自动椭圆偏振

1．偏振片：通常是指将二向色性物质涂在透明薄片上制成的偏振片，此种偏振片损伤阈值较小，而且无法分离出p偏振光和s偏振光；A. OPSP系列偏振片偏振片(Plastic Sheet Polarizers)选型表：偏振片(Plastic Sheet Polarizers)型号名称尺寸(mm)通光孔径Ф0(mm)波长范围(nm)OPSP12.7偏振片Ф12.7*4mm8.9400-700OPSP25.4偏振片Ф25.4*4mm20.3400-700B. 偏振片（进口）1)偏光板示意图及尺寸图：相关说明： 1.把含有卤化银的玻璃融解，再经过热处理，延伸，研磨和还原工序而制成的偏光器件。其制作过程大致如 下:在热处理工序中沉淀出卤化银粒子，然后把玻璃加热到软化点附近并延伸，这样卤化银粒子就会变成 椭圆形，研磨后再进行氢还原，把卤化银粒子还原为银。 2.玻璃中的银椭圆粒子的长轴方向平行的电场被吸收，具有和其长轴垂直方向的电场的光通过。 3.透过方向：100W/cm2（CW）、6J/cm2、脉冲宽度13ns（脉冲）吸收方向：25W/cm2（CW）、0.1J/cm2、 脉冲宽度13ns（脉冲）有效尺寸（mm）8.5× 8.5PLC系列铬膜分束镜（SIGMA）选型表：型号保护框尺寸（mm）波长范围（nm）最小透过率（%）PLC-10-660ø 30× 6630~70083PLC-10-800ø 30× 6740~86091PLC-10-900ø 30× 6840~96094PLC-10-1060ø 30× 6960~116095PLC-10-1310ø 30× 61275~134598PLC-10-1550ø 30× 61510~1590982)薄膜偏光板示意图及曲线图：相关说明： 1.薄膜偏光板是一种薄膜滤光镜，此膜夹在两块玻璃中间，并安装在一个铝框内； 2.它不仅可以从一个非偏光中提取线偏光，而且，还可以象ND 滤光片一样用作光衰减器； 3.三种波长可选：紫外用（320～400nm）；可见光用（400～700nm）；近红外用（760～2000nm）； 4.使两块偏光板处于通光状态(开)，通过一束直线偏光{两块透过率(平行放置)} 使两块偏光板处于 不通光状态(关)，没有光通过{两块透过率(正交放置)}。我们称此时的透过率为消光比。薄膜偏光板（SIGMA）选型表:型号使用波长（nm）保护框尺寸（mm）厚度（mm）通光孔径（mm）防反射膜NSPFU-30C320~400Ф30× 62.4ø 24SLAR (双面)SPF-30C-32400~700Ф30× 63ø 24BMAR(双面)SPF-50C-32400~700Ф30× 63ø 44BMAR(双面)SPFN-30C-26760~2000Ф30× 63ø 24SLAR (双面) 3)塑料薄膜偏光板(进口)示意图及曲线图：塑料薄膜偏光板（SIGMA）选型表:型号设计波长（nm）D（mm）T（mm）USP-25.4C-38400~700ø 25.40.8USP-30C-38400~700ø 30.00.8USP-50C-38400~700ø 50.00.8USP-100C-38400~700ø 1000.8C. 超快激光用偏振片（进口）曲线图、示意图及相关参数： 选型表：

仪器简介：在近代科学技术的许多领域中对各种薄膜的研究和应用日益广泛。因此，更加精确和迅速的测定给定薄膜的光学参数已变得更加迫切和重要。在实际工作中可以利用各种传统的方法测定光学参数，如：布儒斯特角法测介质膜的折射率，干涉法测膜厚，其它测膜厚的方法还有称重法、X射线法、电容法、椭偏法等。由于椭圆偏振法具有灵敏度高、精度高、非破坏性测量等优点，因而，椭圆偏振法测量已在光学、半导体、生物、医学等诸多领域得到广泛应用。技术参数：规格与主要技术指标： 测量范围：薄膜厚度范围：1nm-300nm； 折射率范围：1-10 测量最小示值：&le 1nm 入射光波长：632.8nm 光学中心高：80mm 允许样品尺寸：&phi 10-&phi 140mm，厚度&le 16mm 偏振器方位角范围：0° - 180° 读取分辨率为0.05° 测量膜厚和折射率重复性精度分别为：± 1nm和± 0.01 主机重量：25kg 入射角连续调节范围：20° - 90° 精度为0.05° 主要特点：仪器采用消光法自动测量薄膜厚度和折射率，具有精度高、灵敏度高以及方便测量等特点； 光源采用氦氖激光器，功率稳定、波长精度高； 仪器配有生成表、查表以及精确计算等软件，方便用户使用。

全自动化&高集成度&可视化光斑一键式全自动快速椭偏仪 Auto SE——新型的全自动薄膜测量分析工具。采用工业化设计，操作简单，可在几秒钟内完成全自动测量和分析，并输出分析报告。是用于快速薄膜测量和器件质量控制理想的解决方案。1主要特点1. 液晶调制技术，无机械转动部件，重复性，信噪比高2. 技术成像系技术，所有样品均可成像，对于透明样品,自动去除样品的背反射信号,使得数据分析更简单.3. 反射式微光斑，覆盖全谱段，利于非均匀样品图案化样品测试4. 全自动集成度高，安装维护简便5. 一键式操作软件，快速简单6. 自动MAPPING扫描，分析样品镀膜均匀性2技术参数1. 光谱范围：450-1000 nm2. 多种微光斑自动选择3. 光斑可视技术，可观测任何样品表面4. 自动样品台尺寸：200mmX200mm；XYZ方向自动调节 Z轴高度35mm5. 70度角入射6. CCD探测器相关推荐椭圆偏振光谱入门手册——测量膜厚、光学常数的强大工具您可了解：1. 椭圆偏振光谱的概念及应用领域2. 适用的样品及可获取的信息3. 常见的椭偏仪类型及优势分析4. 测量、数据分析时的常见问题

Horiba 相位调制型椭圆偏振光谱仪 UVISEL Plus基于最新的电子设备，数据处理和高速单色仪，FastAcqTM技术能够为用户提供高分辨及快速的数据采集，双单色仪系统可达到0.1-2 nm。AutoSoft软件界面以工作流程直观为特点，使得数据采集分析更加简便，易于非专业人员上手操作。速度提升1.5倍UVISEL Plus集成了最新的FastAcqTM快速采集技术，可在3分钟以内实现高分辨的样品测试（190-2100 nm），校准仅需几分钟。灵敏度提升2倍基于25年经验，UVISEL Plus相位调制椭偏仪提供纯正有效的偏振调制，可用于各种样品的精确测量，最新的FastAcqTM速采集技术使得测试灵敏度提高至原有的两倍，从而能获得面薄膜和纳米级低衬度衬底样品的更多信息。灵活拓展UVISEL Plus椭偏仪模块化设计，可灵活拓展，以适应的应用及预算需求。相较于其他供应商，UVISEL Plus统的可升级性能将更好的满足您未来的应用需求。卓越的性能UVISEL Plus基于相位调制技术，相位调制与高质量消色差光学设计的特有结合提供了无可匹的膜厚测试效果。• 信号采集过程无移动部件• 光路中无增加元件• 高频调制 50 kHz• 测试全范围的椭偏角，Ψ (0-90，Δ (0-360)规格项目内容光谱范围UVISEL Plus：190 - 885 nmUVISEL Plus NIR：190 - 2100 nm光源75 W 氙灯标准光斑尺寸 3 mm (90º)手动平台150 mm, 手动调节高度 (20 mm) 和倾斜角入射角手动：55º - 90º，步长5ºFUV-VIS范围高灵敏度光电倍增管检测器&低杂散光NIR范围InGaAs检测器

仪器简介：产品特点： 仪器采用消光法自动测量薄膜厚度和折射率，具有精度高、灵敏度高以及自动控制等特点。光源采用氦氖激光器，功率稳定波长精度高。 仪器采用USB接口与电脑连接，配套软件功能齐全，具有多样数据采集及处理方式，适用于不同用户的需要。技术参数：规格与主要技术指标： 测量范围：1nm-4000nm 折射率范围：1-10 测量最小值：&le 1nm 入射角：20° - 90° 精度&le 0.05° 度盘刻度：每格1度 允许样品尺寸：&phi 10-&phi 140mm，厚度&le 16mm 偏振器方位角范围：0° - 180° 外形尺寸：680*390*310mm 测量膜厚和折射率重复性精度分别为：0.5nm和0.005 主机重量：26kg 仪器测量精度：± 0.5nm（薄膜厚度在10-100nm时） 光学中心高度：80mm 成套性：主机、电控系统、USB接口、配套软件 成套性：主机、电控系统、USB接口、配套软件（需配计算机）主要特点：产品特点： 仪器采用消光法自动测量薄膜厚度和折射率，具有精度高、灵敏度高以及自动控制等特点。光源采用氦氖激光器，功率稳定波长精度高。 仪器采用USB接口与电脑连接，配套软件功能齐全，具有多样数据采集及处理方式，适用于不同用户的需要。

