近场测量系统

2015年Anasys发布了最新一代产品nanoIR2-s，在广受欢迎的第二代纳米红外光谱系统的基础上增加了散射近场光学成像和光谱功能（s-SNOM）。实现了同一平台兼具AFM-IR和s-SNOM两种技术。仪器的空间分辨率达到10nm，广泛用于各种聚合物、有机无机复合材料、生物样本、半导体、等离子体、纳米天线等。纳米红外&散射近场光学成像和光谱系统(nanoIR2-s)AFM-IR &s-SNOM l AFM-IR 消除分析化学研究人员的担忧--与FTIR光谱完全吻合，没有吸收峰的任何偏移l s-SNOM使用金属镀层AFM探针代替传统光纤探针来增强和散射样品纳米区域内的光辐射，空间分辨率由AFM针尖的曲率半径决定l 专利技术实现智能的光路优化调整，无需担心光路偏差拖延你的实验进度l 最准确的定性微区化学表征，得到美国国家标准局NIST, 橡树岭国家实验室等美国权威机构的认可l 简单易用的操作，被三十多位企业用户和近百位学术界所选择l 基于DI传承的多功能AFM实现纳米热学，力学，电学和磁学测量：l 纳米热分析模块（nanoTA, SThM）l 洛仑兹接触共振模块（LCR）l 导电原子力显微镜镜（CAFM）l 开尔文电势显微镜（KPFM）l 磁力显微镜（MFM）l 静电力显微镜（EFM）10纳米空间分辨率化学成像和光谱石墨烯等离子体 高分辨率成像 石墨烯表面等离子体的近场相位和振幅成像；优于10nm的光学成像PTFE的nano FTIR光谱显示相干分子振动时域图（上图）,和相应的近场光谱（下左图）。pNTP分子层的近场光谱（图下右）。

SIG 系列分布式光度计，可以直接得到LED 等光源的近场光线数据Ray DATA，从而通过权重法超高精度模拟不同距离下的远场数据，测试数据可以直接导入Zemax、LightTool、TracePro 等光学设计软件；可以了解你芯片的发光特点，改进封装设计工艺，提高出光效率；对于LED 应用，无需再为LED 光学模型重建而苦恼；让你轻松实现业界领先的光学设计； SIG400光源近场分布测试系统

光源近场测量系统Gonio-2Pi主要功能该设备可以实现光源的远场测试，另外通过可选附件，可以拓展测试光源的近场，多光谱Raydata，BSDF等测试，实现一站式完全光源的全数据表征；光源近场测量系统Gonio-2Pi主要应用对于LED车灯照明，医院照明灯，通常通过封装多种波长的芯片和荧光粉来提升光色参数品质，通过灯具混光设计，来得到优质的照明品质；Gonio-2Pi提供多波长的近场/远场的Raydata测试，可以提供各波长的光线集模型，从而为高品质的照明灯具设计提供光线模型； 多芯片封装LED芯片近场测试左上:488nm芯片辐射图像；中上：488nm芯片光线集；右上：83.5°C面的光强角度分布；左下:630nm芯片辐射图像；中上：630nm芯片光线集；右上：83.5°C面的光强角度分布；技术规格Gonio-2PiSi 版本BSDF版本尺寸（臂长）1500mm x 875mm x 2070mm占地尺寸2215 mm x 875 mm电气柜尺寸600mm x 550mm x 1300mm重量350kg(主机)+100kg(电气柜)工作距离700mm可调850mm 可调XL 版本角分辨率10-4°内部，10-2°外部探测器Luca成像亮度计滨松PMT动态范围12Bits/18Bits可选探头Spec’3-光谱仪Spr’3-光谱辐射度计frc’3-辐射度计/光度计光谱高质量V(λ)RGB或者多色Ray Data光源白光光源/半导体激光器空间分辨率0.03mm输出格式通用orf格式，支持主流的光学模拟软件

SIG系列小光源近场光线分布测量系统特点 :? 支持垂直光源及水平光源设置测量? 提供亮度及颜色的近场测量模型? 视觉范围及分析的多光学结构配置? 用集成影像数据来产生RSM的模型? 稳定性极高的LED光源及弧光光源精准测量模式应用 :? 测量待测光源所有角度近场光强度分布与色度? 提供精确的射线组合提供光学设计套件软件使用? 提供光学设计与原型测试的近场模型SIG-300 光源效率的精准模拟是需要经过研制计算的，光学设计、装置的设计选项、装置的筛选和质量控管以及亮度的设置，这些都需要经过直接且精确的测量实际上的光源效率。SIG-300 是光源影像式角度机，其可采集并汇集光源周围多角度面向的亮度及颜色测量，这些光信号会汇整至Radiant Source Model(RSM) 进一步分析出光源的效率，这些分析数据可用来提供光学设计上使用。 SIG-300 透过坚固的机械设计、精准的光学配置及软件控制来达到工业等级般的精准测量。SIG-300 可适用于一般大多数的光源，从LED 光源到中尺寸的光源测量，垂直方向或是水平方向的光源测量皆适用，并且有微小影像分析、标准影像分析及微小视觉范围可做选配。 RSM 是光源近场效率刻划显示的工业标准模型，它有着丰富的信息，可提供亮度值及色坐标数值，还可保存所有测量的影像，并且能够使用ProSource® 的功能使其更精准，产生更完整的射线组合用来提供光学设计用的原型，减少光学设计时不必要的时间。 Radiant Imaging 提供完整全系列的光源影像式角度机，适用来量测LED 光源用的SIG-400 系列到大面积光源的SIG-310 系列机型。SIG系列小光源近场光线分布测量系统? 大面积光源优化测量? 支援垂直光源及水平光源设置的测量? 提供亮度及色度的近场模型? 多样光学结构配置强化视野范围及分辨率? 采用集成影像数据产生RSM模型应用 :? 测量大面积待测光源所有角度近场光强度分布? 测量大面积光源近场色度分布等特性? 提供精确的射线组合提供光学设计套件软件使用SIG-310 光源近场亮度的精准测量和大面积光源的颜色分布需要精准的光学、机械和软件设计的组合，架构于Radiant Imaging 工业等级的SIG-300 及SIG-400 系统的设计上，SIG-310 系列实现高阶的色度计，坚固的机械结构配置让此系统能够更精确更稳定的量测，搭配容易使用的控制软件，SIG-310 可以广泛的适用于各种测量应用，不论是垂直光源的配置或是水平光源的配置皆可适用。 SIG-310 利用多视角来采集大面积光源亮度及色度的影像空间结构来产生高准确的近场模型。 记录在工业标准的Radiant Source Model(RSM) 格式内，这些数据使用ProSource® 软件功能，可提供详细的数据分析及数据输出给大多数主要的光学设计套件，更精确的近场模型量测能产生更精准的射线配置而得到更好的光源系统设计。SIG-310适用于一般光源的测量，可用于研发或产品特性的测量。SIG-400 因应LED 组件及光源应用的迅速成长，对于LED 组件及光源的发展研制、估算及光学设计来说，准确的LED 模型效能是必须的，这可透过低成本的方式来选择组件设计、质量控制以及发光效率的设计等应用。 SIG-400 是光源影像式角度机，可采集和整理LED 光源或相似的小面积光源的多角度亮度及色度值，精准的刻划出实际的光效率。汇总入Radiant Source Model(RSM) 的数据数据可进一步做光效率的分析和光学设计中射线的配置。 SIG-400 是对LED 光源的优化测量系统，可减少系统的体积及降低成本，并简化测量的工序；此外，也提供了多样化的选配，如像素的分辨率、微观视野、标准视野、巨观视野的范围选择。 SIG-400 透过坚固的机械结构设计、精准的光学配置以及软件控制，使其成为业界领导等级的准确量测系统，SIG-400 在测量整个待测件的时后能够精准的定位到待测件的中心点，经测试后不超过15 微米，当量测LED 裸片时可让测量错误降到最小。特点 :? LED芯片、颗粒及组件的优化测量系统? 多样光学结构配置强化视野范围及分辨率? 提供亮度及色度的近场模型? 用集成影像数据来产生RSM模型应用 :? 测量LED或是小面积光源所有角度近场光强度分布? 测量LED或是小面积光源近场色度分布? 提供光学设计与原型测试的近场模型

VTC 4000 – 快速且高精度的VCSEL阵列近场测试Instrument Systems的VTC 4000近场相机是专为快速精确2D分析VCSEL阵列而开发。它可以同时对阵列中各个发射器的所有相关参数进行偏振控制的表征。VTC 测量系统相机基于业界领先的校准概念，依据德国国家标准（PTB）进行可追溯的校准，实现高测量精度的二维VCSEL质量分析。VTC 4000分有两个版本：不带光纤输出的VTC4000-100用于确定单个发射器的功率、偏振和空间辐射特性，以及带光纤输出的VTC4000-200用于结合光谱仪来做进一步的波长分析。 偏振控制的测量概念保证高精度VTC 4000的创新校准概念是基于平场及偏振校正。偏振校正是在in-line分析发射光，并校正光学系统的偏振依赖性。此校正使相机只需单次拍摄，就能绝对测量视野内每个单一发射体的功率和偏振特性。此独特的测量概念可减低功率测量的误差预算，并实现高测量精度，这是目前其他VCSEL测量系统所不能提供的。 发射器的快速质量控制VTC 4000只需通过拍摄一张二维图像，就能对相机视场内的光点进行功率和偏振测量。适合应用在生产线的质量控制上，来分析阵列的均匀性并检测出偏离的单个发射器。 单个发射器的空间辐射特性单个发射器的空间辐射特性，可以使用VTC 4000的Z-定位装置进行表征。通过相机在不同的Z位置拍摄图像，测量出辐射束腰（emission waist）。并由此计算出每个发射器的发散性、数值孔径(NA)和激光光束质量(M² )。 波长测量VTC 4000还有一个带光纤输出的版本，可以连接CAS系列高分辨率光谱仪，以对图像中心的单个发射器进行光谱分析。通过XY定位装置，VTC 4000便可以分析阵列中所有单发射体的光谱特性。 VTC 4000 - 技术数据:VCSEL阵列的近场，快速2D表征有不带输出光纤及带光纤的类型，可连接CAS系列高分辨率光谱仪可同时分析相机视场内单个发射器的功率、偏振度、偏振角度和位置可评估单个发射体的发散性、数值孔径、M² 值和空间辐射特性光谱及波长分析 (仅适用于VTC 4000-200)具有12 MP像素的高分辨率相机可在910 – 980 nm范围内进行校准功率的工厂校准可追溯至德国PTB国家标准高效的SDK，可简单集成进生产线VTC 4000 – 阵列近场测量的系统解决方案VTC 4000是专门为VCSEL阵列的近场测量而开发，是同时适合实验室和生产环境的测量解决方案。其应用领域包括VCSEL测试，特别是智能手机的3D传感（如人脸和物体识别）和车用领域（如LiDAR系统）。VTC 4000测量解决方案为单个发射器的分析和质量控制提供了快速和准确的结果。VTC 4000 – 技术数据型号VTC 4000-100VTC 4000-200相机传感器12 MP CMOS12 MP CMOS连接高分辨率光谱仪的光纤输出无有测量结果功率、偏振、位置、发射特性，包括数值孔径和M² 值（带Z轴定位）功率、偏振、位置、发射特性，包括数值孔径和M² 值（带Z轴定位）、波长（带XY轴定位）典型单一发射器（直径10 µ m）的功率范围20 nW – 385 mW40 nW – 770 mW辐射测量精度6 %6 %视野范围1.4 mm x 1.0 mm1.4 mm x 1.0 mm

