超精细镀膜仪

Q150V Plus系列镀膜仪适用于高真空应用中的超精细导电镀膜 Q150V Plus针对高真空应用进行了进一步优化，最终真空度优于1×10-6mbar，同时配置全量程规，能够溅射具有晶粒尺寸更细的金属膜，适用于超高分辨率成像。得益于更低的背景真空，能够有效的从腔室中去除氧气、氮气和水蒸气避免了溅射过程中的化学反应，有效的消除镀层中的杂质或缺陷。能够实现制备低散射高纯度金属膜以及高密度的非晶碳膜等。Q150V Plus提供了Q150T Plus的所有功能，同时具有更精细的晶粒尺寸和更薄的镀层，适用于超高分辨率成像应用。

广州竞赢离子溅射仪全国诚招代理广州竞赢成立于2007一直以来专业从事代理和销售国内外品牌的各类电镜耗材及电镜附属设备，客户涉及高校、科研院所、企业、政府部门等多个领域。凭借着优异的产品和服务为广州市公安局、广东医附院、复旦大学、华南理工大学、中山大学、电子五所、哈尔滨工业大学、贵州大学等等国内各地域客户建立起良好的供销关系。JY-S100磁控离子溅射仪是一款结构紧凑的桌面小型镀膜系统，特别适用于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜。在扫描电子显微镜（SEM）样品制备中，JY-S100磁控离子溅射仪在不同类型的样品，如生物标本和材料样品制备中发挥着至关重要的作用。对于生物标本，JY-S100磁控离子溅射仪有助于在样品表面形成一层导电层，防止荷电效应并减少电子束对样品表面的损伤。这种导电层使得在不影响其完整性的情况下更好地成像细胞、组织和纤维等微妙的生物结构。高质量的镀膜还能增强二次电子信号，从而提高图像分辨率和对比度。对于材料样品，JY-S100磁控离子溅射仪在给样品镀上均匀且薄的导电层方面至关重要，使得样品的表面形貌和成分能够进行高分辨率成像。这对于非导电材料（如陶瓷、聚合物和复合材料）尤为重要，因为荷电效应可能导致成像伪像和失真。JY-S100提供的精确且一致的镀膜确保了SEM图像准确地反映了样品的表面特征，使研究人员能够深入了解材料的性能和性能。主要特性通过高效低压直流磁控头进行冷态精细的喷镀过程，避免样品表面受损。操作容易快捷，控制的参数包括放气以及氩气换气控制。数字化的喷镀电流控制不受样品室内气压影响，可得到一致的镀膜速率和高质量的镀膜效果。可使用多种金属靶材：Au， Au/Pd,，Pt,，Pt/Pd（Au靶为标配），靶材更换快速方便。技术参数溅射系统靶材Au 靶为标配，可选 Pt，直径 57mm x 0.1mm 厚标准样品台可以装载 12 个 SEM 样品座，高度可调范围为 60mm※旋转倾斜样品台（选配）旋转速度：0~60rpm 连续可调，倾斜角度：-90°~ 90°连续可调；不锈钢腔体：直径 120mm X 高 75mm；观察窗：直径 120mm X 高 45mm；标配旋转台直径 40mm，可放 4 个标准样品台，其它规格可订做；具有双重锁紧装置，可确保样品在旋转倾斜时不会松动脱落。溅射电流微处理器控制，安全互锁，可调，电流 5~30mA，程序化数字控制计量表真空： Atm - 1*10-3mbar，电流：0~99mA控制方法带有“开始”“暂停”按钮的微处理控制器（1－999s），自动抽气、溅射、关机后自动放气。真空系统抽气速率133L/MIN极限真空10-4 mbar 级噪音56dB

仪器简介： 英国Q150GB涡轮泵高真空、模块化镀膜系统，自动程序控制，傻瓜相机式的简单操作。其镀膜单元可置于各种手套箱内，外置触摸屏用户界面、电源单元和前级机械泵。可监测手套箱压力。该系统不同的配置可以实现离子溅射镀膜、碳蒸发/金属蒸发镀膜或溅射蒸发二者兼有之功能，可用于SEM、TEM及薄膜样品镀膜，也常用于锂电池科研等需要在手套箱内镀膜的样品。 技术参数： 技术规格 仪器尺寸:267mm W x 490mm D x 494mm H 总重量:40公斤 工作腔室:硼硅酸盐玻璃152mmDia (内部) x 214mm H 安全钟罩:整体PET 样品台：直径为50mm的旋转样品台。转速8-20 rpm 真空范围: 10-5 mbar量级 溅射可选靶材：Au金、Au/Pd金钯合金、Pt铂、Pt/Pd铂钯合金、Ag银、Al铝、C碳、Cr铬等 蒸发源：可选用碳棒进行热蒸发镀碳，也可使用钨丝篮或钨舟/钼舟进行热蒸发镀各种金属膜。 主要特点： &bull 可安装在手套箱内的模块化系统 &bull 整体手套箱压力监测 &bull 金属溅射、碳蒸发 – 或二者兼有 &bull 触摸屏控制模块置于手套箱外部操作 &bull 镀膜颗粒精细 &bull 高真空涡轮分子泵抽真空 &bull 可选通过膜厚监控仪实现厚度控制

徕卡高真空镀膜仪在电子显微镜领域，往往需要对样品进行表面镀膜从而使样品表面成像或图像质量得到改善。在样品表面覆盖一层导电的金属薄膜可以消除荷电效应，降低电子束对样品的热损伤，并可以提高SEM对样品进行形貌观察时所需的二次电子信号量。精细的碳膜具有电子束透明且导电的特性，因而常应用于X射线微区元素分析，制备网格支持膜，以及制备适宜于TEM观查的复型。需要怎样的镀膜技术取决于分辨率和应用需求。Leica EM ACE镀膜仪家族提供在各应用领域所需的键膜解决方案。Leica EM ACE600 是一款多功能型高真空镀膜系统，用于制备超薄，细颗粒的导电金属膜和碳膜，以适用于FE-SEM和TEM超高分辨率分析所需的镀膜要求。这一款全自动台式镀膜仪，包含内置式无油真空系统、石英膜厚监控系统和马达驱动样品台（旋转为标配，倾斜和高度马达驱动为选配）。徕卡高真空镀膜仪可以配置如下镀膜方式:★★★ 金属溅射镀膜★★★ 碳丝蒸发镀膜★★★ 碳棒蒸发镀膜（带有热阻蒸发镀膜选配件）★★★ 电子束蒸发镀膜★★★ 辉光放电★★★ 连接VCT样品交换仓： 与徕卡EM VCT配套实现冷冻镀膜，冷冻断裂，双复型，冷冻干燥和真空冷冻传输

徕卡真空镀膜仪在电子显微镜领域，往往需要对样品进行表面镀膜从而使样品表面成像或图像质量得到改善。在样品表面覆盖一层导电的金属薄膜可以消除荷电效应，降低电子束对样品的热损伤，并可以提高SEM对样品进行形貌观察时所需的二次电子信号量。精细的碳膜具有电子束透明且导电的特性，因而常应用于X射线微区元素分析，制备网格支持膜，以及制备适宜于TEM观查的复型。需要怎样的镀膜技术取决于分辨率和应用需求。Leica EM ACE镀膜仪家族提供在各应用领域所需的键膜解决方案。Leica EM ACE200 是一款高品质台式镀膜仪，用来制备电子显微镜所需的均匀的金属导电膜或碳膜。 这款自动化设备既可以配置成溅射镀膜仪又可以配置成碳丝蒸发镀膜仪。或者，根据需要，Leica EM ACE200 可以在一台设备上装配可调换镀膜源，实现两种镀膜方式。另外可选配功能有：★★★ 石英片膜厚监控--用于制备可重复性镀膜★★★ 行星旋转样品台--用于对裂纹型样品喷镀均匀镀膜★★★ 辉光放电功能--使TEM网格亲水化

