抛光液检测仪

A7000 AD 抛光液检测仪 产品介绍：AccuSizer A7000 AD 采用拥有的单颗粒激光测量技术（SPOS）和动态自动稀释技术实现单颗粒依次检测分析，具有极佳的灵敏度、解析度和精确度，不存在颗粒间相互干扰问题（如：激光衍射整体测量方法）。由于获得的是真实粒度分布，因此测量结果重复性好、准确可靠、统计精度高，特别适于检测分析亚微米颗粒体系中较大颗粒的分布信息。动态自动稀释和清洗系统使得测试方便快捷。 A7000 AD 抛光液检测仪 工作原理：单颗粒光学传感技术（SPOS）经过光感区域的粒子由于大小不同，光强随之产生相应的变化。将探测器收集的光信号转换成电压信号，不同的电压信号对应不同的粒径大小，从而得到微粒的粒径。SPOS技术将光消减和光散射两种物理作用有机的结合起来，通过光消减获得较大的动态粒径范围，通过光散射增加对小粒子的灵敏度，成为一项技术。 A7000 AD 抛光液检测仪 仪器参数：粒径测量范围(可选)0.5 – 400μm1.0 – 400μm3.0 – 1000μm分析方法单颗粒激光测量技术（SPOSPAT）可用溶剂水和绝大多数有机溶剂样品池(可选)50 mL、60 mL 、100mL、250mL（动态稀释）磁力搅拌器转速可自由调控 流速（稀释系统）30 – 120 mL/min分析软件（可选）Windows 运行环境，标准软件或符合 21 CFR Part 11 规范分析软件电压220 – 240 VAC，50Hz 或100 – 120 VAC，60Hz外形尺寸主机1（计数器）：20 cm *45 cm * 20cm；主机2（自动稀释系统）：25cm * 45 cm * 56cm；重量约28kg安装条件稀释流体供给系统，废液池 A7000 AD 抛光液检测仪 配件：传感器LE400-05、LE400-1、LE1000-3测试模块水相和有机相模块选配 A7000 AD 抛光液检测仪 应用领域：混悬剂，乳剂， CMP 化学抛光液， 粉体。 混悬剂颗粒计数检测仪 工作原理：单颗粒光学传感技术（SPOS）经过光感区域的粒子由于大小不同，光强随之产生相应的变化。将探测器收集的光信号转换成电压信号，不同的电压信号对应不同的粒径大小，从而得到微粒的粒径。SPOS技术将光消减和光散射两种物理作用有机的结合起来，通过光消减获得较大的动态粒径范围，通过光散射增加对小粒子的灵敏度，成为一项技术。 混悬剂颗粒计数检测仪 仪器参数：粒径测量范围(可选)0.5 – 400μm1.0 – 400μm3.0 – 1000μm分析方法单颗粒激光测量技术（SPOSPAT）可用溶剂水和绝大多数有机溶剂样品池(可选)50 mL、60 mL 、100mL、250mL（动态稀释）磁力搅拌器转速可自由调控 流速（稀释系统）30 – 120 mL/min分析软件（可选）Windows 运行环境，标准软件或符合 21 CFR Part 11 规范分析软件电压220 – 240 VAC，50Hz 或100 – 120 VAC，60Hz外形尺寸主机1（计数器）：20 cm *45 cm * 20cm；主机2（自动稀释系统）：25cm * 45 cm * 56cm；重量约28kg安装条件稀释流体供给系统，废液池 混悬剂颗粒计数检测仪 配件：传感器LE400-05、LE400-1、LE1000-3测试模块水相和有机相模块选配 应用领域： 医药领域：乳剂，注射剂，脂质体，胶体，混悬剂，滴眼液，高分子，病毒，疫苗等； 半导体： CMP Slurry，芯片，晶圆加工等； 特殊化工品：墨水&喷墨，纳米材料，化工染料，润滑剂，清洗剂等。其他：过滤产品，清洁度方面，食品饮料，化妆品等

Nicomp 380 蓝宝石抛光液检测仪采用动态光散射原理检测分析颗粒系的粒度及粒度分布，粒径检测范围0.3nm – 10μm。粒度分析复合采用Gaussian单峰算法和拥有技术的NiComp多峰算法，对于多组分、粒径分布不均匀液态分散体系的分析以及胶体体系的稳定性分析具有独特优势，其优异的解析度及重现性是其他同类产品无可比拟的。整机采用模块化设计,可灵活方便地扩展Zeta电位等其它功能。Nicomp 380 蓝宝石抛光液检测仪 基本概述：Nicomp 380是纳米粒径分析仪器，采用现在先进的动态光散射原理，利用的Nicomp多峰算法可以很准确的分析比较复杂多组分混合样品。为实验室的研究提供最好的分析技术。 测试范围：0.3 nm – 10μm。 产品介绍： Nicomp 380 采用动态光散射原理检测分析颗粒系的粒度及粒度分布，粒径检测范围 0.3 nm- 10 μm。粒度分析复合采用 Gaussian 单峰算法和拥有技术的 Nicomp 多峰算法，对于多组分、粒径分布不均匀液态分散体系的分析以及胶体体系的稳定性分析具有独特优势，其优异的解析度及重现性是其他同类产品无可比拟的。 蓝宝石抛光液检测仪 工作原理：动态光散射法(DLS)，有时称为准弹性光散射法（QELS），是一种成熟的非侵入技术，可测量亚微细颗粒范围内的分子与颗粒的粒度及粒度分布，使用最新技术，粒度可小于1nm。 动态光散射法的典型应用包括已分散或溶于液体的颗粒、乳剂或分子表征。 悬浮在溶液中的颗粒的布朗运动，造成散射光光强的波动。 分析光强的波动得到颗粒的布朗运动速度，再通过斯托克斯-爱因斯坦方程得到颗粒的粒度。 蓝宝石抛光液检测仪 仪器参数： 粒径测量范围粒度分析：0.3 nm - 10 μm分析方法粒度分析：动态光散射，Gaussian 单峰算法和 NiComp 无约束自由拟合多峰算法pH值范围2 - 12温度范围0℃ - 90 ℃检测角度（可选）粒度分析：90°或 多角度（10°- 175°，可选配）高浓度样品背散射175°背散射可用溶剂水和绝大多数有机溶剂样品池4 mL（标准，石英玻璃或有机玻璃）；500μL（高透光率微量样品池）分析软件Windows 运行环境，符合 21 CFR Part 11 规范分析软件电压220 – 240 VAC，50Hz 或100 – 120 VAC，60Hz外形尺寸56 cm * 41 cm * 24cm重量约26kg（与配置有关）蓝宝石抛光液检测仪 配件：大功率激光二极管PSS使用一系列大功率激光二极管来满足更多更苛刻的要求。使用大功率激光照射，以便从小粒子出货的足够的入射光。15mW, 35mW, 50mW, 100mW –波长为635nm 的红色二极管。20 mW 50 mW 和 100 mW 波长为 514.4nm的绿色二极管。 雪崩光电二极管检测器（APD Detector）提供比普通光电倍增管(PMT)高20倍的灵敏度。Zeta 电位模块Zeta电位是确定交替系统稳定性的重要参数，决定粒子之间静电排斥力大小，从未影响粒子间的聚集作用及分散系的稳定。该模块使用电泳光散射（ELS）技术，通过测量带点粒子在外加电场中的移动速度，即电泳迁移率、推算出Zeta电位，实现了粒子的粒径与Zeta电位，实现了粒子的粒径与Zeta电位测定的同机操作。 自动稀释系统模块将初始浓度较高的样本自动稀释至可检测的的浓度，可稀释初始固含量为50%的原始样品，本模块收保护，其可免除人工稀释样品带来的外界环境的干扰和数据上的误差，此技术被用于批量进样和在线检测的过程中。 多角度检测系统模块提供多角度的检测能力。使用高精度的步进电机和针孔光纤技术可对散射光的接收角度进行调整，可为微粒粒径分布提供可高分辨率的多角度检测。对高浓度样品（≤40%）以及大粒子多分散系的粒径提供了提供15至175度之间不同角度上散射光的采集和检测。 自动进样器批量自动进样器能实现最多76个连续样本的分析而无需操作人员的干预。因此它是一个非常好的质量控制工具，能增大样品的处理量。大大节省了宝贵的时间。 自动滴定模块样品的浓度及PH值是Zeta电位的重要参数，搭配瑞士万通的滴定仪进行检测，真正实现了自动滴定，自动调节PH值，自动检测Zeta电位值。免除外界的干扰和数据上的误差，精确分析出样品Zeta电位的趋势。 蓝宝石抛光液检测仪 应用领域：适用于检测悬浮在水相和有机相的颗粒物。 1）磨料 磨料既有天然的也有合成的，用于研磨、切削、钻孔、成形以及抛光。磨料是在力的作用下实现对硬度较低材料的磨削。磨料的质量取决于磨料的粗糙度和颗粒的均匀性。 2）化学机械抛光(CMP) 化学机械抛光是半导体制造加工过程中的重要步骤。化学机械抛光液是由腐蚀性的化学组分和磨料(通常是氧化铝、二氧化硅或氧化铈)两部分组成。抛光过程很大程度上取决于晶片表面构型。晶片的加工误差通常以埃计，对晶片质量至关重要。抛光液粒度越均匀、不聚集成胶则越有利于化学机械抛光加工过程的顺利进行。 3）陶瓷 陶瓷在工业中的应用非常广泛，从砖瓦到生物医用材料及半导体领域。在生产加工过程中监测陶瓷颗粒的粒度及其粒度分布可以有效地控制最终产品的性能和质量。 4）粘土 粘土是一种含水细小颗粒矿物质天然材料。粉砂与粘土类似，但粉沙的颗粒比粘土大。粘土中易于混杂粉砂从而降低粘土的等级和使用性能。ISO14688定义粘土的颗粒小于63μm。 5）涂料 涂料种类繁多，用途广泛。涂料的颗粒大小及粒度分布直接影响涂料的质量和性能。 6）污染监测 粒度检测分析在产品的污染监测方面起着重要作用，产品的污染对产品的质量影响巨大。绝大多数行业都有相应的标准、规程或规范，必须严格遵守和执行，以保证产品满足质量要求。 7）化妆品 无论是普通化妆品还是保湿剂、止汗剂，它们的性能都直接与粒度的大小和分布有关。化妆品的颗粒大小会影响其在皮肤表面的涂抹性能、分布均匀性能以及反光性能。保湿乳液(一种乳剂)的粒度小于200纳米时才能被皮肤良好吸收，而止汗剂的粒度只有足够大时才能阻塞毛孔起到止汗的作用。 8）乳剂 乳剂是两种互不相溶的液体经乳化制成的非均匀分散体系，通常是水和油的混合物。乳剂有两种类型，一种是水分散在油中，另一种是油分散在水中。常见的乳剂制品有牛奶（水包油型）和黄油（油包水型），加工过程中它们均需均质化处理到所需的粒径大小以期延长保质期。 9）食品 食品的原料（粉末及液体）通常来源于不同的加工厂，不同来源的原料必须满足某些特定的标准以使最终制品的质量均一稳定。原料性质的任何波动都会对食品的口味和口感产生影响。用原料的粒度分布作为食品质量保证和质量控制（QA/QC）的一个指标可确保生产出质量均以稳定的食品制品。 10）液体工作介质/油 液体工作介质（如：油）越来越昂贵，延长液体介质的寿命是目前普遍关心的问题。机械设备运转过程中会产生金属屑或颗粒落入工作介质中（如：油浴润滑介质或液力传递介质），因此需要一种方法来确定介质（油）的更换周期。通过监测工作介质（油）中颗粒的分布和变化可以确定更换工作介质的周期以及延长其使用寿命。 11）墨水 随着打印机技术的不断发展，打印机用的墨水变得越来越重要。喷墨打印机墨水的粒度应当控制在一定的尺度以下，且分布均匀，大的颗粒易于堵塞打印头并影响打印质量。墨水是通过研磨方法制得的，可用粒度检测分析仪器设备监测其研磨加工过程，以保证墨水的颗粒粒度分布均匀，避免产生聚集的大颗粒。 12） 胶束 胶束是表面活性剂在溶液中的浓度超过某一临界值后，其分子或离子自动缔合而成的胶体尺度大小的聚集体质点微粒，这种胶体质点与离子之间处于平衡状态。 乳液、色漆、制药粉体、颜料、聚合物、蛋白质大分、二氧化硅以及自组装TiO_2纳米管(TNAs)等

