自动光刻设备

光刻工艺光刻是用光刻胶、掩模和紫外光进行微制造 ,工艺如下 :(a)仔细地将基片洗净;(b)在干净的基片表面镀上一层阻挡层 ,例如铬、二氧化硅、氮化硅等;(c) 再用甩胶机在阻挡层上均匀地甩上一层几百 A厚的光敏材料——光刻胶。光刻胶的实际厚度与它的粘度有关 ,并与甩胶机的旋转速度的平方根成反比;(d) 在光掩模上制备所需的通道图案。将光掩模复盖在基片上,用紫外光照射涂有光刻胶的基片,光刻胶发生光化学反应;(e)用光刻胶配套显影液通过显影的化学方法除去经曝光的光刻胶。这样，可用制版的方法将底片上的二维几何图形精确地复制到光刻胶层上；(f) 烘干后 ,利用未曝光的光刻胶的保护作用 ,采用化学腐蚀的方法在阻挡层上精确腐蚀出底片上平面二维图形。掩模制备用光刻的方法加工微流控芯片时 ,必须首先制造光刻掩模。对掩模有如下要求：a.掩模的图形区和非图形区对光线的吸收或透射的反差要尽量大;b.掩模的缺陷如针孔、断条、桥连、脏点和线条的凹凸等要尽量少;c.掩模的图形精度要高。通常用于大规模集成电路的光刻掩模材料有涂有光胶的镀铬玻璃板或石英板。用计算机制图系统将掩模图形转化为数据文件，再通过专用接口电路控制图形发生器中的爆光光源、可变光阑、工作台和镜头，在掩模材料上刻出所需的图形。但由于设备昂贵，国内一般科研单位需通过外协解决，延迟了研究周期。由于微流控芯片的分辨率远低于大规模集成电路的要求，近来有报道使用简单的方法和设备制备掩模，用微机通过CAD软件将设计微通道的结构图转化为图象文件后，用高分辨率的打印机将图象打印到透明薄膜上，此透明薄膜可作为光刻用的掩模，基本能满足微流控分析芯片对掩模的要求。湿法刻蚀在光刻过的基片上可通过湿刻和干刻等方法将阻挡层上的平面二维图形加工成具有一定深度的立体结构。近年来，使用湿法刻蚀微细加工的报道较多，适用于硅、玻璃和石英等可被化学试剂腐蚀的基片。已广泛地用于电泳和色谱分离。湿法刻蚀的程序为 :(a) 利用阻挡层的保护作用，使用适当的蚀刻剂在基片上刻蚀所需的通道 ;(b) 刻蚀结束后 ,除去光胶和阻挡层，即可在基片上得到所需构型的微通道；(c)在基片的适当位置(一般为微通道的端头处)打孔，作为试剂、试样及缓冲液蓄池。刻有微通道的基片和相同材质的盖片清洗后，在适当的条件下键合在一起就得到微流控分析芯片。玻璃和石英湿法刻蚀时，只有含氢氟酸的蚀刻剂可用，如HF/HNO3，HF/ NH4。由于刻蚀发生在暴露的玻璃表面上，因此，通道刻的越深，通道二壁的不平行度越大 ,导至通道上宽下窄。这一现象限制了用湿法在玻璃上刻蚀高深宽比的通道。等离子体刻蚀等离子体刻蚀是一种以化学反应为主的干法刻蚀工艺，刻蚀气体分子在高频电场作用下，产生等离子体。等离子体中的游离基化学性质十分活泼，利用它和被刻蚀材料之间的化学反应，达到刻蚀微流控芯片的目的。等离子体刻蚀已应用于玻璃、石英和硅材料上加工微流控芯片 , 如石英毛细管电泳和色谱微芯片。先在石英基片上涂上一层正光胶 (爆光后脱落的光胶)，低温烘干后，放置好掩模，用紫外光照射后显影，在光胶上会产生微结构的图象。然后用活性CHF3等离子体刻蚀石英基片 ,基片上无光胶处会产生一定的深度通道或微结构。这样可产生高深宽比的微结构。近来，也有将等离子体刻蚀用于加工聚合物上的微通道的报道。http://www.whchip.com/upload/201610/1477271936108203.jpg

应用方面有什么基本的区别？另外实验室想买一套电子束光刻设备，有什么好的推荐？

光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片上，不同光刻机的成像比例不同，有5:1，也有4:1。然后使用化学方法显影，得到刻在硅片上的电路图（即芯片）。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、激光刻蚀等工序。经过一次光刻的芯片可以继续涂胶、曝光。越复杂的芯片，线路图的层数越多，也需要更精密的曝光控制过程。现在最先进的芯片有30多层。http://www.whchip.com/upload/201608/1471850877761920.png 上图是一张光刻机的简易工作原理图。下面，简单介绍一下图中各设备的作用。测量台、曝光台：承载硅片的工作台，也就是本次所说的双工作台。光束矫正器：矫正光束入射方向，让激光束尽量平行。能量控制器：控制最终照射到硅片上的能量，曝光不足或过足都会严重影响成像质量。光束形状设置：设置光束为圆型、环型等不同形状，不同的光束状态有不同的光学特性。遮光器：在不需要曝光的时候，阻止光束照射到硅片。能量探测器：检测光束最终入射能量是否符合曝光要求，并反馈给能量控制器进行调整。掩模版：一块在内部刻着线路设计图的玻璃板，贵的要数十万美元。掩膜台：承载掩模版运动的设备，运动控制精度是nm级的。物镜：物镜由20多块镜片组成，主要作用是把掩膜版上的电路图按比例缩小，再被激光映射的硅片上，并且物镜还要补偿各种光学误差。技术难度就在于物镜的设计难度大，精度的要求高。硅片：用硅晶制成的圆片。硅片有多种尺寸，尺寸越大，产率越高。题外话，由于硅片是圆的，所以需要在硅片上剪一个缺口来确认硅片的坐标系，根据缺口的形状不同分为两种，分别叫flat、notch。内部封闭框架、减振器：将工作台与外部环境隔离，保持水平，减少外界振动干扰，并维持稳定的温度、压力。

