全自动镀膜仪

Q150R PLUS 系列全自动真空镀膜仪Q150R Plus适用于钨灯丝/LaB6/部分场发射和台式SEM。通过Q150R E＆ES Plus碳绳镀膜可用于元素分析，Q150R S＆ES Plus可用贵金属靶材溅射镀膜。推荐放大倍数：? Au、Au/Pd可达5万倍? Pt（可选）可达10万倍推荐应用：? 中低倍放大倍数观察? 增强二次电子信号（1nm或更小）? 台式SEM镀膜? 元素分析（EDS）? 敷铜层研究Q150R Plus 功能特点：1）全新升级的用户界面：? 电容式触摸屏，灵敏度高，更易触控使用? 用户界面软件全面更新，使用现代智能技术界面? 全面的文字帮助页面? USB接口可轻松进行软件更新和数据备份? log文件格式为.csv，内含日期、时间和工作参数，导出后可在Excel或类似软件中分析? 16GB的闪存可储存超过1000条镀膜方案? 双核ARM处理器，可实现快速响应的显示2）允许多用户输入和储存镀膜方案，并根据近期的使用来排列每个用户的方案。3）智能逻辑系统自动识别插入头，并显示相应的操作设置和控制。4）系统提示用户确认靶材，然后自动为该材料选择合适参数。5）直观方便的软件，即使新手也能快速输入和存储其处理参数，创建自己的镀膜程序，且系统已存储典型的溅射和镀碳程序可供直接调用。6）如果软件检测到在一段时间内无法达到设定真空度，系统会终止程序，以防真空泵过热。7）可互换的插入头：允许用户将系统配置为溅射镀膜仪、蒸镀仪或辉光放电系统 - 所有这些系统都可集成在一个设备中，节省空间。可选碳绳蒸发。可自动检测识别插入头类型。8）可拆卸腔室，设有防爆罩：可拆卸玻璃腔室，易清洁底座和顶板。如需要，用户可快速更换腔室以避免敏感样品交叉污染。高腔室选项可用于碳蒸发，避免样品过热；提高溅射的均匀性和承载较高尺寸的样品。9）多种样品台可选：Q150R Plus具有可满足大多数要求的样品台。所有样品台都是插入式（无螺丝），易于更换。10）安全性：Q150R Plus符合行业CE标准Q150R Plus系列镀膜仪具有三种型号：1）Q150R S Plus全自动溅射镀膜仪，可溅射不氧化金属。可溅射的靶材包括金、金/钯合金和铂。2）Q150R E Plus全自动碳绳蒸镀仪，适合SEM领域的EDS和WDS应用。3）Q150R ES Plus集成了离子溅射和碳蒸镀两种方式的全自动镀膜系统。镀膜头可在数秒内更换。Q150R Plus是Quorum Technologies出品的国际认可的Q系列镀膜仪的一部分，全球数千家客户使用此类镀膜仪。Q系列旨在为SEM、TEM和薄膜应用提供高质量的镀膜解决方案，Q系列功能多样、价格合理且易于使用。Q150R Plus主要操作参数：离子溅射：溅射电流范围宽，至预设厚度（需选用FTM）终止或定时终止。超长的可设溅射时间，无需破真空，自动内置冷却占空比。蒸镀：稳定的无杂波直流电源控制的脉冲蒸发，确保碳绳蒸镀的重复性。脉冲蒸发电流范围宽。可视化状态指示：大而多色的LED指示灯，使用户在一定距离就可轻松识别过程状态。指示灯可显示以下状态：◆ 初始化中 ◆ 程序运行◆ 空闲状态 ◆ 正在镀膜◆ 程序完成 ◆ 故障停机状态程序完成后音频声音提示覃思科技是英国QUORUM仪器中国区代理商和服务商，更多仪器信息请访问 精研覃思，无微不至，欢迎新老客户来电来函咨询选购！

三靶大面积溅射系统之高分辨涡轮泵版本，CPU程序全自动控制，触膜屏用户界面，标配有挡板和靶材预清洁程序，既适合贵金属、也适合易氧化金属等多种靶材镀膜。 Q300T T镀膜仪是为薄膜应用而设计的多功能离子溅射镀膜仪，也是钨灯丝和场发射电镜观察之大样品制备的理想镀膜仪。为了确保精细沉积，Q300系列镀膜仪设有旋转样品台和三只相同的磁控靶组件，这也将提高采用低电压溅射的工作效率。该系统之高分辨涡轮泵版本Q300T T镀膜仪标配有挡板，作用是在保持真空条件下使易氧化金属靶材先进行清洁处理，然后再执行镀膜循环。所以，它既适合使用不氧化的贵金属如金（Au）、铂（Pt）等靶材镀膜，也适合易氧化金属如铬（Cr）、铝（Al）、钛（Ti）、锌（Zn）或氧化铟锡（ITO）、铱（Ir）等多种靶材镀膜。 和极其成功的Q150系列溅射仪、蒸镀仪一样，Q300T T型镀膜仪装在一个符合人机工程学设计的、坚固的整体成型机箱中，并且集成有触摸屏控制，对有经验的熟手和第一次使用的用户都适合的简单操作，从而可提供卓越的镀膜质量。 主要特点： &bull Large format chamber.The Q300T T sputter coaters incorporate a 300mm x 127mm work chamber and the sample stage accepts substrates up to 8&rdquo in diameter. An extended height glass chamber is available as an option to enable coating of larger format samples.大腔室。Q300T T型溅射镀膜仪设有尺寸为300mm x 127mm的工作腔室和适用于最大直径达8&rdquo 样品的样品台。可选配加长高腔室，以便于大且高的样品镀膜。 &bull Triple sputter head 三靶大面积溅射 &bull High resolution turbo pumped system高分辨涡轮泵版本；抽速5 m3/hr的涡卷泵或隔膜泵(隔膜泵仅用于Q300T T)可很好地替代普通的前级旋转机械泵，适合于无油或无尘室环境质量要求高的抽真空场合。 &bull Fully automated touch screen control 全自动触摸屏控制 &bull Coater logging option 镀膜仪日志（选项） &bull Customer defined coating protocols 用户自定义镀膜方案 &bull Film thickness monitor option 膜厚监控（选项），可通过腔室内的晶振片装置测量镀膜厚度，也可预设厚度去控制材料沉积在样品上的膜厚度，达到需要的镀膜厚度时，镀膜仪可自动停止镀膜 &bull Vacuum shutdown 真空闭锁功能 &bull Emergency stop switch 紧急停止开关

全自动四腔超高真空双倾角镀膜系统 QBT-J 约瑟夫森结超高压系统 全自动四腔超高真空双倾角镀膜系统专专业制备约瑟夫森结制备，可精确生长所需的金属层和氧化绝缘层，确保高性能制备及高成品率；此镀膜仪有进样室、氩离子清洗室、电子束蒸 发室以及氧化室，共计四个高真空腔室，腔室间使用传样杆进行高真空传样，传递模组须采用抓取式设计；设备所有工艺均支持4英寸及以内的晶圆或不规则样品。设备整个工艺过程，可以完全按照用户设置的参数自动化运行，工艺流程包括并不限于：抽真空，监测气压，离子清洗，样品位置调节、传样，加热，电子束蒸发特 定厚度设置，自动调整气压等。技术参数QBT-J 技术参数 Technical Specifications (双倾角约瑟夫森结制备）超高真空腔体 UHV Chamber4个UHV Chamber,包括Loadlock/Aneal, Ion Milling, Ebeam-Evaporation, Oxidation, 极限真空Ultimate Pressure1E-9Torr基板加热 Wafer HeatingRT-900℃离子束清洗 Ion Milling考夫曼离子源, Ion Energy 100-600eV, 100-1200eV, Ion Beam Current:20-200mA, Ф100基板刻蚀均一性3%电子束蒸发 Ebeam EvaporationUHV 5 Linear Pocket Ebeam Evaporation Source, 8KW Power Supply氧化 OxidationFlow and Static Mode Oxidation基板操控能力 Wafer Tilt and Rotation可实现180度倾斜及360度旋转，0.1度的精准控制基板传输 Wafer Transfer高度可靠和可重复的基板传输能力人机界面 HMI全自动化人机操作界面安全Safety工业标准安全互锁Industry Safety Interlock，报警Alarm，EMO

