彩色显影剂

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  • 显影剂测试

    哪位测试过彩色显影剂或者显影剂及其氧化物?难度很大吗?

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彩色显影剂相关的资讯

  • 芯源微:前道涂胶显影机可与ASML等光刻机联机应用
    近日,芯源微披露投资者关系活动记录表指出,公司前道涂胶显影机与国际光刻机联机的技术问题已经攻克并通过验证,可以与包括ASML、佳能等国际品牌以及国内的上海微电子(SMEE)的光刻机联机应用。芯源微表示,涂胶显影机在Iline、KrF、向ArF等技术升级的过程中,主要技术难点在于涂胶显影机结构复杂,运行部件多。研发升级在技术上有很大的跨度,主要体现在颗粒污染物的控制方面,例如烘烤精 度、多腔体的一致性及均匀性、不同光刻胶的涂胶显影工艺精 细化控制,以及设备整体颗粒污染物控制等。据悉,当前,全球半导体设备市场的主要份额基本被国外厂商占据,如美国应用材料、荷兰阿斯麦、美国泛林集团、日本东京电子、美国科天等,为了突破这一卡脖子技术,近年来,国产半导体企业亦在奋力追赶,希望尽早实现国产替代。资料显示,芯源微成立于2002年,是由中科院沈阳自动化研究所发起创建的国家高新技术企业,专业从事半导体生产设备的研发、生产、销售与服务。图片来源:芯源微公告芯源微产品广泛应用于半导体生产、高端封装、MEMS、LED、OLED、3D-IC TSV、PV等领域,产品包括光刻工序涂胶显影设备和单片式湿法设备,可用于8/12英寸单晶圆处理及6英寸及以下单晶圆处理。目前,芯源微的主要客户包括中芯国际、华力微电子、长江存储、台积电、华为、上海积塔、株洲中车、青岛芯恩、长电科技、通富微电、华天科技、晶方科技、华灿光电、乾照光电、澳洋顺昌等半导体知名厂商。作为芯源微的标杆产品,光刻工序涂胶显影设备成功打破国外厂商垄断并填补国内空白,其中,在集成电路前道晶圆加工环节,作为国产化设备已逐步得到验证,实现小批量替代;在集成电路制造后道先进封装、化合物、MEMS、LED 芯片制造等环节,作为国内厂商主流机型已广泛应用在国内知名大厂,成功实现进口替代。新华社此前报道,芯源微产品在匀胶显影技术领域居国内第一,达到国际先进水平。芯源微在记录表指出,公司现有的厂区已经是满负荷运转,同时新厂房也在建设当中,按照计划将于2021年4季度投入使用,届时对公司产能提升会起到非常大的作用。
  • 沈阳芯源KrF涂胶显影机台入驻士兰集科暨双方达成战略合作关系
    2022年6月10日,沈阳芯源12寸KrF涂胶显影设备顺利入驻厦门士兰集科。作为士兰集科引入的首台国产高产能KrF涂胶显影机台,沈阳芯源产品获得了客户的高度重视和充分认可,士兰集科总经理黄军华、副总经理李文深、相关技术和商务代表,沈阳芯源公司董事长兼总裁宗润福、前道设计总监程虎、市场总监王星园以及现场服务代表出席了搬入仪式。此次沈阳芯源公司12寸高产能KrF涂胶显影量产机台的顺利交付,将会为士兰集科提供更加高端的光刻工艺解决方案及服务,为士兰集科后续高端产品稳定量产、产线升级扩产提供更为安全的供应链保障。同时,士兰集科作为中国大陆12寸晶圆特种工艺产线的领导者,也为集成电路高端设备国产化替代提供了优秀的平台和机遇。搬入仪式完成后,双方进行了深入友好的商务交流,沈阳芯源与士兰集科签署了战略合作协议。本次战略合作的达成,既是对过往双方成功合作的肯定,也是对未来深入合作的无限期许,双方也将继续携手前行,协同发展,同“芯”聚力,共创辉煌!
