壬基三氯化硅烷

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  • 【求助】分析三氯氢硅和四氯化硅用的柱子

    大家好,我分析三氯氢硅和四氯化硅选的柱子是:30%硅油,101硅烷化白色载体,40~60目,长2米,内径3毫米.请大家鉴别下,这样的柱子合理吗,我要买的话大约要多少钱?

  • 气相色谱分析四氯化硅,三氯氢硅时的进样方法!

    分析四氯化硅和三氯氢硅时,在取样,进样过程中遇到了问题;由于四氯化硅,三氯氢硅的化学性质(遇水就会发生反应生成HCL和白色硅粉末),在取样时老是会把针管堵塞,导致进样不畅,进不了样,进样量不一样等问题!我们使用的是1ml一次性进样管(用1ul的管等容易堵塞),谁有好的办法,帮我改善取样和进样??谢谢ps:样品是液体,我们是密封保存的;针管取样前事先也加热干燥过

  • 【求助】求助-测三氯氢硅气体,四氯化硅气体,氢气,氯化氢气体含量

    混合气:三氯氢硅,四氯化硅,氯化氢,氢气.其中:三氯氢硅气体:千分之几 四氯化硅:千分之几 氢气99% 氯化氢:千分之几.也就是其它三种气体占1%.请问:用[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相色谱[/url]怎么测四种气体的含量比较好?载气用氩气?能一次性面积归一法吗?说明:三氯氢硅和四氯化硅没有标准样,也不能做标准样!

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  • 宁波材料所高品质碳化硅陶瓷先驱体研制获进展
    p style="text-align: justify " 碳化硅(SiC)陶瓷具有耐高温、耐磨损、耐腐蚀、耐辐照、抗氧化、热膨胀率小和热导率高等优异的综合性能,在航空航天、核电、高速机车、武器装备等关键领域具有重要的应用价值。SiC陶瓷因其极高的热稳定性和强度,成型加工困难。/pp style="text-align: justify " 目前,国际上陶瓷材料的制备主要采用传统的粉末成型方法,包括微粉制备、成型(压延、挤塑、干压、等静压、浇注、注射等方式)、烧结(热压烧结、反应烧结、常压烧结、气氛压烧结、热等静压烧结、放电等离子体烧结等方式)、加工等过程。最近30年,陶瓷材料新型制备工艺层出不穷,在各个环节上均有所突破,但仍存在局限性,制备温度高(虽然添加烧结助剂可降低烧结温度,但烧结助剂又会影响陶瓷的性能)、不易获得均匀的化学成分与微观结构、难以进行精加工以及陶瓷材料高脆性难以解决等问题。/pp style="text-align: justify " 先进的陶瓷制备技术必须在原料制备、成型、烧结等方面有所突破。自1975年Yajima等利用聚碳硅烷制备出SiC陶瓷纤维后,先驱体转化陶瓷技术进入人们的视野。根据BCC Research调查报告,2017年全球陶瓷先驱体市场为4.376亿美元(其中,SiC陶瓷先驱体占40.4%市场份额),预计到2022年将达到7.124亿美元,年均增长10.2%。所谓先驱体转化陶瓷是首先通过化学合成方法制得可经高温热解转化为陶瓷材料的聚合物,经成型后,再通过高温转化获得陶瓷材料。其具有诸多优点:分子的可设计性:可通过分子设计对先驱体化学组成与结构进行设计和优化,进而实现对陶瓷组成、结构与性能的调控;良好的工艺性:陶瓷先驱体属于有机高分子,继承了高分子加工性好的优点,例如可溶解浸渍、可纺丝、可模塑成型、可发泡、可3D打印等,因此能用于制备传统粉末烧结工艺难以获得的低维材料和复杂构型,例如陶瓷纤维、陶瓷薄膜、复杂立体构件等;可低温陶瓷化,无需引入烧结助剂;可制备三元和多元共价键化合物陶瓷;可获得纤维增韧的陶瓷材料,从而解决陶瓷材料高脆性问题。/pp style="text-align: justify " 先驱体转化陶瓷技术可以灵活控制和改善陶瓷材料的化学结构、相组成、原子分布和微结构等,具有传统陶瓷制备技术无法比拟的优势。以先驱体转化法制备陶瓷材料,其关键之处在于能否制备出合适的先驱体,这直接决定了是否能成功制备出优异性能的陶瓷材料。目前成功开发并应用的SiC陶瓷先驱体主要是固态聚碳硅烷(PCS)。