瑞士Safematic CCU-010 HV高真空镀膜仪(电镜附件及外设)(喷金喷碳一体机)紧凑型、模块化和智能化CCU-010 HV为一款结构紧凑、全自动型的高真空离子溅射和蒸发镀碳一体化镀膜仪，使用非常简便。采用独特的插入式设计，通过简单地变换镀膜头就可轻松配置为溅射或蒸镀设备。在镀膜之前和/或之后，可以进行等离子处理。模块化设计可轻松避免金属和碳沉积之间的交叉污染。CCU-010标配膜厚监测装置。特点和优点✬ 高性能离子溅射、蒸发镀碳和可选的等离子处理✬ 专有的自动碳源卷送设计–多达数十次碳镀膜，无需用户干预✬ 独特的即插即用溅射和蒸碳镀膜模块✬ 一流的真空性能和快速抽真空✬ 结构紧凑、可靠且易于维修✬ 双位置膜厚监控装置，可兼容不同尺寸的样品✬ 主动冷却的溅射头可确保镀膜质量并延长连续运行时间巧妙的真空设计CCU-010 HV系列高真空镀膜仪涵盖了最高级的SEM、TEM和薄膜应用。特别选择和设计的材料、表面和形状可大大缩短抽真空时间。两个附加的标准真空法兰允许连接第三方设备。LC-006金属大腔室可选的LC-006是当前玻璃腔室的扩大版，为铝制结构。这个金属腔室可容纳6"晶圆样品或其它大尺寸样品，而且消除了对内爆防护的需求。在CCU-010 HV上选配LC-006, 无需任何修改就可实现更大样品和晶圆的镀膜。SP-010 & SP-011溅射模块两种溅射模块一旦插入CCU-010 HV镀膜主体单元，均可立即使用。SP-010和SP-011溅射模块具有有效的主动冷却功能，连续喷涂时间长，非常适合需要较厚膜的应用。 可选多种溅射靶材，适合SEM、FIB和各种薄膜应用。SP-010溅射装置的磁控组件旨在优化靶材使用。这使其成为电子显微镜中精细颗粒贵金属镀膜的理想工具，也适合于极细颗粒尺寸镀膜。SP-011溅射装置的磁控组件用于大功率溅射和宽范围材料的镀膜。对那些比常规EM应用要求镀膜速率更高、膜层要求更厚的薄膜应用时，推荐使用该溅射头。SP-011溅射头与CCU-010 HV高真空镀膜仪(电镜附件及外设)之主体单元相结合，可满足诸如DLC，ITO或铁磁溅射材料镀膜等具有挑战性的应用。（二选一作为标配）CT-010碳蒸发模块紧凑的插入式碳蒸发模块为镀碳树立了新标杆。将该头插入CCU-010 HV高真空镀膜仪(电镜附件及外设)之主体单元后，即可立即使用，适合SEM、TEM和任何需要高质量碳膜应用的场合。CT-010使用欧洲专有的、独特且技术领先的碳绳供给系统，可以进行多达数十次涂层的镀膜，而无需更换碳源。除了易于使用外，该系统还允许在一个镀膜循环内可控地沉积几乎任何厚度的碳膜。易于选择的镀膜模式可保障镀膜安全，从对温度敏感的样品进行温和的蒸镀薄膜到在FIB应用中厚膜层的高功率闪蒸镀碳。整合脉冲蒸发、自动启动挡板后除气及膜厚监控的智能电源控制提供了精确的膜层厚度，并可避免火花引起的表面不均匀。GD-010辉光放电模块可选的GD-010辉光放电系统可快速安装，通过空气、氩气或其它专用气体进行表面处理，例如，使碳膜亲水。本机可按顺序进行碳镀膜和辉光放电处理，无需“破”真空或更换处理头，极大地简化了操作过程。本单元安装到CT-010，与所有样品台兼容。HS-010真空储存箱可选的HS-010真空储存箱可在真空条件下存放备用镀膜头、备用行星台或旋转台、所有溅射靶材和碳附件，使它们处于清洁状态。通过集成的真空管路与镀膜主体单元连接，利用CCU-010抽真空系统对储物箱抽真空。可选地，用户也可用外接真空泵替代。舒适的手动锁定装置和放气阀允许对储物箱进行独立的抽真空和放气控制。额外的标准真空腔室可有效地避免蒸碳和溅射金属之间的交叉污染。ET-010等离子刻蚀单元在对样品进行镀膜之前或镀膜之后，可选该单元对样品进行等离子刻蚀处理。使用该附件，可以选择氩气、其它蚀刻气体或大气作为处理气体。这样可以在镀膜前清洁样品，增加薄膜的附着力。也可在样品镀碳后进行等离子处理，从而对碳膜表面进行改性。Coating-LAB软件使用可选的基于PC的Coating-LAB软件，可查看包括图表信息在内的处理数据。数据包括压力、电流、电压、镀膜速率和膜厚，镀膜速率为实时曲线。便捷的软件升级和参数设置让此智能工具更为完美。RC-010手套箱应用的远程控制软件（可选）◎基于window的远程控制软件◎创建和调用配方◎实时图表，包含导出功能（Excel、png等）◎自动连接到设备可选多种样品台CCU-010提供了一个直径80mm的样品台，该样品台插入到高度可调且可倾斜的样品台支架上。可选其它专用的旋转样品台、行星台、载玻片样品台等。CCU-010 HV系列高真空镀膜仪及其版本CCU-010 HV 系列高真空镀膜系统专为满足电镜样品制备领域及材料科学薄膜应用的最高要求而设计。CCU-010 HV 高真空溅射和镀碳仪采用优质组件和智能设计，可在超高分辨率应用中提供出色的结果。该设备是全自动抽真空和全自动操作，采用TFT 触摸屏操控，配方可编程，保证结果可重复。CCU-010 HV 标配抽真空系统完全无油，含高性能涡轮泵和前级隔膜泵，均位于内部，外部没有笨重的旋转泵和真空管路。这是一款尺寸合理的桌上型高真空镀膜仪。使用无油抽真空系统可将镀层中的污染或缺陷降至最低。关闭时，该设备可以保持在真空下，这有效地保护了系统免受灰尘和湿气的影响，并为高质量的镀层创造了快速抽真空和有利的真空条件。CCU-010 HV系列高真空镀膜仪版本：CCU-010 HV高真空磁控离子溅射镀膜仪；CCU-010 HV高真空热蒸发镀碳仪；CCU-010 HV高真空溅射喷碳镀膜仪(高真空喷金喷碳一体机)；CCU-010 HV高真空手套箱专用镀膜仪。CCU-010 HV 系列高真空镀膜仪的主要亮点在于实现了两大技术性突破：一是独家采用自动碳纤维供给系统，在不破真空更换碳源的情况下可进行数十次的镀碳运行，比市场上常见的单次、双次或四次碳纤维镀膜方式节省大量的人工操作，既适用于大多数常规镀碳应用，也适用于超薄或超厚碳膜以及温度敏感样品的应用。二是将“镀膜前对样品表面进行等离子清洁（增加附着力）+镀膜+镀膜后对膜层表面进行改性（比如：亲水化）或刻蚀”全流程集于同一台仪器同一次真空下完成，大大提高了镀膜质量，拓宽了应用范围。另外，瑞士制造，是“精密”和“高品质”的代名词；瑞士原厂货源，覃思本地服务，客户买得放心、用得省心！

高光谱成像技术常见的有光栅分光、声光可调滤波分光、棱镜分光、芯片镀膜等。莱森光学iSpecHyper-Mini研发了一种新型的马赛克镀膜快照式高光谱成像技术，该技术可以通过在探测器的像元上镀上不同波段滤波膜实现高光谱成像。iSpecHyper-Mini快照式画幅成像高光谱相机是一种采用芯片镀膜的分光方式、无需分光光谱仪模块即可根据应用实现9/25个波段、每秒90个数据立方体的光谱成像以快速实时获取高光谱原始数据和影像信息的高光谱成像相机。同时，iSpecHyper-Mini马赛克镀膜式成像高光谱相机采用多光谱滤波阵列(MSFA)覆盖的单个成像传感器，一次曝光即可捕获多个波段的光谱图像。产品主要优点为集成化程度高、轻量化、可靠性高、成像速度快、低功耗。iSpecHyper-Mini快照式成像高光谱相机的产品广泛应用于工业分选（果蔬分选、塑料分选、烟丝分选、垃圾分选等）、生态环保（河湖水质参数监测等）、精准农业（作物长势监测、作物病害监测评估等）、精准林草（林木长势监测、林木病虫害监测、林木分类等）、生物医学（药品监测、舌苔检测、皮肤检测等）、刑侦物检（指纹识别、字迹篡改修复、真伪钞检测等）等领域。技术原理像元级（马赛克）多通道滤光片具有多个光谱通道单元，通道数远多于RGB滤光片，承载着更多的光谱信息；每个光谱通道与传感器像元一一对应，极大简化光谱相机分光结构，具备高速获取多光谱图像或视频数据的能力，即可实现小型化、轻量化又可实现快照式成像。马赛克镀膜式高光谱成像原理主要技术指标型号iSpecHyper-Mini光谱范围420-570nm/559-740nm/620-800nm/700-920nm(其它波段支持定制)成像方式马赛克镀膜（画幅快照式）光谱分辨率（FWHM）9nm成像镜头16mm/25mm/35mm光谱通道数9/16/25等可选曝光时间28 us-1 s探测器类型CMOS 全局快门像元分辨率2048*2048探测器像元尺寸5.5*5.5μm数据获取形式连拍/单拍帧频90 fps(8 bit),45 fps(10 bit)功率能耗1.5W数据接口USB 3.0工作温度0℃ ~ 50℃（推荐25℃）尺寸/重量49x43x75mm/150giSpecHyper-Mini马赛克镀膜式成像高光谱相机尺寸三视图（单位：mm）应用案例&bull 监测农作物的长势，如农作物的氮含量、叶绿素、生物量等，也可用于监测农作物的病害及土壤肥力情况，从而为农业精细化管理作技术支撑。&bull 采集不同树种的叶片，通过光谱分析法和纹理分析法，对其高光谱影像数据进行分析，可区分不同树种的叶片和叶片的农学指标分布情况，为航拍区分不同树种作理论依据。 松材线虫病变色松树监测接种链格孢油菜叶的高光谱成像图与光谱曲线&bull 果蔬品质监测可对果蔬的质量进行评估并及时清除低品质的果蔬。果蔬的品质包括水分、糖分、维生素等物质的含量，品质缺陷包括果蔬采摘、运输过程造成的擦伤，害虫咬伤，冷藏过程造成的冻伤等。不同浓度梯度的叶菜样品的农药荧光光谱曲线 无残留和不同种类农药残留菠菜叶片表面光谱曲线&bull 实时检测水质参数指标，如总磷、总氮、叶绿素a、悬浮物、PH值、化学需氧量、氨氮、溶解氧等10余种水质指标。水环境监测水质指标&bull 应用于烧伤皮肤检测，通过成像图分析不同位置的皮肤烧伤程度，能够有效地辅助医生判断患者病症。皮肤烧伤程度检测&bull 适用于烟草行业的烟丝种类、杂质判别。可用于烟丝生化成分的检测，通过分析高光谱图像中的光谱信息判别烟丝的种类、识别烟丝中的杂质等。检测烟丝生化成分、烟丝种类判别、杂质识别等&bull 将iSpecHyper-Mini系列光谱成像系统搭载于配备有光源的暗箱系统，可用于不同工业塑料种类的分选，如PE、PP、PS、PC、PA、PU、PET、PVC、POM和ABS等用于工业塑料分选

