析仪提供高性能, 嵌入式和可靠的原位定量分子气体计量已经成为验证工艺室和持续监测工艺化学过程的关键工具, 确保生产环境中的高产率和更大吞吐量.Aston™ 质谱分析仪提供全腔室解决方案使用上海伯东 Atonarp Aston™ 质谱仪通过实时, 定量和精确的分子传感器来解决半导体新兴蚀刻工艺技术相关的关键挑战. 通过解决传感器耐久性, 灵敏度, 匹配, 系统集成和易用性等方面的挑战, 日本 Atonarp Aston™ 质谱仪升级了传统的气体分析计量方法. Aston 是一种全室解决方案, 用于在各种工艺步骤中实时监测前体, 反应物和副产物.这些包括基准室和过程指证, 腔室清洁, 过程监测 (包括存在腐蚀性气体), 颗粒沉积和气体污染物凝结. 小的占地面积和灵活的通信接口允许在室内安装和集成到过程设备控制系统. 为了集成到半导体工艺工具中, Aston 质谱分析仪的高性能和可靠性设计用于生产晶圆的大批量生产过程控制.Aston™ 质谱分析仪半导体蚀刻计量控制半导体行业正从二维结构的扩展转向复杂三维结构的挑战性要求. 传统的离线晶圆测量已不足以实现性能和良率目标, 原位蚀刻测量传统上缺乏生产所需的鲁棒性和可重复性. Aston™ 质谱分析仪的结构中嵌入了专利技术, 使其具有卓越的分析和操作性能. 为了满足过程控制和跨工厂生产工具匹配的严格要求, Aston 从头开始设计, 高运行时间和低维护的吞吐量, 长期信号稳定性和可重复性.为了承受腐蚀和沉积过程的恶劣环境, Aston™ 引入了两个的功能: 等离子电离和自清洁 (ReGen™模式). 等离子体电离消除了由于与腐蚀性气体(如NF3, CF4, Cl2)的反应而导致的灯丝降解. 此外, 除去(正硅酸四乙酯) TEOS 等颗粒和蒸汽污染物沉积, 同时定期进行室内清洁循环, 延长了 Aston™ 质谱仪的使用寿命. ReGenTM 模式使仪器能够使用高能等离子离子清洗自身, 通过去除在膜沉积过程中可能发生在传感器和腔室壁上的沉积. 结合这两个功能, 传感器的灵敏度可维持在数百个RF(射频)小时的操作. Aston质谱仪支持的基于测量的控制, 有可能延长清洗间隔 MTBC 的平均时间. MTBC 的增加意味着工具可用性和长期吞吐量的增加. 除了等离子电离器(用于工艺), 传感器还配备了传统的电子冲击 EI 灯丝电离器, 用于基线和校准.分子传感器的分析级是使用微米级精密双曲电极的四极杆. 由高度线性射频(RF)电路驱动, Aston 质谱的HyperQuad 传感器在 2到300 amu的质量范围内具有更高的分析性能.Aston™ 质谱分析仪技术参数参数值质量分辨率0.8u质量数稳定性0.1u灵敏度(FC / SEM)5x10-6 / 5x10-4 A/Torr最低可检测的部分压力(FC / SEM)10-9 / 10-11 Torr检测极限10 ppb最大工作压力1X10-3 Torr每 u 停留时间40 ms每u扫描更新率37 ms发射电流0.4 mA发射电流精度0.05 %启动时间5mins离子电流稳定 ±1%浓度的准确性 1%浓度稳定±0.5%电力消耗350w重量13.7kg尺寸400 x 297 x 341mm高展弦比 HAR 3D 蚀刻随着多模式技术和 3D器件结构的出现, 高度密集的蚀刻和沉积过程驱动了计量需求. 3D多层膜栈, 如 NAND 存储架构, 代表复杂的, 具有挑战性的蚀刻过程, 具有关键的蚀刻角度, 统一的通道直径和形状要求, 尽管高蚀刻纵横比通道 100:1 是常见的. 对于 3D-NAND, 关键导体蚀刻过程包括阶梯蚀刻(下图)和用于垂直通道和狭缝的 HAR 掩模打开. 通过硝酸硅和氧化硅交替层蚀刻需要高速定量终点检测. 对于 DRAM, 蚀刻过程包括 HAR 门, HAR 沟槽和金属隐窝. 对于阶梯蚀刻, 关键是在整个 3D堆栈的每个介质膜对的边缘创建等宽的“步骤”, 以形成阶梯形状的结构. 在器件加工过程中, 这些步骤的大量重复要求蚀刻高吞吐量和严格的过程控制.多功能现场气体计量需要在一个工具中执行多种监测功能:• 检测和量化污染, 交叉污染, 气体杂质和工艺室内的工艺化学• 评估已开发的蚀刻过程在生产工具 / 运行的复杂功能上的性能• 测量刻蚀后的清洁 (包括先进的无晶圆自动清洁 WAC) 作为腔条件对于消除工艺漂移和确保可重复性性能是至关重要的• 快速准确的蚀刻端点检测 EPD, 通过等离子体或气体监测, 因为这是一个关键的控制功能. 举例包括一氧化碳 CO 副产物在介电蚀刻中下降或氯 Cl 反应物在多晶硅和金属蚀刻端点上升.• 全面的实时计量数据, 允许过程等离子体和反应物的动态腐蚀控制, 以管理要求的腐蚀剖面Aston™ 质谱分析仪无等离子体终点检测虽然光学发射光谱 OES 已被广泛用于蚀刻 EPD, 但低开放面积 OA 和 HAR 设计的趋势使其在许多蚀刻任务中无效. OES 技术需要等离子体'开'和发光物种. 随着昏暗和远程等离子体越来越多地用于 3D设备和原子水平蚀刻 ALE 工艺, 需要更多敏感的数据和分析技术来实现迅速和确定的 EPD. 此外, 脉冲等离子体通常用于管理 HAR 和 低 OA% 工艺的蚀刻剖面, 这使得 OES 对于 EPD 来说是一个不切实际的解决方案. 在3D 结构中, 多层薄膜和多个接触深度阻碍了每一行触点到达底部时端点的光学发射信号的急剧步进变化其他 OES 限制包括:• 在电介质蚀刻中, 在 OA 5% 的模式上进行 EPD一直具有挑战性, 因为 OES 在低浓度下具有低信噪比.在高压Si深蚀刻(例如博世工艺)中, 要求 OA% 的 EPD低于 0.3%, OES 中较大的背景噪声水平抑制了对发射种数量的任何变化的检测.• 在金属蚀刻中, OA% 可能低于10%, 这取决于所涉及的互连尺寸. 对于接触和通过蚀刻, OA 可以在0.1-0.5%之间或更低, 这取决于所涉及的特征的大小. 在钨 W 蚀刻的情况下, 随着 OA的减小, 氯 Cl 反应物的消耗减少, 由于材料运输到 HAR 蚀刻特征, 蚀刻趋于放缓. 这两个因素都降低了反应气的消耗率. 因此, 由于等离子体中反应物的耗尽, 很难看到在终点处 OES信号的显著变化.Aston™ 质谱仪可以利用蚀刻反应物和 EPD 的副产物. 此外, Aston 能够在小的, 有限体积的传感器上运行周期性清洗, 以保持其性能(灵敏度), 在延长晶圆运行次数的情况下获得更大的正常运行时间. 然而, OES 要求在腔室上有一个需要保持清洁的访问窗口，以获得足够强度的稳定信号。通常，加热石英窗用于减缓工艺产品的堆积. 使用 Aston™质谱分析仪，在低浓度下的检测不受等离子体发射的背景光谱的影响, 也不受射频功率脉冲期间等离子体强度波动的影响.图 3a/3b 显示了 CO+和 SiF3 +的副产物 OA%下降到0.25%的电介质腐蚀EPD数据数据清楚地显示了线性行为和在低浓度下的检测不受等离子体发射的背景光谱影响. Aston 质谱的 ppb 灵敏度是针对 0.1%以下的 OA性能.原子级蚀刻 ALE在三维结构中, ALE 过程中的逐层去除需要脉冲射频电源来控制自由基密度和较低的离子能量, 以减少表面损伤和保持方向性. 在这样的光源中, 等离子体的整体光强较低, 并表现出波动幅度. 通常等离子体离晶圆区很远(距晶圆区25厘米), 而且等离子体激发的副产物很少, 使得光学测量不切实际.在 ALE中, 由于每个周期都是自我限制的, 端点检测可能不那么重要. 然而, 在缺乏气体分析的情况下, 工艺工程师对监测腔室和工艺健康状况“视而不见”, 因为无法看到化学状态, 特别是在工艺步骤 (吸附/净化/反应/净化) 之间过渡时的动态状态, ALE 的自限性并不能使它不受过程漂移的影响. 此外, 由于 ALE 不是基于等离子体的, 因此过程中的化学变化不一定可以通过等离子体监测检测到.有一种误解, 认为 ALE 技术实际上是一次一个原子层 相反, 它们每循环的去除/沉积量可能比单分子膜多一点(或少一点). 由于真空泵性能, 晶圆温度或离子轰击能量 (电压) 的变化分别导致表面饱和度和表面反应性的变化, 工艺移位(Å/周期的变化)可能发生.在 ALE (下图)中,由于等离子体的使用不一致, 化学监测方面的差距就不那么明显了. 在这种情况下, Aston™ 质谱仪具有以下优点:• 在每个工艺步骤中建立一个腔室化学状态的指证. 这可以参照其自身的正常行为, 也可以参照标准腔• 描述和监控与化学变化相关的动态过程中, 从一个步骤过渡到下一个步骤• 监测在 ALE 循环第一步之后从系统中清除吸附物质的时间. 等离子体通常用于产生吸附物质(自由基), 但它是在远离晶圆片的地方产生的• 监测 ALE 循环第二步反应产物的变化. 等离子体光强通常较低, 因为它使用了低占空比的脉冲射频• 监测反应产物和反应物在ALE循环第二步后被净化的时间结论原子级蚀刻只能使用像上海伯东日本 Atonarp Aston™ 质谱仪这样的分子传感器进行真正的测量和监测. 它的高灵敏度, 速度和对等离子体强度变化的低敏感性产生可靠的定量测量, 即使在低浓度的反应物和副产物, 具有低于1% 水平的高精度, 可以监测微妙的过程漂移和过程变化效应, 提供了可用于机器学习模型的见解.利用其高扫描速度, 通过监测反应产物减少的时间来实现步进时间优化, 因为它是表面反应活性变化的指示, 增加了总体吞吐量.ALE 是先进的蚀刻技术, 上海伯东 Aston 质谱仪为 ALE 提供了先进的化学计量技术, 可以测量和控制反应及其持续时间, 为大批量生产提供了可靠的解决方案.若您需要进一步的了解 Atonarp Aston™ 在线质谱分析仪详细信息或讨论, 请参考以下联络方式：上海伯东: 罗先生