但PCS作为SiC陶瓷先驱体仍存在不足,如PCS中C/Si为2,其热解产物富碳,最终影响SiC陶瓷的性能;PCS陶瓷产率较低;其在室温下为固体,用于形成复合材料中陶瓷基体时,浸渍过程中需要二甲苯、四氢呋喃等溶剂,而在裂解之前又需要蒸发这些溶剂,导致制备周期长和工艺繁琐等。/pp style="text-align: justify " 近日,中国科学院宁波材料技术与工程研究所核能材料工程实验室经过研究,制备出一种流动性好(复数粘度0.01~0.2Pa· S)、存储时间长(>6个月)、氧含量低(~0.1 wt%)、陶瓷产率高(1600℃陶瓷产率达~79wt%)、陶瓷产物中C/Si为~1.1,且1500℃静态氧化后质量变化小于3%的液态超支化聚碳硅烷(LHBPCS)。样品品质获得多个应用单位的肯定。此外,该研究团队在LHBPCS固化交联机理上也有深入研究,能够实现其光固化成型和低温热固化成型,凝胶化时间仅数分钟,且结构致密无泡孔。/pp style="text-align: justify " 相关研究成果发表在J. Eur. Ceram. Soc.、Adv. Appl. Ceram.、J. Am. Ceram. Soc.等期刊上。相关研究得到了国家自然科学基金重大研究计划、中科院重点部署项目等的资助。/pp style="text-align: center "img src="http://img1.17img.cn/17img/images/201808/insimg/9ac36bf1-5a4d-425e-8eea-cf053400b28a.jpg" title="45194.jpg"//pp style="text-align: center "图1.制备的LHBPCS及交联固化与烧结后致密形貌/pp/pp style="text-align: center "img src="http://img1.17img.cn/17img/images/201808/insimg/27cabeb1-60bb-4654-a4ce-51691bd77624.jpg" title="13639.jpg"//pp style="text-align: center "图2.制备的LHBPCS在不同热引发剂(TBPB)含量下交联速率变化/ppbr//p
  • 67项电子特气标准盘点
    特种气体是用途有别于一般气体的气体,是一个笼统的概念。它在纯度、品种、性能方面都是严格按照一定规格进行生产和使用的。一般认为,特种气体是由电子气体、高纯石油化工气体和标准混合气体所组成。另外,在半导体制造业中,气体还可以分为大宗气体和电子气体,大宗气体是指集中供应且用量较大的气体,如N2、H2、O2、Ar、He 等。电子气体主要是半导体制造的每一个过程如外延生长、离子注入、掺杂、刻蚀清洗、掩蔽膜生成所用到的各种化学气体,如高纯SiH4、PH3、AsH3、B2H6、N2O、NH3、SF6、NF3、CF4、BCI3、BF3、HCI、CI2等,又可称为电子特种气体。电子特种气体是超大规模集成电路、平板显示器件、化合物半导体器件、太阳能电池、光纤等电子工业生产不可或缺的原材料,它们主要应用于薄膜、刻蚀、掺杂、气相沉积、扩散等工艺。电子工业服务的电子气品种繁多,用途五花八门。各类半导体用电子气体标准主要由全国半导体设备和材料标准化技术委员会气体分技术委员会制定。为不断推动电子特气产业发展,国家出台了各种相关标准。仪器信息网特对电子特气相关标准规范进行盘。本次盘点涉及国际标准和国家标准两类,涉及国际标准40项,国家标准27项,共计67项标准。