  • 2011年1月1日起施行的环保法规标准
    行政法规 废弃电器电子产品回收处理管理条例(中华人民共和国国务院令第551号) 为了规范废弃电器电子产品的回收处理活动,促进资源综合利用和循环经济发展,保护环境,保障人体健康,根据《中华人民共和国清洁生产促进法》和《中华人民共和国固体废物污染环境防治法》的有关规定,制定本条例。 本条例所称废弃电器电子产品的处理活动,是指将废弃电器电子产品进行拆解,从中提取物质作为原材料或者燃料,用改变废弃电器电子产品物理、化学特性的方法减少已产生的废弃电器电子产品数量,减少或者消除其危害成分,以及将其最终置于符合环境保护要求的填埋场的活动,不包括产品维修、翻新以及经维修、翻新后作为旧货再使用的活动。 列入《废弃电器电子产品处理目录》(以下简称《目录》)的废弃电器电子产品的回收处理及相关活动,适用本条例。 国务院环境保护主管部门会同国务院资源综合利用、工业信息产业主管部门负责组织拟订废弃电器电子产品回收处理的政策措施并协调实施,负责废弃电器电子产品处理的监督管理工作。国务院商务主管部门负责废弃电器电子产品回收的管理工作。国务院财政、工商、质量监督、税务、海关等主管部门在各自职责范围内负责相关管理工作。 部门规章 废弃电器电子产品处理资格许可管理办法(中华人民共和国环境保护部令第13号) 为了规范废弃电器电子产品处理资格许可工作,防止废弃电器电子产品处理污染环境,根据《中华人民共和国行政许可法》、《中华人民共和国固体废物污染环境防治法》、《废弃电器电子产品回收处理管理条例》,制定本办法。 本办法适用于废弃电器电子产品处理资格的申请、审批及相关监督管理活动。 本办法所称“废弃电器电子产品”,是指列入国家发展和改革委员会、环境保护部、工业和信息化部发布的《废弃电器电子产品处理目录》的产品。 国家对废弃电器电子产品实行集中处理制度,鼓励废弃电器电子产品处理的规模化、产业化、专业化发展。 处理废弃电器电子产品,应当符合国家有关资源综合利用、环境保护、劳动安全和保障人体健康的要求。禁止采用国家明令淘汰的技术和工艺处理废弃电器电子产品。 设区的市级人民政府环境保护主管部门依照本办法的规定,负责废弃电器电子产品处理资格的许可工作。 县级以上人民政府环境保护主管部门依照《废弃电器电子产品回收处理管理条例》和本办法的有关规定,负责废弃电器电子产品处理的监督管理工作。 国家环境保护标准 农药使用环境安全技术导则(HJ 556-2010) 为贯彻《中华人民共和国环境保护法》、《中华人民共和国水污染防治法》和《中华人民共和国固体废物污染环境防治法》,防止或减轻农药使用产生的不利环境影响,保护生态环境,制定本标准。 本标准规定了农药环境安全使用的原则、污染控制技术措施和管理措施等相关内容。 本标准适用于指导农药环境安全使用的监督与管理,也可作为农业技术部门指导农业生产者科学、合理用药的依据。 本标准为首次发布。 农村生活污染控制技术规范(HJ 574-2010) 为贯彻《中华人民共和国环境保护法》、《中华人民共和国水污染防治法》、《中华人民共和国大气污染防治法》和《中华人民共和国固体废物污染环境防治法》,指导农村生活污染控制工作,改善农村环境质量,促进新农村建设,制定本标准。 本标准规定了农村生活污染控制的技术要求。 本标准适用于指导农村生活污染控制的监督与管理。 本标准为首次发布。 酿造工业废水治理工程技术规范(HJ 575-2010) 为贯彻《中华人民共和国环境保护法》和《中华人民共和国水污染防治法》,防止酿造工业废水污染,规范酿造工业废水治理工程设施建设和运行管理,防止环境污染,保护环境和人体健康,制定本标准。 