磁学测量系统

2015年Anasys发布了最新一代产品nanoIR2-s，在广受欢迎的第二代纳米红外光谱系统的基础上增加了散射近场光学成像和光谱功能（s-SNOM）。实现了同一平台兼具AFM-IR和s-SNOM两种技术。仪器的空间分辨率达到10nm，广泛用于各种聚合物、有机无机复合材料、生物样本、半导体、等离子体、纳米天线等。纳米红外&散射近场光学成像和光谱系统(nanoIR2-s)AFM-IR &s-SNOM l AFM-IR 消除分析化学研究人员的担忧--与FTIR光谱完全吻合，没有吸收峰的任何偏移l s-SNOM使用金属镀层AFM探针代替传统光纤探针来增强和散射样品纳米区域内的光辐射，空间分辨率由AFM针尖的曲率半径决定l 专利技术实现智能的光路优化调整，无需担心光路偏差拖延你的实验进度l 最准确的定性微区化学表征，得到美国国家标准局NIST, 橡树岭国家实验室等美国权威机构的认可l 简单易用的操作，被三十多位企业用户和近百位学术界所选择l 基于DI传承的多功能AFM实现纳米热学，力学，电学和磁学测量：l 纳米热分析模块（nanoTA, SThM）l 洛仑兹接触共振模块（LCR）l 导电原子力显微镜镜（CAFM）l 开尔文电势显微镜（KPFM）l 磁力显微镜（MFM）l 静电力显微镜（EFM）10纳米空间分辨率化学成像和光谱石墨烯等离子体 高分辨率成像 石墨烯表面等离子体的近场相位和振幅成像；优于10nm的光学成像PTFE的nano FTIR光谱显示相干分子振动时域图（上图）,和相应的近场光谱（下左图）。pNTP分子层的近场光谱（图下右）。

全新一代磁学测量系统—MPMS32013 年 3 月，Quantum Design 公司在美国物理协会年会上，发布了全新设计的磁学测量系统：MPMS3系统。该系统仍旧基于SQUID探测技术，但不是MPMS(SQUID)XL系列和SQUID-VSM系统的简单升。MPMS3系统是Quantum Design公司潜心开发多年的结晶，在该产品上集成了大量的全新技术。对比于MPMS XL和SQUID-VSM磁学测量系统，MPMS3将二者的优点进行了融合。MPMS3系统外观虽然与SQUID-VSM相似，但系统进行了重新设计，同时具备了SQUID-VSM的高速高精度测量，以及MPMS XL的DC测量模式、Raw Data功能和Point- to-Point测量功能。系统带有全新的DC Scan测量模式，VSM测量模式以及交流测量模式可供用户选择，大程度的满足用户的测量要求。MPMS XL用户和SQUID-VSM用户将会非常容易的上手使用MPMS3。另外对于SQUID-VSM用户，我们也提供了升方案，用户可将SQUID-VSM系统升至MPMS3系统。MPMS3系统带有的新式完全无液氦Evercool选件，可实现全氦气启动和运行，完全摆脱对液氦的依赖。全新一代磁学测量系统-MPMS3MPMS广泛分布于世界上几乎所有相关的前沿实验室，在学术界具有良好口碑。MPMS系统由一个基系统和各种拓展功能选件构成。基系统同时提供变磁场测量环境和变温度场测量环境，拓展功能选件包括各种全自动磁学测量功能选件，如AC磁化率测量系统选件（进行交流磁化率的测量，频率0.1Hz - 1kHz，磁矩灵敏度≤ 5×10-8 emu （typical））、高温炉选件（把仪器高可测量温度拓展到1000K）、超低磁场选件以及磁场重置选件（用于退磁可获取达0.005G的超低磁场）。而且MPMS带有液氦自循环系统，能够全自动实现液氦的循环利用，地方便了获取液氦不方便、或者液氦价格昂贵的地区用户。所包含的领域有物理、材料、化学、生物、地质等学科。所能研究测量的材料涵盖金属、陶瓷、半导体、超导体、磁性材料、合金材料、有机材料、介电材料和高分子材料等等。材料的形式可以是：块材、薄膜、粉末、液体、单晶及纳米材料。MPMS3全新技术1) RapidTemp-快速温控技术 系统从300K匀速降至10K仅需15分钟，从10K稳定到1.8K也仅需5分钟2) QuickSwitch-超导开关技术 超导开关在超导态和正常态之间的转换仅需要1秒钟时间3) FastLab-快速数据采集技术 系统的超导磁体允许700Oe/s的励磁速度，在零场下仅需4秒数据平均时间(data average time)，系统便能达到1x10-8emu的测量精度；并且系统允许用户在扫场模式下进行高精度的测量。 5K温度下铁磁薄膜MH曲线MPMS3 DCScan与MPMS XL对比 MPMS3系统参数:温度区间：1.9~400 K 连续控制降温速度：30 K/min 300 KT10 K10 K/min 10 KT1.8 K样品腔内径：9 mm磁场强度：±7 T磁场均匀度：4 cm 范围内达到 0.01%励磁速度：4 - 700 Oe/s样品振动范围：0.1-8 mm (峰值)最大测量磁矩：2 emu（DC Scan）；100 emu（VSM）测量灵敏度：≤2500 Oe：≤5×10-8 emu（DC scan）≤1×10-8 emu（VSM） 2500 Oe:≤6×10-7 emu（DC scan）≤8×10-8 emu（VSM）MPMS选件MPMS3 Evercool选件(氦气启动和运行，完全无需液氦)介绍(点击打开)MPMS3 OVEN选件(可将测量温区拓展1000K)介绍(点击打开)MPMS3 AC Susceptibility Measurement选件介绍(点击打开)MPMS3 Ultra-Low Field Capability (ULF)选件介绍(点击打开)MPMS3水平旋转杆、磁光测量和电学测量选件介绍(点击打开)MPMS3 iQuantum He3选件(点击打开) MPMS测试数据高温直流、交流磁化率测量数据镍材料高温直流、交流磁化率测量数据磁化率测试数据由哈维穆德学院教授Professor Eckert提供的铁磁薄膜在较弱磁场下的磁矩测量数据，展现了MPMS3对小磁矩样品测量的精准性磁化率DC模式测试数据相对于MPMS XL而言，MPMS3系统使用的DC测量模式的测量效率得到了质的飞跃。磁场扫场速率测试数据相对于MPMS XL系统，MPMS3的扫场速率大幅提升。光磁测量选件测试数据场冷（100Oe）和零场冷并使用DC模式测量的光磁数据。水平旋转杆测量选件测试数据铁磁性薄膜材料±2T磁场下 0-90° 4个不同角度测量得到的MH曲线部分用户单位部分发表文章Nayak, Ajaya K., et al. "Magnetic antiskyrmions above room temperature in tetragonal Heusler materials." Nature 548.7669 (2017): 561-566.Singha, Ratnadwip, et al. "Large nonsaturating magnetoresistance and signature of nondegenerate Dirac nodes in ZrSiS." Proceedings of the National Academy of Sciences 114.10 (2017): 2468-2473.Liu, Enke, et al. "Giant anomalous Hall effect in a ferromagnetic kagome-lattice semimetal." Nature physics 14.11 (2018): 1125-1131.Bordelon, Mitchell M., et al. "Field-tunable quantum disordered ground state in the triangular-lattice antiferromagnet NaYbO 2." Nature Physics 15.10 (2019): 1058-1064.Bahrami, Faranak, et al. "Thermodynamic evidence of proximity to a Kitaev spin liquid in Ag3LiIr2O6." Physical review letters 123.23 (2019): 237203.Deng, Liangzi, et al. "Higher superconducting transition temperature by breaking the universal pressure relation." Proceedings of the National Academy of Sciences 116.6 (2019): 2004-2008.Ortiz, Brenden R., et al. "CsV3Sb5: AZ2 Topological Kagome Metal with a Superconducting Ground State." Physical Review Letters 125.24 (2020): 247002.Karube, Kosuke, et al. "Room-temperature antiskyrmions and sawtooth surface textures in a non-centrosymmetric magnet with S4 symmetry." Nature Materials (2021): 1-6.Li, Jing, et al. "Printable two-dimensional superconducting monolayers." Nature Materials 20.2 (2021): 181-187.Maniv, Eran, et al. "Exchange bias due to coupling between coexisting antiferromagnetic and spin-glass orders." Nature Physics (2021): 1-6.

全新一代磁学测量系统—MPMS32013 年 3 月，Quantum Design 公司在美国物理协会年会上，发布了全新设计的磁学测量系统：MPMS3系统。该系统仍旧基于SQUID探测技术，但不是MPMS(SQUID)XL系列和SQUID-VSM系统的简单升。MPMS3系统是Quantum Design公司潜心开发多年的结晶，在该产品上集成了大量的全新技术。对比于MPMS XL和SQUID-VSM磁学测量系统，MPMS3将二者的优点进行了融合。MPMS3系统外观虽然与SQUID-VSM相似，但系统进行了重新设计，同时具备了SQUID-VSM的高速高精度测量，以及MPMS XL的DC测量模式、Raw Data功能和Point- to-Point测量功能。系统带有全新的DC Scan测量模式，VSM测量模式以及交流测量模式可供用户选择，大程度的满足用户的测量要求。MPMS XL用户和SQUID-VSM用户将会非常容易的上手使用MPMS3。另外对于SQUID-VSM用户，我们也提供了升方案，用户可将SQUID-VSM系统升至MPMS3系统。MPMS3系统带有的新式完全无液氦Evercool选件，可实现全氦气启动和运行，完全摆脱对液氦的依赖。全新一代磁学测量系统-MPMS3MPMS广泛分布于世界上几乎所有相关的前沿实验室，在学术界具有良好口碑。MPMS系统由一个基系统和各种拓展功能选件构成。基系统同时提供变磁场测量环境和变温度场测量环境，拓展功能选件包括各种全自动磁学测量功能选件，如AC磁化率测量系统选件（进行交流磁化率的测量，频率0.1Hz - 1kHz，磁矩灵敏度≤ 5×10-8 emu （typical））、高温炉选件（把仪器高可测量温度拓展到1000K）、超低磁场选件以及磁场重置选件（用于退磁可获取达0.005G的超低磁场）。而且MPMS带有液氦自循环系统，能够全自动实现液氦的循环利用，地方便了获取液氦不方便、或者液氦价格昂贵的地区用户。所包含的领域有物理、材料、化学、生物、地质等学科。所能研究测量的材料涵盖金属、陶瓷、半导体、超导体、磁性材料、合金材料、有机材料、介电材料和高分子材料等等。材料的形式可以是：块材、薄膜、粉末、液体、单晶及纳米材料。MPMS3全新技术1) RapidTemp-快速温控技术 系统从300K匀速降至10K仅需15分钟，从10K稳定到1.8K也仅需5分钟2) QuickSwitch-超导开关技术 超导开关在超导态和正常态之间的转换仅需要1秒钟时间3) FastLab-快速数据采集技术 系统的超导磁体允许700Oe/s的励磁速度，在零场下仅需4秒数据平均时间(data average time)，系统便能达到1x10-8emu的测量精度；并且系统允许用户在扫场模式下进行高精度的测量。 5K温度下铁磁薄膜MH曲线MPMS3 DCScan与MPMS XL对比 MPMS3系统参数:温度区间：1.9~400 K 连续控制降温速度：30 K/min 300 KT10 K10 K/min 10 KT1.8 K样品腔内径：9 mm磁场强度：±7 T磁场均匀度：4 cm 范围内达到 0.01%励磁速度：4 - 700 Oe/s样品振动范围：0.1-8 mm (峰值)最大测量磁矩：2 emu（DC Scan）；100 emu（VSM）测量灵敏度：≤2500 Oe：≤5×10-8 emu（DC scan）≤1×10-8 emu（VSM） 2500 Oe:≤6×10-7 emu（DC scan）≤8×10-8 emu（VSM）MPMS选件MPMS3 Evercool选件(氦气启动和运行，完全无需液氦)介绍(点击打开)MPMS3 OVEN选件(可将测量温区拓展1000K)介绍(点击打开)MPMS3 AC Susceptibility Measurement选件介绍(点击打开)MPMS3 Ultra-Low Field Capability (ULF)选件介绍(点击打开)MPMS3水平旋转杆、磁光测量和电学测量选件介绍(点击打开)MPMS3 iQuantum He3选件(点击打开) MPMS测试数据高温直流、交流磁化率测量数据镍材料高温直流、交流磁化率测量数据磁化率测试数据由哈维穆德学院教授Professor Eckert提供的铁磁薄膜在较弱磁场下的磁矩测量数据，展现了MPMS3对小磁矩样品测量的精准性磁化率DC模式测试数据相对于MPMS XL而言，MPMS3系统使用的DC测量模式的测量效率得到了质的飞跃。磁场扫场速率测试数据相对于MPMS XL系统，MPMS3的扫场速率大幅提升。光磁测量选件测试数据场冷（100Oe）和零场冷并使用DC模式测量的光磁数据。水平旋转杆测量选件测试数据铁磁性薄膜材料±2T磁场下 0-90° 4个不同角度测量得到的MH曲线部分用户单位部分发表文章Nayak, Ajaya K., et al. "Magnetic antiskyrmions above room temperature in tetragonal Heusler materials." Nature 548.7669 (2017): 561-566.Singha, Ratnadwip, et al. "Large nonsaturating magnetoresistance and signature of nondegenerate Dirac nodes in ZrSiS." Proceedings of the National Academy of Sciences 114.10 (2017): 2468-2473.Liu, Enke, et al. "Giant anomalous Hall effect in a ferromagnetic kagome-lattice semimetal." Nature physics 14.11 (2018): 1125-1131.Bordelon, Mitchell M., et al. "Field-tunable quantum disordered ground state in the triangular-lattice antiferromagnet NaYbO 2." Nature Physics 15.10 (2019): 1058-1064.Bahrami, Faranak, et al. "Thermodynamic evidence of proximity to a Kitaev spin liquid in Ag3LiIr2O6." Physical review letters 123.23 (2019): 237203.Deng, Liangzi, et al. "Higher superconducting transition temperature by breaking the universal pressure relation." Proceedings of the National Academy of Sciences 116.6 (2019): 2004-2008.Ortiz, Brenden R., et al. "CsV3Sb5: AZ2 Topological Kagome Metal with a Superconducting Ground State." Physical Review Letters 125.24 (2020): 247002.Karube, Kosuke, et al. "Room-temperature antiskyrmions and sawtooth surface textures in a non-centrosymmetric magnet with S4 symmetry." Nature Materials (2021): 1-6.Li, Jing, et al. "Printable two-dimensional superconducting monolayers." Nature Materials 20.2 (2021): 181-187.Maniv, Eran, et al. "Exchange bias due to coupling between coexisting antiferromagnetic and spin-glass orders." Nature Physics (2021): 1-6.