仪器简介： 英国Q150GB涡轮泵高真空、模块化镀膜系统，自动程序控制，傻瓜相机式的简单操作。其镀膜单元可置于各种手套箱内，外置触摸屏用户界面、电源单元和前级机械泵。可监测手套箱压力。该系统不同的配置可以实现离子溅射镀膜、碳蒸发/金属蒸发镀膜或溅射蒸发二者兼有之功能，可用于SEM、TEM及薄膜样品镀膜，也常用于锂电池科研等需要在手套箱内镀膜的样品。 技术参数： 技术规格 仪器尺寸:267mm W x 490mm D x 494mm H 总重量:40公斤 工作腔室:硼硅酸盐玻璃152mmDia (内部) x 214mm H 安全钟罩:整体PET 样品台：直径为50mm的旋转样品台。转速8-20 rpm 真空范围: 10-5 mbar量级 溅射可选靶材：Au金、Au/Pd金钯合金、Pt铂、Pt/Pd铂钯合金、Ag银、Al铝、C碳、Cr铬等 蒸发源：可选用碳棒进行热蒸发镀碳，也可使用钨丝篮或钨舟/钼舟进行热蒸发镀各种金属膜。 主要特点： &bull 可安装在手套箱内的模块化系统 &bull 整体手套箱压力监测 &bull 金属溅射、碳蒸发 – 或二者兼有 &bull 触摸屏控制模块置于手套箱外部操作 &bull 镀膜颗粒精细 &bull 高真空涡轮分子泵抽真空 &bull 可选通过膜厚监控仪实现厚度控制

GVC-5000镀金镀碳一体机(多功能镀膜仪)-配备磁控溅射逐渐和热蒸发镀膜组件，即可实现磁控溅射各种金属膜，也可实现热蒸发度碳膜。双组件共存，工作时只需将样品放置与对应的组件下方即可，无需更换组件，操作非常方便。GVC-5000镀金镀碳一体机(多功能镀膜仪)全自主知识产权1、双组件设计配备磁控溅射逐渐和热蒸发镀膜组件，即可实现磁控溅射各种金属膜，也可实现热蒸发度碳膜。双组件共存，工作时只需将样品放置与对应的组件下方即可，无需更换组件，操作非常方便。2、防污染挡板设计全自动防污染挡板，在磁控溅射模块工作时自动切换到镀碳组件，防止蒸发源收到污染，反之亦然。3、一键切换两种工作模式一键切换，每次开机自动进入上次关机的工作模式。4、全自动操作

GVC-5000T镀金镀碳一体机(高真空多功能镀膜仪)双组件设计、防污挡板设计、一键切换工作模式、镀膜效率高、颗粒度小、可镀所有金属膜和ITO导电膜。镀金镀碳一体机(高真空多功能镀膜仪)全自主知识产权1、双组件设计2、防污挡板设计3、一键切换工作模式4、镀膜效率高、颗粒度小5、可镀所有金属膜和ITO导电膜6、工作过程全自动7、软硬件互锁，安全可靠 靶材-ITO 靶材-镍 靶材-铜 靶材-银 靶材-钛 靶材-钼 靶材-钨 靶材-铬

样品进行扫描电镜观察前，通常需要对其表面镀一层金属膜，以便减少观察时产生的荷电，并增强二次电子或背散射电子信号，获得更好的信噪比。Leica EM ACE200是一款低真空镀膜仪，可以选择离子溅射镀金属膜或者碳丝蒸发镀碳膜功能，或者同时具有这两种功能。能够满足日常SEM需求，也可用于X-射线能谱及波谱分析，或者TEM铜网镀碳膜。全自动电脑控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等全过程，一键操作。采用当下非常流行的触摸屏控制，简单方便。主要技术参数： 可任选离子溅射模式、碳丝蒸发镀碳模式，或者双模式，可选辉光放电（用于网格表面亲水化） 专利设计脉冲式碳丝蒸发方式，可精确控制碳膜厚度 可选石英膜厚检测器，精确控制镀膜厚度，精度达0.1nm 全自动程序控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等过程 触摸屏控制，简单方便 真空度 7×10-3mbar 溅射电流：0-150mA可调 方形样品仓专利设计，样品仓尺寸：140mm（宽）×145mm（深）×150mm（高） 工作距离调节范围：30mm-100mm

产品简介样品进行扫描电镜观察前，通常需要对其表面镀一层金属膜，以便减少观察时产生的荷电，并增强二次电子或背散射电子信号，获得更好的信噪比。Leica EM ACE200是一款低真空镀膜仪，可以选择离子溅射镀金属膜或者碳丝蒸发镀碳膜功能，或者同时具有这两种功能。能够满足日常SEM需求，也可用于X-射线能谱及波谱分析，或者TEM铜网镀碳膜。全自动电脑控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等全过程，一键操作。采用当下非常流行的触摸屏控制，简单方便。技术参数 可任选离子溅射模式、碳丝蒸发镀碳模式，或者双模式，可选辉光放电（用于网格表面亲水化） 专利设计脉冲式碳丝蒸发方式，可精确控制碳膜厚度 可选石英膜厚检测器，精确控制镀膜厚度，精度达0.1nm 全自动程序控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等过程 触摸屏控制，简单方便 真空度-7×10-3mbar 溅射电流：0-150mA可调 方形样品仓专利设计，样品仓尺寸：140mm（宽）×145mm（深）×150mm（高） 工作距离调节范围：30mm-100mm

Leica EM ACE600 是一款高真空镀膜仪，真空泵采用隔膜泵和涡轮分子泵，无油真空系统，真空度可达2×10-6mbar。镀膜细腻均匀。内置石英膜厚检测器，可精确控制镀膜厚度。全自动电脑控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等全过程，一键操作。采用当下最流行的触摸屏控制，简单方便。仪器可选离子溅射镀金属膜，满足高分辨场发射扫描电镜（FESEM）需求。可选碳丝蒸发镀碳膜，用于X-射线能谱及波谱分析，或者TEM铜网镀碳膜。还可以选择电子束蒸发方式镀膜，获得极其细腻的金属膜与碳膜，可用于DNA投影等特殊用途。主要技术参数： 可任选离子溅射模式，碳丝蒸发镀碳模式，碳棒（热阻）蒸发模式，电子束蒸发模式，双溅射模式，溅射-碳丝模式，溅射-碳棒模式，溅射-电子束模式，双电子束模式，可兼容EM VCT100冷冻传输系统，可选辉光放电（用于网格表面亲水化） 专利设计脉冲式碳丝蒸发方式，可精确控制碳膜厚度 内置石英膜厚检测器，精确控制镀膜厚度，精度达0.1nm 全自动程序控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等过程 触摸屏控制，简单方便 采用隔膜泵+涡轮分子泵，无油真空系统，真空度 2×10-6mbar 溅射电流：0-150mA可调 方形样品仓专利设计，样品仓尺寸：200mm（宽）×150mm（深）×195mm（高） 样品台内置旋转，工作距离调节范围：30mm-100mm

低真空镀膜机 喷金仪|喷碳仪|蒸镀仪 Leica EM ACE200为SEM和TEM分析生产同质和导电的金属或碳涂层，之前从未有过比与Leica EM ACE200涂层系统更方便的设备了。配置为溅射镀膜机或碳丝蒸发镀膜机后，可以在全自动化系统中获得可重复的结果，实现了一台EM ACE200具有喷金仪，喷碳仪，蒸镀仪三种功能。如果您的分析需要这两种方法，徕卡显微系统在一台仪器中提供可互换机头的组合仪表。各个选项，如石英晶体测量、行星旋转、辉光放电和可交换屏蔽共同构成这台低真空镀膜机。 特点理想重现的结果运行自动化的进程，并协助参数设置。小巧紧凑设计紧凑，占地面积小节省了实验室空间。容易清洗具备可拆卸门、卷帘、内部屏蔽、光源、载物台。操作简便直观的触摸屏和一键式操作。

Q300T D Plus–双靶顺序溅射镀膜仪，适用150mm直径的试样 Q300T D Plus适用于两种材料的多层顺序溅射，具有两个独立的溅射头，无需破坏真空即可连续溅射两种金属。该系统是全自动的，用户定义的配方可以控制泵、镀膜顺序、镀膜时间、溅射循环次数和工艺过程中使用的电流等。通过在两个靶之间循环，可以依次溅射来自两种靶材料的厚度不同的膜层。不使用时，镀膜腔室可保持在真空环境下，以防止污染。

