可调式涂布器

湿膜涂佈器 可调式 ZUA 2000涂料特性会依厚度不同而改变，因此在研究分析时，必须以标准厚度涂佈试样，才能维持试验公平性与一致性。ZUA 2000 可调式 湿膜涂佈器 以高质量铝合金製作，耐酸硷抗腐蚀，阳极处理不脱色，可调整 0…3000μm 湿膜厚度，信赖度高，所有部件能完全拆解以溶剂清洗。油漆、涂料製造业必备，亦适合各种实验。高质量铝合金製作，耐酸硷抗腐蚀，阳极处理不脱色可调整 0…3000μm 湿膜厚度，信赖度高所有部件能完全拆解以溶剂清洗油漆、涂料製造业必备，亦适合各种实验瑞士原装 (Proceq/ZEHNTNER 牌)型号 ZUA 2000湿膜厚度 0...3000μm湿膜宽度 60, 80, 100, 150mmMIN刻度 5μm本体材质 铝合金经耐酸硷阳极处理

KPA实验室小型涂布机基于K101涂布打样机改进而成，专用于涂料等方面。被广泛用于油漆、油墨的打样制备，使用它打样可以达到非常好的重复性和一致性。KPA使用间隙涂布器涂布，可在卡纸、钢板及其它多种底材上打样。制备好的样品可以广泛用于包括质量控制、老化测试、遮盖力测试、对色和其它一系列标准测试中。小型涂布机优点：　　? 恒定的速度和压力保证良好的重复性 　　? 涂布速度从2~15米/分钟可调 　　? 操作简单，清洁简单 　　? 标准配置的压印床能确保打样的平整，清洁更容易 　　? 可以使用多种间隙涂布器如鸟型涂布器、四面涂布器等 　　? 符合ASTM D823-92a 　　? 大多数涂布器都适用，如鸟型涂布器、方型涂布器、四面涂布器和微调式涂布器等。 　　? 提供真空、磁性和加热压印床供用户选购。　　? 配备平整玻璃压印床，确保涂布平整。小型涂布机用途：使用间隙式涂布器，自动在测试卡纸、钢板和其它多种底材上涂布，制备涂层。用于质量控制、老化测试、遮盖力和其它标准测试如比色等用途。小型涂布机参数：　　电源：220V 电压，50Hz。　　涂布速度：2~15米/分钟可调。　　配置玻璃压印床，大多数标准间隙涂布器如鸟形涂布器、方形涂布器等都适合使用。

MSK-AFA-I自动涂布机广泛用于各种高温涂膜研究，例如陶瓷类薄膜、晶体类薄膜、电池材料薄膜、特殊纳米薄膜，能够适应未来高温条件下成膜技术的发展。MSK-AFA-I自动涂布机采用真空吸附方法来对基片进行固定，使得在涂布过程中基片无褶皱现象产生，从而使得涂布更加均匀顺畅。制膜宽度宽度保持不变，制膜厚度可根据刮刀上方的千分尺进行调节，刮刀与基片间的间隙小，则所制备薄膜厚度薄；刮刀与基片间的间隙大，则所制备的薄膜厚度厚。制膜长度可根据刮刀的行程来控制，刮刀的行程可在10-290mm的范围内进行调节。MSK-AFA-I自动涂布机体积小巧，适合各个实验室中使用。1、涂覆速度可调，并设有数字显示。2、可调限位开关控制涂覆行程。3、采用真空吸附方式固定基片，可快速取放基片。 4、已通过CE认证。产品名称MSK-AFA-I自动涂布机产品型号MSK-AFA-I安装条件使用环境：湿度：10-85%RH (at 25℃ 无凝露） 温度： 0-45℃1、水：不需要2、电：单相：AC220V 50Hz 国标三极插座 10A 必须有良好接地3、气：真空负压（真空泵）4、工作台：建议 800×600×700mm 承重 120KG 以上5、通风装置：无特殊要求主要参数1、供电接口：DC24V 3.75A（标配“电源适配器”）2、总功率≤50W5、涂覆底座尺寸（长 × 宽）：360mm×200mm6、真空吸附尺寸（长 × 宽）：300mm×150mm3、涂覆速度：10-100mm/s（无极调速）4、涂布长度：0-300mm≥（长度可调）7、可调式刮刀：KTQ150 型：宽 150mm 可调式，膜厚调整范围 0-3500um注：随机标配“电源适配器”规格参数： IN: AC100-240V 50/60Hz OUT: DC-24V 3.75A，设备实际供电以产品后部粘贴标牌为准。产品规格尺寸：610mm×390mm×240mm；重量：25Kg序号名称数量图片链接1推料杆1个2集料盒1个3150mm微米级可调制膜器1个4料盅1个序号名称功能类别图片链接1真空泵（AP-1400V无油真空泵）（可选）2微米级可调制膜器-50mm（可选）3微米级可调制膜器-100mm（可选）4真空搅拌机（可选）5粘度计（可选）6四面精密制膜器（可制备4种膜厚）（可选）7框式制备器（可选）

传统手工涂布方式依赖个人经验，每人每次涂布速度，力度都有所不同，不利于在同一条件下评价涂布质量，DP8301数字可调涂布机可有效解决这个问题传统线棒涂布器，鸟型涂布器，框式涂布器等隙缝式涂布器，只能涂布一个或者最多八个固定的膜厚，不能根据实际所需的厚度来涂布，数字可调涂布器通过测微器连续调整隙缝大小，通过数字测微器精确控制隙缝高度，从而得到0-6350um范围内任意厚度的膜厚，可极大方便您的使用▃避免人为涂布造成的误差▃极大提高后续测试重现性，可靠性▃能统一操作流程，让测试规范化▃提供多种选择方案，满足各种涂布需求涂布宽度：5cm-30.5cm涂布长度：36cm厚度范围：0-6350um(连续可调）厚度调整：1um厚度调整方式：螺旋测微器数字调整涂布器材质：主体不锈钢，表面特氟龙处理涂布速度：不大于20- 200mm/s（设定步长1mm/s）速度设定：数字设定显示和控制： 触摸屏基材夹持：机械涂布底板：玻璃平板涂布报告：报告内容包括样品名称，粘度，设定厚度，幅宽，长度，可通过软件导出到电脑，便于追溯