瑞士Safematic电镜制样设备CCU-010 HV_SP-010高真空离子溅射镀膜仪紧凑型、模块化和智能化CCU-010 HV_SP-010高真空离子溅射镀膜仪为一款结构紧凑、全自动型的离子溅射仪，使用非常简便。采用独特的插入式设计，变换镀膜头非常简单。在镀膜之前和/或之后，可以进行等离子处理。模块化设计可轻松避免交叉污染。标配FTM膜厚监测装置。特点和优点✬ 高性能离子溅射仪，可选等离子处理附件✬ 独特的即插即用溅射模块✬ 一流的真空性能和快速抽真空✬ 标配隔膜泵和涡轮泵；全量程真空测量（皮拉尼，冷阴极真空计）✬ 结构紧凑、可靠且易于维修✬ 双位置膜厚监控装置，可兼容不同尺寸的样品✬ 主动冷却的溅射头可确保镀膜质量并延长连续运行时间巧妙的真空设计CCU-010 HV系列高真空镀膜系统，除了用于SEM和EDX的常规高质量溅射镀膜之外，还涵盖了最高级的SEM，TEM和薄膜应用。特别选择和设计的材料、表面和形状可大大缩短抽真空时间。两个附加的标准真空法兰允许连接第三方设备。LC-006金属大腔室LC-006是当前玻璃腔室的扩大版，为铝制结构。这个可选的金属腔室可容纳6"晶圆或其它大尺寸样品，而且消除了对内爆防护的需求。在CCU-010上选配LC-006, 无需任何修改就可实现更大样品和晶圆的镀膜。SP-010 & SP-011溅射模块 两种溅射模块一旦插入CCU-010 LV和CCU-010 HV镀膜主体单元，即可使用。SP-010和SP-011溅射模块具有有效的主动冷却功能，连续喷涂时间长，非常适合需要较厚膜的应用。 可选多种溅射靶材，适合SEM、FIB和各种薄膜应用。SP-010溅射装置的磁控组件旨在优化靶材使用。这使其成为电子显微镜中精细颗粒贵金属镀膜的理想工具。对于极细颗粒尺寸镀膜，推荐使用涡轮泵抽真空的CCU-010 HV系列镀膜仪。SP-011溅射装置的磁控组件用于大功率溅射和宽范围材料的镀膜。对那些比常规EM应用要求镀膜速率更高、膜层要求更厚的薄膜应用时，推荐使用该溅射头。SP-011与CCU-010 HV相结合，可满足诸如DLC，ITO或铁磁溅射材料镀膜等具有挑战性的应用。ET-010等离子刻蚀单元 在对样品进行镀膜之前或镀膜之后，可以对样品进行等离子刻蚀处理。选用该附件，可以选择氩气、其它蚀刻气体或大气作为处理气体。这样可以在镀膜前清洁样品，增加薄膜的附着力；也可在样品镀膜后进行等离子处理，从而对膜层表面进行改性。RC-010手套箱应用的远程控制软件◎基于window的远程控制软件◎创建和调用配方◎实时图表，包含导出功能（Excel、png等）◎自动连接到设备可选多种样品台CCU-010提供一个直径不小于60mm的样品台，该样品台插入到高度可调且可倾斜的样品台支架上。可选其它专用的旋转样品台、行星台、载玻片样品台等。CCU-010 HV系列高真空镀膜仪及其版本CCU-010 HV系列高真空镀膜系统专为满足电镜样品制备领域及材料科学薄膜应用的最高要求而设计。CCU-010 HV 高真空溅射和镀碳仪采用优质组件和智能设计，可在超高分辨率应用中提供出色的结果。该设备是全自动抽真空和全自动操作，所有CCU-010 HV系列高真空版本的镀膜仪，均采用TFT 触摸屏，配方可编程，保证结果可重复。CCU-010 HV 标配抽真空系统完全无油，含高性能涡轮泵和前级隔膜泵，均位于内部，外部没有笨重的旋转泵和真空管路。这是一款尺寸合理的桌上型高真空镀膜仪。使用无油抽真空系统可将镀层中的污染或缺陷降至最低。关闭时，该设备可以保持在真空下，这有效地保护了系统免受灰尘和湿气的影响，并为高质量的镀层创造了快速抽真空和有利的真空条件。CCU-010 HV系列高真空镀膜仪版本有：CCU-010 HV高真空磁控离子溅射镀膜仪；CCU-010 HV高真空热蒸发镀碳仪；CCU-010 HV高真空离子溅射和镀碳一体化镀膜仪；CCU-010 HV高真空手套箱专用镀膜仪。CCU-010 HV系列高真空镀膜的主要亮点在于实现了两大技术性突破：一是独家采用自动碳纤维供给系统，在不破真空更换碳源的情况下可进行数十次的镀碳运行，比市场上常见的单次、双次或四次碳纤维镀膜方式节省大量的人工操作，既适用于大多数常规镀碳应用，也适用于超薄或超厚碳膜以及温度敏感样品的应用。二是将“镀膜前对样品表面进行等离子清洁（增加附着力）+镀膜+镀膜后对膜层表面进行改性（比如：亲水化）或刻蚀”全流程集于同一台仪器同一次真空下完成，大大提高了镀膜质量，拓宽了应用范围。另外，瑞士制造，是“精密”和“高品质”的代名词；瑞士原厂货源，覃思本地服务，客户买得放心、用得省心！

电镜制样设备CCU-010 LV_SP离子溅射镀膜仪紧凑型、模块化和智能化CCU-010为一款结构紧凑、全自动型的离子溅射和/或蒸发镀碳设备，使用非常简便。采用独特的插入式设计，通过简单地变换镀膜头就可轻松配置为溅射或蒸镀设备。在镀膜之前和/或之后，可以进行等离子处理。模块化设计可轻松避免金属和碳沉积之间的交叉污染。CCU-010标配膜厚监测装置。 特点和优点 ✬ 高性能离子溅射✬ 独特的即插即用溅射模块✬ 一流的真空性能和快速抽真空✬ 结构紧凑、可靠且易于维修✬ 双位置膜厚监控装置，可兼容不同尺寸的样品✬ 主动冷却的溅射头可确保镀膜质量并延长连续运行时间巧妙的真空设计CCU-010 LV精细真空镀膜系统专为SEM和EDX的常规高质量溅射镀膜和镀碳而设计，CCU-010 LV_SP-010为磁控离子溅射镀膜仪。模块化的设计可将低真空单元很轻松地升级为高真空单元。特别选择和设计的材料、表面和形状可大大缩短抽真空时间。两个附加的标准真空法兰允许连接第三方设备。溅射模块 SP-010 & SP-011两种溅射模块一旦插入CCU-010 LV镀膜主体单元，即可使用。SP-010和SP-011溅射模块具有有效的主动冷却功能，连续喷涂时间长-非常适合需要较厚膜的应用；可选多种溅射靶材。SP-010溅射装置的磁控组件旨在优化靶材使用。这使其成为电子显微镜中精细颗粒贵金属镀膜的理想工具。对于极细颗粒尺寸镀膜，推荐使用涡轮泵抽真空的CCU-010 HV镀膜主体单元。SP-011溅射装置的磁控组件用于大功率溅射和宽范围材料的镀膜。对那些比常规EM应用要求镀膜速率更高、膜层要求更厚的薄膜应用时，推荐使用该溅射头。等离子刻蚀单元 ET-010在对样品进行镀膜之前或镀膜之后，可以对样品进行等离子刻蚀处理。使用该附件，可以选择氩气、其它蚀刻气体或大气作为处理气体。这样可以在镀膜前清洁样品，增加薄膜的附着力。也可在样品镀膜后进行等离子刻蚀处理，从而对膜层表面进行改性。RC-010手套箱应用的远程控制软件◎基于window的远程控制软件◎创建和调用配方◎实时图表，包含导出功能（Excel、png等）◎自动连接到设备可选多种样品台CCU-010提供一个直径不小于60mm的样品台，该样品台插入到高度可调且可倾斜的样品台支架上。可选其它专用的旋转样品台、行星台、载玻片样品台等。CCU-010 LV系列镀膜仪版本除了电镜制样设备CCU-010 LV_SP离子溅射镀膜仪之外，还可以选择：CCU-010 LV热蒸发镀碳仪；CCU-010 LV离子溅射和镀碳一体化镀膜仪；CCU-010 LV手套箱专用镀膜仪。所有CCU-010 LV版本均采用TFT 触摸屏操控，配方可编程，保证结果可重复；具有断电时系统自动排气功能，防止系统被前级泵油污染。

ARC-LITE样品制备镀膜机ARC-lite样品制备镀膜机是一种快速的, 在常温状态下对各种封装形式器件和WAFER的样品，进行COATING的设备.　　设备主要特点:1. ARC-lite样品镀膜在常温下进行。 2. ARC-lite可以适用于ASAP-1选择区域精细研磨和ULTRAPOL ADVANCE抛磨后等镀膜,以便使样品在显微镜或其他观察时更为清晰 。3. 快速方便-只用45秒。4. 样片效果比不做镀膜可提高60%。5. 各种形式/尺寸封装和WAFER样品都可适用。6. 价格实惠,小巧方便。7. 可用于emission microscopy, Laser, FIB, voltage, thermal, FMI, probing, and most other backside techniques.

