光致电离氘灯

这款致电离辐射探测器是欧洲进口的致电离粒子探测器，它具有超高灵敏度，广泛用于电离辐射探测，根据不同应用可用作中子探测器,伽马射线探测器或X射线探测器。这种致电离辐射探测器已经在粒子物理，核物理，环境检测，化学等诸多领域成功应用。电离辐射探测器由YAP:Ce, YAG:Ce, BGO or NaI(Tl)闪烁体单晶，光电倍增管，放大器和驱动电路组成，我们根据用户要求灵活设计这些探测器。请联系我们We design, and manucfacture a large variet of scintillation detectors which are used for the detection and spectroscopy of ionizing particles, neutrons, gamma-ray and x-rays.The detection&spectroscopy units are designed specifically to the customers’ requirements.These units find use ingeology, medicine, particle physics, environmental applications as well as in many other areas.Typically used scintillation materials include YAP:Ce, YAG:Ce, BGO or NaI(Tl) Fully customized spectroscopy units consist of an appropriate photodetector and the necessary electronics such as preamplifiers, amplifiers, voltage dividers or voltage sources, either integrated within the detection unit or as external units.All scintillation detectors are magnetically shielded and mechanically protected by a metal housing. Housing size and materials are also selected in line with customer requirements.

光电离 (PID)灯Model 108-10.0/10.6 提供10.0 和 10.6 eV 电压，具有0.781英寸底座直径，适用于Tracor/OI以及基础仪器。Model103 具有 1.375英寸底座，适用于HNU/ SRI 检测器。Model108-BTEX 灯，高输出，非常适用于检测BTEX化合物。特征优点使用寿命长省钱。Model 108-BTEX 输出量比老型号的高 33%以 1 毫安和 250 °C 持续工作6个月，输出量仍高于总输出量的50%。灯具单独测试您的灯将正常工作。多种型号其中最好的灯适用于大多数仪 器。光电离 (PID)灯说明eV 率底座包装货号PID 灯, Model 103 C10.21.375英单20676PID灯, Model 10810.0/10.60.781英单20675PID 灯, Model 108-BTEX10.0/10.60.781英单23020PID 灯 清洁套件(包含氧化铁粉，棉签及说 明书)套20674

无锡吉致电子25年研发生产——碳化硅晶圆抛光液/硅衬底SIC抛光液/半导体抛光液/CMP化学机械抛光液/硅衬底抛光液/slurry抛光液产品简介：为电力电子器件及LED用碳化硅晶片的CMP化学机械平坦化配制的抛光液。CMP抛光液大大提高了碳化硅晶圆表面去除率和平坦化性能，提供了非常好的表面光洁度吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液使用方法：1.可根据抛光操作条件用去离子水进行5-20倍稀释。2.稀释后，粗抛时调节PH11左右，精抛时调节PH9.5左右。pH调节可以用10%的盐酸、醋酸、柠檬酸、KOH或氨水在充分搅拌下慢慢加入。3.循环抛光可以用原液。吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液储存方法：1.贮存时应避免曝晒，贮存温度为5-35℃2.低于0℃以上储存，防止结冰，在无度以下因产生不可再分散结块而失效。3.避免敞口长期与空气接触。吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液价格：吉致电子的碳化硅晶圆抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使得吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格亲民。

无锡吉致电子25年研发生产——蓝宝石研磨液/蓝宝石LED衬底抛光液/Sapphire Slurry/CMP化学机械抛光/液蓝宝石A向抛光液/蓝宝石C向抛光液/半导体抛光液/吉致蓝宝石抛光液/蓝宝石研磨液厂家/蓝宝石抛光液厂家/JEEZ蓝宝石抛光液/蓝宝石CMP集成电路抛光液/蓝宝石slurry/蓝宝石Lapping研磨抛光液产品简介：为半导体行业/光学行业调配的蓝宝石研磨液/蓝宝石LED衬底抛光液/Sapphire Slurry组合浆料，适用于蓝宝石基片、外延片、LED的平坦化加工。设计满足从研磨到CMP的衬底制造的各个工艺阶段的规范，在蓝宝石基片抛光应用中提供了可靠的解决方案。吉致电子蓝宝石LED抛光液/Sapphire Slurry抛光液储存方法：1.贮存时应避免曝晒，贮存温度为5-35℃2.低于0℃以上储存，防止结冰，在无度以下因产生不可再分散结块而失效。3.避免敞口长期与空气接触。吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使得吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格亲民。吉致电子CMP抛光耗材适用范围吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺，为不锈钢、铜、铝、塑胶、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠的抛光解决方案！

产品分类：吉致电子抛光垫产品名称：无纺布抛光垫/碳化硅SIC抛光垫/suba800替代产品特点：吉致电子抛光垫满足低、中及高硬度材料抛光需求，针对碳化硅SIC抛光的4道工艺制程搭配不同型号抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）具有高移除率、高平坦性、低缺陷和高性价比等优点。产品工艺及用途：特殊纤维结构高耐磨的抛光材料，适用于碳化硅SIC/再生晶圆/各类三五族或二六族等晶圆，如蓝宝石、砷化镓、氮化铝等抛光，也适用于各类衬底、窗口片或玻璃片的高平坦效果。可定制化：标准槽深为抛光垫厚度1/2，可以按客户不同开槽要求定制抛光垫价格：吉致的抛光垫生产引进国外技术，品质可以媲美进口的抛光垫产品。选择吉致电子抛光垫产品，价格比进口抛光垫便宜，交货期稳定，性价比更高！

产品分类：吉致电子抛光垫产品名称：阻尼布抛光垫/碳化硅SIC精抛垫/Politex抛光垫FUJIBO抛光垫替代产品特点：吉致电子抛光垫满足低、中及高硬度材料抛光需求，针对碳化硅SIC抛光的4道工艺制程搭配不同型号抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）具有高移除率、高平坦性、低缺陷和高性价比等优势。产品工艺及用途：柔软表面与特殊微孔洞结构，适用于碳化硅SIC衬底、各类晶圆、IC制造等CMP工艺高精细、高平坦化的制程。具有缓冲与晶背保护的效果。吉致电子碳化硅抛光垫价格：吉致电子抛光垫生产引进国外技术，可以媲美进口抛光垫PAD/阻尼布抛光垫产品（Politex/Fujiba/SUBA/环球等国产替代）品质稳定。选择吉致电子抛光垫产品，价格美丽，比进口抛光垫/精抛垫便宜，交货期稳定，性价比更高！

无锡吉致电子25年研发生产——氧化层抛光液 /Oxide slurry/CMP抛光液/氧化物CMP研磨液/氧化物化学机械抛光液/半导体CMP抛光液/氧化层lapping研磨抛光液/氧化层slurry/氧化层抛光液抛光浆料/氧化层集成电路抛光液/氧化层CMP化学机械抛光液slurry/氧化层抛光液slurry 磨料类型：半导体cmp抛光液slurry磨料粒径：纳米级SiO2产品特点：纳米级SiO2磨料，粒径均一稳定，去除速率稳定，金属离子含量低，通过CMP工艺可有效去除表面氧化层，达到理想平坦度。吉致电子Oxide Slurry与国内外同类产品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特点。吉致电子氧化层抛光液/OxideSlurry抛光液储存方法：通风，阴凉，干燥的库房，本品需在5-35℃储存，防止阳光直射及冻结，零度以下因产生不可再分散结块而失效。吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使得吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格亲民。吉致电子CMP抛光耗材适用范围吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠抛光解决方案！