电子信息产业的更新换代速度不断加快，新技术、新工艺不断涌现，对光刻胶的需求不论是品种还是数量都大大增多。日本是光刻胶生产和应用最多的国家。根据日本富士经济株式会社的统计1，2011年全球光刻胶市场规模为4,736.40亿日元。电脑、手机、显示器等日常电子产品中都需要用到十几种光刻胶，光刻胶是发展微电子信息产业及光电产业中关键基础工艺材料之一。http://www.whchip.com/upload/201610/1477892797460052.jpg 光刻胶发明后，首先被运用于军事、国防设备中高性能集成电路、光学、传感、通讯器材等的加工制作，因此发达国家以前一直将光刻胶作为战略物资加以控制。1994年巴黎统筹委员会（对社会主义国家实行禁运和贸易限制的国际组织）解散前，光刻胶都被列为禁运产品。目前尽管放松了管制，但最尖端的光刻胶产品依然是发达国家管制对象。　 生产光刻胶的原料光引发剂、光增感剂、光致产酸剂和光刻胶树脂等专用化学品是体现光刻胶性能的最重要原料，和光刻胶一样长期以来被国外公司垄断。 我国对光刻胶及专用化学品的研究起步较晚，国家非常重视，从“六五计划”至今都一直将光刻胶列为国家高新技术计划、国家重大科技项目。尽管取得了一定成果，并有苏州瑞红电子化学品有限公司和北京科华微电子有限公司实现了部分品种半导体光刻胶的国产化，但技术水平仍与国际水平相差较大，作为原料的主要专用化学品仍然需要依赖进口。 目前中国需要的绝大部分光刻胶都依赖进口或由外资企业在中国设立的工厂提供。光刻胶作为印制电路板、LCD显示器、半导体的上游材料不能实现国产化，严重制约了我国微电子产业的发展。 光刻胶专用化学品化学结构特殊、保密性强、用量少、纯度要求高、生产工艺复杂、品质要求苛刻，生产、检测、评价设备投资大， 技术需要长期积累。至今光刻胶专用化学品仍主要被光刻胶生产大国日本、欧美的专业性公司所垄断。公司是国内少数从事光刻胶专用化学品研发、生产和销售的企 业之一，主营产品是光刻胶产业链的源头，是光刻胶的基础，属于国家鼓励、重点支持和优先发展的高新技术产品。公司光刻胶专用化学品的发展对于促进光刻胶的 国产化，提升我国微电子产业的自主配套能力具有重要意义。http://www.whchip.com/upload/201610/1477892838134263.jpg

光刻加工工艺中为了图形转移，辐照必须作用在光刻胶上，通过改变光刻胶材料的性质，使得在完成光刻工艺后，光刻版图形被复制在圆片的表面。而加工前，如何选用光刻胶在很大程度上已经决定了光刻的精度。尽管正性胶的分辨力是最好的，但实际应用中由于加工类型、加工要求、加工成本的考虑，需要对光刻胶进行合理的选择。 划分光刻胶的一个基本的类别是它的极性。光刻胶在曝光之后，被浸入显影溶液中。在显影过程中，正性光刻胶曝过光的区域溶解得要快得多。理想情况下，未曝光的区域保持不变。负性光刻胶正好相反，在显影剂中未曝光的区域将溶解，而曝光的区域被保留。正性胶的分辨力往往是最好的，因此在IC制造中的应用更为普及，但MEMS系统中，由于加工要求相对较低，光刻胶需求量大，负性胶仍有应用市场。　　光刻胶必须满足几个硬性指标要求：高灵敏度，高对比度，好的蚀刻阻抗性，高分辨力，易于处理，高纯度，长寿命周期，低溶解度，低成本和比较高的玻璃化转换温度（Tg）。主要的两个性能是灵敏度和分辨力。大多数光刻胶是无定向的聚合体。当温度高于玻璃化转换温度，聚合体中相当多的链条片以分子运动形式出现，因此呈粘性流动。当温度低于玻璃化转换温度，链条片段的分子运动停止，聚合体表现为玻璃而不是橡胶。当Tg低于室温，胶视为橡胶。当Tg高于室温，胶被视为玻璃。由于温度高于Tg时，聚合体流动容易，于是加热胶至它的玻璃转化温度一段时间进行退火处理，可达到更稳定的能量状态。在橡胶状态，溶剂可以容易从聚合体中去除，如软烘培胶工艺。但此时胶的工作环境需要格外关注，当软化胶温度大于Tg时，它容易除去溶剂，但也容易混入各种杂质。一般来说，结晶的聚合体不会用来作为胶，因为结晶片的构成阻止均一的各向同性的薄膜的形成。　　感光胶的主要成分是树脂或基体材料、感光化合物以及可控制光刻胶机械性能并使其保持液体状态的溶剂。树脂在曝光过程中改变分子结构。感光化合物控制树脂定相的化学反应速度。溶剂使得胶能在圆片上旋转擦敷并形成薄瞙。没有感光化合物的光刻胶称为单成分胶或单成分系统，有一种感光剂的情形下，称为二成分系统。因为溶剂和其他添加物不与胶的感光反应发生直接关系，它们不计入胶的成分。　　在曝光过程中，正性胶通过感光化学反应，切断树脂聚合体主链和从链之间的联系，达到削弱聚合体的目的，所以曝光后的光刻胶在随后显影处理中溶解度升高。曝光后的光刻胶溶解速度几乎是未曝光的光刻胶溶解速度的10倍。而负性胶，在感光反应过程中主链的随机十字链接更为紧密，并且从链下坠物增长，所以聚合体的溶解度降低。见正性胶在曝光区间显影，负性胶则相反。负性胶由于曝光区间得到保留，漫射形成的轮廓使显影后的图像为上宽下窄的图像，而正性胶相反，为下宽上窄的图像。微流控芯片刻蚀如何选择光刻胶呢？一般来说线宽的用正胶,线窄的用负胶! 相对而言，正性光刻胶比负性的精度要高，负胶显影后图形有涨缩，负性胶限制在2~3μm.，而正性胶的分辨力优于0.5μm 导致影响精度，正性胶则无这方面的影响。虽然使用更薄的胶层厚度可以改善负性胶的分辨率，但是薄负性胶会影响针孔。同种厚度的正负胶，在对于抗湿法和腐蚀性方面负胶更胜一筹，正胶难以企及。汶颢科技提供AZ、SU_8、及其他系类光刻胶的供应与技术参数。注意事项：①若腐蚀液为碱性，则不宜用正性光刻胶；②看光刻机型式,若是投影方式,用常规负胶时氮气环境可能会有些问题③负性胶价格成本低，正性胶较贵；④工艺方面：负性胶能很好地获得单根线，而正性胶可获得孤立的洞和槽；⑤健康方面：负性胶为有机溶液处理，不利于环境；正性胶属于水溶液，对健康、环境无害。