仪器简介：英国Hiden公司的QIC 20 小型在线气体分析质谱仪是一台完备的台式气体分析系统，用于监测气体和过程分析，便于生产、研究使用。应用： 过程监测 在线分析 污染物研究 CVD / MOCVD 环境气体分析 热分析质谱 催化剂研究/ 反应动力学技术参数： QIC 直接进样，对气体、蒸气的响应时间 1～20 sccm / min连续进样 取样压力：100 mbar ～ 2 bar（可选配10mbar－2bar） 高压取样接口至30 Bar（选配） 灵敏度高 (0.1ppm标配，可选配至 5 ppb) 质量数：1-200amu标配。可选配50amu，100amu，300amu,510 amu。主要特点： 高效、柔韧、加热(直到200℃)惰性石英毛细管（QIC) 惰性毛细管避免了气体与毛细管发生物理或化学反应 自动流量控制，以恒定离子源压力 液氮低温板（选配），增强对可凝结的背景气体的抽吸 软离子化技术，有利于分析复杂有机物 稳定性(24h以上，峰高变化小于±0.5% ) 通过RS232、RS485或以太网连接计算机，由 MASsoft 软件控制 定量分析方法

价格货期电议在线质谱分析仪热催化分析上海伯东客户某大学采购在线质谱分析仪 Omnistar, 对经过热催化后的气体 CH4, NO, CO2 等气体进行分析. 热催化主要涉及在较低温度 (≤ 523 K) 的加氢反应, 生成 CH4, NO, CO2 等气体. 热催化是催化 CO2 转化最常用的方法之一.在线质谱分析仪使用方法: 在催化反应装置尾气段接入质谱分析仪 Omnistar GSD 350 02, 即可在线实时分析反应产物的种类及特性. 定量分析需要加配对应的标气, 利用氦气作为载体, 在测试前进行标定.若您需要进一步了解详情，请联络上海伯东叶女士

英国Hiden公司的QGA定量气体分析质谱仪是为在常压附近连续定量分析气体/蒸气的而设计。QGA配有专业版定量气体分析软件，提供了多种气体实时定量分析的功能。操作界面简单方便，使得用户非常容易去设置，减少了编辑程序的麻烦。设置简单、操作方便 图形、数据实时显示 本底自动校正 16种气体的定量分析 数据以原始数据、%或ppm形式输出 智能谱库扫描功能 准确的碎片峰形记录 自动减去重叠谱 数据输入外部气体分析器，例如一个CO分析器，能自动积分分析质谱数据 多路气体分析可自动顺序测量能连接多达80路气流（需选配多路取样阀）

MS GAS-100气体分析质谱仪用于对气体和挥发物质，包括同位素、溶剂和可挥发有机物进行复杂的精确分析。 系统组成：质谱分析模块：由开放/封闭版电子碰撞离子源，两个独立灯丝和一个四级质朴分析器组成。质量范围分为1-100、1-200和1-300 amu。系统中应用两种检测器：法拉第检测器：灵敏度低于10ppm次级电子倍增检测器（SEM）：灵敏度低于100ppb高效真空泵系统：真空室内置加热元件；专用汽水分离模块；双泵抽真空模块，包括前级隔膜泵和涡轮分子泵。恒温加热元件可以去除真空室中的杂质。汽水分离模块中的电子控制斯特林制冷器可以高效抑制水分子背景，从而显著提高离子源寿命。这一模块可以连续运行数周。温度可以由用户自定义，从而监测特定的挥发物质，如乙醇等。进样单元：模块化设计，可互换渗透膜探头或针阀进样器。渗透膜探头允许溶解物质通过，既可以测量液态样品，也可以测量环境气体。针阀进样器适用于直接测量气态样品中的挥发物质。真空压传感器：测量真空室中的总压力和进样单元中的压力，确保不会损坏质谱分析器。集成触屏监控器：可手动控制加热/制冷温度，开闭进样器、分流阀和安全阀。可通过预设程序进行自动测量。控制软件：操作设定质谱仪、获取测量数据、编写用户自定义测量程序用于测量特定的物质。应用领域： 气体和液体样品的气体交换，如藻类光合作用（CO2、O2）、生物燃料研究（H2、乙醇、烃类）一台仪器即可进行多种气体和挥发物质的长期监测两种进样单元，即可测量气体也可测量液体模块进样设计，多种接口可选，可以进行整株植物或细胞悬液的气体交换分析固氮生物研究（N2）18O2标记光呼吸研究同位素分布分析气体污染研究（CH4，H2S，NOx，SO2，CS2，CO等）水污染研究（可溶性有害气体、挥发性有机物等） 技术参数：分析气体种类：气体：CO2、O2、H2、N2、C2H4、CH4、H2S、NOx、SO2、CS2、CO等挥发性有机物：乙醇、烃类、苯、甲苯、丙酮等 质谱分析器：残余气体分析器（RGA）质量范围：1-100 amu、1-200 amu、1-300 amu离子源：开放或封闭版电子碰撞离子源，两个独立灯丝（灯丝材料：yttriated iridium）检测器：法拉第检测器：灵敏度10ppm次级电子倍增检测器（SEM）：灵敏度100ppb响应时间：20秒真空系统：前级隔膜泵和涡轮分子泵进样器：渗透膜探头（PDMS）或针阀进样器加热系统：100W恒温加热元件，最高温度90℃制冷系统：电子控制内置斯特林制冷汽水分离模块，最低温度-80压力传感器：高真空压传感器用于测量真空室中总压力；进样器压力传感器用于保护质谱分析器触控屏：系统控制并显示实际读数BIOS：可升级固件通讯端口：千兆以太网，TCP/IP协议外部工作站：预装专用软件，操作设定质谱仪、获取测量数据、编写用户自定义测量程序用于测量特定的物质尺寸：54.5×72×45.5cm重量：65kg供电：110-230V交流电应用案例：配合FMT150藻类培养与在线监测系统测量蓝藻Synechocystis 6803光补偿点（测量O2）。配合专用测量室和FluorCam便携式叶绿素荧光成像系统，测量整株番茄的光合作用（测量CO2），同时与Li6400测量数据进行对比，可见MS GAS-100的稳定性和重复性要远远高于Li6400。 产地：欧洲 参考文献：1. Zav?el T. et al, 2016, A quantitative evaluation of ethylene production in the recombinant cyanobacterium Synechocystis sp. PCC 6803 harboring the ethylene-forming enzyme by membrane inlet mass spectrometry. Bioresource Technology, 202:142-1512. Zav?el T., ?erveny J., Knoop H., Steuer R., 2016, Optimizing cyanobacterial product synthesis: Meeting the challenges. Bioengineered, 7(6): 490-496.

