二氧化镁

产品名称：氧化镁(MgO)晶体基片产品简介：氧化镁（MgO）是极好的单晶基片而广泛应用于制作铁电薄膜、磁学薄膜、光电薄膜和高温超导薄膜等，由于它在微波波段的介电常数和损耗都很小，且能得到大面积的基片（直径2英吋及更大），所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。 可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件。科晶公司用一种特殊的电弧法生长出高纯度的尺寸约2”x2”x 1”的低成本的MgO单晶，采用化学机械抛光制备出高质量原子级表面的基片。技术参数：晶体结构立方晶格常数a=4.216?生长方法电弧法熔点2850℃密度3.58g/cm3莫氏硬度5.5 Mohs热膨胀系数12.8×10-6/℃介电常数9.8光学透过 90% @ 200 ~ 400 nm 98 % 500 ~ 1000 nm晶体解理面100 产品规格：常规尺寸：10 x 10 x 0.5 mm、5x5x0.5mm、dia 1″x0.5mm、dia 2″x0.5mm；常规晶向： 100 、110、111、晶向公差：+/-0.5度抛光情况：单抛或双抛 （111 Ra15A，100和110 Ra5A）注：可按照客户要求加工尺寸及方向。 标准包装：1000级超净室100级超净袋或单片盒装 相关产品： LSAT LaAlO3MgO NdCaAlO4 NdGaO3SrTiO3SrLaAlO4SrLaGaO4 YSZ

产品名称：氧化镁(MgO)晶体基片产品简介：氧化镁（MgO）是极好的单晶基片而广泛应用于制作铁电薄膜、磁学薄膜、光电薄膜和高温超导薄膜等，由于它在微波波段的介电常数和损耗都很小，且能得到大面积的基片（直径2英吋及更大），所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。 可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件。科晶公司用一种特殊的电弧法生长出高纯度的尺寸约2”x2”x 1”的低成本的MgO单晶，采用化学机械抛光制备出高质量原子级表面的基片。技术参数：晶体结构立方晶格常数a=4.216?生长方法电弧法熔点2850℃密度3.58g/cm3莫氏硬度5.5 Mohs热膨胀系数12.8×10-6/℃介电常数9.8光学透过 90% @ 200 ~ 400 nm 98 % 500 ~ 1000 nm晶体解理面100产品规格：100, 110, 111公差：+/-0.5度dia2"x0.5mm, 10x10x0.5mm, 10x5x0.5mm单抛或双抛，（111 Ra15A，100和110 Ra5A）注：可按客户需求定制相应的方向和尺寸。标准包装：1000级超净室，100级超净袋或单片盒封装 相关产品： LSAT LaAlO3MgO NdCaAlO4 NdGaO3SrTiO3SrLaAlO4SrLaGaO4 YSZ

纳米二氧化硅高速研磨分散机，循环型纳米粉体高速分散机，中剪切高速粉体高速分散混合机，纳米SiO2立式研磨高速分散机，中试小试纳米材料高速分散机，纳米粉体改性高速分散混合机 纳米二氧化硅是及其重要的高科技超微细无机新材料之一,由于其粒径很小，因此比表面积大，表面吸附力强，表面能大，化学纯度高、分散性能好、热阻、电阻等方面具有特异的性能，以其优越的稳定性、补强性、增稠性和触变性，在众多学科及域内独具特性，有着不可取代的作用。纳米二氧化硅俗称“超微细白炭黑”，广泛用于各行业作为添加剂、催化剂载体，石油化工，脱色剂，消光剂，橡胶补强剂，塑料充填剂，油墨增稠剂，金属软性磨光剂，绝缘绝热填充剂，日用化妆品填料及喷涂材料、医药、环保等各种域。并为相关工业域的发展提供了新材料基础和技术保证。由于它在磁性、催化性、光吸收、热阻和熔点等方面与常规材料相比显示出特异功能，因而得到人们的大重视。　　使用纳米SiO2的关键是确保其在不饱和聚酯树脂中达到良好的分散，分散越好，则触变指数越大，力学强度越高。【纳米粉体分散的常用设备】　　1、超声分散机，超声方式分散，对于小批量的物料还行，但无法放大生产。　　2、机械搅拌分散机，这种在工业化分散中比较常见，但是由于自身的结构，转速低，分散有死角，导致终分散效果差，并且分散的效率很低。　　3、混合分散机，这种分散机适合高粘度的物料的分散，电机功率大，但是也存在和机械搅拌分散机一样的问题，分散效率低，效果差。　　现在市面上纳米SiO2基本都是用化学法和物理法，化学法是将有机硅化合物，氢气与氢气或者空气混合燃烧，有机硅化合物在高温燃烧后，在反应生成的水中进行高位水解，从而制得纳米二氧化硅。 物料法主要是机械粉碎，通过超细粉碎产生的冲击，剪切，摩擦等力的综合作用，对大颗粒二氧化硅进行超细粉碎。然后利用高效分组装置分离不同的粒径的颗粒，从而实现纳米二氧化硅末粒度分布的均匀的与特定化。纳米二氧化硅高速研磨分散机，循环型纳米粉体高速分散机，中剪切高速粉体高速分散混合机，纳米SiO2立式研磨高速分散机，中试小试纳米材料高速分散机，纳米粉体改性高速分散混合机从设备角度分析，影响分散结果的因素有以下几点：1 分散头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次好）2 分散头的剪切速率 （越大，效果越好）3 分散头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，超细齿，约细齿效果越好）4 物料在分散腔体的停留时间，分散时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）5 循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不能再好）【IKN分散机在纳米粉体分散中优势】　　1、随着纳米粉体分散的进一步发展，上海IKN研发出的分散设备-研磨分散机。结构为胶体磨头+分散头定转子，先研磨打开团聚体，在瞬时通过分散工作组进行分散，分散效率快，分散效果好。　　2、IKN研磨分散机在纳米粉体的分散中有着突出的应用和优势，如纳米氢氧化镁、纳米氢氧化铝、石墨烯、碳纳米管、二氧化硅、纳米树脂、纳米涂料、医药纳米混悬液等都有着成功的经验和案例。　　3、IKN研磨分散机的研发初衷就是为了解决纳米物料分散，解决粉体分散到液体中，二次团聚的问题。IKN研磨分散设备该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三高剪切均质乳化机进行改装，我们将三变更为一，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。IKN研磨分散机由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的高速旋转，同时，可将电机能量更有效地转化为尺寸减小力，从而在粉末研磨和精细化学粉碎方面先于其他同行业设备。被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，透过胶体磨定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。纳米二氧化硅研磨分散机设备结构： 第yi由具有精细度递升的三层锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。第二由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以的经验选取工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。纳米二氧化硅高速研磨分散机，循环型纳米粉体高速分散机，中剪切高速粉体高速分散混合机，纳米SiO2立式研磨高速分散机，中试小试纳米材料高速分散机，纳米粉体改性高速分散混合机