VTC 2400 – 快速、高精度的红外辐射远场空间量测系统VTC 2400是具备高分辨率的红外相机，专为二维远场分析VCSEL及红外发射的辐射强度分布而开发。该测量系统集成了透光屏幕及用于近红外测量的单色相机。由于其遮光外壳，此系统适合使用在实验室及生产应用中。我们提供两种版本的VTC 2400，涵盖典型的红外源光圈角度：VTC 2400-100用于最大±25度；VTC 2400-200用于最大±60度。由于有遮光的相机外壳，该系统既适合实验室，也适合生产线应用。超快速的远场辐射特性分析该系统的量测方法是让辐射源（DUT）照射一个透光、漫散射的屏幕，从而使辐射源的空间辐射特性显现在屏幕之上。在屏幕的另一侧，红外相机VTC 2400捕捉到这个二维图像，并通过校准将辐照度 [W/m2]转换为待测物的辐射强度分布 [W/sr]。激光最大输出及安全等级的评估，角度视野或角度分辨率通过附加的屏幕来测绘辐射源，再用相机捕捉其二维成像，是此测量系统高灵活度的关键。基本的测量参数，如与待测物的距离、角度视野（FOV）或角度分辨率等，都能根据用户的应用需求进行调整。在给定的视野下，测量距离可以灵活改变，因此能达到最小的角分辨度，并以最高精度测量远场中的待测物（因为测量距离远大于DUT尺寸）。此系统精确重建辐射强度分布，并根据测量需要，通过软件来识别辐射最大强度位置（热点），适用于激光安全评估。此独特的测量系统设计保证了最小的误差预算，并带来了极高的测量精度。使制造商能够充分挖掘VCSELs/激光器的性能潜力，同时保证可靠的运行。 VTC 2400 - 产品特长:一键测定 VCSEL阵列/EEL/LED（待测物尺寸800-1000nm）的远场辐射分布各距离下的辐射强度分布及光束分布特性数值孔径（NA）及光束发散特性 空间辐射特性的均匀性测试 用于激光安全评估的最大强度鉴定 可追溯到PTB（德国国家计量院）的辐射校准VTC 2400 – 红外源的远场分析的完善解决方案德国IS 近场测量红外相机VTC 2400 是专门为红外发射器的远场分析而开发的，是实验室和生产应用的最佳测量解决方案。它适合用于分析产品中的VCSEL应用，包括智能手机中的三维传感（如面部和物体识别）及汽车工业中的LiDAR系统、飞行时间等。VTC 2400 – 技术数据型号版本VTC 2400相机传感器5 MP CMOS最大视场角± 25° or ± 60° (depending on model)测量参数辐射强度、发光强度、最大强度（热点）、空间分布、辐射分布特性波长范围800-1000nm辐射测量精度10 %角度精度1°

SIG 系列分布式光度计，可以直接得到LED 等光源的近场光线数据Ray DATA，从而通过权重法超高精度模拟不同距离下的远场数据，测试数据可以直接导入Zemax、LightTool、TracePro 等光学设计软件；可以了解你芯片的发光特点，改进封装设计工艺，提高出光效率；对于LED 应用，无需再为LED 光学模型重建而苦恼；让你轻松实现业界领先的光学设计； SIG400光源近场分布测试系统

随着物联网、AI、5G技术的发展，VCSEL（Vertical Cavity Surface Emitting Laser，垂直共振腔表面放射激光）技术作为3D成像和传感系统的核心技术，目前在人脸识别、3D感测、汽车自动驾驶、手势侦测和VR(虚拟现实)/AR(增强现实)/MR(混合现实等应用领域越来越受到关注。莱森光学可以为客户提供VCSELVCSEL-3D SENSING/TOF检测解决方案：LIV光谱/功率积分测试、NF近场特性测试、FF远场特性测试、BRDF/BTDF光学材料AR/VR特性测试、VCSEL专用积分球。以实现客户对VCSEL/Mini LED/Micro LED单体、模组、及晶圆芯片的能量分布和均匀性测量、光谱波长及功率测量、近场远场测量等各种定制化应用需求。 光谱范围：400-1000nm/900-1700nm 可测量光斑范围：≤3X3mm 光路配置可更换衰减模块OD为：0.15、0.3、0.3、1、2共5片），动态范围大，满足不同功率大小激光近场测试 近场光路系统（直接耦合成像镜头和光路模块，一体化设计） 实时监测光点数统计、坏点/异常点标记，各发光点光功率一致性统计、光束束腰直径、近场发散角、光束质量因子M2近场测试模块原理坏点/异常点标记 M² 测试 各发光点功率一致性统计

太赫兹近场显微镜TeraCube利用高性能太赫兹探针，结合时域泵浦探测系统成为THz近场系统可以进行高分辨率的成像研究。TeraCube Scientific和新的TeraCube Scientific M2是全自动太赫兹近场扫描系统，可以在光学实验室中运行。这两种系统都可以在距离样品表面受控的距离内对太赫兹场分布进行时域测量。TeraSpike近场微探针通过对平面样品传输宽带太赫兹脉冲进行成像。THz近场显微镜主要特点：▅ 通过同步运动控制和实时位置检测实现连续运动扫描的高速数据采集▅ 结构或弯曲样品在恒定微探针/表面距离下自适应太赫兹表面扫描的光学样品形貌检测▅ 用于偏振相关测量的线偏振和圆偏振太赫兹发射器▅ 高性能太赫兹发射器/探测器组件，加上高动态范围锁定检测，可获得卓越的信号质量▅ 用于监测微探针尖duan和样品位置的集成ccd摄像头模块▅ 集成CCD摄像头模块，用于监测微探针尖duan和样品位置系统控制和测量自动化软件，带有易于操作的图形用户界面，安装于配套PC▅ 软件实现对准监控功能和系统检测▅ 软件辅助微探针针尖到样品表面控制▅ 用于快速光学对准的时域信号预览模式▅ 数据导出为纯文本或Matlab兼容格式▅ 激光防护和防尘系统外壳▅ 开放式可扩展实验室型系统平台THz近场显微镜技术参数：THz近场显微镜安装要求：振动阻尼光学台，1.5米x 1米x 1米的系统放置空间；3B级或以上激光实验室规范THz近场显微镜应用：▅ 太赫兹超材料研究及传感应用 ▅ 半导体晶圆检验 ▅ 薄层电阻成像▅ 石墨烯分析 ▅ 太赫兹器件特性 ▅ 微观结构分析▅ 无损检测另外，我们可以根据客户要求，结合AFM原子力显微镜技术，配置相应的散射式THz近场成像系统。关于昊量光电：昊量光电 您的光电超市！上海昊量光电设备有限公司致力于引进国外创新性的光电技术与可靠产品！与来自美国、欧洲、日本等众多知名光电产品制造商建立了紧密的合作关系。代理品牌均处于相关领域的发展前沿，产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、精密光学元件等，所涉足的领域涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国防及前沿的细分市场比如为量子光学、生物显微、物联传感、精密加工、激光制造等。我们的技术支持团队可以为国内前沿科研与工业领域提供完整的设备安装，培训，硬件开发，软件开发，系统集成等优质服务，助力中国智造与中国创造! 为客户提供适合的产品和提供完善的服务是我们始终秉承的理念！您可以通过我们昊量光电的官方网站了解更多的产品信息，或直接来电咨询，我们将竭诚为您服务。

近场热成像模块VertiSenseTM扫描热显微镜（SThM）技术使用了一种特殊设计的AFM探针，该探针带有嵌入式热电偶（Thermal probe），可在样本上进行扫描。使用VertiSenseTM SThM成像放大器测量热电偶的温度，作为位置的函数，并由AFM系统用于结合地形图生成热图。 这些热探头可在温度对比度和热导率对比度模下用于显示出待测样品热特性。热电偶传感器位于尖端的顶点，以便于以小于50nm的横向分辨率进行真实温度测量。 近场热成像模块特点： ▅ 位于顶端的嵌入式热电偶传感器▅ 直接显示温度分布▅ 支持多种扫描模式▅ 横向热分辨率高▅ 温度高达700°C ▅ 可基于安卓App软件通过蓝牙控制 ▅ 增益控制 ▅ 实时温度显示 ▅ 可温度标定VertiSenseTM SThM模块设计可用于与大多数商业AFM集成，包括那些外围设备要求低的正在使用的AFM。该模块利用AFM软件生成热图。近场热成像模块性能参数：参数探针型号VTP-200VTP-500弹性系数(N/m）9.90.63频率（KHz)10717长度（um)200500宽度（um)5050厚度 (um)3.53.5 探测器类型:针尖热电偶针尖ROC：50nm横向分辨率：50nm （接触模式）温度分辨率：0.1°C @ 增益100X0.01°C @增益1000X温度范围：可达700°C热测量带宽：达30kHz @ 增益100X热延迟：~100us (低热传质） VertisenseTM 热成像放大器输入： ±10mV输出： ±10V信号增益： 100X - 10，000X噪声： 1nV @ 1kHz共模抑制： 高（115dB）显示： 实时针尖温度可调性： 热电偶标定范围 ** 近场热成像模块跟原子力显微镜结合配置 更多详情请联系昊量光电/欢迎直接联系昊量光电 关于昊量光电：上海昊量光电设备有限公司是光电产品专业代理商，产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、光学元件等，涉及应用涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国防、量子光学、生物显微、物联传感、激光制造等；可为客户提供完整的设备安装，培训，硬件开发，软件开发，系统集成等服务。 您可以通过我们昊量光电的官方网站了解更多的产品信息，或直接来电咨询。

TeraSpike THz近场探针 微区探针(TeraSpike microprobe series)品牌：Protemics型号：TeraSpike TD-800-XTeraSpike是新一代的微探针，用于太赫兹频率范围内电场的光电导检测。基于客户的反馈和不断增长的应用驱动的需求，我们对近场探针进行了彻底的重新设计并且开发成功。新的探针是一款多用途表面近场电场探测器，适用于太赫兹波长范围内，具有前所未有的性能，可靠并且可适应。它可以完美地集成到太赫兹时域系统，在860 nm以下光激发，这是最高性价比的解决方案，将您的系统变成功能强大的高分辨率近场太赫兹系统。 。产品特点：市场上最小的THz探针专利设计空间分辨率可达3um探测频率范围：0-4THz适用于所有基于激光的THz系统安装可兼容标准的光机械组建典型激发光强度1-15mW（1-5uJ/cm2）集成过载保护电路应用：太赫兹研究：超材料，等离子体，石墨烯，波导高分辨率太赫兹近场成像 非接触式薄膜电阻半导体成像MMIC器件特性分析 无损检测芯片时域反射计（TDR）测量脉冲激发的THz超物质表面的近场图像测量激光刻蚀多晶硅晶圆的薄层导电率图像 基于飞秒激光的THz系统 THz探针典型参数TeraSpike TD-800-X-HR HRS Max. spatial resolution3 μm20 μmPC gap size1.5 μm2 μmDark current @ 1 V Bias 0.5 nA 0.5 nAPhotocurrent (*) 1 μA 0.6 μAExcitation wavelength700 .. 860 nmAvg. excitation power0.1 .. 4 mWConnection typeSMP元素路径: body p img当前已输入818个字符, 您还可以输入9182个字符。