产品详情Quantum最新一代磁学测量系统MPMS3 2013 年 3 月，Quantum Design 公司在美国物理协会年会上，发布了最新设计的磁学测量系统：MPMS3系统。该系统仍旧基于SQUID探测技术，但不是MPMS(SQUID)XL系列和SQUID-VSM系统的简单升级。MPMS3系统是Quantum Design公司潜心开发多年的结晶，在该产品上集成了大量的全新专利技术。 对比于MPMS XL和SQUID-VSM磁学测量系统，MPMS3将二者的优点进行了融合。MPMS3系统外观虽然与SQUID-VSM相似，但系统进行了重新设计，同时具备了SQUID-VSM的高速高精度测量，以及MPMS XL的DC测量模式、Raw Data功能和Point- to-Point测量功能。系统带有全新的DC Scan测量模式，VSM测量模式以及交流测量模式可供用户选择，最大程度的满足用户的测量要求。MPMS XL用户和SQUID-VSM用户将会非常容易的上手使用MPMS3。另外对于SQUID-VSM用户，我们也提供了升级方案，用户可将SQUID-VSM系统升级至MPMS3系统。 MPMS3系统带有的新式完全无液氦Evercool选件，可实现全氦气启动和运行，完全摆脱对液氦的依赖。 新的专利技术1) RapidTemp™ 快速温控技术 系统从300K匀速降至10K仅需15分钟，从10K稳定到1.8K也仅需5分钟2) QuickSwitch™ 超导开关技术 超导开关在超导态和正常态之间的转换仅需要1秒钟时间3) FastLab™ 快速数据采集技术 系统的超导磁体允许最大700Oe/s的励磁速度，在零场下仅需4秒数据平均时间(data average time)，系统便能达到1×10-8emu的测量精度；并且系统允许用户在扫场模式下进行高精度的测量。 MPMS3系统技术参数: 温度区间： 1.9~400 K 连续控制 降温速度： 30 K/min 300 KT10 K 10 K/min 10 KT1.8 K 样品腔内径： 9 mm 磁场强度： ±7 特斯拉 磁场均匀度： 4 cm 范围内达到 0.01% 励磁速度： 最大700 Oe/s 样品振动范围：0.1-8 mm (峰值) 最大测量磁矩：10 emu 测量灵敏度： 1×10-8 emu H＝0 T (10秒测量时间) 8×10-8 emu H＝7 T (10秒测量时间)

基于NV色心的超分辨量子磁学显微镜磁性材料的显微观测有助于材料的微观结构及其形成机理的研究，随着科研的发展，磁性材料研究的尺度已经趋向于亚微米甚至纳米。因此，超高分辨和超高灵敏度的测试有助于对这些小尺寸的材料进行研究。源自瑞士苏黎世联邦理工大学自旋物理实验室的Qzabre公司，结合多年的NV色心的磁测量技术与扫描成像技术开发出的QSM系统，能够实现高灵敏度和高分辨率的磁学成像，并且可以实现定量的磁学分析，使得它成为下一代扫描探针显微镜— —基于NV色心的超分辨量子磁学显微镜。相比于传统的显微观测设备如克尔显微镜（分辨率~300 nm），磁力显微镜MFM(分辨率~50 nm )，该设备除了拥有优于30 nm的磁学分辨率外，还可以进行样品表面磁场大小的定量测试，而且NV色心作为单自旋探针, 所产生的磁场不会对待测样品有扰动，在磁学显微成像上有着显著的优势。QSM超分辨量子磁学显微镜-典型应用√ 磁性纳米结构分析√ 铁磁/反铁磁磁畴成像√ 磁畴壁分析√ 电流分布成像√ 纳米尺度的温度测量√ 多铁材料扫描√ 磁场任意波形时间分辨QSM超分辨量子磁学显微镜-扫描成像原理简介金刚石NV色心为金刚石中一个氮原子取代碳原子同临近的空位形成的缺陷，它的电子能为自旋三重态，其基态ms=0与ms=±1（简并态）存在2.87GHz的零场分裂，在外磁场B作用下，ms=±1解除简并发生分裂。NV色心的自旋状态可通过激光和微波实现操作和探测，通常采用光学探测磁共振（ODMR）的方法测量外加磁场，此时NV色心处于微波作用下，当微波能量刚好等于ms=±1基态电子与ms=0基态电子的能差时发生共振，此时荧光探测表现为低谷。Ms=+1和Ms=-1基态的能差为△f=2γB，△f可以通过ODMR谱的两个共振峰谱得出，γ为NV色心的电子旋磁比，γ=28 MHz/mT ，这样可以计算出外磁场B大小。通过扫描探针持续对样品表面的磁场进行探测后，可以得出样品表面的磁场分布成像图。基于NV色心的超分辨量子磁学显微镜扫描成像原理示意图QSM超分辨量子磁学显微镜-主要特点√ 超高磁学分辨率及灵敏度√ 可定量测量样品表面磁场大小及空间分布√ 优化的光学系统获得更大的光通过率√ 多种成像模式√ 交钥匙系统√ 易更换的探针设计√ 矢量磁场选件 QSM超分辨量子磁学显微镜-技术参数√ 操作模式： NV 模式，NV quenching模式，AFM模式，MOKE模式；√ NV模式：磁场空间分辨率：30nm~70nm， 磁场灵敏度：1-10 μT/Hz^(1/2)，(取决于选用探针)；√ AFM模式：使用Qzabre探针分辨率~250nm，使用Akiyama探针分辨率＜30nm；√ MOKE模式：使用向克尔显微模式快速获取感兴趣区域，视场150μm；√ 扫描范围：90 μm x 90 μm x 15 μm (闭环控制, 0.15nm分辨率)；~6mm粗调（100nm分辨率）；√ 可放置样品大小：25mm直径（标准型），大可到50mm×50mm（定制）；√ 漂移率：6nm/h , 0.3℃温度稳定性；√ 优化光学系统：NA=0.75，＞87% 的光通过率(600~850nm)，比传统的共聚焦系统增加了＞10% 的光通过率；√ 矢量电磁铁选项提供任意方向的矢量场高至75 mT；√ 定制样品托扩展直流或微波连接、加热功能等。QSM超分辨量子磁学显微镜-部分应用案例■ 反铁磁磁畴观测 反铁磁材料器件拥有电学或光学激发翻转的性能，在新型磁存储上有着潜在的应用前景，本文通过使用基于NV色心的超分辨量子磁学显微镜研究了电流脉冲注入CuMnAs微器件后弛豫过程中和弛豫后反铁磁畴织构产生的磁杂散场，研究表明大的电阻变化与写入电流脉冲引起的畴的纳米碎裂有关。通过对具有交叉几何结构的微器件中电流密度分布的成像，进一步证明了电流引起的畴结构的变化是不均匀的。在不同延迟时间获得的磁杂散场图像显示，碎片化的磁畴模式保持着对它们放松的原始状态的记忆。该研究揭示了导致金属反铁磁体电开关的微观机制，并为今后反铁磁自旋电子学领域的研究指明了方向。参考文献：Current-induced fragmentation of antiferromagnetic domains, M. S. W?rnle, P. Welter, Z. Ka?par, K. Olejník, V. Novák, R. P. Campion, P. Wadley, T. Jungwirth, C. L. Degen, P. Gambardella, arXiv:1912.05287(2019).■ 磁畴壁研究通常SOT（自旋轨道力矩）诱导的磁畴翻转强烈依赖于磁畴臂的结构，2019年Saül Vélez等人使用NV色心磁学显微镜来揭示TmIG和TmIG/Pt层的磁畴臂磁化情况。如图所示，作者对TmIG和TmIG/Pt层进行了磁学显微测试，并对图b中的两个不同位置TmIG/Pt和TmIG区域的磁畴边界d/e进行了磁场扫描，经过同模拟结果对比发现位置d处的磁畴臂处于Left Néel-Bloch中间结构，而到了位置e处的磁畴臂转变成了Left Néel 结构，这些结果表明磁性石榴石中存在界面Dzyaloshinskii-Moriya相互作用，为稳定中心对称磁性缘体中的手性自旋织构提供了可能。 参考文献：Saül Vélez, et al. High-speed domain wall racetracks in a magnetic insulator. Nature Communications (2019) 10:4750. ■ 场成像微波场的成像和探测对于未来微波器件的工程以及在原子和固体物理中的应用具有重要意义。例如，利用原子和超导量子比特进行的腔量子电动力学实验，或者量子磁体和量子点的相干控制，都是基于利用微波电场或磁场操纵量子系统。因此，控制和了解微波近场的空间分布是获得佳器件性能的关键。本文通过使用基于NV色心的超分辨量子磁学显微镜对微波电流产生的磁场空间分布进行了探测。参考文献：P. Appel, New J. Phys.17(2015)112001 ■ 斯格明子研究 “斯格明子(skyrmion)”是一种具有拓扑保护性的准粒子。由于受到拓扑保护，相比于传统的磁存储基本单元（磁畴），磁斯格明子可以被压缩到更小的尺寸，而且具有更高的稳定性；同时，它可以被很低的电流所驱动，因此，被广泛认为是未来实现高速度，高密度，低能耗磁（自旋）存储器件的基本单元。2016年，Y. Dovzhenko等人通过NV色心磁学显微镜对磁性斯格明子表面的磁场进行了测试，重构出表面杂散磁场的分布，对斯格明子的类型具有指导意义。在Bloch 型斯格明子的假定下重构出的磁化分布中，中心处z 方向磁化几乎为零, 也就是磁化方向在面内, 这样的结构无法形成一个完整的斯格明子。而Néel 型假定给出的磁化分布更加符合理论模型中斯格明子的磁化分布. 因此, Néel 型的斯格明子更加符合实验结果. 对一些新颖的磁性斯格明子结构, 如纳米条带的边缘态和双斯格明子,基于NV 色心的磁成像能够为解析其磁化结构提供帮助。参考文献：Dovzhenko Y, Casola F, Schlotter S, Zhou T X, Büttner F, Walsworth R L, Beach G S D, Yacoby A 2016 arXiv:1611.00673 [cond-mat]. ■ 磁性涡旋结构研究磁性vortex是一种具有手性的磁性结构, 在自旋动力学和磁存储器件等方面有重要研究价值。该研究实验表明，基于NV色心的超分辨磁学显微镜能够与微磁模拟进行强有力的比较，是纳米磁性和更普遍的纳米科学基础研究的有力工具。事实上，直接测量弱磁场，不受扰动，具有纳米的分辨率，可以解决一些重要的问题，例如垂直各向异性薄膜中磁畴壁的性质，这些磁畴壁控制着薄膜的电流感应运动。参考文献：Rondin, L., Tetienne, J., Rohart, S. et al. Stray-field imaging of magnetic vortices with a single diamond spin. Nat Commun 4, 2279 (2013).■ 纳米结构中的电流分布测试纳米结构和薄膜中的电荷输运是许多科学技术现象和过程的基础，由于这种结构的纳米尺寸和电流的流动性质，直接显示这种结构中的电荷流具有挑战性。本次研究使用基于NV色心的超分辨磁学显微镜对二维导体网络（包括金属纳米线和碳纳米管）中电流密度进行磁成像。在电流密度噪声为～2×104A/cm2的情况下，对直流电流进行低至几个μA的检测。重建图像的空间分辨率通常为50nm，小为22nm。电流密度成像为研究二维材料和器件中的电子输运和电导变化提供了一条新的途径。参考文献：Chang et al., Nano Lett. 17 (2017) ■ 磁场任意波形时间分辨 基于NV色心的超分辨量子磁学显微镜除了进行过空间的磁学分辨外，还可以直接记录与时间相关的磁场，而不需要信号重建。J. Zopes & C. Degen等人使用自旋回波来差分检测波形的短片段，同时获得高的磁场灵敏度(~4μT/Hz1/2)和高的时间分辨率（~20ns），能进行任意波形的检测。可能的应用包括微型射频发射器的现场校准、集成电路中的信号映射检测、脉冲光电流的检测和薄膜中的磁开关等。 参考文献：J. Zopes & C. Degen, Phys. Rev. Appl. 12, 054028 (2019)