详情如下,国际标准计划号项目名称制修订计划下达日期项目状态20204890-T-469电子特气 一氧化氮制订2020/12/28正在起草20204889-T-469电子特气 六氯乙硅烷制订2020/12/28正在起草20200854-T-469电子特气 三氟化氮修订2020/3/6正在批准20200797-T-469电子特气 三氯化硼修订2020/3/6正在批准20192162-T-469电子特气 氨修订2019/7/12正在审查20192161-T-469电子特气 磷化氢修订2019/7/12正在审查20184308-T-469电子特气 六氟丁二烯制订2018/12/29正在批准20184306-T-469电子工业用二氯硅烷制订2018/12/29已发布20184310-T-469电子工业用四氯化硅制订2018/12/29已发布20184309-T-469电子特气 氟甲烷制订2018/12/29正在批准20132258-T-469电子工业用气体 六氟乙烷制订2014/1/26已发布20132259-T-469电子工业用气体 三氟甲烷制订2014/1/26已发布20132260-T-469电子工业用气体中金属含量的测定 电感耦合等离子体质谱法制订2014/1/26已发布20132255-T-469半导体制造用气体处理指南制订2014/1/26已发布20132257-T-469电子工业用气体 硅烷修订2014/1/26已发布20132256-T-469电子工业用气体 丙烯制订2014/1/26已发布20120270-T-469电子工业用气体 八氟丙烷制订2012/10/12已发布20120271-T-469电子工业用气体 锗烷制订2012/10/12已发布20110736-T-469电子工业用气体 四氟化硅制订2011/12/14已发布20111284-T-469电子工业用气体 高纯氯修订2011/12/14已发布20110735-T-469电子工业用气体 六氟化钨制订2011/12/14已发布20111285-T-469电子工业用气体 氯化氢修订2011/12/14已发布20101283-T-469电子工业用气体 六氟化硫修订2010/12/17已发布20091223-T-469电子工业用气体 八氟环丁烷制订2009/12/15正在审查20091224-T-469电子工业用气体 四氟化碳制订2009/12/15正在审查20081120-T-469电子工业用气体 砷化氢制订2008/11/3已发布20081121-T-469电子工业用气体 硒化氢制订2008/11/3已发布20081119-T-469电子工业用气体 三氯化硼修订2008/11/3已发布20070017-T-469电子工业用气体 5N氯化氢制订2007/5/18已发布20062982-T-469电子工业用气体 磷化氢修订2005/12/30已发布20062406-T-469电子工业用气体 氦修订2005/12/30已发布20062405-T-469电子工业用气体 氢修订2005/12/30已发布20062408-T-469电子工业用气体 氩修订2005/12/30已发布20062751-T-469电子工业用气体 三氟化硼修订2005/12/30已发布20062752-T-469电子工业用气体 氧修订2005/12/30已发布20062749-T-469电子工业用气体 氧化亚氮修订2005/12/30已发布20062750-T-469电子工业用气体 氨修订2005/12/30已发布20062407-T-469电子工业用气体 氮修订2005/12/30已发布20064396-T-469电子工业用气体 硅烷(SiH4)修订2005/12/30已发布20051092-T-469电子工业用气体 三氟化氮制订2005/12/15已发布国家标准标准号标准中文名称发布日期实施日期标准状态GB/T 38866-2020电子工业用二氯硅烷2020/7/212021/2/1现行GB/T 38867-2020电子工业用四氯化硅2020/7/212021/2/1现行GB/T 34091-2017电子工业用气体 六氟乙烷2017/7/312017/11/1现行GB/T 34085-2017电子工业用气体 三氟甲烷2017/7/312017/11/1现行GB/T 15909-2017电子工业用气体 硅烷2017/5/312017/12/1现行GB/T 33774-2017电子工业用气体 丙烯2017/5/312017/12/1现行GB/T 32386-2015电子工业用气体 六氟化钨2015/12/312016/7/1现行GB/T 31986-2015电子工业用气体 八氟丙烷2015/9/112016/5/1现行GB/T 31987-2015电子工业用气体 锗烷2015/9/112016/5/1现行GB/T 