alpha300 RS – 原位关联的拉曼和扫描近场光学图像 对于拥有挑战性实验要求的用户来说，alpha300 RS将共聚焦拉曼图像及突破光学衍射极限的扫描近场光学显微镜结合在一起。Alpha 300RS在一台设备上继承了所有的Alpha 300R显微拉曼功能，Alpha 300S扫描近场光学显微镜功能和许多AFM操作模式。 Alpha 300S扫描近场光学显微镜主要特点l 所有alpha300 R (拉曼) 和alpha300 S (近场) 的性能集成到一个显微镜系统内l 优异的原位化学组分分析（拉曼）和超高分辨率表面成像（近场）的结合l 只需要转动物镜转盘即可在两种技术间轻松切换l 两种测量间无需移动样品 Alpha 300S扫描近场光学显微镜应用实例 剥离石墨烯的表面拓扑结构VS拉曼图像左图：表面拓扑结构及沿蓝线的轮廓曲线右图：石墨烯G峰沿红线的强度变化曲线 Alpha 300S扫描近场光学显微镜性能通用拉曼操作模式l 拉曼光谱成像：连续扫描的拉曼高光谱全谱成像，每个样品点都能获得完整的拉曼光谱l 平面2D和包含深度Z方向的3D成像模式l 快速和慢速时间序列l 单点及Z方向深度扫描l 光纤耦合的UHTS 系列光谱仪，专为弱光应用的拉曼光谱设计l 共聚焦荧光显微镜功能l 明场显微镜功能 近场显微镜操作模式l 扫描近场光学显微镜模式：底部激发顶部收集（远场激发近场收集）模式，顶部激发底部收集（近场激发远场收集）模式，探针收集（近场激发近场收集）模式l 共聚焦(CM)模式：透射，反射，荧光（可选）l 近场-原子力联用：Alpha 300A的所有模式均可选l 固定底部透射照明l 全内反射照明模式（可选） 原子力显微镜操作模式l 接触模式l 横向力模式l 其他可选 各类拉曼升级选项（如true surface等）l 多种激光可选择l 多种光谱仪可选择l 自动共聚焦拉曼成像l 自动多区域多点测量l 可升级超快拉曼图像模式(需配置EMCCD和Piezo样品台，可获得每秒1300张光谱的速度)l 可升级落射荧光照明l 自动聚焦功能l 显微镜观察法可选，如暗场，像差，偏光，微分干涉等 超高通光量UHTS光谱仪l 各类透射式波长优化谱仪可选 (UV, VIS or NIR)，均为弱光拉曼光谱设计l 光纤耦合，70%超高光通量l 优异的成像质量，光谱峰形对称无像差 控制电脑WITec控制和数据采集，处理软件

alpha300 RS – 原位关联的拉曼和扫描近场光学图像 对于拥有挑战性实验要求的用户来说，alpha300 RS将共聚焦拉曼图像及突破光学衍射极限的扫描近场光学显微镜结合在一起。Alpha 300RS在一台设备上继承了所有的Alpha 300R显微拉曼功能，Alpha 300S扫描近场光学显微镜功能和许多AFM操作模式。 主要特点l 所有alpha300 R (拉曼) 和alpha300 S (近场) 的性能集成到一个显微镜系统内l 优异的原位化学组分分析（拉曼）和超高分辨率表面成像（近场）的结合l 只需要转动物镜转盘即可在两种技术间轻松切换l 两种测量间无需移动样品 应用实例 剥离石墨烯的表面拓扑结构VS拉曼图像左图：表面拓扑结构及沿蓝线的轮廓曲线右图：石墨烯G峰沿红线的强度变化曲线 性能通用拉曼操作模式l 拉曼光谱成像：连续扫描的拉曼高光谱全谱成像，每个样品点都能获得完整的拉曼光谱l 平面2D和包含深度Z方向的3D成像模式l 快速和慢速时间序列l 单点及Z方向深度扫描l 光纤耦合的UHTS 系列光谱仪，专为弱光应用的拉曼光谱设计l 共聚焦荧光显微镜功能l 明场显微镜功能 近场显微镜操作模式l 扫描近场光学显微镜模式：底部激发顶部收集（远场激发近场收集）模式，顶部激发底部收集（近场激发远场收集）模式，探针收集（近场激发近场收集）模式l 共聚焦(CM)模式：透射，反射，荧光（可选）l 近场-原子力联用：Alpha 300A的所有模式均可选l 固定底部透射照明l 全内反射照明模式（可选） 原子力显微镜操作模式l 接触模式l 横向力模式l 其他可选 各类拉曼升级选项（如true surface等）l 多种激光可选择l 多种光谱仪可选择l 自动共聚焦拉曼成像l 自动多区域多点测量l 可升级超快拉曼图像模式(需配置EMCCD和Piezo样品台，可获得每秒1300张光谱的速度)l 可升级落射荧光照明l 自动聚焦功能l 显微镜观察法可选，如暗场，像差，偏光，微分干涉等 超高通光量UHTS光谱仪l 各类透射式波长优化谱仪可选 (UV, VIS or NIR)，均为弱光拉曼光谱设计l 光纤耦合，70%超高光通量l 优异的成像质量，光谱峰形对称无像差 控制电脑WITec控制和数据采集，处理软件

快速多视角 Imaging Sphere：对光源、显示器和散射材料的完整角度性能信息进行经济高效而又快速的单次采集测量我们的 Imaging Spheres 产品基于新颖的光学结构，可一次性从半球的所有角度对目标器件或材料进行同时成像测量。对比通过传统测角仪或锥光偏振仪测量解决方案，该系统能获得更快、更完整且更准确的测量结果。 ProMetric成像色度计（或光度计）用于采集图像数据，确保高精度测量。Imaging Sphere 可配置用于测量 LED 和其它小型光源的远场光强分布、测量显示器视角性能或测量表面散射光线的角分布（BRDF 和 BTDF）。对于 LED、FPD、显示器配件和材料表面分析等研发及生产应用，Imaging Sphere 是理想的选择。 典型应用：显示元件和光学薄膜的散射测量油漆、粉末和抛光剂等表面处理剂的散射测量LED 发光强度分布测量小型光源发光强度分布测量平板显示器的视角性能测量计算机模拟和渲染的散射特性Imaging Sphere 有三种基本模型可供选择，包含两种甚至三种所用的测量类型配置系统的选项： IS-LI & IS-LI-TE光强分布高速测量系统可针对 LED 和其它小型光源，提供远场发光强度、辐射强度、CIE 色坐标和相关色温 (CCT) 等关于角度分布的全面测量。IS-LI 可提供测试仪无法提供的重要方向性信息。IS-VA视角性能系统可高速、全面地测量平板显示器和显示器配件的色度、亮度和对比度等项目随视角的分布。IS-VA 在测量速度和系统成本方面可与锥光偏振仪和测角系统相媲美。IS-SA散射和外观测量系统集成了一个聚焦光源，可直接照射到材料样本上，以测量散射光。IS-SA 可准确、快速地描述各种反射表面和透光薄膜的表面粗糙度、缺陷和漫反射特性。比起测角仪系统，IS-SA 有更细小的角度分辨率和更快的测量速度，能生成详细的 BRDF 和 BTDF，而且它在配置测量方面具有更大的灵活性。Imaging Sphere 软件Imaging Sphere 配备强大易用的，基于 Imaging Sphere 软件引擎的 IS 1.x 仪器控制和分析软件。IS 1.x 软件可简化测量设置和控制，并可轻松访问各种图像分析功能，包括 2D 和 3D 图、直方图和图像差分。软件功能可以靠外部控件 ISEngine.Net (Framework 2.0) 来控制，因此用户可以使用 Visual Studio 2005 或其它兼容 .Net 的编程语言构建自定义测试和分析序列。

WITec alpha 300S独特的悬臂式扫描近场光学显微镜alpha 300S一款操作简易的扫描近场光学显微镜（SNOM），采用独特设备的中空悬臂式近场探针实现超越衍射极限的光学分辨率。alpha 300S系统也具备优越的兼容性和扩展性，可与共聚焦光学/拉面显微镜及原子力显微镜集成在同一台仪器上，仅需旋转物镜转轮即可实现不同模式切换。WITec alpha 300S是一种纯近场光学显微镜，在很多样品上都可获得一致的超高分辨率，并且拥有透射与反射式两种模式。该近场光学显微镜不同于其他的超分辨显微镜，如 STED 和 STORM，后二者往往受限于荧光染料分子的可选种类及特殊的激发光源。 alpha300S 系统采用软件可控的快速自动进针及调节等自动测试流程，操作非常简便、直观。 由于近场光学信号极其微弱，alpha300 S 近场光学显微镜配备高灵敏单光子计数的光电倍增管或雪崩二极管，并同时提供检测器快速超载保护。更重要的是，UHTS 光谱仪可与 alpha300S系统兼容，实现近场光谱与成像测量。 关键特性：突破衍射极限的空间光学分辨率（横向约 60 nm)独家专利的 SNOM 探针技术在空气与液体中均可使用包含多种原子力与光学显微镜模式非破坏性、无需标记的超高分辨成像技术，基本不需要样品制备可升级到关联的共聚焦拉曼成像和近场拉曼成像集成三种技术到一台仪器上：共聚焦显微镜, AFM 和 SNOM技术参数：1）工作模式：近场显微镜，共聚焦显微镜，原子力显微镜三种工作模式； 2）近场光学显微镜分辨率：为50nm 3) 共聚焦拉曼显微镜分辨率：200nm 4) 扫描台扫描范围：100 x 100 x 20 μm 5）探测器：光电倍增管（PMT）或雪崩二极管（APD）