秒准MAYZUM氧化铈抛光液在线浓度检测仪MAY-2001PG在线抛光液密度计、在线抛光液浓度计、抛光液浓度计、在线抛光液浓度检测仪、金刚石抛光液浓度检测仪、氧化硅抛光液浓度检测仪、氧化铈抛光液浓度检测仪、氧化铝抛光液浓度监控仪、在线抛光液浓度测试仪、抛光液在线浓度检测仪、抛光液在线浓度测试仪、在线抛光液波美度测试仪、玻璃抛光液浓度计、玻璃抛光液浓度检测仪、研磨液在线浓度计、氧化硅抛光液浓度计、氧化铈抛光液浓度计、氧化铈波美浓度检测仪、分散剂波美度检测仪、在线抛光液波美浓度计秒准MAY-2001PGY抛光液在线浓度计适用于测量金刚石抛光液、氧化硅抛光液、氧化铈抛光液、氧化铝抛光液、碳化硅抛光液的浓度波美度值，24小时实时在线监控，客户有伯*光学、比*迪汽车、卡*光学、可*电子……等，多年行业经验，针对抛光液容易产生气泡的痛点，提出多种解决方案，适应用户现场工况，免费提供上门装机服务。我司研发生产：在线光学浓度计、在线密度计、在线PH监控仪、全自动在线加药系统、自动排液系统、防误排误撞系统、台式密度浓度计、便携式折光仪、便携式密度浓度计，自有研发实验室，拥有100多种液体的温度补偿数据库，测量更加准确，承接非标定制单，欢迎咨询适用介质温度-30~120℃，防爆，可选法兰、螺纹、快卡连接，适用于测量氯化钙、酒精、白酒、甲醇、抛光液、硫酸、硝酸、盐酸、氨水、盐水、双氧水、石油、油品、浆料……等三、秒准MAYZUM氧化铈抛光液在线浓度检测仪MAY-2001PG特点描述：1.即插即用，免维护：安装方式灵活（安装于管道、槽体、反应釜、储罐…）、体积小巧，安装方式多样化，可选卡箍/法兰/螺纹安装；2.拥有强大的数据库，内置0-80℃温度补偿数据，克服了单片机内存小，温度补偿范围受限制的缺点。温度传感器与密度探头集成，紧贴测量介质，保证温度补偿及时、准确、可靠；3.不受介质颜色变化影响，不易受振动、压力变化的影响；4.出厂附带标定证书，无需现场校准，也不需要定期校准；5.用户自定义上下限报警，触屏输入，操作简单易懂，现场可接报警灯；6.标配多组信号模拟输出：可选4-20mA、RS485/232数字量、开关量（异常报警,上下限2路输出），便于客户集成控制，提高自动化程度，提高生产效率；7.采用4.3寸触屏人机交互界面，显示内容更详细，彩色界面，操作便利，可拓展性强，可按用户需求定制界面和功能；8.数据自动保存，便于查询：历史数据查询、生成历史数据曲线，快捷查询、导出EXCEL，自动数据分析与汇总，数据保存周期12个月，便于溯源（需选配MAY-LST历史数据存储功能）；9.支持sqlite数据库，可存储高达16G的历史数据，数据可通过U盘导出到电脑或者通过无线远传功能实时远传至PLC、PC、DCS等上位机系统；通过PC远程查看实时状态与报警。（需选配MAY-LOT数据远传模块）10.连续测量，迅速反馈，消除人工检测误差，不再需要人工频繁取样检测，节省大量人力财力，保证数据一致性，提升产品质量；11.采用智能化芯片，运行无需试剂耗材，功耗低，稳定性高，使用寿命长。四、秒准MAYZUM氧化铈抛光液在线浓度检测仪MAY-2001PG规格参数选型表：产品型号MAY-2001MAY-2001H测量项目密度g/cm³ 、温度℃、浓度%、波美度°Bé密度范围0-2.0g/cm³ 浓度范围0-100%分辨率0.001g/cm³ 、0.1℃、0.1%、0.1°Bé0.0001g/cm³ 、0.1℃、0.01%、0.01°Bé测量精度±0.002g/cm³ 、0.1℃、0.5%、0.5°Bé±0.0005g/cm³ 、0.1℃、0.1%、0.1°Bé测量温度-25℃-120℃温度补偿自动温度补偿，0-80℃环境温度-20℃-80℃关键部位材质£ 哈氏合金 £ 316L £ PTFE输入电源24V DC信号输出£ 4-20mA、£ RS485/232数字量、£ 开关量（异常报警,上下限2路输出）防护等级IP67耐压范围≤20MPa介质粘度0-2000cP（更高粘度请选择MAY-5001S）电气接口探头接口：M12*1.5、显示控制器接口：M16*1.5防爆等级£ MAY-2001常规款 £ MAY-2001EX本安型防爆 Ex ia IIB T6 Ga整机净重≈1050g≈1250g安装选项MAY-Y11卡箍弧形安装底座、MAY-PPR13三通管道、MAY-SS304L13三通管道……其他选项MAY-LST历史数据存储功能、MAY-LOT数据远传模块特殊标度非标定制，按客户需求建立数据模型

秒准MAYZUM在线抛光液波美浓度计MAY-2001PGY在线抛光液密度计、在线抛光液浓度计、抛光液浓度计、在线抛光液浓度检测仪、金刚石抛光液浓度检测仪、氧化硅抛光液浓度检测仪、氧化铈抛光液浓度检测仪、氧化铝抛光液浓度监控仪、在线抛光液浓度测试仪、抛光液在线浓度检测仪、抛光液在线浓度测试仪、在线抛光液波美度测试仪、玻璃抛光液浓度计、玻璃抛光液浓度检测仪、研磨液在线浓度计、氧化硅抛光液浓度计、氧化铈抛光液浓度计、氧化铈波美浓度检测仪、分散剂波美度检测仪、在线抛光液波美浓度计秒准MAY-2001PGY抛光液在线浓度计适用于测量金刚石抛光液、氧化硅抛光液、氧化铈抛光液、氧化铝抛光液、碳化硅抛光液的浓度波美度值，24小时实时在线监控，客户有伯*光学、比*迪汽车、卡*光学、可*电子……等，多年行业经验，针对抛光液容易产生气泡的痛点，提出多种解决方案，适应用户现场工况，免费提供上门装机服务。我司研发生产：在线光学浓度计、在线密度计、在线PH监控仪、全自动在线加药系统、自动排液系统、防误排误撞系统、台式密度浓度计、便携式折光仪、便携式密度浓度计，自有研发实验室，拥有100多种液体的温度补偿数据库，测量更加准确，承接非标定制单，欢迎咨询适用介质温度-30~120℃，防爆，可选法兰、螺纹、快卡连接，适用于测量氯化钙、酒精、白酒、甲醇、抛光液、硫酸、硝酸、盐酸、氨水、盐水、双氧水、石油、油品、浆料……等三、秒准MAYZUM在线抛光液波美浓度计MAY-2001PGY特点描述：1.即插即用，免维护：安装方式灵活（安装于管道、槽体、反应釜、储罐…）、体积小巧，安装方式多样化，可选卡箍/法兰/螺纹安装；2.拥有强大的数据库，内置0-80℃温度补偿数据，克服了单片机内存小，温度补偿范围受限制的缺点。温度传感器与密度探头集成，紧贴测量介质，保证温度补偿及时、准确、可靠；3.不受介质颜色变化影响，不易受振动、压力变化的影响；4.出厂附带标定证书，无需现场校准，也不需要定期校准；5.用户自定义上下限报警，触屏输入，操作简单易懂，现场可接报警灯；6.标配多组信号模拟输出：可选4-20mA、RS485/232数字量、开关量（异常报警,上下限2路输出），便于客户集成控制，提高自动化程度，提高生产效率；7.采用4.3寸触屏人机交互界面，显示内容更详细，彩色界面，操作便利，可拓展性强，可按用户需求定制界面和功能；8.数据自动保存，便于查询：历史数据查询、生成历史数据曲线，快捷查询、导出EXCEL，自动数据分析与汇总，数据保存周期12个月，便于溯源（需选配MAY-LST历史数据存储功能）；9.支持sqlite数据库，可存储高达16G的历史数据，数据可通过U盘导出到电脑或者通过无线远传功能实时远传至PLC、PC、DCS等上位机系统；通过PC远程查看实时状态与报警。（需选配MAY-LOT数据远传模块）10.连续测量，迅速反馈，消除人工检测误差，不再需要人工频繁取样检测，节省大量人力财力，保证数据一致性，提升产品质量；11.采用智能化芯片，运行无需试剂耗材，功耗低，稳定性高，使用寿命长。四、秒准MAYZUM在线抛光液波美浓度计MAY-2001PGY规格参数选型表：产品型号MAY-2001MAY-2001H测量项目密度g/cm³ 、温度℃、浓度%、波美度°Bé密度范围0-2.0g/cm³ 浓度范围0-100%分辨率0.001g/cm³ 、0.1℃、0.1%、0.1°Bé0.0001g/cm³ 、0.1℃、0.01%、0.01°Bé测量精度±0.002g/cm³ 、0.1℃、0.5%、0.5°Bé±0.0005g/cm³ 、0.1℃、0.1%、0.1°Bé测量温度-25℃-120℃温度补偿自动温度补偿，0-80℃环境温度-20℃-80℃关键部位材质£ 哈氏合金 £ 316L £ PTFE输入电源24V DC信号输出£ 4-20mA、£ RS485/232数字量、£ 开关量（异常报警,上下限2路输出）防护等级IP67耐压范围≤20MPa介质粘度0-2000cP（更高粘度请选择MAY-5001S）电气接口探头接口：M12*1.5、显示控制器接口：M16*1.5防爆等级£ MAY-2001常规款 £ MAY-2001EX本安型防爆 Ex ia IIB T6 Ga整机净重≈1050g≈1250g安装选项MAY-Y11卡箍弧形安装底座、MAY-PPR13三通管道、MAY-SS304L13三通管道……其他选项MAY-LST历史数据存储功能、MAY-LOT数据远传模块特殊标度非标定制，按客户需求建立数据模型

美国PSS公司CMP Slurry抛光液粒度分析仪AccuSizer780系列采用先进的SPOS单颗粒技术和带有的自动稀释进样模块，能真实地测试出样品尾端大粒子的粒度分布和颗粒浓度，具有超高的辨析率和快速测试能力。最高计数可达到E11个/mL, 从而确保各种分散体系的稳定性和品质。单颗粒传感技术填补了其他技术在检测粒径分布中的重要不足——粒子数量的统计。自AccuSizer 780系列仪器诞生，以往以牺牲精确性和分辨率来换取检测速度和易用的历史一去不复返！测试范围：0.15 μm – 2500 μm。AccuSizer 780系列可为超大粒径颗粒提供最可靠、最准确的粒径和计数数据。AccuSizer780系列仪器揭示出了不同于以往的粒径分布数据。AccuSizer780系列可以清晰准确地呈现粒径分布，而粒径分布往往是直接与材料物性相关联的。从研发到生产，全球各大实验室均已应用并验证了AccuSizer 780系列仪器可以用作重塑产品品质的强有力工具。AccuSizer 780系列多功能自动计数粒径检测仪是创先使用自动稀释技术来对样品进行检测，且提供高分辨率的粒径检测分析仪。AccuSizer 780系列光阻法单颗粒分析仪 采用拥有的单颗粒测量技术（SPOS）和动态自动稀释技术实现单颗粒依次检测分析，具有极佳的灵敏度、解析度和精确度，不存在颗粒间相互干扰问题。由于获得的是真实粒度分 布，因此测量结果重复性好、准确可靠、统计精度高，特别适于检测分析亚微米颗粒体系中较大颗粒的分布信息。动态自动稀释和清洗系统使得测试方便快捷。只需通过鼠标的单击操作，即能帮助用户在短时间内完成从进样到检测，进而清洗系统的所有操作，使用户获得粒径的详细分布信息。近期独立试验证明：在检测离群值（尾部大颗粒）时，单颗粒传感技术（SPOS）比光散射法和声学法敏感1,500到25,000倍。应用单颗粒传感技术（SPOS）的AccuSizer 780系列光阻法单颗粒分析仪仪器更加稳定和灵敏，一次只允许一个粒子通过检测器，可以避免错过任何一个粒子。粒子灵敏度 ≤10PPT粒径准确度在 ≤2%粒子计数准确度 ≤10%PSS粒度仪应用领域： 医药领域：乳剂，注射剂，脂质体，胶体，混悬剂，滴眼液，高分子，病毒，疫苗等； 半导体： CMP Slurry，芯片，晶圆加工等； 特殊化工品：墨水&喷墨，纳米材料，化工染料，润滑剂，清洗剂等。 其他：过滤产品，清洁度方面，食品饮料，化妆品等

v 该化学机械抛光机可用于各类半导体集成电路、氧化物、金属、STI、SOI等产品的CMP平坦化抛光。 通过更换抛光头可兼容4、6、8英寸晶圆v 系统功能：手动上下片，程序自动进行抛光，配有终点监测装置，配置半自动loading & unloading托盘系统，8寸规格，方便8寸晶圆上下片v 抛光数据监测：具有摩擦力监测功能v 配备红外温度计实时监测抛光过程中抛光垫表面温度v 抛光盘直径≥20inch(508mm) 转速范围：30-200rpmv 抛光头wafer加压方式：气囊加压，带有背压功能v wafer压力控制范围：70-500g/cm2v 保持环压力控制范围：70-700g/cm2v 抛光头转速范围：30-200rpm 摆动幅度：±10mmv 抛光液供应系统：3个可调流量蠕动泵供液，3路独立的抛光液通道，滴液位置可调v 配置摩擦力&温度终点监控系统：含专用监测软件，带有End point detection功能v 控制系统：PC工控机控制，触摸屏操作，可存储20个加工程序，加工程序最多可设6个不同加工阶段v 均匀性 (1sigma,EE(Edge Exclusion):5mm)片内非均匀性WIWNU≤5% 片间非均匀性WTWNU≤5%