无锡吉致电子25年研发生产——钨抛光液/W CMP Slurry/W 抛光液/半导体研磨液/CMP抛光液/化学机械抛光液/CMP化学机械抛光液slurry/CMP集成电路抛光液钨W抛光液作用: 吉致电子钨W抛光液适用于8-12吋氧化硅镀膜片的抛光。特选粒径均一的SiO2水溶胶为磨料，抛光清洗后晶圆表面粗糙度低、颗粒残留少。与国内外同类产品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特点.我司产品优点： 1.悬浮性好，不易沉淀，使用方便。2.颗粒分散均匀，不团聚，软硬度适中，有效避免抛光过程中由于颗粒团聚导致的工件表面划伤缺陷。3.运用抛光过程中的化学新作用，提高抛光速度，改善抛光表面的质量。4.分散性好、乳液均一，程度提升抛光速率的同时降低微划伤的概率，可以提高抛光精度。5.无粉尘产生，关注环保和人体健康安全。可定制化：我们的抛光液可以根据客户需求定制不同的PH、粒径、浓度、稳定离子等。包裝方式：25KG/桶(也可依客户需求)吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格实惠亲民。吉致电子CMP抛光耗材适用范围吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效抛光解决方案！

产品名称：陶瓷抛光液/氧化锆抛光液/氧化铝抛光液/氮化硅抛光液/氮化铝抛光液陶瓷抛光液作用: 吉致电子陶瓷类抛光液适用于碳化物、氮化物、氧化物和硼化物各精密陶瓷件的镜面抛光，通过CMP抛光工序可得到理想镜面效果，表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。产品特点：吉致可提供各陶瓷类的镜面抛光液1、纳米级抛光液，抛光后具有较优的粗糙度2、抛光液绿色环保、不含卤素及重金属元素3、抛光液可循环使用，根据工艺要求可添加去离子水稀释可定制化：可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务包裝方式：25KG/桶(也可依客户需求)

产品名称：钼抛光液/金属钼抛光/激光反射镜抛光液/CMP研磨液/镜面抛光液金属钼片抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的钼、钼合金工件的镜面抛光，CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用，可以使钼金属表面快速去粗和平整坦化。化学氧化腐蚀钼合金表面，研磨去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果，金属钼工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。吉致可提供钼片/金属钼的镜面抛光液1、微米/纳米级抛光液，抛光后具有均匀镜面效果2、磨料颗粒呈悬浮状态，不易分散沉淀，提高CMP效率和稳定性3、钼片专用抛光液磨料硬度高、稳定性好、化学惰性强，吉致电子金属钼抛光液可用于钢铁、化工、电子、航天、光学领域的钼片加工，达到优良的表面平坦度，抛光速率快、表面均一无缺陷。*可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务*提供全套解决方案，及免费安排工程师上门服务

光电离 (PID)灯Model 108-10.0/10.6 提供10.0 和 10.6 eV 电压，具有0.781英寸底座直径，适用于Tracor/OI以及基础仪器。Model103 具有 1.375英寸底座，适用于HNU/ SRI 检测器。Model108-BTEX 灯，高输出，非常适用于检测BTEX化合物。说明 eV 率 底座 货号PID 灯, Model 103 C 10.2 1.375英 单 20676 PID灯, Model 108 10.0/10.6 0.781英 单 20675 PID 灯, Model 108-BTEX 10.0/10.6 0.781英 单 23020 PID 灯 清洁套件(包含氧化铁粉，棉签及说明书) 套 20674

产品名称：铜抛光液/合金铜抛光液/铜表面抛光液/金属研磨液/镜面抛光液合金铜CMP抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的铜、合金铜工件的镜面抛光，CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用，可以使铜金属表面得到加工和平整坦化。化学氧化铜金属后磨蚀性去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果，工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。吉致可提供铜/合金铜金属的镜面抛光液1、微米/纳米级抛光液，抛光后具有均匀镜面效果2、磨料颗粒呈悬浮状态，不易分散沉淀，提高CMP效率和稳定性3、铜专用抛光液磨料硬度高、稳定性好、化学惰性强*可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务*提供全套解决方案，及免费安排工程师上门服务李女士17706168670

产品特点：光电离（PID）灯Photoionization (PID) Lamps型号108-10.0 / 10.6提供10.0和10.6 eV电位，具有0.781“基本直径，用于SRI，Tracor，OI和基线仪器。型号103具有1.375”碱基，用于HNU检测器。 108-BTEX型灯的更高输出使其成为检测BTEX化合物的理想选择。订货信息：Photoionization (PID) LampsCatalog #Model #Units20676Model 103 Cea.20675Model 108ea.23020Model 108-BTEXea.

光离子化灯PID Lamp简介 光离子化灯常用于气相色谱学（GC），痕量气体监测以及在质谱分析中对样品进行电离。PID技术使用的灯带有真空紫外（VUV）区域内的一致光子能量。当气态分子电离能低于光子发出的能量时，分子可被离子化。光离子化灯常用于测量浓度为ppm到ppb级的挥发性有机物（VOCs）和其他气体。 贺利氏提供完整系列的光离子化灯，它们在强度光谱纯度和寿命上都达到最高标准。贺利氏光离子化灯包括不同填充气体和窗口材料，采用直流（DC）和射频（RF）两种激发方式。贺利氏技术团队拥有专业设计力量，通过和OEM仪器生产商合作，可以按照客户在外形和功率方面的特定要求进行设计和生产。特性填充气体：Xe，Kr，Ar窗口材质：LiF，MgF2，Al2O3驱动方式：DC直流，RF射频光离子化强度：9.6 eV，10.0 eV，10.6 eV，11.8 eV高纯度气体以保证更长寿命高纯度窗口材料以保证更佳的光谱透过率工作原理 将PID灯发射的真空紫外光束射入测试腔，当被测有机挥发性气体进入测试腔时，受到紫外光的轰击而发生电离，分裂成带正负电性的两个基团。在测试腔的两边装有一对施加了适当工作电压的电极，受到电极电压的吸引，带电基团分别趋向相应电极而形成正比于VOC浓度的电流。通过测量该电流大小，确定VOC浓度。分裂的基团经过电极后重新复合离开真空腔。应用气相色谱仪（GC）质谱仪（MS）大气和土壤的监测报警器顶室测试气体泄漏监测危险区域中的人员安全RF射频激发PID灯型号 用于设计制造小型化或手持式仪器灯型号PKR106-6填充气体Kr光离子强度（eV）10.6工作电流（mA）n/a起辉时间（ms）n/a长度×直径（mm）30×6产品优势 为了达到无与伦比的光强、灵敏度和寿命表现，贺利氏使用高质量的原材料并精准地控制加工工艺。吸气剂灯体内部的金属块或金属环用来吸收透过灯体玻璃进入的杂质气体。一些厂家的吸气剂仅能在灯生产时有效，而一些厂家甚至不适用吸气剂；这会导致PID灯使用过程中光谱纯度退化。虽然这不会干扰监测VOCs的VUV谱线，但是会降低VUV谱线的能量，从而导致灵敏度和寿命的降低。贺利氏专利设计的吸气剂可以在整个工作寿命中发挥作用以保证高纯度的输出光谱。光窗材质 许多厂家使用天然晶体来加工光窗，但是这些天然晶体中含有一些杂质。这回导致输出光谱发出不规则反射而降低输出强度，从而减少工作寿命。贺利氏采用高纯单晶MgF2，并切割成平面以保证最大透过率。窗口封接和加工工艺 贺利氏选择了最佳的窗口封接原料且在真空下严密贴合以防止外部气体进入污染光谱。灯体的封接加工工艺也非常重要，保证了不同灯内充气气压相同，从而达到高度重现性。请联系我们为您的仪器应用安排优化的定制设计！