产品特点： ? 椭圆偏振术测量紫外光到可见光波长椭圆参数。? 0.1nm以上奈米级光学薄膜厚度测量。? 400波长以上多通道分光的椭偏仪，高速测量椭圆偏光光谱。? 可自由变换反射测量角度，得到更详细的薄膜解析数据。? 非线性最小平方法解析多层膜、光学常数。产品规格： 膜厚测量范围0.1nm~波长测量范围250~800nm（可选择350～1000nm）感光元件光电二极管阵列512ch（电子制冷）入射/反射角度范围45～90o电源规格AC1500VA（全自动型)尺寸1300（H）×900（D）×1750（W）mm重量约350kg（全自动型） 应用范围： ■半导体晶圆?电晶体闸极(Gate)氧化薄膜、氮化膜，电极材料等?SiO 2、SixOy、SiN、SiON、SiNx、Al 2 O 2、SiNxOy、poly-Si、ZnSe、BPSG、TiN?光阻剂光学常数(波长色散)■化合物半导体?AlxGa (1-x) As多层膜、非结晶矽■平面显示器?配向膜?电浆显示器用ITO、MgO等■新材料?类钻碳薄膜(DLC膜)、超传导性薄膜、磁头薄膜■光学薄膜?TiO 2、SiO 2、多层膜、抗反射膜、反射膜■平版印刷领域?g线(436nm)、h线(405nm)、i线(365nm)、KrF(248nm)等于各波长的n、k值评价 应用范例： 非线性最小平方法比对NIST标准样品(SiO 2)膜厚精度确认

该机器将电控系统、光具座有机的结合在一起，具有良好的整体特色，并将光的偏振状态直接显示在计算机上，使实验的安排和整理更加简便和明晰。 实验内容：1. 自然光转化为线偏振光的演示（二向色性起偏、双折射起偏、反射起偏）验证马吕斯定律 2. 线偏振光转化成圆偏振光、椭圆偏振光的演示3. 光的偏振状态的测量4. 波片特性实验仪器成套性：组合导轨及滑座、进口偏振片(带框)、自动X轴旋转架、可变口径二维架、650nm半导体激光器（含电源）、1/2波片(带框)、1/4波片(带框)、接收器架、电控箱、接收器（附架）、USB接口、系统软件、电源线等。用户需自备电脑及打印机

SK010PA-IR偏振测量仪 ----高精度全自动保偏光纤偏振态测量系统SK010PA是一款通用型偏振分析仪，该偏振分析仪通常用于对自由空间光路和保偏光纤光路进行偏振分析与测试。可实时对四个斯托克斯参数进行测量以获取光路偏振状态（SOP），并显示在庞加莱球面上。在保偏光纤的评估和偏振对准中具有巨大优势。设备结构紧凑，即插即用，可轻松集成到现有客制系统中进行快速校准和测量，软件操作简单、功能强大。在激光束耦合到保偏光纤的偏振对准应用中，SK010PA偏振分析仪提供优化光源入射偏振方向与光纤偏振轴对齐程序，并测量该过程产生的消光比（PER）。上述过程通过连续测量出射偏振状态期间，并使光纤轴相对于激光源的偏振轴旋转，保证出射偏振态尽可能接近庞加莱球面圆心。此外，SK010PA还可用于对准和量化延迟光学器件，如带有1/4波片的光纤准直器等。光纤偏振态测量仪产品特性：确定偏振状态 （SOP），包括所有四个斯托克斯参数、PER（偏振消光比）、偏振度 （DOP）、椭圆度等。USB 2.0 供电设备（控制、数据传输和电源）在庞加莱球面上显示SOP或偏振椭圆用于保偏光纤评估和偏振对准的特殊程序与用于自由光束应用的微型工作台系统、导轨或笼式系统兼容，包括兼容光纤应用的 FC APC 适配器光纤偏振态测量仪应用领域：耦合保偏光纤偏振对准 理想情况下，保偏光纤能保持耦合到光纤中的光的线性偏振态，然而在实际中，保偏光纤会在很小程度上影响偏振态，如温度、机械应力导致的弯曲和扭转等，这会使光纤出口处出现轻微的椭圆偏振。如下图所示。 SK010PA偏振测量仪提供将光源的入射偏振方向与光纤的偏振轴对齐以及测量由此产生的偏振消光比（PER） 的程序。保偏单模光纤在两种垂直的原理状态下引导耦合辐射，即光纤偏振轴（也称为慢轴和快轴）如下左图所示。 光纤耦合辐射的偏振消光比PER是耦合到光纤两个偏振轴的光功率电平之间的比值。偏振分析仪用于通过旋转光源的输入偏振轴来优化光源偏振轴与光纤偏振轴的偏振对准，见下右图。对于两个偏振轴，传播速度不同。当线偏振辐射没有精确耦合到这些状态之一时，辐射会分成两个垂直分量，分别耦合到光纤的偏振轴上。在光纤出口处，传播速度的差异会导致相移，这也取决于光纤的长度。如果该相移小于激光源的相干长度，则辐射会重新组合为椭圆偏振态。如果激光源的相干长度小于相移，则新出现的辐射部分去偏振。偏振分析仪支持两种情况的调整。SK010PA所测的SOP可在庞加莱球上可视化展示，如下图所示。在该图中，线性 SOP 位于球体的赤道上，圆极化状态位于球体的两极。偏振维持光缆输出端的预期偏振态可能会略微偏离赤道。该表示法中的倾斜角即为椭圆度 η，偏振维持光缆的偏振维持性由椭圆度 η 来表征。圆的半径表示对准的质量，对齐良好的保偏光纤状态为数据圆会收敛到一个点，即圆的中心，通常也位于庞加莱球的赤道上。测量过程分为如下两步：1、初始对准的测量 该过程首先在温度改变或小心弯曲光纤时记录出口极化状态，以引起出口极化波动。然后，一个圆圈自动拟合到数据点上，并显示平均值和PER（min）。在所示示例中，庞加莱球面上的圆具有较大的半径。2、通过反馈进行实时调整，并对优化后的对准进行测量在连续测量出射偏振态期间，光纤轴相对于激光源的偏振轴旋转。当出射偏振态尽可能接近庞加莱球面的圆心时，达到接近对准。颜色编码的对数条形图有助于找到min距离。然后进行第二次测量，揭示光纤优化偏振对准的参数。自由光路测量 偏振分析仪也可以用来在自由光束的应用中设置并定义一个的明确的偏振状态。对于这类测量，激光光轴与偏振分析仪的对准是必不可少的。偏振测量仪与微工作台、使用四连杆连接的40mm笼系统或轨道系统等兼容。1/4波片调整SK0101PA偏振分析仪可用于校准和量化延迟光学器件，例如集成四分之一波片的光纤准直器。对于这些准直器，通过旋转四分之一波片来调整输出偏振。到达极值时设置圆偏振光，右旋圆偏振光位于北极，左旋偏振光位于南极。光纤偏振态测量仪技术参数：光纤偏振态测量仪配置选项：光纤偏振态测量仪交付标准：SK010PA红外线USB连接线用于 FC-APC FC-PC 光纤连接器的适配器后装式适配器 PA-AP-M4操作软件： SKPolarizationAnalyzer for WINDOWS7， WINDOWS 10， WINDOWS Vista/XP （32/64 bit）DLL更多详情请联系昊量光电/欢迎直接联系昊量光电关于昊量光电：上海昊量光电设备有限公司是光电产品专业代理商，产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、光学元件等，涉及应用涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国防、量子光学、生物显微、物联传感、激光制造等；可为客户提供完整的设备安装，培训，硬件开发，软件开发，系统集成等服务。