MSK-AFA-L800流延涂布机是利用真空吸盘和无油真空泵吸附固定基片，使得在涂布过程中基片无褶皱现象产生，从而使得涂布更加均匀顺畅，也防止了真空泵中油污对基片的污染。MSK-AFA-L800流延涂布机工作过程中膜的宽度保持不变，制膜厚度可根据刮刀上方的千分尺进行调节，刮刀与基片间的间隙小，则所制备薄膜厚度薄；刮刀与基片间的间隙大，则所制备的薄膜厚度厚。配合微米级可调式制膜器制备薄膜长度可达800mm。设有独特的自动推进装置，可以在宽250mm、长800mm的范围内的任何材料上制备光滑的涂层，是低成本研发及制作18650锂电池电极材料的理想工具。1、采用横向推杆配合微米级制膜器。2、可调限位开关控制涂覆行程。3、采用真空吸附方式固定基片。4、涂覆速度可调。5、已通过CE认证。产品名称MSK-AFA-L800流延涂布机产品型号MSK-AFA-L800安装条件本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：不需要2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、气：不需要4、工作台：尺寸800mm×600mm×700mm，承重200kg以上5、通风装置：不需要主要参数1、电源：110V/220V 60Hz/50Hz2、总功率：150W 3、涂覆速度：10mm/s-100mm/s可调4、涂布行程：10mm -800mm5、真空板尺寸：800mm×260mm6、可真空尺寸：740mm×218mm7、制膜器：180mm微米级可调式（可选择其他尺寸）调整范围0.01mm-5mm8、膜厚精度：±0.01㎜产品规格尺寸：960mm×370mm×240mm；重量：50kg序号名称数量图片链接1推料杆1个2集料盒1个3180mm微米级可调制膜器1个4料盅1个序号名称功能类别图片链接1真空泵（AP-1400V无油真空泵）（可选）2微米级可调制膜器-50mm（可选）3微米级可调制膜器-100mm（可选）4左右可调制膜器-150mm（可选）5双刮刀微米可调制膜器-150mm（可选）6上下可调制膜器-250mm（可选）7真空搅拌机（可选）8粘度计（可选）9框式制备器（可选）

MSK-AFA-II-VC自动涂布机广泛用于各种高温涂膜研究，例如陶瓷类薄膜、晶体类薄膜、电池材料薄膜、特殊纳米薄膜等。MSK-AFA-II-VC自动涂布机采用真空吸附方法来对基片进行固定，使得在涂布过程中基片无褶皱现象产生，从而使得涂布更加均匀顺畅。膜的宽度保持不变，制膜厚度可根据刮刀上方的千分尺进行调节，刮刀与基片间的间隙小，则所制备薄膜厚度薄；刮刀与基片间的间隙大，则所制备的薄膜厚度厚。制膜长度可根据刮刀的行程来控制，刮刀的极限行程为550㎜。MSK-AFA-II-VC自动涂布机也可根据客户需要增加相应的烘干设备，满足更多的制膜要求。该机体积小巧，适合用于各个实验室中。1、均匀涂布。2、已通过CE认证。产品名称MSK-AFA-II-VC自动涂布机产品型号MSK-AFA-II-VC安装条件本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：不需要2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、气：不需要4、工作台：尺寸800mm×600mm×700mm，承重200kg以上5、通风装置：不需要主要参数1、电源：AC 220V、50HZ2、总功率：50W3、涂覆速度：10mm/s-100mm/s4、涂布行程：10㎜-530mm5、真空板尺寸：600mm×300mm（长×宽）6、可真空尺寸：600mm×250mm（长×宽）7、制膜器可调范围：250mm微米级可调式（可选择其他尺寸）调整范围0.01mm-5mm8、膜厚精度：±0.01mm产品规格尺寸：850mm×430mm×223mm；重量：45kg序号名称数量图片链接1推料杆1个2集料盒1个3150mm微米级可调制膜器1个4料盅1个序号名称功能类别图片链接1真空泵（AP-1400V无油真空泵）（可选）2微米级可调制膜器-50mm（可选）3微米级可调制膜器-100mm（可选）4真空搅拌机（可选）5粘度计（可选）6四面精密制膜器（可制备4种膜厚）（可选）7框式制备器（可选）

产品简介：科翔科技智能中试涂布机，采用数字化智能技术，是集密闭供胶、高精度涂布和分段程序干燥于一体的贴剂及膜剂生产设备。适合实验室小规模样品研制，工艺放大实验和中试生产，同时与大规模生产桥接。 该设备采用PLC+触摸屏人机交互模块化程序控制，集合PID精准控温、自动纠偏、张力反馈和收/放卷控制系统。采用供胶+涂布一体涂刀，ETD零点对标等专利技术，保证涂布均匀性和重复性，同时可以选配在线测厚和二次涂布等功能。 该设备适用于各种溶剂型压敏胶和膜材聚合物的物料涂布，可制备贴剂、贴膏剂和膜剂等制剂。专利号： ZL 2021222903788产品特点：超高精度涂布技术独创的EDT控制技术，精准控制涂布厚度，确保批次样品涂布厚度的一致性。涂布精度±5 um。完美桥接大生产适用中试批量生产，日产10000～30000贴（可定制）涂布技术及干燥技术与主流生产型涂布设备相同（3～5段升温）。涂布、干燥参数可调可控，可用于指导大生产参数设定。

设备介绍专用于锂离子电池正、负极片少量涂布工序，适用于适合高等院校及企业小规模实验使用。美观、耐用，操作简便。 产品特点采用独创的大面积均匀加热，确保腔体内高精度匀温，利用水蒸气自身的特性，让其自动排出，无须另外的动力，节能环保。涂膜速度可调，真空铝盘可快速放置或取下铜箔、铝箔等；涂布速度无级变速，配置有真空铝平板及温度和时间数字显示。

多面涂布器多面涂布器用于涂布8种不同的漆膜厚度，涂布宽度为60mm。涂布器材质为高级不锈钢，能够保证涂布器不受涂料或清洗剂中的酸性物质或碱性物质的侵蚀。 多面涂布器产品简介多面涂布器用于涂布8种不同的漆膜厚度，涂布宽度为60mm。涂布器材质为高级不锈钢，能够保证涂布器不受涂料或清洗剂中的酸性物质或碱性物质的侵蚀。

TQC鸟型涂布器涂料的遮盖力、不透明性、耐擦洗能力、抗流挂性能及其他品质试验都必须有一个一致性好，重复性佳的涂层，涂布器就是一种可以涂出所需要的从几微米到上千微米以上的湿膜厚度涂层的仪器。TQC鸟型涂布器产品介绍QC 棱柱形鸟型涂布器有VF2161、VF2162、VF2163三种型号，鸟型涂布器有一条间隙，清洗容易,并且鸟型涂料涂布器材质为高级不锈钢，不受涂料或清洗剂中的酸性物质或碱性物质的侵蚀，非常耐用。另外，鸟型涂料涂膜器(湿膜制备器)的4个涂漆面可应用于布4种不同的漆膜厚度，使用简单有效。根据不同涂布宽度区分型号。鸟型涂膜器的涂装宽度为50mm(2英寸)，75mm(3英寸)，100mm(4英寸)，适用子大多数产品和相应的固体基质上。技术参数TQC鸟型涂布器使用方法将试板放在平台上，并予以固定。按产品规定湿膜厚度，选用适宜间隙的涂布器。将其放在试板的一端，涂布器的长边与试板的短边大致平行或放在试板规定的位置上，然后在涂布器的前面均匀地放上适量试样握住涂布器用一定的向下压力并以的速度匀速滑过试板即涂布成需要厚度的湿膜。TQC鸟型涂布器产品图片