徕卡高真空镀膜仪在电子显微镜领域，往往需要对样品进行表面镀膜从而使样品表面成像或图像质量得到改善。在样品表面覆盖一层导电的金属薄膜可以消除荷电效应，降低电子束对样品的热损伤，并可以提高SEM对样品进行形貌观察时所需的二次电子信号量。精细的碳膜具有电子束透明且导电的特性，因而常应用于X射线微区元素分析，制备网格支持膜，以及制备适宜于TEM观查的复型。需要怎样的镀膜技术取决于分辨率和应用需求。Leica EM ACE镀膜仪家族提供在各应用领域所需的键膜解决方案。Leica EM ACE600 是一款多功能型高真空镀膜系统，用于制备超薄，细颗粒的导电金属膜和碳膜，以适用于FE-SEM和TEM超高分辨率分析所需的镀膜要求。这一款全自动台式镀膜仪，包含内置式无油真空系统、石英膜厚监控系统和马达驱动样品台（旋转为标配，倾斜和高度马达驱动为选配）。徕卡高真空镀膜仪可以配置如下镀膜方式:★★★ 金属溅射镀膜★★★ 碳丝蒸发镀膜★★★ 碳棒蒸发镀膜（带有热阻蒸发镀膜选配件）★★★ 电子束蒸发镀膜★★★ 辉光放电★★★ 连接VCT样品交换仓： 与徕卡EM VCT配套实现冷冻镀膜，冷冻断裂，双复型，冷冻干燥和真空冷冻传输

瑞士Safematic CCU-010 HV高真空镀膜仪(电镜附件及外设)(喷金喷碳一体机)紧凑型、模块化和智能化CCU-010 HV为一款结构紧凑、全自动型的高真空离子溅射和蒸发镀碳一体化镀膜仪，使用非常简便。采用独特的插入式设计，通过简单地变换镀膜头就可轻松配置为溅射或蒸镀设备。在镀膜之前和/或之后，可以进行等离子处理。模块化设计可轻松避免金属和碳沉积之间的交叉污染。CCU-010标配膜厚监测装置。特点和优点✬ 高性能离子溅射、蒸发镀碳和可选的等离子处理✬ 专有的自动碳源卷送设计–多达数十次碳镀膜，无需用户干预✬ 独特的即插即用溅射和蒸碳镀膜模块✬ 一流的真空性能和快速抽真空✬ 结构紧凑、可靠且易于维修✬ 双位置膜厚监控装置，可兼容不同尺寸的样品✬ 主动冷却的溅射头可确保镀膜质量并延长连续运行时间巧妙的真空设计CCU-010 HV系列高真空镀膜仪涵盖了最高级的SEM、TEM和薄膜应用。特别选择和设计的材料、表面和形状可大大缩短抽真空时间。两个附加的标准真空法兰允许连接第三方设备。LC-006金属大腔室可选的LC-006是当前玻璃腔室的扩大版，为铝制结构。这个金属腔室可容纳6"晶圆样品或其它大尺寸样品，而且消除了对内爆防护的需求。在CCU-010 HV上选配LC-006, 无需任何修改就可实现更大样品和晶圆的镀膜。SP-010 & SP-011溅射模块两种溅射模块一旦插入CCU-010 HV镀膜主体单元，均可立即使用。SP-010和SP-011溅射模块具有有效的主动冷却功能，连续喷涂时间长，非常适合需要较厚膜的应用。 可选多种溅射靶材，适合SEM、FIB和各种薄膜应用。SP-010溅射装置的磁控组件旨在优化靶材使用。这使其成为电子显微镜中精细颗粒贵金属镀膜的理想工具，也适合于极细颗粒尺寸镀膜。SP-011溅射装置的磁控组件用于大功率溅射和宽范围材料的镀膜。对那些比常规EM应用要求镀膜速率更高、膜层要求更厚的薄膜应用时，推荐使用该溅射头。SP-011溅射头与CCU-010 HV高真空镀膜仪(电镜附件及外设)之主体单元相结合，可满足诸如DLC，ITO或铁磁溅射材料镀膜等具有挑战性的应用。（二选一作为标配）CT-010碳蒸发模块紧凑的插入式碳蒸发模块为镀碳树立了新标杆。将该头插入CCU-010 HV高真空镀膜仪(电镜附件及外设)之主体单元后，即可立即使用，适合SEM、TEM和任何需要高质量碳膜应用的场合。CT-010使用欧洲专有的、独特且技术领先的碳绳供给系统，可以进行多达数十次涂层的镀膜，而无需更换碳源。除了易于使用外，该系统还允许在一个镀膜循环内可控地沉积几乎任何厚度的碳膜。易于选择的镀膜模式可保障镀膜安全，从对温度敏感的样品进行温和的蒸镀薄膜到在FIB应用中厚膜层的高功率闪蒸镀碳。整合脉冲蒸发、自动启动挡板后除气及膜厚监控的智能电源控制提供了精确的膜层厚度，并可避免火花引起的表面不均匀。GD-010辉光放电模块可选的GD-010辉光放电系统可快速安装，通过空气、氩气或其它专用气体进行表面处理，例如，使碳膜亲水。本机可按顺序进行碳镀膜和辉光放电处理，无需“破”真空或更换处理头，极大地简化了操作过程。本单元安装到CT-010，与所有样品台兼容。HS-010真空储存箱可选的HS-010真空储存箱可在真空条件下存放备用镀膜头、备用行星台或旋转台、所有溅射靶材和碳附件，使它们处于清洁状态。通过集成的真空管路与镀膜主体单元连接，利用CCU-010抽真空系统对储物箱抽真空。可选地，用户也可用外接真空泵替代。舒适的手动锁定装置和放气阀允许对储物箱进行独立的抽真空和放气控制。额外的标准真空腔室可有效地避免蒸碳和溅射金属之间的交叉污染。ET-010等离子刻蚀单元在对样品进行镀膜之前或镀膜之后，可选该单元对样品进行等离子刻蚀处理。使用该附件，可以选择氩气、其它蚀刻气体或大气作为处理气体。这样可以在镀膜前清洁样品，增加薄膜的附着力。也可在样品镀碳后进行等离子处理，从而对碳膜表面进行改性。Coating-LAB软件使用可选的基于PC的Coating-LAB软件，可查看包括图表信息在内的处理数据。数据包括压力、电流、电压、镀膜速率和膜厚，镀膜速率为实时曲线。便捷的软件升级和参数设置让此智能工具更为完美。RC-010手套箱应用的远程控制软件（可选）◎基于window的远程控制软件◎创建和调用配方◎实时图表，包含导出功能（Excel、png等）◎自动连接到设备可选多种样品台CCU-010提供了一个直径80mm的样品台，该样品台插入到高度可调且可倾斜的样品台支架上。可选其它专用的旋转样品台、行星台、载玻片样品台等。CCU-010 HV系列高真空镀膜仪及其版本CCU-010 HV 系列高真空镀膜系统专为满足电镜样品制备领域及材料科学薄膜应用的最高要求而设计。CCU-010 HV 高真空溅射和镀碳仪采用优质组件和智能设计，可在超高分辨率应用中提供出色的结果。该设备是全自动抽真空和全自动操作，采用TFT 触摸屏操控，配方可编程，保证结果可重复。CCU-010 HV 标配抽真空系统完全无油，含高性能涡轮泵和前级隔膜泵，均位于内部，外部没有笨重的旋转泵和真空管路。这是一款尺寸合理的桌上型高真空镀膜仪。使用无油抽真空系统可将镀层中的污染或缺陷降至最低。关闭时，该设备可以保持在真空下，这有效地保护了系统免受灰尘和湿气的影响，并为高质量的镀层创造了快速抽真空和有利的真空条件。CCU-010 HV系列高真空镀膜仪版本：CCU-010 HV高真空磁控离子溅射镀膜仪；CCU-010 HV高真空热蒸发镀碳仪；CCU-010 HV高真空溅射喷碳镀膜仪(高真空喷金喷碳一体机)；CCU-010 HV高真空手套箱专用镀膜仪。CCU-010 HV 系列高真空镀膜仪的主要亮点在于实现了两大技术性突破：一是独家采用自动碳纤维供给系统，在不破真空更换碳源的情况下可进行数十次的镀碳运行，比市场上常见的单次、双次或四次碳纤维镀膜方式节省大量的人工操作，既适用于大多数常规镀碳应用，也适用于超薄或超厚碳膜以及温度敏感样品的应用。二是将“镀膜前对样品表面进行等离子清洁（增加附着力）+镀膜+镀膜后对膜层表面进行改性（比如：亲水化）或刻蚀”全流程集于同一台仪器同一次真空下完成，大大提高了镀膜质量，拓宽了应用范围。另外，瑞士制造，是“精密”和“高品质”的代名词；瑞士原厂货源，覃思本地服务，客户买得放心、用得省心！