软磁材料测量系统HyMAC磁性测量仪是测量软磁性钢片以及铁样体磁芯的交流磁学性质的多功能设备。该设备的主要功能是测量磁滞回线，由以下几个部分构成：数据采集系统，数据分析软件包，样品测量线圈和夹具。有多种测量夹具可供选择以进行不同形状样品的测量。主要特征：符合国际电工委员会测量标准适合爱波斯坦方圈以及单片磁性材料测量直接给出磁滞回线，磁损耗，磁弹性以及磁电阻性能参数：频率范围：5－2500Hz输出功率：1200VA（可选择3KVA）对大样品的高磁场为10KA/m或1.7T测量输出结果：Hc，Br，Bm，Hm，磁损耗，渗透率，涡流损耗，磁滞三种操作模式：快速预测模式，固定磁场模式，扫描磁场模式数据采集系统，易于windows系统的操作软件包软磁性能测量仪工作流程：各种软磁测量夹具：

软磁材料测量系统HyMAC磁性测量仪是测量软磁性钢片以及铁样体磁芯的交流磁学性质的多功能设备。该设备的主要功能是测量磁滞回线，由以下几个部分构成：数据采集系统，数据分析软件包，样品测量线圈和夹具。有多种测量夹具可供选择以进行不同形状样品的测量。主要特征：符合国际电工委员会测量标准适合爱波斯坦方圈以及单片磁性材料测量直接给出磁滞回线，磁损耗，磁弹性以及磁电阻性能参数：频率范围：5－2500Hz输出功率：1200VA（可选择3KVA）对大样品的高磁场为10KA/m或1.7T测量输出结果：Hc，Br，Bm，Hm，磁损耗，渗透率，涡流损耗，磁滞三种操作模式：快速预测模式，固定磁场模式，扫描磁场模式数据采集系统，易于windows系统的操作软件包

目前上越来越多的物理学家将其注意力倾注于超强磁场条件下的各种物理现象的研究。众所周知，稳态强磁场需要强大的电源供应和苛刻的低温实验环境。其高额的运行费用也不是一般的实验室能够承担，所以仅有少数实验室才能花巨资和投入大量人力设计和建造，但高的磁场也只能限制在 40 T 左右。对于更高磁场下的物理研究，只能靠脉冲磁体完成。近年来材料科学的发展促使了脉冲磁体技术的进步，使得脉冲磁场下的测量技术成为一种高效的研究手段。其紧凑的结构设计和低廉的运行费用使得大多数的课题组都能够开展高脉冲场下材料物性的研究。比利时 Metis 公司是目前上为数不多的生产脉冲磁体的厂商之一。结合专门为脉冲磁体设计的杜瓦以及各种不同的测量选件，可以轻松胜任高脉冲场下的电学、磁学和光学等学科的研究，是研究高脉冲场下材料物性的综合性大平台。Metis 公司除了致力于设计和制造用于基础科研的大型脉冲强磁场物性测量系统外，还针对应用磁学领域开发了大功率冲磁系统、磁化夹具、硬磁材料测量系统、软磁材料测量系统等多种产品。 冲磁系统磁化夹具 硬磁材料性能测量系统软磁材料性能测量系统 低温脉冲强磁场实验平台脉冲强磁场专用临界电流测量系统 残留奥氏体测量仪

磁光克尔效应测量系统JMTS-816磁光克尔效应测量系统产品概述：磁光克尔效应装置是一种基于磁光效应原理设计的超高灵敏度磁强计，是研究磁性薄膜、磁性微结构的理想测量工具。旋转磁光克尔效应（RotMOKE）是在磁光克尔效应测量基础上的一种类似于转矩测量各向异性的实验方法，可以定量的得到样品的磁各向异性的值。但由于电磁铁磁场大小的限制，只适合于测量磁各向异性的易轴在膜面内而且矫顽场不太大的磁性薄膜材料。结合源表可以进行样品的磁输运性能测量。RotMOKE具有以下特点：测量精度高、测量时间短；非接触式测量，是一种无损测量；测量范围为一个点，可以测量同一样品不同部位的磁化情况；可以产生平滑、稳定的受控磁场，并且磁场平滑过零。应用领域：广泛应用于诸如磁性纳米技术、自旋电子学、磁性薄膜、磁性随机存储器、GMR/TMR等磁学领域。可测试材料：记录磁头，磁性薄膜，特殊磁介质，磁场传感器 磁光克尔效应测量系统产品特点：1测量灵敏度高，稳定性好，噪音低2非接触式测量，是一种无损测量3可以测量同一样品厚度不等的楔形磁性薄膜4可以将样品放到真空中原位测量5可以测量同一样品不同部位的磁化情况6纵向、横向和极向克尔效应测试7三百六十度电动旋转样品，可测试样品各向异性8手动左右和上下位移样品，可测试样品表面不同点的克尔效应9样品座有电接口，可加入磁电耦合测试。磁光克尔效应测量系统技术指标:1 样品尺寸：大Φ10mm的圆 2 克尔角分辨率（δ）：0.001度；3椭偏率分辨率（ε）：0.1%；4小光斑（Φ）：10微米；5 大磁场：单维0.26特斯拉；6 样品电动角度步进0.1度，手动位移步进10微米；7噪音：1%。磁光克尔效应测量系统技术参数：1光学平台： 刚性隔震，不锈钢贴面，1200*800*800mm，M6螺孔，25mm阵距，150mm台板厚度，带脚轮。台面平整度0.1/1000mm，平台载荷300Kg，固有频率≤2.5Hz，阻尼比0.12~0.13R/S。2矢量电磁铁：锦正茂二维矢量电磁铁，每维大磁场0.26T，极面直径30mm，磁场间隙40mm，中心10mm正方体内均匀区1%。3电磁铁电源：锦正茂单相双极性恒流，大10A，小分辨率0.1mA，稳定性50ppm/h，对应小分辨率0.1Gauss。 4激光器： Newport 632.8nm，2mW，2%稳定度，噪音1% rms（30Hz~10MHz），通过聚焦透镜光斑小为10μm的圆。5起偏/检偏器：格兰-汤普森棱镜，外径25.4mm，通光孔径10mm，消光比5*10^-5，角度范围14~16°，波长范围350~2300nm。6聚焦透镜：K9双凸，设计波长633nm，外径25.4mm，焦距150mm，焦距误差±0.5%，面精度X方向λ/4，Y方向λ/2。7四分之一波片：?25.4mm，波长632.8nm，投射波前畸变λ/8，相位延迟精度λ/100。8光电传感器：15mm2感应面积，0.21A/W响应度，暗电流1nA，对430~900nm波长光敏感，分流电阻200Mohm。9电流放大器：1pA/V大增益，1MHz带宽，大输入±5mA，大输出±5V，增益精度为输出的±0.05% 10高精度电压表：六位半，小分辨率0.1μV，90天准确度达到0.002%，四位半精度下最快2000 readings/second11手动位移和电动旋转样品杆： XYZ三维位移，XY行程25mm，Z行程13mm，转动360度，样品座为直径11mm的圆，上有电接头。12计算机： 联想商用，集成多串口卡。

集磁、电、热测量多功于一体的振动样品磁强计 ---VersaLab 美国Quantum Design公司成立于1982年，是由公司的SQUID磁强计的设计者创立，坐落于美国加州圣迭戈市。在公司成立的二十多年里，Quantum Design公司专注于打造两种产品线—SQUID磁学测量系统（MPMS）和综合物性测量系统（PPMS），它们已经成为研究领域实验数据可靠的标志，被广泛应用于物理、化学及材料科学等众多研究领域，遍布国内外相关实验室。2007年1月美国Quantum Design公司郑重推出了三种产品—多功能振动样品磁强计（VSM）—VersaLab，它是Quantum Design公司推出的无液氦多功能振动样品磁强计系统，温度范围为50~400 K，全温区磁场可至3 T，可以全自动高精度的进行磁、电、热等多种物性测量。从某种意义上来说，VersaLab也是一种经济型的PPMS系统（Quantum Design公司一种广为认可的材料研究大平台），因为VersaLab上的测量选件如磁学、电输运、比热等都是从PPMS上移植过来的，是非常成熟可靠的技术，经过了长时间的实验检验，这些测量方法的可靠性和便捷性在过去的十几年中已经得到科学界的广泛认可。与PPMS相比，VersaLab的测量功能和精度几乎完全相同，只不过磁场略低、温区略窄，但产品的诸多新特点使得用户的购买成本和运行成本大大降低。 主要特征1．集合磁、电学、热等高精度测量，功能强大2．50-1000K测量全程无需液氦或液氮，（微型制冷机冷却超导磁体以及样品室）3．技术提供更高温度控制精度4．超导磁体提供更均匀的背景磁场5． 高低温下均可达到大3T磁场6．无磁间距调整及鞍区调整等复杂操作7．高磁场下长期运行也无需冷却水8．单相电源供电(220V)能耗小(2.4KW)9．体积小巧，便于移动(重86 kg高1.31m)；席研发科学家Dr. Jim O’brien 和VersaLab，从中可以看出设备非常小巧丰富多样的选件：样品水平旋转杆选件(磁学、电学测量) VersaLab上的样品水平旋转杆选件是用于测量与角度相关联的电和磁性质，例如电阻率、霍尔效应、临界电流、伏安特性以及磁各向异性等。样品安装在能够轻易拆装的带有镀金引线的样品板上，仅需要将特定功能的样品板插入到旋转台上就能进行角度相关测量，在测量的过程中转杆由步进马达控制按照输入的转动精度进行全自动转动。技术参数转角范围： -10° to 370°角度转动步长： 0.05°或0.0045° (高精度)转动重复性： 1.0°转动速度： 10°每秒或1°每秒(高精度) VSM 高温炉选件VersaLab上VSM的高温炉选件用于扩展磁学测量的温度区间，高可以达到1000K。采用的样品腔真空热技术而没有采用任何加热炉腔，既没有引入噪声源保证了高温磁测量精度而且操作非常简单易行。高温磁学测量技术参数稳定工作温度： 300-1100K均方根灵敏度： 10-5 emu噪音基： 10-5 emu rms温度测量度： 0.5K 电输运测量选件 磁、电测量往往密不可分，VersaLab系统新推出的VersaLab电测量选件，允许用户在50-400K，±3T的系统环境下全自动的进行诸如电阻、微分电阻（非线性电阻）、磁电阻、伏安特性和霍尔效应等各种电学测量。技术参数噪声基： 1 nV/rtHz电压输出范围：± 4.5 V (一倍增益时)电流范围： 10nA-100mA 持续操作频率范围： 直流或交流（0.1Hz-200Hz）电阻测量精度： 0.1% (R 200 kΩ) ；0.2% (R 200 kΩ)相对灵敏度： ± 10 nΩ RMS (typical)电阻测量范围：四线法10-8Ω-106Ω； 二线法106Ω-5X109Ω 比热测量选件 比热是非常重要的物理量，但是实验上很难获得高品质的比热测量数据。Quantum Design公司采用了热驰豫法，使用双τ模型技术对驰豫曲线进行拟合，全自动快速地获得变温和变场下的高质量比热数据，该项技术曾获得1998年“R&D100”大奖。技术参数测量温度范围：50-400K磁场范围： ±3T样品尺寸： 1mg - 500mg（典型值20mg）测量灵敏度： 10nJ/K @2K测量精度： 5% @2K - 300K（典型值2%） 热输运测量选件 热输运选件可以同时测量样品的热传导系数、Seebeck系数（热电势）和交流电阻率，并根据这三个数据计算出热电材料的品质因子。样品测量采用样品托的方式，并配套有专用的样品安装工具。技术参数热传导测量精度：± 5 %Seebeck系数测量精度：± 5 %Seebeck系数测量范围：1 μV/K - 1 V/K品质因子测量精度：± 15 %（取决于S） 多功能样品杆选件 多功能样品杆能够方便用户将外接仪表的电源引线、信号采集线、光纤、微波导管等引入VersaLab系统的样品室内，从而可以进行例如铁电、介电、激光或微波辐照下的电输运等测量。