贝克涂布器圆柱形贝克涂布器有4个涂漆面，可以涂出4种预设厚度的漆膜。产品材质为高级不锈钢，保证涂膜器不受涂料或清洗剂中的酸性物质或碱性物质的侵蚀。 贝克涂布器产品简介圆柱形贝克涂布器有4个涂漆面，可以涂出4种预设厚度的漆膜。贝克涂布器贝克涂布器的涂布宽度为60mm（2.4英寸）和80mm（3.15英寸），适用于很多不同产品在平板或平稳的固体基板上的涂布。涂布器材质为高级不锈钢，能够保证涂布器不受涂料或清洗剂中的酸性物质或碱性物质的侵蚀。

刮刀涂布机可以实现在基材表面涂上非常均匀的薄涂层，狭缝涂布与刮涂合二为一 ，可以用于太阳能电池和LED的涂布。从实验室规模到DIN A4/Letter的涂布面积， 精确到纳米级别的功能性薄膜印刷，涂布速度：1–100 mm/s in 0.1 mm/s steps 选项及配件 小尺寸从只有200x300 mm2到大沉积面积 (150x150 mm2) 特别适合针对于散热条件有限且 实验室空间非常宝贵，尤其是非 常重要的手套箱环境 将刮涂刀片/自动涂膜机改造成 槽模打印机 狭缝头高到300 mm 涂布面积 与槽模头、槽模架、注射泵、耗材等配套使用狭缝涂布机及涂布头 可调节的刮涂刀头 尺寸选项

产品简介YL-TB300A 实验用小型涂布试验机全部采用了进口配件，且价格优廉，得到了众多跨国企业研发机构，国内外很多知名大学及科研机构的青睐。通过控制速度以及稳定的压力来保证涂布涂胶效果，保证涂布涂胶的均匀性以及平稳性。产品应用由于影响涂膜的主要因素有涂布速度以及施加在涂膜器上的压力等，因而由人工涂出的涂层经常出现不一致，尤其是不同人之间产生的差异就更大了，这就给比较样板之间的测试结果带来了困难。本公司的自动涂膜器是为了使操作者方便地在不同底材上涂布出精确的湿膜而精心设计的，大大提高了涂膜的重现性。实验室小型涂布机全部采用了进口配件，且价格优廉，得到了众多跨国企业研发机构，国内外很多知名大学的青睐。通过控制速度以及稳定的压力来保证涂布效果，保证涂布的均匀性以及平稳性。实验室小型涂布机zui大特点可以在纸张、塑料、金属、PVC、PET、布料、铝合金板等平面各种材料进行涂布实验。设备参数控制系统：自主研发涂布方式：刮刀/线棒交替使用速 度: 可设置 1-10 米/分钟长 度：可设置 10-420MM整平装置：带自动整平装置精度误差：±0.003MM幅 面：300*450MM涂布厚度：0.005-5MM（湿膜）温度范围：常温到160度，可以恒温机器体积：800*380*410（长*宽*高）机器重量：净重：32KG线棒装置：自带挂线棒装置（线棒选购，一种厚度一根线棒）涂布线棒：长度：400MM刮刀材质：合金不锈钢材料（专业刮刀）电 源：电压 110~220V 50/60HZ功 率：48W自动涂布，厚度可调，带真空吸附,控制系统触屏操作 备注：低粘度高精度采用线棒涂布机效果更佳，高粘度刮刀涂布效果更佳！

TQC四面涂布器符合ASTM D 823标准，可应用于涂布4种不同的漆膜厚度，涂膜器本身由高级不锈钢制成，不容易受到涂料或清洗剂中酸碱物质的侵蚀。四面涂布器产品简介1.符合标准：ASTM D 823 2.多功能四面涂布器可应用于涂布4种不同的漆膜厚度。3.涂装宽度为60mm(2.4英寸)和80mm(3.1英寸)。涂布器其中一面附了一个导涂片，该导涂片也可以拆卸。4.材质为高级不锈钢，保证涂布器不受涂料或清洗剂中的酸性物质或碱性物质的侵蚀。

DCN是狭缝涂布Slot Die Coater, 微凹印Micro Gravure 及 旋转丝印Rotary Screen设备的制造商之一，尤其是R2R工艺畅销； 现已推出R&D研发系列，实验室R2R小型试验线，Roll to Roll中试线，和全集成量产线。 DCN的设备畅销日韩及欧美印刷电子市场，并得到行业著名客户长期的全球范围合作，如3M以及附属工厂，Samsung三星电子，三星化学及其合作的供应商，LG显示及LG化学及其相关的供应商和代工厂。涂布工艺介绍：Slot Die:狭缝涂布仪是一种制造技术，现阶段广泛应用于平板显示（LCD,OLED,QLED）,柔性显示，触摸屏工艺，太阳能光伏，电池工艺，智能化玻璃，柔性印刷电子，纸张涂布，半导体封装等领域，均能实现不同功能材料高效，高均匀，高性能的涂布。 Micro Gravure 微凹印： R&D实验室研发系列：Lab Slot Die Coater：实验室级高精度 速度：1 ~ 50 mm/s 涂膜面积： 150 x 150mm和250 x 250mm 优异的涂膜均匀性以及广泛的材料适用范围实验室级高精度 速度：1 ~ 50 mm/s 涂膜面积： 150 x 150mm和250 x 250mm 优异的涂膜均匀性以及广泛的材料适用范围 Table Slot Die Coater： 全自动多功能集成系统； 速度：0.01 ~ 200 mm/s； 涂膜面积： 180 x 250mm 和 370 x 470mm； 优异的涂膜均匀性以及广泛的材料适用范围自动多功能集成系统； 速度：0.01 ~ 200 mm/s； 涂膜面积： 180 x 250mm 和 370 x 470mm； 优异的涂膜均匀性以及广泛的材料适用范围Lab R2R Coater：实验室小型中试线；Slot Die或Micro Gravure功能集成； 涂膜宽度150到300mm可选；可选集成Hot Air Dryer, IR Heater, UV Cure, Laminator功能实验室小型中试线；Slot Die或Micro Gravure功能集成； 涂膜宽度150到300mm可选；可选集成Hot Air Dryer, IR Heater, UV Cure, Laminator功能Lab R2R Coater： 多用途辊式涂布仪；模块包括Gravure Offset,Plater Offset,Gravure,Blade Coating 可调速度及压力进行膜厚改变；优越性能保证了可重复测试 Production & Industry 中试线及量产系列：Multi Layer R2R Coating System 多层卷对卷涂布量产线 连续的多层模块生产包括Slot Die狭缝涂布及Rotary Screen旋转丝印； 专利技术保证了优异的均匀一致性；图像传感器和执行器保证了高准确的校准系统；全自动化高集成度；One Layer R2R Coating System 单层卷对卷涂布量产线 可选涂布模块包括Slot Die狭缝涂布及Micro Gravure微凹印； 专利技术保证了优异的均匀一致性；图像传感器和执行器保证了高准确的校准系统；全自动化高集成度；Double Sided R2R Coating System 双面卷对卷涂布量产线 轻松转换和结合Slot Die狭缝涂布及Micro Gravure微凹印； 高速涂膜工艺且保证优异的均匀一致膜厚； 优良的柔性衬底张力控制；Rotary Screen R2R Printing System 卷对卷旋转丝印涂布系统 连续丝印工艺保证一致均匀图形；图像传感器和执行器保证了高准确的校准系统；全自动化高集成度；Multi Lamination R2R System 多功能层压卷对卷系统 实时双面Lamination and De-Lamination工艺；图像传感器和执行器保证了高准确的校准系统；集成3个层压辊轮以及3个De-Lamination辊轮；Dip Coating R2R System 卷对卷预浸料成套量产线 设计工艺保证了优异的均匀一致膜厚。如今预浸料复合产品的应用正在迅速地增长，这种快速增长的需求促使DCN公司发展了新的涂布技术和高度创新的预浸料生产技术。预浸料作为复合材料的中间材料具有很多优异的性能， 预浸料制品具有高刚度、高拉伸强度、低密度、耐腐蚀、耐振动、抗疲劳性能好等特点，DCN预浸料生产设备具有操作使用方便、维护成本低、集成度高、性能优越等特点。