为SEM和TEM分析生产同质和导电的金属或碳涂层，之前从未有过比与Leica EM ACE200涂层系统更方便的设备了。 配置为溅射镀膜机或碳丝蒸发镀膜机后，可以在全自动化系统中获得完全可重复的结果，实现了一台EM ACE200具有喷金仪，喷碳仪，蒸镀仪三种功能。如果您的分析需要这两种方法，徕卡显微系统在一台仪器中提供可互换机头的组合仪表。 各个选项，如石英晶体测量、行星旋转、辉光放电和可交换屏蔽共同构成这台低真空镀膜机技术参数：1、适用于常规SEM/TEM/DEX喷涂要求2、可选离子溅射模式、碳丝蒸发模式、或双模式、可选挥发放电功能3、方向型离子溅射模式，可提高平面样品镀膜效果，独特的脉冲式碳丝蒸发模式，实现对碳膜厚度的控制4、可选配石英膜厚监控器，可程序化控制膜厚，并反馈镀膜仪，精度为0.1nm5、标配有镀膜金属挡板，可用于干预溅射，确保镀膜纯度6、专利设计方形样品室，尺寸：140mm宽x145mm深x150mm高，样品台直径80mm7、工作距离：30-100mm8、溅射电流：≤150mA9、极限真空度：≤7x10-3mbar10、一体化触摸控制界面，操作简单

【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸120mm ? x 120mm H，高强度不锈钢结构样品台尺寸可放置12个标准钉形样品台，高度可在 30mm内调节蒸镀源高纯度碳棒，直径6.15mm蒸镀控制系统微处理器控制，远程电流/电压感应；最大电流180A，程序化数字控制；提供真空安全联锁装置，配有过流保护；模拟计量真空 Atm - 0.001mb 电流: 0 – 200A控制方式自动蒸镀控制；可选择手动操作，也可通过控制数字定时器 (1 – 30秒)及电压设定 (0.1 to 5.5V)实现自动蒸镀控制；自动放气功能；机械泵2L/s，25-30s内真空度下降到0.1mb工作电压220V, 50/60HZ膜厚监控仪（选配）通过6MHz石英晶体进行原位监控，显示纳米级厚度，碳厚度可精确到0.1nm适用配套Zeiss, JEOL, Hitachi, FEI, Tescan, Phenom等扫描电镜【产品详情】Agar 全自动喷碳仪为英国进口设备，操作简单，适用于扫描电镜样品制备等。喷碳仪使用高纯度碳棒，更容易实现在高倍下得到高质量的镀膜效果，以便对样品进行形貌观察及进行能谱EDS或EBSD分析。 喷碳仪使用的是碳棒，真空度相对来说要高一些；用碳棒的喷碳颗粒要细一些，同时对样品的加热温度也要高一些。样品台：碳棒：膜厚监测仪：

上海仪电物光WJL系列全自动激光粒度仪【产品介绍】WJL-632全自动激光粒度仪WJL-636全自动激光粒度仪WJL-638全自动激光粒度仪 全自动激光粒度仪外壳采用ABS注塑工艺，保证了产品的外观一致性和产品的稳定性、可靠性；内部结构采用模块式设计，便于拆装、保养和维护。光路系统带有自动校正功能，温度控制系统采用双静音风扇，降温效果好，保证了温度的稳定。 本仪器具有自动加水、自动分散、自动对焦、自动循环、自动测试、自动清洗、自动保存结果等功能。 仪器设计符合国际标准ISO—13320相关要求，包含用户分级管理，电子签名，密码管理，网络传输，数据保护和溯源等功能。上海仪电物光WJL系列全自动激光粒度仪【主要技术参数】仪器型号WJL-632WJL-636WJL-638测量范围（微米）0.1-8000.05-12000.02-2000测量波长(微米)0．6328仪器光源He-Ne气体激光，使用寿命25000小时光路系统镀膜单镜头、自动对中检测角≥135°、前后及侧向扇形分布测量方法湿法分散、自动对中、自动上水、一键式全自动操作准确性误差±0.5%国家标准物质D50重复性误差±0.5%国家标准物质D50测试报告图片/EXCEL/PDF操作系统Win7/8/10/11（电脑反控主机）, 电脑需另配（i5处理器+8G内存+纯固态或双硬盘及以上配置）通信接口USB/网口/RS232/RS485电源AC 220V±10%， 50Hz，100W外型尺寸1000mm×330mm×320mm仪器净重33kg

瑞士Safematic电镜制样设备CCU-010 HV_SP-010高真空离子溅射镀膜仪紧凑型、模块化和智能化CCU-010 HV_SP-010高真空离子溅射镀膜仪为一款结构紧凑、全自动型的离子溅射仪，使用非常简便。采用独特的插入式设计，变换镀膜头非常简单。在镀膜之前和/或之后，可以进行等离子处理。模块化设计可轻松避免交叉污染。标配FTM膜厚监测装置。特点和优点✬ 高性能离子溅射仪，可选等离子处理附件✬ 独特的即插即用溅射模块✬ 一流的真空性能和快速抽真空✬ 标配隔膜泵和涡轮泵；全量程真空测量（皮拉尼，冷阴极真空计）✬ 结构紧凑、可靠且易于维修✬ 双位置膜厚监控装置，可兼容不同尺寸的样品✬ 主动冷却的溅射头可确保镀膜质量并延长连续运行时间巧妙的真空设计CCU-010 HV系列高真空镀膜系统，除了用于SEM和EDX的常规高质量溅射镀膜之外，还涵盖了最高级的SEM，TEM和薄膜应用。特别选择和设计的材料、表面和形状可大大缩短抽真空时间。两个附加的标准真空法兰允许连接第三方设备。LC-006金属大腔室LC-006是当前玻璃腔室的扩大版，为铝制结构。这个可选的金属腔室可容纳6"晶圆或其它大尺寸样品，而且消除了对内爆防护的需求。在CCU-010上选配LC-006, 无需任何修改就可实现更大样品和晶圆的镀膜。SP-010 & SP-011溅射模块 两种溅射模块一旦插入CCU-010 LV和CCU-010 HV镀膜主体单元，即可使用。SP-010和SP-011溅射模块具有有效的主动冷却功能，连续喷涂时间长，非常适合需要较厚膜的应用。 可选多种溅射靶材，适合SEM、FIB和各种薄膜应用。SP-010溅射装置的磁控组件旨在优化靶材使用。这使其成为电子显微镜中精细颗粒贵金属镀膜的理想工具。对于极细颗粒尺寸镀膜，推荐使用涡轮泵抽真空的CCU-010 HV系列镀膜仪。SP-011溅射装置的磁控组件用于大功率溅射和宽范围材料的镀膜。对那些比常规EM应用要求镀膜速率更高、膜层要求更厚的薄膜应用时，推荐使用该溅射头。SP-011与CCU-010 HV相结合，可满足诸如DLC，ITO或铁磁溅射材料镀膜等具有挑战性的应用。ET-010等离子刻蚀单元 在对样品进行镀膜之前或镀膜之后，可以对样品进行等离子刻蚀处理。选用该附件，可以选择氩气、其它蚀刻气体或大气作为处理气体。这样可以在镀膜前清洁样品，增加薄膜的附着力；也可在样品镀膜后进行等离子处理，从而对膜层表面进行改性。RC-010手套箱应用的远程控制软件◎基于window的远程控制软件◎创建和调用配方◎实时图表，包含导出功能（Excel、png等）◎自动连接到设备可选多种样品台CCU-010提供一个直径不小于60mm的样品台，该样品台插入到高度可调且可倾斜的样品台支架上。可选其它专用的旋转样品台、行星台、载玻片样品台等。CCU-010 HV系列高真空镀膜仪及其版本CCU-010 HV系列高真空镀膜系统专为满足电镜样品制备领域及材料科学薄膜应用的最高要求而设计。CCU-010 HV 高真空溅射和镀碳仪采用优质组件和智能设计，可在超高分辨率应用中提供出色的结果。该设备是全自动抽真空和全自动操作，所有CCU-010 HV系列高真空版本的镀膜仪，均采用TFT 触摸屏，配方可编程，保证结果可重复。CCU-010 HV 标配抽真空系统完全无油，含高性能涡轮泵和前级隔膜泵，均位于内部，外部没有笨重的旋转泵和真空管路。这是一款尺寸合理的桌上型高真空镀膜仪。使用无油抽真空系统可将镀层中的污染或缺陷降至最低。关闭时，该设备可以保持在真空下，这有效地保护了系统免受灰尘和湿气的影响，并为高质量的镀层创造了快速抽真空和有利的真空条件。CCU-010 HV系列高真空镀膜仪版本有：CCU-010 HV高真空磁控离子溅射镀膜仪；CCU-010 HV高真空热蒸发镀碳仪；CCU-010 HV高真空离子溅射和镀碳一体化镀膜仪；CCU-010 HV高真空手套箱专用镀膜仪。CCU-010 HV系列高真空镀膜的主要亮点在于实现了两大技术性突破：一是独家采用自动碳纤维供给系统，在不破真空更换碳源的情况下可进行数十次的镀碳运行，比市场上常见的单次、双次或四次碳纤维镀膜方式节省大量的人工操作，既适用于大多数常规镀碳应用，也适用于超薄或超厚碳膜以及温度敏感样品的应用。二是将“镀膜前对样品表面进行等离子清洁（增加附着力）+镀膜+镀膜后对膜层表面进行改性（比如：亲水化）或刻蚀”全流程集于同一台仪器同一次真空下完成，大大提高了镀膜质量，拓宽了应用范围。另外，瑞士制造，是“精密”和“高品质”的代名词；瑞士原厂货源，覃思本地服务，客户买得放心、用得省心！