HPR20 QIC TMS瞬变过程气体分析质谱仪是为在常压附近快速反应的气体分析而设计的系统。配置0.9m长度的石英毛细进样管，是理想的气体瞬变过程分析质谱仪。0.9m长的高效、柔韧、加热(直到200℃)石英惰性毛细管（QIC) APSI-MS 软离子化技术，选择性分析复杂气体和蒸汽 多离子源选择和快速响应的优化泵结构 脉冲离子记数器，可检测连续7个数量级的动态范围 ppm,%定量分析方法 提供两组外部参数显示信号；可选配16组 扩展余地宽 质量数范围： 1～50、100、200 、300、500、1000amu 响应速度： ＜150ms，200毫秒内对于5个数量级气体组成变化做出反映 扫描速度： 100amu/s 取样压力： 100mbar～2bar 标准配置 1mbar～30bar 选配 检测浓度： 5ppb～100% 稳定性： 24h以上，峰高变化小于±0.5% 测量速度： 500点/秒

仪器简介 英国Hiden公司的HAL 201 RC超高真空残余气体分析四极质谱仪专为检测超高真空容器中的存在组分而设计，针对真空诊断进行精确的分析。 离子源为镀金离子源，适合应用在总压小于5 x 10-10mbar的领域，其系统与EPIC离子/分子分析质谱仪完全兼容。 主要特点：镀金离子源，以减少离子源脱气 氧化物涂层双铱丝的离子源 双法拉第/ Channeltron电子倍增器检测器 技术规格：质量数范围： 200，300 amu扫描速度： 100amu/s 最小扫描步阶：0.01amu 灵敏度： 0.1 ppm～1ppm 稳定性： 24h以上，峰高变化小于±0.5% 最小检测分压：5 x 10-14 mbar 最大工作压力：1 x 10-4 mbar

Aston™ 质谱分析仪安全地减少设备停机时间预防性维护是良好晶圆厂管理与安全第一的理念支柱. 刻蚀和沉积设备需要定期脱机进行深度清洁和/或打开工艺室进行部件更换. 考虑到沉积或蚀刻工艺设备的每小时折旧和生产损失可能轻易超过 1000美元/小时, 减少设备停机时间是至关重要的. 但是, 考虑到许多工具都有高度腐蚀性的清洁气体或工艺副产物气体, 如 HCl, NF3, HBr, HF, F, Cl, 如何安全地停机维护是一个挑战.问题在打开腔室进行日常维护之前, 需要安全地清除腔室内的工艺副产品或清洁循环中的残留工艺气体, 然而,挑战在于如何确保腔室在打开之前是安全的并且没有有害残留气体. 已知的一个方法, 确保工艺室不含有害残留气体（包括由表面去吸收产生的残留气体）的方法是运行（过长）长压力循环吹扫气体. 在没有计量或反馈的情况下, 吹扫周期需要足够长以确保腔室没有有害物质, 这会导致效率低下, 周期长和设备停机时间长. 由于灵敏度和等离子体可用性的问题, 不能使用常见的计量解决方案, 例如光学发射光谱. 传统的残余气体分析仪在腐蚀性气体环境中工作时面临挑战, 这可能导致电子冲击灯丝在长吹扫周期中腐蚀和故障.上海伯东日本 Atonarp Aston™ 质谱分析仪减少设备停机时间解决方案Aston 原位质谱仪可以进行快速, 化学特异性原位定量气体分析, 以实现准确和快速的腔室吹扫终点检测. 与典型的基于时间的清洗程序相比, 这可以节省大量的设备停机时间。 由于 Aston™ 质谱分析仪可用于加速泄漏检测和腔室老化到已知良好腔室化学指征, 因此可以实现清洁后的进一步停机.在不需要等离子体的情况下, 每秒可以采集数十个样本, 灵敏度低至 100 PPB（十亿分之几）水平. 除了基于灯丝的电子碰撞电离源外, Aston Plasma 还提供内部等离子电离能力. 双电离源支持较宽的工艺压力范围, 等离子电离允许分析较高压力下的苛刻气体, 而不会出现残留气体分析仪中常见的灯丝腐蚀问题.通过减少设备停机时间和重新调试, 可以在不到 12 个月内实现回报, 此外, Aston™ 质谱分析仪还为现场过程监控和管理提供了价值优势.Aston™ 质谱分析仪是一种具有成本效益的解决方案, 可在日常维护和后续维护后投产调试前实现快速, 安全的腔室清洗. 除了 Aston ™ 在沉积和蚀刻过程控制中提供的过程监控优势外, 还可以通过原位测量灵敏度和速度来显着减少设备停机时间.若您需要进一步的了解 Atonarp Aston™ 在线质谱分析仪详细信息或讨论, 请参考以下联络方式：上海伯东: 罗先生

QGA配有专业版定量气体分析软件，提供了多种气体实时定量分析的功能。操作界面简单方便，使得用户非常容易去设置，减少了编辑程序的麻烦。应用： 催化研究反应动力学热分析质谱气体纯度分析多组分气体分析 环境气体分析 燃烧研究 CVD / MOCVD 发酵过程分析 氢气在线监测技术规格： 质量数范围：1～200 amu(标准配置) 1-300amu可选 响应速度： 300毫秒内对于气体浓度的变化做出反映 取样压力：100mbar～2bar 标准配置；1mbar～30bar 选配 检测浓度： 1 ppm～100% QGA专业定量分析软件 多种气体或蒸汽的定量气体分析 智能谱库扫描功能 建立气体/蒸汽谱分析计算并自动减去重叠谱 谱图模拟器动态快速显示用户控制的变化 可从外部输入触发信号，自动开始分析 能够读取多种输入，如温度和压力 数据输入外部气体分析器，例如一个CO分析器，能自动积分分析质谱数据 多路气体分析可自动顺序测量能连接多达80路气流（需选配多路取样阀）

激光拉曼光谱气体分析仪LRGA-6000产品名称：激光拉曼光谱气体分析仪　产品型号：LRGA-6000激光拉曼光谱气体分析仪LRGA-6000基于激光拉曼散射原理，通过对待测气体的特征拉曼散射光谱进行增强、收集、处理和识别，并对含量进行定量计算。可同时对多种气体进行全量程的在线和实时检测。　　 产品特性　　 采用激光拉曼气体特征指纹技术，干扰少 在线、实时：一台仪器解决工业过程气体全流程监测 全组分：测量包括N2、O2、H2O在内的气体全组分 响应速度快，样气进入分析仪后直接显示测量结果 全量程气体浓度测量，检测范围为(0.01-100)%，调整时间，也可以测量微量组分 具备温度和压力自动修正功能，无漂移 使用和维护成本低，无须载气与耗材 集全自动气体连续采样、反吹、标定系统于一体 可选配集成系统，实现对多个监测点的实时循环监测 智能化软件设计，全触屏界面，数据直观显示，可外接PC键盘产品优势在线、实时、全组分，可取代气相色谱GC和质谱MS对比红外分析技术(NDIR)——红外气体分析仪量程范围小，且不能检测同核双原子分子，如N2、O2和H2等。LRGA-6000拥有多组分气体成分检测能力，尤其是能够精确测量天然气中的双原子分子，且量程更大，精度更高。对比气相色谱技术(GC)——气相色谱仪使用需要载气和色谱柱，且响应时间通常需要几分钟到几十分钟，需要专业技术人员操作。LRGA-6000响应时间极短，无需载气和耗材，操作简便，使用成本低。对比质谱分析技术（MS）——质谱分析仪价格昂贵，维护成本高，操作复杂，很少用于工业现场在线分析。LRGA-6000坚固耐用，操作简单，维护成本低，更适用于恶劣的工业现场。 技术参数行业应用领域监测气体煤化工行业煤气发生炉煤制天然气合成氨/尿素CO、CO2、H2、N2、O2、CH4、C2H2、C2H4、C2H6、C3H8、H2S…CO、CO2、H2、N2、O2、CH4、C2H6、C3H8、iC4、nC4、H2S、H2O…CO、CO2、H2、N2、O2、CH4…钢铁冶金行业CO、CO2、CH4、C2H2、C2H4、C2H6、C3H8、O2、H2、N2、H2S…石油天然气行业CH4、CO、CO2、H2S、C2H6、C2H4、C3H6、C3H8、H2…原铝行业CO、CO2…环保行业H2、N2、O2、CO、CO2、CH4、C2H2、C2H4、C3H6、C3H8、H2S…电力行业CO、CO2、H2S、CH4、H2O…水泥行业CO、CO2、H2O、H2S…基本参数量程范围最低量程：（0~10）%，最高量程：（0-100）%线性误差≤±1%F.S.分辨率0.01%仪表响应时间≤90s漂移≤2%F.S./24h，