31058-2014电子工业用气体 四氟化硅2014/12/222015/7/1现行GB/T 18867-2014电子工业用气体 六氟化硫2014/12/222015/7/1现行GB/T 14602-2014电子工业用气体 氯化氢2014/12/222015/7/1现行GB/T 18994-2014电子工业用气体 高纯氯2014/12/222015/7/1现行GB/T 26249-2010电子工业用气体 硒化氢2011/1/142011/5/1现行GB/T 26251-2010氟及氟氮混合气2011/1/142011/5/1现行GB/T 17874-2010电子工业用气体 三氯化硼2011/1/142011/5/1现行GB/T 26250-2010电子工业用气体 砷化氢2011/1/142011/5/1现行GB/T 14851-2009电子工业用气体 磷化氢2009/10/302010/5/1现行GB/T 14600-2009电子工业用气体 氧化亚氮2009/10/302010/5/1现行GB/T 14601-2009电子工业用气体 氨2009/10/302010/5/1现行GB/T 14603-2009电子工业用气体 三氟化硼2009/10/302010/5/1现行GB/T 16945-2009电子工业用气体 氩2009/10/302010/5/1现行GB/T 16944-2009电子工业用气体 氮2009/10/302010/5/1现行GB/T 14604-2009电子工业用气体 氧2009/10/302010/5/1现行GB/T 16942-2009电子工业用气体 氢2009/10/302010/5/1现行GB/T 16943-2009电子工业用气体 氦2009/10/302010/5/1现行GB/T 21287-2007电子工业用气体 三氟化氮2007/12/142008/7/1现行
  • 西南大学唐超课题组MME:硅烷偶联剂接枝hBN对绝缘纸纤维素的热性能和力学性能的提升
    摘要:西南大学工程技术学院唐超课题组通过使用不同硅烷偶联剂接枝纳米氮化硼掺杂绝缘纸纤维素,发现KH550接枝氮化硼能显著提升绝缘纸纤维素的散热性、热稳定性和材料的力学特性(热导率提升了114%,延展性和抗形变能力提升了50%以上),为提升变压器内部绝缘材料的使用寿命和抗热老化性能提供了理论指导。关键词:硅烷偶联剂,氮化硼,变压器绝缘纸纤维素,热力学性能图1 KH550接枝hBN原理图。图2 不同改性的纤维素模型,(a)纯纤维素,(b)hBN/纤维素,(c)KH550 hBN/纤维,(d)KH560-hBN/纤维素和(e)KH570-hBN/纤维素。电力设备运行寿命的提升,与其内部绝缘材料性能的提升有着重要关联。以变压器为例,利用新兴的纳米技术来修饰纤维素绝缘纸能较为高效、显著地提升材料的性能。然而,现有的纤维素绝缘纸的纳米改性研究,往往局限在纤维素力学性能的分析上,较少关注其热性能的改进。因此,利用一种新型的纳米颗粒对纯纤维素进行改性,以同时提高纤维素绝缘纸的力学性能和热性能成为大家关注的热点。针对这一问题,西南大学工程技术学院唐超教授课题组采用了分子模拟的方法,将三种不同硅烷偶联剂接枝到氮化硼表面,并与纤维素混合,得到了具有相对较高热稳定性和力学特性的改性绝缘纸纤维素(KH550 hBN/纤维),相关结果发表在Macromolecular Materials and Engineering上。氮化硼具有较高的固有导热性和良好的介电性能,是一种常用的导热填料。由于其结构与石墨烯相似,氮化硼也具有较高的机械强度和优良的润滑性,可以显著提高聚合物的热稳定性。然而,氮化硼在纤维素内部容易发生团聚,这使得它无法直接用于改善聚合物的性能。因此,本研究将硅烷偶联剂与氮化硼接枝,对传统绝缘纸纤维素进行改性。通过分析比较得出,硅烷偶联剂氮化硼对纤维素的改性使得纤维素链间的空隙得到填充,纤维素与硅烷偶联剂间形成了更多的氢键,连接更为紧密,从而在聚合物内部形成了导热网络,改性纤维素的导热性能显著提高,热稳定性显著增强。同时,硅烷偶联剂的增加使得纤维素材料的韧性、抗形变能力、延展性增加,便于其在高温高压条件下有更长的使用寿命。