手动涂布器主要技术指标：仪器与玻璃薄层板之间，可调工作距离为0-2.5mm。在此范围内，刀口与玻璃薄层板不平度误差&le 0.02mm。工作台不平度&le 0.05mm。

HD-L2自动细菌涂布仪技术参数：1. *适宜平板：85-90毫米直径的任意塑料和玻璃培养皿；2. *启动方式：既可通过按钮开关启动，也可通过红外感应启动；3. 工作方式：将培养皿放在旋转台上，在培养皿中心放适量样品液，然后旋转平台使样液向四周扩散，再用刮平的涂布器配合平台转动制作出平整而均匀的培养液膜；4. 配套器材：不锈钢涂布棒或一次性塑料无菌涂布棒；5. 仪器材质：金属合金制造，方便消毒操作；6. 防漏设计：可防止液体进入旋转台内部；7. 偏心率：偏心率小于0.1%，改进转盘固定结构和装配工艺，降低偏心率；8. *运行转速：无极调速，可在100-400rpm/min之间调节；9. 仪器配置：主机1台，不锈钢涂布棒1根，电源线1根。

进口Tester自动涂工装置 涂布机用途：自动将油墨涂料、胶粘剂或树脂乳液涂抹到纸张、薄膜或金属上，制备片材；型号：PI-1210涂膜面积：W280×L450 mm，可脱卸式实验托盘，同一条件下可以重复制模；有效行程：约330 ㎜；涂膜厚度：0-10毫英寸；涂膜速度：10-200mm/sec可调敷贴器................用于涂布棒（1、1/4、2）医生刀片等电压范围............ac100v尺寸...................约W60×D48×h30cm选择...................电影喷头（sa-201、sa-202、sa-203、sa-204）进口Tester自动涂工装置 涂布机真空板（全部面积，侧面积）热板（高的150度），数字类型相关设备...........sa-201，sa-202，sa-203，sa-204

DCN是狭缝涂布Slot Die Coater, 微凹印Micro Gravure 及 旋转丝印Rotary Screen设备的制造商之一，尤其是R2R工艺畅销； 现已推出R&D研发系列，实验室R2R小型试验线，Roll to Roll中试线，和全集成量产线。 DCN的设备畅销日韩及欧美印刷电子市场，并得到行业著名客户长期的全球范围合作，如3M以及附属工厂，Samsung三星电子，三星化学及其合作的供应商，LG显示及LG化学及其相关的供应商和代工厂。涂布工艺介绍：Slot Die:狭缝涂布仪是一种制造技术，现阶段广泛应用于平板显示（LCD,OLED,QLED）,柔性显示，触摸屏工艺，太阳能光伏，电池工艺，智能化玻璃，柔性印刷电子，纸张涂布，半导体封装等领域，均能实现不同功能材料高效，高均匀，高性能的涂布。 Micro Gravure 微凹印： R&D实验室研发系列：Lab Slot Die Coater：实验室级高精度 速度：1 ~ 50 mm/s 涂膜面积： 150 x 150mm和250 x 250mm 优异的涂膜均匀性以及广泛的材料适用范围实验室级高精度 速度：1 ~ 50 mm/s 涂膜面积： 150 x 150mm和250 x 250mm 优异的涂膜均匀性以及广泛的材料适用范围 Table Slot Die Coater：全自动多功能集成系统； 速度：0.01 ~ 200 mm/s； 涂膜面积： 180 x 250mm 和 370 x 470mm； 优异的涂膜均匀性以及广泛的材料适用范围自动多功能集成系统； 速度：0.01 ~ 200 mm/s； 涂膜面积： 180 x 250mm 和 370 x 470mm； 优异的涂膜均匀性以及广泛的材料适用范围Lab R2R Coater：实验室小型中试线；Slot Die或Micro Gravure功能集成； 涂膜宽度150到300mm可选；可选集成Hot Air Dryer, IR Heater, UV Cure, Laminator功能实验室小型中试线；Slot Die或Micro Gravure功能集成； 涂膜宽度150到300mm可选；可选集成Hot Air Dryer, IR Heater, UV Cure, Laminator功能Lab R2R Coater：多用途辊式涂布仪；模块包括Gravure Offset,Plater Offset,Gravure,Blade Coating 可调速度及压力进行膜厚改变；优越性能保证了可重复测试 Production & Industry 中试线及量产系列：Multi Layer R2R Coating System 多层卷对卷涂布量产线 连续的多层模块生产包括Slot Die狭缝涂布及Rotary Screen旋转丝印； 专利技术保证了优异的均匀一致性；图像传感器和执行器保证了高准确的校准系统；全自动化高集成度；One Layer R2R Coating System 单层卷对卷涂布量产线 可选涂布模块包括Slot Die狭缝涂布及Micro Gravure微凹印； 专利技术保证了优异的均匀一致性；图像传感器和执行器保证了高准确的校准系统；全自动化高集成度；Double Sided R2R Coating System 双面卷对卷涂布量产线 轻松转换和结合Slot Die狭缝涂布及Micro Gravure微凹印； 高速涂膜工艺且保证优异的均匀一致膜厚； 优良的柔性衬底张力控制；Rotary Screen R2R Printing System 卷对卷旋转丝印涂布系统 连续丝印工艺保证一致均匀图形；图像传感器和执行器保证了高准确的校准系统；全自动化高集成度；Multi Lamination R2R System 多功能层压卷对卷系统 实时双面Lamination and De-Lamination工艺；图像传感器和执行器保证了高准确的校准系统；集成3个层压辊轮以及3个De-Lamination辊轮；Dip Coating R2R System 卷对卷预浸料成套量产线 设计工艺保证了优异的均匀一致膜厚。如今预浸料复合产品的应用正在迅速地增长，这种快速增长的需求促使DCN公司发展了新的涂布技术和高度创新的预浸料生产技术。预浸料作为复合材料的中间材料具有很多优异的性能， 预浸料制品具有高刚度、高拉伸强度、低密度、耐腐蚀、耐振动、抗疲劳性能好等特点，DCN预浸料生产设备具有操作使用方便、维护成本低、集成度高、性能优越等特点。