集磁、电、热测量多功于一体的振动样品磁强计 ---VersaLab 美国Quantum Design公司成立于1982年，是由公司的SQUID磁强计的设计者创立，坐落于美国加州圣迭戈市。在公司成立的二十多年里，Quantum Design公司专注于打造两种产品线—SQUID磁学测量系统（MPMS）和综合物性测量系统（PPMS），它们已经成为研究领域实验数据可靠的标志，被广泛应用于物理、化学及材料科学等众多研究领域，遍布国内外相关实验室。2007年1月美国Quantum Design公司郑重推出了三种产品—多功能振动样品磁强计（VSM）—VersaLab，它是Quantum Design公司推出的无液氦多功能振动样品磁强计系统，温度范围为50~400 K，全温区磁场可至3 T，可以全自动高精度的进行磁、电、热等多种物性测量。从某种意义上来说，VersaLab也是一种经济型的PPMS系统（Quantum Design公司一种广为认可的材料研究大平台），因为VersaLab上的测量选件如磁学、电输运、比热等都是从PPMS上移植过来的，是非常成熟可靠的技术，经过了长时间的实验检验，这些测量方法的可靠性和便捷性在过去的十几年中已经得到科学界的广泛认可。与PPMS相比，VersaLab的测量功能和精度几乎完全相同，只不过磁场略低、温区略窄，但产品的诸多新特点使得用户的购买成本和运行成本大大降低。 主要特征1．集合磁、电学、热等高精度测量，功能强大2．50-1000K测量全程无需液氦或液氮，（微型制冷机冷却超导磁体以及样品室）3．技术提供更高温度控制精度4．超导磁体提供更均匀的背景磁场5． 高低温下均可达到大3T磁场6．无磁间距调整及鞍区调整等复杂操作7．高磁场下长期运行也无需冷却水8．单相电源供电(220V)能耗小(2.4KW)9．体积小巧，便于移动(重86 kg高1.31m)；席研发科学家Dr. Jim O’brien 和VersaLab，从中可以看出设备非常小巧丰富多样的选件：样品水平旋转杆选件(磁学、电学测量) VersaLab上的样品水平旋转杆选件是用于测量与角度相关联的电和磁性质，例如电阻率、霍尔效应、临界电流、伏安特性以及磁各向异性等。样品安装在能够轻易拆装的带有镀金引线的样品板上，仅需要将特定功能的样品板插入到旋转台上就能进行角度相关测量，在测量的过程中转杆由步进马达控制按照输入的转动精度进行全自动转动。技术参数转角范围： -10° to 370°角度转动步长： 0.05°或0.0045° (高精度) 转动重复性： 1.0° 转动速度： 10°每秒或1°每秒(高精度) VSM 高温炉选件VersaLab上VSM的高温炉选件用于扩展磁学测量的温度区间，高可以达到1000K。采用的样品腔真空热技术而没有采用任何加热炉腔，既没有引入噪声源保证了高温磁测量精度而且操作非常简单易行。高温磁学测量技术参数稳定工作温度： 300-1100K均方根灵敏度： 10-5 emu噪音基： 10-5 emu rms温度测量度： 0.5K 电输运测量选件 磁、电测量往往密不可分，VersaLab系统新推出的VersaLab电测量选件，允许用户在50-400K，±3T的系统环境下全自动的进行诸如电阻、微分电阻（非线性电阻）、磁电阻、伏安特性和霍尔效应等各种电学测量。技术参数噪声基： 1 nV/rtHz电压输出范围：± 4.5 V (一倍增益时)电流范围： 10nA-100mA 持续操作频率范围： 直流或交流（0.1Hz-200Hz）电阻测量精度： 0.1% (R 200 kΩ) ；0.2% (R 200 kΩ)相对灵敏度： ± 10 nΩ RMS (typical)电阻测量范围：四线法10-8Ω-106Ω； 二线法106Ω-5X109Ω 比热测量选件 比热是非常重要的物理量，但是实验上很难获得高品质的比热测量数据。Quantum Design公司采用了热驰豫法，使用双τ模型技术对驰豫曲线进行拟合，全自动快速地获得变温和变场下的高质量比热数据，该项技术曾获得1998年“R&D100”大奖。技术参数测量温度范围：50-400K 磁场范围： ±3T样品尺寸： 1mg - 500mg（典型值20mg）测量灵敏度： 10nJ/K @2K测量精度： 5% @2K - 300K（典型值2%） 热输运测量选件 热输运选件可以同时测量样品的热传导系数、Seebeck系数（热电势）和交流电阻率，并根据这三个数据计算出热电材料的品质因子。样品测量采用样品托的方式，并配套有专用的样品安装工具。技术参数 热传导测量精度：± 5 %Seebeck系数测量精度：± 5 %Seebeck系数测量范围：1 μV/K - 1 V/K品质因子测量精度：± 15 %（取决于S） 多功能样品杆选件 多功能样品杆能够方便用户将外接仪表的电源引线、信号采集线、光纤、微波导管等引入VersaLab系统的样品室内，从而可以进行例如铁电、介电、激光或微波辐照下的电输运等测量。

Physical Property Measurement System (PPMS)综合物性测量系统 PPMS系统的设计理念是在一个完美控制的低温和强磁场平台上，集成全自动的磁学、电学、热学和形貌，甚至铁电和介电等各种物性测量手段。这样的设计使得整个系统的低温和强磁场环境得到了充分的利用，极大减少了客户购买仪器的成本，避免了自己搭建实验的繁琐和误差，可以迅速地实现研究人员珍贵的研究思路。 一个PPMS系统由基本系统和各种测量和拓展功能选件构成：基本系统提供低温和强磁场的环境，以及整个系统的软硬件控制中心；用户在基本系统平台的基础上选择自己感兴趣的各种测量选件和拓展功能选件。 对于绝大多数常规实验项目，PPMS已经设计好了全自动的测量软件，和具有标准测量功能的硬件，如交直流电阻率、磁电阻、微分电阻、霍尔系数、伏安特性、临界电流、交流磁化率、磁滞回线、热磁曲线、比热、热电效应、塞贝克系数、热导率和形貌表征等等。这些测量方法的可靠性和便捷性在过去的十几年中已经得到世界科学界的认可。经过独特而巧妙设计，PPMS系统上的各种测量选件之间能够互不干扰，且能够简单快速地相互切换。 PPMS 平台提供多种测量选件

Physical Property Measurement System (PPMS) 综合物性测量系统PPMS系统的设计理念是在一个精细控制的低温和强磁场平台上，集成全自动的磁学、电学、热学和形貌，甚至铁电和介电等各种物性测量手段。这样的设计使得整个系统的低温和强磁场环境得到了充分的利用，大大减少了客户购买仪器的成本，避免了自己搭建实验的繁琐和误差，可以迅速地实现研究人员珍贵的研究思路。 一个PPMS系统由基本系统和各种测量和拓展功能选件构成：基本系统提供低温和强磁场的环境，以及整个系统的软硬件控制中心；用户在基本系统平台的基础上选择自己感兴趣的各种测量选件和拓展功能选件。 对于大多数常规实验项目，PPMS已经设计好了全自动的测量软件，和具有标准测量功能的硬件，如交直流电阻率、磁电阻、微分电阻、霍尔系数、伏安特性、临界电流、交流磁化率、磁滞回线、热磁曲线、比热、热电效应、塞贝克系数、热导率和形貌表征等等。这些测量方法的可靠性和便捷性在过去的十几年中已经得到科学界的认可。经过特而巧妙设计，PPMS系统上的各种测量选件之间能够互不干扰，且能够简单快速地相互切换。温控范围： 1.9K - 400K连续控制温度拓展： 50mK 稀释制冷机 0.4K He3制冷机 1000K VSM高温炉温度扫描速率：0.01 - 8 K/min（非自循环型号）温度稳定性： ±0.2% T 10K ±0.02% T 10K温度控制模式：快速模式 非过冲模式 扫描模式磁场范围： 所含超导磁体大场（可选）： ±9T；±14T；±16T磁场分辨率： 0.02 mT to 1 T 0.2 mT to 9 T磁场稳定性： 1PPM/hour变场速率： 10-200 Oe/s剩磁： 5 Oe（9T以振荡模式降场）磁体操作模式：闭环模式和驱动模式磁场逼近模式：振荡模式 非过冲模式 线性模式 扫描模式 PPMS 平台提供多种测量选件 PPMS系统的主机 超导磁体系统 Superconducting Magnet System 温控系统 Temperature Control System 实验杜瓦 Research Dewar 硬件控制中心 Model 6000 系统控制软件 MultiVu Software Interface PPMS系统的选件 电输运测量选件 直流电阻率 (DC Resistivity) 高电输运 (ETO, Electrical Transport Option) 磁学测量选件 交直流磁强计 (ACMS, AC Magnetometer System) 振动样品磁强计 (VSM) VSM光诱导磁测量(VSM Mag-Opt) 扭矩磁强计 (Torque Magnetometer) 热学测量选件 比热 (HC, Heat Capacity Option) 热输运 (TTO, Thermal Transport Option) 拓展功能选件 He3制冷机 (Helium-3 Refrigerator System) 稀释制冷机 (DR, Dilution Refrigerator System) 超低场选件 (Ultra Low Field Option) 高真空选件 (Cryopump High Vacuum Option) 样品旋转杆选件 (HR, Horizontal Rotator Option) 多功能样品杆选件 (MFP, Multi Function Probe Option) 高压腔选件 (High Pressure Cell Option) 原子力/磁力显微镜选件 (AFM/MFM Option) 扫描霍尔探针显微镜选件 (SHPM Option) 共聚焦显微镜选件 (CFM Option) 液氦解决方案 带液氮夹层的大容量液氦杜瓦 (Nitrogen Jacketed Dewar) 新一代氦气启动循环杜瓦系统 (EverCool II) 液氦自循环杜瓦 (Reliquefier)

低温强磁场光探测磁共振成像系统attoCSFM在低温和纳米尺度下，对材料的磁学性质进行成像是超导、磁学和材料科学领域的研究者非常关心的课题，常用的分析方法包括了低温磁力显微镜（MFM）和低温扫描霍尔显微镜（SHPM），以及新的光探测磁共振成像技术（Optically Detected Magnetic Resonance, OMDR）。 在这些应用中，attoMFM具有空间分辨率高，但无法进行定量测量，而attoSHPM虽然能定量测量磁场大小，但空间分辨率却比较差。如何将二者的优点结合起来，成为科学家努力的一个目标 。在这一问题上，德国attocube公司率先实现突破，成功的将低温共聚焦显微镜（attoCFM）和低温原子力显微镜（音叉式attoAFM）结合，推出了光探测磁共振成像系统（attoCSFM），同时达到nm空间分辨率和3nT小探测磁场（100s积分时间），实现了对磁性材料高灵敏度、高空间分辨率的同步表征。 光探测磁共振成像系统attoCSFM是基于光学检测的电子自旋共振（ESR）技术，在音叉式AFM针上嵌入一个有氮空位（NV色心）的金刚石纳米晶粒，利用共聚焦显微镜检测NV色心自旋依赖的荧光强度。 音叉式AFM针通常以非接触模式工作，并且保持音叉式AFM针和样品之间的距离恒定。NV色心在样品产生的磁场下会发生能塞曼分裂，此时，如果用微波照射NV色心，一旦微波的频率和NV色心的ESR频率一致，attoCFM会观察到NV色心的荧光强度有很大下降。通过监测NV色心荧光强度，并利用锁相技术控制微波频率，使得其随针移动时始终处于ESR状态，记录下针位置与相应的ESR频率，再利用ESR频率和磁场的函数关系推倒出得到磁场的位置像。attoCSFM系统的稳定性好，室温下一个小时的漂移小于10nm。由于其磁传感器带一个NV色心的纳米金刚石晶粒体积小，和同样具有很高灵敏度的超导量子干涉仪器件以及扫描霍尔显微镜相比，它成像的空间分辨率在纳米尺度。传统的磁力显微镜(MFM)成像空间分辨率也可以到纳米尺度，但是attoMFM的磁性针和样品相互作用的方式决定了它在成像时对样品本身的磁性有扰动，并不是完全非侵入式的，而且只能给出定性的图像。attoCSFM工作温度1.5K-300K，磁场强度0-15T，CFM低温物镜（NA=0.82，WD=4mm），光谱范围400-1600nm，扫描范围30X30um(4K)。从工业应用来说，attoCSFM是研究下一代高密度磁存储器佳选择，也是发展和研究自旋电子学、量子技术新应用的新手段，它的出现解决了纳米尺度磁成像这一基本问题，在材料科学、超导科学、生物科学研究方面有着广泛应用。 attoCSFM系统简介