本标准规定了酿造工业废水治理工程的污染负荷、总体要求、工艺设计、设计参数与技术要求、工艺设备与材料、检测与过程控制、构筑物及辅助工程、劳动安全与职业卫生、施工与验收、运行与维护等技术要求。 本标准适用于酿造工业废水治理工程建设全过程的环境管理,可作为项目环境影响评价,工程的可行性研究、设计、施工、竣工、环境保护验收以及设施建成后运行等环境管理的技术依据。 厌氧-缺氧-好氧活性污泥法污水处理工程技术规范(HJ 576-2010) 为贯彻《中华人民共和国水污染防治法》,防治水污染,改善环境质量,规范厌氧缺氧好氧活性污泥法在污水处理工程中的应用,制定本标准。 本标准规定了采用厌氧-缺氧-好氧活性污泥法的污水处理工程工艺设计、电气、检测与控制、施工与验收、运行与维护的技术要求。 本标准适用于采用厌氧缺氧好氧活性污泥法的城镇污水和工业废水处理工程,可作为环境影响评价、设计、施工、验收及建成后运行与管理的技术依据。 本标准为首次发布。 序批式活性污泥法污水处理工程技术规范(HJ 577-2010) 为贯彻《中华人民共和国水污染防治法》,防治水污染,改善环境质量,规范序批式活性污泥法在污水处理工程中的应用,制定本标准。 本标准规定了采用序批式活性污泥法的污水处理工程工艺设计、主要工艺设备、检测与控制、施工与验收、运行与维护的技术要求。 本标准适用于采用序批式活性污泥法的城镇污水和工业废水处理工程,可作为环境影响评价、设计、施工、环境保护验收及设施运行管理的技术依据。 本标准为首次发布。 氧化沟活性污泥法污水处理工程技术规范(HJ 578-2010) 为贯彻《中华人民共和国水污染防治法》,防治水污染,改善环境质量,规范氧化沟活性污泥法在污水处理工程中的应用,制定本标准。 本标准规定了采用氧化沟活性污泥法的污水处理工程工艺设计、主要设备、检测和控制、电气、施工与验收、运行与维护的技术要求。 本标准适用于采用氧化沟活性污泥法的城镇污水和工业废水处理工程,可作为环境影响评价、设计、施工、验收及建成后运行与管理的技术依据。 本标准为首次发布。 膜分离法污水处理工程技术规范(HJ 579-2010) 为贯彻《中华人民共和国环境保护法》和《中华人民共和国水污染防治法》,规范膜分离法污水处理工程建设与运行管理,防治环境污染,保护环境和人体健康,制定本标准。 本标准规定了膜分离法污水处理工程的设计参数、系统安装与调试、工程验收、运行管理,以及预处理、后处理工艺的选择。 本标准适用于以膜分离法进行污水处理及深度处理回用的工程,可作为环境影响评价、环境保护设施设计与施工、建设项目竣工环境保护验收及建成后运行与管理的技术依据。 本标准所指膜分离法为:微滤、超滤、纳滤及反渗透膜分离技术。本标准不适用于以膜生物反应器法和荷电膜进行污水处理及回用的膜分离工程。 含油污水处理工程技术规范(HJ 580-2010) 为贯彻《中华人民共和国环境保护法》和《中华人民共和国水污染防治法》,规范含油污水处理工程的建设与运行管理,防治环境污染,保护环境和人体健康,制定本标准。 本标准规定了含油污水处理工程的设计、施工、验收、运行及维护管理工作的基本要求。 本标准适用于以油污染为主的污水处理工程,可作为环境影响评价、环境保护设施设计与施工、建设项目竣工环境保护验收及建成后运行与管理的技术依据。 环境影响评价技术导则 农药建设项目(HJ 582-2010) 为贯彻《中华人民共和国环境影响评价法》和《建设项目环境保护管理条例》,保护环境,规范和指导农药建设项目环境影响评价工作,制定本标准。 本标准规定了农药(原药、制剂和中间体)建设项目环境影响评价的一般性原则、内容和方法。 本标准适用于我国所有农药新建、改建、扩建项目的环境影响评价;农药类区域规划环境影响评价可参照执行。 本标准首次发布。 