狭缝式涂布机是一种用于在表面上涂布薄膜、涂料或液体材料的设备。它通常由一个具有狭缝形状的喷嘴或涂布头部组成，通过控制狭缝的宽度和涂布材料的流量来实现精确的涂布过程。这种涂布机在工业生产中广泛应用，特别是在印刷、涂装、电子制造和其他需要精密涂布的领域。狭缝式涂布机的工作原理是将涂布材料通过泵送或喷射系统输送至狭缝喷嘴，然后通过调节狭缝的宽度和涂布速度来控制涂布厚度。这种精确的控制使得狭缝式涂布机非常适合需要高质量、均匀涂布的应用。这种涂布技术常用于制造平板显示器、光伏电池、柔性电子设备等高科技产品的生产过程中。狭缝式涂布机的优势包括高精度、高效率、节省材料和可在各种基材上实现均匀涂布。总的来说，狭缝式涂布机在现代工业中扮演着重要的角色，为许多领域提供了精确、可控的涂布解决方案。 在半导体制造领域，狭缝式涂布技术有着重要的应用，特别是在制备薄膜和涂覆材料的过程中。以下是一些狭缝式涂布在半导体行业中的主要应用：光刻胶涂覆： 在半导体制造中，光刻是一项关键的工艺，用于定义芯片上的图形和结构。狭缝式涂布机常用于涂覆光刻胶在硅片表面，确保光刻胶均匀覆盖并形成一致的薄膜。这是为了保证后续曝光、显影等步骤能够准确地传递芯片设计的图案。化学机械抛光（CMP）涂覆： CMP是半导体工艺中用于平坦化硅片表面的关键步骤。在CMP涂覆中，狭缝式涂布机可用于将腐蚀液体（slurry）均匀涂布在硅片表面，以便在抛光过程中实现材料的均匀去除，从而获得平整的表面。薄膜涂布： 制造半导体器件通常涉及在硅片上涂覆不同的薄膜层，例如氧化物、金属薄膜等。狭缝式涂布机可确保这些薄膜在硅片表面均匀分布，从而提高器件的性能和可靠性。电介质涂布： 在半导体器件中，电介质层通常用于隔离不同电路元件或作为绝缘材料。狭缝式涂布机可以精确地涂布这些电介质材料，确保其厚度和均匀性，从而维持器件的电学性能。 总的来说，狭缝式涂布技术在半导体制造中扮演着关键的角色，为各种工艺步骤提供了高精度和均匀性的涂覆解决方案，从而确保半导体器件的质量和性能。一、产品使用范围：&bull 弯月牙涂胶基板尺寸：1400 mm×420 mm×200 mm)；&bull 液体胶刀的有效尺寸为：420mm：二、设备概述：此胶狭缝系统包括供胶系统、精密胶刀、平面度调节机构、胶盒移动等部件组成。&bull 供胶系统：伺服电机带动磁力泵供给胶刀，回流过滤循环供给，胶泵采购进口压力流量可调的磁力泵。&bull 精密胶刀：胶刀出液狭缝可调，可适应100CP-200CP的光阻药液。同时出液的高度（0.15-0.25mm）通过调整泵的供压力及狭缝配合来调&bull 面度调节机构：胶刀与胶盒的平行度可通过胶盒内的螺钉进行调平，胶刀与连接平面也可调整，胶刀与基板的平面通过机械方式也可调整。&bull 利用电磁阀及气缸来实现胶盒盖的上下、左右方向的移动。 三、设备控制设计：&bull 供泵系统胶泵为伺服电机，胶泵的压力、流速通过调节电机的转速控制。&bull 胶盒盖通过气缸控制+电磁阀（气缸都装有上下，左右位置检测传感器）。&bull 基板移动加有接近开关（主要用于检测基板是否移过）。

MSK-AFA-IV小型涂布机采用电气控制和机械的有机结合，可大量节省原料，改进工艺技术，方便在不同的基底上涂覆出质量优良布膜，减小以及消除了由于涂布速度、压力不同等人为因素而造成的涂布后样品表面薄膜厚度的误差，涂覆不通厚度的薄膜需选用不同规格的涂布棍。涂布的速度可通过一个速度控制旋钮进行相应的调节。设备前端和后端具有限位，达到限位机器自动停止涂布。MSK-AFA-IV小型涂布机采用进口控制部件，结实耐用。主要用于胶类、纸类，薄膜类生产试验，也可用于其他相关的涂布、涂装行业。设备小巧，适合于实验室进行小面积基片的涂布实验。1、通过更换涂布棍调节涂布厚度。2、通过旋钮调节涂布速度，速度可以通过显示屏显示。3、采用进口零部件。4、均匀涂布。产品名称MSK-AFA-IV小型涂布机产品型号MSK-AFA-IV安装条件本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：不需要2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、气：不需要4、工作台：尺寸800mm×600mm×700mm，承重200kg以上5、通风装置：不需要主要参数1、电源：220V 50Hz2、总功率48W3、涂覆速度：0-1200mm/min可调4、涂布精度：1μm5、涂布面积：300mm×420mm 6、涂布棍规格：Ø 12mm×400mm7、涂膜厚度：12μm-200μm（根据配用的涂布棍决定）产品规格外形尺寸710mm(长）×420mm（宽）×300mm（高）m；重量：20kg序号名称功能类别图片链接11、可定做可调整厚度的涂膜器，最小厚度为5μm，调整精度1μm。（可选）-2涂膜厚度为5μm、10μm、15μm 、20μm 、25μm 、30μm 、40μm 、50μm、60μm 、80μm、100μm、120μm 、150μm 、200μm的涂辊。（可选）-3框式制备器（可选）