&bull 应用简介磨抛这一步在金相制备中有多种不同的方式和组合。最常见的是用于研磨和抛光的台式磨抛机。无论什么形式都是为了得到一个无变形和可用于分析测试的试样表面。选择初始研磨的磨粒颗粒大小时，只需要能使表面磨平和去除切割在表面造成的损伤层即可。每个后续步骤应该是将变形逐渐变小，并同时能去掉上一步骤所造成的损伤。自始至终保持充足的润滑剂，通常为水，可最大程度地使变形层减到最小。&bull 设备概述Fpol 251是一款单盘、无级调速、金相试样磨拋机。操作方便快捷，适用于金相试样粗磨、精磨、粗抛、精抛等各种金相加工全过程。高度自动化，人性化，极大程度减少人力投入，智能磨抛，是各企业科研院所及从事进行金相学术研究的首选设备。&bull 产品特点◇ 一机多用，轻松完成金相试样的预磨，粗磨，精磨，粗抛和精抛◇ 无级调速，采用伺服控制系统，扭矩大，低速不卡顿◇ 易于操控的开关和旋钮，操作简单◇ 实时显示工作盘转速◇ 电磁阀控制水的通断◇ 可切换正反转◇ 工作盘经过精细研磨和表面处理◇ 工作盘采用三点定位安装方式，保证平面度，方便拆卸◇ 工作盘运动过程中，跳动小于3丝（检测位置为离工作盘中心三分之二处）◇ 整体成型的高强度复合材料外壳，坚固耐用，永不生锈◇ 配置急停按钮，更安全可靠&bull 技术参数设备名称单盘金相磨抛机设备型号Fpol 251控制方式按键/旋钮工作盘数量1工作盘直径标配φ250mm（选配φ200mm、φ230mm）工作盘转速50-1000r/min，无级调速，实时显示工作盘转向顺时针、逆时针可调电机功率800W供水需要电源单相 AC220V 50Hz重量30KG产品尺寸465x550x215mm&bull 配置清单序号名称规格数量1. 设备主机Fpol 2511台2. 高级圆盘砂纸φ250mm、120#5张3. 高级圆盘砂纸φ250mm、320#5张4. 高级圆盘砂纸φ250mm、800#5张5. 高级圆盘砂纸φ250mm、1500#5张6. 高级圆盘砂纸φ250mm、2000#5张7. 单晶金刚石悬浮抛光液500ml、3μm1瓶8. 红色短植绒抛光布φ250mm1张9. 扣圈/1个10. 防水圈/1个11. 进出水管及配套附件/1套12. 合格证、保修卡、说明书/1套&bull 附件及耗材（选配）名称规格型号特点高级圆盘砂纸粒度：P80、P120、P180、P240、P320、P400、P600、P800、P1000、P1200、P1500、P2000、P2500、P40001.高级树脂粘合系统保证了材料的更高研磨能力和更长时间耐磨损率；2.优越的耐水性进口乳胶添加剂保证了良好的防水性能； 3.砂纸整体加厚。高级透明背胶砂纸粒度：P80、P120、P180、P240、P320、P400、P600、P800、P1000、P1200、P1500、P2000、P2500、P4000直径：200、230、250、3001.特别背胶保证了无需去胶剂即可毫不费力从研磨盘取下砂纸；2.所有的砂纸背部都有胶黏剂拉带，使得砂纸的背胶衬纸能够方便的撕下；3.背胶衬纸透明色，清楚看到砂纸粒度。红色短植绒抛光布直径：200、230、250、300适用0.25~1μ，用于所有材料的精抛。黑色丝绒抛光布直径：200、230、250、300适用0.5~3.5μ，用于所有材料的精抛。绿色加厚丝绸抛光布直径：200、230、250、300适用0.05~3.5μm，用于观察金属夹杂，热处理厂用精抛。白色羊毛编织抛光布直径：200、230、250、300适用3~6μ，超耐磨，尤其适用不镶嵌件精抛。黑色阻尼抛光布直径：200、230、250、300适用1.5~9μ，用于玻璃、硅片、晶体的抛光。白色人造丝抛光布直径：200、230、250、300适用3~9μm，耐磨损，适合介于粗抛和精抛的中间抛光。沥水架用于使用后的抛光布和砂纸的放置，简单耐用。金刚石喷雾抛光剂粒度：0.5um、1um、2.5um、3.5um、5um、7um、10um包装：350ml环境友好，安全可靠，适用于手动和自动设备制样。金刚石悬浮抛光液类型：单晶加强水基、单晶加强二合一、多晶加强水基、多晶加强二合一、酒精基粒度：0.25um、0.5um、1um、3um、6um、9um包装：500ml、1L、5L环境友好，安全可靠，适用于手动和自动设备制样。氧化铝悬浮抛光液粒度：0.05um、0.3um包装：500ml，1L环境友好，安全可靠，适用于手动和自动设备制样。二氧化硅悬浮抛光液粒度：40um、50nm、20nm包装：500ml，1L环境友好，安全可靠，适用于手动和自动设备制样。砂纸快换系统直径：200、230、250、300包括磁性防粘盘1片，魔术吸附盘1片，砂纸无需揭开背胶、无需卡圈直接使用，高效方便、减少耗材用量、节省成本。抛光布快换系统直径：200、230、250、300包括背胶磁性盘1片，防粘支撑盘1片，快速切换抛光布，高效方便、减少耗材用量、节省成本。定量磨削夹具（直径：30、40用于金相样品在磨抛时控制样品被磨抛去的厚度，使得需要被观测的位置处在样品表面。分辨率：0.01mm。循环过滤系统60L磨抛机专用过滤循环水箱，三级过滤，过滤精度0.1um。&bull 服务承诺1、产品到达贵公司后，我公司工程师可在贵公司准备好设备所需外部条件（如水、电、气等）后，负责该设备的安装、调试、启动工作，并提供良好的技术支持和售后服务，同时对贵公司使用人员进行设备使用培训，保证受训人员能够独立、熟练操作设备和完成简单的维修工作、设备日常维护工作。★复杂设备，此项工作在用户现场进行，简单设备，此项工作远程视频指导进行，具体按照双方合同条款执行。2、我公司产品在贵公司负责人验收合格书上签字之日起计算，免费保修壹年。在免费保修期内，产品发生非人为质量问题，我公司为贵公司提供免费维修。如产品在免费保修期外出现故障，维修服务只适当收取人工费与材料成本费，并采取“先维修后付费”的原则。3、我司拥有全国客户支持中心，通过电话及视频通话及时帮助全国客户解答问题，拥有一支训练有素的工程师队伍为全国各地的客户提供优质、快速的上门服务。我司在接到贵方的故障通知后，保证在 0.5 小时内做出响应，如有需要，确保在12小时内到达客户现场排除故障。4、我公司承诺在该设备的使用期间，可无偿、无限期地提供该设备的技术支持工作。5、我公司承诺提供免费软件升级服务（如涉及）。6、我司工程师长期免费为客户提供金相/切片制样工艺制定协助。7、我司有完善的金相耗材体系，客户有新材料需要制样时，免费为客户提供合适的耗材进行测试。8、由于我司和SGS、华测检测、上海机械协会失效分析委员会、上海市电子学会SMT/MPT专委会、北京科技大学、苏州大学等行业权威第三方检测机构和学术机构有深入合作，我方承诺为客户失效分析实验室提供长期免费咨询服务和引荐服务。

请联系：张先生通过抛光液和抛光垫的配合使用，对晶圆的表面进行抛光加工。

v 半导体研磨抛光机是一款操作简单的桌面型单面抛光设备，可搭配铜盘、锡盘、玻璃盘、不锈钢盘等，配合不同类型的抛光液，适用于各种半导体材料的研磨抛光，满足科研院校、企业的研发及小批量生产v 抛光盘规格：380mmv 陶瓷盘规格：139mmv 抛光头数量：2v 抛光盘转速范围：0~ 70RPM摆动幅度：±5mm

应用简介振动抛光可去除样品表面机械化制样后残留的细微变形层，消除样品的表面应力，提高样品表面光洁度。对于电子背散射衍射 (EBSD)分析、原子力显微镜（AFM）分析、电镜（SEM）分析等，前序样品制备非常有效。同时，振动抛光因其优异的机械-化学抛光效果，适合大部分材料的精抛和终抛，尤其适用于软质和韧性材料，如纯钛及钛合金、纯铝及铝合金、纯铜及铜合金、镍基合金、高温合金等。设备概述Fpol Vib2振动抛光机可以产生几乎完全水平方向的振动，最大限度提高了样品与抛光介质的接触时间。用户设定好程序后就可以离开，样品在抛光盘内作圆周移动，自动地开始振动抛光，结束后自动停止，无需人员干预。Fpol Vib2振动抛光机利用弹簧板及磁吸合电机来产生振动，连接抛光盘与振体之间的弹簧板有一定角度，使得样品在抛光盘内缓慢地、温和地作圆周运动。Fpol Vib2振动抛光机配合FEMA的终抛介质，可以实现机械-化学抛光，可有效的去除样品表面的变形层，获得平整、光亮、无明显划痕的样品表面。产品特点 ◇ 变频控制，面板设计简洁，数字化显示运行参数，操作简单 ◇ 无需工作人员值守，参数设定好，设备自动运行，自动停止 ◇ 水平运动温和地抛光样品，去除样品表面变形层，不引起机械应力 ◇ 对混合材料和不均匀样品都能达到很好的抛光效果 ◇ 对样品进行机械-化学抛光，取代电解抛光，无需使用危险抛光介质 ◇ 采用定制振动盘，噪音小，运行平稳 ◇ 抛光盘采用易装拆设计，方便拆卸清洗 ◇ 机身表面采用粉末涂层处理，强度高、外观好 ◇ 透明防尘盖便于观察样品抛光状态 ◇ 不同规格样品夹持器可选，特殊规格可定制 ◇ 直径305mm研磨盘，可同时制备多达18个样品 ◇ 适用于大型未镶嵌样品抛光 ◇ 配置急停按钮 ◇ 配置终抛抛光布及抛光液技术参数设备名称振动抛光机设备型号Fpol Vib2控制方式按键式工作盘直径12英寸/305mm单次制样数量1-18个频率0-240Hz功率600W最大设定时间9999分钟电压220V，50/60Hz重量(kg)150整机尺寸(WxDxH)500*630*465mm配置清单序号名称规格数量设备主机Fpol Vib21台Φ30mm夹具、配重块\3套Φ30mm求平器\1个透明防尘盖\1个终抛抛光布Φ305mm1张终抛抛光液500ml1瓶随机工具/1套合格证、保修卡、说明书/1套附件及耗材（选配）名称规格型号特点精抛抛光布直径：305mm用于材料的精抛。终抛抛光布直径：305mm用于材料的终抛。精抛悬浮抛光液粒度：50nm包装：500ml、1L环境友好，安全可靠，适用于样品精抛。终抛悬浮抛光液粒度：20nm包装：500ml，1L环境友好，安全可靠，适用于样品终抛。夹具、配重块直径：25mm、30mm、40mm、50mm，其他定制用于不同镶嵌样品的装夹和配重。服务承诺1、产品到达贵公司后，我公司工程师可在贵公司准备好设备所需外部条件（如水、电、气等）后，负责该设备的安装、调试、启动工作，并提供良好的技术支持和售后服务，同时对贵公司使用人员进行设备使用培训，保证受训人员能够独立、熟练操作设备和完成简单的维修工作、设备日常维护工作。★复杂设备，此项工作在用户现场进行，简单设备，此项工作远程视频指导进行，具体按照双方合同条款执行。2、我公司产品在贵公司负责人验收合格书上签字之日起计算，免费保修壹年。在免费保修期内，产品发生非人为质量问题，我公司为贵公司提供免费维修。如产品在免费保修期外出现故障，维修服务只适当收取人工费与材料成本费，并采取“先维修后付费”的原则。3、我司拥有全国客户支持中心，通过电话及视频通话及时帮助全国客户解答问题，拥有一支训练有素的工程师队伍为全国各地的客户提供优质、快速的上门服务。我司在接到贵方的故障通知后，保证在 0.5 小时内做出响应，如有需要，确保在12小时内到达客户现场排除故障。4、我公司承诺在该设备的使用期间，可无偿、无限期地提供该设备的技术支持工作。5、我公司承诺提供免费软件升级服务（如涉及）。6、我司工程师长期免费为客户提供金相/切片制样工艺制定协助。7、我司有完善的金相耗材体系，客户有新材料需要制样时，免费为客户提供合适的耗材进行测试。8、由于我司和SGS、华测检测、上海机械协会失效分析委员会、上海市电子学会SMT/MPT专委会、北京科技大学、苏州大学等行业权威第三方检测机构和学术机构有深入合作，我方承诺为客户失效分析实验室提供长期免费咨询服务和引荐服务。