[b]微流控芯片光刻机[/b]专业为[b]微流控芯片制作[/b]而设计，用于[b]刻画制作微结构[/b]表面，全自动化和可编程操作，适合几乎所有常用材料。[b]微流控芯片光刻机[/b]采用多功能一体化设计理念，一台光刻机具有六个传统单一的表面刻划机器的功能，而且不需要无尘环境，用户安装使用不再需要单独建设超净间，从而大大提高用户的使用经济性和方便性。[b][url=http://www.f-lab.cn/microarray-manufacturing/lithography.html]微流控芯片光刻机[/url]特色[/b]可以根据用户的芯片衬底基片尺寸，形状和厚度进行调节。是一种无掩模光刻系统，具有两个易操作的软件，用户可以创建个人微结构图案，从单个微通道到复杂的微观结构都可以创建。具有技术突破性设计和灵活性优势，非常适合加工微纳结构用于MEMS，BioMEMS，微流控系统，传感器，光学元件，MicroPatterning微图案化，实验室单芯片，CMOS传感器和所有其他需要微结构的应用。[img=微流控芯片光刻机]http://www.f-lab.cn/Upload/photolithography-MS10.JPG[/img]无掩模光刻系统可以快速而轻松地做出许多种微图案结构，从最简单到非常复杂的都可以。它的写入磁头装备有一个激光二极管（波长405纳米- 50毫瓦），光学扫描器和F-θ透镜（405纳米）。激光束根据设定微结构图案而运动。为了方便使用，较好的再现性和较高的质量，焦距是可以根据基片厚度进行调节的。图像采集期间可以使用控制面板调节焦距。几个基片厚度都可以使用。编程参数被保存以供以后使用，修改或其他用户使用。[img=微流控芯片光刻机]http://www.f-lab.cn/Upload/microcontact-printing.JPG[/img]微流控芯片光刻机：[url]http://www.f-lab.cn/microarray-manufacturing/lithography.html[/url]

[color=#000000]国产电子束光刻机实现自主可控，是实现我国集成电路产业链自主可控的重要一环。近日，松山湖材料实验室精密仪器联合工程中心产业化项目研发再获新突破：项目团队成功研制出[b]电子束光刻系统[/b]，在全自主电子束光刻机整机的开发与产业化过程中取得阶段性进展，初步实现了电子束光刻机整机的自主可控，标志着[b]国产电子束光刻机研发与产业化迈出关键一步。[/b][/color][color=#000000]电子束光刻是利用聚焦电子束对某些高分子聚合物（电子束光刻胶）进行曝光并通过显影获得图形的过程，而产生聚焦电子束并让聚焦电子束按照设定的图形扫描的仪器就叫做电子束光刻机。它是推动我们当前新材料、前沿物理研究、半导体、微电子、光子、量子研究领域的重要手段之一。此前，全球电子束光刻机市场高度集中，主要由美日企业垄断，我国尚未掌握该领域核心技术，装备长期依赖进口。[/color][color=#000000]松山湖材料实验室精密仪器研发团队作为首批入驻实验室的团队之一，专注于材料和半导体领域的精密加工、表征和测量设备研发。团队负责人许智已从事相关研究近20年，参与承担多项国家重点研发计划专项工作及国家重大科研装备研制项目，近5年带领产业化团队研发的精密仪器成果转化填补多项国产空白，产值超亿元，产品出口美国、英国、德国、澳大利亚。[/color][color=#000000]为了研制具有自主知识产权的电子束光刻机整机，精密仪器研发团队在松山湖材料实验室完成一期项目研发并成立产业化公司后，带资回到实验室进入“滚动发展”模式：产业化公司东莞泽攸精密仪器有限公司与实验室共同投资2400万元进行第二阶段研发，目标是打造集科研与产业化为一体的电子束装备技术创新基地。通过深入开展电子束与新材料交叉领域的前沿技术研发，实现关键装备和共性技术的自主可控，切实提升我国在电子束加工与制备领域的整体创新能力和产业竞争力。[/color][color=#000000]目前，东莞泽攸精密仪器有限公司已基于自主研制的扫描电镜主机，完成电子束光刻机工程样机研制，并开展功能验证工作。通过对测试样片的曝光生产，可以绘制出高分辨率的复杂图形，朝着行业先进水平稳步前进。该成果标志着泽攸科技在电子束光刻机关键技术和整机方面的自主创新能力获得重大提升。下一步，团队及产业化公司将持续完善电子束光刻机的性能指标，使其达到批量应用及产业化的要求。[/color][来源：松山湖材料实验室][align=right][/align]

[color=#222222]光刻掩膜设计与加工制造服务，请问可以加工二元光学器件吗？相位型光栅那种.[/color]

请教 光刻胶中重金属检测方法（国标或者行业标准有没有）

各位老师，同学。文献介绍说金属粉末颗粒分散在photo-resist solution AZ135O中，80℃+5h的加加热条件，然后凝结，光刻胶可以包裹颗粒。用于制备微米级粉末的TEM试样。在网上查了一下，紫外光刻胶，说AZ系列是国外的，所以请问各位，为了实现我的目的，是否有同类型的国产的紫外光刻胶可以代替AZ135O。谢谢

各位兄弟姐妹， 我们实验室买了一台紫外光刻机，但是没有买配的真空泵，我需要采购一台用来吸掩膜板和基片的吸气泵，请问买什么类型，多大力量的合适。有没有在用的告知一下效果？

2023年12月12日，应用材料公司（Applied Materials， Inc.）和牛尾公司（Ushio， Inc.）宣布建立战略合作伙伴关系，以加速将小芯片异构集成到3D封装中的行业路线图。两家公司正在联合向市场推出首款数字光刻系统，该系统专为人工智能（AI）计算时代所需的先进基板图案化而设计。快速增长的 AI 工作负载推动了对具有更强大功能的更大芯片的需求。随着 AI 的性能要求超过了传统的摩尔定律扩展，芯片制造商越来越多地采用异构集成（HI）技术，将多个小芯片组合在一个先进的封装中，以提供与单片芯片相似或更高的性能和带宽。该行业需要基于玻璃等新材料的更大封装基板，以实现极细间距的互连和卓越的电气和机械性能。应用材料公司和 Ushio 之间的战略合作伙伴关系将两家行业领导者聚集在一起，以加速这一转变。应用材料集团副总裁兼半导体产品事业部HI、ICAPS和外延总经理Sundar Ramamurthy博士表示：“应用材料公司的新型数字光刻技术（DLT）是首款直接满足客户先进基板线路图需求的图形化系统。“我们正在利用我们在大型基板加工方面无与伦比的专业知识、业界最广泛的HI技术组合以及深厚的研发资源，在高性能计算领域实现新一代创新。Ushio集团执行官兼光子学解决方案全球业务部总经理William F. Mackenzie表示：“Ushio在为封装应用构建光刻系统方面拥有20多年的经验，在全球交付了4000多种工具。通过这种新的合作伙伴关系，我们可以通过可扩展的制造生态系统和强大的现场服务基础设施加速DLT的采用，并扩大我们的产品组合，为包装技术快速发展的挑战提供更多解决方案。新的DLT系统是唯一能够实现先进基板应用所需分辨率的光刻技术，同时提供大批量生产所需的吞吐量水平。该系统能够形成小于 2 微米的线宽，可在任何基板上实现最高的小芯片架构面积密度，包括由玻璃或有机材料制成的晶圆或大型面板。DLT系统经过独特设计，可解决不可预测的基板翘曲问题并实现覆盖精度。生产系统已经交付给多个客户，并且已经在玻璃和其他先进的封装基板上展示了 2 微米图案化。应用材料公司开创了DLT系统背后的技术，并将与Ushio一起负责研发和定义可扩展的路线图，以实现1微米线宽及以上先进封装的持续创新。Ushio将利用其成熟的制造和面向客户的基础设施来加速DLT的采用。此次合作将共同为客户提供最广泛的光刻解决方案组合，用于先进封装应用。[来源：仪器信息网译] 未经授权不得转载[align=right][/align]