Slotdie狭缝式涂布机采用的是一种高精密的预计量涂布方式不仅用于机太阳能电池OPV和钙钛矿太阳能电池PVK等成卷基材的涂布，还可以用于实验室研发聚酰亚胺浆料配方的涂布、OLED涂布、光学膜(增亮膜、hardcoat、偏光膜、扩散膜等)等涂布，也应用于非连续基材如LCD玻璃基板光阻涂布。Slotdie狭缝式涂布由涂布模头相对于基片作精确运动，通过控制速率、精密计量和泵送工艺流体，将液体化学材料从上下模之间的缝隙挤出涂布于移动的基板（玻璃、不锈钢和塑料等）上形成薄膜。涂膜厚度可由液体流量与基板移动速度直接计算，其优点为涂膜均匀性高、可适用的涂料粘度范围广、涂布速度快、涂布系统封闭，在涂布过程中能防止污染物进入以及可制作大面积的涂膜等。桌面式狭缝涂布机 （CS-18） 特点&优势：1. 涂布效果好，进口涂布刀头，针对高一致性、 化学兼容性、低充填容量和条状涂布设计。涂布平整均匀度可达±5%。2. 操控精度高，涂布速率（稳态涂布）和涂布轮廓（前后边缘）的高精度数字化控制，可实现膜厚500nm~50um。3. 涂布面积大，支持有效涂布宽度100mm~500mm。4. 预计量工具，可前期计算工艺参数，减少溶液浪费。 材料利用率可达95%5. 能够满足不同阶段需求：从研发（实验型）到中试型、量产型6. 高度可定制，支持更大涂布面积定制、多种规格选配如风刀、真空吸附、加热台、双头注液泵等，支持高粘度材料。过程参数：涂布间隙控制：高精度，动态控制涂布头高度 (z轴)模具运动控制: 在涂布方向上(x轴)精确控制模具的运动轨迹(包括加速和减速参数) 模具设计: 针对高一致性、化学兼容性、低充填容量 和 条状涂布进行模具设计制造涂布控制: 涂布速率(稳态涂布) 和涂布轮廓 (前后边缘)的高精度数字化控制控制软件: 所有配方参数，数据监控和反馈控制，数据采集分析。有效涂布面积100mm*100mm/200mm*200mm涂布平台面积220mm*220mm涂层湿膜厚度10-200um涂层干膜厚度0.5-10um固含量10-50%粘度1-20000cps涂布速度0-100mm/s出液速度0.1-60mL/min储液罐容量50ml涂布有效宽度200mm刀头高度0-50mm模头与平台距离精调可调范围：0-10mm单位调节精度：0.001mm粗调可调范围：0-50mm刀头水平度±2um平台平整度±1.5um刀头狭缝宽度0.05/0.08/0.1mm（由垫片厚度决定）电源电压AC 220V x 50Hz基台固定真空吸附基台配置原位加热功能，温度200℃，控温精度±2℃（可选）额外配置风刀+对刀仪（可选）应用领域：平板显示LCD, OLED, Flexible, Touch ScreenLCD, OLED, 柔性显示, 触摸屏太阳能光伏PV including CIGS, CdTe, OPV and C-Si固态照明OLED lighting高附加值玻璃可调光智能玻璃, 博物馆用玻璃半导体, 微机电系统, 无线射频识别, 聚合物电池, 和各种有机及打印电子器件

狭缝涂布机涂布系统主要包括供料单元和涂布单元，涂布单元是通过利用精密机械加工所制作的上下模及安装在上下模间的薄垫片所组成，供料单元由储料、输送的注射泵及过滤装置等组成。系统由涂布模头相对于基片作精确运动，通过控制速率、精密计量和泵送工艺流体，将液体化学材料从上下模之间的缝隙挤出涂布于移动的基板（玻璃、不锈钢和塑料等）上形成薄膜。涂膜厚度可由液体流量与基板移动速度直接计算，其优点为涂膜均匀性高、可适用的涂料粘度范围广、涂布速度快、涂布系统封闭，在涂布过程中能防止污染物进入以及可制作大面积的涂膜等。?适用于PI浆料的涂布，有机太阳能电池 OPV 和钙钛矿太阳能电池 PVK 等基材的涂布，非连续基材如LCD 玻璃基板光阻涂布，也应用于光学膜（增亮膜、hardcoat、偏光膜、扩散膜等）、OLED 涂布等。落地式狭缝涂布机 （DT-3747） 特点&优势：1. 涂布效果好，进口涂布刀头，针对高一致性、 化学兼容性、低充填容量和条状涂布设计。涂布平整均匀度可达±5%。2. 操控精度高，涂布速率（稳态涂布）和涂布轮廓（前后边缘）的高精度数字化控制，可实现膜厚500nm~50um。3. 涂布面积大，支持有效涂布宽度100mm~500mm。4. 预计量工具，可前期计算工艺参数，减少溶液浪费。 材料利用率可达95%5. 能够满足不同阶段需求：从研发（实验型）到中试型、量产型6. 高度可定制，支持更大涂布面积定制、多种规格选配如风刀、真空吸附、加热台、双头注液泵等，支持高粘度材料。过程参数：涂布间隙控制：高精度，动态控制涂布头高度 (z轴)模具运动控制: 在涂布方向上(x轴)精确控制模具的运动轨迹(包括加速和减速参数) 模具设计: 针对高一致性、化学兼容性、低充填容量 和 条状涂布进行模具设计制造涂布控制: 涂布速率(稳态涂布) 和涂布轮廓 (前后边缘)的高精度数字化控制控制软件: 所有配方参数，数据监控和反馈控制，数据采集分析。有效涂布面积370mm*370mm涂布平台面积 370mm*470mm涂层湿膜厚度10-200um涂层干膜厚度0.5-10um固含量10-50%粘度1-200000cps涂布速度0-100mm/s出液速度0.1-60mL/min储液罐容量50ml涂布有效宽度200mm刀头高度0-50mm模头与平台距离精调可调范围：0-10mm单位调节精度：0.001mm粗调可调范围：0-50mm刀头水平度±2um平台平整度±1.5um刀头狭缝宽度0.05/0.08/0.1mm（由垫片厚度决定）电源电压AC 220V x 50Hz基台固定真空吸附基台配置原位加热功能，温度200℃，控温精度±2℃（可选）额外配置风刀+对刀仪（可选）应用领域：锂电池隔膜光刻胶燃料电池交换膜LCD, OLED, Flexible, Touch ScreenLCD, OLED, 柔性显示, 触摸屏太阳能光伏PV including CIGS, CdTe, OPV and C-Si固态照明OLED lighting高附加值玻璃可调光智能玻璃, 博物馆用玻璃半导体, 微机电系统, 无线射频识别, 聚合物电池, 和各种有机及打印电子器件