农业固体废物污染控制技术导则(HJ 588-2010) 为贯彻《中华人民共和国环境保护法》和《中华人民共和国固体废物污染环境防治法》,防治农业固体废物污染,改善农村环境质量,促进新农村建设,制定本标准。 本标准规定了农业植物性废物、畜禽养殖废物和农用薄膜等三种农业固体废物污染控制的原则、技术措施和管理措施等相关内容。 本标准适用于指导农业种植、畜禽养殖等产生的固体废物污染控制管理,实现农业固体废物资源化、减量化、无害化。 本标准为首次发布。 突发环境事件应急监测技术规范(HJ 589-2010) 为贯彻《中华人民共和国环境保护法》、《中华人民共和国水污染防治法》、《中华人民共和国大气污染防治法》和《中华人民共和国固体废物污染环境防治法》,防止环境污染,改善环境质量,规范突发环境事件应急监测,制定本标准。 本标准规定了突发环境事件应急监测的布点与采样、监测项目与相应的现场监测和实验室监测分析方法、监测数据的处理与上报、监测的质量保证等的技术要求。 本标准适用于因生产、经营、储存、运输、使用和处置危险化学品或危险废物以及意外因素或不可抗拒的自然灾害等原因而引发的突发环境事件的应急监测,包括地表水、地下水、大气和土壤环境等的应急监测。 本标准不适用于核污染事件、海洋污染事件、涉及军事设施污染事件、生物、微生物污染事件等的应急监测。 本标准为首次发布。 环境空气 臭氧的测定 紫外光度法(HJ 590-2010) 为贯彻《中华人民共和国环境保护法》和《中华人民共和国大气污染防治法》,保护环境,保障人体健康,规范环境空气中臭氧的监测方法,制定本标准。 本标准规定了测定环境空气中臭氧的紫外光度法。 本标准适用于环境空气中臭氧的瞬时测定,也适用于环境空气中臭氧的连续自动监测。 本标准是对《环境空气 臭氧的测定 紫外分光光度法》(GB/T 15438-1995)的修订。 自本标准实施之日起,原国家环境保护局1995年3月25日批准、发布的国家环境保护标准《环境空气 臭氧的测定 紫外分光光度法》(GB/T 15438-1995)废止。 水质 五氯酚的测定 气相色谱法(HJ 591-2010) 为贯彻《中华人民共和国环境保护法》和《中华人民共和国水污染防治法》,保护环境,保障人体健康,规范水中五氯酚的测定方法,制定本标准。 本标准规定了水中五氯酚和五氯酚盐的气相色谱测定方法。 本标准适用于地表水、地下水、海水、生活污水和工业废水中五氯酚和五氯酚盐的测定。 本标准是对《水质 五氯酚的测定 气相色谱法》(GB 8972-88)的修订。 自本标准实施之日起,原国家环境保护局1988年3月26日批准、发布的国家环境保护标准《水质 五氯酚的测定 气相色谱法》(GB 8972-88)废止。 水质 硝基苯类化合物的测定 气相色谱法(HJ 592-2010) 为贯彻《中华人民共和国环境保护法》和《中华人民共和国水污染防治法》,保护环境,保障人体健康,规范工业废水和生活污水中硝基苯类化合物的测定方法,制定本标准。 本标准规定了水中硝基苯类化合物的气相色谱法。 本标准适用于工业废水和生活污水中硝基苯类化合物的测定。 本标准是对《工业废水 总硝基化合物的测定 气相色谱法》(GB 4919-85)的修订。 自本标准实施之日起,原国家环境保护局1985年8月1日批准、发布的国家环境保护标准《工业废水 总硝基化合物的测定 气相色谱法》(GB 4919-85)废止。 水质 单质磷的测定 磷钼蓝分光光度法(暂行)(HJ 593-2010) 为了贯彻《中华人民共和国环境保护法》和《中华人民共和国水污染防治法》,保护环境,保障人体健康,规范水中单质磷的测定方法,制定本标准。 本标准规定了测定水中单质磷的磷钼蓝分光光度法。 