产品介绍：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品特点：1、机外壳采用不锈钢SUS304材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用材料制造，无发尘材料，适用100级光刻间净化环境。产品参数：型号HMDS-20HMDS-90HMDS-210容积20L90L210L电源电压AC220V±10%/50Hz±2%AC380V±10%/50Hz±2%输入功率1500W3000W4000W控温范围室温+10℃-250℃温度分辨率0.1℃温度波动度±0.5℃达到真空度133Pa工作室尺寸（mm）300*300*275450*450*450560*640*600外形尺寸（mm）465*465*725850*700*1400720*820*1050载物托架1块2快3块时间单位分钟选配件真空泵：德国品牌，莱宝“DC”双极系列旋片式油泵，真空高，噪音低，运行稳定。连接管：不锈钢波纹管，完全密封将真空泵与烘箱连接。HMDS预处理的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。真空镀膜机的原理：HMDS预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。真空镀膜机的一般工作流程：先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真空度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，再次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放等：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

瑞士Safematic CCU-010 LV离子溅射和镀碳一体化镀膜仪紧凑型、模块化和智能化CCU-010为一款结构紧凑、全自动型的离子溅射和/或蒸发镀碳设备，使用非常简便。采用独特的插入式设计，通过简单地变换镀膜头就可轻松配置为溅射或蒸镀设备。在镀膜之前和/或之后，可以进行等离子处理。模块化设计可轻松避免金属和碳沉积之间的交叉污染。CCU-010标配膜厚监测装置。特点和优点✬ 高性能离子溅射、蒸发镀碳和等离子处理✬ 专有的自动碳源卷送设计–多达数十次碳镀膜，无需用户干预✬ 独特的即插即用溅射和蒸碳镀膜模块✬ 一流的真空性能和快速抽真空✬ 结构紧凑、可靠且易于维修✬ 双位置膜厚监控装置，可兼容不同尺寸的样品✬ 主动冷却的溅射头可确保镀膜质量并延长连续运行时间巧妙的真空设计CCU-010 LV离子溅射和镀碳一体化镀膜仪专为SEM和EDX的常规高质量溅射镀膜和镀碳而设计。模块化的设计可将低真空单元后续很轻松地升级为高真空单元。特别选择和设计的材料、表面和形状可大大缩短抽真空时间。两个附加的标准真空法兰允许连接第三方设备。SP-010 & SP-011溅射模块两种溅射模块一旦插入CCU-010 LV镀膜主体单元，即可使用。SP-010和SP-011溅射模块具有有效的主动冷却功能，连续喷涂时间长，非常适合需要较厚膜的应用。 可选多种溅射靶材，适合SEM等导电薄膜应用。SP-010溅射装置的磁控组件旨在优化靶材使用。这使其成为电子显微镜中精细颗粒贵金属镀膜的理想工具。对于极细颗粒尺寸镀膜，推荐使用涡轮泵抽真空的CCU-010 HV版本。SP-011溅射装置的磁控组件用于大功率溅射和宽范围材料的镀膜。对那些比常规EM应用要求镀膜速率更高、膜层要求更厚的薄膜应用时，推荐使用该溅射头。CT-010碳蒸发模块紧凑的插入式碳蒸发模块为镀碳树立了新标杆。将该头插入CCU-010 LV镀膜主体后，即可立即使用，适合SEM等需要高质量碳膜应用的场合。CT-010使用欧洲专有的、独特且技术领先的碳绳供给系统，可以进行多达数十次涂层的镀膜，而无需更换碳源。除了易于使用外，自动供给系统还允许在一个镀膜循环内可控地沉积几乎任何厚度的碳膜。易于选择的镀膜模式可保障镀膜安全，从对温度敏感的样品进行温和的蒸镀薄膜到中厚膜层的高功率闪蒸镀碳。整合脉冲蒸发、自动启动挡板后除气及膜厚监控的智能电源控制提供了精确的膜层厚度，并可避免火花引起的表面不均匀。GD-010辉光放电模块可选的GD-010辉光放电系统可快速安装，通过空气、氩气或其它专用气体进行表面处理，例如，使碳膜亲水。本机可按顺序进行碳镀膜和辉光放电处理，无需破真空或更换处理头，极大地简化了操作过程。本单元安装到CT-010，与所有样品台兼容。HS-010真空储存箱HS-010真空储存箱可在真空条件下存放备用镀膜头、备用行星台或旋转台、所有溅射靶材和碳附件，使它们处于清洁状态。通过集成的真空管路与镀膜主体单元连接，利用CCU-010抽真空系统对储物箱抽真空。可选地，用户也可用外接真空泵替代。舒适的手动锁定装置和放气阀允许对储物箱进行独立的抽真空和放气控制。额外的标准真空腔室可有效地避免蒸碳和溅射金属之间的交叉污染。ET-010等离子刻蚀单元在对样品进行镀膜之前或镀膜之后，可以对样品进行等离子刻蚀处理。使用该附件，可以选择氩气、其它蚀刻气体或大气作为处理气体。这样可以在镀膜前清洁样品，增加薄膜的附着力。也可在样品镀碳后进行等离子处理，从而对碳膜表面进行改性。Coating-LAB软件使用基于PC的Coating-LAB软件，可查看包括图表信息在内的处理数据。数据包括压力、电流、电压、镀膜速率和膜厚，镀膜速率为实时曲线。便捷的软件升级和参数设置让此智能工具更为完美。RC-010手套箱应用的远程控制软件◎基于window的远程控制软件◎创建和调用配方◎实时图表，包含导出功能（Excel、png等）◎自动连接到设备可选多种样品台CCU-010提供一个直径不小于60mm的样品台，该样品台插入到高度可调且可倾斜的样品台支架上。可选其它专用的旋转样品台、行星台、载玻片样品台等。CCU-010 LV普通真空镀膜仪版本作为真空镀膜系统的基础单元，专为 SEM 和 EDX 的常规高质量溅射和/或碳镀膜而设计。客户可选择：CCU-010 LV磁控离子溅射镀膜仪；CCU-010 LV热蒸发镀碳仪；CCU-010 LV离子溅射和镀碳一体化镀膜仪；CCU-010 LV手套箱专用镀膜仪

SD-800C型热蒸发镀膜仪把待镀膜的基片或工件置于真空室内，通过对镀膜材料加热使其蒸发气化而沉积与基体或工件表面并形成薄膜或涂层的工艺过程。通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为热蒸发镀膜，热蒸发镀膜技术是历史最悠久的镀膜技术之一。SD-800C型热蒸发镀膜机一般主要用于蒸发碳。使用超纯的碳纤维绳为严格的高分辨扫描电镜、透射电镜、EBSD及探针分析提供高质量的镀膜处理。因为碳原子能够直接沉积在样品表面而不发生横向移动，所以碳能够形成小于1nm的颗粒。参数： 仪器尺寸 ： 340mm×390mm×300mm（W×D×H） 真空样品室： 硼硅酸盐玻璃 170mm×130mm（D×H） 蒸发材料: 碳纤维双丝可A\B分别选择 操作真空： 4×10-2mbar 工作电压： 0-30V /AC 蒸碳电流： 0-100A 蒸碳时间： 0-1s 真空泵： 2升两级机械旋转泵(国产飞越VRD-8)特点：1、简单、经济、可靠、外观精美。2、真空保护可避免真空过低造成设备短路。3、碳纤维绳更加细腻均匀、快速，更有利于分析材料结构。