分布光度计-近场分布光度计-配光仪-GL描述：分布光度计-近场分布光度计-配光仪-GL50-1800是新型A类测角光度计，专为R＆D实验室和产品符合性测试中心实验室而设计，可调节远场光度和色度测量系统，在H，V轴坐标中对汽车LED和其他类型灯具的发光强度分布进行光度测试，分布光度计-近场分布光度计-配光仪-GL适用于汽车，铁路和其他车辆前照灯的快速准确测量，还可用于交通信号灯和机场照明系统的光度表征。可以测量的技术参数包括：发光强度分布，极坐标图，圆锥图，光通量，中心光束强度，相关色温，显色指数，麦克亚当椭圆，角度颜色均匀性，还可选测发光效率，功率因数和温度。 分布光度计-近场分布光度计-配光仪-GL工作原理：测角仪是一种带有旋转轴的仪器，用于测量光通量和照明设备或光源的发光强度分布。发光强度可通过在固定距离处以不同方向旋转的照明设备进行照度（远场）或照度（近场）测量获得。利用足够的角度步长和范围，可以通过汇总每个测量方向上的所有发光强度来计算照明设备的光通量。根据发光强度分布，可以推断出照明应用的属性，例如横向/纵向等照度曲线或圆锥图。测角仪的类型基本上可以分为1组，2组和3组，也称为A类，B类和C类，它们的区别在于在测量过程中照明设备的旋转方式以及在这种测量过程中获得的光度数据系统。 A类测角仪具有固定的水平轴和垂直于第一轴的移动轴。通过围绕水平轴旋转光源，同时将另一个轴保持在固定位置（旋转vs高度）来进行测量。A类测角仪是表征光束相对有限的汽车照明的理想选择。 B类测角仪具有固定的垂直轴和移动的水平轴。通过围绕垂直轴旋转光源，同时将另一个轴保持在固定位置（高度vs旋转）来进行测量。B类适用于显示器和泛光灯。 C类测角仪是高度专业化的类型，具有固定的垂直轴和移动的水平轴。在C平面或圆锥面上进行测量。C类测角仪与B类相同，只是光源旋转了90°。 国际标准建议将这种类型用于一般照明系统。 分布光度计-近场分布光度计-配光仪-GL产品亮点： l A类测角仪，配备3个机械化H，V和Z轴以及DUT移动x,y机械安装台l 激光对准系统带有反射镜和系统控制选件，有助于校准系统垂直和水平对准l 软件界面友好，操作简单l 机电一体化组件，自动化程度高l 可控制和可编程功能，坚固耐用 l 符合相关标准，测量准确可靠 分布光度计-近场分布光度计-配光仪-GL应用范围： l 大型LED模块和大型照明设备。 l 符合标准: CIE 121-1996, IESNA LM-75-01 升级选项：l 可选用于测试汽车前照灯的外围设备。 分布光度计-近场分布光度计-配光仪-GL技术参数：CIE 测角仪类型:远场Type A 包含H,V轴和X,Y,Z方向运动DUT移动x,y机械台5轴伺服电机与绝对位置编码器H轴运动：角度范围± 100°,额定转矩555 Nm,速度高达10 °/sH轴分辨率：0.002° H轴再现性：0.05° * (*额定负载时) V轴运动：角度范围± 180°,额定转矩98 Nm,速度高达50°/sV轴分辨率：0.002° V轴再现性：0.05° * (*额定负载时) Z轴运动：线性范围0-800 mm,起重力高达1500NZ轴再现性：70 μmX,Y轴运动：线性范围± 150 mm,速度高达40 mm/sX,Y再现性：70 μmDUT安装板：方形400x400 mm,多个 M6 安装孔最大DUT尺寸：≤ 1800 mm(对称定位)产品尺寸(W x H x D)：810 x 2020 x 1990 mm光轴高度：1350 mm最小房间高度：2600 mm最小房间宽度：4000 mm最大负载：50 kg产品重量：450 kg电源：AC 110-230V, 3000 W控制器：用于所有电机的内部控制器 通过局域网连接PC 制造商远程支持功能 机身设有7英寸液晶触摸显示屏 DUT固定期间可操作所有轴的手动控制器安全性：设备两侧设有紧急停止按钮，可选安全设备包含激光扫描仪或光栏传感器选项：GL Photometer 3.0 LS + Flicker GL Spectis 1.0 LS GL Spectis 4.0

适用于封装LED、光学透镜、镜头等近场光度测量，及需要近场分析的光源的测量，测试参数包括近场光分布和亮度分布，通过算法亦可得到光源的光线数据，并可以推算出光源的总光通量和空间任意位置的光强分布。系统输出的光线模型能与Tracepro等光学软件相配合，更方便，准确地进行照明产品的二次光学设计和研发。

TeraSpike THz近场探针 微区探针(TeraSpike microprobe series)品牌：Protemics型号：TeraSpike TD-800-Z (纵向场微探针)TeraSpike是新一代的微探针，用于太赫兹频率范围内电场的光电导检测。基于客户的反馈和不断增长的应用驱动的需求，我们对近场探针进行了彻底的重新设计并且开发成功。新的探针是一款多用途表面近场电场探测器，适用于太赫兹波长范围内，具有前所未有的性能，可靠并且可适应。它可以完美地集成到太赫兹时域系统，在860 nm以下光激发，这是最高性价比的解决方案，将您的系统变成功能强大的高分辨率近场太赫兹系统。 。产品特点：市场上最小的THz探针专利设计空间分辨率可达3um探测频率范围：0-4THz适用于所有基于激光的THz系统安装可兼容标准的光机械组建典型激发光强度1-15mW（1-5uJ/cm2）集成过载保护电路应用：l 太赫兹研究：超材料，等离子体，石墨烯，波导l 高分辨率太赫兹近场成像 l 非接触式薄膜电阻半导体成像l MMIC器件特性分析 l 无损检测芯片l 时域反射计（TDR）测量脉冲激发的THz超物质表面的近场图像测量激光刻蚀多晶硅晶圆的薄层导电率图像 基于飞秒激光的THz系统 THz探针典型参数?TeraSpike TD-800-Z- A-500G Max. spatial resolution 8 μm PC gap size 5 μm Dark current @ 1 V Bias 0.4 nA Photocurrent (*) 0.5 μA Excitation wavelength 700 .. 860 nm Avg. excitation power 0.1 .. 4 mW Connection type SMP

WITec alpha 300S是一种纯近场光学显微镜，在很多样品上都可获得一致的超高分辨率，并且拥有透射与反射式两种模式。该近场光学显微镜不同于其他的超分辨显微镜，如 STED 和 STORM，后二者往往受限于荧光染料分子的可选种类及特殊的激发光源。 alpha300S 系统采用软件可控的快速自动进针及调节等自动测试流程，操作非常简便、直观。由于近场光学信号极其微弱，alpha300 S 近场光学显微镜配备高灵敏单光子计数的光电倍增管或雪崩二极管，并同时提供检测器快速超载保护。更重要的是，UHTS 光谱仪可与 alpha300S系统兼容，实现近场光谱与成像测量。关键特性：突破衍射极限的空间光学分辨率（横向约 60 nm)独家专利的 SNOM 探针技术在空气与液体中均可使用包含多种原子力与光学显微镜模式非破坏性、无需标记的超高分辨成像技术，基本不需要样品制备可升级到关联的共聚焦拉曼成像和近场拉曼成像集成三种技术到一台仪器上：共聚焦显微镜, AFM 和 SNOM

DC-9GHz射频近场探头完美对接任何厂家的频谱仪和接收机测量EMF&RF的近场探头产品交付清单：l 50mm 磁场探头 1个l 25mm 磁场探头 1个l 12mm 磁场探头 1个l 6mm 磁场探头 1个l 电场探头 1个l 有源前置放大器 (only PBS2)l 1m SMB-to-SMA射频线缆l 枪式握把和三脚架l 带有填充物的包装箱l 详细的操作手册l 外部电源适配器和CD光盘l 可应用iPhone & iPad的电源适配器产品说明PBS1 & PBS2 探头l 频率范围：DC-9GHzl 前置放大器噪声(PBS2): 3.5dB typicall 前置放大器增益(PBS2): "linear" falloff. 1MHz: 40dB 3GHz: 37.5dB 6GHz: 35dBl 封装尺寸 (L/W/D): (300x190x70) mml PBS1 重量(case incl. probes): 1200grl PBS2重量 (case incl. probes and pre-amplifier): 1500grl 质保：2年电场探头的等向性l 传感器尺寸：3mml 最大谐振频率：9GHzl 连接阻抗：50 Ohms SMB socket (m)l 质保：2年50mm磁场探头l 传感器尺寸：50mml 最大谐振频率：700MHzl 连接阻抗：50 Ohms SMB socket (m)l 质保：2年25mm磁场探头l 传感器尺寸：25mml 最大谐振频率：500MHzl 连接阻抗：50 Ohms SMB socket (m)l 质保：2年12mm磁场探头l 传感器尺寸：12mml 最大谐振频率：2600MHzl 连接阻抗：50 Ohms SMB socket (m)l 质保：2年 6mm磁场探头l 传感器尺寸：6mml 最大谐振频率：＞6000MHzl 连接阻抗：50 Ohms SMB socket (m)l 质保：2年交付的产品包括5个探头，如果是PBS2还增加了一个前置放大器和电源适配器。 每一个产品都包含详尽的操作手册， 一条1米长的 SMB-to-SMA 射频线和一个枪式握把和微型三脚架。详细说明：EMC近场探头可以设置电子元器件组的干扰源的直接精确测量和误差测量，也可以执行和检测通用的EMC测量。我们的射频近场探头特别适合下列情况：l 干扰源的精确定位l 干扰源的场强值估计l 屏蔽和过滤的验证测量l 问题组件的识别l 对干扰过于敏感的电路检测这组探头共有5个： 4 磁场探头和一个电场探头。 所有的探头都包有绝缘层，所以可以安全的测量振荡电路和电源线路。l PBS2探头外加高性能的前置放大器，允许的测量明显较弱的干扰源，有助于仪器的灵敏度提高40 dB。l 所有探测器刻意被做成无源器件，让他们适合于设备的传输。因此，组件和电路对敏感干扰源很容易被查明。l 可以完美的发现干扰源，例如： EN55011, EN55022 or EN50371 (Class A or Class B)的查找。实施适当的电路的变化后,他们的效率就能轻松、可靠地得到证实。这样，昂贵和耗时的测量可以重新评估，在EMC实验室可以跳过。l 验证标准EMC 限值：例如：一个标准定义的EMC 限值10dB，我们的探头应用一定的方法可以很容易的验证如果电路的一致性。另一种情况是可以消除我们在实验室做EMC测量时所需的昂贵的设备和大量的时间。l 非常有用的集成(1/4”)三脚架连接器，每一个探头都可以连接在三脚架上。l 这组射频探头可以连接到任何频谱分析仪和示波器。我们提供SMA-to-N连接适配器(可选)。 每个探测提供了SMB快速连接可以快速连接转换电缆接头每个探头底部有三脚架连接孔，可以舒适的固定微型三脚架