自动金相抛光机METPOL-A性能：◆ METPOL–A是一款全自动金相抛光机，可使用手动模式◆ 超大彩色触摸屏，清晰，易于操作◆ 可以预设/存储5组*12个步骤/组的程序，方便多种材料的研究◆ 动力头可气动限位设定，在自动模式下，使砂纸、抛光布的利用率更高◆ 磨盘转速可调，转向可顺时针或逆时针◆ 动力头转速可调，转向可顺时针或逆时针◆ 动力头卡具有180°旋转功能，方便装、取样品◆ 研磨、抛光后动力头可自动复位◆ 冷却水喷嘴可转向、可伸缩◆ 有自动清洗功能◆ 兼容自动给液系统，自动给液系统有抛光液回流功能，防止给液管堵塞◆ 简洁、方便的排水系统◆ 卡具可卡持6个样品，可选配变径环调节直径◆ 防腐处理的碗型内衬◆ 防腐处理的钢体机身，坚固耐用◆ 自带防溅罩、防尘盖自动金相抛光机METPOL-A技术参数： 磨盘尺寸 10in(254mm)，12in(305mm)，单盘 电源 220V，单相，50Hz 磨盘电机功率 1Hp(735W) 动力头电机功率 0.5Hp(370W) 磨盘/动力头转向 顺时针或逆时针，可调 磨盘转速 手动10-600rpm/min，自动10-700rpm/min，可调 动力头转速 30-150rpm/min，可调 动力头加载力值 单点力：10N-90N 加载模式 气动 升降模式 电动，限位控制 样品卡持能力 6个 压缩空气压力 1-4bar，可调 进气口尺寸 8mm 上水口尺寸 8mm 下水口尺寸 内径32mm 显示屏 对角线7in彩色触摸屏 预设程序 5组，每组12个步骤 自动给液系统 3个抛光液+1个冷却液 卡具尺寸 in：1，1.25，1.5，2；mm：25，30，40，50，可选配变径环调节 尺寸（W×D×H） 470×845×560mm 重量 104kg订货信息： 产品编号产品描述 37 03-A-1010in自动金相抛光机METPOL-A 37 03-A-1212in自动金相抛光机METPOL-A 37 03-AD自动给液系统 37 03-A-SH单点力卡具 6×40mm 37 03-A-DR变径环 1in, 1.25in, 1.5in, 25mm, 30mm可选 GPA-1010in工作铝盘 GPM-1010in磁性盘 GPI-1010in铁盘 GPR-1010in橡胶盘 GPA-1212in工作铝盘 GPM-1212in磁性盘 GPI-1212in铁盘 GPR-1212in橡胶盘

第一、产品简介：韩国CTS公司的AP300型CMP化学机械抛光机是一款科研级的CMP系统，采用CTS公司工业级的设计理念，为科研工作者及先进制程开发公司提供了一套研究级别的化学机械抛光高端设备，可兼容4寸，6寸，8寸,12寸样品。第二、产品主要特色：1、CMP抛光头：采用气囊加载模式，5区压力独立控制，可得到良好的工业级抛光效果；2、自动上下片，自动抛光，干进湿出；3、抛光垫修整器：摆臂式设计，由13个传感器分别控制13个区域的下压力，可保证抛光垫高水平修整；4、抛光垫修整器：具有在线修整与离线修整两种模式；5、工艺数据可实时监测；6、可存储多个Recipe.第三、核心技术参数：抛光头兼容4寸，6寸，8寸,12寸抛光头摆动范围±15mm抛光头转速0-200rpm 抛光头加压方式气囊柔性加压背压功能（-区加压）抛光头压力范围0.14-14 psi抛光盘尺寸20英寸抛光盘转速0-200 rpm蠕动泵2个抛光液流速20-500 cc/min抛光垫修整器分区13区抛光垫修整器在线扫描速度10sweeps/min抛光垫修整器下压力3-20lbs抛光垫修整器转速0-150rpmCMP后片内非均匀性WIWNU 1sigma，去边5mm 5%CMP后片间非均匀性WTWNU 1sigma，去边5mm 3%仪器尺寸1000×2030×2100(W× L× H, mm)冷却系统包含四，应用实例：CMP工艺 Si CMP, 氧化物 CMP(BPSG, TEOS, ThOx), 金属 CMP(W, Cu), 介质膜，STI等工艺开发 可协助客户进行各类材料/薄膜等的CMP工艺技术开发

&bull 应用简介磨抛这一步在金相制备中有多种不同的方式和组合。最常见的是用于研磨和抛光的台式磨抛机。无论什么形式都是为了得到一个无变形和可用于分析测试的试样表面。选择初始研磨的磨粒颗粒大小时，只需要能使表面磨平和去除切割在表面造成的损伤层即可。每个后续步骤应该是将变形逐渐变小，并同时能去掉上一步骤所造成的损伤。自始至终保持充足的润滑剂，通常为水，可最大程度地使变形层减到最小。&bull 设备概述Fpol 252A auto是一款触摸屏控制、单点气动、双盘双控、自动滴液、全自动磨拋机。操作方便快捷，适用于金相试样粗磨、精磨、粗抛、精抛等各种金相加工全过程。一次性可固定六个样品，每个样品单独施加磨抛压力，触摸屏界面，高度自动化，人性化，极大程度减少人力投入，智能磨抛，是各企业科研院所及从事进行金相学术研究的首选设备。&bull 产品特点◇ 控制方式：彩色触摸屏PLC控制，参数设置方便，状态显示直观◇ 操作方式：手自一体，具有手动、自动、多工序模式◇ 控制系统：程序控制磨盘、磨头、时间、水阀、工艺、参数等◇ 自动模式：内置50套工艺，各个参数可以设置保存调用◇ 多工序模式：可对样品进行命名，可对样品设置一整套研磨抛光流程，并能保存调用整套流程。选择样品后，上一道流程结束，自动进行下一道流程◇ 滴液系统：六工位滴液系统，具有和磨抛机主体相联机的手动、自动、多工序模式◇ 磨盘控制：双盘双控，即两个盘独立控制◇ 磨盘：精细研磨和表面处理，通过三点定位法安装，磨盘工作时跳动≤3丝◇ 加载力方式：单点气动，每个样品单独施加压力，传感器控制，自动加载◇ 磨头锁紧方式：电磁自动锁紧◇ 电机：双伺服系统，高效低噪音，低速不卡顿◇ 外壳：高强度复合材料，整体成型，坚固耐用，永不生锈◇ 底座：高强度机身、粉末涂层◇ 急停按钮：配置急停按钮，提高设备安全性◇ 一键清洗：具有磨盘一键清洗功能，提高制样效率◇ 配置砂纸快换系统，砂纸无需揭开背胶、无需卡圈直接使用，高效方便、减少耗材用量、节省成本◇ 配置抛光布快换系统，快速切换抛光布，高效方便、减少耗材用量、节省成本◇ 配套高端金相耗材&bull 技术参数设备名称全自动磨抛机设备型号Fpol 252A auto操作方式触摸屏、手自一体磨盘数量2磨盘控制双盘双控磨盘直径φ254mm磨盘转速0-1500r/min，转向正反转可以切换磨头转速0-200r/min，转向正反转可以切换加载力方式单点气动，传感器控制，自动加载加载力范围0-200N（单个）样品夹持器六工位，φ22x4+φ20x2磨头锁紧方式电磁自动锁紧滴液系统六工位，手动、自动、多工序三种模式，触摸屏PLC控制气动加压系统需要电源AC220V，50/60Hz，2KW电机双伺服系统、0.75KWx2重量90KG产品尺寸750x700x700mm&bull 软件界面 &bull 配置清单序号名称规格数量1. 设备主机Fpol 252A auto1台2. 六工位滴液系统Dispensing System1套3. 样品夹持盘Φ22x4+φ20x21个4. 高级透明背胶砂纸φ250mm、120#20张5. 高级透明背胶砂纸φ250mm、320#20张6. 高级透明背胶砂纸φ250mm、800#20张7. 高级透明背胶砂纸φ250mm、1500#20张8. 高级透明背胶砂纸φ250mm、2000#20张9. 多晶加强二合一金刚石抛光液500ml、3μm1瓶10. 多晶加强二合一金刚石抛光液500ml、1μm1瓶11. 白色人造丝抛光布φ250mm1张12. 红色短植绒抛光布φ250mm1张13. 砂纸快换系统之背胶磁性盘φ250mm1张14. 砂纸快换系统之魔术吸附盘φ250mm4张15. 抛光布快换系统之背胶磁性盘φ250mm1张16. 抛光布快换系统之防粘支撑盘φ250mm2张17. 沥水架/1个18. 防水圈/2个19. 进出水管及配套附件/1套20. 工具/1套21. 合格证、保修卡、说明书/1套&bull 附件及耗材（选配）名称规格型号特点高级圆盘砂纸粒度：P80、P120、P180、P240、P320、P400、P600、P800、P1000、P1200、P1500、P2000、P2500、P40001.高级树脂粘合系统保证了材料的更高研磨能力和更长时间耐磨损率；2.优越的耐水性进口乳胶添加剂保证了良好的防水性能； 3.砂纸整体加厚。高级透明背胶砂纸粒度：P80、P120、P180、P240、P320、P400、P600、P800、P1000、P1200、P1500、P2000、P2500、P4000直径：200、230、250、3001.特别背胶保证了无需去胶剂即可毫不费力从研磨盘取下砂纸；2.所有的砂纸背部都有胶黏剂拉带，使得砂纸的背胶衬纸能够方便的撕下；3.背胶衬纸透明色，清楚看到砂纸粒度。红色短植绒抛光布直径：200、230、250、300适用0.25~1μ，用于所有材料的精抛。黑色丝绒抛光布直径：200、230、250、300适用0.5~3.5μ，用于所有材料的精抛。绿色加厚丝绸抛光布直径：200、230、250、300适用0.05~3.5μm，用于观察金属夹杂，热处理厂用精抛。白色羊毛编织抛光布直径：200、230、250、300适用3~6μ，超耐磨，尤其适用不镶嵌件精抛。黑色阻尼抛光布直径：200、230、250、300适用1.5~9μ，用于玻璃、硅片、晶体的抛光。白色人造丝抛光布直径：200、230、250、300适用3~9μm，耐磨损，适合介于粗抛和精抛的中间抛光。沥水架用于使用后的抛光布和砂纸的放置，简单耐用。金刚石喷雾抛光剂粒度：0.5um、1um、2.5um、3.5um、5um、7um、10um包装：350ml环境友好，安全可靠，适用于手动和自动设备制样。金刚石悬浮抛光液类型：单晶加强水基、单晶加强二合一、多晶加强水基、多晶加强二合一、酒精基粒度：0.25um、0.5um、1um、3um、6um、9um包装：500ml、1L、5L环境友好，安全可靠，适用于手动和自动设备制样。氧化铝悬浮抛光液粒度：0.05um、0.3um包装：500ml，1L环境友好，安全可靠，适用于手动和自动设备制样。二氧化硅悬浮抛光液粒度：40um、50nm、20nm包装：500ml，1L环境友好，安全可靠，适用于手动和自动设备制样。砂纸快换系统直径：200、230、250、300包括磁性防粘盘1片，魔术吸附盘1片，砂纸无需揭开背胶、无需卡圈直接使用，高效方便、减少耗材用量、节省成本。抛光布快换系统直径：200、230、250、300包括背胶磁性盘1片，防粘支撑盘1片，快速切换抛光布，高效方便、减少耗材用量、节省成本。定量磨削夹具（直径：30、40用于金相样品在磨抛时控制样品被磨抛去的厚度，使得需要被观测的位置处在样品表面。分辨率：0.01mm。循环过滤系统60L磨抛机专用过滤循环水箱，三级过滤，过滤精度0.1um。自动滴液系统六工位1.各通道分别设置，同时工作；2.与设备联机，按照磨抛机设定的参数进行滴液；3.手动、自动、多工序三种模式可选。&bull 服务承诺1、产品到达贵公司后，我公司工程师可在贵公司准备好设备所需外部条件（如水、电、气等）后，负责该设备的安装、调试、启动工作，并提供良好的技术支持和售后服务，同时对贵公司使用人员进行设备使用培训，保证受训人员能够独立、熟练操作设备和完成简单的维修工作、设备日常维护工作。★复杂设备，此项工作在用户现场进行，简单设备，此项工作远程视频指导进行，具体按照双方合同条款执行。2、我公司产品在贵公司负责人验收合格书上签字之日起计算，免费保修壹年。在免费保修期内，产品发生非人为质量问题，我公司为贵公司提供免费维修。如产品在免费保修期外出现故障，维修服务只适当收取人工费与材料成本费，并采取“先维修后付费”的原则。3、我司拥有全国客户支持中心，通过电话及视频通话及时帮助全国客户解答问题，拥有一支训练有素的工程师队伍为全国各地的客户提供优质、快速的上门服务。我司在接到贵方的故障通知后，保证在 0.5 小时内做出响应，如有需要，确保在12小时内到达客户现场排除故障。4、我公司承诺在该设备的使用期间，可无偿、无限期地提供该设备的技术支持工作。5、我公司承诺提供免费软件升级服务（如涉及）。6、我司工程师长期免费为客户提供金相/切片制样工艺制定协助。7、我司有完善的金相耗材体系，客户有新材料需要制样时，免费为客户提供合适的耗材进行测试。8、由于我司和SGS、华测检测、上海机械协会失效分析委员会、上海市电子学会SMT/MPT专委会、北京科技大学、苏州大学等行业权威第三方检测机构和学术机构有深入合作，我方承诺为客户失效分析实验室提供长期免费咨询服务和引荐服务。