价格货期电议上海伯东客户某研究院采购 Pfeiffer 在线质谱分析仪 Omnistar GSD 350 O1 主要用于催化剂的吸附分析检测.在线质谱分析仪与化学吸附仪联用, 检测催化剂通过化学吸附后的微量的气体产物变化, 来进一步优化催化剂的催化性能. 可研究催化剂的 NH3-TPD, TPR, TPO 等反应, 通过 Omnistar 对吸附后的微量产物做更加清晰的定性和定量分析, 明确反应的机理和反应过程. 伯东质谱分析仪成功协助客户发现新的催化剂的拓扑结构!除此之外, 此客户还计划在后续的研究中, 采用伯东质谱分析仪 GSD 350 直接连接催化反应装置, 通过直接检测反应后的气体产物, 来做催化剂的在线研究和评价.上海伯东德国 Pfeiffer 质谱分析仪 Omnistar 体积小, 重量轻, 一体设计, 易于携带和搬运, 可方便快捷地应用于多个反应之中, 一台即可满足实验室后续的各种研究需求. 具有强大的软件分析功能 PV MassSpec, 提供多种质谱图谱库, 可以准确迅速, 定性定量地识别出检测到的未知产物, 是催化研究中不可或缺的科研仪器之一.在线质谱分析仪 Omnistar GSD 350 01 主要参数 质量数 1-100 amu 最大进气口压力 1200 hPa 检测极限 100 ppb 气体流率 1-2 sccm (0 °C) 输入模拟 5 x, -10 – +10 V, 14 bit | 16 bit 不锈钢毛细管长度 1m 进样加热温度最高 200 °C 铱灯丝, Y2O3 2根 若您需要进一步的了解在线质谱分析仪 OmniStar, 请联络上海伯东叶女士

EnviroSafe多通道在线质谱分析系统能够实时检测、跟踪和监测有害物质的泄漏和生产工艺的安全问题，无需配置多套复杂的分析仪就能实现低成本、高收益的解决方案。该系统专门为有害物质的实时监测设计，在灵敏度、分析速度、响应时间和报告生成等方面提供了卓越的性能。实时监测几乎任何有害物质的能力使该系统成为工业安全的优秀选择之一，并符合国家和行业的相关标准或法规的要求。该系统安装在一个紧凑的、布局合理的机柜内以节省空间，可以灵活地选择放置该系统的位置。如果需要安装在危险区域，可以选择符合ATEX防爆标准的适用于安全1区的配置版本。该系统可以同时监测多达70个采样点位（可定制），这通常意味着整个工厂或园区可以只用一个系统进行监测。所有的样品点通过采样泵连续进样，确保当选择某一样品点时，“新鲜的”样品可以直接到达质谱分析仪。每个样本点的进样和检测时间是可选择的，并且可以按照预设的顺序进行检测。整个过程通过自动化的无人值守远程操作，也可以集成到工厂或园区的控制系统，检测报告可以自动生成，非常适合许多危险区域的实时监测，包括：氯乙烯/DCM生产和中试装置尿素/氨装置VOCs泄漏环境溶剂监测（如甲苯、苯乙烯、苯等）含氯化合物硫醇和胺气体洗涤器监测封闭/密闭工作场所腐蚀物以及许多其他应用领域 每一采样通路可实时监测多达64个组分，每一组分可以单独控制并设置报警参数，确保整个过程被监测，没有任何遗漏。具有真正的在线监测功能，EnviroSafe提供了一种比传统技术更快、更可靠的分析方法。EnviroSafe系统是基于英国ESS公司多年的现场经验，在为工业安全提供技术应用支持的同时，也验证了其数据的可靠性。EnviroSafe系统代表了工业安全预警监测和工作场所暴露监测中的众多先进技术的选择之一。

仪器简介：qRGA托卡马克装置残余气体分析质谱仪专为阈值电离质谱(TIMS)模式下操作，核聚变系统燃料输送进行分析而设计的质谱仪。 通过控制TIMS模式提供的电子发射能量，能对D2 和4He的同位素进行分析检测。 主要特点：实时定量分析 ppm级检测水平 在常规质量分析和TIMS模式下操作 电子能量分辨率为0.1 eV 辐射屏蔽和磁屏蔽，低耗费运行 技术规格：质量数范围：1～200 amu 软离子化： 0～150eV 稳定性： 24h以上，峰高变化小于±0.5%

仪器简介：HALO 201 MBE 分子束外延残余气体分析四极质谱仪用于泄漏探测、趋势分析、真空诊断的过程监测和残余气体的精确分析。该分子束外延特定分析质谱仪由兼容性材料组成，并能在分子束外延环境中长期使用。 主要特点：钼铜布线增加MBE环境下系统的寿命 抗污染离子源护罩 双法拉第/ channelplate电子倍增器 技术规格：质量数范围： 1～300 amu 扫描速度： 100amu/s 最小扫描步阶：0.01amu 灵敏度： 0.1 ppm～1ppm 稳定性： 24h以上，峰高变化小于±0.5% 最小检测分压：2 x 10-13 mbar 最大工作压力：1 x 10-4 mbar Mass Spectrometers for Residual Gas Analysis - RGA (1.35 MB)