图3 (a)CED、(b)力学性能、(c)热导率图4 均方位移图5 玻璃转变温度论文信息:Enhancement on thermal and mechanical properties of insulating paper cellulose modified by silane coupling agent grafted hBNXiao Peng, Jinshan Qin, Dong huang, Zhenglin Zeng, Chao Tang*Macromolecular Materials and EngineeringDOI: 10.1002/mame.202200424

壬基三氯化硅烷相关的仪器

  • 仪器简介:LSH-SiC200碳化硅红外光源室碳化硅红外光源包括光源室、直流稳压稳流电源和一个冷却用水箱三个组成。碳化硅红外光源室又分为成像室和碳化硅棒及其冷却室。成像室采用反射成像光路,反射镜镀金,以增加红外反射率。冷却室采用循环水冷却方式,有效避免了风冷造成的空气扰动,建议用户采用外循环水系统。系统标配有潜水泵和不锈钢水箱,并且配有水流保护,方便不具备外循环水系统的用户选择使用。技术参数:规格参数型号/参数 LSH-SiC200功率(W) 200光谱范围(&mu m) 1~16孔径比 f/4碳化硅发光面(mm) 5× 14碳化硅的额定电流(A) 18光源寿命(h) 400光路中心高(mm) 128~168(可调)光源工作温度(K) 900-1200主要特点:主要特点◆ 功率:200W◆ 光谱范围:1-16&mu m◆ 辐射系数大,效率光◆ 光源室反射镜全部镀金膜,单片镜片反射率98%◆ 输出相对孔径设计与&ldquo 谱王&rdquo 光谱仪匹配,提高光谱测量时的光收集效率
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  • 什么是硅烷气体硅烷即硅与氢的化合物,是一系列化合物的总称,包括甲硅烷( SiH4) 、乙硅烷( Si2H6) 和一些更**的硅氢化合物。目前应用**多的是甲硅烷。一般把甲硅烷简称做硅烷。硅烷作为一种提供硅组分的气体源,可用于制造高纯度多晶硅、单晶硅、微晶硅、非晶硅、氮化硅、氧化硅、异质硅、各种金属硅化物。 因其高纯度和能实现精细控制,已成为许多其他硅源无法取代的重要特种气体。硅烷广泛应用于微电子、光电子工业, 用于制造太阳电池、平板显示器、玻璃和钢铁镀层, 并且是迄今世界上**的大规模生产粒状高纯度硅的中间产物。硅烷的高科技应用还在不断出现, 包括用于制造**陶瓷、复合材料、功能材料、生物材料、高能材料等等,成为许多新技术、新材料、新器件的基础。硅烷又以它特有的自燃、爆炸性而著称。硅烷有非常宽的自发着火范围和极强的燃烧能量,决定了它是一种高危险性的气体。主要是针对化工厂、实验室,危化品仓库等有限空间研发检测气体进行优化后的一款专用的在线固定式检测仪。它能将现场检测到的有毒有害气体浓度,转换为对应的标准信号(标准信号种类选择请参考技术参数表),然后将信号传输到 PLC、DCS、报警控制主机等上位机进行统一显示、管理和控制,从而组成功能强大的智能化气体检测报警控制系统。该设备内置继电器,可控制外围声光报警器、风机、电磁阀等设备。如该设备连入我司服务器,可实现远程设置报警值和远程标定等功能,节省后期维护成本。广州市诺达电子有限公司以专业、负责的态度致力于为客户提供与环境匹配的检测产品和服务。 主要特点:★速核系统:采用高精度32位高速微处理器,**Epsion数据处理系统,速测危害气体,高效预警毒气泄漏; ★多级标定:业内智能化多级校准技术,多重滤波技术,更精准更快速地反馈现场浓度值;★自动标定:通入实际标气,无需标定员操作,**智能识别标定;★稳定性超强:经过严格的进料筛选工序,及行业经验十几年的研发人员匠心打造,抗EMC、EMI干扰,大幅度提高**侦察兵的可靠性;★多结构的通讯方式:支持4-20mA与RS485单路或多路同时通讯,有线与内置无线433M/GPRS等无线多路通讯(选配);★规范标准:JJF 1363-2012,JJF 1368-2012,JJF 1421-2013,JJF 1364-2012 