Slotdie狭缝式涂布机 钙钛矿太阳能电池薄膜制备 薄膜涂布机　　产品简介　　狭缝式涂布(Slot Die Coating)是一种高精密的涂布方式，涂布系统主要包括供料单元和涂布单元，涂布单元是通过利用精密机械加工所制作的上下模及安装在上下模间的薄垫片所组成，供料单元由储料、输送的注射泵及过滤装置等组成。系统由涂布模具相对于基片作精确运动，通过控制速率、精密计量和泵送工艺流体，将液体化学材料从上下模之间的缝隙挤出涂布于移动的基板（玻璃、不锈钢和塑料等）上形成薄膜。涂膜厚度可由液体流量与基板移动速度直接计算，其优点为涂膜均匀性高、可适用的涂料粘度范围广、涂布速度快、以及可制作大面积的涂膜。　　适用于有机太阳能电池OPV和钙钛矿太阳能电池PVK等基材的涂布，非连续基材如LCD玻璃基板光阻涂布，也应用于光学膜（增亮膜、hardcoat、偏光膜、扩散膜等）、OLED涂布等。　　多种规格尺寸可选可定制，多种人性化配置可选：加热台、特殊气体吹淋系统、多尺寸刀头，多规格垫片等，满足客户多种需求，为客户量身定制高精密业设备。 　　特点&优势：1. 涂布效果好，进口涂布刀头，针对高一致性、 化学兼容性、低充填容量和条状涂布设计。涂布平整均匀度可达±5%。2. 操控精度高，涂布速率（稳态涂布）和涂布轮廓（后边缘）的高精度数字化控制，可实现膜厚500nm~50um。3. 涂布面积大，支持有效涂布宽度100mm~500mm。4. 预计量工具，可期计算工艺参数，减少溶液浪费。 材料利用率可达95%5. 能够满足不同阶段需求：从研发（实验型）到中试型、量产型6. 高度可定制，支持更大涂布面积定制、多种规格选配如风刀、真空吸附、加热台、双头注液泵等，支持高粘度材料。　过程参数：涂布间隙控制：高精度，动态控制涂布头高度 (z轴)模具运动控制: 在涂布方向上(x轴)精确控制模具的运动轨迹(包括加速和减速参数) 模具设计: 针对高一致性、化学兼容性、低充填容量 和 条状涂布进行模具设计制造涂布控制: 涂布速率(稳态涂布) 和涂布轮廓 (后边缘)的高精度数字化控制控制软件: 所有配方参数，数据监控和反馈控制，数据采集分析。有效涂布面积200mm*200mm涂布平台面积220mm*220mm涂层湿膜厚度10-200um涂层干膜厚度0.5-10um固含量10-50%粘度1-20000cps涂布速度0-100mm/s出液速度0.1-60mL/min储液罐容量50ml涂布有效宽度200mm刀头高度0-50mm模头与平台距离精调可调范围：0-10mm单位调节精度：0.001mm粗调可调范围：0-50mm刀头水平度±2um平台平整度±1.5um刀头狭缝宽度0.05/0.08/0.1mm（由垫片厚度决定）电源电压AC 220V x 50Hz基台固定真空吸附基台配置原位加热功能，温度200℃，控温精度±2℃（可选）额外配置风刀+对刀仪（可选）应用域：平板显示LCD, OLED, Flexible, Touch ScreenLCD, OLED, 柔性显示, 触摸屏太阳能光伏PV including CIGS, CdTe, OPV ａnd C-Si固态照明OLED lighting高附加值玻璃可调光智能玻璃, 博物馆用玻璃半导体, 微机电系统, 无线射频识别, 聚合物电池, 和各种有机及打印电子器件

狭缝式涂布(Slot Die Coating)是一种高精密的涂布方式，不仅用于光学膜(增亮膜、hardcoat、偏光膜、扩散膜等)、OLED涂布等，还可以用于有机太阳能电池OPV和钙钛矿太阳能电池PVK等成卷基材的涂布，也应用于非连续基材如LCD玻璃基板光阻涂布。狭缝涂布技术适用于各种涂布液，可广泛应用于不同基材表面的涂布，如玻璃，不锈钢和塑料基片涂布模具相对于基片高精度地运动，并高精度检测控制工艺流体及其涂布速度。桌面式狭缝涂布机 （CS-18）特点&优势：1. 涂布效果好，进口涂布刀头，针对高一致性、 化学兼容性、低充填容量和条状涂布设计。涂布平整均匀度可达±5%。2. 操控精度高，涂布速率（稳态涂布）和涂布轮廓（前后边缘）的高精度数字化控制，可实现膜厚500nm~50um。3. 涂布面积大，支持有效涂布宽度100mm~500mm。4. 预计量工具，可前期计算工艺参数，减少溶液浪费。 材料利用率可达95%5. 能够满足不同阶段需求：从研发（实验型）到中试型、量产型6. 高度可定制，支持更大涂布面积定制、多种规格选配如风刀、真空吸附、加热台、双头注液泵等，支持高粘度材料。过程参数：涂布间隙控制：高精度，动态控制涂布头高度 (z轴)模具运动控制: 在涂布方向上(x轴)精确控制模具的运动轨迹(包括加速和减速参数) 模具设计: 针对高一致性、化学兼容性、低充填容量 和 条状涂布进行模具设计制造涂布控制: 涂布速率(稳态涂布) 和涂布轮廓 (前后边缘)的高精度数字化控制控制软件: 所有配方参数，数据监控和反馈控制，数据采集分析。有效涂布面积100mm*100mm/200mm*200mm涂布平台面积220mm*220mm涂层湿膜厚度10-200um涂层干膜厚度0.5-10um固含量10-50%粘度1-20000cps涂布速度0-100mm/s出液速度0.1-60mL/min储液罐容量50ml涂布有效宽度200mm刀头高度0-50mm模头与平台距离精调可调范围：0-10mm单位调节精度：0.001mm粗调可调范围：0-50mm刀头水平度±2um平台平整度±1.5um刀头狭缝宽度0.05/0.08/0.1mm（由垫片厚度决定）电源电压AC 220V x 50Hz基台固定真空吸附基台配置原位加热功能，温度200℃，控温精度±2℃（可选）额外配置风刀+对刀仪（可选）应用领域：平板显示LCD, OLED, Flexible, Touch ScreenLCD, OLED, 柔性显示, 触摸屏太阳能光伏PV including CIGS, CdTe, OPV and C-Si固态照明OLED lighting高附加值玻璃可调光智能玻璃, 博物馆用玻璃半导体, 微机电系统, 无线射频识别, 聚合物电池, 和各种有机及打印电子器件