三靶大面积溅射系统之高分辨涡轮泵版本，CPU程序全自动控制，触膜屏用户界面，标配有挡板和靶材预清洁程序，既适合贵金属、也适合易氧化金属等多种靶材镀膜。 Q300T T镀膜仪是为薄膜应用而设计的多功能离子溅射镀膜仪，也是钨灯丝和场发射电镜观察之大样品制备的理想镀膜仪。为了确保精细沉积，Q300系列镀膜仪设有旋转样品台和三只相同的磁控靶组件，这也将提高采用低电压溅射的工作效率。该系统之高分辨涡轮泵版本Q300T T镀膜仪标配有挡板，作用是在保持真空条件下使易氧化金属靶材先进行清洁处理，然后再执行镀膜循环。所以，它既适合使用不氧化的贵金属如金（Au）、铂（Pt）等靶材镀膜，也适合易氧化金属如铬（Cr）、铝（Al）、钛（Ti）、锌（Zn）或氧化铟锡（ITO）、铱（Ir）等多种靶材镀膜。 和极其成功的Q150系列溅射仪、蒸镀仪一样，Q300T T型镀膜仪装在一个符合人机工程学设计的、坚固的整体成型机箱中，并且集成有触摸屏控制，对有经验的熟手和第一次使用的用户都适合的简单操作，从而可提供卓越的镀膜质量。 主要特点： &bull Large format chamber.The Q300T T sputter coaters incorporate a 300mm x 127mm work chamber and the sample stage accepts substrates up to 8&rdquo in diameter. An extended height glass chamber is available as an option to enable coating of larger format samples.大腔室。Q300T T型溅射镀膜仪设有尺寸为300mm x 127mm的工作腔室和适用于最大直径达8&rdquo 样品的样品台。可选配加长高腔室，以便于大且高的样品镀膜。 &bull Triple sputter head 三靶大面积溅射 &bull High resolution turbo pumped system高分辨涡轮泵版本；抽速5 m3/hr的涡卷泵或隔膜泵(隔膜泵仅用于Q300T T)可很好地替代普通的前级旋转机械泵，适合于无油或无尘室环境质量要求高的抽真空场合。 &bull Fully automated touch screen control 全自动触摸屏控制 &bull Coater logging option 镀膜仪日志（选项） &bull Customer defined coating protocols 用户自定义镀膜方案 &bull Film thickness monitor option 膜厚监控（选项），可通过腔室内的晶振片装置测量镀膜厚度，也可预设厚度去控制材料沉积在样品上的膜厚度，达到需要的镀膜厚度时，镀膜仪可自动停止镀膜 &bull Vacuum shutdown 真空闭锁功能 &bull Emergency stop switch 紧急停止开关

iSpecHyper-Mini-Pro是莱森光学一款采用芯片镀膜渐变薄膜滤光片来实现分光的成像高光谱相机系统。是一款将不同波段的渐变薄膜镶镀在探测器上（CMOS/CCD/InGaAs面阵探测器等），通过对目标成像，可同时快速获取光谱和影像信息的无损检测分析仪器。iSpecHyper-Mini-Pro芯片镀膜成像高光谱相机可根据应用实现400-1000nm或900-1700nm范围内的高光谱成像。该系统结构包括：成像高光谱相机、驱动电源、运动控制模块、数据采集模块等。能够实现自动曝光、自动匹配扫描速度，通过携带的辅助摄像功能对监测范围进行确定等功能。在数据处理方面，实现数据的预处理、数据选择性的导出、不同数据和图像的校准。该系统广泛应用于需要物质分辨的各个领域，如农业、水质检测、材料检测、生物医学、食品加工、废物处理等。iSpecHyper-Mini-Pro芯片镀膜成像高光谱相机利用特殊的镀膜技术，无需分光光谱仪模块，使得在光谱覆盖范围内的数十或数百条光谱波段对目标物体连续成像，在获得物体空间特征成像的同时获得被测物体的光谱信息。其拥有的高速采集能力能够满足客户各种高光谱成像分析要求，同时，因其具有体积小、重量轻、鲁棒性好，以及1.8W低功耗的特性，是工业、无人机或手持设备等移动环境的最佳选择。线性渐变滤光片结构及分光示意图技术原理线性渐变滤光片采用连续镀膜的方式，基于多层楔形薄膜结构实现空间连续变化的滤光特性。可根据色散需求调节薄膜斜率从而获得目标线性变化率。线性渐变滤光片具备高级成度的分光能力，在光谱仪器的小型化、轻量化设中具备不可替代的优势。其广泛应用于轻量化高光谱成像光谱仪、便携式光谱仪、医用内窥镜。 基于线性渐变滤光片的镀膜式高光谱成像相机原理主要技术参数型号iSpecHyper-Mini-Pro光谱范围400-1000nm成像原理芯片渐变滤光片镀膜光谱分辨率1nm@600nm光谱通道数32成像镜头16mm/25mm/35mm探测器CMOS探测器像素尺寸5.5 × 5.5μm像元分辨率2048*2048曝光时间28us-1s数据格式8，10bit RAW数据接口USB 3.0功耗1.8W工作温度0°C ~ 50°C储存温度-20°C ~ 60°C相对湿度80% RH 非冷凝尺寸（mm）/重量（g）96.1mm × 43mm × 46.5mm/200giSpecHyper-Mini-Pro芯片镀膜成像高光谱相机尺寸三视图（单位：mm）应用案例&bull 监测农作物的长势，如农作物的氮含量、叶绿素、生物量等，也可用于监测农作物的病害及土壤肥力情况，从而为农业精细化管理作技术支撑。&bull 采集不同树种的叶片，通过光谱分析法和纹理分析法，对其高光谱影像数据进行分析，可区分不同树种的叶片和叶片的农学指标分布情况，为航拍区分不同树种作理论依据。 松材线虫病变色松树监测接种链格孢油菜叶的高光谱成像图与光谱曲线&bull 果蔬品质监测可对果蔬的质量进行评估并及时清除低品质的果蔬。果蔬的品质包括水分、糖分、维生素等物质的含量，品质缺陷包括果蔬采摘、运输过程造成的擦伤，害虫咬伤，冷藏过程造成的冻伤等。 不同浓度梯度的叶菜样品的农药荧光光谱曲线 无残留和不同种类农药残留菠菜叶片表面光谱曲线&bull 实时检测水质参数指标，如总磷、总氮、叶绿素a、悬浮物、PH值、化学需氧量、氨氮、溶解氧等10余种水质指标。水环境监测水质指标&bull 应用于烧伤皮肤检测，通过成像图分析不同位置的皮肤烧伤程度，能够有效地辅助医生判断患者病症。皮肤烧伤程度检测&bull 适用于烟草行业的烟丝种类、杂质判别。可用于烟丝生化成分的检测，通过分析高光谱图像中的光谱信息判别烟丝的种类、识别烟丝中的杂质等。检测烟丝生化成分、烟丝种类判别、杂质识别等&bull 将iSpecHyper-Mini系列高光谱成像系统搭载于配备有光源的暗箱系统，可用于不同工业塑料种类的分选，如PE、PP、PS、PC、PA、PU、PET、PVC、POM和ABS等用于工业塑料分选

瑞士Safematic CCU-010 LV_CT热蒸发镀碳镀膜机紧凑型、模块化和智能化CCU-010 LV_CT热蒸发镀碳镀膜机为一款结构紧凑、全自动型的热蒸发镀碳仪，使用非常简便。采用独特的插入式设计，可选通过简单地变换镀膜头就可轻松配置为溅射设备。在镀膜之前和/或之后，可以进行等离子处理。模块化设计可轻松避免交叉污染。CCU-010系列镀膜仪标配膜厚监测装置。特点和优点✬ 高性能热蒸发镀碳和等离子处理✬ 专有的自动碳源卷送设计–多达数十次碳镀膜，无需用户干预✬ 独特的即插即用蒸碳镀膜模块✬ 一流的真空性能和快速抽真空✬ 结构紧凑、可靠且易于维修✬ 双位置膜厚监控装置，可兼容不同尺寸的样品巧妙的真空设计CCU-010 LV_CT-010精细真空镀膜系统专为SEM和EDX的常规高质量镀碳而设计。模块化的设计可将低真空单元后续很轻松地升级为高真空单元。特别选择和设计的材料、表面和形状可大大缩短抽真空时间。两个附加的标准真空法兰允许连接第三方设备。CT-010碳蒸发模块紧凑的插入式碳蒸发模块为镀碳树立了新标杆。将该头插入CCU-010 LV镀膜主体后，即可立即使用，适合SEM/EDS等需要高质量碳膜应用的场合。CT-010使用欧洲专有的、独特且技术领先的碳绳供给系统，可在一次真空下进行多达数十次涂层的镀膜，而无需更换碳源。除了易于使用外，自动供给系统还允许在一个镀膜循环内可控地沉积几乎任何厚度的碳膜。易于选择的镀膜模式可保障镀膜安全，从对温度敏感的样品进行温和的蒸镀薄碳膜到在中厚碳膜层应用时的高功率闪蒸镀碳。整合脉冲蒸发、自动启动挡板后除气及膜厚监控的智能电源控制提供了精确的碳膜厚度，并可避免火花引起的表面不均匀。GD-010辉光放电模块可选的GD-010辉光放电系统可快速安装，通过空气、氩气或其它专用气体进行表面处理，例如，使碳膜亲水。本机可按顺序进行碳镀膜和辉光放电处理，无需“破”真空或更换处理头，极大地简化了操作过程。本单元安装到CT-010，与所有样品台兼容。ET-010等离子刻蚀单元在对样品进行镀膜之前或镀膜之后，可以对样品进行等离子刻蚀处理。使用该附件，可以选择氩气、其它蚀刻气体或大气作为处理气体。这样可以在镀膜前清洁样品，增加薄膜的附着力。也可在样品镀碳后进行等离子处理，从而对碳膜表面进行改性。RC-010手套箱应用的远程控制软件◎基于window的远程控制软件◎创建和调用配方◎实时图表，包含导出功能（Excel、png等）◎自动连接到设备可选多种样品台CCU-010提供了一个直径不小于60mm的样品台，该样品台插入到高度可调且可倾斜的样品台支架上。可选其它专用的旋转样品台、行星台、载玻片样品台等。CCU-010 LV系列镀膜仪版本除了CCU-010 LV热蒸发镀碳仪之外，还可选择：CCU-010 LV磁控离子溅射镀膜仪；CCU-010 LV离子溅射和镀碳一体化镀膜仪；CCU-010 LV手套箱专用镀膜仪。所有CCU-010 LV系列镀膜仪均采用TFT 触摸屏操控，配方可编程，保证结果可重复；具有断电时系统自动排气功能，可防止系统被前级泵油污染。

GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪在真空环境中利用粒子轰击靶材产生的溅射效应，使得靶材原子或分子从固体表面射出，在基片上沉积形成薄膜的过程。属于物理气相沉积（PVD）制备薄膜技术的一种。设计而成的简单、可靠、经济的镀膜设备，适用于实验室各种复合膜样品的制备，以及非导体材料实验电极的制作。GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪可用于实验室制备扫描电镜样品使用，且设备体积小巧，节约实验室空间；操作简单，适合初学人员使用。1、设有真空表、溅射电流表，可实时监控工作状态。2、通过调节溅射电流控制器、微型真空气阀，控制真空室压强、电离电流及选择所需要的电离气体，以获得良好镀膜效果。3、钟罩边缘橡胶密封圈采用特殊设计，可保证长期使用不出现玻璃钟罩崩边现象。4、陶瓷密封高压电极接头比通常采用的橡胶密封更经久耐用。5、根据电场中气体电离特性，采用大容量溅射真空室和相应面积溅射靶，使溅射镀层更均匀纯净。6、溅射头采用Peltier制冷技术，可得到高性能、精细颗粒的涂层。7、可用水冷溅射头、水冷载物台。产品名称GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪产品型号GSL-1100X-SPC-16M安装条件本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备需选配自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水）2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、气：设备腔室内需充注氩气（纯度99.99%以上），需自备氩气气瓶（带减压阀）4、工作台：尺寸600mm×600mm×700mm，承重50kg以上5、通风装置：不需要主要参数1、靶：?50mm2、真空室：?160mm×120mm3、真空度：≤4×10-2mbar4、max电流：50mA（可选100mA）5、可设定极限时间：9999s6、微型真空气阀：连接?3mm软管7、极限电压：1600V DC8、机械泵：2L/s产品规格尺寸：360mm×300mm×380mm。整体重量：50Kg主机净重：15Kg标准配件1、金靶材1个2、进气针阀1个3、保险丝2个可选配件金、铟、银、铂等各种靶材

产品简介： GSL-1800X-ZF2蒸发镀膜仪主要应用于大专院校、科研机构、企业实验室及进行微小产品真空镀膜工艺研究、样板试制、操作培训和生产的单位。镀膜仪在蒸发镀膜过程中样品台可以进行旋转，使蒸发的薄膜材料在样品表面均匀分布。配有两组蒸发单元，一个钨舟，一个钨丝篮；钨舟中可以放粉末状的薄膜材料，钨丝篮中可以放条状或块状薄膜材料。控制屏采用7英寸TFT显示屏显示操作界面，TFT式显示器具有高响应度、高亮度、高对比度等优点，触屏操作，实现全图形化界面，易用易懂。镀膜仪使高真空的蒸发镀膜设备，真空度可达3.0×10-4torr。 产品型号 GSL-1800X-ZF2蒸发镀膜仪安装条件本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地2、工作台：落地式，占地面积2m2以上3、通风装置：需要主要特点 1、采用桌面小型一体化结构，将真空腔体、镀膜电源及控制系统进行整合设计，体积与一台A3打印机相仿。 2、采用电阻式双蒸发源结构，可快速实现蒸发源的转换。蒸发单元中装有两组蒸发电极可安装不同的蒸发源，适应相应的镀膜材料。 3、配有0.1%精度蒸发电源，并具有恒流输出功能，对蒸发舟能起到很好的保护作用。 4、可选配石英晶体膜厚控制仪，在镀膜过程中对镀膜速率和膜层厚度进行控制。 5、可将采集到的镀膜数据保存到U盘，便于用户分析控制（选配）。 6、本机将所有功能设计成标准化模块，根据用户不同的需求对相应模块进行组合，以达到优化的镀膜环境，并便于用户维修与维护。 7、操作控制采用7英寸TFT显示屏显示操作界面，触屏操作，实现全图形化界面，易用易懂。技术参数 1、电源：AC220V 1500W 2、蒸发电源功率：1000W 5V 200A 3、蒸发电极有效距离：44mm 4、样品台：?120mm（可旋转） 5、膜厚测量精度：0.1?或0.01?（可选配高精度型） 6、外接真空机组：扩散泵机组（可选配国产110机组或进口机组）（不建议使用扩散泵） 7、极限真空度：3.0×10-3torr（扩散泵）、3.0×10-4torr（分子泵）（不建议使用扩散泵） 8、工作真空度：5.0×10-3torr 9、真空接口：KF40 10、使用环境：温度35℃，湿度75%（相对湿度）不结露，海拔1500m产品规格　尺寸：440mm×240mm×260mm（不包括真空机组）；重量：约47kg（不包括真空泵）

GVC-5000镀金镀碳一体机(多功能镀膜仪)-配备磁控溅射逐渐和热蒸发镀膜组件，即可实现磁控溅射各种金属膜，也可实现热蒸发度碳膜。双组件共存，工作时只需将样品放置与对应的组件下方即可，无需更换组件，操作非常方便。GVC-5000镀金镀碳一体机(多功能镀膜仪)全自主知识产权1、双组件设计配备磁控溅射逐渐和热蒸发镀膜组件，即可实现磁控溅射各种金属膜，也可实现热蒸发度碳膜。双组件共存，工作时只需将样品放置与对应的组件下方即可，无需更换组件，操作非常方便。2、防污染挡板设计全自动防污染挡板，在磁控溅射模块工作时自动切换到镀碳组件，防止蒸发源收到污染，反之亦然。3、一键切换两种工作模式一键切换，每次开机自动进入上次关机的工作模式。4、全自动操作

产品简介： GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪是一款高真空的镀膜仪，特别适合蒸镀对氧较敏感的金属膜（如Ti、Al 、Au等）和小分子的有机物。本机设有4个蒸镀加热舟，每个加热舟都可独立进行蒸镀，加热舟上方有一个可旋转挡板，当其中一个加热舟进行蒸镀时挡板将其它三个钨舟遮住，以防蒸镀材料之间相互污染。若更改部分配置也可实现对有机材料的蒸发镀膜，可满足发光器件及有机太阳能电池方面的研究要求，是一款镀膜效果理想且性价比较高的实验设备。GSL-1800X-ZF4镀膜仪腔底部配有5个水冷电极，在工作过程中可有效保护电极温度不会因温度过高而熔化，进而损坏电极。该机采用金属腔室，具有极高的真空度，真空度可达到5.0×10-7torr，样品台可对样品进行加热，加热温度为室温-500℃，是进行高真空蒸发镀膜的设备。产品名称GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪产品型号GSL-1800X-ZF4安装条件本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备配有自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水）2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、工作台：落地式，占地面积2m2以上。4、通风装置：需要主要特点1、真空控制单元全部集合在一个控制盒内。2、采用独立的蒸镀电流控制器，操作方便快捷。3、真空腔体设有1个KF40旁抽阀（直接与前级机械泵相连，提高效率）、1个CF150闸板阀（直接与分子泵相连）、1个KF16法兰（安装电阻规）、6个CF35法兰（1个安装电离规，1个安装2芯电极，1个安装膜厚仪）3个备用。4、在腔体底部配有5个水冷电极，可支持4个蒸镀加热舟。5、样品台安装在腔体的顶部。6、腔内可装高分辨率的薄膜测厚仪，膜厚测量分辨率（铝）为0.1?。7、可使用循环水冷机。技术参数1、输入：单相AC220V，50Hz/60Hz，功率2.16KW（不含真空泵）2、蒸发输出：电压AC 0-8V连续可调，极限蒸发电流200A，极限蒸发功率1.6KW3、真空腔：?300mm（内径）×400mm，不锈钢，内壁经电抛光处理4、观察窗：?100mm，采用密封圈密封5、真空泵：高抽速涡轮分子泵，抽速600L/s6、真空度：8.0x10-4Pa7、极限真空8.0x10-5Pa8、漏率：6.7×10-8PaL/S9、样品台：φ12010、蒸发舟与样品台间距：150-210mm11、冷却水需量：15L/min产品规格尺寸：900mm×1100mm×1800mm；重量：230kg

派瑞林镀膜的方式为气相沉积CVD，其防护性能明显优于喷漆、环氧、电镀等传统三防工艺，广泛应用于电路板PCBA、线圈马达、硅橡胶制品、磁性材料、LED/OLED、传感器、电池、医疗产品等，上述产品经parylene镀膜后可起到防水、耐腐蚀、耐高压、耐盐雾的作用，可大大提高产品性能，延长使用寿命。 此设备适用于磁性材料、橡胶件、金属件、电路板、医疗器械等产品的立式固定涂敷，以达到防霉菌、防潮湿、防盐雾的三防效果，并且对于磁性材料、电路板等产品也有较理想的耐压功能，延长产品的寿命，提高产品可靠性

派瑞林镀膜的方式为气相沉积CVD，其防护性能明显优于喷漆、环氧、电镀等传统三防工艺，广泛应用于电路板PCBA、线圈马达、硅橡胶制品、磁性材料、LED/OLED、传感器、电池、医疗产品等，上述产品经parylene镀膜后可起到防水、耐腐蚀、耐高压、耐盐雾的作用，可大大提高产品性能，延长使用寿命。 此设备适用于磁性材料、橡胶件、金属件、电池等产品的滚动涂敷，以达到防霉菌、防潮湿、防盐雾的三防效果，并且对于电池等产品也有较好的耐压功能，延长产品的寿命，提高产品可靠性。