横向赛曼石墨炉原子吸收光谱法在紫外正型光刻胶中的应用摘 要：随着电子技术的飞速发展，对紫外正型光刻胶的质量提出了极高的要求。因为紫外正型光刻胶中钙、铬、铜、铁、钾、镁、钠、镍、铅、锌的存在将严重影响器件的成品率、可靠性和电化学性。因此建立准确、快速的分析方法有一定的意义。对于光刻胶中金属的检测方法，有电感耦合等离子体-质谱法（ICP-MS）、电感耦合等离子体发射光谱法（ICP-AES），但是这两种方法光刻胶都需要经过湿法消解或者干法灰化后才可以进样。湿法消解或者干法灰化容易引起易挥发元素的损失，同时存在容器污染，酸基体或者其他试剂的污染，本底较高等问题。本文提出了用石墨炉原子吸收法（GFAA）直接测定紫外正型光刻胶中十种金属元素的方法，本方法不经任何化学处理和富集，减少了中间过程，避免了样品被污染。详细描述了仪器最佳条件选择、控制空白，建立标准曲线、加标回收、测定检出限的方法。钙、铬、铜、铁、钾、镁、钠、镍、铅、锌的检出限分别为0.07ng/ml、0.03ng/ml、0.15ng/ml、0.15ng/ml、0.01ng/ml、0.03ng/ml、0.05ng/ml、0.36ng/ml、0.14ng/ml、0.02ng/ml。石墨炉原子吸收法（GFAA）需要选择合适的溶剂稀释光刻胶，考虑到试剂对光刻胶的溶解性，试剂本身空白值的大小等因素，我们最终选择丙二醇甲醚醋酸脂（PGMEA）做稀释剂，稀释样品后直接进样。关键字：紫外正型光刻胶、金属、石墨炉原子吸收绪 论：光刻胶(又称光致抗蚀剂)是指通过紫外光、准分子激光、电子束、离子束、X射线等光源的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料。主要用于集成电路和半导体分立器件的微细加工，同时在平板显示、LED、倒扣封装、磁头及精密传感器等制作过程中也有着广泛的应用。由于光刻胶具有光化学敏感性，可利用其进行光化学反应，将光刻胶涂覆在半导体、导体和绝缘体上，经曝光、显影后留下的部分对底层起保护作用，然后采用蚀刻剂进行蚀刻就可将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工的衬底上。因此光刻胶是微细加工技术中的关键性化工材料。随着集成电路（IC）存储容量的逐渐增大，存储器电池的蓄电量需要尽能的增大，因此氧化膜变得更薄，而紫外正型光刻胶中的碱金属杂质(Na、[/size

助：那位老师做过光刻胶的UV比？280/350nm下的吸光度比值，我这边配制极稀的溶液，溶剂没有吸收，但浓度稍有变化，平行测试结果就有很大差距，这是咋回事？

据商务部网站消息，3月27日，商务部部长王文涛在京会见来访的荷兰外贸与发展合作大臣范吕文，[b]双方重点就光刻机输华和加强半导体产业合作等议题深入交换意见。[/b]王文涛表示，今年是中荷建立开放务实的全面合作伙伴关系十周年。在两国领导人战略引领下，中荷经贸关系稳步发展。[b]中方赞赏荷方坚持自由贸易，视荷方为可信赖的经贸伙伴，希望荷方秉持契约精神，支持企业履行合同义务，确保光刻机贸易正常进行。[/b]要防止安全泛化，共同维护全球半导体产业链供应链稳定，推动双边经贸关系持续健康发展。范吕文表示，荷兰以贸易立国，主张自由贸易，高度重视对华经贸合作。[b]中国是荷兰最重要的经贸伙伴之一，荷兰愿继续做中国可靠的合作伙伴。[/b]荷兰出口管制不针对任何国家，所做决定基于独立自主的评估，并在安全可控前提下尽可能降低对全球半导体产业链供应链的影响。期待两国进一步拓展绿色转型、养老服务等领域合作。[来源：仪器信息网] 未经授权不得转载[align=right][/align]

