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请问八甲基环四硅氧烷有相关的法规吗?正常情况下这物质会出现在印染助剂中吗?谢谢!
我用GC-ms, 柱是HP-35MS,打八甲基环四硅氧烷的时候发现,就是在溶剂中也会有很高的响应,不知道是什么原因?我用的溶剂是乙酸乙酯,发现溶剂 M/Z 281有很大的响应,最初怀疑是溶剂有问题,后来用LC的甲醇,发现也有同样的问题,说明不是溶剂的原因,大家有什么好的办解决吗?、
如题,测试六甲基环三硅氧烷(d3)——保留时间为5.06min-6min,八甲基环四硅氧烷(d4)——保留时间为8.38min,十甲基环五硅氧烷(d5)——保留时间为10.58min和十二甲基环六硅氧烷(d6)——保留时间为13.26min时,发现前面两种物质(d3和d4)时,峰很怪异,d3的峰是个土包,d4的峰前面突出一块,而d5和d6的峰非常好!我改变了进样口温度,离子源温度,初温等,均未改善!我使用的GC/MS条件如下:进样口温度140℃,离子源和传输线温度为160℃,升温程序:40℃(保持3分钟),以10℃/min升至150℃,再以30℃/min升至300℃(保持4分钟)。我降低进样口温度至120℃时情况改善一点,但是d5和d6没法汽化了,昨天还截了柱头,换了衬管、隔垫均无济于事!请各位大虾帮忙解决,谢谢!附件为scan扫描的谱图。