光离子化灯PID Lamp简介光离子化灯常用于气相色谱学（GC），痕量气体监测以及在质谱分析中对样品进行电离。PID技术使用的灯带有真空紫外（VUV）区域内的一致光子能量。当气态分子电离能低于光子发出的能量时，分子可被离子化。光离子化灯常用于测量浓度为ppm到ppb级的挥发性有机物（VOCs）和其他气体。贺利氏提供完整系列的光离子化灯，它们在强度光谱纯度和寿命上都达到最高标准。贺利氏光离子化灯包括不同填充气体和窗口材料，采用直流（DC）和射频（RF）两种激发方式。贺利氏技术团队拥有专业设计力量，通过和OEM仪器生产商合作，可以按照客户在外形和功率方面的特定要求进行设计和生产。特性填充气体：Xe，Kr，Ar窗口材质：LiF，MgF2，Al2O3驱动方式：DC直流，RF射频光离子化强度：9.6 eV，10.0 eV，10.6 eV，11.8 eV高纯度气体以保证更长寿命高纯度窗口材料以保证更佳的光谱透过率工作原理将PID灯发射的真空紫外光束射入测试腔，当被测有机挥发性气体进入测试腔时，受到紫外光的轰击而发生电离，分裂成带正负电性的两个基团。在测试腔的两边装有一对施加了适当工作电压的电极，受到电极电压的吸引，带电基团分别趋向相应电极而形成正比于VOC浓度的电流。通过测量该电流大小，确定VOC浓度。分裂的基团经过电极后重新复合离开真空腔。应用气相色谱仪（GC）质谱仪（MS）大气和土壤的监测报警器顶室测试气体泄漏监测危险区域中的人员安全DC直流激发PID灯用于设计制造台式高稳定性仪器灯型号PAL 118填充气体Ar起辉电压（V）1500光离子强度（eV）11.8工作电流（mA）0.2 – 2起辉时间（ms）1 – 2长度×直径（mm）53.5×35产品优势为了达到无与伦比的光强、灵敏度和寿命表现，贺利氏使用高质量的原材料并精准地控制加工工艺。吸气剂灯体内部的金属块或金属环用来吸收透过灯体玻璃进入的杂质气体。一些厂家的吸气剂仅能在灯生产时有效，而一些厂家甚至不适用吸气剂；这会导致PID灯使用过程中光谱纯度退化。虽然这不会干扰监测VOCs的VUV谱线，但是会降低VUV谱线的能量，从而导致灵敏度和寿命的降低。贺利氏专利设计的吸气剂可以在整个工作寿命中发挥作用以保证高纯度的输出光谱。光窗材质许多厂家使用天然晶体来加工光窗，但是这些天然晶体中含有一些杂质。这回导致输出光谱发出不规则反射而降低输出强度，从而减少工作寿命。贺利氏采用高纯单晶MgF2，并切割成平面以保证最大透过率。窗口封接和加工工艺贺利氏选择了最佳的窗口封接原料且在真空下严密贴合以防止外部气体进入污染光谱。灯体的封接加工工艺也非常重要，保证了不同灯内充气气压相同，从而达到高度重现性。请联系我们为您的仪器应用安排优化的定制设计！

产品分类：吉致碳化硅研磨抛光半导体晶圆抛光产品名称：碳化硅研磨液/碳化硅抛光液/碳化硅sic研磨垫/sic精抛垫产品特点：吉致针对碳化硅sic抛光的4道工艺制程搭配不同型号研磨液、抛光液和抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）。在研磨和抛光应用中提高碳化硅衬底表面质量，同时大大提高材料去除率。产品工艺及用途：适用于sic碳化硅衬底DMP和CMP工艺制程，有效提升效率以及良率，碳化硅抛光液/抛光垫实现国产化替代。吉致sic碳化硅抛光液储存方法：通风，阴凉，干燥的库房，本品需在5-35℃储存，防止阳光直射，零度以下因产生不可再分散结块而失效。吉致cmp抛光液/slurry抛光液价格：吉致的cmp金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致抛光液品质可以替代进口同类产品。本土化生产的优势使吉致cmp抛光液产品交货周期快，抛光液价格实惠亲民。吉致cmp抛光耗材适用范围吉致拥有成熟的加工工艺和生产设备，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效的抛光解决方案！

光离子化灯PID Lamp简介光离子化灯常用于气相色谱学（GC），痕量气体监测以及在质谱分析中对样品进行电离。PID技术使用的灯带有真空紫外（VUV）区域内的一致光子能量。当气态分子电离能低于光子发出的能量时，分子可被离子化。光离子化灯常用于测量浓度为ppm到ppb级的挥发性有机物（VOCs）和其他气体。贺利氏提供完整系列的光离子化灯，它们在强度光谱纯度和寿命上都达到最高标准。贺利氏光离子化灯包括不同填充气体和窗口材料，采用直流（DC）和射频（RF）两种激发方式。贺利氏技术团队拥有专业设计力量，通过和OEM仪器生产商合作，可以按照客户在外形和功率方面的特定要求进行设计和生产。特性填充气体：Xe，Kr，Ar窗口材质：LiF，MgF2，Al2O3驱动方式：DC直流，RF射频光离子化强度：9.6 eV，10.0 eV，10.6 eV，11.8 eV高纯度气体以保证更长寿命高纯度窗口材料以保证更佳的光谱透过率工作原理将PID灯发射的真空紫外光束射入测试腔，当被测有机挥发性气体进入测试腔时，受到紫外光的轰击而发生电离，分裂成带正负电性的两个基团。在测试腔的两边装有一对施加了适当工作电压的电极，受到电极电压的吸引，带电基团分别趋向相应电极而形成正比于VOC浓度的电流。通过测量该电流大小，确定VOC浓度。分裂的基团经过电极后重新复合离开真空腔。应用气相色谱仪（GC）质谱仪（MS）大气和土壤的监测报警器顶室测试气体泄漏监测危险区域中的人员安全DC直流激发PID灯用于设计制造台式高稳定性仪器灯型号PKS 106填充气体Kr起辉电压（V）1500光离子强度（eV）10.6工作电流（mA）0.2 – 2起辉时间（ms）1 – 2长度×直径（mm）53.5×19.6产品优势为了达到无与伦比的光强、灵敏度和寿命表现，贺利氏使用高质量的原材料并精准地控制加工工艺。吸气剂灯体内部的金属块或金属环用来吸收透过灯体玻璃进入的杂质气体。一些厂家的吸气剂仅能在灯生产时有效，而一些厂家甚至不适用吸气剂；这会导致PID灯使用过程中光谱纯度退化。虽然这不会干扰监测VOCs的VUV谱线，但是会降低VUV谱线的能量，从而导致灵敏度和寿命的降低。贺利氏专利设计的吸气剂可以在整个工作寿命中发挥作用以保证高纯度的输出光谱。光窗材质许多厂家使用天然晶体来加工光窗，但是这些天然晶体中含有一些杂质。这回导致输出光谱发出不规则反射而降低输出强度，从而减少工作寿命。贺利氏采用高纯单晶MgF2，并切割成平面以保证最大透过率。窗口封接和加工工艺贺利氏选择了最佳的窗口封接原料且在真空下严密贴合以防止外部气体进入污染光谱。灯体的封接加工工艺也非常重要，保证了不同灯内充气气压相同，从而达到高度重现性。请联系我们为您的仪器应用安排优化的定制设计！