J.A.Woollam椭圆仪M-2000产品型号：M-2000产品介绍：M-2000系列椭圆偏振仪专为满足薄膜表征的各种需求而设计。先进的光学设计、宽光谱范围和快速数据采集结合在一个 强大和多功能的工具中。M-2000 兼具速度和准确性。我们获得专利的 RCE 技术将旋转补偿器椭圆偏光仪与高速 CCD 检测相结合，可在几分之一秒内通过各种配置收集整个光谱（数百个波长）。M-2000 是一款擅长从现场监测和过程控制到大面积均匀性映射和通用薄膜表征的所有方面的椭圆仪。没有其他椭圆仪技术能够更快地获取全光谱。性能特点：◆先进的椭圆仪技术M-2000 利用我们获得专利的 RCE（旋转补偿器椭偏仪）技术来实现高精度。◆快速光谱检测RCE 设计与先进的、经过验证的 CCD 检测兼容，可同时测量所有波长。◆宽光谱范围收集从紫外线到近红外的 700 多种波长——全部同时进行。◆灵活的系统集成M-2000 采用模块化光学设计，适合直接连接到您的处理室或配置在我们的任何桌面底座上。◆准确性先进的设计可确保对任何样品进行准确的椭圆偏光测量。参数：◆光谱范围D：193-1000 nmX-210：210-1000 nmX：245-1000 nmU：245-1000 nmV：370-1000 nm+I：增加 1000-1690 nm◆波长数D：500个波长X-210：485个波长X：470个波长U：470个波长V：390个波长+I：增加190个波长◆探测器：感光元件◆入射角45°-90°（自动角度底座）20°-90°（立式自动角度底座）65°（固定角度底座）65°（测试底座）◆数据采集率（完整频谱）：0.05 秒（典型值为 2-5 秒）◆max基材厚度：18mm◆电源要求：100/240 伏交流电，47-63 赫兹，1 安培◆产地：美国应用：M-2000是一款多功能的光谱椭偏仪，适用于多种不同的样品类型。涂层可以是电介质、有机物、半导体，甚至是薄金属。◆光学镀膜◆化学/生物学◆导电有机物◆半导体◆光伏◆原位

仪器特点：1. 采用高灵敏度激光功率测量装置，相对测量，数字显示，增益连续可调；2. 专用直线导轨，调整架三维或二维可调，拆卸组装容易，动手实践性强；3. 布儒斯特角测量时毛玻璃屏显示，特殊观察窗结构，观察清晰度由于白屏观察方式；4. 既可以用人眼直接观察，也可以接入专用光电探测器进行定量测量分析。650nm激光器与LED多种光源用于布儒斯特角测量光源，比较单色光和复合光作光源时布儒斯特角的区别，并分别定量测量分析偏离布儒斯特角时的消光比。实验内容：1．自然光转化为线偏振光的演示（二向色性起偏、双折射起偏、反射起偏）验证 马吕斯定律 2．线偏振光转化成圆偏振光、椭圆偏振光的演示3．光的偏振状态的测量4．波片特性实验5．布儒斯特角测量规格参数：1．手动X轴旋转架：任意角度旋转最小分辨精度0.2度。2．半导体激光器：波长650nm，标称功率5mW。3．激光功率指示仪：调零，增益连续可变，信号输入。4．光学导轨：专用硬铝合金型材1米专用直导轨，楔形角70°，宽80mm，导轨面宽50mm，导轨带刻度，分辨精度1mm。 仪器成套性：组合导轨及滑座、进口偏振片(带框)、手动X轴旋转架、可变口径二维架、二维调整架、650nm半导体激光器（含电源）、1/2波片(带框)、1/4波片(带框)、φ36透镜(带框）、接收器（附架）、光学测角台、方玻璃、光源部、电源线、保险管、说明书、合格证、装箱单

椭偏仪（椭圆偏振光谱仪）是一种无损无接触的光学测量技术，基于测量线偏振光经过薄膜样品反射后偏振状态发生的改 变，通过模型拟合后得到薄膜、界面和表面粗糙层的厚度以及光学性质等等，可测厚度范围为几埃至几十微米。而且椭圆偏振光谱既能够实现在线监测又能进行原位测试，可根据各类不同的应用需要提供静态和动态测量模式，应用非常广泛。UNI椭偏仪（椭圆偏振光谱仪）是一种无损无接触的光学测量技术，基于测量线偏振光经过薄膜样品反射后偏振状态发生的改 变，通过模型拟合后得到薄膜、界面和表面粗糙层的厚度以及光学性质等等，可测厚度范围为几埃至几十微米。而且椭圆偏振光谱既能够实现在线监测又能进行原位测试，可根据各类不同的应用需要提供静态和动态测量模式，应用非常广泛。SEL 2是一款完全革新的全自动光谱型椭偏仪。在继承并发展了经典机型UVISEL的高准确性、高灵敏度和高稳定性等技术特点的同时，配备了革新的可视系统，多达8个尺寸微光斑选项，最小达35X85um。产品特点* 完全自动化设计，自动对焦、校正* 全新光路、电路设计、测量精度更高、速度更快* 双光栅光谱仪系统，杂散光抑制水平高* 8个尺寸微光斑、专利可视技术* 50KHz高频PEM相调制技术，测量光路中无运动部件* 自动平台样品扫描成像* 配置灵敏，测量范围可扩展至190-2100nm

这是一款具有偏振探测性能的非制冷红外机芯组件，适用于长波红外偏振成像，能够在红外热成像基础上获得反射光的偏振信息。 产品特点 ●具有偏振探测性能的非制冷红外焦平面探测器 ●微偏振阵列直接集成到像元上 光是一种横波，在与光的传播方向垂直的二维空间中光矢量可能有各种振动状态，称之为光的偏振态。按照光矢量端点轨迹的不同，光的偏振态可分为五种，即自然光、部分偏振光、线偏振光、圆偏振光和椭圆偏振光。 图1 光的五种偏振态 图中红色箭头表示光矢量，黑色箭头表示光矢量末端运动方向 红外偏振探测是在红外强度探测基础上，通过获得每一点的偏振信息而增加信息维度的一种技术，不仅能获得目标二维空间的红外强度信息，而且能获得图像上每一点偏振信息。利用增加的偏振维度，可增强伪装、暗弱等目标与背景的差异，提高目标探测与识别能力 当前常见的红外偏振探测方法包括分时法、分振幅法、分孔径法和焦平面阵列法。前三种方法涉及复杂的光学系统，体积大、成本高，而且需要外置偏振片，外置偏振片与红外探测器之间存在相当的距离，经过偏振片的光线在红外探测器焦平面的不同像元上会形成串扰。本探测器采用内置集成焦平面阵列法，将微偏振阵列直接集成到像元上，只需一个探测器即可实现实时偏振信息获取，且无像元间串扰问题，相比分时法、分振幅法、分孔径法具有明显优势。技术参数●探测器 非制冷焦平面探测器●分辨率 640×512●像元间距 17μm●工作波段 8～14μm●功耗 ≤1.8W●供电范围 DC6~15V●启动时间 ≤6s●偏振形式 内置集成式●偏振方向 0°，45°，90°，135°或者0°，45°，90°●工作温度 ﹣40℃～﹢60℃ ﹣50℃～﹢70℃●NETD ≤50mK（＠F/1,25℃）●帧频 50Hz ●视频输出 1路模拟视频输出，PAL制； 1路数字视频输出，cameralink基本模式；●通讯方式 UART、RS232（二选一，UART默认电平3.3V）●主要控制功能 手动快门校正等 ●重量 ≤95g(不含cameralink标准接口) 产品特征 本探测器采用直接在像元上生长金属光栅的方式实现微偏振阵列与焦平面的集成。目前，我司研制的偏振探测器有两种超像元规格，每个超像元由4个像元组成，这四个像元彼此不等价，每个像元代表一种透偏特性。 超像元中的灰色箭头表示透偏方向。其中A类超像元中的数字1、2、3、4分别代表90°、45°、0°、135°透偏方向，B类超像元中的数字1、2、3分别代表90°、45°、0°透偏方向，4表示无偏振结构的空白像元。两种超像元对应的焦平面阵列示意图如下：产品应用 红外偏振探测已在多个领域获得了广泛的应用，限于实验条件，我们仅对若干生活场景进行了数据采集和处理，取得了良好的效果，下面展示几组偏振图像。良好的可视化效果：偏振度高的区域用彩色显示，更符合人眼的视觉习惯。识别隐藏目标：隐藏在树下和墙边的车辆在偏振图像中被凸显出来。 别表面轮廓：强度图像中不可分辨的轮廓在偏振图像中清晰可辨。图中左侧为红外强度图像，中间和右侧为采用两种融合方案的偏振图像。 识别路面：柏油路面具有很高的偏振度，在偏振图像中与周围环境具有明显的对比度，偏振探测器有望应用于辅助驾驶。 抗干扰：偏振探测能够识别强度图像中无法辨别的伪装目标并将之消除。下图中真实目标通过偏振处理用彩色突出出来。 结构尺寸 标准Cameralink接口机芯尺寸在长度为53.8mm，具体如下； 图4标准接口Cameralink接口尺寸正面图 图5标准接口Cameralink接口尺寸侧视图 图6标准接口Cameralink接口尺寸侧视图