Atonarp 质谱分析仪 Aston™ 半导体 CVD / ALD 应用上海伯东代理日本 Atonarp 过程控制质谱仪 Aston™ 为半导体生产而设计, 作为一个强大的平台, Aston™ 可以取代多种传统工具, 提供半导体制程中 ALD, CVD, 蚀刻, ALE 和腔室在大批量生产中的气体侦测分析, 实现尾气在线监控, 诊断并在一系列应用中提供更高的控制水平, 适用于光刻, 电介质和导电蚀刻及沉积, 腔室清洁, 腔室匹配和消解.Aston™ 质谱分析仪耐受腐蚀性气体和气化污染物冷凝液, 能够在半导体生产遇到的恶劣工况下可靠运行, 与传统质量分析仪相比, 使用 Aston™ 的维修间隔更长. 它包括自清洁功能, 尽可能的清除由于某些工艺中存在的冷凝物沉积而导致的污垢积累.Aston™ 质谱分析仪典型应用: 保护 CVD 工艺免受干泵故障的影响真空泵是半导体加工厂中应用广泛的设备之一. 真空泵对于在真空环境操作下的各种化学气相沉积工艺至关重要, 这些工艺在真空下运行, 以确保在较低的加工温度下获得均匀, 保形的沉积涂层. 干泵通常是惰性且可靠的, 但在苛刻的半导体制造工艺中进行泵送时, 干泵可能会出现意外故障.灾难性故障电介质沉积冷凝液和苛刻的工艺气体 (如 NF3) 可能会导致性能下降或突然失效模式, 包括沉积物突然吸入, 排气堵塞, 沉积导致干泵卡死以及干泵部件的腐蚀退化. 干泵故障通常会对 10片甚至 100片在加工中的晶圆造成不可修复的损坏. 此外, 工具停机和清理可能会导致大量开支和收入损失.CVD 工艺过程中, 已污染的干泵上海伯东 Aston™ 质谱分析仪提供解决方案通过在故障前, 提前更换或使干泵离线, 可以减轻灾难性的真空损失, 从而提高生产线良率.数据驱动干泵故障预测. 通过测量进入 (进气) 和排出 (排气) 干泵的气体的分子类型和质量 (分压), 可以对破坏性腐蚀或沉积物堆积进行建模. 仅气体压力和体积仅部分指示气流的腐蚀性或堵塞性. 至关重要的是流经干泵的气体成分. Aston™ 质谱分析仪通过对干泵暴露在气体浓度下的情况进行建模, 并将模型与实际泵故障相关联, 可以较准确的预测干泵的预期运行寿命.在恶劣的 CVD 环境中, Aston™ 利用可操作的数据预测和预防因 PV-CVD 干泵引起的灾难性故障, 能够对破坏性腐蚀或沉积进行预测建模, 优化氮气吹扫成本.适用场景: 多个腔室连接到 1个干泵, 高浓度的电介质会导致灾难性的泵故障 (一次损失 10-100 片的晶圆)通过使用上海伯东 Atonarp 过程控制质谱仪 Aston™ 可以提高半导体制造工艺的产量, 吞吐量和效率, 此款质谱仪可以在新工艺腔室的组装过程中进行安装, 也可将其加装到已运行的现有腔室, 可在短时间内实现晶圆更高产量! Atonarp 质谱由统一的软件平台, 光学和质谱技术的突破性创新提供支持, 可提供实时, 可操作, 全面的分子谱分析数据.Atonarp Aston™ 质谱仪半导体行业应用1. 介电蚀刻: Dielectric Etch2. 金属蚀刻: Metal Etch EPD3. CVD 监测: CVD Monitoring4. 腔室清洁 EPD: Chamber Clean EPD5. 腔室指纹: Chamber Fingerprinting6. 腔室匹配: Chamber Matching7. 高纵横比蚀刻: High Aspect Ratio Etch8. 小开口面积 0.3% 蚀刻: Small Open Area 0.3% Etch9. ALD10. ALE若您需要进一步的了解 Atonarp Aston™ 在线质谱分析仪详细信息或讨论, 请参考以下联络方式：上海伯东: 罗先生

UGA系列气体分析仪最新技术的质谱分析仪，压强测试范围从大气到超高真空压强，是在线监测和混合气体分析的理想设备。无论检测受限制的污染物，溶剂，氢化物，制冷剂或者是腐蚀性气体，UGA都能胜任。UGA的应用包括半导体尾气检测，杂物箱分析，燃料电池的研究，氟利昂检测，污染检测，发酵研究和简单真空分析。UGA系列气体分析仪自带windows软件，实时采集数据和图形化显示，操作方便快捷。软件功能中包含模拟的柱状扫描模式、压力和时间关系图、检漏测试、气体分析和在线分析。标准的GPIB和RS232接口方便与计算机连接控制。 UGA系列气体分析仪包含三种质谱范围：分辨是100amu、200amu、300amu。详细参数如下：?入口类型 1 to 760Torr 不锈钢和毛细管 10?1 to 10?4 Torr 1/8" to 1/4" 管型通道 10?4 Torr 2.75"CF法兰流量 1 to 10 毫升/分钟 （标准大气压下）?质谱仪器类型 四极（RGA） 探测器 法拉第杯和电子倍增管质谱范围 100, 200 or 300 amu分辨率 Better than 0.5 amu(at 10 % of peak height)探测极限 Less than 1 ppm工作压力 5 × 10?6Torr?系统高真空泵 涡轮分子泵隔膜泵 超低压隔膜泵