GVC-1000 全自动离子溅射仪主要应用于配套扫描电镜的样品制备工作，同时可以满足不同用户对样品涂层的制备要求。拥有优秀的溅射系统，可以更换不同的金属靶材（金，铂，银，铱，铬，铜等），实现高要求的细粒涂层。GVC-1000 全自动离子溅射仪(射频磁控溅射镀膜仪)主要应用于配套扫描电镜的样品制备工作，同时可以满足不同用户对样品涂层的制备要求。拥有优秀的溅射系统，可以更换不同的金属靶材（金，铂，银，铱，铬，铜等），实现高要求的细粒涂层。GVC系列为您提供优质的样品制备，轻松助您取得更好地材料研究样品， 获得高质量的显微镜观测效果。GVC-1000 全自动离子溅射仪(射频磁控溅射镀膜仪)性能参数1、离子溅射仪工作原理：磁控溅射2、可选靶材：金，铂，金钯合金，铅，银，铜，铬，锑等3、真空室：φ128×100高硅硼玻璃4、全自动操作，简单易用，非常适用钨灯丝、台式扫描电镜等（1）溅射电流自动调整——设定溅射电流后，系统自动调节真空度，从而达到设定的溅射电流，调整时间＜5s，波动范围＜±5%；（2）无需按“实验”键调整溅射电流、无需操作“进气阀”。（3）溅射时间自动记忆——同类样品一次设定即可；（4）参数改变自动调整——溅射过程中可以随时调整溅射电流和溅射时长，系统自动计算叠加，无需终止溅射过程；（5）工作完成自动放气；（6）样品台高度调节1秒完成；（7）溅射过程可以利用曲线显示，清晰直观。（8）极限真空：小于1Pa5、软硬件互锁，防误操作，安全可靠（1）真空度高于100Pa，启动真空保护，无法溅射；（2）溅射电流高于50mA，停止溅射过程；（3）真空泵工作时，系统无法进行放气操作；6、镀层均匀，导电性良好。

Leica EM ACE600是优良的多用途高真空薄膜沉积系统，设计来根据您的FE-SEM和TEM应用的需要生产非常薄的，细粒度的和导电的金属和碳涂层，用于高分辨率分析。这种高真空镀膜机可以通过以下方法进行配置:溅射、碳丝蒸发、碳棒蒸发、电子束蒸发和辉光放电。适用于Leica EM ACE600高真空镀膜机的Leica EM VCT真空冷冻传输系统，是无污染的低温扫描电镜样本制备的理想解决方案。理想重现的结果运行全自动化过程，辅以参数和协议设置。集成的石英测量和自动化3轴载物台移动。容易清洗可拆卸的门、卷帘、内部屏蔽、来源和载物台，确保制备高品质样本的环境清洁。小巧紧凑设计紧凑，占地面积小，节省实验室空间。操作简便直观的触摸屏，松推配合的连接器和免工具的目标变更，舒适的前门锁定。自定义配置配备了仪器，可满足您的具体需求。低温镀膜真空低温传输系统适应将室温镀膜机转换成低温镀膜机。样本能在低温下于受保护的环境中进行镀膜和传输。

Leica EM ACE600是优良的多用途高真空薄膜沉积系统，设计来根据您的FE-SEM和TEM应用的需要生产非常薄的，细粒度的和导电的金属和碳涂层，用于高分辨率分析。这种高真空镀膜机可以通过以下方法进行配置:溅射、碳丝蒸发、碳棒蒸发、电子束蒸发和辉光放电。适用于Leica EM ACE600高真空镀膜机的Leica EM VCT真空冷冻传输系统，是无污染的低温扫描电镜样本制备的理想解决方案。理想重现的结果运行全自动化过程，辅以参数和协议设置。集成的石英测量和自动化3轴载物台移动。容易清洗可拆卸的门、卷帘、内部屏蔽、来源和载物台，确保制备高品质样本的环境清洁。小巧紧凑设计紧凑，占地面积小，节省实验室空间。操作简便直观的触摸屏，松推配合的连接器和免工具的目标变更，舒适的前门锁定。自定义配置配备了仪器，可满足您的具体需求。低温镀膜真空低温传输系统适应将室温镀膜机转换成低温镀膜机。样本能在低温下于受保护的环境中进行镀膜和传输。

上海仪电物光WJL系列全自动激光粒度仪【产品简介】WJL-632/636/638全自动激光粒度仪全自动激光粒度仪外壳采用ABS注塑工艺，保证了产品的外观一致性和产品的稳定性、可靠性；内部结构采用模块式设计，便于拆装、保养和维护。光路系统带有自动校正功能，温度控制系统采用双静音风扇，降温效果好，保证了温度的稳定。本仪器具有自动加水、自动分散、自动对焦、自动循环、自动测试、自动清洗、自动保存结果等功能。 仪器设计符合国际标准ISO—13320相关要求，包含用户分级管理，电子签名，密码管理，网络传输，数据保护和溯源等功能。上海仪电物光WJL系列全自动激光粒度仪【产品简介】仪器型号WJL-632WJL-636WJL-638测量范围（微米）0.1-8000.05-12000.02-2000测量波长(微米)0．6328仪器光源He-Ne气体激光，使用寿命25000小时光路系统镀膜单镜头、自动对中检测角≥135°、前后及侧向扇形分布测量方法湿法分散、自动对中、自动上水、一键式全自动操作准确性误差±0.5%国家标准物质D50重复性误差±0.5%国家标准物质D50测试报告图片/EXCEL/PDF操作系统Win7/8/10/11（电脑反控主机）, 电脑需另配（i5处理器+8G内存+纯固态或双硬盘及以上配置）通信接口USB/网口/RS232/RS485电源AC 220V±10%， 50Hz，100W外型尺寸1000mm×330mm×320mm仪器净重33kg