全自动化&高集成度&可视化光斑一键式全自动快速椭偏仪 Auto SE——新型的全自动薄膜测量分析工具。采用工业化设计，操作简单，可在几秒钟内完成全自动测量和分析，并输出分析报告。是用于快速薄膜测量和器件质量控制理想的解决方案。1主要特点1. 液晶调制技术，无机械转动部件，重复性，信噪比高2. 技术成像系技术，所有样品均可成像，对于透明样品,自动去除样品的背反射信号,使得数据分析更简单.3. 反射式微光斑，覆盖全谱段，利于非均匀样品图案化样品测试4. 全自动集成度高，安装维护简便5. 一键式操作软件，快速简单6. 自动MAPPING扫描，分析样品镀膜均匀性2技术参数1. 光谱范围：450-1000 nm2. 多种微光斑自动选择3. 光斑可视技术，可观测任何样品表面4. 自动样品台尺寸：200mmX200mm；XYZ方向自动调节 Z轴高度35mm5. 70度角入射6. CCD探测器相关推荐椭圆偏振光谱入门手册——测量膜厚、光学常数的强大工具您可了解：1. 椭圆偏振光谱的概念及应用领域2. 适用的样品及可获取的信息3. 常见的椭偏仪类型及优势分析4. 测量、数据分析时的常见问题

全斯托克斯相机（偏振相机） 偏振成像，分辨率高，各相关参量可精确定量测量，信息全面，应用广泛！所属类别：相机 ? 多光谱相机/高光谱相机技术服务人员：王工（Karl）电话： 邮箱：全斯托克斯相机(偏振相机) 功能：可见波段实时全斯托克斯偏振成像主动或被动偏振成像任意偏振的实时计算，包括：DOP/DOLP/DOCP/AOP/椭圆度等 应用：相位延迟图应力测量斯托克斯/穆勒图像对比增强目标识别跟光的强度和波长一样，光的偏振也提供了丰富的信息。斯托克斯公式可对任意部分偏振或全偏振光进行完全的描述。不同于大多数偏振相机，只对线偏振进行定量描述，SAULSA相机可对每个像素单元的全斯托克斯偏振矢量进行实时测量，并且偏振相关参数可实时显示，如斯托克斯参量、偏振度、偏振角、椭圆度等。 原理示意图： 这里，有两幅眼镜，左边的是线偏振太阳镜，右边是圆偏振3D影视眼镜。指标参数相机尺寸3.2”×3.2”×4” (80mm×80mm×100mm)视频格式GigE分辨率1040×1040帧频（最大位数）12fps (12bits) / 20fps (8bits)数据位数8 / 12bits同步接口USB谱宽范围520nm - 550nm (可订制)标定方式出厂标定镜头接口C-MOUNT软件SALSA 2.3硬件配置标准PC, Windows 7SAULSA相机在特定波段进行出厂标定，线偏振度的典型精度3%（P-V），0.35% STDV，对圆偏振度的典型精度2%（P-V），0.75% STDV。

Bruker FilmTek CD椭偏仪——多模态临界尺寸测量和先进薄膜计量学想了解相关产品，可联系上海尔迪仪器科技有限公司，拨打电话021-61552797 FilmTekTM CD光学临界尺寸系统是我们的领先解决方案，可用于1x nm设计节点及更高级别的全自动化、高通量CD测量和高级薄膜分析。该系统同时提供已知和完全未知结构的实时多层堆叠特性和CD测量。FilmTek CD利用多模测量技术来满足与开发和生产中最复杂的半导体设计特征相关的挑战性需求。这项技术能够测量极小的线宽，在低于10纳米的范围内进行高精度测量。依赖传统椭圆偏振仪或反射仪技术的现有计量工具在实时准确解析CD测量的能力方面受到限制，需要在设备研究和开发期间生成繁琐的库。FilmTek CD通过获得多模态测量技术克服了这一限制，该技术甚至为完全未知的结构提供了精确的单一解决方案。FilmTek CD包括具有快速、实时优化功能的专有衍射软件。实时优化允许用户以最小的设置时间和配方开发轻松测量未知结构，同时避免与库生成相关的延迟和复杂度。 测量能力：厚度、折射率和光盘计量未知薄膜的光学常数表征超薄膜叠层厚度广泛的关键尺寸测量应用，包括金属栅极凹槽、高k凹槽、侧壁角、抗蚀剂高度、硬掩模高度、沟槽和接触轮廓以及间距行走 系统组件：标准： 可选： 用于在1x nm设计节点及更远处实时多层堆叠特性和CD测量的多模测量技术具有专有严格耦合波分析（RCWA）的 多角度散射测量正入射椭圆偏振光谱法旋转补偿器设计的光谱广义椭圆偏振法（4×4矩阵广义法）多角度、DUV-NIR偏振光谱反射（Rs、Rp、Rsp和Rps）全CD参数测量，包括周期、线宽、沟槽深度和侧壁角度独立测量薄膜厚度和折射率抛物面镜技术–在50×50µm功能范围内测量小光斑尺寸快速、实时优化允许以最短的设置时间实现广泛的应用程序（无需生成库）模式识别（Cognex）盒式到盒式晶片处理FOUP或SMIF兼容SECS/GEM为了适应广泛的预算和最终用途应用，该系统还可作为手动负载、台式设备用于研发 典型应用包括：半导体研发与生产技术规格膜厚范围0 Å to 150 µm膜厚精度NIST可追溯标准氧化物的±1.0Å，100Ç至1µm光谱范围190 nm - 1000 nm (220 nm - 1000 nm is standard)光斑尺寸的测量50 µm光谱分辨率0.3 nm光源调节氘卤素灯（寿命2000小时）探测器类型2048像素索尼线阵CCD阵列电脑带Windows的多核处理器™ 10操作系统测量时间~2 sec (e.g., oxide film) 性能规格 Film(s)厚测量参数精确 (1σ)氧化物/硅0 - 1000 Åt0.03 Å1000 - 500,000 Å t0.005%1000 Åt , n0.2 Å / 0.0001 15,000 Åt , n0.5 Å / 0.0001150.000 Åt , n1.5 Å / 0.00001氮化物 /硅200 - 10,000 Åt0.02%500 - 10,000 Åt , n0.05% / 0.0005光刻胶 / 硅200 - 10,000 Åt0.02%500 - 10,000 Åt , n0.05% / 0.0002多晶硅 /氧化物/硅 200 - 10,000 Åt Poly , t Oxide0.2 Å / 0.1 Å500 - 10,000 Åt Poly , t Oxide0.2 Å / 0.0005