—来自美国劳伦斯伯克利国家实验室的绿色化学分析技术技术背景 当激光作用于样品表面时，在极短时间内诱导产生含有样品物质的等离子体，等离子体产生的过程中，发射出带有样品元素信息的发射光谱，通过检测这些发射光谱，得到样品的元素信息。这种技术被称为激光诱导击穿光谱技术LIBS（Laser Induced Breakdown Spectroscopy），俗称激光光谱元素分析技术，检测限可达ppm级；随着等离子的冷却，凝结的样品颗粒可输送到ICP-MS，可测量样品中的微量、痕量元素或同位素，检测限可达ppb级。 测量的元素可覆盖元素周期表中的大部分元素，高达100多种。 J200激光质谱联用元素分析仪是美国应用光谱公司APPLIED SPECTRA（ASI公司）融会美国劳伦斯伯克利国家实验室（Lawrence Berkeley National Laboratory）30多年激光化学分析基础理论研究成果推出的全球顶级产品。ASI公司由美国劳伦斯伯克利国家实验室资深科学家 Dr. Rick Russo及其团队成立。Russo博士研究领域包括：激光加热和激光剥蚀过程的机理研究；飞秒激光进样系统；利用激光剥蚀技术提高LIBS及ICP-MS 的化学分析精度；激光超声的无损检测和评估等。Russo 博士共发表学术论文300 多篇，专利22 项。ASI公司在激光应用领域具有世界领先的技术及经验。 系统介绍 J200激光质谱联用元素分析仪创造了激光等离子光谱化学分析技术的新时代，首次将LIBS技术和ICP-MS结合，将检测限提高到ppb级，并可得到样品元素的空间分布图（elements mapping)。目前已广泛用于国际高端和国家级实验室，如美国劳伦斯伯克利国家实验室、美国大克拉曼多犯罪实验室 、巴西圣保罗大学、 美国西北太平洋国家实验室等众多知名机构。 J200激光质谱联用元素分析仪基于激光诱导击穿光谱技术，实现了从氢元素到钚元素几乎全元素的测量，包括H、N、O等轻元素以及卤族等其他传统方法（包括ICP-MS）不能测量的元素。此外，J200激光质谱联用元素分析仪还可将剥蚀出的纳米级固体样品微粒直接送入ICP-MS进行更精确的分析，有效避免酸溶、消解等复杂样品前处理带来的二次污染和可能的误差引入，同时还可以大大提升元素检测限，实现了ppb以下到100%的宽范围测量。 功能 快速检测土壤、植物、中草药、刑侦材料（玻璃、油墨等）、矿石、合金等样品中的： ? 常量元素N, P, K, Ca, Mg, S ? 微量元素Fe, Cu, Mn, Zn, B., Mo, Ni, Cl ? 痕量元素：可检测化学周期表上大部分元素 ? 其他：有机元素C、H、O和轻元素Li、Be、Na等 （其他技术很难同时分析） ? 同位素 （可升级和ICP-MS 联用测量) 应用领域 ? 土壤、植物样品检测 ? 中药元素分析 ? 刑侦微量物证分析 ? 农产品检测 ? 地质矿物分析 ? 煤粉组分检测 ? 重金属污染检测 ? 合金分析 ? 宝石鉴定 ? 材料分析等 工作原理 J200激光质谱联用元素分析仪的固体激光器产生激光作用于样品表面。当激光能量大于样品击穿门槛能量时，在样品表面形成等离子体。这些等离子体中受激光能量激发到达高能态的样品物质在迅速回迁至低能态的过程中，发射出带有样品元素种类、含量信息的发射光谱，这些发射光谱信号被智能信号收集系统收集并传输至光谱仪中进行分光，再由CCD检测器进行检测，得到元素信息。硬件特点 ? J200激光质谱联用元素分析仪可对样品进行全元素快速检测，同时可将固体样品的剥蚀颗粒直接送入ICP-MS 系统，实现ppb级精确分析。弥补了ICP-MS不能测量部分轻元素的缺憾，也有效避免了ICP-MS分析中繁杂的 样品前处理过程及可能引入的二次污染。 ? J200激光质谱联用元素分析仪配置高适连接口，轻松实现与市面上绝大多数主流品牌ICP-MS的联用。 ? J200激光质谱联用元素分析仪配备有固体样品室，还可根据用户需求同时配置气体、液体样品室，并通过设 置可自动切换的光路系统，实现固、液、气体样品室在同一系统中的自动化切换，无需人为拆卸。 ? J200激光质谱联用元素分析仪的硬件采用模块化设计，易于更新。激光器和光谱仪（检测器）可根据样品的 种类及用户的研究目的进行升级，两者均不受外界环境温度影响，无需进行特殊的环境控制，使用寿命长。 ? J200的激光能量和激光光斑大小连续可调，激光脉冲能量稳定一致，可实现样品分层剥蚀（分辨率最小可达 7nm）、夹杂物和微光斑分析（直径最小可达5μm）、元素分布制图、高精度定量等多种分析。 ? J200激光质谱联用元素分析仪采用ASI专利技术：剥蚀导航激光和样品高度自动调整传感器相结合，解决了样 品表面凹凸不平导致剥蚀不均匀的问题；激光能量稳定阀确保到达样品表面的激光能量稳定一致；3-D全自动 操作台。 ? J200具备双摄像系统，分别用于广角成像和放大观察某一样品区域。 软件特点 J200的系统软件能实现对所有硬件组件的控制，能提供多种采样模式，包括直线、曲线、随机点、网格任意大小和自定义采样等，通过设置参数，可在无人值守的条件下自动进行大面积采样。 ASI公司专利的TruLIBS™ 数据库是真正的等离子体发射光谱数据库，与NIST数据库相比，TruLIBS™ 数据库能快速、准确地识别复杂的元素谱线，各种搜索功能，如波长范围、元素种类和等离子体激发态，将搜索时间缩短至几秒。TruLIBS™ 同时允许用户直接上传元素激光诱导特征谱线，进行谱峰的识别和标记。 J200内置的数据分析软件功能强大、分析速度快。能任意选取谱线及背景，自动计算谱线的净强度；计算两个波峰之比；自动计算所有波峰的标准偏差；同步分析所有文件夹及目录下的测量数据。多次采样时，软件自动统计监测LIBS的强度 ，监控信号质量，获得精确的定性和定量分析结果。 数据分析软件具有单变量和多变量校准曲线制定功能，易于完成高精度定量分析。单变量标定曲线对于基质较为简单的样品分析效果较好。多变量标准曲线用于分析基质较为复杂的样品，例如土壤、植物样品等，以减少基质中其它元素对目标元素的影响，提高分析准确性。 此外，J200的数据分析软件还具有PCA、PLS-DA、多参数线性回归等多种化学统计分析功能。可对样品进行快速分类鉴别，并可通过样品某一特定元素的二维或三维分布制图，形象展示样品元素的分布。 产地：美国应用案例1、土壤样品常量和微量元素分析 将不同来源的9个土壤标准样品压片处理，使用ASI公司的J200 激光光谱元素分析系统进行测量，并采用J200内置的专业分析软件对测量结果进行分析。并对分析结果的精确度和分类鉴别能力进行评价。图1为9个土壤标准样品的PCA三维分析结果图。这表示分析结果能良好的判断出这9个样品为不同类型的土壤。采用建立的标准曲线检测21号土壤标准物样品，以此来评价分析的准确度和精度（表1）。 2、植物样品表层及深层元素分布 将植物叶片置于金属元素溶液中至24小时，使用J200 激光光谱元素分析系统对叶片进行扫描，可见植物叶片对重金属元素吸收分布的情况。其中常量元素由LIBS系统直接测出，重金属元素由LA-ICP-MS进行测量。 采用飞秒LA-ICP-MS系统还可以对植物叶片进行深度的剖析。测量叶片内部不同部位的元素变化情况以及特定元素的分布情况。实验使用飞秒激光器，10个脉冲，脉冲1至脉冲10表示叶片的表层至内部。3、大米和糙米样品外壳及内部砷元素的分布图谱 大米是中国、韩国和日本等东亚诸国的主要农作物，大米中砷元素含量超标引发了很多食品安全问题。国际食品法典委员会标准中也明确规定铅含量不得大于0.2mg/kg ，镉含量不得大于0.1mg/kg，但仍然对砷元素含量无规定。为了建立相关标准，韩国科学技术研究院搜集了韩国市场上常见的100种大米和糙米样品，分析其中砷元素的含量及分布作为相关标准制定的科学依据。研究结果表明，砷元素主要分布在糙米和大米样品的表面，并存在砷元素含量明显的向中心递减趋势。结论：砷元素主要分布在大米和糙米的表面，打磨是降低砷元素含量的主要手段。部分文献 欢迎来电索取文献目录OlgaSyta,BarbaraWagner,Ewa Bulska,Dobrochna Zielinska,Grazyna Zo?a Zukowska,Jhanis Gonzalez,RichardRusso.Elemental imaging of heterogeneous inorganic archaeological samples by means of simultaneous laser induced breakdown spectroscopy and lasera blationin ductively coupled plasma masss pectrometry measurements.Kiran Subedi, Tatiana Trejos, Jose Almirall,Department of Chemistry and Biochemistry, Florida International University, Miami, FL 33199, USA.Forensic analysis of printing inks using tandem Laser Induced Breakdown spectroscopy and Laser Ablation Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry万翔宇，王阳恩，熊艳，王绍龙，梅兴安；长江大学物理科学与技术学院, 湖北荆州；《激光杂志》2014年第35卷第4期.激光诱导击穿光谱对水系沉积物的分类及铬元素测定的研究李辉，王阳恩，刘庆，林佳辉，徐大海.长江大学物理与光电工程学院,湖北荆州；分段激光诱导击穿光谱的水稻种子识别Benjamin T.Manard,C.Derrick Quarles Jr,E.Miller Wyliea and Ning Xua.Laser ablation–inductively couple plasma masss pectrometry/laserinduced breakdown spectroscopy:a tandem technique for uranium particle characterizationHerveK.Sanghapi,Jinesh Jain,Alexander Bol' shakov,Christina Lopano,Dustin McIntyre,Richard Russoc.Determination of elemental composition of shalerocks by laser induced breakdown spectroscopy.Chirinos, J. R., Oropeza, D. D., Gonzalez, J., Hou, H., Morey, M., Zorba, V., & Russo, R. E. (2014). Simultaneous 3-Dimensional Elemental Imaging with LIBS and LA-ICP-MS. Journal of Analytical Atomic Spectrometry. doi:10.1039/c4ja00066hChoi, S. H., Kim, J. S., Lee, J. Y., Jeon, J. S., Kim, J. W., Russo, R. E., et al. (2014). Analysis of arsenic in rice grains using ICP-MS and fs LA-ICP-MS. Journal of Analytical Atomic Spectrometry, 29(7), 1233–1237. doi:10.1039/C4JA00069BQuarles, C. D., Gonzalez, J. J., East, L. J., Yoo, J. H., Morey, M., & Russo, R. E. (2014a). Fluorine analysis using Laser Induced Breakdown Spectroscopy (LIBS). Journal of Analytical Atomic Spectrometry, 29(7), 1238–1242. doi:10.1039/C4JA00061GDong, M., Mao, X. L., Gonzalez, J., Lu, J., & Russo, R. E. (2013). Carbon Isotope Separation and Molecular Formation in Laser-Induced Plasmas by Laser Ablation Molecular Isotopic Spectrometry. Atomic Spectroscopy. doi:10.1021/ac303524dHarmon, R. S., Russo, R. E., & Hark, R. R. (2013). GEOLIBS–A Review of the Application of Laser-Induced Breakdown Spectroscopy for Geochemical and Environmental Analysis. Spectrochimica Acta Part B: Atomic Spectroscopy. doi:10.1016/j.sab.2013.05.017Piscitelli, V., Gonzalez, J., Mao, X. L., Fernandez, A., & Russo, R. E. (2013). Micro-Crater Laser Induced Breakdown Spectroscopy-an Analytical approach in metals samples.