磁光克尔效应系统-NanoMOKE3英国Durham公司是依托于英国Durham大学的高科技企业。与Durham大学强大的磁光学研究相对应，Durham公司的Russell Cowburn教授（英国剑桥大学卡文迪许实验室主任，英国皇家科学院院士）设计并制造了灵敏度能到10-12emu且间距动态磁畴观测的磁光克尔效应系统——NanoMOKE3。NanoMOKE3是新一代超高灵敏度磁强计和克尔显微镜。在NanoMOKE2巨大成功的基础上，Nano-MOKE3在一套系统中集成了高品质激光磁强计和动态克尔显微镜。对于纵向、横向以及向磁光克尔效应都非常灵敏，使得NanoMOKE3成为研究磁性薄膜以及磁性微结构理想的测量工具。广泛应用于诸如磁性纳米技术、自旋电子学和磁性薄膜等磁学领域。NanoMOKE3具有高的灵敏度和强大的测量功能，同时系统灵巧的设计以及专用的操作软件让复杂的实验过程变得简单，使您能够快速的实现自己珍贵的研究思路、获得可靠实验数据。NanoMOKE3进行了全新的升，增加了超快速的CCD，更加方便您的测试。主要技术指标： 温度范围：4.2-500 K 大磁场： 5000 Oe 推荐样品大小：1-2.5 cm 小克尔转角检出角：0.5 mdeg 小反射率变化率检出量：0.02% 主要特点：1、非常高的灵敏度和稳定性，非常低的噪音，可以探测到低至 10-12 emu 的磁矩。2、高度聚焦的激光，激光束斑达到 2 μm，可以轻松进行样品的局部或单个结构的性能检测。3、先进的样品定位技术。光路中集成光学显微镜以观测激光束斑的聚焦点和大小；扫描克尔显微镜可以探测样品的交流磁化率图像以及反射率图像，帮助用户选择样品的精细测量区域。4、灵活开放的系统设计。所有的光学器件都安装在一个标准光学平台上，允许用户对光学器件进行调整，满足自己的科研需要。5、任意的磁场波形控制。可以选配多种电磁体：四磁体、偶磁体以及螺线管磁体，能够轻松地在样品表面产生各种复杂的磁场。6、简单易用的专用操作控制软件 LX Pro。该软件基于微软的 Windows 系统，能够自动完成所有实验以及实验数据的处理。几种不同测试手段对比： 测试手段SQUIDVSMMFMMOKE样品要求液体,粉末,块材,薄膜液体,粉末,块材,薄膜薄膜，表面抛光的块材薄膜，表面抛光的块体测量内容MT，MHMT，MH磁畴图像磁滞回线，磁畴图像，材质分布测试精度非常高较高较高M不可定量，灵敏度高，磁畴形貌不及MFM宏观/微观宏观磁性宏观磁性微观微观磁畴不能不能静态静态/动态磁畴各向异性可以转角测试不能测试不可以可以NanoMOKE3丰富的测试功能：单点loop功能区域mapping功能Rastering磁畴成像功能高速CCD磁畴成像功能反射率成像功能原理变化磁场下对单点快速进行向或纵向克尔信号扫描测量在变化磁场下，对待测区域内各点进行loop测量，然后对loop面积积分进而得出区域各点磁性性质，进而获得磁性分布图在固定磁场下以矩阵扫描的方式对区域内各点进行克尔信号测量在固定磁场下，用快速扫描的激光照在待测区域，通过光学CCD对整个待测区域的所有点的克尔信号测量在进行其他测的同时，获得样品表面的反射光强信号。获得同磁畴形貌同一区域的外观形貌特点不同温度下，直接获得克尔信号随磁场变化的Loop不同温度下，获得区域磁性分布信息，可以进行向或纵向克尔效应的测量不同温度下，获得区域磁畴分布信息，可以进行向或纵向克尔效应的测量不同温度下，快速获取磁畴分布信息，可以进行向或纵向克尔效应的测量无需时间专门测量，跟其他形貌图形同时获得应用可判断易/难磁化轴，矫顽力，磁学性质获得区域各点的磁性信息、可用于研究各向异性。变温测量区域静态磁畴、动态磁畴的测量。变温变场测量快速观测静态磁畴和动态磁畴与磁畴形貌做对比分析，进行光功率扰动磁畴图像修正，判断克尔信号的噪声等精度利用光电转换器测量，精度非常高利用光电转换器测量，精度非常高利用光电转换器测量，精度非常高利用CCD转换器利用光电转换器测量，精度非常高部分测试数据：Pattern，磁畴和动态磁畴的观测： ◆ 使用快速的rastering模式来探测样品表面的Pattern ◆ 通过测试Loop功能来检测样品的难/易轴 ◆ 不同的颜色代表不同的磁畴，利用NanoMOKE3可以观测动态磁畴 ◆ 不同的颜色代表不同的磁性能，从中我们可以检测样品的mapping各项异性 开放灵活的设计：我公司为客户提供多种拓展选件，预留光源输入窗，可使用其他光源；另外配备了低温和高磁场下的磁光克尔效应测试选件，下图为我公司为客户配备的Montana恒温器。在软件上的接口同样丰富，用户可以轻松的完成与其他实验设备的对接和控制。

磁光克尔效应系统-NanoMOKE3英国Durham公司是依托于英国Durham大学的高科技企业。与Durham大学强大的磁光学研究相对应，Durham公司的Russell Cowburn教授（英国剑桥大学卡文迪许实验室主任，英国皇家科学院院士）设计并制造了灵敏度能到10-12emu且间距动态磁畴观测的磁光克尔效应系统——NanoMOKE3。NanoMOKE3是新一代超高灵敏度磁强计和克尔显微镜。在NanoMOKE2巨大成功的基础上，Nano-MOKE3在一套系统中集成了高品质激光磁强计和动态克尔显微镜。对于纵向、横向以及向磁光克尔效应都非常灵敏，使得NanoMOKE3成为研究磁性薄膜以及磁性微结构理想的测量工具。广泛应用于诸如磁性纳米技术、自旋电子学和磁性薄膜等磁学领域。NanoMOKE3具有高的灵敏度和强大的测量功能，同时系统灵巧的设计以及专用的操作软件让复杂的实验过程变得简单，使您能够快速的实现自己珍贵的研究思路、获得可靠实验数据。NanoMOKE3进行了全新的升，增加了超快速的CCD，更加方便您的测试。主要技术指标： 温度范围：4.2-500 K 大磁场： 5000 Oe 推荐样品大小：1-2.5 cm 小克尔转角检出角：0.5 mdeg 小反射率变化率检出量：0.02% 主要特点：1、非常高的灵敏度和稳定性，非常低的噪音，可以探测到低至 10-12 emu 的磁矩。2、高度聚焦的激光，激光束斑达到 2 &mu m，可以轻松进行样品的局部或单个结构的性能检测。3、先进的样品定位技术。光路中集成光学显微镜以观测激光束斑的聚焦点和大小；扫描克尔显微镜可以探测样品的交流磁化率图像以及反射率图像，帮助用户选择样品的精细测量区域。4、灵活开放的系统设计。所有的光学器件都安装在一个标准光学平台上，允许用户对光学器件进行调整，满足自己的科研需要。5、任意的磁场波形控制。可以选配多种电磁体：四磁体、偶磁体以及螺线管磁体，能够轻松地在样品表面产生各种复杂的磁场。6、简单易用的专用操作控制软件 LX Pro。该软件基于微软的 Windows 系统，能够自动完成所有实验以及实验数据的处理。几种不同测试手段对比： 测试手段SQUIDVSMMFMMOKE样品要求液体,粉末,块材,薄膜液体,粉末,块材,薄膜薄膜，表面抛光的块材薄膜，表面抛光的块体测量内容MT，MHMT，MH磁畴图像磁滞回线，磁畴图像，材质分布测试精度非常高较高较高M不可定量，灵敏度高，磁畴形貌不及MFM宏观/微观宏观磁性宏观磁性微观微观磁畴不能不能静态静态/动态磁畴各向异性可以转角测试不能测试不可以可以NanoMOKE3丰富的测试功能：单点loop功能区域mapping功能Rastering磁畴成像功能高速CCD磁畴成像功能反射率成像功能原理变化磁场下对单点快速进行向或纵向克尔信号扫描测量在变化磁场下，对待测区域内各点进行loop测量，然后对loop面积积分进而得出区域各点磁性性质，进而获得磁性分布图在固定磁场下以矩阵扫描的方式对区域内各点进行克尔信号测量在固定磁场下，用快速扫描的激光照在待测区域，通过光学CCD对整个待测区域的所有点的克尔信号测量在进行其他测的同时，获得样品表面的反射光强信号。获得同磁畴形貌同一区域的外观形貌特点不同温度下，直接获得克尔信号随磁场变化的Loop不同温度下，获得区域磁性分布信息，可以进行向或纵向克尔效应的测量不同温度下，获得区域磁畴分布信息，可以进行向或纵向克尔效应的测量不同温度下，快速获取磁畴分布信息，可以进行向或纵向克尔效应的测量无需时间专门测量，跟其他形貌图形同时获得应用可判断易/难磁化轴，矫顽力，磁学性质获得区域各点的磁性信息、可用于研究各向异性。变温测量区域静态磁畴、动态磁畴的测量。变温变场测量快速观测静态磁畴和动态磁畴与磁畴形貌做对比分析，进行光功率扰动磁畴图像修正，判断克尔信号的噪声等精度利用光电转换器测量，精度非常高利用光电转换器测量，精度非常高利用光电转换器测量，精度非常高利用CCD转换器利用光电转换器测量，精度非常高部分测试数据：Pattern，磁畴和动态磁畴的观测： ◆ 使用快速的rastering模式来探测样品表面的Pattern ◆ 通过测试Loop功能来检测样品的难/易轴 ◆ 不同的颜色代表不同的磁畴，利用NanoMOKE3可以观测动态磁畴 ◆ 不同的颜色代表不同的磁性能，从中我们可以检测样品的mapping各项异性 开放灵活的设计：我公司为客户提供多种拓展选件，预留光源输入窗，可使用其他光源；另外配备了低温和高磁场下的磁光克尔效应测试选件，下图为我公司为客户配备的Montana恒温器。在软件上的接口同样丰富，用户可以轻松的完成与其他实验设备的对接和控制。

产品详情DynaCool 全新一代完全无液氦综合物性测量系统 美国Quantum Design公司近期隆重推出最新产品-完全无液氦综合物性测量系统PPMSDynaCool™ 。它是继多功能振动样品磁强计VersaLab（3T，50K-400K）之后，Quantum Design公司推出的第二款完全无需液氦等任何制冷剂的测量系统。 PPMS DynaCool在功能上仍然是一台PPMS系统，具有以往PPMS系统的所有测量功能。然而由于其杜瓦内部的重新优化设计，使得PPMS DynaCool系统完全不需要液氦等任何制冷剂，系统使用一个二级脉冲管制冷机同时为超导磁体和样品测量提供超低振动的低温环境。并且系统主机就已经集成了产生10-4Torr高真空的冷泵，从而使PPMS DynaCool能与所有相关选件升级兼容。 系统原理图 温度参数： 温度范围：1.85K-400K VSM高温炉可扩展高温至1000K He3制冷机可扩展低温至0.5K 稀释制冷机可扩展低温至50mK 降温时间：从300K降至1.9K并稳定40min 温度稳定性：±0.1% for T20K（典型值） ±0.02% for T20K（典型值) 控温模式：连续低温控制和温度扫描模式 PPMS DynaCool温度扫描曲线，300K降至1.9K少于40分钟 磁场参数： 9T磁体 磁场范围：±90000 Oe 达到满场时间：8min 扫场速率：0.1——200 Oe/S 初次启动时间：~16小时 14T磁体磁场范围：±140000 Oe达到满场时间：40min扫场速率：0.2——120 Oe/S（低场时更快）初次启动时间：~40小时 PPMS 平台提供多种测量手段 功能选件——磁学测量振动样品磁强计选件（VSM） 采用长程电磁力驱动马达，比传统VSM马达噪音更低。采用超导磁体，磁场均匀度比传统电磁铁更好。采用新型控温技术，比传统VSM控温更好。 高温炉组件可将VSM的高温扩展至1000KVSM测量参数：灵敏度: 10-6 emu/tesla噪音基: 6 x 10-7 emu rms精确度: 5 x 10-6 emu/tesla振动频率: 40 Hz振动幅值: 0.5 to 10 mm最大可测磁矩: ~ 40 emu最大可测量磁矩: ~ 75 emu探测线圈内径: 6.3 mm I.D. 12 mm I.D.（可选） 长程电磁驱动高精度马达 新型交流磁学性质测量选件ACMS II可同时测AC和DC的磁学性质，而且测交流磁化率精度很高，可与SQUID媲美。 交流磁化率 灵敏度: 1 x 10-8 emu交流场: 0.005 Oe – 15 Oe (peak)频率: 10 Hz – 10 KHz特有的校准线圈组逐点测量并消除了背景相漂移 直流磁化强度灵敏度: 5 x 10-6 emu 交流磁化率线圈原理图 光诱导磁测量选件（VSM FOSH） 该组件为研究光激发情况下物质磁性变化的最佳选择。可选波长连续可调的光源。单色光源 (MLS) 波长范围: 360 nm to 845 nm光源: 氙灯 – 150 W光纤：325 - 900 nm (D320-UV) 375-2250 nm (D320-IR)样品尺寸: 1.6 mm (max)灵敏度: 1 x 10-4 emu可控电子快门 光磁样品杆 扭矩磁强计选件（Torque Magnetometer） 磁各向异性的高精度测量首选组件。扭矩背景噪音： 1×10-9 Nm磁矩灵敏度： 1×10-7 emu @ 9T 1×10-8 emu @ 14T扭矩测量范围： ±10-5 Nm芯片尺寸： 6×6×1 mm3安装样品区域： 2×2 mm2最大样品尺寸： 1.5×1.5×0.5 mm3最大样品质量： 10 mg角速度（度/秒）： 0.05 - 10（标准型） 0.0045 - 1（高精度 型）角度步长： 0.05°（标准型）0.0045°（高精度型） 磁扭矩高精度芯片 磁各向异性测量所用旋转样品杆 功能选件——电学测量 直流电输运选件（ DC Resistivity ） 电流范围： 5nA - 5mA最高电压： 95mV电压灵敏度： 20nV （典型值）电阻测量范围： 4μΩ - 4MΩ测量精度： 0.01% （典型值） 高级电输运测量选件（ETO） 噪声基：1 nV/rtHz电压输出范围：± 4.5 V (一倍增益时)电流范围：10nA-100mA 持续操作频率范围：直流或交流（0.1Hz-200Hz）电阻测量精度：0.1% (R 200 kΩ) 0.2% (R 200 kΩ)相对灵敏度：± 10 nΩ RMS (典型值)电阻测量范围：四线法10-8Ω-106Ω 二线法106Ω-1010Ω 电测量用样品托 范德堡法测电阻 channel1四点法测电阻 channel2霍尔测量 功能选件——热学测量 比热测量选件（Heat Capacity）l 高精度、高自动化程度的设计l 便捷的样品安装装置l 具有自动驰豫的精密量热学技术l 具有完备的数据收集电子设备和数据分析软件l 采用出色的双 ι (two tau model™ )模型拟合技术l 对于每一个测量点系统自动计算和记录德拜温度测量温度范围：1.9K - 400K（从2K开始出点） 配合He3 制冷机可达0.4 K 配合稀释制冷机可达50 mK可测比热范围：1μJ/K – 100mJ/K样品尺寸： 1mg - 500mg（典型值20mg）测量灵敏度： 10nJ/K @2K测量精度： 5% @2K - 300K（典型值2%） 比热专用样品托 不同磁场下比热随温度的变化曲线 热输运测量选件（TTO） 独特的设计使得PPMS配合该选件, 能够进行以下参数的测量: AC 电阻率 热导 热导率 塞贝克系数 热电品质因数 利用专用的样品托进行样品安装和固定, 不需要特殊的样品杆 四端头引线法将接线头的热阻和电阻效应降到最低 在温度不断变化的情况下进行连续测量,能够得到高密度的数据 特有的系统自适应测量方案非常适合研究陌生材料 软件可以精确的动态建立热流量模型，补偿各种 可能的系统误差 全自动的测量过程，操作简单热传导测量精度 ± 5 %或± 2 μW/K， T 15 K ± 5 %或± 20 μW/K， 15 K T 200 K ± 5 %或± 0.5 mW/K，200 K T 300 K ± 5 %或± 1 mW/K， T 300 KSeebeck 系数 测量精度：± 5 %或± 0.5μV/K 或± 2 μV 测量范围：1 μV/K - 1 V/K 热输运测量样品示意图 热输运腔外检测装置 电阻率测量 最大电流200mA品质因子测量 测量精度：±15%（取决于S） 测量速度（典型值） ±0.5 K/min,T20 K；±0.2 K/min,T20 K QuantumDesign2017年全新推出AC-DR、膨胀系数、光电输运选件AC-DR稀释制冷机专用交流磁化率选件 全新AC-DR选件配合PPMS稀释制冷机使用，能够实现50mk极限低温下的交流磁化率测量。频率范围：10Hz-10kHz温度范围：50mK-4K Dilatometer膨胀系数选件(Beta) S. Ran et. al (2015 Dec). Thermal expansion and high magnetic field electrical transport measurementson Fe substituted URu2Si2. Poster session at the Big Ideas, San Diego, Ca. 光电输运选件

