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在Si基底上预溅了一层W,然后在W层上面沉积了一层碳纳米管薄膜,经700~900度,1~2h真空退火后,仍然没有检出有碳化物(WC、W2C)形成。请问退火温度和时间应该在多少才能让碳纳米管中的C和底下的W层形成碳化钨呢?有这方面的专家吗
http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2014/09/201409102233_513418_2246225_3.jpg在百度里搜索:碳化钨磨盒,碳化钨料钵。就可以找到卖的厂家
如果调质钢中存在较大的碳化物,怎么判断是加热时未溶的还是回火后析出长大的呢?