高精度狭缝挤出式涂布机（适配手套箱） 涂布间隙控制：高精准，动态控制涂布头高度(z轴)；模具运动控制：在涂布方向上(x轴)精确控制模具的运动轨迹(包括加速和减速参数)；模具设计：针对高一致性、化学兼容性、低充填容量和条状涂布进行模具设计制造；涂布控制：涂布速率(稳态涂布)和涂布轮廓(前后边缘)的高精度数字化控制；控制软件：所有配方参数，数据监控和反馈控制，数据采集分析。 应用领域：1. 平板显示 2. LCD/OLED3. 触摸屏4. 太阳能光伏5. CIGS,CdTe,OPV和C-Si6. 高附加值玻璃7. 可调光智能玻璃，博物馆用玻璃8. 半导体，微机电系统，无线射频识别，聚合物电池9. 各种有机及打印电子器件 设备参数：基底：玻璃，多孔质基材，金箔，硅片基底厚度： 2-10mm基材长宽：MAX120X120mm涂层用度(温厚)：2-1000um固含量：10-50%粘度：1-2000cps涂布方式：狭缝挤出式涂布涂布宽度：外宽MAX120mm（实际工作100mm）涂布平台速度：1-30mm/S平台平整度：±1.5um电源：220V X 50Hz出胶速度：1-500uL/s 狭缝式涂布技术狭缝涂布( SlotDie Coating)技术利用精密机械加工所制作的模块，由涂布模具相对于基片作精确运动，通过控制速率、精密计量和泵送工艺流体,将液体化学材料挤出涂布于移动的基板(玻璃、不锈钢和塑料等)上形成薄膜。涂膜厚度可由液体流量与基板移动速度直接计算，其优点为涂膜均匀性高、可适用的涂料黏度范围广、涂布速度快、以及可制作大面积的涂膜。

自动涂布机 ZAA2300 型号：ZAA2300 技术参数涂布板基材：镀铝红色双面玻璃板，一面为玻璃表面；另一面为垫棉布上涂橡胶涂层（印刷毛毯），用于金属涂布棒涂布尺寸(L× W× H):unit:565× 382× 190mm玻璃板:553× 300× 15mm 重量：20Kg（玻璃板6.4Kg）涂布速度：1-99mm/s应用长度：1mm-400mm应用宽度：1mm-300mm电源：100-230V, 50-60Hz标准：ASTM D 823-95 仪器特征起始和终止位置可手动调节，起始位置带中心夹头固定装置双面玻璃板用于双重目的操作：一边带印刷毛毯，用于金属涂布棒涂布，另一边为玻璃表面，其它涂布头涂布用同时多种涂布头可用选项：装载基材或其它材料的真空板，真空能保证材料涂布均匀玻璃板易于更换或翻转，不需要使用工具 交货标准范围1台自动涂布机1块可逆转、双面玻璃板：一面为玻璃表面，另一面覆印刷毛毯1个快速水平器1份生产授权书和操作手册RDS涂布棒1套：共7支，对应湿膜厚度分别为4、6、12、24、40、50、60微米 生产商：Zehntner/瑞士

DW-16型自动细菌涂布接种仪产品简介： DW-16型自动细菌涂布接种仪由放置培养皿的可旋转平台（自动）和可变速驱动电机组成，配套用户自备无菌涂布器（涂布棒）工作，是杭州大微专为“经典培养法”微生物实验中的“细菌涂布接种”环节而设计制造，塑料平皿适用（仅适配符合行业标准的标准90毫米平皿-注1）。本仪器可自动旋转涂布菌液，实现细菌涂布标准化，避免不同操作者之间的误差，每次都能平整而均匀的涂布含菌样品液。 注1：90毫米平皿为通俗叫法，行标要求皿底外径87毫米，皿盖89-90毫米；推荐用户使用标准平皿，或采购本仪器前进行直径适配测试。技术特点： 1. 本仪器可实现电机驱动，自动旋转涂布菌液；实现细菌生长均匀，避免手工接种的细菌生长不均匀和菌落重叠现象，方便菌落计数；2. 本仪器可长时间待机操作，可消毒剂以及紫外线灭菌；3. 采用防漏设计，防止液体进入旋转台内部；技术参数：1. 适宜平板：90毫米标准直径的培养皿，塑料平皿适用；2. 启动方式：通过按纽启动，电机带动旋转平台自动旋转；3. 工作方式：将培养皿放在旋转台上，在培养皿中心放适量样品液，然后旋转平台使样液向四周扩散，再用刮平的涂布器配合平台转动制作出平整而均匀的培养液膜；4. 配套器材：不锈钢涂布棒或一次性塑料无菌涂布棒；5. 仪器材质：金属合金制造，方便消毒操作；6. 防漏设计：可防止液体进入旋转台内部；7. 运行转速：分为四档可调；最小转速为200RPM，最大转速为350RPM；8. 仪器配置：接种仪主机1台，培养皿垫圈1个，电源线1根。

设备介绍转移涂布机是用于锂离子电池极片生产的机械设备，其控制功能强、操作简单、使用方便，是目前国内大量采用一种涂布机。产品特点适应涂布材料体系： 钴酸锂、三元材料、磷酸铁锂、锰酸锂；涂布浆料特性：锂离子电池正/负极浆料，黏度：1000～10000CPS；浆料在充分搅拌均匀满足电池涂布要求后，用运转罐盛装不停搅拌，以便改善浆料涂布性能；涂布方式：间隔涂布。

“狭缝涂布精密成膜装备系统”是一个高端先进制造业项目，其成膜技术可在玻璃、塑料、不锈钢等基体上精确涂布制备功能纳米、微米薄膜，在许多光电领域，如平板显示、触摸屏、薄膜太阳能电池、半导体元器件及封装、柔性及印制电子、智能玻璃等，有着非常广泛的应用。 从研发用150mm平台到6代线，为用户提供灵活多变的配置方案。不仅用于光学膜(增亮膜、hardcoat、偏光膜、扩散膜等)、OLED涂布等，还可以用于有机太阳能电池OPV和钙钛矿太阳能电池PVK等成卷基材的涂布，也应用于非连续基材如LCD玻璃基板光阻涂布。 狭缝涂布技术适用于各种涂布液，可广泛应用于不同基材表面的涂布，如玻璃，不锈钢和塑料基片涂布模具相对于基片精确地运动，并精确检测控制工艺流体及其涂布速度。 优势 可涂布不同粘度的各种材料 涂布厚度范围广泛:从20nm到150μm以上 很好的涂布一致性:通常优于±3% 效率高/材料利用率高:材料利用率可达95% 能够满足不同需求：从研发到小批量试制、大量生产 工艺具有高的可靠性和鲁棒性:良率可达到95% 适用于S2S和R2R加工模式 在一个工艺周期内可实现矩形阵列的涂布加工 过程参数 涂布间隙控制：动态控制涂布头高度 (z轴) 模具运动控制: 在涂布方向上(x轴)精确控制模具的运动轨迹(包括加速和减速参数) 模具设计: 针对高一致性、化学兼容性、低充填容量 和 条状涂布进行模具设计制造 涂布控制: 涂布速率(稳态涂布) 和涂布轮廓 (前后边缘)的高精度数字化控制 控制软件: 所有配方参数，数据监控和反馈控制，数据采集分析。 应用领域 平板显示 LCD, OLED, Flexible, Touch Screen LCD, OLED, 柔性显示, 触摸屏 太阳能光伏 PV including CIGS, CdTe, OPV and C-Si 固态照明 OLED lighting 高附加值玻璃 可调光智能玻璃, 博物馆用玻璃 半导体, 微机电系统, 无线射频识别, 聚合物电池, 和各种有机及打印电子器件