仪器简介：我们的创新NANONICS IMAGING LTD.一直是扫描探针显微镜（SPM）领域中将近场光学显微镜(NSOM)技术和原子力显微镜(AFM)技术完美结合的领头羊之一。公司成立于1997年，在过去的十年里我们将新的概念应用到SPM系统中从而开拓了SPM市场领域一个新的视角。 Nanonics使用悬臂近场光学探针为业内提供了近场光学成像；同时也引入了双探针技术、样品扫描AFM系统；提供近场光学（NSOM）/原子力显微镜（AFM）低温系统，Raman-AFM系统，多探针AFM系统和扫描电镜（SEM）/AFM系统。NANONICS是业界成立最久并且对此类系列产品经验最丰富的公司之一，其产品荣获过许多国际大奖。在强大的NSOM/AFM的整合操作系统推动下，今天NANONICS继续以强大的优势和全面的系统领导着市场。NANONICS凭借实力和品质，其产品涉足的领域从科研到工业，从生物学到半导体，从化学制品到无线电通讯，应用范围极其广泛。 我们的理念 提供SPM，近场光学和显微镜整合方案 Nanonics 致力于制造世界级领先的SPM仪器，我们将SPM技术和其它显微镜表征技术整合在一起。在纳米科技表征技术领域中，为用户提供一个开放并极具潜力的SPM表征技术平台。 我们的技术作为一家商业公司，我们有着自己独特的技术优势。我们能提供大量种类齐全的纳米探针。包括专利的悬臂近场光学（NSOM）探针到热学，电学探针。这些外露光学探针的运用结合具有专利保护的3D平面扫描技术为我们的系统提供了一个广阔开放的光学平台 这是我们能够将AFM技术和其它显微镜表征技术完美结合的重要原因。 我们的团队 我们拥有一支世界级的专家团队为我们提供创新技术和高性能的产品。在过去的十年里我们拥有40多名员工并且组建了SPM专家和科学家团队。 团队直接由近场光学奠基人之一的Aaron Lewis 教授带领十五名科学家为全球客户提供以SPM为平台的产品和技术支持。 我的技术服务我们致力于提供客户高性能的业内领先级产品和高附加值的技术支持。从系统安装开始，我们就区别于其它竞争对手，为你提供高素质的技术专家安装设备，提供SPM技术领域的专家指导。通过一对一的与客户沟通帮助客户使用仪器。Nanonics在业内已经有一大批客户并且客户通过使用我们的仪器发表了不少好的文章。这些客户和客户的成绩也同样见证了我们为客户提供了的完整的SPM和其他表征整合方案和技术支持。**********************近场扫描光学显微镜的基本构造******************** 进行NSOM实验，必须将点光源靠到样品表面纳米距离，然后点光源扫描样品表面，再收集探测经过样品表面的光学信号。我们使用经金属涂层处理的带孔洞椎形光纤作为NSOM探针。光经耦合进入探针，从亚光波长孔径的探针尖端发出，NSOM的分辨率就是由孔径的大小决定(最优可以达到50纳米)。点光源和样品表面的距离通常通过正常的力反馈机制(与AFM相同)控制，因此可以进行接触、敲击和非接触模式的NSOM实验。针对不同的材料和实验，通常有四种NSOM操作模式： * 透射模式成像 样品经过探针照明，光通过样品并与样品相互作用后被收集探测；* 反射模式成像 样品经过探针照明，光从样品表面反射并被收集探测；* 收集模式成像 样品经远场光源照明(从上或下面均可)，探针将光信号从样品表面收集；* 照明收集模式成像 用同一根探针同时进行照明和收集探测反射光； 在近场光学领域，部分扫描模式只有通过Nanonics提供的独特玻璃光纤探针才能完成，因为我们独特的光纤探针具有很好的波导性能。 收集的光可通过多种探测器探测，如APD(Avalanche Photo Diode)、PMT(Photomultiplier Tube)、InGaAs探测器、CCD或通过光谱仪探测，通过探测器得到的信号经过数据处理得到样品材料的NSOM图像。技术参数：原子力扫描表征-接触模式（可选）-探针或者样品扫描都具有所有原子力显微镜的操作模式。近场光学成像和激发表征 -透射，反射，收集，激发模式界面差别对比表征 -反射和透射模式折射系数分析表征 -反射和透射模式热导和阻值扩散分析表征-接触AC模式-无反馈激光通过外部媒介导入半导体，使用音叉反馈在线远场共聚焦拉曼和荧光光谱成像-反射和透射模式-针尖增强拉曼散射和在超薄层面上做选择性拉曼散射，例如应变硅纳米刻蚀-纳米笔 探针输送多种化学物质和气体-近场光学刻蚀和常规方式的纳米刻蚀技术比如电子氧化等，并且可-以同时使用另外一根探针做在线同步分析纳米压痕-使用兆级帕斯卡压强，通过另外一个附加探针的在线同步分析将力学探针精确定位和控制。++++++SPM 扫描头参数样品扫描器-压电扫描平台 （3D 扫描台&trade ）-高度7毫米探针扫描器-四个独立控制的压电扫描平台（3D 扫描台&trade ）模块-高度7毫米扫描范围 -每根单探针扫描范围30 微米 (XYZ方向)-仅样品扫描器扫描范围100微米(XYZ方向)-样品扫描器和单探针扫描器扫描范围130微米 (XYZ方向)-样品扫描器和双探针扫描器扫描范围160微米(XY方向)扫描分辨率- 0.05 纳米 (Z方向)- 0.15纳米(XY方向)- 0.02纳米(XY方向) 低电压模式粗定位-样品粗调定位： XY 马达驱动范围5mm-分辨率0.25微米-针尖粗调定位：-XY方向马达驱动-驱动范围5mm-分辨率0.25微米-Z方向马达驱动-驱动范围10mm-分辨率0.065微米反馈机制-音叉反馈（标准）-激光反射反馈（可选）常规样品尺寸-标准尺寸可达到16毫米-使用上置光学显微镜操可达到34毫米-不使用样品扫描方式可以达到55毫米-有些客户样品尺寸达到200mm也能扫描-非常规尺寸样品：例如横截面高低起伏较大的样品等一些特殊形状样品探针-独特的玻璃探针，针尖可以提供不同的形貌和参杂金属颗粒或者涂层各种形式的常规硅悬臂探针也可以使用 ++++++成像分辨率远场成像分辨率 -到达衍射限制光学成像分辨率 -非共聚焦下光学分辨率500纳米左右共聚焦成像分辨率-200纳米近场光学成像分辨率-安装时保证100纳米分辨率；50纳米分辨率也可以提供形貌成像分辨率-Z 方向噪音有效值0.05 纳米（RMS）-XY 横向分辨率：根据样品和针尖直径情况热学成像分辨率-至少100纳米阻值成像分辨率-至少25纳米++++++热学&阻值成像温度参数-300度或者更高，要考虑样品情况热学参数-独特的双根纳米铂丝嵌在绝缘玻璃探针中-热敏感度0.01 C-测量阻值改变速率为0.38 C阻值特点-独特的双根纳米铂丝嵌在绝缘玻璃探针中并且可以做出不同的形状结构和涂层-超高电势分辨率-接触电阻极微小-电学稳定& 抗氧化 ++++++在线光学和电子/离子光学扫描同步完成可以完成的表征类别-远场光学，共聚焦光学，近场，微区拉曼，扫描电子显微镜（SEM）或者聚焦离子束（FIB）整合优势 -样品扫描台上下光路开阔，可以做光学或电子/离子光学特征同步扫描联用-将所有形式的光学显微镜整合在一起，包括上置光学显微镜和下置光学显微镜同时整合在探针扫描平台上-整合了所有标准微区拉曼180度背反射几何形貌配置。下置光学显微镜和Nanonics独特的上下置光学显微镜可以做不同的透明和非透明样品-具有所有常规的远场光学操作模式包括相位成像和界面差别对比-可以使用上置，下置和双置光学显微镜做任何模式近场光学扫描，无需更换扫描头保证了实验结果稳定性和可重复性。探测器类别-PMT， APD 或者InGaAs 红外探测器激光光源-可提供深紫外到近红外激光电视频系统 -在线CCD 视频成像主要特点： 独有的多探针系统Nanonics原子力显微镜最多可以同时进行四探针测试，光纤探针各自独立控制，可以同时分别、独立进行如滴液、加压，电学，热学方面的测试等不同的工作。专利技术的独特扁平3D 扫描台具有专利技术的扫描台上下光路开阔，可以将上，下置光学共聚焦显微镜整合到AFM扫描平台上，在无需更换任何探头的情况下同步完成的一系列的探针扫描，光学测量，力学测量，热学电学测量等测试手段，节约了用户大量的时间和精力并保证了样品测试的连贯性。通常很多厂家仪器做不同测试的时候探头都需要更换，不能同步联用并且费时费力。Nanonics这项专利是目前市场上的优势技术，并且探针扫描台和样品扫描台可以独自运作，即可以探针不动，样品移动；或者样品不动，探针移动，其它厂家无法提供这种独特的扫描方式。扫描的步进位移通过压电陶瓷驱动精度极高，Nanonics原子力显微镜分别提供一个85um样品扫描台和30um探针扫描台，XY方向的扫描范围是110*110um。尤其是Z方向的大扫描范围是所有AFM厂家无法提供的。另外一个3D扫描台提供探针扫描和样品扫描两种模式，在所有AFM 电镜中是独一无二的设计。独特的音叉反馈机制常规的AFM反馈通过激光反射反馈，具有噪音大，调试困难，受干涉情况；尤其在液体中或者做光学测试的时候，例如近场光学，AFM-Raman测试中，容易被干涉或者干涉有效信号。音叉反馈采用常规力学反馈避免了以上所有弊病，安装简单，结构稳定。专利技术的悬臂光纤弯针 。Nanonics 原子力显微镜的玻璃探针可提供畅通的光学通道，光线能以与传统直线式近场光学元件相同的效率和偏振性传输到探针尖端。玻璃探针可以做成中空型，用于加载光纤或实现Nano-Pen功能。多种探针通用平台Nanonics 原子力显微镜系统不仅可以使用玻璃光纤探针，也可以使用传统的商业化AFM/NSOM硅探针，提供了一个通用多探针使用平台。客户也可以要求使用常规硅悬臂探针。另外Nanonics还可以根据客户不同的需要定制探针。无与伦比的Z 方向探测深度MV4000在Z方向最大可探测深度为140um，非常适合深沟状样品。独特的悬臂设计不仅能探测深沟底部的形貌，而且可以对侧面进行检测。常规的硅悬臂探针无法做深沟探测。独特的光学友好性Nanonics原子力显微镜的玻璃光纤探针可提供畅通的光学通道，可同时和正置与倒置显微镜配合使用，实现透射式、反射、照明模式、收集模式（Nanonics独有的）等多个功能。光纤探针具有良好的光学性能和光导性能，这是硅悬臂探针无法做到的。拉曼连用平台MV4000的玻璃光纤探针具有光学友好特性，可与任何拉曼光谱仪整合，例如常用的Reinshaw 和JY Raman系统。可实现在线AFM形貌扫描，拉曼Mapping，自动共聚焦，提高拉曼的精度。配合NSOM可以完成微区Raman，并且还可以做荧光和微区荧光扫描。由于独特的扫描平台，AFM-Raman 联用不仅可以扫描透明样品还可以扫描不透明的块状和薄膜样品，这也是在AFM-Raman 联用案例中独特的设计。独有的TERS玻璃探针Nanonics在玻璃光纤探针的尖端采用专利的独立金球技术，与其他涂层探针相比，不会因在长时间使用后，受到激光影响而脱落，更为稳定，效率更高。配合独特的扫描台设计，可以在光源位置找到最佳激光偏振位置获得最好的TERS信号源。这也是其它厂家不具备的特点。