本标准适用于地表水、地下水、工业废水和生活污水中单质磷的测定。 水质 显影剂及其氧化物总量的测定 碘-淀粉分光光度法(暂行)( HJ 594-2010) 为贯彻《中华人民共和国环境保护法》和《中华人民共和国水污染防治法》,保护环境,保障人体健康,规范废水中显影剂及其氧化物总量的监测方法,制定本标准。 本标准规定了测定废水中显影剂及其氧化物总量的碘-淀粉分光光度法。 本标准适用于彩色和黑白片洗片排放废水中显影剂及其氧化物总量的测定。 水质 彩色显影剂总量的测定 169成色剂分光光度法((暂行)( HJ 595-2010) 为贯彻《中华人民共和国环境保护法》和《中华人民共和国水污染防治法》,保护环境,保障人体健康,规范废水中彩色显影剂总量的监测方法,制定本标准。 本标准规定了测定废水中彩色显影剂总量的169成色剂分光光度法。 本标准适用于洗印废水中彩色显影剂总量的测定。 自以上标准实施之日起,下列标准废止: 工业废水 总硝基化合物的测定 气相色谱法(GB 4919-85) 水质 五氯酚的测定 气相色谱法(GB 8972-88) 环境空气 臭氧的测定 紫外分光光度法 (GB/T 15438-1995)

彩色显影剂相关的仪器

  • 实验型显影机 400-860-5168转5919
    v 全封闭式桌面显影机,主要用于半导体制造中晶片的显影工艺,设备配有一路显影和一路水、一路气吹功能,并且喷嘴位置可程控移动,实现自动显影和清洗作业v 支持wafer尺寸:碎片至200mm(可根据客户需求定制四管路或更大基片)v 单步工艺及多步工艺可选,内置100组可编辑程序v 转速分辨率:±1 RPMv 旋涂速度:20-3000rpm(空载)v 旋涂加速度:10-10,000rpm/sec(空载)工艺时间设定:0-3,000sec/step,时间设置精度: 0.1sec深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供--实验型显影机customized-2,--customized-2为进口实验型显影机。除了有实验型显影机的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多进口及国产实验型显影机,客服电话400-860-5168转5919,售前售后均可联系。
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  • 显影机DEVELOPER 400-860-5168转3827
    显影机DEVELOPER设计用于以下应用:显影、清洁和干燥应用于显影工艺的设备,适用的基板尺寸最大到8英寸的圆片 和最大到6英寸x6英寸的方片。新设计的三片式可拆卸工艺腔体可实现良好的工艺均匀 性和重复性,设备也可用于清洗和旋干工艺。 落地式柜体经专门设计,方便操作和维修。它是一款手动显影机,适用于实验室开展科学研究和技术开发。设备具有多选项(例如可编程流体输送臂)并且可以升级成自动化的系统达到更高的片到片工艺重复性。1. UNIXX D20 高级版(直径200mm)带有可移动飞溅环的独立系统,用于手动装载/卸载单个基材。2.UNIXX D30标准(Ø 300毫米)单机系统为用户提供在科学方面,以及具有高效、安全和清洁系统的研究。