第一、产品简介：韩国CTS公司的AP200型CMP抛光机是一款科研级的CMP系统，采用CTS公司工业级的设计理念，为科研工作者及先进制程开发公司提供了一套研究级别的高端设备，可兼容4寸，6寸，8寸样品。第二、产品主要特色：1、CMP抛光头：采用气囊加载模式，核心区，边缘区，保持环三区压力控制，可得到良好的工业级抛光效果；2、自动上下片，自动抛光，干进湿出；3、抛光垫修整器：摆臂式设计，由10个传感器分别控制10个区域的下压力，可保证抛光垫高水平修整；4、抛光垫修整器：具有在线修整与离线修整两种模式；5，工艺数据可实时监测；6、可存储多个Recipe.第三、核心技术参数：抛光头兼容4寸，6寸，8寸抛光头摆动范围±15mm抛光头转速0 -200 rpm 抛光头加压方式气囊柔性加压背压功能（3区加压）抛光头压力范围0.14-14 psi抛光盘尺寸20英寸抛光盘转速0 -200 rpm蠕动泵2个抛光液流速20-500 cc/min抛光垫修整器分区10区抛光垫修整器在线扫描速度10sweeps/min抛光垫修整器下压力3-20lbs抛光垫修整器转速0-150rpmCMP后片内非均匀性WIWNU 1sigma，去边5mm5%CMP后片间非均匀性WTWNU 1sigma，去边5mm3%仪器尺寸1000×2030×2100(W x L x H, mm)冷却系统可选四，应用实例： CMP工艺 Si CMP, 氧化物 CMP(BPSG, TEOS, ThOx), 金属 CMP(W, Cu), 介质膜，STI等 工艺开发 可协助客户进行各类材料/薄膜等的CMP工艺技术开发

应用简介磨抛这一步在金相制备中有多种不同的方式和组合。最常见的是用于研磨和抛光的台式磨抛机。无论什么形式都是为了得到一个无变形和可用于分析测试的试样表面。选择初始研磨的磨粒颗粒大小时，只需要能使表面磨平和去除切割在表面造成的损伤层即可。每个后续步骤应该是将变形逐渐变小，并同时能去掉上一步骤所造成的损伤。自始至终保持充足的润滑剂，通常为水，可最大程度地使变形层减到最小。设备概述Fpol 252A pro是一款触摸屏控制、单点气动、双盘双控、自动金相磨拋机。操作方便快捷，适用于金相试样粗磨、精磨、粗抛、精抛等各种金相加工全过程。一次性可固定六个样品，每个样品单独施加磨抛压力，触摸屏界面，高度自动化，人性化，极大程度减少人力投入，智能磨抛，是各企业科研院所及从事进行金相学术研究的首选设备。产品特点◇ 控制方式：彩色触摸屏，参数设置方便，状态显示直观◇ 操作方式：手自一体，具有手动、自动、多工序模式◇ 控制系统：程序控制磨盘、磨头、时间、水阀、工艺、参数等◇ 自动模式：内置50套工艺，各个参数可以设置保存调用◇ 多工序模式：可对样品进行命名，可对样品设置一整套研磨抛光流程，并能保存调用整套流程。选择样品后，上一道流程结束，自动进行下一道流程◇ 磨盘控制：双盘双控，即两个盘独立控制◇ 磨盘：精细研磨和表面处理，通过三点定位法安装，磨盘工作时跳动≤3丝◇ 加载力方式：单点气动，每个样品单独施加压力◇ 磨头锁紧方式：电磁自动锁紧◇ 电机：双伺服系统，高效低噪音，低速不卡顿◇ 外壳：高强度复合材料，整体成型，坚固耐用，永不生锈◇ 底座：高强度机身、粉末涂层◇ 急停按钮：配置急停按钮，提高设备安全性◇ 一键清洗：具有磨盘一键清洗功能，提高制样效率◇ 配置砂纸快换系统，砂纸无需揭开背胶、无需卡圈直接使用，高效方便、减少耗材用量、节省成本◇ 配置抛光布快换系统，快速切换抛光布，高效方便、减少耗材用量、节省成本◇ 配套高端金相耗材技术参数设备名称双盘双控自动金相磨抛机设备型号Fpol 252A pro控制方式触摸屏操作方式手自一体磨盘数量2磨盘控制双盘双控磨盘直径φ254mm磨盘转速0-1000r/min，转向正反转可以切换磨头转速0-200r/min，转向正反转可以切换加载力方式单点气动样品夹持器标配φ30mmx6、其他定制磨头锁紧方式电磁自动锁紧供气需要供水需要电源AC220V，50/60Hz，2KW电机双伺服系统、0.75KWx2重量90KG产品尺寸750x700x700mm 软件界面配置清单序号名称规格数量设备主机Fpol 252A pro1台样品夹持盘Φ30mmx61个高级透明背胶砂纸φ250mm、120#20张高级透明背胶砂纸φ250mm、320#20张高级透明背胶砂纸φ250mm、800#20张高级透明背胶砂纸φ250mm、1500#20张高级透明背胶砂纸φ250mm、2000#20张多晶加强二合一金刚石抛光液500ml、3μm1瓶多晶加强二合一金刚石抛光液500ml、1μm1瓶白色人造丝抛光布φ250mm1张红色短植绒抛光布φ250mm1张砂纸快换系统之背胶磁性盘φ250mm1张砂纸快换系统之魔术吸附盘φ250mm4张抛光布快换系统之背胶磁性盘φ250mm1张抛光布快换系统之防粘支撑盘φ250mm2张沥水架/1个防水圈/2个进出水管及配套附件/1套工具/1套合格证、保修卡、说明书/1套附件及耗材（选配）名称规格型号特点高级圆盘砂纸粒度：P80、P120、P180、P240、P320、P400、P600、P800、P1000、P1200、P1500、P2000、P2500、P40001.高级树脂粘合系统保证了材料的更高研磨能力和更长时间耐磨损率；2.优越的耐水性进口乳胶添加剂保证了良好的防水性能； 3.砂纸整体加厚。高级透明背胶砂纸粒度：P80、P120、P180、P240、P320、P400、P600、P800、P1000、P1200、P1500、P2000、P2500、P4000直径：200、230、250、3001.特别背胶保证了无需去胶剂即可毫不费力从研磨盘取下砂纸；2.所有的砂纸背部都有胶黏剂拉带，使得砂纸的背胶衬纸能够方便的撕下；3.背胶衬纸透明色，清楚看到砂纸粒度。红色短植绒抛光布直径：200、230、250、300适用0.25~1μ，用于所有材料的精抛。黑色丝绒抛光布直径：200、230、250、300适用0.5~3.5μ，用于所有材料的精抛。绿色加厚丝绸抛光布直径：200、230、250、300适用0.05~3.5μm，用于观察金属夹杂，热处理厂用精抛。白色羊毛编织抛光布直径：200、230、250、300适用3~6μ，超耐磨，尤其适用不镶嵌件精抛。黑色阻尼抛光布直径：200、230、250、300适用1.5~9μ，用于玻璃、硅片、晶体的抛光。白色人造丝抛光布直径：200、230、250、300适用3~9μm，耐磨损，适合介于粗抛和精抛的中间抛光。沥水架用于使用后的抛光布和砂纸的放置，简单耐用。金刚石喷雾抛光剂粒度：0.5um、1um、2.5um、3.5um、5um、7um、10um包装：350ml环境友好，安全可靠，适用于手动和自动设备制样。金刚石悬浮抛光液类型：单晶加强水基、单晶加强二合一、多晶加强水基、多晶加强二合一、酒精基粒度：0.25um、0.5um、1um、3um、6um、9um包装：500ml、1L、5L环境友好，安全可靠，适用于手动和自动设备制样。氧化铝悬浮抛光液粒度：0.05um、0.3um包装：500ml，1L环境友好，安全可靠，适用于手动和自动设备制样。二氧化硅悬浮抛光液粒度：40um、50nm、20nm包装：500ml，1L环境友好，安全可靠，适用于手动和自动设备制样。砂纸快换系统直径：200、230、250、300包括磁性防粘盘1片，魔术吸附盘1片，砂纸无需揭开背胶、无需卡圈直接使用，高效方便、减少耗材用量、节省成本。抛光布快换系统直径：200、230、250、300包括背胶磁性盘1片，防粘支撑盘1片，快速切换抛光布，高效方便、减少耗材用量、节省成本。定量磨削夹具（直径：30、40用于金相样品在磨抛时控制样品被磨抛去的厚度，使得需要被观测的位置处在样品表面。分辨率：0.01mm。循环过滤系统60L磨抛机专用过滤循环水箱，三级过滤，过滤精度0.1um。自动滴液系统两工位、四工位1.各通道分别设置，同时工作；2.与设备联机，按照磨抛机设定的参数进行滴液；3.手动、联机、自动三种模式可选。服务承诺1、产品到达贵公司后，我公司工程师可在贵公司准备好设备所需外部条件（如水、电、气等）后，负责该设备的安装、调试、启动工作，并提供良好的技术支持和售后服务，同时对贵公司使用人员进行设备使用培训，保证受训人员能够独立、熟练操作设备和完成简单的维修工作、设备日常维护工作。★复杂设备，此项工作在用户现场进行，简单设备，此项工作远程视频指导进行，具体按照双方合同条款执行。2、我公司产品在贵公司负责人验收合格书上签字之日起计算，免费保修壹年。在免费保修期内，产品发生非人为质量问题，我公司为贵公司提供免费维修。如产品在免费保修期外出现故障，维修服务只适当收取人工费与材料成本费，并采取“先维修后付费”的原则。3、我司拥有全国客户支持中心，通过电话及视频通话及时帮助全国客户解答问题，拥有一支训练有素的工程师队伍为全国各地的客户提供优质、快速的上门服务。我司在接到贵方的故障通知后，保证在 0.5 小时内做出响应，如有需要，确保在12小时内到达客户现场排除故障。4、我公司承诺在该设备的使用期间，可无偿、无限期地提供该设备的技术支持工作。5、我公司承诺提供免费软件升级服务（如涉及）。6、我司工程师长期免费为客户提供金相/切片制样工艺制定协助。7、我司有完善的金相耗材体系，客户有新材料需要制样时，免费为客户提供合适的耗材进行测试。8、由于我司和SGS、华测检测、上海机械协会失效分析委员会、上海市电子学会SMT/MPT专委会、北京科技大学、苏州大学等行业权威第三方检测机构和学术机构有深入合作，我方承诺为客户失效分析实验室提供长期免费咨询服务和引荐服务。

1、 设备介绍通过将产品固定在抛光头的最下面，抛光时，旋转的抛光头以一定的压力压在旋转的抛光垫上，抛光液在抛光垫的传输和离心力的作用下，均匀分布其上，在硅片和抛光垫之间形成一层抛光液液体薄膜。抛光液中的化学成分与产品表面材料产生化学反应，将不溶的物质转化为易溶物质，或者将硬度高的物质进行软化，然后通过磨粒的微机械摩擦作用将这些化学反应物从产品表面去除，溶入流动的液体中带走，即在化学去膜和机械去膜的交替过程中实现平坦化的目的，通过先进的工艺可实现纳米级别的粗糙度效果。支持存储多种抛光工艺，操作简单便捷，支持2/4/6寸产品抛光，可提供常见晶圆加工工艺，24小时内售后及时响应。二、技术参数：基础配置：抛光头模块：气膜加压，个分区独立控制摩擦力模块：利用电机电流表征摩擦力样品加工能力：2/4/6英寸抛光实现方式：触屏程序控制抛光头下压力：0~4 psi（4英寸）抛光头转速：0~300 rpm，连续可控抛光盘转速：0~300 rpm，连续可控修整器转速：0~300 rpm，连续可控抛光头/修整器往复：行程90 mm，速度连续可控抛光液：1路，蠕动泵供液，流速0~300 mL/min去离子水：1路，蠕动泵供液，流速0~300 mL/min升级配置：电化学模块：电位范围±10 V，电流范围±250 mA，支持三电极、两电极体系，支持多种测量方法，如循环伏安法等。 紫外光模块：波长λ=95 nm的紫外光源、发光面积1020*100（mm）、耗电功率200W、相对光效2000W、能量峰值614mW。三、案例 铜空白晶圆 铜图案化晶圆 铜/镍MEMS晶圆 金属基底

