硅表硅分析仪

上海楚柏为您提供各种规格的乙炔分析仪，产品列表如下：（详细的价格请联系我们的玻璃器皿销售经理）。编号 名称 单位V02023601乙炔分析仪　 套Truelab提供的化学玻璃仪器采用优质玻璃原料，由专业技师加工而成。烧器类采用硬质95料或GG-17高硅硼玻璃，抗化学腐蚀防离子污染，耐骤冷骤热性好。量器类刻刻度精密、透明度高。Truelab提供的玻璃仪器种类多，规格全，欢迎新老客户选购。上海地区自车送货上门。021-67696554 021-67697006 021-67697009

元素分析仪配件 LECO 力可 501-587镀金硅Platinized Silica

元素分析仪配件 LECO 力可 501-241高真空硅脂High vacuum grease

元素分析仪配件Elementar 03 968 006高真空硅脂High vacuum grease

Polymetron9210硅酸根/磷酸根分析仪备件Polymetron9210硅表光缆09210=A=0500接口板09200=A=50009210硅表CPU板带显示09200=A=10009211磷表CPU板带显示09200=A=1011电源板09200=A=2000RS485板(MODBUS)09125=A=0485/248592XX内部总线通讯板09200=A=55002米内部连接电缆/4米/7米370=302=034/304/307921X测量板(0~1000ppb-SiO2/0~5ppm-PO4)0921X=A=15009210硅表测量板(0~5000ppb-SiO2)09210=A=1510Polymetron9210硅表光缆09210=A=0500 9211磷表测量板(0~50ppm-PO4)09210=A=1520管子4×6(国内定制)样水电磁阀,NPS0,8(0,2~6bar)689=118=008O-型圈(流速调节螺钉),4×1mm35600905040样水流速调节螺钉09210=A=0105样水液位检测器09210=A=0250O-型圈(液位检测器),38×2mm35609935308样水电磁阀,(溢流容器)689=118=024921X连接板(混合器/加热器)09210=A=1234921X混合器09210=A=0400磁性搅拌棒226=003=013加热元件09097=C=0560Pt100温度探头35900040780921X光缆09210=A=0500921X光学镜09210=C=0340921X镜子隔圈09210=C=0330O-型圈(光学镜),22×1mm35609905220方形盖(光度计池)09210=C=0310试剂管,1,6×3,2mm590=050=060试剂管内插管,0,8×1,6mm试剂泵695=114=001校准/冲洗泵695=004=004921X2升试剂桶495=020=001921X试剂管沉头09210=A=06009210硅表化学试剂(不含硫酸)09210=C=70009211磷表化学试剂(0~5ppmPO4,不含硫酸)09211=C=70009211磷表化学试剂(0~50ppmPO4,不含硫酸)09211=C=70019210硅表药剂(一年用量)09210=A=0507

认证的单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。认证的单晶硅标样,随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为20％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

认证的单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。认证的单晶硅标样,随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为20％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

在液相色谱分析中，几乎不可避免鬼峰的干扰，尤其在使用了缓冲盐或者酸性添加剂并进行梯度分析时，更易出现鬼峰从而干扰微量或者痕量物质的分离或者定量。方法开发中一旦出现鬼峰，消除鬼峰则需要花费分析人员较多的时间和精力，也是一项非常棘手的工作。纳谱分析特别研发出鬼峰小柱，可以有效去除流动相中的杂质，彻底清除鬼峰，从而大大缩短了方法验证和微量、痕量物质分析的时间。尤其对于药物分析研发人员而言，NanoChrom Ghost-Remover鬼峰去除柱是您必备的鬼峰消除神器。货号信息：名称规格货号鬼峰去除柱NanoChromGhost-Remover, 4.6×50mmGR4605S鬼峰去除柱NanoChromGhost-Remover, 4.0×50mmGR4005S鬼峰去除柱NanoChromGhost-Remover, 3.0×50mmGR3005S鬼峰去除柱NanoChromGhost-Remover, 2.1×50mmGR2105S鬼峰去除柱NanoChromGhost-Remover (UHPLC), 2.1×50mmGR2105S-U鬼峰去除柱NanoChromGhost-Remover, 2.1×30mmGR2103S安装方法：鬼峰去除柱保存在纯甲醇中，使用前采用纯甲醇1.0ml/min流速冲洗20min，（注意：不要连接色谱柱和检测器进行冲洗）冲洗好后卸下小柱，按照上示意下图安装位置，连接到混合器与进样器之间。Ghost-Remover鬼峰去除柱的主要特点是能去除溶剂包括有机溶剂中的杂质。反相色谱梯度分析时，将小柱安装在梯度混合器和自动进样器之间，不仅能够去除流动相中的杂质，还可以有效管路和混合器中的杂质。使用寿命：考察未加去除柱与加去除柱的结果相比，使用去除柱可以有效去除鬼峰。经过600次分析之后，仍然没有鬼峰出现。实验结果表明， 捕集柱可以稳定吸附杂质，并对多次分析有足够的负载容量。说明：◇ 该产品实际寿命依据分析条件例如使用的流动相不同而有所差别，并不是所有的杂质都可以被清除。◇ 将该产品连接在梯度混合器或泵的汇合处之后，梯度分析将存在和小柱容积等同的延迟体积，几乎所有品牌液相仪器都可使用本产品。当将质谱作为检测器时，该产品可能会有少许溶出引起基线噪声。◇ 在分析中如果使用离子对试剂时，该产品可能会吸附离子对试剂影响组分的保留时间或者峰型。◇ 在连接分析柱之前，务必用流动相彻底冲洗连接该产品的管路（接近梯度分析中的最终浓度）。