PPMSDynaCoolTM完全无液氦综合物性测量系统美国QuantumDesign公司完全无液氦综合物性测量系统PPMSDynaCoolTM，是继多功能振动样品磁强计VersaLab（3T，50K-400K）之后，QuantumDesign公司推出的二款完全无需液氦等任何制冷剂的测量系统。PPMSDynaCoolTM在功能上仍然是一台PPMS系统，具有以往PPMS系统的所有测量功能。然而由于其杜瓦内部的重新优化设计，使得PPMSDynaCool系统完全不需要液氦等任何制冷剂，系统使用一个二脉冲管制冷机同时为超导磁体和样品测量提供超低振动的低温环境。并且系统主机就已经集成了产生10-4Torr高真空的冷泵，从而使PPMSDynaCool能与所有相关选件升兼容。基系统特点：* 完全无需液氦或液氮等任何制冷剂* 温度范围：1.9K–400K* 连续低温控制：能在4.2K以下无控温，且能连续平滑通过4.2K 液氦相变点* 可控的温度扫描模式* 完全自动化控制所有功能选件* 主机内置冷泵提供10-4Torr高真空* 基于CAN的电路构架增强选件之间的兼容性* 具有节能的Standby模式，并能迅速恢复至正常运行系统原理图温度参数：* 温度范围：1.85K-400K* VSM高温炉可扩展高温至1000K* He3制冷机可扩展低温至0.5K* 稀释制冷机可扩展低温至50mK* 降温时间：从300K降至1.9K并稳定40min* 温度稳定性：±0.1%forT20K（典型值）* ±0.02%forT20K（典型值)* 控温模式：连续低温控制和温度扫描模式PPMS DynaCool温度扫描曲线，300K降至1.9K少于40分钟磁场参数：9T磁体 磁场范围：±9T达到满场时间：8min扫场速率：0.1——200Oe/S初次启动时间：~16小时 12/14T磁体磁场范围：±12T；±14T达到满场时间：40min扫场速率：0.2——120Oe/S（低场时更快）初次启动时间：~40小时 　　PPMS平台提供多种测量手段功能选件——磁学测量振动样品磁强计选件（VSM） 采用长程电磁力驱动马达，比传统VSM马达噪音更低。采用超导磁体，磁场均匀度比传统电磁铁更好。采用新型控温技术，比传统VSM控温更好。 高温炉组件可将VSM的高温扩展至1000KVSM测量参数：灵敏度: 10-6 emu/tesla噪音基: 6 x 10-7 emu rms精确度: 5 x 10-6 emu/tesla振动频率: 40 Hz振动幅值: 0.5 to 10 mm大可测磁矩: ~ 40 emu大可测量磁矩: ~ 75 emu探测线圈内径: 6.3 mm I.D. 12 mm I.D.（可选）新型交流磁学性质测量选件ACMS II可同时测AC和DC的磁学性质，而且测交流磁化率精度很高，可与SQUID媲美。 交流磁化率 灵敏度: 1 x 10-8 emu交流场: 0.005 Oe – 15 Oe (peak)频率: 10 Hz – 10 KHz特有的校准线圈组逐点测量并消除了背景相漂移直流磁化强度灵敏度: 5 x 10-6 emu 光诱导磁测量选件（VSM FOSH）该组件为研究光激发情况下物质磁性变化的解决方案。可选波长连续可调的光源。单色光源 (MLS) 波长范围: 360 nm to 845 nm光源: 氙灯 – 100 W光纤：325 - 900 nm (D320-UV) 375-2250 nm (D320-IR)灵敏度: 1 x 10-4 emu扭矩磁强计选件（Torque Magnetometer） 磁各向异性的高精度测量组件。扭矩背景噪音： 1×10-9 Nm磁矩灵敏度： 1×10-7 emu @ 9T 1×10-8 emu @ 14T扭矩测量范围： ±10-5 Nm芯片尺寸： 6×6×1 mm3安装样品区域： 2×2 mm2大样品尺寸： 1.5×1.5×0.5 mm3大样品质量： 10 mg角速度（度/秒）： 0.05 - 10（标准型） 0.0045 - 1（高精度型）角度步长： 0.05°（标准型） 0.0045°（高精度型）功能选件——电学测量直流电输运选件（ DC Resistivity ） 电流范围： 5nA - 5mA高电压： 95mV电压灵敏度： 20nV （典型值）电阻测量范围： 4μΩ - 4MΩ测量精度： 0.01% （典型值）高电输运测量选件（ETO） 噪声基：1 nV/rtHz电压输出范围：± 4.5 V (一倍增益时)电流范围：10nA-100mA 持续操作频率范围：直流或交流（0.1Hz-200Hz）电阻测量精度：0.1% (R 200 kΩ) 0.2% (R 200 kΩ)相对灵敏度：± 10 nΩ RMS (典型值)电阻测量范围：四线法10-8Ω-106Ω 二线法106Ω-1010Ω功能选件——热学测量比热测量选件（Heat Capacity）● 高精度、高自动化程度的设计● 便捷的样品安装装置● 具有自动驰豫的精密量热学技术● 具有完备的数据收集电子设备和数据分析软件● 采用出色的双 τ (two tau modelTM )模型拟合技术● 对于每一个测量点系统自动计算和记录德拜温度测量温度范围：1.9K - 400K（从2K开始出点）配合He3 制冷机可达0.4 K配合稀释制冷机可达50 mK可测比热范围：1μJ/K – 100mJ/K样品尺寸： 1mg - 500mg（典型值20mg）测量灵敏度： 10nJ/K @2K测量精度： 5% @2K - 300K（典型值2%） 热输运测量选件（TTO）● 特的设计使得PPMS配合该选件, 能够进行以下参数的测量: AC 电阻率 热导 热导率 塞贝克系数 热电品质因数● 利用专用的样品托进行样品安装和固定, 不需要特殊的样品杆● 四端头引线法将接线头的热阻和电阻效应降到低● 在温度不断变化的情况下进行连续测量,能够得到高密度的数据● 特有的系统自适应测量方案非常适合研究陌生材料● 软件可以的动态建立热流量模型，补偿各种可能的系统误差● 全自动的测量过程，操作简单 热传导测量精度 ± 5 % 或± 2 μW/K， T 15 K ± 5 % 或± 20 μW/K， 15 K T 200 K ± 5 % 或± 0.5 mW/K，200 K T 300 K ± 5 % 或± 1 mW/K， T 300 KSeebeck 系数测量精度：± 5 % 或± 0.5μV/K 或± 2 μV测量范围：1 μV/K - 1 V/K　　QuantumDesign全新推出AC-DR、膨胀系数、光电输运选件　　AC-DR稀释制冷机专用交流磁化率选件　　全新AC-DR选件配合PPMS稀释制冷机使用，能够实现50mk限低温下的交流磁化率测量。　　频率范围：10Hz-10kHz　　温度范围：50mK-4K　　Dilatometer膨胀系数选件S. Ran et. al (2015 Dec). Thermal expansion and high magnetic field electrical transport measurementson Fe substituted URu2Si2. Poster session at the Big Ideas, San Diego, Ca.　　光电输运选件　　更多功能拓展选件（详情咨询Quantum Dsign中国子公司）高压腔选件 (High Pressure Cell Option)样品旋转杆选件 (HR, Horizontal Rotator Option)热去磁低温电输运测量选件（ADR）He3制冷机 (Helium-3 Refrigerator System)稀释制冷机 (DR, Dilution Refrigerator System)高精度铁磁共振测量选件（FMR）多功能样品杆选件 (MFP, Multi Function Probe Option)

磁光克尔显微镜综合测试设备，显微磁畴空间分辨率优于0.5微米，磁光克尔角分辨率优于0.1毫度，支持极向克尔、纵向克尔、横向克尔三种磁光克尔效应测量方式。在追踪平面内数百万点的磁畴动态信息的同时，可搭配探针台实现电学、磁学、光学同步观测。广泛应用于磁学和自旋电子学领域中磁光克尔效应，磁滞回线，磁畴翻转或扩展动态等观测。相较于传统的单点磁滞回线测量仪，磁光克尔综合测试平台，可以追踪平面内数百万点的实时磁性动态信息。结合该测试平台提供的直流探针，高频探针，样品的测试无比便捷。当下自旋电子学或磁学的研究，已经由磁性驱动的翻转，发展到了直流电流驱动、脉冲电流驱动、微波脉冲驱动、光驱动等一系列的激励源作用下的深度研究。托托科技（苏州）有限公司提供的标准系统按照性能优先，稳定性优先的设计思路，可以满足实验室研究及工业生产中各种相关材料的测试需求。标准设备中提供了磁场激励、电流激励等多种选项，是客户在自旋特性研究中的得力测试平台。更多的选项可以根据客户需求选择升级。