光离子化灯PID Lamp简介光离子化灯常用于气相色谱学（GC），痕量气体监测以及在质谱分析中对样品进行电离。PID技术使用的灯带有真空紫外（VUV）区域内的一致光子能量。当气态分子电离能低于光子发出的能量时，分子可被离子化。光离子化灯常用于测量浓度为ppm到ppb级的挥发性有机物（VOCs）和其他气体。贺利氏提供完整系列的光离子化灯，它们在强度光谱纯度和寿命上都达到最高标准。贺利氏光离子化灯包括不同填充气体和窗口材料，采用直流（DC）和射频（RF）两种激发方式。贺利氏技术团队拥有专业设计力量，通过和OEM仪器生产商合作，可以按照客户在外形和功率方面的特定要求进行设计和生产。特性填充气体：Xe，Kr，Ar窗口材质：LiF，MgF2，Al2O3驱动方式：DC直流，RF射频光离子化强度：9.6 eV，10.0 eV，10.6 eV，11.8 eV高纯度气体以保证更长寿命高纯度窗口材料以保证更佳的光谱透过率工作原理将PID灯发射的真空紫外光束射入测试腔，当被测有机挥发性气体进入测试腔时，受到紫外光的轰击而发生电离，分裂成带正负电性的两个基团。在测试腔的两边装有一对施加了适当工作电压的电极，受到电极电压的吸引，带电基团分别趋向相应电极而形成正比于VOC浓度的电流。通过测量该电流大小，确定VOC浓度。分裂的基团经过电极后重新复合离开真空腔。应用气相色谱仪（GC）质谱仪（MS）大气和土壤的监测报警器顶室测试气体泄漏监测危险区域中的人员安全RF射频激发PID灯型号用于设计制造小型化或手持式仪器灯型号PKR 106填充气体Kr光离子强度（eV）10.6工作电流（mA）80 - 150起辉时间（ms）100长度×直径（mm）53×12.7产品优势为了达到无与伦比的光强、灵敏度和寿命表现，贺利氏使用高质量的原材料并精准地控制加工工艺。吸气剂灯体内部的金属块或金属环用来吸收透过灯体玻璃进入的杂质气体。一些厂家的吸气剂仅能在灯生产时有效，而一些厂家甚至不适用吸气剂；这会导致PID灯使用过程中光谱纯度退化。虽然这不会干扰监测VOCs的VUV谱线，但是会降低VUV谱线的能量，从而导致灵敏度和寿命的降低。贺利氏专利设计的吸气剂可以在整个工作寿命中发挥作用以保证高纯度的输出光谱。光窗材质许多厂家使用天然晶体来加工光窗，但是这些天然晶体中含有一些杂质。这回导致输出光谱发出不规则反射而降低输出强度，从而减少工作寿命。贺利氏采用高纯单晶MgF2，并切割成平面以保证最大透过率。窗口封接和加工工艺贺利氏选择了最佳的窗口封接原料且在真空下严密贴合以防止外部气体进入污染光谱。灯体的封接加工工艺也非常重要，保证了不同灯内充气气压相同，从而达到高度重现性。请联系我们为您的仪器应用安排优化的定制设计！

光离子化灯PID Lamp简介光离子化灯常用于气相色谱学（GC），痕量气体监测以及在质谱分析中对样品进行电离。PID技术使用的灯带有真空紫外（VUV）区域内的一致光子能量。当气态分子电离能低于光子发出的能量时，分子可被离子化。光离子化灯常用于测量浓度为ppm到ppb级的挥发性有机物（VOCs）和其他气体。贺利氏提供完整系列的光离子化灯，它们在强度光谱纯度和寿命上都达到最高标准。贺利氏光离子化灯包括不同填充气体和窗口材料，采用直流（DC）和射频（RF）两种激发方式。贺利氏技术团队拥有专业设计力量，通过和OEM仪器生产商合作，可以按照客户在外形和功率方面的特定要求进行设计和生产。特性填充气体：Xe，Kr，Ar窗口材质：LiF，MgF2，Al2O3驱动方式：DC直流，RF射频光离子化强度：9.6 eV，10.0 eV，10.6 eV，11.8 eV高纯度气体以保证更长寿命高纯度窗口材料以保证更佳的光谱透过率工作原理将PID灯发射的真空紫外光束射入测试腔，当被测有机挥发性气体进入测试腔时，受到紫外光的轰击而发生电离，分裂成带正负电性的两个基团。在测试腔的两边装有一对施加了适当工作电压的电极，受到电极电压的吸引，带电基团分别趋向相应电极而形成正比于VOC浓度的电流。通过测量该电流大小，确定VOC浓度。分裂的基团经过电极后重新复合离开真空腔。应用气相色谱仪（GC）质谱仪（MS）大气和土壤的监测报警器顶室测试气体泄漏监测危险区域中的人员安全RF射频激发PID灯型号用于设计制造小型化或手持式仪器灯型号PXR 096填充气体Xe光离子强度（eV）9.6工作电流（mA）80 - 150起辉时间（ms）100长度×直径（mm）53×12.7产品优势为了达到无与伦比的光强、灵敏度和寿命表现，贺利氏使用高质量的原材料并精准地控制加工工艺。吸气剂灯体内部的金属块或金属环用来吸收透过灯体玻璃进入的杂质气体。一些厂家的吸气剂仅能在灯生产时有效，而一些厂家甚至不适用吸气剂；这会导致PID灯使用过程中光谱纯度退化。虽然这不会干扰监测VOCs的VUV谱线，但是会降低VUV谱线的能量，从而导致灵敏度和寿命的降低。贺利氏专利设计的吸气剂可以在整个工作寿命中发挥作用以保证高纯度的输出光谱。光窗材质许多厂家使用天然晶体来加工光窗，但是这些天然晶体中含有一些杂质。这回导致输出光谱发出不规则反射而降低输出强度，从而减少工作寿命。贺利氏采用高纯单晶MgF2，并切割成平面以保证最大透过率。窗口封接和加工工艺贺利氏选择了最佳的窗口封接原料且在真空下严密贴合以防止外部气体进入污染光谱。灯体的封接加工工艺也非常重要，保证了不同灯内充气气压相同，从而达到高度重现性。请联系我们为您的仪器应用安排优化的定制设计！