公司简介： 日本SDI株式会成立于1997年，20多年来一直致力于镀膜机、干燥剂、印刷电路板等的设计、开发与生产，为此类研究领域的客户提供稳定可靠的解决方案，SDI研发生产的浸渍提拉镀膜机，性价比高，运行稳定，极大提高了实验效率与实验精度，可广泛应用于玻璃、亚克力、铜箔等的固体材料表面的镀膜工艺。 北京东方德菲仪器有限公司作为SDI株式会社的中国区指定代理，将继续秉承东方德菲一贯的原则，与SDI株式会社一起以快捷的方式为客户提供专业的技术服务。浸渍提拉镀膜仪工作原理：浸渍提拉镀膜仪的原理是将基材垂直浸入镀膜溶液(溶胶)中浸渍，然后将基材从溶液中垂直低速提拉起来，并使附着的液膜在空气（气相）中凝胶的方法。浸渍提拉法的具体工艺流程如下：1. 将基材垂直浸入镀膜溶液（溶胶）中浸渍。2. 利用镀膜溶液的粘度、表面张力和重力之间的相互作用开始提拉，提拉过程必须保证液面无振动，且基材垂直、匀速、平稳、连续上升，从而确保在基材表面形成连续、均匀的薄膜。3. 基材的提拉速度与镀膜溶液的粘度和附着液向下流动的重力之间的关系，控制着镀膜的厚度；4. 形成均匀的薄膜，并完成“湿凝胶膜”向“干凝胶膜”的转变。”干凝胶膜”经过进一步的干燥及高温热处理便得到所需的纳米薄膜材料。日本SDI浸渍提拉镀膜仪MD-0408-S7 日本SDI浸渍提拉镀膜仪MD-0408-S7是日本SDI株式会社研发生产的、实验室专用、高端台式、超低速浸渍提拉镀膜仪，速度可变范围1nm/sec到60mm/sec。产品特点：1 可以对玻璃、有机玻璃、铜箔等基材以纳米级速度 (变速单位：1nm）进行浸渍镀膜。2 1nm/s的超慢速浸渍镀膜有利于分离膜的生成、粒子阵列重排、纳米级膜厚的形成。3 采用触控面板操作，可控16级变速程序、可控变速范围（变速单位：lnm/sec）、往复运转、存储8个运转模式。4 日语、英语显示可以一键式切换。 产品应用：MD-0408-S7主要用于溶胶-凝胶法等液相法制备薄膜材料技术参数：行程：150mm(max:800mm) 速度(Min)：1nm/s 速度(Max)：60mm/s 操作方法：触控面板 画面文字：英语/日语 处理速度指定级数：16级 停止位置指定个数：16个 停止时间指定数量：16个 连续运行模式：有 手动运行模式：有 运转模式存储数量：8个运转模式电机功能(当前速度)：有电机功能(当前位置)：有电机功能(运行剩余时间)：有重复运行：有标准夹具：聚丙烯（PP）材质电源：AC100V、250VA搬运重量(max)：1kg处理尺寸(max): 150mm(H)直线运行模式:无※连续运行模式是指：改变速度时，停止时间为“Osec”。※手动运行模式是指：以设定的一个速度上升/下降运行（上升速度和下降速度分开设定）

超精细低温显微拉曼系统 由美国Montana Instruments公司和Princeton Instruments公司联合研发的超精细低温显微拉曼系统解决了长期困扰科研人员的变温拉曼测量问题。创新的设计方案使得变温拉曼测量更加方便，将科研工作者从繁琐的仪器搭建工作中解放出来而专注于科研本身。众所周知，低温光谱可以研究材料的很多新奇物理现象，通过变温测量更可以获得材料更全面的信息。对于新材料或新特性的研究，变温显微拉曼系统是强有力的工具。 超精细低温显微拉曼系统CryoRAMAN CryoRAMAN主要特点 ● 通过的温度控制可以测量温度依赖的相变、频移、谱线宽度等材料特性；● 1小时内可按照用户定义的温度间隔在全温区内获得完整的一系列光谱；● 超低的位置温漂可以让用户获得高精度的二维拉曼图像；● 同时测量材料的光谱和电学可以获得完备的材料特性；● 高数值孔径镜头可以轻松观测弱信号材料。 CryoRAMAN主要测量功能 ● 拉曼显微和成像 ● 光致荧光光谱与成像● 吸收光谱 ● 电学、光电输运测量CryoRAMAN主要应用方向 4K-350K范围内超的控温，使得该系统除了传统材料的变温拉曼测量之外还可以测量低维材料的特性，例如：● 材料相变，Mott缘体（RuCl3, CrCl3）低温下的超导转变，过渡金属二硫化物拉曼峰位或PL激发态随温度的变化等；● 分子热运动； ● 晶格结构变化； ● 二维光电子学； ● 量子信息； ● 生物-传感 CryoRAMAN集成与性能 对于低维材料的变温或二维成像测量中由于材料的拉曼散射截面较小，光通量和探测器的灵敏度就显得格外重要。本设备得到的无像差图像不仅仅提高了信噪比和光谱的分辨率，还可以得到清晰的谱线图形，这对于峰位拟合是非常重要的。 单层石墨烯的2D能带拉曼峰位随温度升高向低能量端移动（5K-300K） 532nm光激发下WSe2 PL光谱，5秒收集时间拉曼光谱（FERGIE测量） 变温系统 恒温器：基于Cryostation S100 + 低费用，完全无液氦系统，无需低温经验 + 全自动，一键运行，一键测量 + 超灵活，模块化结构，用户易拓展 变温样品台：ATSM + 低热容设计的变温台，使温度可以在几秒钟内稳定在设定温度点，减少温漂等待时间。 CryoRAMAN低温系统内部结构示意图 显微拉曼系统 ● 光学集成方式：桥式连接 高精度，预准直的光学模块化结构，提供了样品到光谱仪之间各种光路的耦合，省去了复杂的光路调节（激发激光、观察相机、反射信号）。 ● 白光图像：3MP相机&HB LED可调亮度光源、定位、观察拉曼待测区域和激光光斑的位置。● 激发：单模光纤耦合DPSS激光 532nm（针对荧光背景样品可选785nm选件） ● 反射信号收集：Cryo-Optic系统 无像差高数值孔径（NA，0.75）成像系统方便测量量子效率很低的材料 ● 光谱仪：FERGIE或IsoPlaneSCT320 FERGIE可提供高灵敏度低噪音的宽波段光谱学测量 IsoPlan提供超精细的高质量成像和光谱分辨率，可大限度提升输出信号的信噪比。 桥式连接模块示意图：1、长通滤波预准直可调镜头；2、入射激光45° 90/10分光镜；3、白光45° 90/10分光镜；4、白光45° 90/10分光镜 除了电脑控制外，体统自带触屏控制系统，操作更加方便。 附加功能 ● 高温选件（600K） 对于相变温度较高或需要进行高温测量的样品，可选择600K高温的ATSM选件。 （左）高温选件，变温样品台示意图；（右）电学样品台示意图 ● 电学测量 省去反复的实验过程，一次实验同时测量电学和拉曼。结合电学和拉曼结果有助于立即对样品特性有一个全面的判断。CryoChip16样品台可直接与ATSM样品台兼容并提供16个DC通道。 ● 偏振测量 可以很方便的通过更换拉曼滤波单元实现偏振拉曼测量，可对有序材料中分子趋向进行测量。这对于晶体、二维材料、薄膜样品较为重要。 超精细低温显微拉曼系统（FERGIE）超精细低温显微拉曼系统（IsoPlane） CryoRAMAN设备参数 基本参数温度区间4K-350K (600K可选)镜头-样品相对位移4.2K-350K20um 光轴方向32um 焦平面内温度稳定时间~30秒 ATSM在全温区范围进50K温度变化样品位置漂移1um/℃ 全温区范围100nm 峰-峰，值平台温度不变时拉曼激发波长532nm或785nm其他波长可根据用户需求而定拉曼光斑尺寸1~3um视场大小30um荧光光源（选件）卤素灯大样品尺寸10*10*2.5mm（10克）大样品可定制纳米精度位移器（XYZ）5*5*5mm 光谱仪技术参数列表 FERGIEISOPlane SCT320Focal length80.08 mm320mm孔径比f/4f/4.6波数分辨率3cm-10.8cm-1可用波长范围400 - 1100 nm VIS-NIR 选件200 - 1100 nm UV-NIR 选件 190 nm to mid-IR 特定反射涂层、光栅、探测器 光栅支架/尺寸可更换，可旋转单光栅塔轮可旋转三光栅系统塔轮系统，光栅尺寸 68*68mm像散/慧差焦平面上全波段、全角度零像差全波段零像差空间分辨率整个焦平面38.5 line pairs/mm @ 50% 对比度≥15 line pairs/mm @ 50% 调制, 测量在焦平面中心。≥ 8 line pairs/mm @ 50% 调制, 测量在焦平面上27 x 8 mm 范围狭缝10, 25, 50, 100, 150, 200, 300, 500 μm 3.3 mm高可互换激光切割狭缝标准： (10 μm – 3 mm)可选 (10 μm – 3 mm and 10 μm – 12 mm)波长性0.26 nm |汞和氖灯校准后: 0.05 nm机械: ± 0.2 nm |汞和氖灯校准后: ± 0.01 nm波长可重复性0.13 nm |汞和氖灯校准后: 0.015 nmMechanical: ± 0.015 nm |汞和氖灯校准后: ± 0.0015 nm