GB3836-2010,GB 12476.5-2013 技术规格参数及气体种类:检测气体硅烷量 程0-10PPM/0-50PPM/0-100PPM(更多量程可以来电咨询);分 辨 率0.01PPM检测原理电化学原理精 度≤±3F.S显示方式320*240 高清彩屏响应时间T90<30S恢复时间≤30S(T90-T10)使用寿命传感器2-3年检测方式扩散式重 复 性≤±1 %F.S继 电 器容量 220VAC **/24VDC ** 无线输出(选配)433M(≤无障碍3公里 ) (定制)GPRS(无距离限制) (定制)WIFI/zigbee/LORA (定制) 有线输出(选配) 485+开关量输出 (标配)4-20mA+RS485+开关量报警输出 (定制)以上任选一种防护等级 IP66防爆等级隔爆型:ExdⅡCT6 Gb 尺 寸205*140*92mm(L×W×H)探头材质铝合金、不锈钢(可选)安装方式壁挂式、杆装式、管道式重 量1KG工作电压12-35VDC,常用 12VDC、24VDC电气接口接线口尺寸:内螺牙 M20*1.5( G1/2 内螺牙、G3/4 内螺牙、 1/2NPT标准配件探测器、说明书、红外遥控器、厂家出厂检测报告选 配 件防爆声光报警、安装支架、管道式安装配件等工作环境温度:催化燃烧:-40~+70℃;电化学:-20~+50℃;PID:-20~+50℃;红外:-20~+50℃; 荧光法:-20~+50℃; 氧化锆:-40℃~+700℃压力:86-110Kpa;(氧化锆:≤0.6Mpa)湿度:15%RH~95%RH(无凝露)产品功耗电化学传感器:P ≤ 1.2W 红外传感器:P ≤ 2.0W普通催化传感器 :P ≤ 2.6W 低功耗催化传感器 :P ≤ 1.5W 热导传感器 :P ≤ 2.0W 执行标准GB15311.1-2003; GB3836.1-2010; GB3836.2-2010; GB3836.4-2010;气体选型O30-100%LELCH2O0-10,50,100PPMCO0-100,1000,2000,10000PPMO30-1,10,50,100%VOLH2S0-50,100,1000,2000PPMCH40-1,10,50,100%VOLO20-30,100%VOLPH30-10,100,1000,5000PPMNH30-50,100,1000,2000PPMH20-100,1000,5000,40000PPM,100%VOLO30-5,10,50,100,1000,5000,10000PPMN20-100%VOLCL20-10,20PPMHCL0-10,100,500,1000PPMNO0-100,500,1000,5000PPMSO20-10,20,100,500,1000,5000,40000PPM
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  • 仪器配备高灵敏的氦离子化检测器,采用华爱公司的中心切割技术,进样阀均带有吹扫保护气路;整机采用多柱箱设计,并配备进样压力自动校正系统 二氯硅烷氦离子色谱仪仪器配备高灵敏的氦离子化检测器,采用华爱公司的中心切割技术,进样阀均带有吹扫保护气路;整机采用多柱箱设计,并配备进样压力自动校正系统,不同底气的样品的进样量。产品先后荣获上海市成果转化A级项目、上海市重点新产品、上海市火炬计划和2009科学仪器产品等称号。 项目名称指标三氯氢硅(SiHCl3 )含量(体积分数)/l0-6 ≤ 10(一氯硅烷+氯化氢)含量(SiH3Cl+HCl)含量”,以氯化氢计(体积分数)/l0-6 ≤50氮(N2)含量(体积分数)/l0-6 ≤1(氧+氩)(O2+Ar)含量(体积分数)/l0-6 ≤1一氧化碳(CO)含量(体积分数)/l0-6 ≤1氢(H2)含量(体积分数)/l0-6 ≤10二氧化碳(CO2)含量(体积分数)/l0-6 ≤1总烃(THC)含量,以甲烷(CH4)计(体积分数)/l0-6 ≤1金属元素及其他元素含量(硼+铝)(B+Al)含量/(μg/kg) ≤0.1(磷+砷)(P+As)含量/(μg/kg) ≤0.3镓(Ga)含量/(μg/kg) ≤0.1锑(Sb)含量/(μg/kg) ≤0.1铟(In)含量/(μg/kg) ≤0.1钙(Ca)含量/(μg/kg) ≤1铬(Cr)含量/(μg/kg) ≤1铁(Fe)含量/(μg/kg) ≤5钾(K)含量/(μg/kg) ≤1钠(Na)含量/(μg/kg) ≤0.2镍(Ni)含量/(μg/kg) ≤1钼(Mo)含量/(μg/kg) ≤0.1锰(Mn) 含量/(μg/kg) ≤0.2铜(Cu)含量/(μg/kg) ≤0.2镉(Cd) 含量/(μg/kg) ≤0.5钴(Co)含量/(μg/kg) ≤0.5锌(Zn)含量/(μg/kg) ≤0.1