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光离子化灯PID Lamp简介光离子化灯常用于气相色谱学（GC），痕量气体监测以及在质谱分析中对样品进行电离。PID技术使用的灯带有真空紫外（VUV）区域内的一致光子能量。当气态分子电离能低于光子发出的能量时，分子可被离子化。光离子化灯常用于测量浓度为ppm到ppb级的挥发性有机物（VOCs）和其他气体。贺利氏提供完整系列的光离子化灯，它们在强度光谱纯度和寿命上都达到最高标准。贺利氏光离子化灯包括不同填充气体和窗口材料，采用直流（DC）和射频（RF）两种激发方式。贺利氏技术团队拥有专业设计力量，通过和OEM仪器生产商合作，可以按照客户在外形和功率方面的特定要求进行设计和生产。特性填充气体：Xe，Kr，Ar窗口材质：LiF，MgF2，Al2O3驱动方式：DC直流，RF射频光离子化强度：9.6 eV，10.0 eV，10.6 eV，11.8 eV高纯度气体以保证更长寿命高纯度窗口材料以保证更佳的光谱透过率工作原理将PID灯发射的真空紫外光束射入测试腔，当被测有机挥发性气体进入测试腔时，受到紫外光的轰击而发生电离，分裂成带正负电性的两个基团。在测试腔的两边装有一对施加了适当工作电压的电极，受到电极电压的吸引，带电基团分别趋向相应电极而形成正比于VOC浓度的电流。通过测量该电流大小，确定VOC浓度。分裂的基团经过电极后重新复合离开真空腔。应用气相色谱仪（GC）质谱仪（MS）大气和土壤的监测报警器顶室测试气体泄漏监测危险区域中的人员安全DC直流激发PID灯用于设计制造台式高稳定性仪器灯型号PKS 100填充气体Kr起辉电压（V）1500光离子强度（eV）10.0工作电流（mA）0.2 – 2起辉时间（ms）1 – 2长度×直径（mm）53.5×19.6产品优势为了达到无与伦比的光强、灵敏度和寿命表现，贺利氏使用高质量的原材料并精准地控制加工工艺。吸气剂灯体内部的金属块或金属环用来吸收透过灯体玻璃进入的杂质气体。一些厂家的吸气剂仅能在灯生产时有效，而一些厂家甚至不适用吸气剂；这会导致PID灯使用过程中光谱纯度退化。虽然这不会干扰监测VOCs的VUV谱线，但是会降低VUV谱线的能量，从而导致灵敏度和寿命的降低。贺利氏专利设计的吸气剂可以在整个工作寿命中发挥作用以保证高纯度的输出光谱。光窗材质许多厂家使用天然晶体来加工光窗，但是这些天然晶体中含有一些杂质。这回导致输出光谱发出不规则反射而降低输出强度，从而减少工作寿命。贺利氏采用高纯单晶MgF2，并切割成平面以保证最大透过率。窗口封接和加工工艺贺利氏选择了最佳的窗口封接原料且在真空下严密贴合以防止外部气体进入污染光谱。灯体的封接加工工艺也非常重要，保证了不同灯内充气气压相同，从而达到高度重现性。请联系我们为您的仪器应用安排优化的定制设计！

光离子化灯PID Lamp简介光离子化灯常用于气相色谱学（GC），痕量气体监测以及在质谱分析中对样品进行电离。PID技术使用的灯带有真空紫外（VUV）区域内的一致光子能量。当气态分子电离能低于光子发出的能量时，分子可被离子化。光离子化灯常用于测量浓度为ppm到ppb级的挥发性有机物（VOCs）和其他气体。贺利氏提供完整系列的光离子化灯，它们在强度光谱纯度和寿命上都达到最高标准。贺利氏光离子化灯包括不同填充气体和窗口材料，采用直流（DC）和射频（RF）两种激发方式。贺利氏技术团队拥有专业设计力量，通过和OEM仪器生产商合作，可以按照客户在外形和功率方面的特定要求进行设计和生产。特性填充气体：Xe，Kr，Ar窗口材质：LiF，MgF2，Al2O3驱动方式：DC直流，RF射频光离子化强度：9.6 eV，10.0 eV，10.6 eV，11.8 eV高纯度气体以保证更长寿命高纯度窗口材料以保证更佳的光谱透过率工作原理将PID灯发射的真空紫外光束射入测试腔，当被测有机挥发性气体进入测试腔时，受到紫外光的轰击而发生电离，分裂成带正负电性的两个基团。在测试腔的两边装有一对施加了适当工作电压的电极，受到电极电压的吸引，带电基团分别趋向相应电极而形成正比于VOC浓度的电流。通过测量该电流大小，确定VOC浓度。分裂的基团经过电极后重新复合离开真空腔。应用气相色谱仪（GC）质谱仪（MS）大气和土壤的监测报警器顶室测试气体泄漏监测危险区域中的人员安全RF射频激发PID灯型号用于设计制造小型化或手持式仪器灯型号PAR 118填充气体Ar光离子强度（eV）11.8工作电流（mA）80 - 150起辉时间（ms）100长度×直径（mm）53×12.7产品优势为了达到无与伦比的光强、灵敏度和寿命表现，贺利氏使用高质量的原材料并精准地控制加工工艺。吸气剂灯体内部的金属块或金属环用来吸收透过灯体玻璃进入的杂质气体。一些厂家的吸气剂仅能在灯生产时有效，而一些厂家甚至不适用吸气剂；这会导致PID灯使用过程中光谱纯度退化。虽然这不会干扰监测VOCs的VUV谱线，但是会降低VUV谱线的能量，从而导致灵敏度和寿命的降低。贺利氏专利设计的吸气剂可以在整个工作寿命中发挥作用以保证高纯度的输出光谱。光窗材质许多厂家使用天然晶体来加工光窗，但是这些天然晶体中含有一些杂质。这回导致输出光谱发出不规则反射而降低输出强度，从而减少工作寿命。贺利氏采用高纯单晶MgF2，并切割成平面以保证最大透过率。窗口封接和加工工艺贺利氏选择了最佳的窗口封接原料且在真空下严密贴合以防止外部气体进入污染光谱。灯体的封接加工工艺也非常重要，保证了不同灯内充气气压相同，从而达到高度重现性。请联系我们为您的仪器应用安排优化的定制设计！