u 应用简介磨抛这一步在金相制备中有多种不同的方式和组合。最常见的是用于研磨和抛光的台式磨抛机。无论什么形式都是为了得到一个无变形和可用于分析测试的试样表面。选择初始研磨的磨粒颗粒大小时，只需要能使表面磨平和去除切割在表面造成的损伤层即可。每个后续步骤应该是将变形逐渐变小，并同时能去掉上一步骤所造成的损伤。自始至终保持充足的润滑剂，通常为水，可最大程度地使变形层减到最小。u 设备概述Fpol 252D是一款双盘双控、无级调速、金相试样磨拋机。操作方便快捷，适用于金相试样粗磨、精磨、粗抛、精抛等各种金相加工全过程。高度自动化，人性化，极大程度减少人力投入，智能磨抛，是各企业科研院所及从事进行金相学术研究的首选设备。u 产品特点◇ 一机多用，轻松完成金相试样的预磨，粗磨，精磨，粗抛和精抛◇ 双盘双控，两个盘可分别控制，节省空间，使用方式更灵活◇ 无级调速，采用伺服控制系统，扭矩大，低速不卡顿◇ 易于操控的开关和旋钮，操作简单◇ 实时显示工作盘转速◇ 电磁阀控制水的通断◇ 可切换正反转◇ 工作盘经过精细研磨和表面处理◇ 工作盘采用三点定位安装方式，保证平面度，方便拆卸◇ 工作盘运动过程中，跳动小于3丝（检测位置为离工作盘中心三分之二处）◇ 整体成型的高强度复合材料外壳，坚固耐用，永不生锈◇ 配置急停按钮，更安全可靠u 技术参数设备名称双盘双控金相磨抛机设备型号Fpol 252D控制方式按键/旋钮工作盘数量2工作盘直径标配φ250mm（选配φ200mm、φ230mm）工作盘转速50-1000r/min，无级调速，实时显示工作盘转向顺时针、逆时针可调电机数量2电机功率800Wx2供水需要电源单相 AC220V 50Hz重量50KG产品尺寸720x550x215mmu 配置清单序号名称规格数量1. 设备主机Fpol 252D1台2. 高级圆盘砂纸φ250mm、120#5张3. 高级圆盘砂纸φ250mm、320#5张4. 高级圆盘砂纸φ250mm、800#5张5. 高级圆盘砂纸φ250mm、1500#5张6. 高级圆盘砂纸φ250mm、2000#5张7. 单晶金刚石悬浮抛光液500ml、3μm1瓶8. 黑丝丝绒抛光布φ250mm1张9. 单晶金刚石悬浮抛光液500ml、1μm1瓶10. 红色短植绒抛光布φ250mm1张11. 扣圈/2个12. 防水圈/2个13. 进出水管及配套附件/1套14. 合格证、保修卡、说明书/1套

第一、产品简介：韩国CTS公司的AP200型CMP抛光机是一款科研级的CMP系统，采用CTS公司工业级的设计理念，为科研工作者及先进制程开发公司提供了一套研究级别的高端设备，可兼容4寸，6寸，8寸样品。第二、产品主要特色：1、CMP抛光头：采用气囊加载模式，核心区，边缘区，保持环三区压力控制，可得到良好的工业级抛光效果；2、自动上下片，自动抛光，干进湿出；3、抛光垫修整器：摆臂式设计，由10个传感器分别控制10个区域的下压力，可保证抛光垫高水平修整；4、抛光垫修整器：具有在线修整与离线修整两种模式；5，工艺数据可实时监测；6、可存储多个Recipe.第三、核心技术参数：抛光头兼容4寸，6寸，8寸抛光头摆动范围±15mm抛光头转速0 -200 rpm 抛光头加压方式气囊柔性加压背压功能（3区加压）抛光头压力范围0.14-14 psi抛光盘尺寸20英寸抛光盘转速0 -200 rpm蠕动泵2个抛光液流速20-500 cc/min抛光垫修整器分区10区抛光垫修整器在线扫描速度10sweeps/min抛光垫修整器下压力3-20lbs抛光垫修整器转速0-150rpmCMP后片内非均匀性WIWNU 1sigma，去边5mm5%CMP后片间非均匀性WTWNU 1sigma，去边5mm3%仪器尺寸1000×2030×2100(W x L x H, mm)冷却系统可选四，应用实例： ? CMP工艺 Si CMP, 氧化物 CMP(BPSG, TEOS, ThOx), 金属 CMP(W, Cu), 介质膜，STI等 ? 工艺开发 可协助客户进行各类材料/薄膜等的CMP工艺技术开发

秒准MAYZUM分散剂波美度检测仪MAY-2001CAS在线抛光液密度计、在线抛光液浓度计、抛光液浓度计、在线抛光液浓度检测仪、金刚石抛光液浓度检测仪、氧化硅抛光液浓度检测仪、氧化铈抛光液浓度检测仪、氧化铝抛光液浓度监控仪、在线抛光液浓度测试仪、抛光液在线浓度检测仪、抛光液在线浓度测试仪、在线抛光液波美度测试仪、玻璃抛光液浓度计、玻璃抛光液浓度检测仪、研磨液在线浓度计、氧化硅抛光液浓度计、氧化铈抛光液浓度计、氧化铈波美浓度检测仪、分散剂波美度检测仪、在线抛光液波美浓度计秒准MAY-2001PGY抛光液在线浓度计适用于测量金刚石抛光液、氧化硅抛光液、氧化铈抛光液、氧化铝抛光液、碳化硅抛光液的浓度波美度值，24小时实时在线监控，客户有伯*光学、比*迪汽车、卡*光学、可*电子……等，多年行业经验，针对抛光液容易产生气泡的痛点，提出多种解决方案，适应用户现场工况，免费提供上门装机服务。我司研发生产：在线光学浓度计、在线密度计、在线PH监控仪、全自动在线加药系统、自动排液系统、防误排误撞系统、台式密度浓度计、便携式折光仪、便携式密度浓度计，自有研发实验室，拥有100多种液体的温度补偿数据库，测量更加准确，承接非标定制单，欢迎咨询适用介质温度-30~120℃，防爆，可选法兰、螺纹、快卡连接，适用于测量氯化钙、酒精、白酒、甲醇、抛光液、硫酸、硝酸、盐酸、氨水、盐水、双氧水、石油、油品、浆料……等三、秒准MAYZUM分散剂波美度检测仪MAY-2001CAS特点描述：1.即插即用，免维护：安装方式灵活（安装于管道、槽体、反应釜、储罐…）、体积小巧，安装方式多样化，可选卡箍/法兰/螺纹安装；2.拥有强大的数据库，内置0-80℃温度补偿数据，克服了单片机内存小，温度补偿范围受限制的缺点。温度传感器与密度探头集成，紧贴测量介质，保证温度补偿及时、准确、可靠；3.不受介质颜色变化影响，不易受振动、压力变化的影响；4.出厂附带标定证书，无需现场校准，也不需要定期校准；5.用户自定义上下限报警，触屏输入，操作简单易懂，现场可接报警灯；6.标配多组信号模拟输出：可选4-20mA、RS485/232数字量、开关量（异常报警,上下限2路输出），便于客户集成控制，提高自动化程度，提高生产效率；7.采用4.3寸触屏人机交互界面，显示内容更详细，彩色界面，操作便利，可拓展性强，可按用户需求定制界面和功能；8.数据自动保存，便于查询：历史数据查询、生成历史数据曲线，快捷查询、导出EXCEL，自动数据分析与汇总，数据保存周期12个月，便于溯源（需选配MAY-LST历史数据存储功能）；9.支持sqlite数据库，可存储高达16G的历史数据，数据可通过U盘导出到电脑或者通过无线远传功能实时远传至PLC、PC、DCS等上位机系统；通过PC远程查看实时状态与报警。（需选配MAY-LOT数据远传模块）10.连续测量，迅速反馈，消除人工检测误差，不再需要人工频繁取样检测，节省大量人力财力，保证数据一致性，提升产品质量；11.采用智能化芯片，运行无需试剂耗材，功耗低，稳定性高，使用寿命长。四、秒准MAYZUM分散剂波美度检测仪MAY-2001CAS规格参数选型表：产品型号MAY-2001MAY-2001H测量项目密度g/cm³ 、温度℃、浓度%、波美度°Bé密度范围0-2.0g/cm³ 浓度范围0-100%分辨率0.001g/cm³ 、0.1℃、0.1%、0.1°Bé0.0001g/cm³ 、0.1℃、0.01%、0.01°Bé测量精度±0.002g/cm³ 、0.1℃、0.5%、0.5°Bé±0.0005g/cm³ 、0.1℃、0.1%、0.1°Bé测量温度-25℃-120℃温度补偿自动温度补偿，0-80℃环境温度-20℃-80℃关键部位材质£ 哈氏合金 £ 316L £ PTFE输入电源24V DC信号输出£ 4-20mA、£ RS485/232数字量、£ 开关量（异常报警,上下限2路输出）防护等级IP67耐压范围≤20MPa介质粘度0-2000cP（更高粘度请选择MAY-5001S）电气接口探头接口：M12*1.5、显示控制器接口：M16*1.5防爆等级£ MAY-2001常规款 £ MAY-2001EX本安型防爆 Ex ia IIB T6 Ga整机净重≈1050g≈1250g安装选项MAY-Y11卡箍弧形安装底座、MAY-PPR13三通管道、MAY-SS304L13三通管道……其他选项MAY-LST历史数据存储功能、MAY-LOT数据远传模块特殊标度非标定制，按客户需求建立数据模型

UNIPOL-900Z振动抛光机对于较难制备的材料以及需要充分去除应力和整体不允许有任何破坏的精密元器件等样品的表面抛光工作非常适合，从而充分的满足材料样品微观分析（尤其是EBSD分析）的需要。1、全新设计金相岩相振动抛光机，广泛应用于各大企事业单位和科研院校，对于SEM扫描电镜EBSD分析用样品的制备非常有效。完全超越国外同类产品。2、新一代变频控制，试样表面抛光更完美,数字化显示运行参数。3、无需操作者参与的全自动抛光。运行时间可设定，实现无人值守全自动抛光，提高人员工作效率，降低企业成本。4、高强度玻璃钢外壳，防腐蚀，防冲撞。透明防尘罩可保证抛光盘的洁净。5、可承载镶嵌样品或者较大的无需镶嵌的样品。6、不同规格样品夹持器可选：1, 1.25, 1.5, 2英寸，32mm，50mm可选，特殊规格可定制。产品名称UNIPOL-900Z振动抛光机产品型号UNIPOL-900Z安装条件1.本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。2.水：配水源。3.电：AC110V/220V 50Hz/60Hz。4.气：无。5.工作台尺寸：700mm*700mm*700mm6.通风装置：需要。主要参数1、工作盘直径：228.6mm2、输入电压：110/220V，50/60Hz3、整机功率：350W4、频率：0 ~ 240Hz5、最大设定时间: 9999 分钟6、外形尺寸L x W x H：530 x 530 x 430 mm7、重量：82kg序号名称数量图片链接11.25英寸夹具3个-21.25英寸夹平器1个-31.25英寸配重块3个-4抛光垫（磨砂革、合成革、聚氨酯）各3片580nm氧化铝抛光液1瓶 (500ml）650nm氧化硅抛光液1瓶 (500ml）序号名称功能类别图片链接1夹具，配重块，夹平器（1，1.5，2英寸，其他可定制）（可选）

UNIPOL-1200Z振动抛光机是全新设计的金相岩相振动抛光机，广泛应用于各大企事业单位和科研院校，对于SEM扫描电镜EBSD分析用样品的制备非常有效，完全超越国外同类产品。1.新一代变频控制，试样表面抛光更完美。数字化显示运行参数。2.无需操作者参与的全自动抛光。运行时间可设定，实现无人值守全自动抛光，提高人员工作效率，降低企业成本。3.高强度玻璃钢外壳，防腐蚀，防冲撞。透明防尘罩可保证抛光盘的洁净。4.可承载镶嵌样品或者较大的无需镶嵌的样品。5.不同规格样品夹持器可选：1, 1.25, 1.5, 2英寸，32mm，50mm可选，特殊规格可定制。产品名称UNIPOL-1200Z振动抛光机产品型号UNIPOL-1200Z安装条件1.本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。2.水：配水源。3.电：AC110V/220V 50Hz/60Hz。4.气：无。5.工作台尺寸：700mm*800mm*700mm6.通风装置：需要。主要参数1工作盘直径：304.8mm2.整机大小：530*660*470（W*D*H）3.输入电压：110V/220V，50/60Hz4.频率：0-240Hz5. 最大设定时间: 9999 分钟6.重量：135kg7.电机功率：550W序号名称数量图片链接11.25英寸夹具3个-21.25英寸夹平器1个-31.25英寸配重块3个-4抛光垫（磨砂革、合成革、聚氨酯）各3片-580nm氧化铝抛光液1瓶 (500ml）-650nm氧化硅抛光液1瓶 (500ml）-序号名称功能类别图片链接1夹具，配重块，夹平器（1，1.5，2英寸，其他可定制）（可选）-