六源有机无机联合蒸发镀膜设备适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作。OPV系列真空蒸发镀膜与手套箱联合系统的用户群体为科研院所及实验室，将真空蒸发系统工作室置于Glove box无水、无氧、无尘的超纯环境中，PVD与Glove box硬件无缝对接，操控融合一体，广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域。产品型号六源有机无机联合蒸发镀膜设备主要特点1、样品在镀膜过程中，带有烘烤加热功能，最高烘烤加热温度为：室温～180℃，测温控温。2、设备带有断水断电连锁保护报警装置、防误操作保护报警装置。技术参数1、镀膜室：镀膜腔室尺寸约为600×450×450mm，不锈钢材料，方形前后开门结构，内带有防污板。2、抽气系统：采用分子泵+机械泵抽气系统： 真空度：镀膜室的极限真空≤6×10-4Pa； 系统漏率≤1×10-7PaL/s。3、蒸发源系统： 有机源蒸发源4个，容积5ml，2台蒸发电源，可测温控温，加热温度400℃，功率0.5Kw； 挡板：蒸发源挡板采用自动磁力控制方式，控制其开启； 安装：蒸发源安装在真空室的下底上。4、样品架系统：样品架可放置大小为Φ120mm的样品，载玻片；样品架可旋转，旋转速度为：0～30转/分；安装：样品安装在真空室的上盖上，蒸发源安装在真空室的下盖上，向上蒸发镀膜，蒸发源都带有挡板装置。7、 5、无机蒸发源2套、容积5ml，2台蒸发电源，加热电流300A，功率3.2Kw；8、 6、石英晶振膜厚控制仪：膜厚测量范围0-999999?。

三靶等离子溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比等离子溅射镀膜设备，等离子溅射靶为2英寸的标准尺寸，客户可以根据需要选择1~3个靶的不同配置，以满足镀单层膜或者多种材料多层膜的不同实验需求。仪器所配电源为150W直流高压电源，可用于金属溅射镀膜，尤其适合金银铜等贵金属的镀膜。镀膜仪配有通气接口，可以通入保护性气体。仪器采用触摸屏控制，简单直观易于上手，能够一键实现镀膜启停、切换靶位、挡板旋转等操作，十分适合实验室选购。本镀膜仪标配为双极旋片真空泵，其具有体积小，抽真空快，操作简单的优势，若客户有进一步提升真空度的需要，可以联系技术人员选配分子泵组组成高真空系统。三靶等离子溅射镀膜仪适用范围： 可用于金属溅射镀膜，尤其适合金银铜等金属的镀膜。三靶等离子溅射镀膜仪技术参数：三靶等离子溅射镀膜仪样品台尺寸φ138mm控温精度±1℃加热温度*高500℃转速1-20rpm可调直流溅射头数量2"×1 （1~3个靶可选）真空腔体腔体尺寸φ180mm × 150mm观察窗口全向透明腔体材料高纯石英开启方式顶盖上翻式真空系统机械泵旋片泵抽气接口KF16真空测量电阻规排气接口KF16极限真空1.0E-1Pa供电电源AC 220V 50/60Hz抽气速率旋片泵：1.1L/S电源配置数量直流电源 x1*大输出功率150W其他供电电压AC220V,50Hz整机尺寸360mm × 300mm × 470mm整机功率800W整机重量40kg

单靶等离子溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比等离子溅射镀膜设备，具有结构紧凑，简单易用，集成度高，设计感强的优势。等离子溅射靶为2英寸的标准尺寸，客户可以根据需要选择1~3个靶的不同配置，以满足镀单层膜或者多种材料多层膜的不同实验需求。仪器所配电源为150W直流高压电源，可用于金属溅射镀膜，尤其适合金银铜等贵金属的镀膜。镀膜仪配有通气接口，可以通入保护性气体，若客户需要通入混合气体，可以联系工作人员自行配置高精度质量流量计以满足实验需要。 单靶等离子溅射镀膜仪适用范围：可用于金属溅射镀膜，尤其适合金银铜等金属的镀膜。主要技术参数样品台尺寸Φ138mm加热温度最高500℃控温精度±1℃转速1-20rpm可调等离子溅射头1支2寸等离子靶真空腔体腔体尺寸Φ180mm×150mm 腔体材料高纯石英观察窗口全向透明开启方式顶盖拆卸式前极泵VRD-4抽气速率旋片泵：1.1L/S 极限真空1.0E-1Pa抽气接口KF16排气接口KF16真空测量数字真空计其他供电电压AC220V,50Hz整机功率800W溅射真空20Pa整机尺寸长360mm宽300mm高470mm整机重量30Kg

Q300T T Plus–三靶溅射镀膜仪，适用于200mm直径的试样 Q300T T Plus是一种大腔室涡轮泵溅射镀膜系统，非常适合溅射单个直径高达8〃/200mm的大直径试样或多个直径相似的较小试样。非常适合薄膜应用和SEM/FE-SEM应用。它配备了三个溅射头，以确保单个大样本或多个样本的均匀镀膜。

真空镀膜厚度仪金属镀层测厚仪是一种用于精确测量金属镀层厚度的仪器，它对于镀铝膜、真空镀膜、镀铝纸等材料的质量控制具有重要意义。该仪器采用电阻法作为检测原理，通过测量电阻值的变化来推算金属镀层的厚度。 金属镀层测厚仪主要由测量探头、测量电路和数据处理系统三部分组成。测量探头通过与被测样品表面接触来获取电阻值，其内部结构通常包括一对电极和测量线路，用于测量样品的电阻值。测量电路则将探头测得的电阻值转化为可读的数据，并将其传输到数据处理系统进行处理。 在测量镀铝膜、真空镀膜和镀铝纸等材料时，金属镀层测厚仪能够对其表面和底层的电阻值进行精确测量。由于不同金属材料的电阻率不同，因此可以通过测量电阻值的变化来推算金属镀层的厚度。具体来说，金属镀层测厚仪会根据样品的电阻值变化来计算出金属镀层的厚度，并将结果以数字或图表的形式显示出来。 金属镀层测厚仪具有高精度、高分辨率和高灵敏度的优点，能够准确地测量出金属镀层的厚度，从而为生产厂家提供可靠的质量保证。同时，该仪器还具有操作简单、使用方便的特点，能够满足工业生产中对快速、简便测量的需求。 金属镀层测厚仪的优点还包括其非破坏性测量方式，即不会对被测样品造成损害。这使得生产厂家可以在生产过程中进行在线测量，及时发现并解决问题，大大提高了生产效率和产品质量。此外，金属镀层测厚仪还可以通过计算机接口实现数据共享和远程控制，提高了测量的自动化程度和便捷性。 金属镀层测厚仪是一种高精度、高分辨率、高灵敏度的仪器，采用电阻法检测原理，能够准确地测量出镀铝膜、真空镀膜、镀铝纸等材料金属镀层的厚度。它具有操作简单、使用方便和非破坏性测量等优点，适用于工业生产中的在线测量，能够提高生产效率和产品质量。 技术参数 厚度测量范围 厚度50-570&angst 方块电阻测量范围 0.5-5Ω 方块电阻测量误差 ±1% 样品尺寸 100×100mm 夹样精度 ±0.1mm 测温范围 0～50℃，精度±1℃ 外形尺寸 370mm×330mm×450mm （长宽高） 重 量 19kg 工作温度 23℃±2℃ 相对湿度 80%,无凝露 工作电源 220V 50Hz 真空镀膜厚度仪此为广告

双靶磁控溅射镀膜仪双靶磁控溅射镀膜仪为我公司研发的配有两个靶位的小型实验室用镀膜仪，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等。磁控溅射相较于普通的等离子溅射拥有能量高速度快的优点，镀膜速率高，样品温升低，是典型的高速低温溅射。磁控靶配有水冷夹层，水冷机能够有效的带走热量，避免热量在靶面聚集，使磁控镀膜能长时间稳定工作。与同类设备相比，这款双靶磁控溅射镀膜仪不仅应用广泛，且体积小便于操作，是一款实验室制备薄膜的理想设备。技术参数：项目明细供电电压AC220V，50Hz整机功率3KW极限真空度10-6torr载样台参数尺寸φ140mm加热温度最高500℃控温精度±1℃转速技术参数： 1-20rpm可调磁控溅射头参数数量2个2”磁控溅射头冷却方式水冷，所需流速10L/min水冷机规格16L/min流速的循环水冷机真空腔体腔体尺寸φ300mm X 300mm H腔体材料不锈钢观察窗口φ100mm开启方式上顶开式，便于更换靶材气体流量控制器4路分别通N2，Ar，O2，空气； 量程均为0-500sccm真空泵配有一套分子泵系统，抽速600L/S膜厚仪石英振动薄膜测厚仪一台，分辨率0.10 ?溅射电源直流电源一台，500W，适用于制备金属膜射频电源一台，300W，适用于非金属镀膜操作方式面板按钮操作整机尺寸1400mm X 750mm X 1300mm整机重量300kg