为SEM和TEM分析生产同质和导电的金属或碳涂层，之前从未有过比与Leica EM ACE200涂层系统更方便的设备了。配置为溅射镀膜机或碳丝蒸发镀膜机后，可以在全自动化系统中获得可重复的结果，实现了一台EM ACE200具有喷金仪，喷碳仪，蒸镀仪三种功能。如果您的分析需要这两种方法，徕卡显微系统在一台仪器中提供可互换机头的组合仪表。各个选项，如石英晶体测量、行星旋转、辉光放电和可交换屏蔽共同构成这台低真空镀膜机。理想重现的结果运行自动化的进程，并协助参数设置。小巧紧凑设计紧凑，占地面积小节省了实验室空间。容易清洗具备可拆卸门、卷帘、内部屏蔽、光源、载物台。操作简便直观的触摸屏和一键式操作。

v 设备用途：热蒸发是指把待镀膜的基片或工件置于真空室内，通过对镀膜材料加热使其蒸发气化而沉积于基体或工件表面并形成薄膜或涂层的工艺过程。可在高真空下蒸发高质量的不同厚度的金属薄膜。蒸镀薄膜种类：Au, Cr, Ag, Al, Cu, In,有机物等v 设备组成：有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统；真空测量系统；蒸发源；样品加热控温；电控系统；配气系统等部分组成v 最大样品尺寸：8inchv 沉积源/真空度：根据用户定制控制系统：手动、全自动

Ultra-100清洁和单分子层成膜机集成了清洁和单分子层气态成膜功能与一体，可以用于纳米压印模具和基板提供单分子层分辨能力的成膜和清洁任务，也可以广泛用于其他需要真空，紫外，加热，成膜的各种应用，诸如光刻模具的清洁和成膜处理等。Ultra-100集成了真空，紫外O-Zone清洁，紫外聚合，单分子层气态成膜等能力与一体，可以选择单一或多元化学气体，只要按一个操作按钮，Ultra-100就可以全自动运作。Ultra-100的桌面设计非常简洁，性能优秀可靠稳定。 主要特点：集成真空，紫外，加热，单分子层成膜多功能于一体，集成清洁和单分子层成膜于一键操作，杰出的膜覆盖能力及均匀性，优异的清洁能力，适合各种大小的基板和模板 §1″, 2″, 3”, 4”, 6”or 8″ §各种尺寸及不规则形状模板与基板均可 全自动化程序控制操作可接多种化学气体单分子层气体成膜高分辨率快速工艺循环时间极高的用户灵活性紧凑台式设计性价比最优 基于超过12年、15代产品开发经验的自动化操作 Nanonex系统经过大量实时实地验证，质量可靠，性能优越稳定 系统参数尺寸 §样品尺寸：上限是8”x8” §腔体尺寸：10”x10”x5.75” §全部机器尺寸：27”x21”x8.75” 典型基板 §硅和氧化硅 §砷化镓（GaAs） §磷化铟（InP) §玻璃，石英，熔石英 §金属 §陶瓷材料 气体，紫外Ozone和加热 §真空： 100 mTorr §最多4个气体接口可用于单分子气体镀膜 §2”直径排气管 §紫外灯波长：185纳米，254纳米，365纳米，436纳米 §紫外光功率：250瓦 §紫外光强度： 10mW/cm2 (254nm波长） §基板加热能力：700瓦，最大温度175摄氏度

AutoSE-一键式全自动快速椭偏仪全自动化&高集成度&可视化光斑操作简单，测试快速，为一般操作工人设计一键式全自动快速椭偏仪 Auto SE——新型的全自动薄膜测量分析工具。采用工业化设计，操作简单，可在几秒钟内完成全自动测量和分析，并输出分析报告。是用于快速薄膜测量和器件质量控制理想的解决方案。主要特点1. 液晶调制技术，无机械转动部件，重复性，信噪比高2. 技术成像系技术，所有样品均可成像，对于透明样品,自动去除样品的背反射信号,使得数据分析更简单.3. 反射式微光斑，覆盖全谱段，利于非均匀样品图案化样品测试4. 全自动集成度高，安装维护简便5. 一键式操作软件，快速简单6. 自动MAPPING扫描，分析样品镀膜均匀性 技术参数1. 光谱范围：450-1000 nm2. 多种微光斑自动选择3. 光斑可视技术，可观测任何样品表面4. 自动样品台尺寸：200mmX200mm；XYZ方向自动调节 Z轴高度35mm5. 70度角入射6. CCD探测器

瑞士Safematic CCU-010 LV离子溅射和镀碳一体化镀膜仪紧凑型、模块化和智能化CCU-010为一款结构紧凑、全自动型的离子溅射和/或蒸发镀碳设备，使用非常简便。采用独特的插入式设计，通过简单地变换镀膜头就可轻松配置为溅射或蒸镀设备。在镀膜之前和/或之后，可以进行等离子处理。模块化设计可轻松避免金属和碳沉积之间的交叉污染。CCU-010标配膜厚监测装置。特点和优点✬ 高性能离子溅射、蒸发镀碳和等离子处理✬ 专有的自动碳源卷送设计–多达数十次碳镀膜，无需用户干预✬ 独特的即插即用溅射和蒸碳镀膜模块✬ 一流的真空性能和快速抽真空✬ 结构紧凑、可靠且易于维修✬ 双位置膜厚监控装置，可兼容不同尺寸的样品✬ 主动冷却的溅射头可确保镀膜质量并延长连续运行时间巧妙的真空设计CCU-010 LV离子溅射和镀碳一体化镀膜仪专为SEM和EDX的常规高质量溅射镀膜和镀碳而设计。模块化的设计可将低真空单元后续很轻松地升级为高真空单元。特别选择和设计的材料、表面和形状可大大缩短抽真空时间。两个附加的标准真空法兰允许连接第三方设备。SP-010 & SP-011溅射模块两种溅射模块一旦插入CCU-010 LV镀膜主体单元，即可使用。SP-010和SP-011溅射模块具有有效的主动冷却功能，连续喷涂时间长，非常适合需要较厚膜的应用。 可选多种溅射靶材，适合SEM等导电薄膜应用。SP-010溅射装置的磁控组件旨在优化靶材使用。这使其成为电子显微镜中精细颗粒贵金属镀膜的理想工具。对于极细颗粒尺寸镀膜，推荐使用涡轮泵抽真空的CCU-010 HV版本。SP-011溅射装置的磁控组件用于大功率溅射和宽范围材料的镀膜。对那些比常规EM应用要求镀膜速率更高、膜层要求更厚的薄膜应用时，推荐使用该溅射头。CT-010碳蒸发模块紧凑的插入式碳蒸发模块为镀碳树立了新标杆。将该头插入CCU-010 LV镀膜主体后，即可立即使用，适合SEM等需要高质量碳膜应用的场合。CT-010使用欧洲专有的、独特且技术领先的碳绳供给系统，可以进行多达数十次涂层的镀膜，而无需更换碳源。除了易于使用外，自动供给系统还允许在一个镀膜循环内可控地沉积几乎任何厚度的碳膜。易于选择的镀膜模式可保障镀膜安全，从对温度敏感的样品进行温和的蒸镀薄膜到中厚膜层的高功率闪蒸镀碳。整合脉冲蒸发、自动启动挡板后除气及膜厚监控的智能电源控制提供了精确的膜层厚度，并可避免火花引起的表面不均匀。GD-010辉光放电模块可选的GD-010辉光放电系统可快速安装，通过空气、氩气或其它专用气体进行表面处理，例如，使碳膜亲水。本机可按顺序进行碳镀膜和辉光放电处理，无需破真空或更换处理头，极大地简化了操作过程。本单元安装到CT-010，与所有样品台兼容。HS-010真空储存箱HS-010真空储存箱可在真空条件下存放备用镀膜头、备用行星台或旋转台、所有溅射靶材和碳附件，使它们处于清洁状态。通过集成的真空管路与镀膜主体单元连接，利用CCU-010抽真空系统对储物箱抽真空。可选地，用户也可用外接真空泵替代。舒适的手动锁定装置和放气阀允许对储物箱进行独立的抽真空和放气控制。额外的标准真空腔室可有效地避免蒸碳和溅射金属之间的交叉污染。ET-010等离子刻蚀单元在对样品进行镀膜之前或镀膜之后，可以对样品进行等离子刻蚀处理。使用该附件，可以选择氩气、其它蚀刻气体或大气作为处理气体。这样可以在镀膜前清洁样品，增加薄膜的附着力。也可在样品镀碳后进行等离子处理，从而对碳膜表面进行改性。Coating-LAB软件使用基于PC的Coating-LAB软件，可查看包括图表信息在内的处理数据。数据包括压力、电流、电压、镀膜速率和膜厚，镀膜速率为实时曲线。便捷的软件升级和参数设置让此智能工具更为完美。RC-010手套箱应用的远程控制软件◎基于window的远程控制软件◎创建和调用配方◎实时图表，包含导出功能（Excel、png等）◎自动连接到设备可选多种样品台CCU-010提供一个直径不小于60mm的样品台，该样品台插入到高度可调且可倾斜的样品台支架上。可选其它专用的旋转样品台、行星台、载玻片样品台等。CCU-010 LV普通真空镀膜仪版本作为真空镀膜系统的基础单元，专为 SEM 和 EDX 的常规高质量溅射和/或碳镀膜而设计。客户可选择：CCU-010 LV磁控离子溅射镀膜仪；CCU-010 LV热蒸发镀碳仪；CCU-010 LV离子溅射和镀碳一体化镀膜仪；CCU-010 LV手套箱专用镀膜仪