[size=6][b][size=5][font=宋体]我要投稿摘[/font][font='Times New Roman','serif'] [/font][font=宋体]要：[/font][font='Times New Roman','serif'][/font][/size][/b][/size][size=4][font=宋体]随着电子技术的飞速发展，对紫外正型光刻胶的质量提出了极高的要求。因为紫外正型光刻胶中钙、铬、铜、铁、钾、镁、钠、镍、铅、锌的存在将严重影响器件的成品率、可靠性和电化学性[/font][/size][sup][size=4][font='Times New Roman','serif'][1][/font][/size][/sup][size=4][font=宋体]。因此建立准确、快速的分析方法有一定的意义。对于光刻胶中金属的检测方法，有电感耦合等离子体[/font][/size][size=4][font='Times New Roman','serif']-[/font][/size][size=4][font=宋体]质谱法（[/font][/size][size=4][font='Times New Roman','serif'][url=https://insevent.instrument.com.cn/t/yp][color=#3333ff]ICP-MS[/color][/url][/font][/size][size=4][font=宋体]）[/font][/size][sup][size=4][font='Times New Roman','serif'][2,3][/font][/size][/sup][size=4][font=宋体]、电感耦合等离子体发射光谱法（[/font][/size][size=4][font='Times New Roman','serif']ICP-AES[/font][/size][size=4][font=宋体]），但是这两种方法光刻胶都需要经过湿法消解或者干法灰化后才可以进样。湿法消解或者干法灰化容易引起易挥发元素的损失，同时存在容器污染，酸基体或者其他试剂的污染，本底较高等问题。本文提出了用石墨炉[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Wp][color=#3333ff]原子吸收[/color][/url]法（[/font][/size][size=4][font='Times New Roman','serif']GFAA[/font][/size][size=4][font=宋体]）直接测定紫外正型光刻胶中十种金属元素的方法，本方法不经任何化学处理和富集，减少了中间过程，避免了样品被污染。详细描述了仪器最佳条件选择、控制空白，建立标准曲线、加标回收、测定检出限的方法。钙、铬、铜、铁、钾、镁、钠、镍、铅、锌的检出限分别为[/font][/size][size=4][font='Times New Roman','serif']0.07ng/ml[/font][/size][size=4][font=宋体]、[/font][/size][size=4][font='Times New Roman','serif']0.03ng/ml[/font][/size][size=4][font=宋体]、[/font][/size][size=4][font='Times New Roman','serif']0.15ng/ml[/font][/size][size=4][font=宋体]、[/font][/size][size=4][font='Times New Roman','serif']0.15ng/ml[/font][/size][size=4][font=宋体]、[/font][/size][size=4][font='Times New Roman','serif']0.01ng/ml[/font][/size][size=4][font=宋体]、[/font][/size][size=4][font='Times New Roman','serif']0.03ng/ml[/font][/size][size=4][font=宋体]、[/font][/size][size=4][font='Times New Roman','serif']0.05ng/ml[/font][/size][size=4][font=宋体]、[/font][/size][size=4][font='Times New Roman','serif']0.36ng/ml[/font][/size][size=4][font=宋体]、[/font][/size][size=4][font='Times New Roman','serif']0.14ng/ml[/font][/size][size=4][font=宋体]、[/font][/size][size=4][font='Times New Roman','serif']0.02ng/ml[/font][/size][size=4][font=宋体]。[/font][/size][size=4][font='Times New Roman','serif'][/font][/size][size=4][font=宋体]石墨炉[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Wp][color=#3333ff]原子吸收[/color][/url]法（[/font][/size][size=4][font='Times New Roman','serif']GFAA[/font][/size][size=4][font=宋体]）需要选择合适的溶剂稀释光刻胶，考虑到试剂对光刻胶的溶解性，试剂本身空白值的大小等因素，我们最终选择丙二醇甲醚醋酸脂（[/font][/size][size=4][font='Times New Roman','serif']PGMEA[/font][/size][size=4][font=宋体]）做稀释剂，稀释样品后直接进样。[/font][/size][size=4][font='Times New Roman','serif'][/font][/size]

全能型颗粒图像测试设备——WINNER219全自动颗粒图像仪产品图片 济南微纳科技有限公司独家推出全自动颗粒图像仪——WINNER219。可以采用动态、静态两种测试模式针对1——5000微米范围内的颗粒进行粒径分布、形貌分布等参数检测。是颗粒测试领域的全能型设备。功能特点file:///C:\Users\ADMINI~1\AppData\Local\Temp\ksohtml\wps21AC.tmp.png 颗粒形貌的分析：对于球形度、圆形度、磨圆度、长径比、球度等行业专用的颗粒形貌参数的分析是其他颗粒测试设备所不具备的。值得一提的是，本产品软件中新增了对于颗粒圆形度（磨圆度）的计算模块，对颗粒圆形度的分析符合美国石油天然气标准：API_RP58。并且适合应用此图版的地质、磨料、石油天然气等行业规范，此计算模块为国内唯一，对于以上行业具有重要意义。file:///C:\Users\ADMINI~1\AppData\Local\Temp\ksohtml\wps21AD.tmp.png 动态、静态双模式测试：1. 静态模式时，可以获得最佳观测效果，清晰地看到样品的状态表面等。2. 动态模式时，颗粒样品不断快速通过样品窗，持续采集可获得大量样品数据，解决了以往图像仪测试代表性差的问题。如果选配我们的样品窗自清洗配件和在线版软件，甚至可以实现简易的在线检测。file:///C:\Users\ADMINI~1\AppData\Local\Temp\ksohtml\wps21AE.tmp.png 全自动控制系统：本设备采用高精度三轴控制机构，可自动控制平台移动和焦距调节，通过软件的人性化设置，可以实现：自定义路线采集、记忆多点采集、自动对焦、记忆对焦等功能。file:///C:\Users\ADMINI~1\AppData\Local\Temp\ksohtml\wps21AF.tmp.png 主机系统内置：富士康微型主机内置，独立操作环境避免冲突易维护。设备参数file:///C:\Users\ADMINI~1\AppData\Local\Temp\ksohtml\wps21B0.tmp.png 外形尺寸file:///C:\Users\ADMINI~1\AppData\Local\Temp\ksohtml\wps21B1.tmp.png 重量：20KGfile:///C:\Users\ADMINI~1\AppData\Local\Temp\ksohtml\wps21B2.tmp.png 光学组件1. 物镜组：韩国产4X、10X、40X、100X（油）长距消色差（平场）物镜组，可选：奥林巴斯组件2. 目镜组：1X、10X大视野摄像目镜3. 场镜：带抗畸变场镜以减轻边缘畸变并加大景深4. 倍率范围：4倍——16000倍（含数码放大倍率）5. 光学照明：可调式LED照明器。可选工业高亮度LED点式照明器file:///C:\Users\ADMINI~1\AppData\Local\Temp\ksohtml\wps21C3.tmp.png 运动组件1. 移动平台：二维电动平移台，有效行程60MM×60MM。带霍尔磁性感应器。可选：有效行程100mm×100mm2. 对焦机构：电动对焦系统，有效行程50mm。3. 电机参数：高精密式步进电机，微动细分最高可达1微米。4. 驱动模块：内置式RS232驱动端口，可用USB控制。file:///C:\Users\ADMINI~1\AppData\Local\Temp\ksohtml\wps21C4.tmp.png 图像设备1. 成像元件：1/1.8英寸 progress scan CMOS 可选：1英寸或1/2英寸CCD芯片2. 像素数：310万 可选：最高可选800万像素3. 最高分辨率：2048×1536 可选：最高可获得3264*24484. 帧率：6fps@2048×1536 / 10fps@1600×1200 / 15fps@1280×1024 / 30fps@640×480file:///C:\Users\ADMINI~1\AppData\Local\Temp\ksohtml\wps21C5.tmp.png 内置系统1. CPU：AMD低功耗CPU2. 内存：4G3. 硬盘：500G4. 操作系统：WIN7file:///C:\Users\ADMINI~1\AppData\Local\Temp\ksohtml\wps21C6.tmp.png 软件功能1. 任务管理机制：按照任务进行管理，保证资料管理井井有条。2. 视像采集：随时进行视频和图片的采集，保留需要的视像资料。3. 测量：可以进行长度、圆周、多边形、角度等多种测量操作。4. 图片拼接模式：采用此模式，可将采集的图片拼接为一整副大图。5. 图片批处理模式：采用此模式，可边采集边处理，不受内存限制，通过处理海量图片获得更加准确的数据。6. 颗粒自动处理工具集：自动消除颗粒粘连、自动消除杂点、自动消除边界不完整颗粒、自动填补颗粒的空心区域、自动平滑颗粒边缘等12项自动处理工具7. 静态处理模式：选择此模式，适用于处理静态样品。8. 动态处理模式：选择此模式，适用于处理动态流动的样品。9. 平台自由运动模式：选择此模式，可使用按钮自由控制平台移动10. 平台编程运动模式：选择此模式，可预设平台的移动轨迹，一般适用于定点扫描或者蛇形扫描等特定模式。11. 平台记忆模式：可设置10个记忆点，可随时回到记忆点。12. 自动对焦：软件可根据焦平面的清晰程度自动选择合适的对焦点。13. 记忆对焦：如果每次都观察高度相同的样品，则可记忆上次的对焦位置，最简便快捷的对焦方式（例如每次都观察静态玻片）file:///C:\Users\ADMINI~1\AppData\Local\Temp\ksohtml\wps21C7.tmp.png 输出参数1. 单个颗粒数据：面积等效直径、周长等效直径、马丁径、周长、投影面积、颗粒长、颗粒宽、表面积估算值、体积估算值、X切线、Y切线、切线径、球型度长径比2. 统计平均径：Xnl、Xns、Xnv、Xls、Xlv、Xsv等常用统计平均径3. 粒径分布：颗粒粒径的分布图表4. 球形度分布：颗粒球形度分布的图表5. 长径比分布：颗粒长径比分布的图表。6. 圆度分布：颗粒圆度（磨圆度）分布的图表7. 原始图片/缩略图：可以将带有测量数据信息的图片保存，便于发表论文等。file:///C:\Users\ADMINI~1\AppData\Local\Temp\ksohtml\wps21C8.tmp.png 备选配件1. 动态测试组件：拆下运动平台后可安装动态测试组件，自带循环水路，形成一个简易的动态颗粒图像分析系统，可以实现对样品的动态测试。2. 自清洗样品窗：选配动态测试组件时可以选择此备件3. 在线软件系统：选配动态测试组件时可以选择此备件，能够自动生成阶段性的分布规律图表并可设定超标报警等功能。测试实例1. 静态测试示例2. 动态测试实例：在附件中，请登录网站或致电获取更多测试视频。售后承诺1， 一月内达不到用户使用要求可退换货。2， 一年内免费上门保修，维修或更换零件均不收任何费用。3， 提供10年内上门保修、维护、调试、培训等服务。4， 同型号产品软件终生免费升级。