光离子化灯PID Lamp简介光离子化灯常用于气相色谱学（GC），痕量气体监测以及在质谱分析中对样品进行电离。PID技术使用的灯带有真空紫外（VUV）区域内的一致光子能量。当气态分子电离能低于光子发出的能量时，分子可被离子化。光离子化灯常用于测量浓度为ppm到ppb级的挥发性有机物（VOCs）和其他气体。贺利氏提供完整系列的光离子化灯，它们在强度光谱纯度和寿命上都达到最高标准。贺利氏光离子化灯包括不同填充气体和窗口材料，采用直流（DC）和射频（RF）两种激发方式。贺利氏技术团队拥有专业设计力量，通过和OEM仪器生产商合作，可以按照客户在外形和功率方面的特定要求进行设计和生产。特性填充气体：Xe，Kr，Ar窗口材质：LiF，MgF2，Al2O3驱动方式：DC直流，RF射频光离子化强度：9.6 eV，10.0 eV，10.6 eV，11.8 eV高纯度气体以保证更长寿命高纯度窗口材料以保证更佳的光谱透过率工作原理将PID灯发射的真空紫外光束射入测试腔，当被测有机挥发性气体进入测试腔时，受到紫外光的轰击而发生电离，分裂成带正负电性的两个基团。在测试腔的两边装有一对施加了适当工作电压的电极，受到电极电压的吸引，带电基团分别趋向相应电极而形成正比于VOC浓度的电流。通过测量该电流大小，确定VOC浓度。分裂的基团经过电极后重新复合离开真空腔。应用气相色谱仪（GC）质谱仪（MS）大气和土壤的监测报警器顶室测试气体泄漏监测危险区域中的人员安全DC直流激发PID灯用于设计制造台式高稳定性仪器灯型号PAS 118填充气体Ar起辉电压（V）1500光离子强度（eV）11.8工作电流（mA）0.2 – 2起辉时间（ms）1 – 2长度×直径（mm）53.5×19.6产品优势为了达到无与伦比的光强、灵敏度和寿命表现，贺利氏使用高质量的原材料并精准地控制加工工艺。吸气剂灯体内部的金属块或金属环用来吸收透过灯体玻璃进入的杂质气体。一些厂家的吸气剂仅能在灯生产时有效，而一些厂家甚至不适用吸气剂；这会导致PID灯使用过程中光谱纯度退化。虽然这不会干扰监测VOCs的VUV谱线，但是会降低VUV谱线的能量，从而导致灵敏度和寿命的降低。贺利氏专利设计的吸气剂可以在整个工作寿命中发挥作用以保证高纯度的输出光谱。光窗材质许多厂家使用天然晶体来加工光窗，但是这些天然晶体中含有一些杂质。这回导致输出光谱发出不规则反射而降低输出强度，从而减少工作寿命。贺利氏采用高纯单晶MgF2，并切割成平面以保证最大透过率。窗口封接和加工工艺贺利氏选择了最佳的窗口封接原料且在真空下严密贴合以防止外部气体进入污染光谱。灯体的封接加工工艺也非常重要，保证了不同灯内充气气压相同，从而达到高度重现性。请联系我们为您的仪器应用安排优化的定制设计！

GC/MS 仪器备件部件号 :G7005-60072灯丝，化学电离 (CI)，用于 Agilent 7200、7000C、7000A/B、5977、5975/73 MSD，2/包化学电离(CI)源因为CI源的操作压力远比EI源高，故与EI相比，需要更经常地清洗。只要出现与离子源污染相关的性能异常就应该清洗离子源。将分析性能作为您的指示。当清洗CI源时，要特别注意CI推斥极、离子源体和拉出极板。确保清洗离子源体和拉出极板上的0.5 mm直径的孔。清洗该离子源的方法非常类似于清洗EI离子源的方法。采用EI的清洗操作步骤，以下内容除外：• CI离子源可能看起来不脏，但是，化学电离留下的沉积物非常难以除去。彻底清洗CI离子源• 使用圆形木质牙签轻轻擦拭离子源体上的电子入口孔和拉出极板上的离子出口孔• 不能使用卤代溶剂。最后一步清洗要使用己烷5977/5975/5973/7000MSD化学电离源部件(CI)项目说明部件号1透境组配套螺丝G1999-200222螺帽，镀金G1999-200213接口端密封件/弹簧G1999-604124推斥极绝缘体G1999-204335透镜绝缘体G3170-205406拉出极柱体G1999-204447拉出极板G1999-2044685977CI350推斥极组件G3170-604169入口透镜组件G3170-2012610离子源体G1999-2043011离子聚焦透镜G1999-2044312推斥极G1999-2043213灯丝组件（CI），2/包G7005-6007214垫圈，SPRCRVD，内径1.6至1.8mm，外径4mm，不锈钢3050-1375

光离子化灯PID Lamp简介光离子化灯常用于气相色谱学（GC），痕量气体监测以及在质谱分析中对样品进行电离。PID技术使用的灯带有真空紫外（VUV）区域内的一致光子能量。当气态分子电离能低于光子发出的能量时，分子可被离子化。光离子化灯常用于测量浓度为ppm到ppb级的挥发性有机物（VOCs）和其他气体。贺利氏提供完整系列的光离子化灯，它们在强度光谱纯度和寿命上都达到最高标准。贺利氏光离子化灯包括不同填充气体和窗口材料，采用直流（DC）和射频（RF）两种激发方式。贺利氏技术团队拥有专业设计力量，通过和OEM仪器生产商合作，可以按照客户在外形和功率方面的特定要求进行设计和生产。特性填充气体：Xe，Kr，Ar窗口材质：LiF，MgF2，Al2O3驱动方式：DC直流，RF射频光离子化强度：9.6 eV，10.0 eV，10.6 eV，11.8 eV高纯度气体以保证更长寿命高纯度窗口材料以保证更佳的光谱透过率工作原理将PID灯发射的真空紫外光束射入测试腔，当被测有机挥发性气体进入测试腔时，受到紫外光的轰击而发生电离，分裂成带正负电性的两个基团。在测试腔的两边装有一对施加了适当工作电压的电极，受到电极电压的吸引，带电基团分别趋向相应电极而形成正比于VOC浓度的电流。通过测量该电流大小，确定VOC浓度。分裂的基团经过电极后重新复合离开真空腔。应用气相色谱仪（GC）质谱仪（MS）大气和土壤的监测报警器顶室测试气体泄漏监测危险区域中的人员安全DC直流激发PID灯用于设计制造台式高稳定性仪器灯型号PXL 084填充气体Xe起辉电压（V）1500光离子强度（eV）8.4工作电流（mA）0.2 – 2起辉时间（ms）1 – 2长度×直径（mm）53.5×35产品优势为了达到无与伦比的光强、灵敏度和寿命表现，贺利氏使用高质量的原材料并精准地控制加工工艺。吸气剂灯体内部的金属块或金属环用来吸收透过灯体玻璃进入的杂质气体。一些厂家的吸气剂仅能在灯生产时有效，而一些厂家甚至不适用吸气剂；这会导致PID灯使用过程中光谱纯度退化。虽然这不会干扰监测VOCs的VUV谱线，但是会降低VUV谱线的能量，从而导致灵敏度和寿命的降低。贺利氏专利设计的吸气剂可以在整个工作寿命中发挥作用以保证高纯度的输出光谱。光窗材质许多厂家使用天然晶体来加工光窗，但是这些天然晶体中含有一些杂质。这回导致输出光谱发出不规则反射而降低输出强度，从而减少工作寿命。贺利氏采用高纯单晶MgF2，并切割成平面以保证最大透过率。窗口封接和加工工艺贺利氏选择了最佳的窗口封接原料且在真空下严密贴合以防止外部气体进入污染光谱。灯体的封接加工工艺也非常重要，保证了不同灯内充气气压相同，从而达到高度重现性。请联系我们为您的仪器应用安排优化的定制设计！