Bruker椭偏仪FilmTek 2000 PAR-SE——用于几乎所有薄膜或产品晶片测量的多模计量 想了解相关产品，可联系上海尔迪仪器科技有限公司，拨打电话021-61552797 FilmTek&trade 2000标准杆数-SE光谱椭圆偏振仪/多角度反射仪系统结合了尖端和专有的FilmTek技术，为从研发到生产的几乎所有薄膜测量应用提供了业界的精度和多功能性。其标准的小点测量尺寸和模式识别能力使该系统成为表征图案化薄膜和产品晶片的理想选择。作为我们组合计量产品线（“标准杆数-SE”）的一部分，FilmTek 2000标准杆数-SE能够独特地满足主流应用所需的平均厚度、分辨率和光谱范围之外的测量要求，并由标准仪器提供。它在超薄到薄膜（特别是多层堆叠中的薄膜）上提供了异常精确和可重复的厚度和折射率测量。此外，与传统的椭偏仪和反射仪相比，该系统对这些样品中的不均匀性更加敏感。这是FilmTek 2000标准杆数-SE多模设计的结果，该多模设计将基于高性能旋转补偿器的光谱椭圆偏振仪与我们的多角度差分偏振测量（MADP）和差分功率谱密度（DPSD）技术、扩展/宽光谱范围DUV多角度偏振反射仪、我们抛物面镜光学设计相结合，以及的Filmtek软件。 允许同时确定：多层厚度折射率[n（λ）]消光（吸收）系数[k（λ）]能带隙成分（例如，SiGex中的Ge百分比、GaxIn1-xAs中的Ga百分比、AlxGa1-xAs中的Al百分比等）表面粗糙度组分，空隙率结晶度/非晶化（例如多晶硅或GeSbTe薄膜）薄膜梯度 系统组件：标准：可选：旋转补偿器设计的椭圆偏振光谱法（295nm-1700nm）多角度偏振光谱反射（190nm-1700nm）独立测量薄膜厚度和折射率多角度差分偏振（MADP）技术与SCI的差分功率谱密度（DPSD）技术非常适合测量超薄薄膜（天然氧化物的重复性为0.03&angst ）用于成像测量位置的摄像机模式识别50微米光斑尺寸高级材料建模软件具有高级全局优化算法的Bruker广义材料模型各向异性测量（nx、ny、nz）的广义椭圆偏振法（4×4矩阵泛化法）盒式到盒式晶片处理FOUP和SMIF兼容模式识别（Cognex）SECS/GEM 典型应用领域：几乎所有厚度从小于1&angst 到约150µ m的半透明膜都可以高精度测量。典型应用领域包括：硅半导体复合半导体LED/OLED具有灵活的硬件和软件，可以轻松修改以满足独特的客户需求，特别是在研发和生产环境中。膜厚范围0 &angst to 150 µ m膜厚精度±1.0 &angst for NIST traceable standard oxide 100 &angst to 1 µ m光谱范围190 nm - 1700 nm (220 nm - 1000 nm is standard)光斑尺寸的测量25 µ m - 300 µ m (normal incidence) 2 mm (70°)样本量2 mm - 300 mm (150 mm standard)光谱分辨率0.3 nm - 2nm光源Regulated deuterium-halogen lamp (2,000 hrs lifetime)探测器类型2048 pixel Sony linear CCD array / 512 pixel cooled Hamamatsu InGaAs CCD array (NIR)带自动聚焦的自动舞台300 mm (200 mm is standard)电脑Multi-core processor with Windows&trade 10 Operating System测量时间1 sec per site (e.g., oxide film) 性能规格 Film(s) 厚度测量参数精确 (1σ)氧化物 / 硅0 - 1000 &angst t0.03 &angst 1000 - 500,000 &angst t0.005%1000 &angst t , n0.2 &angst / 0.000115,000 &angst t , n0.5 &angst / 0.0001150.000 &angst t , n1.5 &angst / 0.00001氮化物 /硅200 - 10,000 &angst t0.02%500 - 10,000 &angst t , n0.05% / 0.0005光刻胶 /硅200 - 10,000 &angst t0.02%500 - 10,000 &angst t , n0.05% / 0.0002多晶硅 / 氧化物 /硅 200 - 10,000 &angst t Poly , t Oxide 0.2 &angst / 0.1 &angst 500 - 10,000 &angst t Poly , t Oxide 0.2 &angst / 0.0005

多波长椭偏仪（仅需25万！）姓名：李工(William) 电话： 邮箱：AUTFS1椭偏仪是利用椭圆偏振的方法对样品进行光学表征。在该系统中由偏振态发生器（PSG）发射已知偏振态的光斜入射到样品上，然后偏振态检测器（PSD）检测反射光的偏振状态。如下图所示由样品引起的发射光偏振态的变化可以由P偏振光和S偏振光的反射率的比值决定。比值为复数，如下图所示： 其中tan（Y）定义了P偏振光和S偏振光反射率比值的大小，D定义了P偏振光和S偏振光的相位差。由于该方法测量的是一个比值，因此对光的强度的变化，以及样品缺陷造成的散射不敏感，并且在每个波长测量两个参量可获得两个常量例如：薄膜厚度和折射率，此外D对薄膜厚度非常敏感，可以使薄膜厚度测量精度到0埃。上海昊量光电推出的多波长椭偏仪采用长寿命的LED光源，可分别提供465nm、525nm、580nm和635nm四种不同波长，并使用无移动部件的椭圆偏振检测器，紧凑的系统提供快速可靠的薄膜测量。通过1秒的测量可以精确的测量0-1000nm的大多数透明薄膜的厚度。并可以获得n和k等光学常量。相比于单波长椭偏仪，多波长椭偏仪可测定薄膜厚度，对于透明薄膜测量厚度至少可达1μm，不存在厚度周期性问题；可确定样品其它其它参数特性例如薄膜粗糙度、多层膜厚度等；对数据分析提供检测依据，一个良好的分析模型应该适用于不同波长的数据；对于非常薄的薄膜（20nm）多波长椭偏仪提供的数据信息量可以与光谱椭偏仪相媲美。 应用案例：原位测量： AUTFS-1 Mounted on Kurt Lesker ALD Chamber AUT FS-1 Mounted on AJA Sputter Chamber选配件：1、聚焦选项：将样品上的光束缩小至0.8 x 1.9 mm 或0.3 x 0.7 mm2、聚焦束检验选项 3、自动成像系统产品特点： 多波长椭偏检测器中无移动部件优异的测量精度（优于0.001nm）可原位测量

总览我们的椭圆芯PME1300-10光纤提供了高偏振消光和对弯曲和扭转应力不敏感。与传统的PM光纤不同，椭圆波导的双折射具有较低的热依赖性(比Panda低10倍)。由于椭圆芯的几何形状，与传统的圆芯光纤(SMF、Panda)之间的耦合是有损耗的，圆形-全椭圆光纤耦合的拼接损耗是-0.5dB，椭圆到圆形的损耗为2.5 dB。低双折射旋转光纤 600-900nm,低双折射旋转光纤 600-900nm通用参数产品特点：高消光比低耦合损耗低温依赖性产品应用：光纤陀螺仪.光学电流传感器.光纤放大器技术参数：型号LB650LB1060LB1300LB1300RCPME1300-10工作波长600 - 900 nm900 - 1100 nm1300 - 1600 nm 11300 - 1600 nm1300 - 1600 nm截止波长 580 nm 915 nm 1280 nm 1280 nm 1280 nmBeatlength 拍长4 mm7 mm13 mm13 mm9 mm自旋周期3 mm3 mm3 mm3mm-衰减6 dB/km6 dB/km4 dB/km5 dB/km8 dB/km模场直径6 um8 um9 um9 um13 x 8 um包层直径125 um125 um125 um80 um125 um涂层直径250 um250 um250 um200 um250 um芯包同心度 0.5 um 0.5 um 0.5 um 0.5 um 0.5 um包层偏移量 5 um 5 um 5 um 5 um 5 um涂层材料丙烯酸脂丙烯酸脂丙烯酸脂丙烯酸脂丙烯酸脂拉力测试100 kpsi100 kpsi100 kpsi100 kpsi100 kpsi弯曲半径 20 mm 20 mm 20 mm 12 mm 20 mm

创新点◎独一无二的光斑可视系统（专利技术): Auto SE 集成了独一无二的MyAutoView光斑可视系统（专利技术），该系统配备在标准椭圆偏振光谱仪中,允许操作者全程观测样品光斑，以确保各种类型的样品都能在完全正确的位置，以合适的光斑尺寸进行测量。解决了现有测量技术中的“盲测”难题。 ◎一键式操作，大大提高工作效率。 ◎共焦微光斑技术： 提供8种不同光斑尺寸的自动选择。 ◎全自动智能诊断及故障处理：大大减轻了设备的维护负担。 仪器简介： 新型的全自动薄膜测量分析工具，工业化设计，操作简单，可在几秒钟内完成全自动测量和分析，并输出分析报告。是用于快速薄膜测量和器件质量控制理想的解决方案。技术参数： 光谱范围：450-1000 nm多种微光斑自动选择专利光斑可视技术，可观测任何样品表面CCD探测器自动样品台尺寸：200mmX200mm；XYZ方向自动调节 Z轴高度35mm70度角入射主要特点：完全自动化设计，一键式操作，直接报告输出液晶调制技术，测量光路中无运动部件CCD探测系统，快速全谱输出多个微光斑尺寸选择，专利可视技术封闭式样品仓