高真空电阻热蒸发镀膜机（高真空镀膜机）采用电阻热蒸发技术，它是在高真空条件下，通过加热材料的方法，在衬底上沉积各种化合物、混合物单层或多层膜。可用于生产和科学实验，可根据用户要求专门订制；可用于材料的物理和化学研究；可用于制备金属导电电极；可用于有机材料的物理化学性能研究实验、有机半导体器件的原理研究实验、OLED实验研究及有机太阳能薄膜电池研究实验等。设备构成-单镀膜室-单镀膜室＋进样室-单镀膜室＋手套箱（可将镀膜室放在手套箱内）-单镀膜室＋进样室＋手套箱（可将镀膜室放在手套箱内）-多镀膜室＋样品传递室＋手套箱（组成团簇式结构，样品传递采用真空机械手）设备组成电阻热蒸发源组件、样品掩膜挡板系统、真空获得系统及真空测量系统、分子泵（或冷泵）真空机组、旋转基片加热台、工作气路、手套箱连接部件、样品传递机构，膜厚控制系统、电控系统、恒温冷却水系统等组成。热蒸发源类型和数量，可根据用户需要进行配置。可选件：膜厚监控仪，恒温制冷水箱。热蒸发源种类及配置电阻热蒸发源组件：数量：1～12套（可根据用户要求配装）；电阻热蒸发源种类：钽（钨或钼）金属舟热蒸发源组件、石英舟热蒸发源组件、钨极或钨蓝热蒸发源组件、钽炉热蒸发源组件（配氮化硼坩埚或陶瓷坩埚）、束源炉热蒸发组件（配石英坩埚或氮化硼坩埚）。高真空电阻热蒸发镀膜机（高真空镀膜机）工作条件（实验室应具备的设备工作条件）供电：4kW，三相五线制～ AC 380V工作环境湿度：10℃～ 40℃工作环境温度：≤50%冷却循环水：0.2m3/h，水温18℃～ 25℃水压：0.15MPa ～ 0.25MPa真空性能极限真空：7×10-5Pa～7×10-6Pa设备总体漏放率：关机12小时，≤10Pa操作方式手动、半自动关于鹏城半导体鹏城半导体技术（深圳）有限公司，由哈尔滨工业大学（深圳）与有多年实践经验的工程师团队共同发起创建。公司立足于技术前沿与市场前沿的交叉点，寻求创新引领与可持续发展，解决产业的痛点和国产化难题，争取产业链的自主可控。公司核心业务是微纳技术与高端精密制造，具体应用领域包括半导体材料、半导体工艺和半导体装备的研发设计和生产制造。公司人才团队知识结构完整，有以哈工大教授和博士为核心的高水平材料研究和工艺研究团队；还有来自工业界的高级装备设计师团队，他们具有20多年的半导体材料研究、外延技术研究和半导体薄膜制备成套装备设计、生产制造的经验。公司依托于哈尔滨工业大学（深圳），具备先进的半导体研发设备平台和检测设备平台，可以在高起点开展科研工作。公司总部位于深圳市，具备半导体装备的研发、生产、调试以及半导体材料与器件的中试、生产、销售的能力。公司已投放市场的部分半导体设备|物理气相沉积（PVD）系列磁控溅射镀膜机、电子束镀膜机、热蒸发镀膜机，离子束溅射镀膜机、磁控与离子束复合镀膜机|化学气相沉积（CVD）系列MOCVD、PECVD、LPCVD、热丝CVD、ICPECVD、等离子刻蚀机、等离子清洗机|超高真空系列分子束外延系统（MBE）、激光分子束外延系统（LMBE）|OLED中试设备（G1、G2.5）|其它金刚石薄膜制备设备、硬质涂层设备、磁性薄膜设备、电极制备设备、合金退火炉|太阳能薄膜电池设备（PECVD+磁控溅射）团簇式太阳能薄膜电池中试线团队部分业绩分布完全自主设计制造的分子束外延（MBE）设备，包括自主设计制造的MBE超高真空外延生长室、工艺控制系统与软件、高温束源炉、高温样品台、Rheed原位实时在线监控仪（反射高能电子衍射仪）、直线型电子枪、膜厚仪（可计量外延生长的分子层数）、射频源等关键部件。真空度达到2×10-8Pa。设备于2005年在浙江大学光学仪器国家重点实验室投入使用，至今仍在正常使用。设计制造磁控溅射与等离子体增强化学气相沉积法PECVD技术联合系统，应用于团簇式太阳能薄膜电池中试线。使用单位中科院电工所。设计制造了金刚石薄膜制备设备，应用于金刚石薄膜材料的研究与中试生产设备。现使用单位中科院金属研究所。设计制造了全自动磁控溅射设备，可加水平磁场和垂直磁场，自行设计的真空机械手传递基片。应用于高密度磁记录材料与器件的研究和中试。现使用单位国家光电实验室。设计制造了OLED有机半导体发光材料及器件的研究和中试成套装备。现使用单位香港城市大学先进材料实验室。设计制造了MOCVD及合金退火炉，用于GaN和ZnO的外延生长，实现LED无机半导体发光材料与器件的研究和中试。现使用单位南昌大学国家硅基LED工程技术研究中心。设计制造了磁控溅射研究型设备。现使用单位浙江大学半导体所。设计制造了电子束蒸发仪研究型设备。现使用单位武汉理工大学。团队在第三代半导体装备及工艺方面的技术积累2001年 与南昌大学合作设计了中试型的全自动化监控的MOCVD，用于外延GaN和ZnO。2005年 与浙江大学光学仪器国家重点实验室合作设计制造了第一台完全自主知识产权的分子束外延设备，用于外延光电半导体材料。2006年 与中国科技大学合作设计超高温CVD 和MBE。用于4H晶型SiC外延生长。2007年 与兰州大学物理学院合作设计制造了光学级金刚石生长设备（采用热激发技术和CVD技术）。2015年 中科院金属研究所沈阳材料科学国家（联合）实验室合作设计制造了金刚石薄膜制备，制备了金刚石电极、微米晶和纳米晶金刚石薄膜、导电金刚石薄膜。2017年-优化Rheed设计，开始生产型MBE设计。-开始研制PVD方法外延GaN的工艺和装备，目前正在进行设备工艺验证。2019年 设计制造了大型热丝CVD金刚石薄膜的生产设备。2021年 MBE生产型设计。2022年 大尺寸金刚石晶圆片制备（≥Φ6英寸）。2023年 PVD方法外延氮化镓装备与工艺攻关。