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  • 适用用圆片尺寸: 2”、3”、4”6"、8”;以及5x5,10x10,25x25方片工艺工步:放置圆片(可辅助定中心) 启动 防溅罩到上位 真空吸片 防尘帽闭合 电机启动 吹氮气 低速滴胶 加速、高速匀胶 上刮边 下刮边电机停止 防尘帽开启 防溅帽到下位 去真空、卸片(工艺结束)以上各工步流程为自动执行,其中防尘帽、防溅帽、真空具有手动功能;主轴径向跳动≤0.02mm,轴向窜动≤0.04mm;主轴转速:200~7000转/分,误差±20转/分,连续可调;主轴加速度(空载):0~3×10³ rad/秒² ,连续可调;工艺工步时间:0~999.9秒,设定增量±0.1秒;滴胶量和速度可调 半导体芯片匀胶显影机是一种用于制造半导体器件的设备,主要用于芯片制造过程中的光刻工艺。以下是有关半导体芯片匀胶显影机的简要介绍及其应用:介绍:光刻工艺: 在半导体芯片制造中,光刻是一项关键工艺,用于将图案投影到芯片表面。匀胶显影机在这个过程中发挥重要作用。匀胶过程: 在光刻工艺中,一层光刻胶被涂覆在芯片表面。这个过程中,匀胶显影机负责将光刻胶均匀涂布在整个芯片表面,确保表面平滑,以便接受后续的光刻图案。显影过程: 显影机还负责在光刻胶上暴露出所需的图案。通过显影,光刻胶的特定区域会被去除,形成光刻图案,为后续的刻蚀或沉积步骤做准备。精准性要求: 由于芯片制造对精度的要求极高,匀胶显影机必须能够实现高度的精准性和可重复性,确保芯片上的图案与设计一致。应用:集成电路制造: 半导体芯片匀胶显影机主要应用于集成电路制造过程中,帮助定义电路图案和结构。微电子器件制造: 除了集成电路,匀胶显影机也用于制造各种微电子器件,如传感器、存储器件等。先进技术研究: 随着技术的不断发展,半导体芯片匀胶显影机在先进技术研究领域也发挥着关键作用,支持新型器件的制备。光刻工艺优化: 进行芯片生产时,匀胶显影机的性能和优化对光刻工艺的成功实施至关重要,影响着芯片的性能和质量。总体而言,半导体芯片匀胶显影机在现代半导体制造中扮演着至关重要的角色,是确保芯片制造成功的关键设备之一。
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彩色显影剂相关的耗材

  • 不锈钢显影槽
    不锈钢显影装置,每套有显影槽,定影槽,水洗槽和50片底片夹,有机玻璃显影架,冲洗电镜胶片专用。
  • 显影粉
    显影粉广泛用于电子显微镜实验室底片显影。 也可用于其它类型的科技摄影。对比 度高,操作洁净,快速显影。
  • 冠乾科技 纳米压印胶 正性光刻胶 负性光刻胶 显影液 去胶液
    Negative PhotoresistsPositive PhotoresistsResist RemoversResist DevelopersEdge Bead RemoversPlanarizing, Protective and Adhesive CoatingsSpin-On Glass CoatingsSpin-On Dopants曝光应用特性对生产量的影响i线曝光用粘度增强负胶系列在设计制造中替代基于聚异戊二烯双叠氮(Polyioprene-Bisazide)的负胶。在湿刻和电镀应用时超强的粘附力;很容易用去胶液去除。 单次旋涂厚度范围如下:﹤0.1~200 μm可在i、g以及h-line波长曝光避免了基于有机溶剂的显影和冲洗过优于传统正胶的优势:控制表面形貌的优异线宽 任意甩胶厚度都可得到笔直的侧壁单次旋涂即可获得200 μm胶厚厚胶同样可得到优越的分辨率150 ℃软烘烤的应用可缩短烘烤时间优异的感光度进而增加曝光通量更快的显影,100 μm的光刻胶显影仅需6 ~ 8分钟光刻胶曝光时不会出现气泡可将一种显影液同时应用于负胶和正胶不必使用增粘剂如HMDSg和h线曝光用粘度增强负胶系列

彩色显影剂相关的试剂

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