&bull 应用简介磨抛这一步在金相制备中有多种不同的方式和组合。最常见的是用于研磨和抛光的台式磨抛机。无论什么形式都是为了得到一个无变形和可用于分析测试的试样表面。选择初始研磨的磨粒颗粒大小时，只需要能使表面磨平和去除切割在表面造成的损伤层即可。每个后续步骤应该是将变形逐渐变小，并同时能去掉上一步骤所造成的损伤。自始至终保持充足的润滑剂，通常为水，可最大程度地使变形层减到最小。&bull 设备概述Fpol 252C pro是一款触摸屏控制、中心加压、双盘双控、自动金相磨拋机。操作方便快捷，适用于金相试样粗磨、精磨、粗抛、精抛等各种金相加工全过程。一次性可固定六个样品，触摸屏界面，高度自动化，人性化，极大程度减少人力投入，智能磨抛，是各企业科研院所及从事进行金相学术研究的首选设备。&bull 产品特点◇ 控制方式：彩色触摸屏，参数设置方便，状态显示直观◇ 操作方式：手自一体，具有手动、自动、多工序模式◇ 控制系统：程序控制磨盘、磨头、时间、水阀、工艺、参数等◇ 自动模式：内置50套工艺，各个参数可以设置保存调用◇ 多工序模式：可对样品进行命名，可对样品设置一整套研磨抛光流程，并能保存调用整套流程。选择样品后，上一道流程结束，自动进行下一道流程◇ 磨盘控制：双盘双控，即两个盘独立控制◇ 磨盘：精细研磨和表面处理，通过三点定位法安装，磨盘工作时跳动≤3丝◇ 加载力方式：中心加压，保证样品平整和一致性，传感器控制，自动加载◇ 磨头锁紧方式：电磁自动锁紧◇ 电机：双伺服系统，高效低噪音，低速不卡顿◇ 外壳：高强度复合材料，整体成型，坚固耐用，永不生锈◇ 底座：高强度机身、粉末涂层◇ 急停按钮：配置急停按钮，提高设备安全性◇ 一键清洗：具有磨盘一键清洗功能，提高制样效率◇ 配置砂纸快换系统，砂纸无需揭开背胶、无需卡圈直接使用，高效方便、减少耗材用量、节省成本◇ 配置抛光布快换系统，快速切换抛光布，高效方便、减少耗材用量、节省成本◇ 配套高端金相耗材&bull 技术参数设备名称双盘中心加压自动磨抛机设备型号Fpol 252C pro控制方式触摸屏操作方式手自一体磨盘数量2磨盘控制双盘双控磨盘直径φ254mm磨盘转速0-1000r/min，转向正反转可以切换磨头转速0-200r/min，转向正反转可以切换加载力方式中心加压加载力范围0-200N样品夹持器标配φ30mmx6、其他定制磨头锁紧方式电磁自动锁紧供气需要供水需要电源AC220V，50/60Hz，2KW电机双伺服系统、0.75KWx2重量90KG产品尺寸750x700x700mm&bull 软件界面&bull 配置清单序号名称规格数量1. 设备主机Fpol 252C pro1台2. 样品夹持盘Φ30mmx61个3. 高级透明背胶砂纸φ250mm、120#20张4. 高级透明背胶砂纸φ250mm、320#20张5. 高级透明背胶砂纸φ250mm、800#20张6. 高级透明背胶砂纸φ250mm、1500#20张7. 高级透明背胶砂纸φ250mm、2000#20张8. 多晶加强二合一金刚石抛光液500ml、3μm1瓶9. 多晶加强二合一金刚石抛光液500ml、1μm1瓶10. 白色人造丝抛光布φ250mm1张11. 红色短植绒抛光布φ250mm1张12. 砂纸快换系统之背胶磁性盘φ250mm1张13. 砂纸快换系统之魔术吸附盘φ250mm4张14. 抛光布快换系统之背胶磁性盘φ250mm1张15. 抛光布快换系统之防粘支撑盘φ250mm2张16. 沥水架/1个17. 防水圈/2个18. 进出水管及配套附件/1套19. 工具/1套20. 合格证、保修卡、说明书/1套&bull 附件及耗材（选配）名称规格型号特点高级圆盘砂纸粒度：P80、P120、P180、P240、P320、P400、P600、P800、P1000、P1200、P1500、P2000、P2500、P40001.高级树脂粘合系统保证了材料的更高研磨能力和更长时间耐磨损率；2.优越的耐水性进口乳胶添加剂保证了良好的防水性能； 3.砂纸整体加厚。高级透明背胶砂纸粒度：P80、P120、P180、P240、P320、P400、P600、P800、P1000、P1200、P1500、P2000、P2500、P4000直径：200、230、250、3001.特别背胶保证了无需去胶剂即可毫不费力从研磨盘取下砂纸；2.所有的砂纸背部都有胶黏剂拉带，使得砂纸的背胶衬纸能够方便的撕下；3.背胶衬纸透明色，清楚看到砂纸粒度。红色短植绒抛光布直径：200、230、250、300适用0.25~1μ，用于所有材料的精抛。黑色丝绒抛光布直径：200、230、250、300适用0.5~3.5μ，用于所有材料的精抛。绿色加厚丝绸抛光布直径：200、230、250、300适用0.05~3.5μm，用于观察金属夹杂，热处理厂用精抛。白色羊毛编织抛光布直径：200、230、250、300适用3~6μ，超耐磨，尤其适用不镶嵌件精抛。黑色阻尼抛光布直径：200、230、250、300适用1.5~9μ，用于玻璃、硅片、晶体的抛光。白色人造丝抛光布直径：200、230、250、300适用3~9μm，耐磨损，适合介于粗抛和精抛的中间抛光。沥水架用于使用后的抛光布和砂纸的放置，简单耐用。金刚石喷雾抛光剂粒度：0.5um、1um、2.5um、3.5um、5um、7um、10um包装：350ml环境友好，安全可靠，适用于手动和自动设备制样。金刚石悬浮抛光液类型：单晶加强水基、单晶加强二合一、多晶加强水基、多晶加强二合一、酒精基粒度：0.25um、0.5um、1um、3um、6um、9um包装：500ml、1L、5L环境友好，安全可靠，适用于手动和自动设备制样。氧化铝悬浮抛光液粒度：0.05um、0.3um包装：500ml，1L环境友好，安全可靠，适用于手动和自动设备制样。二氧化硅悬浮抛光液粒度：40um、50nm、20nm包装：500ml，1L环境友好，安全可靠，适用于手动和自动设备制样。砂纸快换系统直径：200、230、250、300包括磁性防粘盘1片，魔术吸附盘1片，砂纸无需揭开背胶、无需卡圈直接使用，高效方便、减少耗材用量、节省成本。抛光布快换系统直径：200、230、250、300包括背胶磁性盘1片，防粘支撑盘1片，快速切换抛光布，高效方便、减少耗材用量、节省成本。定量磨削夹具（直径：30、40用于金相样品在磨抛时控制样品被磨抛去的厚度，使得需要被观测的位置处在样品表面。分辨率：0.01mm。循环过滤系统60L磨抛机专用过滤循环水箱，三级过滤，过滤精度0.1um。自动滴液系统两工位、四工位1.各通道分别设置，同时工作；2.与设备联机，按照磨抛机设定的参数进行滴液；3.手动、联机、自动三种模式可选。&bull 服务承诺1、产品到达贵公司后，我公司工程师可在贵公司准备好设备所需外部条件（如水、电、气等）后，负责该设备的安装、调试、启动工作，并提供良好的技术支持和售后服务，同时对贵公司使用人员进行设备使用培训，保证受训人员能够独立、熟练操作设备和完成简单的维修工作、设备日常维护工作。★复杂设备，此项工作在用户现场进行，简单设备，此项工作远程视频指导进行，具体按照双方合同条款执行。2、我公司产品在贵公司负责人验收合格书上签字之日起计算，免费保修壹年。在免费保修期内，产品发生非人为质量问题，我公司为贵公司提供免费维修。如产品在免费保修期外出现故障，维修服务只适当收取人工费与材料成本费，并采取“先维修后付费”的原则。3、我司拥有全国客户支持中心，通过电话及视频通话及时帮助全国客户解答问题，拥有一支训练有素的工程师队伍为全国各地的客户提供优质、快速的上门服务。我司在接到贵方的故障通知后，保证在 0.5 小时内做出响应，如有需要，确保在12小时内到达客户现场排除故障。4、我公司承诺在该设备的使用期间，可无偿、无限期地提供该设备的技术支持工作。5、我公司承诺提供免费软件升级服务（如涉及）。6、我司工程师长期免费为客户提供金相/切片制样工艺制定协助。7、我司有完善的金相耗材体系，客户有新材料需要制样时，免费为客户提供合适的耗材进行测试。8、由于我司和SGS、华测检测、上海机械协会失效分析委员会、上海市电子学会SMT/MPT专委会、北京科技大学、苏州大学等行业权威第三方检测机构和学术机构有深入合作，我方承诺为客户失效分析实验室提供长期免费咨询服务和引荐服务。

本仪器是CMP在线检测仪用于CMP机台端抛光液在线检测，可以监测CMP抛光液中大粒子含量，可以很好的控制抛光效率，提高成品率。AccuSizer780系列采用先进的SPOS单颗粒技术和带有的自动稀释进样模块，能真实地测试出样品尾端大粒子的粒度分布和颗粒浓度，具有超高的辨析率和快速测试能力。最高计数可达到E11个/mL, 从而确保各种分散体系的稳定性和品质。单颗粒传感技术填补了其他技术在检测粒径分布中的重要不足——粒子数量的统计。自AccuSizer 780系列仪器诞生，以往以牺牲精确性和分辨率来换取检测速度和易用的历史一去不复返！测试范围：0.15 μm – 2500 μm。AccuSizer 780系列可为超大粒径颗粒提供最可靠、最准确的粒径和计数数据。AccuSizer780系列仪器揭示出了不同于以往的粒径分布数据。AccuSizer780系列可以清晰准确地呈现粒径分布，而粒径分布往往是直接与材料物性相关联的。从研发到生产，全球各大实验室均已应用并验证了AccuSizer 780系列仪器可以用作重塑产品品质的强有力工具。AccuSizer 780系列多功能自动计数粒径检测仪是创先使用自动稀释技术来对样品进行检测，且提供高分辨率的粒径检测分析仪。AccuSizer 780系列光阻法单颗粒分析仪 采用拥有的单颗粒测量技术（SPOS）和动态自动稀释技术实现单颗粒依次检测分析，具有极佳的灵敏度、解析度和精确度，不存在颗粒间相互干扰问题。由于获得的是真实粒度分 布，因此测量结果重复性好、准确可靠、统计精度高，特别适于检测分析亚微米颗粒体系中较大颗粒的分布信息。动态自动稀释和清洗系统使得测试方便快捷。只需通过鼠标的单击操作，即能帮助用户在短时间内完成从进样到检测，进而清洗系统的所有操作，使用户获得粒径的详细分布信息。近期独立试验证明：在检测离群值（尾部大颗粒）时，单颗粒传感技术（SPOS）比光散射法和声学法敏感1,500到25,000倍。应用单颗粒传感技术（SPOS）的AccuSizer 780系列光阻法单颗粒分析仪仪器更加稳定和灵敏，一次只允许一个粒子通过检测器，可以避免错过任何一个粒子。粒子灵敏度 ≤10PPT粒径准确度在 ≤2%粒子计数准确度 ≤10%AccuSizer 780 CMP在线检测仪自动稀释模块简介AccuSizer 780 系列光阻法单颗粒分析仪 自动稀释模块是设备模块化大家庭的基础，AccuSizer780将一系列具有广泛检测范围的传感器和一步稀释装置组合在一起，可以提供灵活多样的具有高分辨率、准确度和灵敏度的粒径检测仪。其史无前例地提供了高分辨率和精确度的粒径分布信息，不仅仅提供大数据量的统计学分布信息，还适用于亚微米级别的尾部大颗粒的数量统计。具有的自动稀释模块取代了手动稀释高浓度样品，使得分析更加迅速和方便，不需要培训就可以使测试结果具有良好的可重复性。CMP在线检测仪工作原理示意图： CMP在线检测仪 应用领域： 医药领域：乳剂，注射剂，脂质体，胶体，混悬剂，滴眼液，高分子，病毒，疫苗等； 半导体： CMP Slurry，芯片，晶圆加工等； 特殊化工品：墨水&喷墨，纳米材料，化工染料，润滑剂，清洗剂等。 其他：过滤产品，清洁度方面，食品饮料，化妆品等

第一、产品简介： 韩国CTS公司的AIP300型CMP抛光机是一款12寸工业级CMP系统，可兼容4寸，6寸，8寸，12寸样品，可用于工厂及小批量量产。第二、产品主要特色：1、CMP抛光头：采用气囊加载模式，5区压力独立控制，可得到良好的工业级抛光效果；2、自动上下片，自动抛光，干进干出；3、抛光垫修整器：摆臂式设计，由13个传感器分别控制13个区域的下压力，可保证抛光垫高水平修整；4、抛光垫修整器：具有在线修整与离线修整两种模式；5，工艺数据可实时监测；6、可存储多个Recipe；7、带两个手臂及自动双面清洗设备第三、核心技术参数：抛光头兼容4寸，6寸，8寸,12寸抛光头摆动范围±15mm抛光头转速0-200rpm 抛光头加压方式气囊柔性加压背压功能（-区加压）抛光头压力范围0.14-14 psi抛光盘尺寸20英寸抛光盘转速0-200 rpm蠕动泵2个抛光液流速20-500 cc/min抛光垫修整器分区13区抛光垫修整器在线扫描速度10sweeps/min抛光垫修整器下压力3-20lbs抛光垫修整器转速0-150rpmCMP后片内非均匀性WIWNU 1sigma，去边5mm 5%CMP后片间非均匀性WTWNU 1sigma，去边5mm 3%仪器尺寸1000×2030×2100(W× L× H, mm)冷却系统包含四，应用实例：? CMP工艺 Si CMP, 氧化物 CMP(BPSG, TEOS, ThOx), 金属 CMP(W, Cu), 介质膜，STI等? 工艺开发 可协助客户进行各类材料/薄膜等的CMP工艺技术开发