电镜制样设备CCU-010 LV_SP离子溅射镀膜仪紧凑型、模块化和智能化CCU-010为一款结构紧凑、全自动型的离子溅射和/或蒸发镀碳设备，使用非常简便。采用独特的插入式设计，通过简单地变换镀膜头就可轻松配置为溅射或蒸镀设备。在镀膜之前和/或之后，可以进行等离子处理。模块化设计可轻松避免金属和碳沉积之间的交叉污染。CCU-010标配膜厚监测装置。 特点和优点 ✬ 高性能离子溅射✬ 独特的即插即用溅射模块✬ 一流的真空性能和快速抽真空✬ 结构紧凑、可靠且易于维修✬ 双位置膜厚监控装置，可兼容不同尺寸的样品✬ 主动冷却的溅射头可确保镀膜质量并延长连续运行时间巧妙的真空设计CCU-010 LV精细真空镀膜系统专为SEM和EDX的常规高质量溅射镀膜和镀碳而设计，CCU-010 LV_SP-010为磁控离子溅射镀膜仪。模块化的设计可将低真空单元很轻松地升级为高真空单元。特别选择和设计的材料、表面和形状可大大缩短抽真空时间。两个附加的标准真空法兰允许连接第三方设备。溅射模块 SP-010 & SP-011两种溅射模块一旦插入CCU-010 LV镀膜主体单元，即可使用。SP-010和SP-011溅射模块具有有效的主动冷却功能，连续喷涂时间长-非常适合需要较厚膜的应用；可选多种溅射靶材。SP-010溅射装置的磁控组件旨在优化靶材使用。这使其成为电子显微镜中精细颗粒贵金属镀膜的理想工具。对于极细颗粒尺寸镀膜，推荐使用涡轮泵抽真空的CCU-010 HV镀膜主体单元。SP-011溅射装置的磁控组件用于大功率溅射和宽范围材料的镀膜。对那些比常规EM应用要求镀膜速率更高、膜层要求更厚的薄膜应用时，推荐使用该溅射头。等离子刻蚀单元 ET-010在对样品进行镀膜之前或镀膜之后，可以对样品进行等离子刻蚀处理。使用该附件，可以选择氩气、其它蚀刻气体或大气作为处理气体。这样可以在镀膜前清洁样品，增加薄膜的附着力。也可在样品镀膜后进行等离子刻蚀处理，从而对膜层表面进行改性。RC-010手套箱应用的远程控制软件◎基于window的远程控制软件◎创建和调用配方◎实时图表，包含导出功能（Excel、png等）◎自动连接到设备可选多种样品台CCU-010提供一个直径不小于60mm的样品台，该样品台插入到高度可调且可倾斜的样品台支架上。可选其它专用的旋转样品台、行星台、载玻片样品台等。CCU-010 LV系列镀膜仪版本除了电镜制样设备CCU-010 LV_SP离子溅射镀膜仪之外，还可以选择：CCU-010 LV热蒸发镀碳仪；CCU-010 LV离子溅射和镀碳一体化镀膜仪；CCU-010 LV手套箱专用镀膜仪。所有CCU-010 LV版本均采用TFT 触摸屏操控，配方可编程，保证结果可重复；具有断电时系统自动排气功能，防止系统被前级泵油污染。

产品详情Nano-master 离子束刻蚀溅射镀膜一体机 NOC-4000 NANO-MASTER 的 NOC 系列光学镀膜系统提供最先进的原子级清洗、抛光以及光学镀膜技术。 光学样片放置于一个腔体种进行原子级清洗和抛光处理，之后自动传送到第二个腔体中进行光学镀膜，这个过程无需间断真空。系统也可以独立使用其中的一个腔体，每一个都可以实现各自的自动上/下载片功能。 紧凑型设计，占地面积仅为 46”x44”，不锈钢立柜。 工艺过程通过触摸屏 PC 和 LabView 软件，可实现全自动的 PC控制，具有高度的可重复性，且具有友好的用户界面。系统具有完整的安全联锁，提供四级密码授权访问保护，含： 。操作者权限：运行程序。 工艺师权限：添加/编辑和删除程序。 工程师权限：可独立控制子系统，并开发程序。服务权限：NM 工程师故障诊断和排除 真空系统包含涡轮分子泵和机械泵，极限真空可达到 5 x10-7Torr。涡轮分子泵与腔体之间的直连设计，系统可获得最佳的真空传导率，基本可以达到 15 分钟可达到工艺真空，8 小时达到腔体极限真空。腔体压力调节通过 PC 自动控制涡轮速度而全自动调节，快速稳定。 在第一个腔体中通过离子束可达到原子级的清洗，离子源安装在腔体顶部，离子源配套 2KV，300mA 的电源。样品台配套 4”或 6”基片夹具、水冷，并可对着离子束流实现+900C 到-900C 旋转。系统配套气动遮板，使得工艺运行前稳定离子束流。 根据应用需要可以升级离子源，以支持更大尺寸晶圆片的处理。 第二个腔体可以根据应用需要配套 ALD、PECVD、磁控、电子束蒸镀、热蒸镀等镀膜。 膜厚监控仪校准后可实现原位膜厚测量，可以工艺时间或工艺膜厚为工艺终点条件，系统支持设定目标膜厚，当达到设定的目标膜厚时全自动结束工艺。水冷保护晶振夹具，膜厚和沉积速率以及晶振寿命可显示，可存储高达 100 个膜厚数据。 系统的两个腔体均配套单片的 Auto L/UL，可实现自动进样、对准、出样，在不间断工艺真空情况下连续处理样片。Load Lock腔体带独立真空系统和真空计，通过 PC 全自动监控。两个腔体之间可以互相传送样片。整个过程计算机全自动控制。 应用：。光学镀膜。 Sputterint 溅射。IBAD 离子束辅助沉积。离子束刻蚀清洗。 离子束辅助反应性刻蚀。 红外镀膜。表面处理 设备特点：。RF 射频偏压样品台。 膜厚原位监测。 极限真空 5 x 10-7Torr。 最佳的真空传导率设计，具有快速真空能力。 PC 全自动控制，超高的精度及可重复性。 高质量薄层。原子级的超净表面。 原子级清洗和抛光。 LabView 软件的 PC 控制系统。 自动上/下载片。 两个腔体可以分别独立使用并实现自动上下载片。 两腔体之间自动传送，双向传送支持。 菜单驱动，密码保护。 安全互锁。 占地面积 46”D x 44”W 系统可选：。 向下/向上溅射。共溅射。DC, RF 以及脉冲电源。离子束辅助沉积。 电子束源。热蒸镀。等离子源。 ALD 沉积或 PECVD 沉积

价格货期电议上海伯东美国 KRI 射频离子源成功应用于 LED-DBR 离子辅助镀膜市场. 随着对镀膜品质要求的不断提升, 使用霍尔离子源辅助镀膜已经无法满足高端镀膜应用市场, 国内某知名 LED 制造商经过我司推荐采用射频离子源 RFICP 325 安装在 DBR 生产设备 1650 mm 蒸镀机中. 成功实现高端光学镜头镀膜并通过脱膜测试!上海伯东射频离子源客户案例: 国内某知名 LED 制造商1. 离子源应用: LED-DBR 镀膜生产2. 系统功能: 1650 mm 尺寸电子枪蒸镀镀膜机.3. 离子源: 采用美国 KRI 射频离子源 RFICP 325. 离子源 RFICP 325 提供的离子束 (不论是离子能量还是离子密度) 均是目前业界较高等级, 离子源 RFICP 325 特殊的栅极设计 E22 Grided 可以涵盖 1650 mm 尺寸的蒸镀机中大范围的载具 substrate holder, 无论是生产良率或是均匀性都可达到最高生产效能.4. 离子源功能: 通过射频离子源 RFICP 325 实现离子辅助镀膜 IBAD 及预清洁 Pre-clean 功能后, 所生产出的 LED-DBR 无论是亮度测试, 脱膜测试, 顶针测试, 光学特性等等… 都优于目前一般业界蒸镀机所搭配的离子源.上海伯东射频离子源安装案例: KRI RFICP 325 射频离子源安装于 1650 mm 尺寸电子枪蒸镀镀膜机.KRI 射频离子源测试案例: LED-DBR 脱膜测试.1. 在高倍显微镜下检视脱膜测试2. 测试结果--------- 使用其他品牌离子源--- ---- 使用美国考夫曼 KRI RFICP 325 离子源 ----------------------从上图可以清楚看出, 使用其他品牌离子源, 样品存在崩边的问题 使用上海伯东美国考夫曼离子源, 样品无崩边 上海伯东美国射频离子源 KRI RFICP 325 优点:高离子浓度, 高离子能量, 离子束涵盖面积广 镀膜均匀性佳, 提高镀膜品质 模块化设计, 保养快速方便 增加薄膜附着性, 增加光学膜后折射率 全自动控制设计, 操作简易 低耗材成本, 安装简易 上海伯东是美国考夫曼离子源 Kaufman & Robinson, Inc 中国总代理. 美国考夫曼公司离子源已广泛应用于离子溅射镀膜 IBSD. 考夫曼离子源可控制离子的强度及浓度, 使溅射时靶材被轰击出具有中和性材料分子而获得高致密, 高质量之薄膜. 考夫曼离子源可依客户溅射工艺条件选择 RFICP 射频电源式考夫曼离子源或是 KDC 直流电原式考夫曼离子源.若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请查看官网或咨询叶女士