在工业生产过程当中，自动化检测设备即机器视觉，相对人眼辨认占有很大上风。机器视觉具备自动化、主观、非接触和高精度等特色。在反复和机器性的工作中具备较大的利用代价。 深圳市思普泰克科技有限公司从以下面几个方面为您详细介绍自动化检测设备该如何保养。1、设备安装使用环境应在常温室温下，高温、潮湿、有酸碱性的环境中使用会影响视觉检测设备的寿命和生产效率。2、工厂要设置专业技术人员对视觉检测设备进行管理，不要让非专业人士对镜头任意调动，免得影响检测精度。 3、对设备进行清理时需要注意不要使用钢丝刷等对机械表面有损的工具，不能使用酸性溶液而和袋腐蚀性的塑料工具。 4、设备需要定期清理灰尘，镜头要用无尘布定期擦拭。定期给各个部件上防锈油以免生锈。

作者：泛林集团 Semiverse Solutions 部门软件应用工程师 Pradeep Nanja介绍半导体行业一直专注于使用先进的刻蚀设备和技术来实现图形的微缩与先进技术的开发。随着半导体器件尺寸缩减、工艺复杂程度提升，制造工艺中刻蚀工艺波动的影响将变得明显。刻蚀终点探测用于确定刻蚀工艺是否完成、且没有剩余材料可供刻蚀。这类终点探测有助于最大限度地减少刻蚀速率波动的影响。刻蚀终点探测需要在刻蚀工艺中进行传感器和计量学测量。当出现特定的传感器测量结果或阈值时，可指示刻蚀设备停止刻蚀操作。如果已无材料可供刻蚀，底层材料（甚至整个器件或晶圆）就会遭受损坏，从而极大影响良率[1]，因此可靠的终点探测在刻蚀工艺中十分重要。半导体行业需要可以在刻蚀工艺中为工艺监测和控制提供关键信息的测量设备。目前，为了提升良率，晶圆刻蚀工艺使用独立测量设备和原位（内置）传感器测量。相比独立测量，原位测量可对刻蚀相关工艺（如刻蚀终点探测）进行实时监测和控制。使用 SEMulator3D工艺步骤进行刻蚀终点探测通过构建一系列包含虚拟刻蚀步骤、变量、流程和循环的“虚拟”工艺，可使用 SEMulator3D 模拟原位刻蚀终点探测。流程循环用于在固定时间内重复工艺步骤，加强工艺流程控制（如自动工艺控制）的灵活性[2]。为模拟控制流程，可使用 "For Loop" 或 "Until Loop"（就像计算机编程）设置一定数量的循环。在刻蚀终点探测中，可使用 "Until Loop"，因为它满足“已无材料可供刻蚀”的条件。在循环中，用户可以在循环索引的帮助下确认完成的循环数量。此外，SEMulator3D 能进行“虚拟测量”，帮助追踪并实时更新刻蚀工艺循环中的材料厚度。通过结合虚拟测量薄膜厚度估测和流程循环索引，用户可以在每个循环后准确获取原位材料刻蚀深度的测量结果。用 SEMulator3D 模拟刻蚀终点探测的示例初始设定在一个简单示例中，我们的布局图像显示处于密集区的四个鳍片和密集区右侧的隔离区（见图1）。我们想测量隔离区的材料完成刻蚀时密集区的刻蚀深度。我们将用于建模的区域用蓝框显示，其中有四个鳍片（红色显示）需要制造。此外，我们框出了黄色和绿色的测量区域，将在其中分别测量隔离区的薄膜厚度 (MEA_ISO_FT) 和沟槽区的刻蚀深度 (MEA_TRENCH_FT)。工艺流程的第一步是使用 20nm 厚的硅晶体层（红色）、30nm 的氧化物（浅蓝色）和 10nm 的光刻胶（紫色）进行晶圆设定（图2）。我们曝光鳍片图形，并对使用基本模型刻蚀对光刻胶进行刻蚀，使用特定等离子体角度分布的可视性刻蚀对氧化物材料进行刻蚀。氧化物对光刻胶的选择比是100比1。我们在 SEMulator3D 中使用可视性刻蚀模型来观察隔离区和有鳍片的密集区之间是否有厚度上的差异。[img]https://img1.17img.cn/17img/images/202401/uepic/a41bec0f-535e-420a-8a19-ed4282cd5c66.jpg[/img]图1：模型边界区域（蓝色），其中包含四个鳍片（红色）和用于测量隔离区（黄色）和沟槽区（绿色）薄膜厚度的两个测量区域[img]https://img1.17img.cn/17img/images/202401/uepic/630f2367-a619-4bc9-8608-09c532bef68f.jpg[/img]图2：SEMulator3D 模型，硅晶体（红色）、氧化物（浅蓝色）和在光刻胶中显影的四个鳍片（紫色）SEMulator3D 刻蚀终点探测循环SEMulator3D 的工艺流程使用 Until Loop 循环流程。我们将测量隔离区的材料厚度，并在隔离氧化物薄膜耗尽、即厚度为0时 (MEA_ISO_FT==0) 停止该工艺。在这个循环中，每个循环我们每隔 1nm 对氧化物材料进行1秒的刻蚀，并同时测量此时隔离区氧化物薄膜厚度。此外，我们将在每次循环后追踪两个鳍片间沟槽区的刻蚀深度。这个循环索引有助于追踪刻蚀循环的重复次数（图3）。[img]https://img1.17img.cn/17img/images/202401/uepic/5041079a-7da3-459f-907c-f62f1b6ac8c1.jpg[/img]图3：SEMulator3D 刻蚀终点探测模拟中的循环流程结果对隔离薄膜进行刻蚀，直至其剩余 20nm、10nm 和 0nm 深度的模拟结果如图4所示。模型中计算出隔离薄膜厚度的测量结果，以及两个鳍片间沟槽区的刻蚀深度。