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壬基三氯化硅烷相关的耗材

  • TMSI 硅烷化试剂 | 三甲基硅咪唑| 三甲基碘硅烷
    产品特点:N-Trimethylsilylimidazole (TMSI) UN1993, 25 grams三甲基硅咪唑, 三甲基碘硅烷SKU: 140-25 Categories: 硅烷化试剂 ,Tag: TMSI三甲基硅咪唑 用途硅烷化试剂三甲基硅咪唑是硅烷化羟基的最强的硅烷化试剂;能够快速、平顺地与羟基和羧基发生反应。不与胺或酰胺发生反应,所以可以用于制备既含有羟基又含有氨基的化合物的多重衍生物。在存在少量水的情况下可用于硅烷化糖;当需要将糖作为糖浆剂来分析的时候是硅烷化糖的理想选择。能够衍生不被阻碍和被严重阻碍的大多数的甾类羟基。用途 用作抗菌素中间体、特强的硅烷化剂用途 高效硅烷化试剂,特别适合用于醇、酰基咪唑类的合成,在氨基存在的条件下保护羟基基团。抗菌素中间体。用途 用于合成各种酰基咪唑的重要中间体,也是合成吡藜酰胺的重要中间体;在胺功能化条件下,保护羟基的硅烷化试剂;强有力的硅烷化试剂、特别针对醇类;酰基咪唑啉的合成用途 甲硅烷基化试剂,在氨基存在的条件下保护羟基基团。抗菌素中间体。特点● UN Number: 1993
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  • TMSI 硅烷化试剂 | 三甲基硅咪唑 | 三甲基碘硅烷
    产品特点:Trimethylsilylimidazole (TMSI) UN1993, 100 grams三甲基硅咪唑 | 三甲基碘硅烷SKU: 140-100Categories: TMSI 硅烷化试剂三甲基硅咪唑 性质熔点 -42 °C沸点 93-94 °C14 mm Hg(lit.)密度 0.957 g/mL at 20 °C折射率 n20/D 1.475(lit.)闪点 42 °F储存条件 2-8°C形态Liquid颜色Clear colorless to yellow水溶解性 decomposes敏感性 Moisture SensitiveBRN 606148CAS 数据库18156-74-6(CAS DataBase Reference)NIST化学物质信息1h-Imidazole, 1-(trimethylsilyl)-(18156-74-6)EPA化学物质信息1H-Imidazole, 1-(trimethylsilyl)-(18156-74-6)三甲基硅咪唑 用途硅烷化试剂三甲基硅咪唑是硅烷化羟基的最强的硅烷化试剂;能够快速、平顺地与羟基和羧基发生反应。不与胺或酰胺发生反应,所以可以用于制备既含有羟基又含有氨基的化合物的多重衍生物。在存在少量水的情况下可用于硅烷化糖;当需要将糖作为糖浆剂来分析的时候是硅烷化糖的理想选择。能够衍生不被阻碍和被严重阻碍的大多数的甾类羟基。用途 用作抗菌素中间体、特强的硅烷化剂用途 高效硅烷化试剂,特别适合用于醇、酰基咪唑类的合成,在氨基存在的条件下保护羟基基团。抗菌素中间体。用途 用于合成各种酰基咪唑的重要中间体,也是合成吡藜酰胺的重要中间体;在胺功能化条件下,保护羟基的硅烷化试剂;强有力的硅烷化试剂、特别针对醇类;酰基咪唑啉的合成用途 甲硅烷基化试剂,在氨基存在的条件下保护羟基基团。抗菌素中间体。特点● UN Number: 1993

壬基三氯化硅烷相关的试剂

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