光离子化灯PID Lamp简介光离子化灯常用于气相色谱学（GC），痕量气体监测以及在质谱分析中对样品进行电离。PID技术使用的灯带有真空紫外（VUV）区域内的一致光子能量。当气态分子电离能低于光子发出的能量时，分子可被离子化。光离子化灯常用于测量浓度为ppm到ppb级的挥发性有机物（VOCs）和其他气体。贺利氏提供完整系列的光离子化灯，它们在强度光谱纯度和寿命上都达到最高标准。贺利氏光离子化灯包括不同填充气体和窗口材料，采用直流（DC）和射频（RF）两种激发方式。贺利氏技术团队拥有专业设计力量，通过和OEM仪器生产商合作，可以按照客户在外形和功率方面的特定要求进行设计和生产。特性填充气体：Xe，Kr，Ar窗口材质：LiF，MgF2，Al2O3驱动方式：DC直流，RF射频光离子化强度：9.6 eV，10.0 eV，10.6 eV，11.8 eV高纯度气体以保证更长寿命高纯度窗口材料以保证更佳的光谱透过率工作原理将PID灯发射的真空紫外光束射入测试腔，当被测有机挥发性气体进入测试腔时，受到紫外光的轰击而发生电离，分裂成带正负电性的两个基团。在测试腔的两边装有一对施加了适当工作电压的电极，受到电极电压的吸引，带电基团分别趋向相应电极而形成正比于VOC浓度的电流。通过测量该电流大小，确定VOC浓度。分裂的基团经过电极后重新复合离开真空腔。应用气相色谱仪（GC）质谱仪（MS）大气和土壤的监测报警器顶室测试气体泄漏监测危险区域中的人员安全RF射频激发PID灯型号用于设计制造小型化或手持式仪器灯型号PKR 100填充气体Kr光离子强度（eV）10工作电流（mA）80 - 150起辉时间（ms）100长度×直径（mm）53×12.7产品优势为了达到无与伦比的光强、灵敏度和寿命表现，贺利氏使用高质量的原材料并精准地控制加工工艺。吸气剂灯体内部的金属块或金属环用来吸收透过灯体玻璃进入的杂质气体。一些厂家的吸气剂仅能在灯生产时有效，而一些厂家甚至不适用吸气剂；这会导致PID灯使用过程中光谱纯度退化。虽然这不会干扰监测VOCs的VUV谱线，但是会降低VUV谱线的能量，从而导致灵敏度和寿命的降低。贺利氏专利设计的吸气剂可以在整个工作寿命中发挥作用以保证高纯度的输出光谱。光窗材质许多厂家使用天然晶体来加工光窗，但是这些天然晶体中含有一些杂质。这回导致输出光谱发出不规则反射而降低输出强度，从而减少工作寿命。贺利氏采用高纯单晶MgF2，并切割成平面以保证最大透过率。窗口封接和加工工艺贺利氏选择了最佳的窗口封接原料且在真空下严密贴合以防止外部气体进入污染光谱。灯体的封接加工工艺也非常重要，保证了不同灯内充气气压相同，从而达到高度重现性。请联系我们为您的仪器应用安排优化的定制设计！

光离子化灯PID Lamp简介光离子化灯常用于气相色谱学（GC），痕量气体监测以及在质谱分析中对样品进行电离。PID技术使用的灯带有真空紫外（VUV）区域内的一致光子能量。当气态分子电离能低于光子发出的能量时，分子可被离子化。光离子化灯常用于测量浓度为ppm到ppb级的挥发性有机物（VOCs）和其他气体。贺利氏提供完整系列的光离子化灯，它们在强度光谱纯度和寿命上都达到最高标准。贺利氏光离子化灯包括不同填充气体和窗口材料，采用直流（DC）和射频（RF）两种激发方式。贺利氏技术团队拥有专业设计力量，通过和OEM仪器生产商合作，可以按照客户在外形和功率方面的特定要求进行设计和生产。特性填充气体：Xe，Kr，Ar窗口材质：LiF，MgF2，Al2O3驱动方式：DC直流，RF射频光离子化强度：9.6 eV，10.0 eV，10.6 eV，11.8 eV高纯度气体以保证更长寿命高纯度窗口材料以保证更佳的光谱透过率工作原理将PID灯发射的真空紫外光束射入测试腔，当被测有机挥发性气体进入测试腔时，受到紫外光的轰击而发生电离，分裂成带正负电性的两个基团。在测试腔的两边装有一对施加了适当工作电压的电极，受到电极电压的吸引，带电基团分别趋向相应电极而形成正比于VOC浓度的电流。通过测量该电流大小，确定VOC浓度。分裂的基团经过电极后重新复合离开真空腔。应用气相色谱仪（GC）质谱仪（MS）大气和土壤的监测报警器顶室测试气体泄漏监测危险区域中的人员安全DC直流激发PID灯用于设计制造台式高稳定性仪器灯型号PXS 096填充气体Xe起辉电压（V）1500光离子强度（eV）9.6工作电流（mA）0.2 - 2起辉时间（ms）1 – 2长度×直径（mm）53.5×19.6产品优势为了达到无与伦比的光强、灵敏度和寿命表现，贺利氏使用高质量的原材料并精准地控制加工工艺。吸气剂灯体内部的金属块或金属环用来吸收透过灯体玻璃进入的杂质气体。一些厂家的吸气剂仅能在灯生产时有效，而一些厂家甚至不适用吸气剂；这会导致PID灯使用过程中光谱纯度退化。虽然这不会干扰监测VOCs的VUV谱线，但是会降低VUV谱线的能量，从而导致灵敏度和寿命的降低。贺利氏专利设计的吸气剂可以在整个工作寿命中发挥作用以保证高纯度的输出光谱。光窗材质许多厂家使用天然晶体来加工光窗，但是这些天然晶体中含有一些杂质。这回导致输出光谱发出不规则反射而降低输出强度，从而减少工作寿命。贺利氏采用高纯单晶MgF2，并切割成平面以保证最大透过率。窗口封接和加工工艺贺利氏选择了最佳的窗口封接原料且在真空下严密贴合以防止外部气体进入污染光谱。灯体的封接加工工艺也非常重要，保证了不同灯内充气气压相同，从而达到高度重现性。请联系我们为您的仪器应用安排优化的定制设计！