KZP-300G 振动抛光机产品简介：振动抛光是一种较大限度减少试样磨损的抛光技术，适用于在各种材料上制备高质量的抛光表面，包括电子背散射衍射分析 (EBSD) 应用。KZP-300G型振动抛光机采用弹簧板及磁吸合电机来产生左右方向的振动，但是连接抛光盘与振体之间的弹簧板是有角度的，因而使得试样在抛光盘内作圆周运动。不同于传统的振动抛光机，本机可以产生几乎*水平方向的振动，较大限度地提高了样品接触抛光布的时间，在抛光过程对样品没有产生任何附加损伤层和变形层，可以有效地去除和避免浮凸、嵌入和塑性流变等缺陷。该机外观新颖美观，振动频率可随工作电压自动调节，操作简单，可一次放置多个试样，无需人员值守，用户设定好参数后就可以离开，等待试样自动完成振动抛光。本设备配合最终抛光液，可有效去除样品表面存在的最终薄变形层，改善试样表面的光反射性，从而更利于获得好的金相观测图像，是物理抛光利器。 主要参数：型号KZP-300G抛盘直径300mm抛布直径300mm功率1.5kW电压范围1-220V频率范围40-240Hz最大设置时间0-9999分钟夹持样品直径Ф25mm，Ф30mm，Ф40mm输入电源单相220V，50Hz, 8A外形尺寸540×620×420mm净重90kg 标准配置：名称规格数量主机1台夹持器（配重块）6个内六角扳手3mm, 5mm各1把背胶抛光布300mm2张悬浮液W0.51瓶说明书1份合格证1份 应用案例： 低碳高强度钢回火、振动抛光之后的EBSD取向图 低碳高强度钢回火、振动抛光之后的EBSD晶粒图

VibroMet™ 2 振动抛光机仪器简介：该振动抛光机为标乐公司第二代振动抛光产品。目前，已广泛的应用与各大企事业单位和研究院所大学。对于SEM扫描电镜EBSD分析用样品的制备非常有效！技术参数：1、 防腐蚀、防冲撞的整体设计；2、 前置触摸式液晶显示屏：操作简单，易行，操作包括：启/停显示（灯）和振动速度控制；3、 数字式液晶屏可清晰地显示振动电流变化的柱状曲线；4、 透明的抛光盘防尘罩可保证抛光盘的洁净；5、 可快速更换的抛光盘；6、 宽大的抛光盘（12英寸直径）可承载多至18个镶嵌样品或较大的无需镶嵌的样品；8、 无需操作者参与的全自动工作过程；9、 可调节电流的水平振动驱动系统，转速可达7200转/秒。10、有不同尺寸的样品卡持器供选择：（1）用于镶嵌好的直径为：1”, 11/4”, 11/2” 的样品的卡持器；（2）用于不镶嵌样品的配重。 制样能力强大，可同时制备多达18个样品 一系列适用于不同镶嵌样品的卡具和配重 大型未镶嵌试样可轻易抛光。样品一旦装载便无需操作员过多留心。 标准配置：1、 振动抛光系统；2、 试用品：少量抛光布、0.05微米的氧化铝抛光粉、0.02微米的氧化硅抛光液；3、 说明书主要特点：Vibromet 2型振动抛光机对于较难制备的材料以及需要充分去除应力和整体不允许有任何破坏的精密元器件等样品的表面抛光工作非常适合，从而充分的满足材料样品微观分析（尤其是EBSD分析）的需要。包括，并不限于以下应用：1、较软材料，如：铝、铜、镍等；2、表面镀层；3、整体不允许做任何破损的精密元器件；4、高科技超合金；5、岩相超薄片样品的制备：抛光后的样品厚度可达至5~10微米EBSD应用说明：对于多相（基体+其他相）的材料（不限于多相材料），如果通过观察检验，变形层还存在，那么，就需要利用振动抛光机（Buehler VibroMet 2 Vibratory Polisher）再进行20~30分钟的振动抛光以充分的去除变形层，从而获取符合高品质的EBSD实验图形要求的样品制备结果。所有的金属材料，即使是硬质合金材料，皆可通过振动抛光来充分的去除残余变形，从而提高EBSD实验图形的品质。 VibroMet™ 2 振动抛光机 规格频率50/60电压115/220相数1如需了解更多有关 SimpliVac的技术参数、附件及耗材信息欢迎咨询！ 关于标乐（Buehler） 标乐（Buehler）是材料制备、图像分析和硬度测试所用仪器、附件、耗材和相关技术的出色供应商。标乐（Buehler）产品涵盖众多行业，包括金属、汽车、航空航天、电子、医疗、能源等。 标乐公司与 ASM International（美国材料信息学会）、American Society for Testing and Materials（美国材料和测试协会）和 International Metallographic Society（国际金相学学会）等联盟机构保持着行业合作伙伴传统。标乐公司自 1946 年起便赞助 ASM Francis F. Lucas Metallographic Award 金相奖，并赞助了 International Metallographic Society（国际金相学学会）的 Pierre Jacquet Award 奖项，为材料科学的研究做出贡献。 标乐（Buehler）隶属于美国ITW集团（伊利诺伊工具公司），总部坐落在美国伊利诺伊州莱克布拉夫市。ITW是一家美国财富200强企业，在全球从事增值耗材、特种设备的工业产品制造并提供相关服务。 标乐公司于1936年建立，是最早为材料分析行业制造科学设备和材料的厂商。2011年标乐和威尔逊硬度计合并，提供了更全的材料制备和分析检测设备。标乐现已在9个国家成立办事处、在100多个国家设立销售网点并拥有超过45个标乐解决方案中心。- 标乐中国 -依工测试测量仪器（上海）有限公司标乐（Buehler）&威尔逊（Wilson）厂家

设备型号：MECATECH 250 SPI设备名称：自动研磨抛光机 设备简介： 自动研磨抛光机,适用于包括大面积和高硬度材料等各类样品的自动化研磨抛光。内置制备方法数据库，可保存多达100种不同材料制备方法。满足对制样结果一致性和可重现性的要求。 技术参数： 电机功率：750 瓦。 底盘转速：20-700 转/分钟。 底盘转向：顺时针或逆时针。 功能特点：1.电机变频器，充分保证转速/扭矩恒定，满足对大尺寸/高硬度样品的制备。2.7英寸宽大液晶LCD触摸屏装置于设备前端。方便设置转速/转向/水阀开关/工作时间等所有参数。3.分级管理软件功能，通过密码保护使实验室主管对制样工艺参数实现统一管理，以保证各类材料制备结果的一致性和重现性。研发模式与程序模式可供选择：A. 研发模式 — 可对所有制备参数调整及设定。适用于教育、研发等具有材料多样性的使用环境。B. 程序模式 — 按照数据库预先存储的参数进行制备。适用于生产、质量控制等固定材料使用环境。4.自带蠕动泵驱动200 毫升滴液器，可程控抛光液/润滑液自动喷洒数量和频率；另可模块化联接DISTRITECH 5.1自动分液系统，以全面排除人为因素干扰，提高制备结果的一致性和可重现性，并降低样品制备成本。5.底盘结构：带倾斜角度底盘，方便液体流出；抬高主轴轴承位置，防止液体流入；附带防溅环；结构简单，方便维修。6.可移除式高分子材料承托碗，防污防锈，易于清洗，并方便维修/保养。7.可通过内置网络模块或USB接口导入/导出制备方法。8.磨盘甩干功能，步骤结束后甩干砂纸/磨盘/抛光布，方便储存。9.自动工作头180度旋转，方便内侧样品装夹。10.安全装置：一侧紧急停车按钮；工作状态时，工作头自动位置锁定；全面符合安全标准。

设备型号：MECATECH 300 SPC设备名称：自动研磨抛光机 设备简介： 自动研磨抛光机,适用于包括大面积和高硬度材料等各类样品的自动化研磨抛光。内置制备方法数据库，可保存多达100种不同材料制备方法。满足对制样结果一致性和可重现性的要求。 技术参数： 电机功率：1500 瓦。 底盘转速：20-700 转/分钟。 底盘转向：顺时针或逆时针。功能特点：1.MECATECH 300 SPS 拥有平扫功能，可优化耗材的使用量，提高样品的平整度。自动工作头可以同时加载6-8个样品，有效提高工作效率。2.电机变频器，充分保证转速/扭矩恒定，满足对大尺寸/高硬度样品的制备。3.7英寸宽大液晶LCD触摸屏装置于设备前端。方便设置转速/转向/水阀开关/工作时间等所有参数。4.分级管理软件功能，通过密码保护使实验室主管对制样工艺参数实现统一管理，以保证各类材料制备结果的一致性和重现性。5.研发模式与程序模式可供选择：A. 研发模式 — 可对所有制备参数调整及设定。适用于教育、研发等具有材料多样性的使用环境。B. 程序模式 — 按照数据库预先存储的参数进行制备。适用于生产、质量控制等固定材料使用环境。6.自带蠕动泵驱动200 毫升滴液器，可程控抛光液/润滑液自动喷洒数量和频率；另可模块化联接DISTRITECH 5.1自动分液系统，以全面排除人为因素干扰，提高制备结果的一致性和可重现性，并降低样品制备成本。7.底盘结构：带倾斜角度底盘，方便液体流出；抬高主轴轴承位置，防止液体流入；附带防溅环；结构简单，方便维修。8.可移除式高分子材料承托碗，防污防锈，易于清洗，并方便维修/保养。9.可通过内置网络模块或USB接口导入/导出制备方法。10.磨盘甩干功能，步骤结束后甩干砂纸/磨盘/抛光布，方便储存。11.自动工作头180度旋转，方便内侧样品装夹。12.安全装置：一侧紧急停止按钮；工作状态时，工作头自动位置锁定；全面符合安全标准。

设备型号：MECATECH 250 SPC设备名称：自动研磨抛光机 设备简介： 自动研磨抛光机,适用于包括大面积和高硬度材料等各类样品的自动化研磨抛光。内置制备方法数据库，可保存多达100种不同材料制备方法。满足对制样结果一致性和可重现性的要求。 技术参数：电机功率：750 瓦。 底盘转速：20-700 转/分钟。 底盘转向：顺时针或逆时针。功能特点：1.电机变频器，充分保证转速/扭矩恒定，满足对大尺寸/高硬度样品的制备。2.7英寸宽大液晶LCD触摸屏装置于设备前端。方便设置转速/转向/水阀开关/工作时间等所有参数。3.分级管理软件功能，通过密码保护使实验室主管对制样工艺参数实现统一管理，以保证各类材料制备结果的一致性和重现性。4.研发模式与程序模式可供选择：A. 研发模式 — 可对所有制备参数调整及设定。适用于教育、研发等具有材料多样性的使用环境。B. 程序模式 — 按照数据库预先存储的参数进行制备。适用于生产、质量控制等固定材料使用环境。5.自带蠕动泵驱动200 毫升滴液器，可程控抛光液/润滑液自动喷洒数量和频率；另可模块化联接DISTRITECH 5.1自动分液系统，以全面排除人为因素干扰，提高制备结果的一致性和可重现性，并降低样品制备成本。6.底盘结构：带倾斜角度底盘，方便液体流出；抬高主轴轴承位置，防止液体流入；附带防溅环；结构简单，方便维修。7.可移除式高分子材料承托碗，防污防锈，易于清洗，并方便维修/保养。8.可通过内置网络模块或USB接口导入/导出制备方法。9.磨盘甩干功能，步骤结束后甩干砂纸/磨盘/抛光布，方便储存。10.自动工作头180度旋转，方便内侧样品装夹。11.安全装置：一侧紧急停车按钮；工作状态时，工作头自动位置锁定；全面符合安全标准。

VibroMet 2振动抛光机可快速去除样品表面机械化制样后残留的细微变形层，从而得到无应力的制备表面，而不必使用电解抛光制备所必需的危险电解液。结合VibroMet 2与MasterMet 2二氧化硅抛光液对样品进行化学-机械抛光，可适用于背散射电子衍射（EBSD）或原子力显微镜分析（AFM）。不同于传统的振动抛光机，VibroMet 2可以产生几乎完全水平方向的振动，最大限度地提高了样品接触抛光布的时间。用户设定好程序后就可以离开，样品会在抛光盘中自动地开始振动抛光。 快速去除样品表面变形层水平运动温和地抛光样品不引起机械应力所得样品表面适用于背散射电子衍射（EBSD）或原子力显微镜分析（AFM）对混合材料和不均匀样品都能达到完美的制备效果 无需使用危险电解液替换电解抛光仪和危险电解液结合VibroMet 2 与MasterMet二氧化硅抛光液，MicroCloth 抛光布对样品进行化学-机械抛光 设定后无需过多留心样品在抛光盘中可自动开始振动抛光12in [305 mm]直径抛光盘可同时制备多达18个样品