GC/MS 分析仪标样试剂盒说明 部件号GC/MS 半挥发性化合物分析仪校验混合物 5190-04733 合1 环境样品分析仪Solvents plus 校验混标 G3440-05012GC/MS 农药分析仪内标样品，菲-d10，浓度1000 μg/mL 的二氯甲烷溶液, 4 x 1 mL 5190-0472农药分析仪测试样品溶液，20 种农药的丙酮溶液，浓度10 μg/mL，5 x 1 mL 5190-0468农药校验标样，100 μg/L，3 x 1 mL 5190-0494GC/MS 毒理学校验混合物 5190-0471残留溶剂修方订法467，2A 类，1 x 1 mL 5190-0492残留溶剂修订方法467，2B 类低浓度 5190-0513残留溶剂修订方法467，2B 类，1 x 1 mL 5190-0491残留溶剂修订方法467，2C类，1 x 1 mL 5190-0493残留溶剂修订方法467，第1 类 5190-0490用于生物柴油分析的丁三醇内标#1 5982-0024用于生物柴油分析的甘油三葵酸酯内标#2 5982-0025农药保留时间锁定标准溶液, 三种农药的正己烷溶液，浓度10 μg/mL，3 x 1 mL 5190-1441甘油校准标样试剂盒，5 x 1 mL G3440-85028甘油酯的THF 溶液标样，1 x 2 mL G3440-85018FAME 保留时间标样甲苯溶液，5 x 2 mL G3440-85027十九酸甲酯甲苯溶液标准品5 x 10 mL G3440-85026Solvents-plus 检测混标，3 x 2 mL G3440-85012变压器油气体分析仪校验混标，17 L SCOTTY 气瓶 G3440-85007PAH 分析仪校验标样，5 x 2 mL G3440-85009C6 至C12 正构烷烃混标，3 x 2 mL G3440-85013天然气分析仪校验混标，14 L SCOTTY 气瓶 G3440-85017氘代十七烷酸甲酯的十二烷溶液，3 x 2 mL G3440-85029血醇分析仪乙醇校准试剂盒 G3440-85035血醇分析仪多组分醇类校准试剂盒 G3440-85036

硅钼粉助熔剂用于配合电弧炉使用的碳硫高速分析仪在燃烧试样时的添加剂 配套服务项目优惠提供各类配件1、提供筹建化验室技术方案，解决各种化学分析工艺，随时解答各类疑问。2、严格遵守“三包”制度，免费安装调试培训化验技术人员，售后服务热线电话24小时响应。3、定期免费赠送麒麟快讯，更快获得市场部为您提供的产品查询服务。4、代购化验室各种辅助材料、设备（天平、标样、纯铁、试剂、蒸馏水器等）。5、优惠供应各种仪器配件及耗材（玻璃件、电磁阀、电路控制板、硅钼粉、钝锡粒、坩锅、石英管、电极等）。

单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为7％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为5％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为9％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为6％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为3％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为8％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为5％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为4％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为9％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

煤质分析仪测硫仪硅碳管带焊片的卡子

波利梅特龙polymetron9210在线硅表/哈希9210在线硅，现货供应，办事处，总代，操作规格，主要特点：咨询热线，15300030867，张经理，欢迎您的来电咨询！多通道操作（1-6）运行维护量小和极低的运行成本可进行两点校准：化学零点和斜率内置数据记录仪，简单友好的用户菜单波利梅特龙polymetron9210在线硅表/哈希9210在线硅，现货供应，办事处，总代，操作规格，主要特点，技术参数：测量范围：0-1000ppb SiO2或0-5000ppb SiO2, 重现性+0.5ppb/+2ppb检测极限 运行压力/温度0.2-2bar/5-50 oC，取样流量15-20 L/h通信方式：RS485，模拟输出4-20mA

单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为2％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为7％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为4％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为6％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为2％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为3％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为8％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

该产品适用于流动法测试比表面积分析仪的设备上面，具体型号：SSA-3000e,SSA-3500,SSA-3600,产品材质为玻璃材质。

单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为1％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。