SEMILAB-SE2000 全光谱椭偏测试平台(Spectroscopic Ellipsometer Metrology Station)产品描述SE2000全光谱椭偏测试平台基于椭圆偏振测试技术，采用先进的旋转补偿器，结合光纤专li技术将偏振光信号传输至分段光谱优化的高分辨率单色仪或阵列式多通道摄谱仪，测得线偏振光经过样品反射后的偏振态变化情况，并通过样品光学模型的建立，计算出单层或多层薄膜结构的厚度、折射率和消光系数，实现精确、快速、稳定的宽光谱椭偏测试。 SE2000全光谱椭偏测试平台是Semilab针对产线和实验线推出的多功能高速测试平台。模块化的设计，可选配300mm样品台或350*450mm平板样品台，Robot上片系统，图形识别系统和数据通信系统，实现高速在线监控。在测试功能方面，可自由组合多种从190nm深紫外光谱至2400nm近红外光谱的探测器，并可拓展FTIR红外光谱测试模组、涡电流法非接触式或4PP接触式方块电阻测试模组、Mueller Matrix各项异性材料测试模组、Raman结晶率测试模组、电子迁移率表征模组、LBIC光诱导电流测试模组、反射干涉测试模组等多种功能，使SE2000成为光学和电学特性表征综合测试系统。产品特点业界第yi家光谱型椭偏仪测试设备厂商业界标准测试机构定标设备，参与发布中华人民共和国椭圆偏振测试技术标准业界最宽测试光谱范围，选配190nm-25um，并可自动切换快速探测模式和高精度探测模式配置实时对焦传感器，实现高速测量选配Robot上片系统，图形识别系统和数据通信系统，实现在线监控独特的样品台结构设计，优化固定大尺寸的柔性材料模块化设计，可综合监控样品光学和电学特性定期免费升级SOPRA材料数据库开放光学模型拟合分析过程，方便用户优化测试菜单主要应用光伏行业：薄膜电池透明导电膜、非晶硅微晶硅薄膜电池、CIGS薄膜电池、CdTe薄膜电池、有机电池、染剂敏感太阳能电池半导体行业：High-K、Low-K、金属、光刻工艺、半导体镀膜工艺、外延工艺平板显示行业：TFT、OLED、LTPS、IGZO、彩色滤光片光电行业：光波导、减反膜、III-V族器件、MEMS、溶胶凝胶主要技术指标测试速度：＜1 sec （快速测试模式） ＜120 sec （高分辨率测试模式）测量光谱分辨率：＜0.5nm@633nm （高分辨率测试模式） ＜0.8nm@633nm （快速测试模式）最大样品尺寸： 300mm厚度测量范围：0.01nm-50um厚度测试精度：0.02nm @120nm SiO2 on Si折射率测试精度：0.002 @120nm SiO2 on Si

仪器简介： 椭圆偏振光谱是一种无损无接触的光学测量技术，基于测量线偏振光经过薄膜样品反射后偏振状态发生的改变，通过模型拟合后得到薄膜、界面和表面粗糙层的厚度以及光学性质等等，可测厚度范围为几埃至几十微米。此外，还可以测试材料的反射率及透过率。 技术参数： * 光谱范围: 190-885 nm（可扩展至2100nm） * 微光斑可选50μm-100μm-1mm * 探测器：分别针对紫外，可见和近红外提供优化的PMT和IGA探测器 * 自动样品台尺寸：多种样品台可选 * 自动量角器：变角范围40° - 90°，全自动调整，小步长0.01° 主要特点： * 50KHz 高频PEM 相调制技术，测量光路中无运动部件 * 具备超薄膜所需的测量精度，超厚膜所需的高光谱分辨率 * 具有毫秒级超快动态采集模式，可用于在线实时监测 * 自动平台样品扫描成像、变温台、电化学反应池、液体池、密封池等多种附件 * 配置灵活

SEMILAB-全光谱椭偏仪GES5E (Spectroscopic Ellipsometer)SEMILAB成立于1989年，总部位于匈牙利布达佩斯，为生产、研发中心，客户遍布全球。在欧洲、和亚洲主要国家都设有分支机构, 在美国设有工厂和研发中心。SEMILAB拥有全球zui优秀的电学和光学表征技术，产品被广泛应用于光伏、半导体、科研以及平板测试领域。凭借先进的测试设备，为客户的生产和质量监控提供一套完整的测试方案，在行业中始终处于领xian地位。公司建成后迅速发展, 自2004年以来相继收购了包括SemiTest、SSM、Sopra、QC Solution、AMS、SDI和Todival Solar在内的业内知名测试公司，同时囊获了IBM的JPV、AMAT的Boxes Cross、以及德国Basler公司的zhuan li技术。随着市场的不断扩张，SEMILAB于2000年进入中国市场，6年后成立代表处，并于2009年在上海成立全资子公司“瑟米莱伯贸易（上海）有限公司”。子公司成立以来，业务量发展迅猛，于2010年成立了TSS寄售维修中心，并于次年在无锡新增了售后服务中心，上海公司随之成为亚洲最大的销售及售后服务中心。公司秉承专ye、团队、激情的文化理念，始终坚持为客户提供最hao的测试方案和完善的售后服务。 产品描述 GES5E全光谱椭偏仪基于椭圆偏振测试技术，采用先进的旋转补偿器，结合光纤专li技术将偏振光信号传输至分段光谱优化的高分辨率单色仪或阵列式多通道摄谱仪，测得线偏振光经过样品反射后的偏振态变化情况，并通过样品光学模型的建立，计算出单层或多层薄膜结构的厚度、折射率和消光系数，实现精确、快速、稳定的宽光谱椭偏测试。GES5E是Semilab针对科研院所和企业研发中心推出的多功能桌面型旗舰产品。为了满足科研院所及研发中心对于复杂薄膜材料和复杂多层薄膜结构的综合型测试需求，GES5E采用了模块化的设计，可自由组合多种扫描和真空变温样品台，多种从135nm深紫外光谱至2400nm近红外光谱的探测器，多种测试光斑尺寸，并可拓展FTIR红外光谱测试模组、EPA薄膜孔隙率测试模组、涡电流法非接触方块电阻测试模组、Mueller Matrix各项异性材料测试模组、Raman结晶率测试模组、反射干涉测试模组、透射率和反射率测试模组等多种功能，为方便用户合理配置，Semilab支持绝大部分模组的后续升级服务。 产品特点业界第yi家光谱型椭偏仪测试设备厂商业界标准测试机构定标设备，参与发布中华人民共和国椭圆偏振测试技术标准非接触、无损测试所测样品无损伤的测量业界最宽测试光谱范围，选配135nm-25um，并可自动切换快速探测模式和高精度探测模式测试功能延展性强，并支持后续升级服务定期免费升级SOPRA材料数据库开放光学模型拟合分析过程，方便用户优化测试菜单主要应用光伏行业：晶硅电池减反膜、薄膜电池透明导电膜、非晶硅微晶硅薄膜电池、CIGS薄膜电池、CdTe薄膜电池、有机电池、染剂敏感太阳能电池半导体行业：High-K、Low-K、金属、光刻工艺、半导体镀膜工艺、外延工艺平板显示行业：TFT、OLED、LTPS、IGZO、彩色滤光片光电行业：光波导、减反膜、III-V族器件、MEMS、溶胶凝胶主要技术指标测试速度：＜1 sec （快速测试模式） ＜120 sec （高分辨率测试模式）测量光谱分辨率：＜0.5nm@633nm （高分辨率测试模式） ＜0.8nm@633nm （快速测试模式）最大样品尺寸： 300mm厚度测量范围：0.01nm-50um厚度测试精度：0.02nm @120nm SiO2 on Si折射率测试精度：0.002 @120nm SiO2 on SiSE1000 全光谱椭偏仪(TABLE TOP SPECTROSCOPIC ELLIPSOMETER)产品描述SE-1000型椭偏仪采用手动变角装置来设定测试的入射角，样品台也采用手动方式，在测试的准确性和灵活性与SE-2000保持一致的情况下，为客户提供了一款极具竞争力的椭偏测试设备。另一方面，SE-1000型全光谱椭偏仪采用了最新设计的光学部件以及最新版本的测试分析软件（SAM/SEA），极大地提高了设备的运行稳定性和数据处理能力 与SE-2000平台一样，SE-1000全光谱椭偏仪同时也是一个多功能测试平台，采用模块化的设计，可集成FTIR红外光谱测试模组、涡电流法非接触式或4PP接触式方块电阻测试模组、Mueller Matrix各项异性材料测试模组、Raman结晶率测试模组、电子迁移率表征模组、LBIC光诱导电流测试模组、反射干涉测试模组等多种功能，用户可根据测试需求合理选择搭配功能产品特点业界第yi家光谱型椭偏仪测试设备厂商业界标准测试机构定标设备，参与发布中华人民共和国椭圆偏振测试技术标准针对研发及实验室测试设计，能降低测试成本模块化设计，可综合监控样品光学和电学特性定期免费升级SOPRA材料数据库开放光学模型拟合分析过程，方便用户优化测试菜单主要应用业界第yi家光谱型椭偏仪测试设备厂商业界标准测试机构定标设备，参与发布中华人民共和国椭圆偏振测试技术标准针对研发及实验室测试设计，能降低测试成本模块化设计，可综合监控样品光学和电学特性定期免费升级SOPRA材料数据库开放光学模型拟合分析过程，方便用户优化测试菜单主要技术指标手动变角范围：45°-75°（最小步进5°）光谱范围：245-990nm最大样品尺寸： 200mm厚度测量范围：0.01nm-50um（取决于样品类型）技术关键词应用关键词