多功能高分辨率磁光克尔显微成像系统——眼见为实：让磁学测试可视化！致真精密仪器(青岛)有限公司生产的多功能高分辨率磁光克尔显微成像系统，以自主设计的光路结构及奥林巴斯、索莱博光电元件为基础制造，适用于磁性材料/ 自旋电子器件的磁畴成像和动力学研究。★ 多功能探针台，能够提供面内、垂直磁场及多对直流/ 高频探针- 磁光成像与自旋输运测试结合！★ 高达1.8T 垂直磁场，1 T 面内磁场，4K-800K 变温，可用于硬磁材料成像研究。多功能控制系统测试信号控制- 垂直/ 面内磁场/ 电流/ 微波等多路信号 μs 别同步施加；- 各信号的波形、幅度、频率、相对延时等参数轻松调节。图像处理- 实时作差消背底噪声；- 自动纠正震动漂移等。信号解析- 电流、磁场测试信号的实时显示；- 基于克尔图像分析，对样品局域 （300 nm） 或全局做磁滞回线扫描。磁场探针台面内磁场★ 高达1 T，反应速度50 ms，度0.1 mT。三路垂直磁铁任意切换★ 磁场1：高达1.8 T，反应速度50 ms，度0.1 mT；★ 磁场2：高达30 mT，反应速度50 μs，度0.01 mT；★ 磁场3：高达50 mT，反应速度1 μs, 度0.01 mT；★ 可配置6 个直流/ 高频探针，配置10 V，20 MHz任意波形信号源。成像效果★ 克尔成像分辨率300 nm （100 倍物镜）；★ 视野：1.2 mm×1 mm （5 倍物镜）；★ 能检测2 个原子层薄膜的磁性变化。CoFeB(1.3 nm)/W(0.2)/CoFeB(0.5) 薄膜中的迷宫畴图像处理★ 以任意图像为背底，实时作差消噪声；★ 图像漂移校正，自动添加比例尺等功能。CoFeB(20 nm) 薄膜中，[ 面内磁场20mT] 驱动磁畴翻转CoTb 亚铁磁微米线中SOT 驱动的磁性翻转CoFeB/W/CoFeB薄膜中的微米大小的磁泡200 nm 宽的Ta/CoFeB/MgO 线中，[120 mT, 5 μs] 磁场脉冲驱动畴壁移动其他功能★ 分析全局或者局部 （300 nm） 克尔图像，获得磁滞回线；★ 磁滞回线的横轴可以为面内、垂直磁场或者电流等任意激励信号；★ 可配置变温系统：4K-800K 温度可调；★ 搭配ST-FMR，二次谐波等测试系统和软件；★ 预留各种接口，可根据实验需求自主改装。应用案例■ 局部磁本征参数表征克尔显微镜有一套表征几乎所有磁学本征参数的方法。与其它表征方法相比，优势是可以进行微小区域内（300 nm） 的局部性质表征，为各种磁性调控实验 （如辐照、压控、光控磁）、以及性质不均一的材料表征提供了可能性。局部饱和磁化强度MS表征由于偶作用，磁畴壁在靠近时会相互排斥。通过观察不同磁场下畴壁的距离，可以提取局部区域的饱和磁化强度MS。此方法由巴黎- 萨克雷大学Nicolas Vernier 教授（本公司技术顾问）在2014 年先提出并验证。与VSM 测量结果得到良好吻合[1]。局部各向异性能 K 的表征通过分析局域克尔图像明暗变化，可以获得磁滞回线，从而提取局部区域等效各向异性场强度。海森堡交换作用常数Aex用我们的磁场“自定义波形”功能，将样品震荡退磁，再将得到的迷宫畴图片进行傅里叶变换，能够得知磁畴宽度，从而提取海森堡交换作用刚度[2]。退磁状态下的薄膜材料的磁畴结构Dzyaloshinskii-Moriya 作用（ DMI） 的表征利用面内磁场和垂直磁场共同作用下的磁畴壁非对称性扩张，能够测量薄膜材料的DMI 作用强度。基于此款设备的得到的成果发表在Nanoscale 杂志[3]。 参考文献：[1] Yu Zhang et al. Phys. Rev. Appl. 9, 064027 (2018).[2] M. Yamanouchi et al., IEEE Magn. Lett. 2, 3000304 (2011). [3] Anni Cao et al., Nanoscale 10, 12062 (2018).■ 磁畴壁动力学研究磁场、电流或者其它激励下磁畴壁的移动速度测量方法：施加幅度为B, 宽度为t 的磁场/ 电流脉冲，在脉冲前后分别拍摄克尔图像并作差，获得畴壁移动距离d，则速度v=d/t。备注：有限视野范围内，超快畴壁运动的测量需要超短信号脉冲。本系统配置的 μs 反应速度的磁场可实现200m/s畴壁速度的测量。10ms 力波磁场脉冲4 μs 超快磁场脉冲磁畴壁张力效应的观测利用微秒别超快磁场脉冲，可在微小样品中创造出磁泡。利用此款高分辨率克尔显微镜，次观察到了磁畴壁在自身张力作用下的自发收缩过程[1-3]。磁畴壁Hall bar 处的钉扎作用利用磁场脉冲，我们控制磁畴壁在纳米线中的位置。观察磁畴壁的钉扎过程并测量解钉扎磁场[1]。参考文献：[1] Xueying Zhang et al., Phys. Rev. Appl. 9, 024032 (2018).[2] Xueying Zhang et al. Nanotechnology 29, 365502 (2018).[3] Anni Cao et al., IEEE Magn. Lett. 9, 1 (2018).■ 自旋输运性质测试+成像STT 电流驱动的磁畴壁运动通过配备的探针和主控系统的任意波形发生器，可向样品施加50 ns–s 别的方波，观察磁畴壁运动并测量速度。STT 电流与垂直磁场共同作用下的磁畴壁运动在某些材料中，无法观测到纯电流驱动的磁畴壁运动。这时，可以利用此设备μs 别的超快磁场脉冲与电流同步，观测垂直磁场+ 电流共同驱动的畴壁运动，从而解析多种物理效应，如重金属/ 铁磁体系的自旋化率由于自旋散射降低的效应[1]。微秒同步的磁场和电流方波脉冲电流与面内磁场共同作用下的磁畴壁运动Hall 自旋流与面内磁场共同作用，诱导磁矩翻转，即所谓的SOT 翻转。本设备配置的面内磁场和电学测试系统，不但可以实现这个过程的电学测试，还可以利用相机与信号采集卡同步的功能，逐点解析翻转曲线对应的磁畴状态[2]。参考文献：[1] Xueying Zhang et al., Phys. Rev. Appl. 11, 054041 (2019). [2] Xiaoxuan Zhao et al., Nanotechnology 30, 335707 (2019).测试数据1. 检测磁性材料质量MgO/Co/Pt 样品：MgO 晶格错位导致的Co 薄膜缺陷。在微小磁场作用下，缺陷周围即出现磁性翻转。质量不好磁性薄膜，磁性翻转过程中出现雪花状磁畴。质量优良的磁性薄膜，磁畴结构均匀，边缘光滑。2. 检测缺陷位置缺陷处，磁畴壁运动变形，形成钉扎效。利用高分辨率物镜，可以直接观察缺陷位置（红圈）。3. 自旋电子器件损伤检测自旋电子器件中，在微加工过程中，样品边缘出现损伤，导致在磁场作用下稳定性下降，边缘先出现翻转[1]。4. 解析磁滞回线结果磁光克尔显微镜由于具有空间分辨优势，可以解析磁滞回线对应的磁畴状态。如右图，由于偶作用比各向异性占优势，样品出现自发退磁。参考文献：[1] Yu Zhang et al. Phys. Rev. Appl. 9, 064027 (2018).

Nanosc 高精度铁磁共振仪（FMR）phaseFMR 铁磁共振(FMR)是20世纪40年代发展起来的一种研究物质宏观性能和微观结构的重要实验手段.它利用磁性物质从微波磁场中强烈吸收能量的现象,与核磁共振和顺磁共振一样在磁学和固体物理学研究中占有重要地位。 磁性薄膜的铁磁共振测量在高频磁学和自旋电子学中有非常重要的应用，例如硬盘的读取头，MRAM,自旋磁矩MRAM和自旋转矩振荡器等。该仪器可以在不同的磁场下测量铁磁共振，并且通过自带的分析软件可得到一下参数：饱和磁化强度（Ms） 本征阻尼（alpha）非均匀展宽(ΔH)回磁比(γ/2∏) NiFeCu合金在不同磁场下，不同温度下的铁磁共振特性。该数据的采集使用了Montana公司的恒温器 在磁性纳米结构中，多种自旋波模式可能起主导作用，所以完全掌握这些模式对最终的器件设计和稳定性非常重要。铁磁共振仪可对这些模式进行随磁场变化的精确测量。铁磁共振仪为磁动力学测量提供了完美的解决方案。整个仪器实惠，即插即用而且易于使用。系统不仅提供了所有微波发生和探测的硬件，而且自带了测量和分析软件。需要用户准备的只是一台计算机和一个带电源的磁体，我们也可以按照用户要求提供计算机和磁体。同时，该设备也可配合Montana恒温器和Quantum Design公司的PPMS进行测试。 配合Monttna公司恒温器使用的FMR，可提供不同温度下和不同磁场下的铁磁共振特性。

磁光克尔显微镜综合测试设备，显微磁畴空间分辨率优于0.5微米，磁光克尔角分辨率优于0.1毫度，支持极向克尔、纵向克尔、横向克尔三种磁光克尔效应测量方式。在追踪平面内数百万点的磁畴动态信息的同时，可搭配探针台实现电学、磁学、光学同步观测。广泛应用于磁学和自旋电子学领域中磁光克尔效应，磁滞回线，磁畴翻转或扩展动态等观测。相较于传统的单点磁滞回线测量仪，磁光克尔综合测试平台，可以追踪平面内数百万点的实时磁性动态信息。结合该测试平台提供的直流探针，高频探针，样品的测试无比便捷。当下自旋电子学或磁学的研究，已经由磁性驱动的翻转，发展到了直流电流驱动、脉冲电流驱动、微波脉冲驱动、光驱动等一系列的激励源作用下的深度研究。托托科技（苏州）有限公司提供的标准系统按照性能优先，稳定性优先的设计思路，可以满足实验室研究及工业生产中各种相关材料的测试需求。标准设备中提供了磁场激励、电流激励等多种选项，是客户在自旋特性研究中的得力测试平台。更多的选项可以根据客户需求选择升级。【产品特点】l 智能照明系统l 光源稳定且均匀l 适配面内磁各向异性薄膜l 高亮度（4倍于市场上产品） (a)面内磁各向异性样品，纵向-磁光克尔测试装置示意图。(b)为样品Pt(4 nm)/Co (5 nm)/Ta(2 nm)在磁场的驱动实现磁畴运动和翻转，磁矩“1”和“0”信息状态清晰可见。(c)为样品的磁滞回线，纵坐标为归一化的磁光克尔信号，横坐标为面内扫描磁场。(a)为样品Ta(4 nm)/CoFeB (0.7 nm)/MgO(2 nm)/Ta(2 nm)在磁场的驱动实现磁畴运动和翻转，树枝状磁畴，磁矩“1”和“0”信息状态清晰可见。彩色环带表示磁畴壁，白色小箭头表示的是奈尔畴壁中磁矩方向，表示磁畴运动方向。(b)为样品CoTb(6 nm)/SiN(4 nm)在零磁场附近出现迷宫畴以及孤立斯格明子磁泡结构(Skyrmions Bubble)，图中单个稳定的Skyrmions Bubble的尺寸为1μm。为研究基于SK-RM赛道存储器提供光学无损伤探测支持。(a) M-H磁滞回线(b) VAHE-H 反常霍尔回线(c) Kerr-H 磁光克尔回线CoFeB(0.8 nm)/Ta 样品，枝晶状磁畴结构SiN/CoTb(6 nm)，迷宫畴，斯格明子磁泡结构

自旋电子学经过数十年的发展，在许多领域都有了卓著的表现。从传感器，到非易失性磁存储，再到新材料的特性研究，自旋电子学不仅是当前科学研究的热点，也被工业界广泛重视。磁畴的直接观测与记录，对于材料的研究有着重要的意义；对磁畴运动过程的剖析，不仅直观的展现了磁性翻转，而且有助于分析物理过程的机理。相较于传统的单点磁滞回线测量仪，磁光克尔显微综合测试设备，可以追踪平面内数百万点的实时磁性动态信息。结合该成像系统提供的直流探针，高频探针，样品的测试无比便捷。当下自旋电子学或磁学的研究，已经由磁性驱动的翻转，发展到了直流电流驱动、脉冲电流驱动、微波脉冲驱动、光驱动等一系列的激励源作用下的深度研究。实现在室温条件下测试垂直各向异性/面内各向异性材料材料的磁畴反转过程，成像清晰，拍摄速度达到30 帧/秒。赫智科技提供的标准系统按照性能优先，稳定性优先的设计思路，可以满足实验室研究及工业生产中各种相关材料的测试需求。标准设备中提供了磁场激励、电流激励等多种选项，是客户在自旋特性研究中的得力测试平台。

产品介绍：交变梯度磁力计 LSAG-1000是一种高灵敏度、适用于低磁矩材料测量的测试系统，在室温阶段的灵敏度，可媲美超导量子干涉仪（SQUID），由于其极高的的灵敏度和测量速度，广泛应用于古地磁、纳米磁学和其他需要一阶反转曲线（FORC）测量的研究应用中。交变梯度磁力计 LSAG-1000参数 测量模式基于磁称法自动化测量测量极限可达10-6emu测量误差＜2%辅助功能温控系统尺寸测量系统52 cm *93 cm *60 cm控制机柜90 cm *100 cm *60 cm交变梯度磁力计 LSAG-1000应用案例或测试数据:

产品简介磁场探针台主要用于半导体材料、微纳米器件、磁性材料、自旋电子器件及相关技术领域的电、磁学特性测试,能够提供磁场或变温环境，并进行高精度的直流/射频测量。本公司产品设计和生产各类磁场探针台稳定性强、功能多样、可升级扩展,适用于各大高校、研究所及半导体行业的实验研究和生产。