[img]https://img1.17img.cn/17img/images/202401/uepic/b5d9d13c-68e2-4389-80d1-b974c07afe99.jpg[/img]图4：隔离区薄膜厚度剩余 20nm、10nm 和 0nm 的工艺模拟流程，及相应从光刻胶底部开始的沟槽刻蚀深度我们对循环模型进行近30次重复后，观察到隔离区的薄膜厚度已经达到0，并能追踪到沟槽区氧化物的刻蚀深度（当隔离区被完全刻蚀时，密集区 30nm 的氧化物已被刻蚀 28.4nm）。结论SEMulator3D 可用来创建刻蚀终点探测工艺的虚拟模型。这项技术可用来确定哪些材料在刻蚀工艺中被完全去除，也可测量刻蚀后剩下的材料（取决于刻蚀类型）。使用这一方法可成功模拟原位刻蚀深度控制。使用类似方法，也可以进行其他类型的自动工艺控制，例如深度反应离子刻蚀 (DRIE) 或高密度等离子体化学[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp][color=#3333ff]气相[/color][/url]沉积 (HDP-CVD) 工艺控制。参考资料：[1] Derbyshire, Katherine. In Situ Metrology for Real-Time Process Control, Semiconductor Online, 10 July 1998, https://www.semiconductoronline.com/doc/in-situ-metrology-for-real-time-process-contr-0001.[2] SEMulator3D V10 Documentation: Sequences, Loops, Variables, etc.[来源：大半导体产业网][align=right][/align]

[b]职位名称：[/b]电气工程师[b]职位描述/要求：[/b]岗位职责：1、负责项目的电气设计任务，包括项目硬件设计、编制电气接线原理图、电气部件选型等；2、负责项目的PLC和组态软件等的编程和调试等工作；3、负责设备电气部分的安装调试指导工作，编制安装调试作业指导书；4、负责项目的测试或试运行，参与新产品或新项目的安装调试工作，配合成品检验工作；5、负责对项目的售前或售后问题进行技术支持和服务；6、完成上级领导交办的其他工作。任职要求：1、自动化、机电一体化、电气自动化等相关专业本科及以上学历；2、3年以上相关工作经验，具有良好的组织能力、沟通能力、协调能力，较强的现场管理能力，责任心强；3、具有根据电气图纸、工艺要求，独立编写完成设备程序的能力；4、熟悉主流PLC和组态软件，能独立完成PLC的编程和调试工作；5、熟练掌握西门子系统PLC编程及调试；熟悉电气自动化仪表设备的控制线路；熟悉仪表及常规PLC，变频器，触摸屏的应用； 6、独立性强，吃苦耐劳，可适应不定期出差安排；7、条件优秀者，薪资可面议。[b]公司介绍：[/b] 维恩科仪（北京）机械自动化设备有限公司，作为工业自动化和清洁能源循环经济领域内的创新型高新技术企业，专注于提供高品质清洁能源系统工程、环境在线监测系统以及工业过程监测控制产品与系统解决方案。维恩科仪以客户关注的焦点视为自己的目标，以客户的需求为发展的最大动力，力求协助每一位客户创造最大的价值。我们拥有一支热诚和富有朝气的团队，具备专业的系统分析，集成与研发能力。...[url=https://www.instrument.com.cn/job/user/job/position/76460]查看全部[/url]

准备购置一套全自动固相萃取设备，主要做农残前处理用，有哪位版友用过，介绍下，哪家的好些。有睿科、艾杰尔、莱伯泰科、杰尔森等品牌的。谢谢！

多功能全自动器皿清洗机是对实验室、医院病房、及牙科诊所中所使用的玻璃器皿、容器、废液收集瓶进行清洗、消毒的设备。[font=&]主要特点1、本设备是清洗玻璃器皿的专用设备。主要通过洗涤剂冲洗、超声波清洗、纯水冲洗、烘干等工艺对器皿进行彻底清洗、消毒、干燥。自动化程度高，清洗效果好。2、操作者需要按照使用说明书将待洗工件放入相应的位置，输入洗涤参数，加入适量的洗涤剂或消毒液，设备则按照设定的程序进行清洗。3、清洗干净的器皿内、外表面可达“三无”标准，即无水垢、无洗涤液残留、无菌。4、清洗槽保温结构有利于减小噪声，可最大程度的减小热量损失，降低能源成本。5、彩色液晶屏显示，触摸屏操作。根据清洗对象需要，工作过程参数可以自定义设置。6、洗涤液采用生活用洗涤剂，对操作者无任何伤害，洗涤排水符合生活污水排放标准。7、该设备在市水管路连通的前提下自动制纯水，纯水箱达到上液位时自动停止。[/font][font=&]得利特涉及[/font][font=&]铜片腐蚀测定仪、辛烷值测定仪、冷滤点测定仪、饱和蒸气压测定仪、硫氮测定仪、实际胶质测定仪、石油烃类测定仪、冰点测定仪[/font][font=&]多种燃料油分析仪器、绝缘油分析仪器（油液污染度检测仪、酸值测定仪、微量水分测定仪、凝点倾点测定仪、体积电阻率测定仪、介电强度测定仪、介质损耗测定仪、水溶性酸测定仪）、润滑油分析仪器 （液相锈蚀测定仪、抗乳化测定仪、泡沫特性测定仪、空气释放值测定仪、氧化安定性测定仪、密度测定仪、自燃点测定仪、氯含量测定仪、微量残炭测定仪、表观粘度测定仪、机械杂质测定仪）,水质分析检测仪器、气体检测仪器，型号多，质量保证，可定制。[/font]