Aston™ 质谱分析仪为半导体 Sub-fab 提供安全, 可持续性和节约解决方案Sub-fab 一直是半导体制造设施的后端方案. 与 FAB 的主要加工走廊不同, Sub-fab 中的设备被归入与基本工具管理和废物处理相关的系统: 干式真空泵, 燃烧和吸收器减排系统, 水处理器和冷却器以及散装材料的输送和管理是 Sub-fab 设备执行的关键功能.上海伯东日本 Atonarp Aston™ 质谱分析仪提供稳健, 量化和实时的计量. 原位量化计量在关键灵敏度 / 速度指标上比其他残留气体分析仪优于 10 倍至 100 倍, 并具有强大的等离子电离解决方案, 使它们能够处理苛刻的工艺气体和副产品. 为半导体 Sub-fab 提供安全, 可持续性和节约解决方案随着半导体制造足迹对环境的影响对晶圆厂运营商变得越来越重要, 在客户对更高可持续性的需求的推动下, Sub-fab 越来越被视为提高效率和可持续性的关键部分. 随着对安全的普遍需求, 对可持续性和效率的额外关注正在推动重新关注使用实时现场监控和控制更智能地运行 Sub-fab 设备.问题Sub-fab 管理的三大支柱, 即安全性, 可持续性和节约性正在重新受到关注.对于分子水平安全监测: 先进的工艺推动了对新型危险材料和副产品的需求, 对前沿逻辑工艺, 铸造和存储器工艺的需求不断增加, 特别是在 ALD 和 ALE 中使用选择性处理化学物质的情况下. 2019 年的一项研究表明, 在 2017 年 2019 年的 30 多起不良事件中, 包括爆炸, 火灾, 放热反应, 化学反应和排气. 大多数事件发生在从腔室到减排系统的排气处理路径中的 Sub-fab 中.目前使用分子安全监测的一些例子包括: 当爆炸锆金属颗粒是潜在的副产品时, 基于用于逻辑门和 DRAM 电容器结构的锆的高k介电材料. 此外, 在闪存制造中用于氧化硅原子级沉积的高阶硅烷化学对主动泄漏检测提出了挑战, 以防止需要监控和管理的产品气体和冷凝物引起的火灾和危险.除了安全之外, 可持续性也是重点: 最近的研究表明, 超过 80% 的智能手机碳足迹不是在使用过程中产生的, 而是在制造过程中产生的, 其中半导体占总量的比例大约（约 40%）并且还在不断增长. 虽然 FAB 中的绿色能源使用和水循环利用工作对温室气体和水消耗指标产生了重大影响, 但半导体 FAB 可持续性挑战的材料部分占总量的百分比继续增长. 寻找一种可靠的方法来监测和减少制造过程中使用的材料量是半导体行业的关键下一步, 并且需要一种创新的原位材料监测和量化方法. 关键的第一步是为当今的工艺和设备建立“基线”, 以便准确监测和量化材料使用的变化.从安全和可持续性举措中节省: 毋庸置疑, 与事故相关的员工, 设备, 生产和声誉成本相比, 安全设备部署的成本很小. 然而, 可持续发展计划更为复杂. 减少材料使用, 减少浪费, 并显着降低相关材料和减排相关成本. 然而, 除了与更有效地运行 FAB 相关的纯成本回收之外, 许多半导体消费者越来越多地将可持续性视为其供应商选择标准的一部分. 随着晶圆厂需要推动可持续发展目标,大量且利润丰厚的供应商合同正在增加,其中大部分工作发生在管理废物的 Sub-FAB 中.上海伯东日本 Atonarp Aston™ 质谱分析仪 Sub-FAB 解决方案Sub-FAB 应用的安全性,可持续性和节约的共同点是, 为了改进它们, 需要测量和量化要管理的材料. 无论是在腔室上还是作为 Sub-FAB 基础设施的一部分, 都需要稳健, 量化和实时的计量. Atonarp 的 Aston 实时半导体计量解决方案系列提供的原位量化计量在关键灵敏度 / 速度指标上比其他残留气体分析仪优于 10 倍至 100 倍, 并具有强大的等离子电离解决方案, 使它们能够处理苛刻的工艺气体和副产品.Aston 先进的分子分析技术具有比其他残余气体分析仪高 10 到 100 倍的速度 / 灵敏度能力, 使 Sub-fab 应用能够提高安全性,可持续性并节省过程中的成本.若您需要进一步的了解 Atonarp Aston™ 在线质谱分析仪详细信息或讨论, 请参考以下联络方式：上海伯东: 罗先生

激光拉曼光谱气体分析仪产品介绍LRGA-3200激光拉曼光谱气体分析仪由四方仪器（四⽅ 光电全资子公司）自主研发，基于激光拉曼散射原理，通过对待测气体的特征拉曼散射光谱进行增强、收集、处理、识别并对含量进行定量计算，可同时对多种气体进行连续在线的实时监测。由激光拉曼气体分析单元与拉曼光纤探头两部分组成，探头安装于电池表面，通过光纤线缆与分析仪连接。光纤可实现百米传输，在分析仪安置于较远的安全区域时免受距离影响。整套系统操作便捷，稳定性强，维护成本低。激光拉曼光谱气体分析仪产品特性功能强大：对几乎所有气体均能在线实时定量测量，适⽤ 范围广，包括H2、O2、N2等对称性气体分子秒级响应：可连续在线原位测试，测量值直接可用维护简单：无需载气、色谱柱等辅材，测试过程无损耗，只需定期清洗光学器件表面及更换过滤器和干燥剂技术先进：完美取代气相色谱GC与质谱MS等检测技术激光拉曼光谱气体分析仪技术参数

激光拉曼光谱气体分析仪产品型号：LRGA-3100激光拉曼光谱气体分析仪产品概述LRGA-3100激光拉曼光谱气体分析仪由四方仪器（四方光电全资子公司）自主研发，在国家重大科学仪器设备开发专项产品LRGA-6000基础上，通过对光路与结构进行优化，大幅缩小了拉曼分析仪的整体尺寸，新一代产品更为小巧便携。LRGA-3100基于激光拉曼散射原理，通过对待测气体的特征拉曼散射光谱进行增强、收集、处理和识别，可对气体成分进行定量计算，实现在线实时对多种类气体进行定性及定量监测。秒级响应，无需长久等待。 激光拉曼光谱气体分析仪产品特性1、在线实时检测，一台仪器解决工业过程气体全流程监测2、可测量包括H2、N2、O2、CO、CO2、CH4、H2S等在内的多种气体组分3、采用激光拉曼气体特征指纹谱技术，抗干扰能力强4、全量程气体浓度测量，检测范围为0-100%5、智能化软件设计，全触屏界面数据直观显示，可外接PC键盘6、可取代气相色谱GC与质谱MS激光拉曼光谱气体分析仪主要参数测量组分H2、N2、O2、CO、CO2、CH4、C2H2、C2H4、C2H6、C3H6、C3H8、H2S等测量范围0-100%（量程可根据现场情况选择）测量精度≤±1%F.S.重复性≤1%工作范围10℃～35℃供电电源AC220V/50Hz，＜70W对外接口USB，RS-232,Ethernet外观尺寸（L*W*H）605*483*220（mm）激光拉曼光谱技术激光拉曼光谱技术是基于气体拉曼散射的光谱类气体分析技术。其利用高光束质量的激光器发出特定波长的激光，经过消色差透镜在气体室中聚焦，在焦点位置激光和气体分子相互碰撞产生拉曼散射。 拉曼特征峰的强度和气体浓度值成正比，通过光谱仪测量和分析拉曼特征峰的位置和强度，可实现多组分气体的同时测量。由于拉曼散射光谱的激发和收集是瞬时产生，时间很短并可实时进行信号收集，因此和色谱、质谱相比，拉曼光谱仪具有更快的响应速度。 常见技术原理对比分析 四方仪器激光拉曼光谱气体分析仪在不同领域的应用优势1、天然气天然气燃料中的分子都具有拉曼活性，且拉曼光谱技术适用性更强，可以检测天然气中其他技术不 能够检测的物质，如H2、N2等 在天然气领域检测中，拉曼分析技术具有良好的灵敏度，检测速度快且测量结果精确。 2、页岩气激光拉曼光谱法是页岩气分析检测的最优选择。当气样中组分较多时，长链烃类组分的谱峰常与其它 组分存在重叠干扰测定。而页岩气中通常不含丁烷及更重组分，遂无需考虑选择含有丁烷的标气，测 定校准简单且准确度高 激光拉曼多点测试可有效揭示页岩气中分散组分浓度的不均等变化，与其他类型检测仪单点测试相 比，可靠性更高。 3、录井激光拉曼光谱气体分析仪主要性能指标满足气测录井规范要求，在线检测分析特点为录井作业过程提 供极大便利； 拉曼散射光谱分析技术具有对样品无损伤，分析快速，高空间分辨率，抗干扰能力强等特点。与录井气 相色谱仪相比，在气体分析的可扩展性、连续性、准确性、灵敏度等方面均具有明显优势。4、石油化工激光拉曼光谱谱峰特征性强，尖峰特征与荧光干扰消除可在石油化工过程气体质量检测中发挥重要作用； 分析精度高，快速简便无损操作，环境适应性强，满足石油化工现场使用要求； 采用内标法进行光谱的标定，易实现标准化。5、煤化工激光拉曼光谱气体分析仪对于煤化工过程气体检测来说配置简单，方便易操作；无需载气与标气，检测运行成本近乎为零； 多流路同时连续实时测量，测量间隔为零，秒级响应，无需长久等待； 采用激光拉曼气体特征指纹谱技术，抗干扰能力强，水气对测量无影响。6、钢铁冶金拉曼光谱技术无需对样品进行预处理，且可进行原位采谱，有利于研究铁氧化合物不同条件下的结构演变；铁氧化合物大多存在磁振子，对气体光谱产生影响进而增加拉曼光谱的识别难度。拉曼气体特征指纹谱技 术的采用，极大程度上排除了钢铁冶金检测过程中的多重干扰。7、焦化在有机物碳化变焦的过程中，所产气体分子大多具有较复杂的基团结构与光谱结构。利用激光拉曼光谱 谱峰特征性强的优势，使检测准确度得到极大提升；在焦炉煤气检测过程中，拉曼光谱分析仪连续实时测量的特点可严格把控有毒有害气体的泄漏情况，为 生产安全提供保障。8、生物质气化激光拉曼光谱分析技术可用于研究生物质气化合成气成分检测且不受试样本体干扰，具有快速、无损的特点；激光拉曼检测技术的应用可帮助生物质能源领域的研究持续向节能、环保、低碳的方向发展，着重为生物质燃 烧、热解、气化、液化过程中特性机理的研究提供分子水平分析方法的保障。9、轮胎裂解在轮胎裂解过程中，不同类型橡胶裂解所产生过程气体的拉曼光谱具有不同的特征。激光拉曼检测技术 可以用来鉴别各类型橡胶裂解所产生气体的杂质成分及含量；采用拉曼光谱技术分析橡胶裂解过程气体也具有无污染、无须化学处理等优点。10、橡胶气化炉在橡胶气化炉的检测过程中，拉曼分析仪可在工艺管道上原位安装，不需要预处理系统与分析室； 多流路同时测量，可替代多台色谱检测仪； 实时测量反应迅速，而其他色谱技术均需5-15分钟，乃至更长响应时间；无需载气、标气，运营成本低，且不需要定期标定。