产品特点： ? 400波长以上多通道分光的椭偏仪，高速测量椭圆偏光光谱。? 自动变更反射测量角度，可得到更详细的薄膜解析数据。? 采用正弦杆自动驱动方式，展现测量角度变更时优异的移动精度。? 搭载薄膜分析所需的全角度同时测量功能。? 可测量晶圆与金属表面的光学常数(n:折射率、k:消光系数)。产品规格： 样品对应尺寸100×100mm测量方式偏光片元件回转方式入射/反射角度范围45～90o入射/反射角度驱动方式反射角度可自动变更波长测量范围300～800nm分光元件Poly-chrometer尺寸650（H）×400（D）×560（W）mm重量约50kg

偏振测量仪宽波长范围可选：370-1600nm SK010PA系列偏振测量仪是一个综合性的检测和测量系统，在自由空间光束和保偏光纤激光输出的应用中。偏振测量仪是一个即插即用的设备，通过USB和标准计算机连接。准直和测量可迅速被执行。实时显示了偏振态和线性偏振分数的摆动轴，以及当光纤电缆连接时连接器指标的取向。一个标准的设备包括偏振检测仪，与微平台系统相兼容，以及一个FC-APC光纤适配器连接头（其他光纤连接头有ST， DIN_AVIO，SMA，PC，APC，SMA-905High Power 5°/8°）。或一个对于不同光束直径的微平台适配器（φ：12,25,32,45和55mm）。 产品特色：USB2.0供电设备兼容自由空间输出和FC-APC光纤输出的应用测量偏振态（SOP），有四个Stokes参数。偏振度（DOP），椭圆形等在 Poincaré sphere 上显示偏振态或偏振椭圆专用程序为保偏光纤的评估和准直 产品参数： 接口：USB2.0供电：通过USB光纤适配器：FC-APC（标准），FC-PC，DIN AVIO，和ST（可选）自由空间光束直径：最大4mm功率范围：0.01-50mW取样频率：15HzSOP精度：±0.2°Poincaré spherePER精度：0.5DBDOP精度：5%预热时间：5分钟封装尺寸：40*70*82（WxLxH） 订购信息：Order Code SK010PA - VISUV ............ 375 – 450 nmUVIS .......... 400 – 700 nmVIS ............ 450 – 800 nmNIR............ 700 – 1100 nmIR ............ 1100 – 1600 nm

超宽带偏振态测量仪美国Meadowlark Optics公司在精密偏振控制和测量方面一直保持长期优势和信誉，超宽带偏振测量仪（Broad Wavelength Polarimeter）结合了Meadowlark Optics公司的液晶可变相位延迟器技术和偏振技术，具有超宽带、高精度及无运动部件等特点。液晶偏振态测量仪因为没有旋转的波片、马达或其它运动部件，不存在磨损问题和由于机械运动而导入振动源的问题，可以大大提高偏振态测量的精度与一致性。Keyword:偏振态测量仪，Polarimeter，Liquid Crystal Polarimeter，液晶偏振态测量仪，SOP，DOP，偏振度，偏振态，偏振态测定仪系统，偏振态测量系统，偏振测量仪，LCPM，偏振分析仪，偏振态分析仪Meadowlark Optics的超宽带偏振测量仪可直接通过计算机的USB接口进行控制，为测量的速率和便捷性提供了保障，这款偏振测量仪在计算机的控制下每秒的测量10次可量化偏振态的斯托克斯（Stokes）参数，同时将偏振态图形化地显示成庞加球（Poincaré Sphere）、偏振椭圆（Polarization Ellipse）或者运行图；Meadowlark Optics的偏振测量仪控制软件采用独特算法，其提供了高精度和多功能校正；可以说Meadowlark Optics的超宽带偏振测量仪是一套便携精密和紧凑（小体积）的偏振态测量系统。 邦加球：偏振椭圆：运行图：Meadowlark Optics的超宽带偏振测量仪的偏振度测量精度≤1%，斯托克斯矢量的分辨率为0.001，工作频率为10Hz，波长的校正精度为±3nm，在保证测量精度的情况下可对光功率为1μW的光波实现偏振态的测量；由于液晶材料对温度比较敏感，为了保证PMI工作的稳定性，该超宽带偏振测量仪配有温度控制选项，以实现实时实地的恒温状态。Meadowlark Optics超宽带偏振测量仪有可见光（450-1100nm）和近红外（900-1700nm）两种版本，及光纤耦合和自由光路两种不同配置。优势：超宽带（450-1100nm和900-1700nm可选）无运动部件偏振度测量精度≤1%斯托克斯矢量分辨率0.001偏振态跟踪LabVIEW VI程序库简易化操作界面光纤和自由光路输入方式可选可测量功率为1μW的光波偏振态规格：订购信息：可选配件：尺寸：

结晶石英波片- Altechna S波片材料：结晶石英表面质量：S-D : 10-5透射波前失真，P-V：λ/ 10 @ 632.8 nm延迟公差@ 20°C:： ±λ/ 300光圈清晰: ?5 - 76.2毫米增透膜:每个表面的Ravg 0.2％LIDT: 10 J /cm?@ 1064 nm，10 ns，10 Hz安装: 黑色或者白色阳极氧化金属支架深圳因诺尔科技有限公司代理的Altechna S波片由具有双折射的材料制成。通过双折射材料的非常和普通光线的速度与它们的折射率成反比。当两个光束重新组合时，这种速度差异产生相位差。在任何特定波长下，相位差由延迟器（波片）的厚度决定。半（λ/ 2）波片。入射在半波晶体石英波片上的线性偏振光束作为线性偏振光束出现，但是旋转使得它与光轴的角度是入射光束的两倍。因此，半波片可用作连续可调的偏振旋转器。这种波片用于旋转偏振面，以及用于电光调制，并且当与偏振立方体结合使用时用作可变比率分束器。四分之一（λ/ 4）波片 - 薄膜补偿器。如果线性偏振入射光束的电场矢量与四分之一波片的延迟器主平面之间的角度是45°，则出射光束是圆偏振的。当四分之一波片被双重通过时，例如通过镜面反射，它起到半波片的作用并将偏振面旋转到一定角度。四分之一波片用于从线性极化产生圆形，反之亦然，以及椭圆光度法，光泵浦，抑制不需要的反射和光学隔离。零级波片通常是优选的，因为它们对波长，入射角和温度的变化***不敏感。标准波片基于空气间隔结构，可用于高功率应用。对于10ns脉冲10ns，损伤阈值大于20J / cm 2。Altechna波片由优质激光级晶体石英材料制成。深圳因诺尔科技有限公司另提供Altechna 高能波片（High Energy Waveplates）,消色差波片（Achromatic Waveplates）,中红外波片（Mid-IR Waveplates）, Dieletric涂层光学器件, 金属涂层光学元件, 镜头, 棱镜, 过滤器, 旋转三棱镜, 偏振光学, 波片, 薄膜偏振器, 格兰型偏振器, 偏光立方体, 激光晶体, 非线性晶体, 无源Q开关晶体, 光折变晶体, 激光配件, 扩束器, 电动衰减器, 手动衰减器, 大孔径衰减器