超高分辨散射式近场光学显微镜-neaSNOMneaSNOM是德国neaspec公司推出的第三代散射式近场光学显微镜（简称s-SNOM），其采用了专利化的散射式核心设计技术，极大的提高了光学分辨率，并且不依赖于入射激光的波长，能够在可见、红外和太赫兹光谱范围内，提供优于10nm空间分辨率的光谱和近场光学图像。由于其高度的可靠性和可重复性。neaSNOM业已成为纳米光学领域热点研究方向的首选科研设备，在等离基元、纳米FTIR和太赫兹等众多研究方向得到了许多重要科研成果。最近，neaspec公司成功开发了可见至太赫兹高分辨光谱和成像综合系统，将上述sSNOM功能与纳米红外（FTIR）、针尖增强拉曼（TERS）、超快光谱（ultrafast）和太赫兹光谱（THz）进行联用，可以为广大科学工作者在等离子激元、二维材料声子极化、半导体载流子子浓度分布、生物材料红外表征、电子激发及衰减过程等的研究上提供相关支持。neaSNOM技术特点和优势：neaSNOM是目前世界上唯一成熟的s-SNOM产品专利保护的散射式近场光学测量技术—独有的极高10 nm空间分辨率专利的高阶解调背景压缩技术—在获得10nm空间分辨率的同时保持极高的信噪比专利保护的干涉式近场信号探测单元专利的赝外差干涉式探测技术—能够获得对近场信号强度和相位的同步成像专利保护的反射式光学系统—用于宽波长范围的光源：可见、红外以至太赫兹高稳定性的AFM系统，—同时优化了纳米尺度下光学测量双光束设计—极高的光学接入角：水平方向180°，垂直方向60°操作和样品准备简单—仅需要常规的AFM样品准备过程neaSNOM重要应用领域：表面等离激元石墨烯六方氮化硼光电流/太赫兹化学过程高分子/生物材料应用案例Science：石墨烯莫尔(moiré）超晶格纳米光子晶体近场光学研究光子晶体又称光子禁带材料。从结构上看，光子晶体是一类在光学尺度上具有周期性介电结构的人工设计和制造的晶体，其物理思想可类比半导体晶体。通过设计，这类晶体中光场的分布和传播可以被调控，从而达到控制光子运动的目的，并使得某一频率范围的光子不能在其中传播，形成光子带隙。光子晶体中介质折射率的周期性结构不仅能在光子色散能带中诱发形成完整的光子带隙，而且在特定条件下还可以产生一维（1D）手性边界态或具有Dirac（或Weyl）准粒子行为的奇异光子色散能带。原则上，光子晶体的概念也适用于控制“纳米光”的传播。该“纳米光”指的是限域在导电介质表面的光子和电子的一种耦合电磁振荡行为，即表面等离子体激元（SPPs）。该SPP的波长，λp，相比入射光λ0来说最多可减少三个数量级。如果要想构筑纳米光子晶体，我们需要在λp尺度上实现周期性介电结构，传统方法中采用top-down技术来构建纳米光子晶体，该方法在加工和制造方面具有较大的限制和挑战。2018年12月，美国哥伦比亚大学D.N. Basov教授在Science上发表了题为Photonic crystals for nano-light in moiré graphene superlattices的全文文章。研究者利用存在于转角双层石墨烯结构（twisted bilayer grapheme, TBG）中的莫尔（moiré）超晶格结构，成功构筑了纳米光子晶体，并利用德国neaspec公司的neaSNOM纳米高分辨红外近场成像显微镜研究了其近场光导和SPP特性，证明了其作为纳米光子晶体对SPP传播的调控。纳米近场成像对钙钛矿太阳能电池的研究苏州大学Q.L. Bao教授等人在钙钛矿结构微纳米线的光电转换离子迁移行为和载流子浓度分布等领域作出了突出贡献。2016年，发表在ACS Nano上的钙钛矿结构微纳米线的光电转换离子迁移行为的研究中，作者利用Neaspec公司的近场光学显微镜neaSNOM发现：1. 未施加外场电压时， 该微纳米线区域中载流子密度（图1 g. s-SNOM振幅信号）和光折射率（图1 g. s-SNOM相位信号）较均匀；2. 施加外场正电压时，该区域中载流子密度随I-离子（Br?）的迁移而向右移动（图1 h. s-SNOM振幅信号），其光折射率随随MA+离子（CH3NH3+）的迁移而向左移动（图1 g. s-SNOM相位信号）较均匀；3. 施加外场负压时，情况正好与施加正电压时相反（图1 i）。该研究显示弄清无机-有机钙钛矿结构中的离子迁移行为对于了解钙钛矿基的特殊光电行为具有重要意义，进而为无机-有机钙钛矿材料的光电器件应用打下了坚实的基础。图1.SNOM测量钙钛矿结构微纳米线的光电转换的离子迁移行为。d-f. 离子迁移测量示意图；g-i,相应的s-SNOM光学信号振幅和相位图2017年， Q.L. Bao教授等人发表在AdvanceMaterials的文章中再次利用Neaspec公司的近场光学显微镜neaSNOM，首次在实验中研究了太阳能电池表面钙钛矿纳米粒子涂层的载流子密度。结果显示：钙钛矿纳米粒子覆盖区域近场信号强度高于Si/SiO2区域中信号强度（参见下图2 b 图2 a为对应区域的形貌）。另外作者也研究了增加光照的时间的影响（参见下图2 c, d）。其结果显示：近场信号强度随光照时间增加，从12.5 μV (黄色，0 min) 增加到 14.4 μV (红色, 60 min)，该近场信号反映了可移动自由载流子密度的变化。最终，红外光neaSNOM研究结果证明：随光照时间增加，太阳能电池表面的钙钛矿纳米粒子涂层富集和捕获了大量的电子。参考文献：1、Wang Y.H. et. al. The Light-InducedField-Effect Solar Cell Concept - Perovskite Nanoparticle Coating IntroducesPolarization Enhancing Silicon Cell Efficiency. Advanced Material 2017, First published: 3 March 2017 DOI: 10.1002/adma.201606370.2、Zhang Y.P. et. al. Reversible StructuralSwell?Shrink and Recoverable Optical Properties in Hybrid Inorganic?OrganicPerovskite. ACS Nano 2016,10, 7031?7038.丝纤蛋白电调控构象转变及其光刻应用的纳米红外研究中科院微系统所陶虎教授带领的研究团队利用neaspec公司的近场光学显微镜（neaSNOM）高化学敏感和10 nm空间分辨的优势，在纳米尺度近分子水平研究了电调控下丝蛋白中的多形态转变。 该研究在纳米尺度实现了蛋白质结构转换的探测，结合纳米精度的电子束光刻技术能为我们在二维及三维尺度实现丝蛋白的结构控制提供有力的方法；同时该工作为开启纳米尺度的蛋白质结构研究和探究蛋白质电诱导构象变化的临界条件铺平了道路；为未来设计基于蛋白质的纳米结构提了供新的规则。参考文献：1. Nanoscale probing of electron regulated structural transitions in silk proteins by near field IR imaging and nano-spectroscopy， Nature Comm. 7:130792. Precise Protein Photolithography (P3): High Performance Biopatterning Using Silk Fibroin Light Chain as the Resist, Adv. Sci. 2017, 1700191可调谐低损耗一维InAs纳米线的表面等离激元研究亚波长下光的调控与操纵对缩小光电器件的体积、能耗、集成度以及响应灵敏度有着重要意义。其中，外场驱动下由电子集体振荡形成的表面等离激元能将光局域在纳米尺度空间中，是实现亚波长光学传播与调控的有效途径之一。然而，表面等离激元技术应用的最关键目标是同时实现：①高的空间局域性，②低的传播损耗，③具有可调控性。但是，由于金属表面等离激元空间局域性较小，在长波段损耗较大且无法电学调控限制了其实用化。由中科院物理所和北京大学组成的研究团队报道了砷化铟（InAs）纳米线作为一种等离激元材料可同时满足以上三个要求。作者利用neaspec公司的近场光学显微镜（neaSNOM, s-SNOM）在纳米尺度对砷化铟纳米线表面等离激元进行近场成像并获得其色散关系。通过改变纳米线的直径以及周围介电环境，实现了对表面等离激元性质的调控，包括其波长、色散、局域因子以及传波损耗等。作者发现InAs纳米线表面等离激元展现出：①制备简易，②高局域性，③低的传波损耗，④具有可调控性，这为用于未来亚波长应用的新型等离子体电路提供了一个新的选择。该工作发表在高水平的Advanced Materials 杂志上。参考文献：Tunable Low Loss 1D Surface Plasmons in InAs Nanowires，Yixi Zhou, Runkun Chen, Jingyun Wang, Yisheng Huang, Ming Li, Yingjie Xing, Jiahua Duan, Jianjun Chen, James D. Farrell, H. Q. Xu, Jianing Chen， Adv. Mater. 2018, 1802551范德华材料异质结构的近场纳米成像研究范德华材料拥有一整套不同的激元种类，在所有已知材料中的具有最高的自由度。德国neaspec公司提供的先进近场成像方法（s-SNOM）允许极化波在范德华层或多层异质结构中传播时被激发和可视化，从而被广泛应用到范德华材料激元的研究中，为研究人员对范德华材料体系中激元的激发、传播、调控等研究提供了有力的工具。另一方面，范德华材料系统中激元的优点是它们具有的电可调性。此外，在由不同的范德华层构成的异质结构中，不同种类的激元相互作用，从而可以在原子尺度上实现激元的完美控制。德neaspec公司提供的纳米光谱（nano-FTIR）和纳米成像成功被研究人员用于激元的调控等研究中，通过实验证实，研究人员已经成功开启了操控激元相关纳米光学现象的多种途径。范德华材料中激元的先进近场光学可视化成像研究：A、石墨烯中Dirac等离激元；B、 石墨烯纳米共振器边缘的等离激元；C、碳纳米管中的一维等离激元；D、 石墨烯-六方氮化硼moiré 超晶格体系中的超晶格等离激元；E、六方氮化硼上石墨烯的杂化等离子-声子激元；F、WSe2中的激子激元；G、 双曲六方氮化硼中的声子激元及波导传播参考文献：Basov, D. N et. al Polaritons in van der Waals materials, Science, 354, aag1992(2016). DOI: 10.1126/science.aag1992发表文章部分最新发表文章：Science (2017) doi:10.1126/science.aan2735Tuning quantum nonlocal effects in graphene plasmonicsNature Nanotechnology (2017) doi:10.1038/nnano.2016.185Acoustic terahertz graphene plasmons revealed by photocurrent nanoscopyNature Photonics (2017) doi:10.1038/nphoton.2017.65Imaging exciton–polariton transport in MoSe2 waveguidesNature Materials (2016) doi:10.1038/nnano.2016.185Acoustic terahertz graphene plasmons revealed by photocurrent nanoscopyNature Materials (2016) doi:10.1038/nmat4755Thermoelectric detection and imaging of propagating graphene plasmons国内用户最新发表文章：Nat. Commun. 8, 15561(2017)Imaging metal-like monoclinic phase stabilized by surface coordination effect in vanadium dioxide nanobeamAdv. Mater. 29, 1606370 (2017)The Light-Induced Field-Effect Solar Cell Concept –Perovskite Nanoparticle Coating Introduces Polarization Enhancing Silicon Cell EfficiencyLight- Sci & Appl 6, 204 (2017)Effects of edge on graphene plasmons as revealed by infrared nanoimaging Light- Sci & Appl，中山大学accepted (2017)Tailoring of electromagnetic field localizations by two-dimensional graphene nanostructures Nanoscale 9, 208 (2017) Study of graphene plasmons in graphene–MoS2 heterostructures for optoelectronic integrated devices Nano-Micro Lett. 9,2 (2017) Molybdenum Nanoscrews: A Novel Non-coinage-Metal Substrate for Surface-Enhanced Raman Scattering J. Phys. D: Appl. Phys. 50, 094002 (2017) High performance photodetector based on 2D CH3NH3PbI3 perovskite nanosheets ACS Sens. 2, 386 (2017) Flexible, Transparent, and Free-Standing Silicon Nanowire SERS Platform for in Situ Food Inspection Semiconductor Sci. and Tech.32,074003 (2017) PbI2 platelets for inverted planar organolead Halide Perovskite solar cells via ultrasonic spray deposition