新一代的QGA 2.0质谱仪采用了全新的外观和内部设计，以更小的体积和重量，呈现出更加美观的外观。其更快的扫描速度和更高的灵敏度使其能够实现每秒1000次的测量速度，并覆盖了从100ppb到100%的扫描范围。 便捷简化 – 一键启动操作先进卓越 – 全新电子学部件设计多功能应用 – 兼容多种进样口精心优化 – 专为氢气分析而优化高效速度 – 每秒高达1000次测量直观易用 – QGA 2.0 定量分析软件紧凑轻巧 – 实验台占地面积减小了42%轻盈便携 – 重量减轻了26%可持续环保 – 制造过程中使用更少，更环保的材料

LFMSM-2016 ICP-MS水质自动分析仪基于《水质 65种元素的测定 电感耦合等离子体质谱法》（HJ 700-2014）标准设计，以电感耦合等离子体质谱联用仪为检测器，可满足水中66种元素的在线监测要求。适用于地表水、地下水、生活饮用水以及工业废水等水体中重金属和无机元素的检测。产品概述 LFMSM-2016 ICP-MS水质自动分析仪通过控制单元控制系统实现自动取水，自动完成点火、标定、进样、测试、数据上传等功能。针对现有ICP-MS现场应用方面的制约，LFMSM-2016提供可溶性元素分析和元素总量分析两种工作模式。为应对可溶性元素分析，该系统依照HJ 700-2014 《水质 65 种元素的测定 电感耦合等离子体质谱法》可溶性样品要求，设计全自动化0.45μm 过滤方式，完全依照标准运行。整个系统可实现一键可溶性元素分析和元素总量分析（过滤/消解）测试。功能特点01抛弃式过滤完全依照HJ 700-2014可溶性元素预处理要求，首次实现采用0.45μm抛弃式滤带过滤，单个样品采用单独过滤，前后水样之间不存在任何残样稀释或交叉污染情况。同时采水管道中加滤材方式，很好解决历史高浓度水样对后续监测存在长期残留影响；02检测指标多对超标等异常未知元素快速筛查和准确定性定量，应急监测准确、可靠，可对水中铜、锌、硒、砷、汞、镉、铬、铅、铁、锰、钼、钴、铍、硼、锑、镍、钡、钒、钛、铊、银、铝22种元素同时测定，通过扩展可实现66种元素监测。03线性范围宽部分元素低至ppt级别的元素定量下限，以及出色的抗干扰能力，可满足实际应用过程中痕量、超痕量的分析需求。同时匹配的前处理单元可实现在线稀释，满足不同场景监测需求；04分析速度快单次同时实现样品所有重金属元素的检测分析，单次测量时间3min~5min（分析仪完全预热且连续监测时，不含分析仪重新点火后稳定、测试完后熄火系统冷却时间）；05抗干扰力强通过质荷比进行定性，不受基质、色度、浊度等因素干扰，分析软件内置校正方程以及内标校准算法；06全过程监控运行过程，对工作模式、仪器关键部件状态信息、辅助设备信息实时监控，大幅提高了LFMSM-2016系统的无人化操作运行，并获得极佳的稳定性和可靠性。

上海伯东日本 Atonarp Aston™ 质谱仪保护环境免受有害气体排放污染半导体和薄膜太阳能工艺使用并产生各种工艺气体和颗粒材料副产品, 有害气体需要以受控方式进行处理. 许多废料的处理受环境法规的规定，如美国 NESHAP 标准. 此规则规定的主要有害空气污染物包括但不限于占有害空气污染物排放总量 90% 以上的五种化学物质: 盐酸 HCl , 氟化氢 HF, 乙二醇醚, 甲醇, 和二甲苯.美国环境保护局对混合空气毒物工艺通风孔 (有机和无机) 的排放限值为 14.22 PPM（按体积计算）. 监测并销毁额外的全氟化碳气体 PFC 和硅烷 SiH4 等自燃气体.问题减排面临着多重挑战. 需要监测来自减排系统的环境废气, 以确保符合法规要求, 需要一款具有高灵敏度, 实时, 现场计量, 且精度达到 PPM 级的质谱分析仪. 此外, 优化减排需要测量废气中进入减排系统的污染物浓度, 从而可以调节氮气稀释和减排燃烧气体消耗量, 以确保快速去除污染物. 天然气 (甲烷) 通常用于普通烧洗减排系统中的高温热气体分解, 优化其使用可降低减排过程成本和二氧化碳排放.上海伯东 Aston™ 质谱分析仪提供有害气体排放污染解决方案: 数据驱动的减排许多减排系统是“开环”运行的, 导致天然气和氮气消耗量较高. 此外, 通常不会对减排成功的分析数据进行监控和记录, 从而使公司面临环境监管责任. 使用 Atonarp Aston™ 质谱分析仪, 可以根据进入的废气浓度和测量的排放气体数据, 记录日志, 对减排燃烧过程进行现场优化控制, 以记录环境合规性. Aston™ Plasma 质谱分析仪能够承受严酷的 PFC 和酸性 (如 HF 和 HCl ）气体, 并能提供低至 PPB 水平的灵敏度. 通过快速, 准确的现场计量, 实现快速地减排气体监测和废气环境合规性.Atonarp Aston™ 质谱分析仪技术参数类型Impact-300Impact-300DPPlasma-200Plasma-200DPPlasma-300Plasma-300DP型号AST3007AST3006AST3005AST3004AST3003AST3002质量分离四级杆真空系统分子泵分子泵隔膜泵分子泵分子泵隔膜泵分子泵分子泵隔膜泵检测器FC /SEM质量范围2-2852-2202-285分辨率0.8±0.2检测限0.1 PPM工作温度15-35“℃功率350 W重量15 kg尺寸299 x 218 x 331 LxWxH(mm)400 x 240 x 325 LxWxH(mm)若您需要进一步的了解 Atonarp Aston™ 在线质谱分析仪详细信息或讨论, 请参考以下联络方式：上海伯东: 罗先生