光离子化灯PID Lamp简介光离子化灯常用于气相色谱学（GC），痕量气体监测以及在质谱分析中对样品进行电离。PID技术使用的灯带有真空紫外（VUV）区域内的一致光子能量。当气态分子电离能低于光子发出的能量时，分子可被离子化。光离子化灯常用于测量浓度为ppm到ppb级的挥发性有机物（VOCs）和其他气体。贺利氏提供完整系列的光离子化灯，它们在强度光谱纯度和寿命上都达到最高标准。贺利氏光离子化灯包括不同填充气体和窗口材料，采用直流（DC）和射频（RF）两种激发方式。贺利氏技术团队拥有专业设计力量，通过和OEM仪器生产商合作，可以按照客户在外形和功率方面的特定要求进行设计和生产。特性填充气体：Xe，Kr，Ar窗口材质：LiF，MgF2，Al2O3驱动方式：DC直流，RF射频光离子化强度：9.6 eV，10.0 eV，10.6 eV，11.8 eV高纯度气体以保证更长寿命高纯度窗口材料以保证更佳的光谱透过率工作原理将PID灯发射的真空紫外光束射入测试腔，当被测有机挥发性气体进入测试腔时，受到紫外光的轰击而发生电离，分裂成带正负电性的两个基团。在测试腔的两边装有一对施加了适当工作电压的电极，受到电极电压的吸引，带电基团分别趋向相应电极而形成正比于VOC浓度的电流。通过测量该电流大小，确定VOC浓度。分裂的基团经过电极后重新复合离开真空腔。应用气相色谱仪（GC）质谱仪（MS）大气和土壤的监测报警器顶室测试气体泄漏监测危险区域中的人员安全RF射频激发PID灯型号用于设计制造小型化或手持式仪器灯型号PKR106-6-14填充气体Kr光离子强度（eV）10.6工作电流（mA）n/a起辉时间（ms）n/a长度×直径（mm）14×6产品优势为了达到无与伦比的光强、灵敏度和寿命表现，贺利氏使用高质量的原材料并精准地控制加工工艺。吸气剂灯体内部的金属块或金属环用来吸收透过灯体玻璃进入的杂质气体。一些厂家的吸气剂仅能在灯生产时有效，而一些厂家甚至不适用吸气剂；这会导致PID灯使用过程中光谱纯度退化。虽然这不会干扰监测VOCs的VUV谱线，但是会降低VUV谱线的能量，从而导致灵敏度和寿命的降低。贺利氏专利设计的吸气剂可以在整个工作寿命中发挥作用以保证高纯度的输出光谱。光窗材质许多厂家使用天然晶体来加工光窗，但是这些天然晶体中含有一些杂质。这回导致输出光谱发出不规则反射而降低输出强度，从而减少工作寿命。贺利氏采用高纯单晶MgF2，并切割成平面以保证最大透过率。窗口封接和加工工艺贺利氏选择了最佳的窗口封接原料且在真空下严密贴合以防止外部气体进入污染光谱。灯体的封接加工工艺也非常重要，保证了不同灯内充气气压相同，从而达到高度重现性。请联系我们为您的仪器应用安排优化的定制设计！

光离子化灯PID Lamp简介光离子化灯常用于气相色谱学（GC），痕量气体监测以及在质谱分析中对样品进行电离。PID技术使用的灯带有真空紫外（VUV）区域内的一致光子能量。当气态分子电离能低于光子发出的能量时，分子可被离子化。光离子化灯常用于测量浓度为ppm到ppb级的挥发性有机物（VOCs）和其他气体。贺利氏提供完整系列的光离子化灯，它们在强度光谱纯度和寿命上都达到最高标准。贺利氏光离子化灯包括不同填充气体和窗口材料，采用直流（DC）和射频（RF）两种激发方式。贺利氏技术团队拥有专业设计力量，通过和OEM仪器生产商合作，可以按照客户在外形和功率方面的特定要求进行设计和生产。特性填充气体：Xe，Kr，Ar窗口材质：LiF，MgF2，Al2O3驱动方式：DC直流，RF射频光离子化强度：9.6 eV，10.0 eV，10.6 eV，11.8 eV高纯度气体以保证更长寿命高纯度窗口材料以保证更佳的光谱透过率工作原理将PID灯发射的真空紫外光束射入测试腔，当被测有机挥发性气体进入测试腔时，受到紫外光的轰击而发生电离，分裂成带正负电性的两个基团。在测试腔的两边装有一对施加了适当工作电压的电极，受到电极电压的吸引，带电基团分别趋向相应电极而形成正比于VOC浓度的电流。通过测量该电流大小，确定VOC浓度。分裂的基团经过电极后重新复合离开真空腔。应用气相色谱仪（GC）质谱仪（MS）大气和土壤的监测报警器顶室测试气体泄漏监测危险区域中的人员安全RF射频激发PID灯型号用于设计制造小型化或手持式仪器灯型号PKR106-6填充气体Kr光离子强度（eV）10.6工作电流（mA）n/a起辉时间（ms）n/a长度×直径（mm）30×6产品优势为了达到无与伦比的光强、灵敏度和寿命表现，贺利氏使用高质量的原材料并精准地控制加工工艺。吸气剂灯体内部的金属块或金属环用来吸收透过灯体玻璃进入的杂质气体。一些厂家的吸气剂仅能在灯生产时有效，而一些厂家甚至不适用吸气剂；这会导致PID灯使用过程中光谱纯度退化。虽然这不会干扰监测VOCs的VUV谱线，但是会降低VUV谱线的能量，从而导致灵敏度和寿命的降低。贺利氏专利设计的吸气剂可以在整个工作寿命中发挥作用以保证高纯度的输出光谱。光窗材质许多厂家使用天然晶体来加工光窗，但是这些天然晶体中含有一些杂质。这回导致输出光谱发出不规则反射而降低输出强度，从而减少工作寿命。贺利氏采用高纯单晶MgF2，并切割成平面以保证最大透过率。窗口封接和加工工艺贺利氏选择了最佳的窗口封接原料且在真空下严密贴合以防止外部气体进入污染光谱。灯体的封接加工工艺也非常重要，保证了不同灯内充气气压相同，从而达到高度重现性。请联系我们为您的仪器应用安排优化的定制设计！

Thermo赛默飞光谱配件氘灯942342020004Thermo赛默飞光谱配件942342020004氘灯参数赛默飞Thermo原子吸收光谱仪ICP用配件:942342030004氘灯842312051401进样系统o型圈套件842312051971 2.0mm EMT中心管842312051841 emt duo torchemt双向炬管M系列D2灯842312051311有机喷雾室942339395041 ELC石墨管10pcs/pk长寿命石墨管942339395031未编码石墨管普通石墨管10支装942339395071涂覆石墨管涂层石墨管10支装4600290辅助气体调节器气体模块控制包842315550171 icp用炬管座842312051141 (icap) tup型垂直炬管842312051151 雾化室转接头-直842312051241郁金香双向炬管842312051251 转接头-弯842312051311 icap有机雾化室842312051321 v形槽雾化器842312051331 高盐雾化器842312051341 tup型1.0mm中心管842312051351 Tup型1.5mm中心管842312051371 tup型2.0mm中心管842312051401 o型圈套件842312051411 iCAP6000雾化室842312051431 iCAP6000普通雾化器842312051451雾化室(hf)842312051461/842312051471耐hf酸雾化室842312051511 进液泵管6300橙白-黑白842312051521 废液泵管6300黑黑842312051531 有机进样泵管842312051541 有机废液泵管管体黑色842312051551 内标混合器（光谱）842312051591垂直观测管(duo型仪器)842312051731 垂直高盐进样系统842312051741 emt垂直炬管6000842312051841 EMT双向炬管iCAP6000842312051891 双向样品进样系统包842312051941 EMT1.0mm中心管842312051951 emt1.5mm中心管842312051961耐氢氟酸中心管emt842312051971 emt2.0mm中心管842312052081 氩气加湿器842312052621 抑制剂842315550051 cid检测器842315550171 emt炬管座842315550181中心管座(emt)842315550241 蠕动泵维修包842315550331 整套干燥管842315550351接口PCB/接口板842315550381 rf mkii 3kw电源842315550471 电磁阀842315550481 水过滤器842315550491 6300i / o板842315550501 mk2水管套件-管子842315550511 mk2水管套件-接头842315550561用于垂直观测Icap RF发生器MKVII光谱842315550571用于水平观测Icap RF发生器MKVII光谱842315550601垂直rf pcb板842315550611水平射频pcb板842315550641 水管套件842315550651 单向阀842315550691 水管套件