脉冲强磁场低温物性测量平台用于基础科学研究的脉冲强磁场一般磁场都较高，至少大于20T以上。脉冲磁体也都需要用液氮冷却。当前，科学家们专门开展了脉冲强磁场下物性研究的测量方法，可以开展诸如磁学，电输运，光学等学科的研究。脉冲强磁场低温物性测量平台就是将低温和脉冲强磁场作为测量环境，结合多种测量手段的物性测量系统。可以轻松胜任高脉冲场下的电学、磁学和光学等学科的研究，是研究高脉冲场下材料物性的综合性大平台。CryoPulse系统是强大的低温脉冲强磁场实验平台。对于测量磁输运，临界电流，磁化强度和磁光学实验，Metis公司能够提供全温区的低温环境，多种测量杆以及信号处理设备。模块化的电源设计允许用户轻易将系统升到更高脉冲磁场强度和更长的脉冲时间。CryoPulse测量平台提供了在强脉冲磁场（B30T）及低温环境下的测量技术。它非常适用于做以下方面的研究工作：1、同步施加脉冲磁场和电流（CryoPulse-BI），可以测量低温下超导材料的性能。（变温及高场下的临界电流密度，临界场）2、spin-Peierls化合物的磁性质，Mn基氧化物巨磁电阻材料，氧化铁石榴石化合物。（磁滞回线，变温变场磁化曲线，磁电阻测量）3、低维半导体结构的光致发光，如自组装量子点和量子阱。（光致发光，能代结构等）　　主要特征： - 高可达80T测量环境 - 测量温度区间从4K到室温 - 模块化设计允许用户轻易升至更强的磁场或更高的能量 - 快速样品更换 - 针对不同的应用开发了多种测量样品杆Cryopulse低温脉冲强磁场实验平台　CryoPulse由四个基本部分构成:1、标准CDM-X电容放电电源（图1）- 能量大于32KJ，每个能量模块为4KJ- 电压为3000V- 可编程控制器控制设备并具有图形显示- 可选用不同的dB/dt进行实验图1、CDM-X电容放电电源2、脉冲磁体（图2）（以32T磁体为例） - 对高磁场、脉宽和磁场均匀度进行优化设计 - 典型的磁体孔径为20－54mm - 脉冲上升时间为6.2ms - 磁体需要用液氮冷却　　设计参数中心磁场(Tesla)偏离中心10mm处偏离中心25mm处放电上升时间(ms)总放电时间(ms)标准脉冲磁体30.929.317.39.530高场脉冲磁体32.331.626.86.220高均匀度脉冲磁体31.031.129.15.015图2、脉冲磁体磁场强度与距离关系曲线　　3、数据采集系统（图3） - 计算机内集成高速多功能16bit数据采集卡，扫描速度为1MS/s- 测量通道包括：磁场，时间，样品电流和样品信号- 数据采集系统能安全连接至用户计算机- 基于Visual Basic软件的数据采集、显示以及系统控制图3、数据采集系统4、低温实验杜瓦（图4） - 液氮实验杜瓦 - 液氦实验杜瓦 - 温度控制通过针阀，加热器以及温控仪 - 二管温度计 - 可更换cold finger内径17mm，可提供15mm样品空间 - 磁体支架包括磁体和杜瓦之间的振动隔离系统 - 从部安装实验杜瓦，大可容纳外径为25mm的测量杆 - 样品杆适用于电输运、磁输运、光致发光以及临界电流等测量。图4、脉冲磁体与实验杜瓦　　CryoPulse产品分类： CryoPulse-BI：超导材料的电输运特性测量 CryoPulse-MO：磁光学测量 CryoPulse-MT：磁场下的电输运测量 CryoPulse-BM：变温变场下的磁化强度测量

产品简介磁场探针台主要用于半导体材料、微纳米器件、磁性材料、自旋电子器件及相关技术领域的电、磁学特性测试,能够提供磁场或变温环境，并进行高精度的直流/射频测量。本公司产品设计和生产各类磁场探针台稳定性强、功能多样、可升级扩展,适用于各大高校、研究所及半导体行业的实验研究和生产。

离子辐照磁性精细调控系统Helium-S法国Spin-Ion公司成立于2017年，源自法国研究中心/巴黎-萨克雷大学的知名课题组，在磁性材料的离子束工艺方面有20年的经验，拥有4项和40多篇发表文章。Spin-Ion公司推出的产品——可用于多种磁性研究的离子辐照磁性精细调控系统Helium-S，采用创新的离子束技术，可以通过超紧凑和快速的氦离子束设备控制原子间的位移，使其能够在原子尺度上加工材料，并通过离子束工艺来调控薄膜和异质结构。目前全球已有20多家科研和工业用户以及合作伙伴使用该技术。2020年Spin-Ion公司在国内安装了套Helium – S系统，其有的技术正吸引来自相关科研圈和工业领域越来越多的关注。应用领域：- 磁性随机存储器(MRAM)：自旋转移矩磁性随机存储(STT-MRAM)，自旋轨道矩磁性随机存储(SOT-MRAM)，磁畴壁磁性随机存储(DW-MRAM)等；- 自旋电子学：斯格明子，磁性隧道结，磁传感器等；- 磁学相关：磁性氧化物，多铁性材料；- 其他：薄膜改性，芯片加工，仿神经器件，逻辑器件等。产品特点：- 可通过超紧凑和快速的氦离子束设备控制原子间的位移，通过氦离子辐照可调控磁性薄膜或晶圆的磁学性质。- 可提供能量范围：1-30 keV的He+离子束- 采用创新的电子回旋共振（ECR）离子源- 可对25 mm的试样进行快速的均匀辐照（几分钟）- 超紧凑的设计，节省实验空间- 可与现有的超高真空设备互联基本参数：离子束种类• 氦离子 (He+)• 可能产生的离子 : 氢离子 (H+)能量范围 • 1-30 keV• 分辨率50 eV典型离子通量在10 μA时，1015 离子数 /平方厘米/分钟电流范围1-50 μA (按能量不同)离子束滤波器维恩滤波器离子束扫描• X-Y双轴位移• 扫描区域: 25 mm x 25 mm均匀性• 强度：+/- 1%• 角度：+/- 3°离子束纯度1/10000真空度大10-7 mbar尺寸• 超紧凑设计• 长度1.5 m软件• 可实现离子束参数的全面控制• PLC控制辐照腔可对25mm晶圆进行辐照高温转角选件可控制不同的辐照角度，可加热温度至500°C快速进样室选件（Load lock）和辐照腔集成，可过渡25 mm晶圆大小样品测试数据：调控界面各向异性性质和DMI 低电流诱发的SOT转换获取 控制斯格明子和磁畴壁的动态变化部分用户单位：Beihang University (China)University of California San Diego (USA)University of California Davis (USA)New York University (USA)Georgetown University (USA)Northwestern University (USA)University of Lorraine (France)SPINTEC Grenoble (France)University of Cambridge (UK)University of Manchester (UK)Nanyang Technological University and A*STAR (Singapore)University of Gothenburg (Sweden)Western Digital (USA)IBM (USA)Singulus Technologies (Germany)部分发表文章：• Helium Ions Put Magnetic Skyrmions on the Track, R.Juge & D.Ravelosona & O.Boulle, Nanoletters, 21, 7, 2989–2996, (2021)• Ion irradiation and implantation modifications of magneto-ionically induced exchange bias in Gd/NiCoO, Christopher J. Jensen & Dafiné Ravelosona, Kai Liu, Journal of Magnetism and Magnetic Materials 540, 168479 (2021)• Tailoring interfacial effect in multilayers with Dzyaloshinskii–Moriya interaction by helium ion irradiation, A.Sud & D.Ravelosona &M.Cubukcu, Scientific report 11, 23626 (2021)• Magnetic field frustration of the metal-insulator transition in V2O3, J.Trastoy & D.Ravelosona & Y.Schuller, Physical Review B 101, 245109 (2020)• Controlling magnetism by interface engineering, L Herrera Diez & D Ravelosona, Book Magnetic Nano- and Microwires 2nd Edition, Elsevier (2020)• Reduced spin torque nano-oscillator linewidth using He+ irradiation, S Jiang & D Ravelosona & J Akerman, Appl. Phys. Lett. 116, 072403 (2020)• Spin–orbit torque driven multi-level switching in He+ irradiated W–CoFeB–MgO Hall bars with perpendicular anisotropy, X.Zhao & M.Klaui & W.Zhao & D.Ravelosona, Appl. Phys. Lett 116, 242401 (2020)• Enhancement of the Dzyaloshinskii-Moriya Interaction and domain wall velocity through interface intermixing in Ta/CoFeB/MgO, L Herrera Diez & D Ravelosona, Physical Review B 99, 054431 (2019)• Enhancing domain wall velocity through interface intermixing in W-CoFeB-MgO films with perpendicular anisotropy, X Zhao & W.Zhao & D Ravelosona, Applied Physics Letter 115, 122404 (2019)• Suppression of all-optical switching in He+ irradiated Co/Pt multilayers: influence of the domain-wall energy, M El Hadri & S Mangin & D Ravelosona, J. Phys. D: Appl. Phys. 51, 215004 (2018)• Tuning the magnetodynamic properties of all-perpendicular spin valves using He+ irradiation, Sheng Jiang & D.Ravelosona & J.Akerman, AIP Advances 8, 065309 (2018)• Controlling magnetic domain wall motion in the creep regime in He-irradiated CoFeB/MgO films with perpendicular anisotropy, L.Herrera Diez & D.Ravelosona, Applied Physics Letter 107, 032401 (2015)• Measuring the Magnetic Moment Density in Patterned Ultrathin Ferromagnets with Submicrometer Resolution, T.Hingant & D.Ravelosona & V.Jacques, Physical Review Applied 4, 014003 (2015)• Irradiation-induced tailoring of the magnetism of CoFeB/MgO ultrathin films, T Devolder & D Ravelosona, Journal of Applied Physics 113, 203912 (2013)• Influence of ion irradiation on switching field and switching field distribution in arrays of Co/Pd-based bit pattern media, T Hauet & D Ravelosona, Applied Physics Letters 98, 172506 (2011)• Ferromagnetic resonance study of Co/Pd/Co/Ni multilayers with perpendicular anisotropy irradiated with helium ions, J-M.Beaujour & A.D. Kent & D.Ravelosona &E.Fullerton, Journal of Applied Physics 109, 033917 (2011)• Tailoring magnetism by light-ion irradiation, J Fassbender, D Ravelosona, Y Samson, Journal of Physics D: Applied Physics 37 (2004)• Ordering intermetallic alloys by ion irradiation: A way to tailor magnetic media, H Bernas & D Ravelosona, Physical review letters 91, 077203 (2003)

产品概述电磁流量计依据法拉第电磁感应定律的工作原理来测量导电液体体积流量的仪表，是流体力学和电磁学结合的产物。作为流量测量高精度仪表，其应用遍及冶金、给水、排水、石油、化工、食品、医疗、环保、农业灌溉等部门。 产品特点1.测量管内无可动部件，便于维护管理，所以传感器 的使用寿命长；无阻流部件，因此无压力损失2.传感器磁场分布更加均匀，信号更强，而且对小流量有更强的适应性，下限可达0.3m/s3.管体表面喷锌，即便在恶劣环境下，也能起到长期保护作用，表面防腐性能优越4.测量不受流体密度、粘度、温度、压力和导电率变化的影响5.测量管内无阻流部件，无压损，直管段要求低。对浆液测量有独特的适应性6.测量结果与流体压力，温度、密度、粘度等物理参数无关7.高清晰度背光LCD显示，全中文菜单操作，使用方便，操作简单，易学易懂8.具有自检与自诊自诊断和报警功能

产品介绍:磁光柯尔效应量测仪 LSMC-750是一种基于磁光效应原理设计的超高灵敏度磁强计，是研究磁性薄膜、磁性微结构的局部磁特性的理想测量工具。由于样品磁光柯尔效应的磁性信号主要来自于光斑照射的区域，因此磁光柯尔效应测量系统具有良好的局域性，可以实现在微米区域内材料磁特性的研究。此外以偏振激光束作为“探针”，不会对样品造成损伤，被广泛的应用于磁性纳米技术、磁性薄膜、磁性微结构等磁学领域。磁光柯尔效应量测仪 LSMC-750特点：磁仪创新搭配，减少人力操作及运算时间；温度范围在室温至900 K范围内连续可调；可排除掉光源功率变化的影响，提高系统的量测精度和稳定性。磁光柯尔效应量测仪 LSMC-750参数：磁场强度2T光源LED(90 W)入射光偏振方向P型/S型柯尔效应测量类型L-MOKE/T-MOKE灵敏度0.001°可测样品大小10×10mm物镜×50尺寸47 cm*42 cm*16 cm磁光柯尔效应量测仪 LSMC-750产品系统描述：1.磁场系统 1-1. 电磁铁 ( 气隙小于10mm时，磁场强度可达1.2T ) 1-2. 电源供应器 ( 功率750 Watts ) 1-3. 内建高斯计 ( 量测范围 : 30k 高斯到 1 高斯 )2.光学与影像系统 2-1. 侦测雷射光点大小约2 um 且可侦测局部小区域内的磁滞回线 2-2. 自动成套光学系统，不需繁杂的调校过程，只要放好样品调整焦距，就可以开始使用程式自动量测3. 控制系统 3-1. 内建计算机 (附微软作业系统) 3-2. 内建软件介面，容易操作执行数据量测及分析( 可自动量测磁滞回线，自动找出材料之初始磁化曲线、矫顽场…等参数，亦可自动执行及量测去磁过程。) 3-3. 内建高精度数据量测系统4. 其他 4-1. 液晶显示器 4-2. 键盘及鼠标测试结果：