问题：您好，现想咨询以下问题： 1、中国环境监测总站在2010年08月发布的《污染源自动监测设备比对监测技术规定（试行）》是否仍现行？ 2、《污染源自动监测设备比对监测技术规定（试行）》（2010）中的”5.1 比对监测内容“，是否即《水污染源在线监测系统（CODCr、NH3-N 等）运行技术规范》（HJ355-2019）中的”8.2.2 实际水样比对试验“？ 3、在线监控的运行，广东省内除了需执行《水污染源在线监测系统（CODCr、NH3-N 等）运行技术规范》（HJ355-2019）外，是否还有其他相关的政策文件或地方标准需执行？ 望回复为盼！ 谢谢！回复：您好！1.《污染源自动监测设备比对监测技术规定（试行）》目前暂未废止，但建议以最新的《水污染源在线监测系统（CODCr、NH3-N 等）运行技术规范》（HJ355-2019）、《固定污染源烟气（SO2、NOx、颗粒物）排放连续监测技术规范》（HJ 75-2017）、《固定污染源烟气(S0,、NO、颗粒物)排放连续监测系统技术要求及检测方法》（HJ 76-2017）为准。 2.《污染源自动监测设备比对监测技术规定（试行）》（2010）中的“5.1 比对监测内容”涉及的实际水样比对试验与《水污染源在线监测系统（CODCr、NH3-N 等）运行技术规范》（HJ355-2019）中的”8.2.2 实际水样比对试验“一样。 3.在线监控的运行，广东省内除了需执行《水污染源在线监测系统（CODCr、NH3-N 等）运行技术规范》（HJ355-2019）外，还应遵循《关于做好重点单位自动监控安装联网相关工作的通知》（环办执法函〔2021〕484号）、《关于发布《污染物排放自动监测设备标记规则》的公告》（公告 2022年 第21号）、《广东省生态环境厅办公室转发关于做好重点单位自动监控安装联网相关工作的通知》（粤环办函〔2021〕94 号）、《污染源在线监控（监测）系统数据传输标准（HJ 212-2017）》等政策文件及技术规范要求，如涉及烟气，还应遵循《固定污染源烟气（SO2、NOx、颗粒物）排放连续监测技术规范》（HJ 75-2017）、《固定污染源烟气(S0,、NO、颗粒物)排放连续监测系统技术要求及检测方法》（HJ 76-2017）等技术规范。

[b]职位名称：[/b]声学产品和算法开发工程师[b]职位描述/要求：[/b]岗位职责：1. 负责做声学检测设备技术和算法开发。任职要求：1.统招全日制硕士及以上学历，物理声学相关专业，统招全日制博士优先考虑；2.有1-3年声学检测设备技术和算法开发工作经验者优先考虑，优秀的应届毕业生也可以考虑；3.具有较强的创新能力，有创新意识来改进工作；4.具有较强的逻辑思维能力；具有较强的自我学习能力；5.娴熟的英文听说读写能力；6.招聘广告中的薪酬范围是参考范围，条件优秀者薪资可面议。[b]公司介绍：[/b] 维恩科仪（北京）机械自动化设备有限公司，作为工业自动化和清洁能源循环经济领域内的创新型高新技术企业，专注于提供高品质清洁能源系统工程、环境在线监测系统以及工业过程监测控制产品与系统解决方案。维恩科仪以客户关注的焦点视为自己的目标，以客户的需求为发展的最大动力，力求协助每一位客户创造最大的价值。我们拥有一支热诚和富有朝气的团队，具备专业的系统分析，集成与研发能力。...[url=https://www.instrument.com.cn/job/user/job/position/76064]查看全部[/url]

成功研发出适用于大型OLED的全自动清洗设备国内陆续上OLED生产线，而国外生产设备却垄断国内市场，因此研发性能稳定，质量可靠并且价格合理的生产设备，是目前国内设备厂家的首要任务。华林科纳凭借自身优秀的研发团队和优越的研发环境，在华林科纳常务总经理、技术总监杨辉（现中科院苏州纳米所所长），技术副总张宝顺（研究员）的带领下， 在经历了近半年的辛勤奋战，终于成功研发出适用于大型OLED的全自动清洗设备，其配套工艺已在国内某OLED工厂得到肯定。此设备填补了国内空白。 玻璃基板尺寸可达：1900 mm× 2200 mm，厚度为0.3—1.1 mm； 具有封闭的工作腔。配备排风系统，避免所用药液挥发对使用人员和环境造成危害。

[b]职位名称：[/b]项目助理[b]职位描述/要求：[/b]岗位职责：1. 主要负责公司项目管理系统的使用和维护。通过系统对公司项目制定计划，安排人员，并定期和工程师沟通，跟进项目和工作执行情况； 2. 配合项目经理进行项目执行的相关工作，如客户沟通、安排发货等；3. 协助项目经理进行项目的验收、催款工作；4. 完成项目资料的编制、整理及存档；5. 完成领导交予的其他工作。任职要求：1. 大学本科以上学历，2年以上相关工作经验，工科或项目管理专业优先考虑；2. 对项目管理知识体系有全面的理解和掌握，了解敏捷项目管理知识优先考虑；3. 有电气、系统集成、仪器仪表自动化知识或背景的优先考虑；4. 具有一定的文字能力、方案撰写能力；5. 有强烈的团队合作精神，善于沟通，抗压能力强，有独立解决问题的能力； 6. 条件优秀者，薪资可面议。[b]公司介绍：[/b] 维恩科仪（北京）机械自动化设备有限公司，作为工业自动化和清洁能源循环经济领域内的创新型高新技术企业，专注于提供高品质清洁能源系统工程、环境在线监测系统以及工业过程监测控制产品与系统解决方案。维恩科仪以客户关注的焦点视为自己的目标，以客户的需求为发展的最大动力，力求协助每一位客户创造最大的价值。我们拥有一支热诚和富有朝气的团队，具备专业的系统分析，集成与研发能力。...[url=https://www.instrument.com.cn/job/user/job/position/76551]查看全部[/url]