**********************近场扫描光学显微镜的基本构造******************** 进行NSOM实验，必须将点光源靠到样品表面纳米距离，然后点光源扫描样品表面，再收集探测经过样品表面的光学信号。我们使用经金属涂层处理的带孔洞椎形光纤作为NSOM探针。光经耦合进入探针，从亚光波长孔径的探针尖端发出，NSOM的分辨率就是由孔径的大小决定(最优可以达到50纳米)。点光源和样品表面的距离通常通过正常的力反馈机制(与AFM相同)控制，因此可以进行接触、敲击和非接触模式的NSOM实验。针对不同的材料和实验，通常有四种NSOM操作模式： * 透射模式成像&mdash &mdash 样品经过探针照明，光通过样品并与样品相互作用后被收集探测；* 反射模式成像&mdash &mdash 样品经过探针照明，光从样品表面反射并被收集探测；* 收集模式成像&mdash &mdash 样品经远场光源照明(从上或下面均可)，探针将光信号从样品表面收集；* 照明收集模式成像&mdash &mdash 用同一根探针同时进行照明和收集探测反射光； 在近场光学领域，部分扫描模式只有通过Nanonics提供的独特玻璃光纤探针才能完成，因为我们独特的光纤探针具有很好的波导性能。 收集的光可通过多种探测器探测，如APD(Avalanche Photo Diode)、PMT(Photomultiplier Tube)、InGaAs探测器、CCD或通过光谱仪探测，通过探测器得到的信号经过数据处理得到样品材料的NSOM图像。技术参数：原子力扫描表征-接触模式（可选）-探针或者样品扫描都具有所有原子力显微镜的操作模式。近场光学成像和激发表征 -透射，反射，收集，激发模式界面差别对比表征 -反射和透射模式折射系数分析表征 -反射和透射模式热导和阻值扩散分析表征-接触AC模式-无反馈激光通过外部媒介导入半导体，使用音叉反馈在线远场共聚焦拉曼和荧光光谱成像-反射和透射模式-针尖增强拉曼散射和在超薄层面上做选择性拉曼散射，例如应变硅纳米刻蚀-纳米&ldquo 笔&rdquo 探针输送多种化学物质和气体-近场光学刻蚀和常规方式的纳米刻蚀技术比如电子氧化等，并且可-以同时使用另外一根探针做在线同步分析纳米压痕-使用兆级帕斯卡压强，通过另外一个附加探针的在线同步分析将力学探针精确定位和控制。++++++SPM 扫描头参数样品扫描器-压电扫描平台 （3D 扫描台&trade ）-高度7毫米探针扫描器-四个独立控制的压电扫描平台（3D 扫描台&trade ）模块-高度7毫米扫描范围 -每根单探针扫描范围30 微米 (XYZ方向)-仅样品扫描器扫描范围100微米(XYZ方向)-样品扫描器和单探针扫描器扫描范围130微米 (XYZ方向)-样品扫描器和双探针扫描器扫描范围160微米(XY方向)扫描分辨率- 0.05 纳米 (Z方向)- 0.15纳米(XY方向)- 0.02纳米(XY方向) 低电压模式粗定位-样品粗调定位： XY 马达驱动范围5mm-分辨率0.25微米-针尖粗调定位：-XY方向马达驱动-驱动范围5mm-分辨率0.25微米-Z方向马达驱动-驱动范围10mm-分辨率0.065微米反馈机制-音叉反馈（标准）-激光反射反馈（可选）常规样品尺寸-标准尺寸可达到16毫米-使用上置光学显微镜操可达到34毫米-不使用样品扫描方式可以达到55毫米-有些客户样品尺寸达到200mm也能扫描-非常规尺寸样品：例如横截面高低起伏较大的样品等一些特殊形状样品探针-独特的玻璃探针，针尖可以提供不同的形貌和参杂金属颗粒或者涂层各种形式的常规硅悬臂探针也可以使用 ++++++成像分辨率远场成像分辨率 -到达衍射限制光学成像分辨率 -非共聚焦下光学分辨率500纳米左右共聚焦成像分辨率-200纳米近场光学成像分辨率-安装时保证100纳米分辨率；50纳米分辨率也可以提供形貌成像分辨率-Z 方向噪音有效值0.05 纳米（RMS）-XY 横向分辨率：根据样品和针尖直径情况热学成像分辨率-至少100纳米阻值成像分辨率-至少25纳米++++++热学&阻值成像温度参数-300度或者更高，要考虑样品情况热学参数-独特的双根纳米铂丝嵌在绝缘玻璃探针中-热敏感度0.01 º C-测量阻值改变速率为0.38 &Omega /º C阻值特点-独特的双根纳米铂丝嵌在绝缘玻璃探针中并且可以做出不同的形状结构和涂层-超高电势分辨率-接触电阻极微小-电学稳定& 抗氧化 ++++++在线光学和电子/离子光学扫描同步完成可以完成的表征类别-远场光学，共聚焦光学，近场，微区拉曼，扫描电子显微镜（SEM）或者聚焦离子束（FIB）整合优势 -样品扫描台上下光路开阔，可以做光学或电子/离子光学特征同步扫描联用-将多形式的光学显微镜整合在一起，包括上置光学显微镜和下置光学显微镜同时整合在探针扫描平台上-整合了多种标准微区拉曼180度背反射几何形貌配置。下置光学显微镜和Nanonics独特的上下置光学显微镜可以做不同的透明和非透明样品-具有多种常规的远场光学操作模式包括相位成像和界面差别对比-可以使用上置，下置和双置光学显微镜做任何模式近场光学扫描，无需更换扫描头保证了实验结果稳定性和可重复性。探测器类别-PMT， APD 或者InGaAs 红外探测器激光光源-可提供深紫外到近红外激光电视频系统 -在线CCD 视频成像主要特点： 独特的多探针系统Nanonics原子力显微镜最多可以同时进行四探针测试，光纤探针各自独立控制，可以同时分别、独立进行如滴液、加压，电学，热学方面的测试等不同的工作。专利技术的独特扁平3D 扫描台具有专利技术的扫描台上下光路开阔，可以将上，下置光学共聚焦显微镜整合到AFM扫描平台上，在无需更换任何探头的情况下同步完成的一系列的探针扫描，光学测量，力学测量，热学电学测量等测试手段，节约了用户大量的时间和精力并保证了样品测试的连贯性。通常很多厂家仪器做不同测试的时候探头都需要更换，不能同步联用并且费时费力。Nanonics这项专利是优势技术，并且探针扫描台和样品扫描台可以独自运作，即可以探针不动，样品移动；或者样品不动，探针移动。扫描的步进位移通过压电陶瓷驱动精度极高，Nanonics原子力显微镜分别提供一个85um样品扫描台和30um探针扫描台，XY方向的扫描范围是110*110um。尤其是Z方向的大扫描范围是所有AFM厂家无法提供的。另外一个3D扫描台提供探针扫描和样品扫描两种模式，在所有AFM 电镜中是独特的设计。独特的音叉反馈机制常规的AFM反馈通过激光反射反馈，具有噪音大，调试困难，受干涉情况；尤其在液体中或者做光学测试的时候，例如近场光学，AFM-Raman测试中，容易被干涉或者干涉有效信号。音叉反馈采用常规力学反馈避免了以上所有弊病，安装简单，结构稳定。专利技术的悬臂光纤弯针 。Nanonics 原子力显微镜的玻璃探针可提供畅通的光学通道，光线能以与传统直线式近场光学元件相同的效率和偏振性传输到探针尖端。玻璃探针可以做成中空型，用于加载光纤或实现Nano-Pen功能。多种探针通用平台Nanonics 原子力显微镜系统不仅可以使用玻璃光纤探针，也可以使用传统的商业化AFM/NSOM硅探针，提供了一个通用多探针使用平台。客户也可以要求使用常规硅悬臂探针。另外Nanonics还可以根据客户不同的需要定制探针。无与伦比的Z 方向探测深度MV4000在Z方向最大可探测深度为140um，非常适合深沟状样品。独特的悬臂设计不仅能探测深沟底部的形貌，而且可以对侧面进行检测。常规的硅悬臂探针无法做深沟探测。独特的光学友好性Nanonics原子力显微镜的玻璃光纤探针可提供畅通的光学通道，可同时和正置与倒置显微镜配合使用，实现透射式、反射、照明模式、收集模式（Nanonics独有的）等多个功能。光纤探针具有良好的光学性能和光导性能，这是硅悬臂探针无法做到的。拉曼连用平台MV4000的玻璃光纤探针具有光学友好特性，可与拉曼光谱仪整合，例如常用的Reinshaw 和JY Raman系统。可实现在线AFM形貌扫描，拉曼Mapping，自动共聚焦，提高拉曼的精度。配合NSOM可以完成微区Raman，并且还可以做荧光和微区荧光扫描。由于独特的扫描平台，AFM-Raman 联用不仅可以扫描透明样品还可以扫描不透明的块状和薄膜样品，这也是在AFM-Raman 联用案例中独特的设计。独有的TERS玻璃探针Nanonics在玻璃光纤探针的尖端采用专利的独立金球技术，与其他涂层探针相比，不会因在长时间使用后，受到激光影响而脱落，更为稳定，效率更高。配合独特的扫描台设计，可以在光源位置找到最佳激光偏振位置获得最好的TERS信号源。这也是其独特功能。

用超越激光衍射极限的系统来研究样品NTEGRA Spectra 在检测样品时，通过扫描近场光学显微术能提供超越激光光学衍射的光学分辨率。支持两种不同的SNOM方式：光纤式SNOM和悬臂梁式SNOM所有的SNOM功能模式：透射模式，反射模式，收集模式。所有SNOM的信号都可以被检测：激光强度，荧光强度，光谱信号等。SNOM刻蚀：矢量式，光栅式。

基于空间傅立叶变换的声场空间变换（STSF）是最先获得应用的声全息算法，它利用矩形网格阵列传声器对被测物近距离测量得到的一组声压数据实现对空间声场的数学建模，建模参数包括声压、声强、质点速度等。亦可利用该模型基于亥姆霍兹积分方程（HIE）计算远场响应、沿直线估计远场声压分布。基于统计最优的近场声全息（SONAH）克服了传统近场声全息的空间窗效应和卷绕效应，该算法允许使用不规则的、尺寸小于被测对象的阵列。等效源方法（ESM）非常适合曲面的测量，它能消除SONAH处理非平面表面时产生的赝相。特别适用于进行保形成像（BZ-5637 ）、板件声学贡献分析（BZ-5637以及BZ-5640）、强度分析（BZ-5637以及BZ-5641）、现场吸声测量（BZ-5637以及BZ-5642 ）。 产品货源Bruel & Kjaer的所有产品均为丹麦原产产品报价本商铺不提供网上报价，如需产品报价，请直接联系Bruel & Kjaer中国