偏振态测量仪校准套装仅使用液晶可变波片技术的宽带宽、高测量精度的偏振态测量仪！ 美国Meadowlark Optics公司在精密偏振控制和测量方面一直保持长期的优势和信誉，超宽带偏振测量仪（Broad Wavelength Polarimeter）结合了Meadowlark Optics公司液晶可变相位延迟器技术和偏振技术，具有超宽带、高精度及无运动部件等特点。液晶偏振态测量仪因为没有旋转的波片、马达或其它运动部件，不存在磨损问题和由于机械运动而导入振动源的问题，可以大大提高偏振态测量的精度与一致性。偏振态测量仪，Polarimeter，Liquid Crystal Polarimeter，液晶偏振态测量仪，SOP，DOP，偏振度，偏振态，偏振态测定仪系统，偏振态测量系统，偏振测量仪，LCPM，偏振分析仪，偏振态分析仪 美国Meadowlark Optics公司的偏振态测量仪校准套装可产生6个本征偏振态：0,90，+45，-45deg的线偏振、左旋圆偏振及右旋圆偏振。这些本征偏振态是由分别封装在下图黑色外壳里面的精密二向色性线偏振片和封装在蓝色外壳中的精密四分之一波片产生，这些外壳都是由数控机床加工以保证其角精度小于1角分。在磁铁提供夹持力的同时，外壳上面的销子以准运动方式配合V型槽和扁平槽，这样的机械结构有利于简单快速的索引本征偏振态；外壳上的箭头标明了偏振片的偏振方向及波片的快轴，以便于使用。偏振态测量仪的可用波长范围为450-1700nm。 同时，Meadowlark付费提供用于偏振态测量仪和偏振态测量仪校准套装的本征态波片，这样可保证终端用户在任何波长实时实地对偏振测量仪实现校准。 Meadowlark Optics在精密偏振态控制和测量方面一直保持长期的优势和良好的信誉，Meadowlark Optics的便携型超宽带偏振测量仪（Broad Wavelength Polarimeter）运用了Meadowlark Optics公司液晶可变相位延迟器/波片技术和偏振技术，具有宽带、高精度、高可靠性及无运动部件等特点。由于Meadowlark Optics的超宽带液晶偏振态测量仪没有采用旋转波片、马达或其它运动部件，因此不存在磨损问题和由于机械运动而导入振动源的问题，可以大大提高偏振态测量的精度与一致性。 Meadowlark Optics的超宽带偏振测量仪可直接通过计算机的USB接口进行控制，提供了测量的速率和便捷性，Meadowlark Optics超宽带偏振测量仪在计算机的控制下每秒的测量10次可量化偏振态的斯托克斯（Stokes）参数，同时将偏振态图形化地显示成邦加球（Poincaré Sphere）、偏振椭圆（Polarization Ellipse）或者运行图；Meadowlark Optics的偏振测量仪控制软件采用独特算法，其提供了高精度和多功能校正；可以说Meadowlark Optics的超宽带偏振测量仪是一套简便紧凑和精密的偏振态测量系统。Meadowlark Optics的超宽带偏振测量仪的偏振度测量精度≤1%，斯托克斯矢量的分辨率为0.001，测量频率为10Hz，波长的校正精度为±3nm，在保证测量精度的情况下可对光功率为1μW的光波实现偏振态的测量；由于液晶材料对温度比较敏感，为了保证Meadowlark Optics的超宽带偏振测量仪配有温度控制选项，可以实现实时实地的恒温状态。Meadowlark Optics超宽带偏振测量仪有可见光（450-1100nm）和近红外（900-1700nm）两种版本，及光纤耦合和自由光路两种不同配置。 优势：超宽带（450-1100nm和900-1700nm可选）无运动部件偏振度测量精度≤1%斯托克斯矢量分辨率0.001偏振态跟踪LabVIEW VI程序库图形化操作界面光纤和自由光路版本可测量功率为1μW的光束偏振态规格：订购信息：可选配件：本征态校准套装尺寸：

产品简介INSTEC HCP421V-ELP 椭偏仪冷热台专为椭圆偏振仪设计，其专用上盖支持70°的出入射角度，台体温度范围 -190℃ ~ 400℃，同时允许光学观察和样品气体环境控制。上盖与底壳构成一个真空腔，也可往内充入氮气等保护气体，来防止样品在负温下结霜，或高温下氧化。功能特点INSTEC HCP421V-ELP 椭偏仪冷热台椭偏仪专用冷热台，70°出入射角，-190℃~400℃ 可编程控温（负温需配液氮制冷系统），26 mm加热区，可充入保护气体的真空腔，可从温控器或电脑软件控制，可提供软件SDK。温控参数&bull 温度范围：-190℃ ~ 400℃（负温需配液氮制冷系统）&bull 加热块材质：银&bull 传感器/温控方式：100Ω铂RTD / PID控制&bull 最大加热/制冷速度：30℃/min&bull 最小加热/制冷速度：±0.01℃/min&bull 温度分辨率：0.01℃&bull 温度稳定性：±0.05℃（25℃）±0.1℃（25℃）&bull 软件功能：可设温控速率，可设温控程序，可记录温控曲线光学参数&bull 适用光路：斜反射光路&bull 窗片：可拆卸与更替的窗片&bull 最小物镜工作距离：5 mm&bull 入射角度/出射角度：70.0° / 70.0°&bull 负温下窗片除霜：吹气除霜管路结构参数&bull 加热区/样品区：26 mm&bull 样品腔高：4.3 mm&bull 放样：水平抽出上盖后置入样品&bull 气氛控制：气密腔/真空腔，可充入保护气体

透射率超过42%备有料和膜基片材质供选择备有左旋及右旋偏振两种设计圆偏振器非常适用于减少各种成像应用中的眩光，以及提高显示器在光亮环境中的可见性。这些圆偏振器能为波长介于400 – 700nm的可见光提供卓越的透射率。塑料基片能提高该产品的耐久性能，而膜基片则能提高灵活性，并根据应用需求轻松裁剪。圆偏振器备有左旋及右旋偏振两种设计供选择。通用规格波长范围 (nm):400 - 700Polarization Efficiency (%):99.90工作温度 (°C):-40 to +80Heat Resistance (°C x Hours):80 x 500

Bruker椭偏仪 FilmTek 6000 PAR-SE——用于IC器件开发和制造的多模薄膜计量学想了解相关产品，可联系上海尔迪仪器科技有限公司，拨打电话021-61552797FilmTek&trade 6000标准杆数-SE先进的多模薄膜计量系统在1x nm设计节点和更高的位置为广泛的薄膜层提供生产验证的薄膜厚度、折射率和应力测量监测。该系统能够在新一代集成电路的生产过程中实现更严格的过程控制，提高器件产量，并支持下一代节点技术的开发。制造1x nm的先进IC器件需要使用高度均匀的复合膜。能够监测非常薄的薄膜的计量工具，通常在多层膜堆叠中（例如，高k和氧化物-氮化物-氧化物膜），使制造商能够保持对膜构建过程的严格控制。此外，一些工艺，如多重图案化，会导致薄膜厚度的梯度，必须对其进行监控，以获得佳器件性能（例如，注入损伤和低k薄膜）。不幸的是，现有的计量工具依赖于传统的椭偏测量或反射测量技术，其检测这些应用的薄膜梯度变化的能力有限。为了克服这些挑战，FilmTek 6000标准杆数-SE将光谱椭圆偏振仪和DUV多角度极化反射仪与宽光谱范围相结合，以满足与多图案和其他前沿器件制造技术相关的需求。该系统采用我们多角度差分偏振（MADP）和差分功率谱密度（DPSD）技术，可独立测量薄膜厚度和折射率，显著提高其对薄膜变化的灵敏度，尤其是多层堆叠中的变化。这种组合方法对于用于复杂器件结构的超薄和厚膜叠层都是理想的。技术规格膜厚范围0 &angst to 150 µ m膜厚精度±1.0 &angst for NIST traceable standard oxide 100 &angst to 1 µ m光谱范围190 nm - 1700 nm (220 nm - 1000 nm is standard)光斑尺寸的测量50 µ m样本量2 mm - 300 mm (150 mm standard)光谱分辨率0.3 nm - 2nm光源Regulated deuterium-halogen lamp (2,000 hrs lifetime)探测器类型2048 pixel Sony linear CCD array / 512 pixel cooled Hamamatsu InGaAs CCD array (NIR)ComputerMulti-core processor with Windows&trade 10 Operating System测量时间~2 sec per site (e.g., oxide film) 性能规格Film(s) 厚 测量参数精确 (1σ)氧化物/硅0 - 1000 &angst t0.03 &angst 1000 - 500,000 &angst t0.005%1000 &angst t , n0.2 &angst / 0.000115,000 &angst t , n0.5 &angst / 0.0001150.000 &angst t , n1.5 &angst / 0.00001氮化物/硅200 - 10,000 &angst t0.02%500 - 10,000 &angst t , n0.05% / 0.0005光致抗蚀剂/硅200 - 10,000 &angst t0.02%500 - 10,000 &angst t , n0.05% / 0.0002多晶硅 / 氧化物/硅200 - 10,000 &angst t Poly , t Oxide 0.2 &angst / 0.1 &angst 500 - 10,000 &angst t Poly , t Oxide0.2 &angst / 0.0005