产品详情德国Neaspec太赫兹近场光学显微镜 THz-NeaSNOM-30nm光学信号空间分辨率 太赫兹波段的纳米分辨散射式近场光学显微-谱仪系统：neaspec公司推出的第三代散射式近场光学显微镜neaSNOM，采用专利的高阶解调背景压缩技术，有效 提取散射近场信号，在获得10nm空间分辨率的同时保持极高的信噪比，是目前世界上唯一成熟的s-SNOM产 品。同时其赝外差干涉式探测技术，能够获得对近场信号强度和相位的同步成像。 由于专利的全反射式光学聚焦和独一无二的双光路设计，neaSNOM是目前世界上唯一一款可以应用于太 赫兹波段的近场光学显微成像和谱仪系统。全新推出的THz-neaSNOM必将成为广大太赫兹科研工作者手中的 神兵利器。 对有机和无机材料同样适用 。封闭式外罩设计，减少气流干扰。 。预先校准的近场光路，近一步提高稳定性 。快速成像，并以10nm空间分辨率鉴别纳米材料 。同步探测近场光学信号强度、相位并成像 。可对单层石墨烯，蛋白质有效测量的高敏感度 。简单明了的光路说明和光源选择指示，培训、操作简便 产品简介：太赫兹（THz）光源波长较大，一般在300微米左右。由于衍射极限的存在，THz远场测量系统的光学空间分辨率一般被限制在150微米左右。该THz光远场测量结果的准确度经常无法满足对材料科学研究，尤其是需要纳米分辨率的微细尺度材料分布研究（例如半导体芯片中各个组成：源极，漏极，栅极）的实验。THz-NeaSNOM近场光学显微镜的出现为此难题提供了一个很好的解决方案。德国Neaspec公司与Fraunhofer IPM在Neaspec公司NeaSNOM近场光学显微镜的基础上，已经成功研发了一套易用使用且THz系统的空间分辨率达到30nm的实验设备。 THz-NeaSNOM主要技术参数与特点： 。优于30nm的空间分辨率 。常用THz光范围：0.1-3THz 。专利设计的宽波段抛面镜 。THz研究可使用商业 散射型近场光学显微镜原理视频介绍：HNeaSNOM 30nm空间分辨率 专利的背景信号压制技术：s-SNOM技术相对于传统SNOM更难实现的主要瓶颈在于，探测器通过自由光路接收散射信号时，其接收到 的光学信号中99%以上是悬臂、样品等区域散射的背景信号，只有不到1%是来自于针尖与样品之间的有效近 场信号。只有成功的将有效的近场信号提取出来，才能获得可靠稳定的近场光学测量结果。neaSNOM通过其专利的高阶信号解调技术结合干涉式探测方式，实现了对背景信号的有效压制，获得了对 散射近场信号高度可重复性、高信噪比的可靠测量。 在原理上，利用AFM探针的高频振动，远场光学信息在快速傅里叶变换后仅可获得一阶信号；相对地，近场光学信息可以获得一至四阶不同的信号。通过探测器对高阶信号的采集处理，从而实现从背景信号中对有效 近场信号的剥离。 neaSNOM拥有专利的heterodyne探测模块，可以利用参考镜进一步对剥离的近场信号进行调制，从而实现了对其强度和相位的同时采集和成像。 更广的波长范围和更高的分辨率neaSNOM对晶体管的近场成像 与传统SNOM技术受到分辨率极限的限制，而只能使用可见光或近红外光源不同，neaSNOM将可用光源拓展到中红外和太赫兹波段，并始终保持纳米级分辨率，这决定于neaSNOM的分辨率只与散射源尺寸( AFM 针尖曲率半径）有关这一独特技术特点。上图为，neaSNOM采用波长为10um的中红外光源和118um的太赫 兹光源获得的近场成像结果，其太赫兹成像的分辨率达到40nm，约为激发波长的1/3000，充分证明了 neaSNOM的高分辨能力。在中红外和太赫兹波段的纳米成像能力，使得neaSNOM具有对纳米结构进行电学，分子、晶格振动等性质 的探测能力，近一步拓展了近场光学技术的应用范围，为更多学科提供了有利的表征手段。 更大的应用拓展空间得益于优秀的双光路设计，neaSNOM在成像功能基础上具有了更大的应用拓展空间。利用预留的第二套可 用光路，neaSNOM可以实现对拉曼、荧光、光诱导和超快等领域的研究，部分研究成果已经发表在国际著 名期刊。 专业的模块化设计neaSNOM散射型近场光学显微镜采用模块化设计，将可见光、近红外、中红外照明探测单元，nano-FTIR ,透射模式等功能进行封闭模块化设计，进一步提高了整体光路的稳定性，以及操作的简便性，便于使用者更 快掌握neaSNOM系统操作，获得高质量近场光学测结果。 用户友好的软件平台neaSNOM散射型近场光学显微镜的软件平台历经数发整合，已完全兼容于windows系统并有着优秀的客户体验。最新的软件系统用户友好，操作简单，为防止使用人员的误操作，模块化的设计体系保证了仪器更 高的安全性。

RiGO 801-LED 是德国TechnoTeam公司针对LED及其模组推出的近场分布式光度计，可快速测试LED的近场数据（Ray Data；Ray Set；Ray File），省去工程师进行光源建模的麻烦，从而加速产品开发周期，并极大的节省模具的开发和修改成本。德国的TechnoTeam 生产制造近场分布式光度计的经验超过20多年（1991年推出全球首套商用近场分布式光度计），是近场分布式光度计标准的制定者。RiGO 801-LED 除可实现近场测试外，还具备如下测试功能：光通量；光效；配光曲线；空间色度均匀性（可选）表面亮度、色度分布（可选）光谱分布（可选）满足Zhaga 测试标准主要参数：测试对象:0.2mm - 200mm 的各种LED光源、模组、小型光源近场数据位置精度 0.01mm

太赫兹近场光学显微镜 - THz-NeaSNOM--30nm光学信号空间分辨率太赫兹（THz）光源波长较大，一般在300微米左右。由于衍射限的存在，THz远场测量系统的光学空间分辨率一般被限制在150微米左右。该THz光远场测量结果的准确度经常无法满足对材料科学研究，尤其是需要纳米分辨率的微细尺度材料分布研究（例如半导体芯片中各个组成：源，漏，栅）的实验。THz-NeaSNOM近场光学显微镜的出现为此难题提供了一个很好的解决方案。德国neaspec公司与Fraunhofer IPM在neaspec公司neaSNOM近场光学显微镜的基础上，已经成功研发了一套易用使用且THz系统的空间分辨率达到30nm的实验设备。产品特点/基本参数+ 优于30nm的空间分辨率+ 常用THz光范围：0.1-3THz+ 设计的宽波段抛面镜+ THz研究可使用商业化的AFM探针+ THz-TDS使用飞秒激光光源+ 简单易用，稳定性高半导体结构表征—30nm空间分辨率THz-NeaSNOM近场光学显微镜（下图左）对半导体结构的测量结果图。该结果表明硅衬底（上图左，灰色）上的SiO（一氧化硅）的尺寸大约在1.5×1 平方微米。通过分析左侧的高度数据，可以知道该一氧化硅结构仅仅只有大约22纳米厚度。虽然该层状结构非常薄，但THz-NeaSNOM近场光学显微镜（下图左）在测量高度的同时仍然能够记录该结构与衬底的近场光学信号的明显不同衬度的结果。该THz-NeaSNOM近场光学显微镜不仅在测量非常薄样品的时 候灵敏度非常高，而且通过分析近场光学信号数据（下图右）也证实了它超高的空间分辨率（~25-30nm）。 表征半导体器件 Nature 456,454(2008) 超快机制研究纳米线 Nature Photonics 8,841(2014) 部分用户好评与列表（排名不分先后）neaspec公司产品以其稳定的性能、高的空间分辨率和良好的用户体验，得到了国内外众多科学家的认可和肯定......"The neaSNOM microscope with it’s imaging and nano-FTIR mode is the most useful research instrument in years, bringing genuinely new insights."Prof. Dmitri Basov美国 加州大学University of California San DiegoDepartment of PhysicsLa Jolla, USA"We were looking for a flexible research tool capable of characterizing our energy storage materials at the nanoscale. neaSNOM proofed to be the system with the highest spatial resolution in infrared imaging and spectroscopy and brings us substantial new insights for our research”Dr. Jaroslaw Syzdek美国 劳伦斯伯克利实验室Lawrence Berkeley National LaboratoryEnvironmental Energy Technologies DivisionBerkeley, USA"The neaSNOM microscope boosted my research in plasmonic properties of noble metal nanocrystals, optical resonances of dielectric nanostructures, and plasmon polaritons of graphene-like two dimensional nanomaterials."陈焕君 教授中国 中山大学Sun Yat-sen UniversityChina"As a near-field expert I was quickly convinced that neaSNOM is the only optical AFM microscope completely satisfying the needs of demanding near-field experiments. It’s the best comercially available technology and in addition really easy to use."Prof. Thomas Taubner德国 亚琛工业大学RWTH AachenMetamaterials & Nano-OpticsAachen, Germany"As a newcomer to the near-field optics I am very grateful for the prompt and competent support provided by neaspec’s experts."Dr. Edward Yoxall英国 帝国理工大学Imperial College LondonDepartment of PhysicsLondon, United Kingdom"After many years of research and development in near-field microscopy, we finally made our dream come true to perform infrared imaging & spectroscopy at the nanoscale. With neaSNOM we can additionally realize Raman, fluorescence and non-linear nano-spectroscopy."Prof. Rainer Hillenbrand西班牙 纳米科学协同研究中心CIC nanoGUNE Research CenterCo-Founder and Scientific AdvisorSan Sebastian, Spain"A unique advantage of the neaSNOM microscope is that it can be applied to many fields of scientific research such as Chemistry, Semiconductor Technology, Polymer Science and even Life-Science."Dr. Fritz Keilmann德国 慕尼黑大学Ludwig-Maximilians Universit?t MünchenCo-Founder and Scientific-AdvisorMunich, Germany南京大学中山大学都师范大学苏州大学University of San Diego，USAUniversity of Southampton, UKCIC nanoGUNE San Sebastion, SpainLBNL Berkeley, USAFraunhofer Institut ILT Aachen, GermanyMax-Planck-Institut of Quantum Optics, Garching, GermanyUniversity of Bristol, UKRWTH Aachen, GermanyCalifornia State University Long Beach, USA… …

产品详情德Neaspec真空太赫兹波段近场光学显微镜HV-THz-neaSNOM该套系统成功地继承了德国neaspec公司THz-neaSNOM的设计优势，采用专利保护的双光路设计，完全可以实现真空环境下太赫兹波段应用的样品测量。HV-THz-neaSNOM在实现30nm高空间分辨率的同时，由于采用0.1-3THz波段的时域太赫兹光源（THZ-TDS），也可以实现近场太赫兹成像和图谱的同时测量。这极大地满足真空环境中太赫兹近场光学研究的需求，可以减少大气中水对太赫兹波段的吸收影响，能更好地保持样品的洁净，为用户进一步集成真空设备提供了基础。太赫兹波有极强的穿透性，对不透明物体能完成透视成像，用来做半导体材料、生物样品等的检测是其应用趋势之一。该套真空太赫兹波段近场光学显微系统（HV-THz-neaSNOM）的集成，将在生物应用、半导体元器件和相变材料载流子等研究及领域都有着广阔的应用前景，有望为广大太赫兹科研工作者提供更多实际研究工作中的便利和支持。

Molecular Vista 散射式扫描近场光学显微镜 ——10nm以下空间分辨可见-红外成像与光谱采集随着近些年对于纳米光子学、表面等离极化激元、二维材料以及范德华异质结构等领域的深入研究，扫描近场光学显微镜 (Scanning Near-field Optical Microscope, SNOM) 已成为研究这些领域的不可或缺的表征手段。虽然扫描近场光学显微镜在散射式模式(s-SNOM)下的空间分辨率有了很大的提升，但是在实际使用上仍然得十分繁杂。在这一背景下，美国Molecular Vista应运而生，推出了全新一代散射式扫描近场光学显微镜Vista-SNOM！有别于传统的扫描近场光学显微镜，Vista-SNOM基于专利的光诱导力显微镜（Photo-induced Force Microscope, PiFM)技术，通过检测探针与样品之间的偶极交互直接获得样品表面的场强分布，无需远场光学探测器。这不仅杜绝了远场信号的干扰，也无需像SNOM那样配置多个不同波段光学探测器。光诱导力显微镜的检测端可无缝适应紫外～射频，用户仅需考虑如何将激发光激发至样品。Vista-SNOM在光诱导力显微镜模式下实测的场强结果与模拟结果高度吻合，同时也具备了s-SNOM模式。这使得科研人员可以将PiFM场强结果与s-SNOM场强结果进行对比分析。s-SNOM 散射式扫描近场光学显微镜案例下图为金铝二聚体分别在480nm和633nm不同偏振方向激发后的场强分布，图a,b的实测场强与图c,d的理论模拟是否吻合，金铝二聚体间隔仅为5nm!摘自“Wavelength-dependent Optical Force Imaging of Bimetallic Al-Au Heterodimers, Nano Lett. 2018”上面提到拉曼信号的增强主要源于局域表面等离子体共振(LSPR)的电磁场增强，下图为基于银颗粒阵列的表面增强拉曼衬底(SERS)的场强分布，图f的FWHM结果显示光诱导力显微镜实现了3.1nm的空间分辨。摘自“Fabrication and near-field visualization of a waferscale dense plasmonic nanostructured array, RSC Adv. 2018”